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JP6096141B2 - Transparent glass fiber film - Google Patents

Transparent glass fiber film Download PDF

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JP6096141B2
JP6096141B2 JP2014053203A JP2014053203A JP6096141B2 JP 6096141 B2 JP6096141 B2 JP 6096141B2 JP 2014053203 A JP2014053203 A JP 2014053203A JP 2014053203 A JP2014053203 A JP 2014053203A JP 6096141 B2 JP6096141 B2 JP 6096141B2
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glass fiber
fiber film
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treated
transparent glass
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佳英 浜本
佳英 浜本
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紗以子 赤羽
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利夫 塩原
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

本発明は、表面処理された透明ガラス繊維フィルム及び透明ガラス繊維フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a surface-treated transparent glass fiber film and a method for producing a transparent glass fiber film.

デジタル技術の目覚しい発展に伴い、パソコン、携帯電話に代表される電子機器の高機能化に対するための対応として、プリント基板に対する特性の要求が強くなっている。このプリント基板の一態様として、ガラス繊維を用いたものが挙げられる。このガラス繊維のうち、一般的によく用いられているEガラスは屈折率が1.56であり、例えば、樹脂を含浸させる場合、ガラス繊維と樹脂との屈折率差が±0.01以下であれば透明となることが知られている(特許文献1)。   Along with the remarkable development of digital technology, there is an increasing demand for characteristics of printed circuit boards as a countermeasure for increasing the functionality of electronic devices such as personal computers and mobile phones. As one aspect of this printed board, one using glass fibers can be given. Among these glass fibers, E glass, which is commonly used, has a refractive index of 1.56. For example, when impregnating with a resin, the difference in refractive index between the glass fiber and the resin is ± 0.01 or less. If it exists, it is known that it will become transparent (patent document 1).

実際、特許文献1に示されるエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ、もしくは、特許文献2〜4に示されるガラス繊維に低屈折率エポキシ樹脂を含浸させ、さらにその外側に高屈折率のエポキシ樹脂を含浸させた透明プリプレグ及びそれを用いた積層板は知られている。また、エポキシ樹脂含有透明ガラス繊維フィルム上にSiもしくはAlなどをスパッタリングして低ガス透過性多層基板を作製する方法も知られている。さらに、特許文献5では、熱可塑性樹脂を用いて透明性の高い透明樹脂成型体が示されている。しかし、エポキシ樹脂や熱可塑性樹脂では熱衝撃性が悪いことが知られており、これらは、高信頼性が求められる電子材料用途で使用されるもののうち、発熱量の少ない電子部品に使用が限られていた。   Actually, a prepreg impregnated with an epoxy resin shown in Patent Document 1 or a glass fiber shown in Patent Documents 2 to 4 is impregnated with a low refractive index epoxy resin and further impregnated with a high refractive index epoxy resin. Transparent prepregs made and laminates using the same are known. In addition, a method of producing a low gas permeable multilayer substrate by sputtering Si or Al on an epoxy resin-containing transparent glass fiber film is also known. Furthermore, Patent Document 5 discloses a transparent resin molded body having high transparency using a thermoplastic resin. However, epoxy resins and thermoplastic resins are known to have poor thermal shock properties, and these are limited to use in electronic components with low heat generation among those used in electronic materials where high reliability is required. It was done.

熱衝撃性の求められる電子材料に用いる樹脂として、上記樹脂以外のシリコーン樹脂やシアネートエステル樹脂(特許文献6)が開示されている。しかし、これらの樹脂を用いたものであっても、高度な耐変色性や機械強度が求められる電子材料に好適とは言えず、上述の透明性、機械強度、熱衝撃性等の耐熱性、耐変色性、電気絶縁性、寸法安定性、及びフレキシブル性のいずれの特性においても優れたプリント基板材料が求められていた。   Silicone resins and cyanate ester resins (Patent Document 6) other than the above resins are disclosed as resins used for electronic materials that are required to have thermal shock properties. However, even those using these resins are not suitable for electronic materials that require high discoloration resistance and mechanical strength, heat resistance such as the above-mentioned transparency, mechanical strength, thermal shock, There has been a demand for a printed circuit board material that is excellent in all of the characteristics of discoloration resistance, electrical insulation, dimensional stability, and flexibility.

特許4117792号公報Japanese Patent No. 4117792 特開2011−068019号公報JP 2011-068019 A 特開2011−068020号公報JP 2011-0668020 A 特開2013−028680号公報JP 2013-028680 A 特開2010−037475号公報JP 2010-037475 A 特許5022265号公報Japanese Patent No. 502222265

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、透明性が高く、高強度で耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性、フレキシブル性に優れる透明表面処理ガラス繊維フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a transparent surface-treated glass fiber film having high transparency, high strength, excellent heat resistance, electrical insulation, dimensional stability, and flexibility.

上記課題を達成するため、本発明は、
表面処理ガラス繊維フィルムを1枚、もしくは複数枚積層させたものを含む透明ガラス繊維フィルムであって、
JIS R 3420に記載の方法で測定した前記表面処理ガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値が、未処理のガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値に対して3倍から100倍であり、JIS K 7375に記載の方法で測定した厚さ500μm以下で波長400〜800nmでの前記表面処理ガラス繊維フィルムの全光線透過率が90%以上のものである透明ガラス繊維フィルムを提供する。
To achieve the above object, the present invention provides:
A transparent glass fiber film containing one or more surface-treated glass fiber films laminated,
The value of the conventional bending rigidity of the surface-treated glass fiber film measured by the method described in JIS R 3420 is 3 to 100 times the value of the conventional bending rigidity of the untreated glass fiber film, and JIS K 7375 A transparent glass fiber film having a total light transmittance of 90% or more at a wavelength of 400 to 800 nm and a thickness of 500 μm or less measured by the method described in 1. is provided.

このような透明ガラス繊維フィルムであれば、透明性が高く、高強度で耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性、フレキシブル性に優れたものを得ることができる。   With such a transparent glass fiber film, it is possible to obtain a film having high transparency, high strength, excellent heat resistance, electrical insulation, dimensional stability, and flexibility.

このうち、前記表面処理ガラス繊維フィルムが、有機ケイ素化合物により表面処理されたガラスクロスであることが好ましい。   Among these, it is preferable that the said surface treatment glass fiber film is a glass cloth surface-treated with the organosilicon compound.

このような表面処理ガラス繊維フィルムを用いれば、より高強度でガラス繊維が固定化され、また、有機ケイ素化合物により表面処理を行ったフィルムであるため、優れた耐熱性及び耐変色性を有する透明ガラス繊維フィルムを得ることができる。   If such a surface-treated glass fiber film is used, the glass fiber is fixed with higher strength, and since it is a film that has been surface-treated with an organosilicon compound, it has excellent heat resistance and discoloration resistance. A glass fiber film can be obtained.

また、前記有機ケイ素化合物とガラスクロスとの25℃におけるナトリウムD線の屈折率差が−0.02以上+0.02以下であり、かつそれぞれの屈折率の値が1.44以上1.60以下であることが好ましい。   Moreover, the refractive index difference of the sodium D line at 25 ° C. between the organosilicon compound and the glass cloth is −0.02 or more and +0.02 or less, and each refractive index value is 1.44 or more and 1.60 or less. It is preferable that

このような表面処理ガラス繊維フィルムを用いれば、より高い透明性を有する透明ガラス繊維フィルムを得ることができる。   If such a surface-treated glass fiber film is used, a transparent glass fiber film having higher transparency can be obtained.

さらに、前記ガラスクロスが石英ガラスクロスであることが好ましい。   Furthermore, the glass cloth is preferably a quartz glass cloth.

このような表面処理ガラス繊維フィルムを用いれば、より優れた耐熱性及び透明性を有する透明ガラス繊維フィルムを得ることができる。   If such a surface-treated glass fiber film is used, a transparent glass fiber film having more excellent heat resistance and transparency can be obtained.

また、前記有機ケイ素化合物が、アルコキシシラン、ポリシラザン、シリコーン変性ワニス、アルコキシシランと金属アルコキシドの混合物、及び動的光散乱法によって測定した平均粒径が1〜100nmであるシリカゾルとアルコキシシランとの混合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。   The organosilicon compound is an alkoxysilane, polysilazane, silicone-modified varnish, a mixture of alkoxysilane and metal alkoxide, and a mixture of silica sol and alkoxysilane having an average particle diameter of 1 to 100 nm measured by a dynamic light scattering method. It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types of compounds chosen from the group which consists of.

このような表面処理ガラス繊維フィルムを用いれば、より優れた電気絶縁性、耐熱性、耐候性を有する透明ガラス繊維フィルムを得ることができる。   If such a surface-treated glass fiber film is used, a transparent glass fiber film having more excellent electrical insulation, heat resistance, and weather resistance can be obtained.

また、本発明は、
前記透明ガラス繊維フィルムを用いた半導体装置を提供する。
The present invention also provides:
A semiconductor device using the transparent glass fiber film is provided.

このような半導体装置であれば、透明ガラス繊維フィルムの透明性、強度、耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性、フレキシブル性が優れているため、高品質なものとなる。   Such a semiconductor device is of high quality because the transparency, strength, heat resistance, electrical insulation, dimensional stability, and flexibility of the transparent glass fiber film are excellent.

さらに、本発明は、
前記透明ガラス繊維フィルムを用いたディスプレイ用保護フィルムを提供する。
Furthermore, the present invention provides
A protective film for a display using the transparent glass fiber film is provided.

このようなディスプレイ用保護フィルムであれば、透明ガラス繊維フィルムの透明性、強度、耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性、フレキシブル性が優れているため、高品質なものとなる。   If it is such a protective film for displays, since the transparency, strength, heat resistance, electrical insulation, dimensional stability, and flexibility of the transparent glass fiber film are excellent, the quality is high.

このとき、前記ディスプレイ用保護フィルムの片面又は両面に、反射防止層又は防汚層、もしくはこれらの両方を設けたものであることが好ましい。   At this time, it is preferable that an antireflection layer, an antifouling layer, or both of them be provided on one side or both sides of the display protective film.

本発明のディスプレイ用保護フィルムは、片面又は両面に、必要に応じて反射防止層又は防汚層を設けることができる。   The protective film for display of this invention can provide an antireflection layer or an antifouling layer on one side or both sides as needed.

本発明の透明ガラス繊維基板であれば、透明性が高く、高強度で耐熱性、電気絶縁性、耐変色性、寸法安定性、フレキシブル性に優れたものを得ることができる。このような透明ガラス繊維フィルムを用いた半導体装置やディスプレイ用保護フィルムは、高品質なものとなる。   With the transparent glass fiber substrate of the present invention, it is possible to obtain a substrate having high transparency, high strength, excellent heat resistance, electrical insulation, discoloration resistance, dimensional stability, and flexibility. A semiconductor device or a protective film for display using such a transparent glass fiber film is of high quality.

各実施例及び比較例における柔軟性試験の際に用いた半円筒状の筐体の断面図である。It is sectional drawing of the semi-cylindrical housing | casing used in the case of the flexibility test in each Example and a comparative example.

従来の透明フレキシブル基板では用いる繊維フィルムに「機械的強度が弱いため、重い部品を載置するには別に支えが必要になる。熱特性が悪い。」などの欠点があり、問題となっていた。本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の慣用曲げ剛性と全光線透過率を有する表面処理を施したガラス繊維フィルムであれば、透明性が高く、高強度で、電気絶縁性、耐熱性、寸法安定性、耐変色性、耐候性、フレキシブル性などに優れていることを見出し、このフィルムを透明ガラス繊維フィルムとしてフレキシブル基板の材料とすることで上記の問題が解消されることを見出し、本発明を完成させた。   In the conventional transparent flexible substrate, the fiber film to be used has a problem such as “because mechanical strength is weak, so a separate support is required to place heavy parts. The thermal characteristics are poor.” . As a result of intensive studies, the present inventors have determined that a glass fiber film having a surface treatment having a specific conventional bending rigidity and total light transmittance has high transparency, high strength, electrical insulation, and heat resistance. , Found that the dimensional stability, discoloration resistance, weather resistance, flexibility, etc. are excellent, and found that the above problems can be solved by using this film as a material of a flexible substrate as a transparent glass fiber film, The present invention has been completed.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明は、
表面処理ガラス繊維フィルムを1枚、もしくは複数枚積層させたものを含む透明ガラス繊維フィルムであって、
JIS R 3420に記載の方法で測定した前記表面処理ガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値が、未処理のガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値に対して3倍から100倍であり、JIS K 7375に記載の方法で測定した厚さ500μm以下で波長400〜800nmでの前記表面処理ガラス繊維フィルムの全光線透過率が90%以上のものである透明ガラス繊維フィルムである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.
The present invention
A transparent glass fiber film containing one or more surface-treated glass fiber films laminated,
The value of the conventional bending rigidity of the surface-treated glass fiber film measured by the method described in JIS R 3420 is 3 to 100 times the value of the conventional bending rigidity of the untreated glass fiber film, and JIS K 7375 A transparent glass fiber film having a thickness of 500 μm or less and a total light transmittance of 90% or more of the surface-treated glass fiber film at a wavelength of 400 to 800 nm measured by the method described in 1.

このような表面処理ガラス繊維フィルムは、JIS R 3420で規定された方法で測定したクロスの慣用曲げ剛性の値が、未処理の繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値に対して、3倍から100倍である。この倍数は、繊維フィルムを表面処理することによって、いわゆる「織布」状態から「フィルム」状態に変化する程度を示す指標として用いるものであり、好ましくは5倍から60倍であり、さらに好ましくは10倍から40倍である。   In such a surface-treated glass fiber film, the value of the conventional bending stiffness of the cloth measured by the method defined in JIS R 3420 is 3 to 100 times the value of the conventional bending stiffness of the untreated fiber film. It is. This multiple is used as an index indicating the degree of change from the so-called “woven” state to the “film” state by surface treatment of the fiber film, preferably 5 to 60 times, more preferably 10 to 40 times.

上記の値が、3倍未満では本発明が目的とする寸法安定性やガラス繊維の固定化すなわち目開きや捩れの防止効果がほとんど得られず、またシロキサン特性に起因する電気絶縁性、耐熱性、耐候性などが不十分である。また、100倍を超えると上記表面処理ガラス繊維フィルムの曲げ剛性が固くなりすぎて、フレキシブル基板としての柔軟性が損なわれ、クラック等が発生する。   If the above value is less than 3 times, the intended dimensional stability and glass fiber fixation, that is, the effect of preventing opening and twisting are hardly obtained, and electrical insulation and heat resistance due to siloxane characteristics Insufficient weather resistance. Moreover, when it exceeds 100 times, the bending rigidity of the said surface treatment glass fiber film will become hard too much, the softness | flexibility as a flexible substrate will be impaired, and a crack etc. will generate | occur | produce.

また、表面処理ガラス繊維フィルムは、有機ケイ素化合物により表面処理されたガラスクロスであることが好ましい。このような表面処理ガラス繊維フィルムは、有機ケイ素化合物による表面処理により、ガラスクロスを構成する繊維(フィラメント)の一部又は全部が結束されているため、よじれや目開きを生じることもなく、均一性・均質性に優れ、高温時の応力集中がなく、平均線膨張係数も低いものとなり、高温下でも寸法安定性に優れたものとなる。   Moreover, it is preferable that a surface treatment glass fiber film is the glass cloth surface-treated with the organosilicon compound. Such a surface-treated glass fiber film is uniform without causing kinks or openings because part or all of the fibers (filaments) constituting the glass cloth are bound by surface treatment with an organosilicon compound. Excellent in homogeneity, no stress concentration at high temperature, low average linear expansion coefficient, and excellent dimensional stability even at high temperature.

ガラス繊維フィルムとしてガラスクロスを、表面処理に有機ケイ素化合物を用いた場合、上記特性を満たすためには、繊維フィルムへの有機ケイ素化合物の付着量は、表面処理ガラス繊維フィルム(処理後の繊維フィルム)100質量%に対して、2質量%以上90質量%以下が好ましく、より好ましくは5質量%以上70質量%以下、さらに好ましくは10質量%以上60質量%以下である。   When glass cloth is used as the glass fiber film and an organosilicon compound is used for the surface treatment, in order to satisfy the above characteristics, the amount of the organosilicon compound attached to the fiber film is determined by the surface treated glass fiber film (fiber film after treatment). ) 2% by mass or more and 90% by mass or less is preferable with respect to 100% by mass, more preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, and further preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less.

2質量%以上の付着量であれば、上記特性を満たすことができ、その結果、電気絶縁性、耐熱性、寸法安定性、自立性などの特性が良好となるため好ましい。また、90質量%以下の付着量であれば、耐熱性が低下したり、柔軟性が損なわれたりすることなく、電気絶縁性、寸法安定性などが得られるので好ましい。   An adhesion amount of 2% by mass or more is preferable because the above characteristics can be satisfied and, as a result, characteristics such as electrical insulation, heat resistance, dimensional stability, and self-supporting properties are improved. An adhesion amount of 90% by mass or less is preferable because electrical insulation, dimensional stability, and the like can be obtained without lowering heat resistance or impairing flexibility.

本発明においてガラスクロスを用いる場合、柱状流或いは高周波振動法による水流で開繊加工したものも利用可能である。さらに、本発明において適用されるガラス繊維は、Eガラス、Aガラス、Dガラス、Sガラス等のいずれのガラス繊維でも使用できる。コスト及び入手のしやすさから一般用のEガラスが好ましいが、より高度な特性を要求される場合(例えば、低誘電率、高耐熱性、低不純物など)には石英ガラスが好ましい。   When glass cloth is used in the present invention, it is also possible to use one that has been fiber-opened by a columnar flow or a water flow by a high-frequency vibration method. Furthermore, the glass fiber applied in the present invention can be any glass fiber such as E glass, A glass, D glass, and S glass. General-purpose E glass is preferred because of cost and availability, but quartz glass is preferred when higher properties are required (for example, low dielectric constant, high heat resistance, low impurities, etc.).

このようなガラスクロスとしては、繊維の織り密度は10〜200本/25mmが好ましく、より好ましくは15〜100本/25mmであり、質量は5〜400g/mが好ましく、より好ましくは10〜300g/mである。この範囲であれば、表面処理による結束が効果的に行われ、電気絶縁性、耐熱性、寸法安定性、自立性などの特性を容易に得ることができる。 As such a glass cloth, the fiber weave density is preferably 10 to 200/25 mm, more preferably 15 to 100/25 mm, and the mass is preferably 5 to 400 g / m 2 , more preferably 10 to 10/25 mm. 300 g / m 2 . If it is this range, binding by surface treatment will be performed effectively and characteristics, such as electrical insulation, heat resistance, dimensional stability, and self-supporting property, can be obtained easily.

このようなガラスクロスの織り方としては、平織り、朱子織り、ななこ織り等が使用できる。また、双方又は一方がテクスチャード加工を施されたガラス繊維で製織されたガラス繊維であっても良い。さらに三軸組布されたガラス繊維はより強度が強く、信頼性の高い表面処理ガラス繊維フィルムとなる。また、不織布や長繊維を一定方向に配列された織物も使用可能である。加えて、ガラスクロスに集束剤が塗布されている場合、有機ケイ素化合物による処理が阻害される場合があるので、予め除去しておくことが望ましい。   As a method of weaving such glass cloth, plain weave, satin weave, Nanako weave, or the like can be used. Moreover, the glass fiber woven with the glass fiber by which both or one side was textured may be sufficient. Further, the triaxially woven glass fiber has a higher strength and a highly reliable surface-treated glass fiber film. Further, a nonwoven fabric or a woven fabric in which long fibers are arranged in a certain direction can also be used. In addition, when the sizing agent is applied to the glass cloth, the treatment with the organosilicon compound may be hindered, so it is desirable to remove it beforehand.

表面処理ガラス繊維フィルムの厚さが500μm以下の場合においてJIS K 7375に準拠した方法で測定した全光線透過率が90%以上であることが本発明の特徴である。この全光線透過率は、好ましくは92%〜100%、さらに好ましくは95〜100%である。90%未満では、透明材料として重要な透明性が失われる。   When the thickness of the surface-treated glass fiber film is 500 μm or less, it is a feature of the present invention that the total light transmittance measured by a method according to JIS K 7375 is 90% or more. The total light transmittance is preferably 92% to 100%, more preferably 95 to 100%. If it is less than 90%, the transparency that is important as a transparent material is lost.

透明ガラス繊維フィルムは、ガラスクロスと有機ケイ素化合物との25℃におけるナトリウムD線の屈折率差が−0.02以上、0.02以下であればよく、好ましくは−0.015以上、0.015以下であり、さらに好ましくは−0.01以上、0.01以下である。ガラスクロスとケイ素含有有機化合物との屈折率差がこの範囲内であれば、容易に透明性の高い表面処理ガラス繊維フィルムを形成することができる。   In the transparent glass fiber film, the difference in refractive index of sodium D-line at 25 ° C. between the glass cloth and the organosilicon compound may be −0.02 or more and 0.02 or less, preferably −0.015 or more, 0.0. It is 015 or less, More preferably, it is -0.01 or more and 0.01 or less. If the difference in refractive index between the glass cloth and the silicon-containing organic compound is within this range, a highly transparent surface-treated glass fiber film can be easily formed.

上述のガラスクロスに表面処理をする際に用いる有機ケイ素化合物としては、アルコキシシラン、ポリシラザン、シリコーン変性ワニス、アルコキシシランと金属アルコキシドの混合物、及び動的光散乱法によって測定した平均粒径が1〜100nmであるシリカゾルとアルコキシシランとの混合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上の化合物を挙げることができる。   Examples of the organosilicon compound used for the surface treatment of the glass cloth include alkoxysilane, polysilazane, silicone-modified varnish, a mixture of alkoxysilane and metal alkoxide, and an average particle size measured by a dynamic light scattering method of 1 to 1. There may be mentioned one or more compounds selected from the group consisting of a silica sol of 100 nm and a mixture of alkoxysilanes.

例えば、アルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、フェニルメチルビニルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメチルジエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、1,4−ビス(メトキシジメチルシリル)ベンゼン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−(N−ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン及びその塩酸塩、N−(N−ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びその塩酸塩、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプリピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(トリスエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のアルコキシシラン化合物が挙げられ、1種あるいは2種以上混合して使用しても良い。また、これらに限定するものではない。   For example, as the alkoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, phenylmethylvinylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, diphenyldimethyldimethoxysilane, diphenyldimethyldiethoxy Silane, trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, naphthyltrimethoxysilane, naphthyltriethoxysilane, 1,4-bis (methoxydimethylsilyl) Benzene, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, Ctyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrieth Sisilane, 3-methacryloxypropyldiethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) ) 3-Aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (N-vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and hydrochloric acid thereof Salt, N- (N-vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane and its hydrochloride, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, tris- (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, 3-ureido Propyltriethoxysilane, 3-chloropre Examples include alkoxysilane compounds such as pyrtrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (trisethoxysilylpropyl) tetrasulfide, and one or a mixture of two or more thereof. May be. Moreover, it is not limited to these.

好ましくは、屈折率調整のためにメチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメチルジエトキシシラン、トリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン1,4−ビス(メトキシジメチルシリル)ベンゼンなどが挙げられるが、これらに限定するものではない。   Preferably, for adjusting the refractive index, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, diphenyldimethyldimethoxysilane, diphenyldimethyldiethoxysilane, trimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, naphthyltrimethoxysilane, Examples thereof include, but are not limited to, naphthyltriethoxysilane 1,4-bis (methoxydimethylsilyl) benzene.

また、上記アルコキシシランの1種又は2種以上の部分加水分解縮合物を用いてもよい。この部分加水分解縮合物は、公知の縮合触媒を添加して任意に調製してもよく、市販されているものを用いてもよい。市販されているものの例としては、エポキシ基含有アルコキシシランオリゴマーX−41−1059A(信越化学工業(株)製)、アミノ基含有アルコキシシランオリゴマーX−40−2651(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。   Moreover, you may use the 1 type, or 2 or more types of partial hydrolysis-condensation product of the said alkoxysilane. This partial hydrolysis-condensation product may be arbitrarily prepared by adding a known condensation catalyst, or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include epoxy group-containing alkoxysilane oligomer X-41-1059A (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), amino group-containing alkoxysilane oligomer X-40-2651 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Etc.

ポリシラザンとしては、1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルシクロトリシラザンなどの化合物が挙げられるが、これらに限定するものではない。   As polysilazane, 1,1,3,3-tetramethyldisilazane, hexamethyldisilazane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,1,3,3,5 , 5-hexamethylcyclotrisilazane and the like, but not limited thereto.

シリコーン変性ワニスとしては、アルキッド変性ワニスやポリエステル変性ワニス、エポキシ変性ワニス、アクリル変性ワニスなど多様なシリコーン変性ワニスが使用されるが、最終用途、目的により選択すればよい。   As the silicone-modified varnish, various silicone-modified varnishes such as alkyd-modified varnish, polyester-modified varnish, epoxy-modified varnish, and acrylic-modified varnish are used, and may be selected depending on the end use and purpose.

アルコキシシランと金属アルコキシドの混合物において、アルコキシシランとしては、上記で例示したアルコキシシランが同様に用いられ、金属アルコキシドの例としては、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセテート、ジルコニウムテトラブトキシド、テトライソプロピルチタネートなどが挙げられる。アルコキシシランと金属アルコキシドの混合比は質量比で100:10〜100:100が好ましく、特に好ましくは100:20〜100:100である。   In the mixture of alkoxysilane and metal alkoxide, the alkoxysilane exemplified above is similarly used as the alkoxysilane, and examples of the metal alkoxide include aluminum isopropoxide, aluminum acetyl acetate, zirconium tetrabutoxide, tetraisopropyl titanate and the like. Is mentioned. The mixing ratio of the alkoxysilane and the metal alkoxide is preferably 100: 10 to 100: 100, particularly preferably 100: 20 to 100: 100, by mass ratio.

シリカゾルとアルコキシシランとの混合物において、シリカゾルとしては動的光散乱法によって測定した平均粒径が1〜100nm、好ましくは1〜50nmであるようなシリカゾルであり、アルコキシシランとしては上記で例示したアルコキシシランが同様に用いられる。シリカゾルとアルコキシシランの混合比はシリカゾルの固形分とアルコキシシランとの質量比で100:0.1〜100:10が好ましく、特に好ましくは100:0.1〜100:4である。   In a mixture of silica sol and alkoxysilane, the silica sol is a silica sol having an average particle diameter measured by a dynamic light scattering method of 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm, and the alkoxy silane exemplified above is used as the alkoxy silane. Silane is used as well. The mixing ratio of the silica sol and the alkoxysilane is preferably 100: 0.1 to 100: 10, particularly preferably 100: 0.1 to 100: 4, as the mass ratio of the solid content of the silica sol to the alkoxysilane.

本発明では、光線透過率が90%未満とならない範囲であれば、要求される特性に応じて上記ガラス繊維に、炭素繊維、セラミック系などの無機繊維、ホウ素繊維、スチールファイバー、タングステン繊維などの金属繊維、アラミド、フェノール系などの新耐熱繊維などの繊維を混合した織布などをガラスクロスとして用いることができる。   In the present invention, as long as the light transmittance is within a range of less than 90%, the glass fiber may be made of carbon fiber, ceramic fiber or other inorganic fiber, boron fiber, steel fiber, tungsten fiber or the like according to the required characteristics. A woven fabric in which fibers such as metal fibers, aramid, new heat-resistant fibers such as phenol are mixed can be used as the glass cloth.

本発明の表面処理ガラス繊維フィルムの製造方法は、一般的なガラス繊維の処理方法が適用される。本発明の表面処理ガラス繊維フィルムの塗布方法は、一般的なガラス繊維の塗布方法が適用される。代表的なコーティング方式としては、ダイレクトグラビアコーター、チャンバードクターコーター、オフセットグラビアコーター、一本ロールキスコーター、リバースキスコーター、バーコーター、リバースロールコーター、スロッタダイ、エアードクターコーター、正回転ロールコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、MBコーター、MBリバースコーターなどがある。中でもダイレクトグラビアコーター、オフセットコーター、含浸コーター塗布方式が本発明の表面処理ガラス繊維フィルムの製造には好ましい。   A general glass fiber processing method is applied to the method for producing the surface-treated glass fiber film of the present invention. As a method for applying the surface-treated glass fiber film of the present invention, a general glass fiber applying method is applied. Typical coating methods include direct gravure coater, chamber doctor coater, offset gravure coater, single roll kiss coater, reverse kiss coater, bar coater, reverse roll coater, slotter die, air doctor coater, forward rotation roll coater, blade coater. , Knife coaters, impregnation coaters, MB coaters, MB reverse coaters and the like. Among these, a direct gravure coater, an offset coater, and an impregnation coater coating method are preferable for producing the surface-treated glass fiber film of the present invention.

使用する有機ケイ素化合物により条件は異なるが、塗布後、乾燥、硬化目的で、温度は室温から300℃、好ましくは100℃から250℃、より好ましくは150℃から230℃で加熱処理する。最初から高温で処理してもよく、段階的に温度を上げてもよいが、最初室温から100℃程度で乾燥し、次いで150℃から200℃の高温で処理すると溶剤などから起因するボイドを抑制できるため特に好ましい。また、処理時間は1分から24時間、好ましくはで3分から4時間、より好ましくは5分から1時間処理を行う。これらの条件は、生産性やコスト、作業性を考慮して設定してよく、この加熱処理によって本発明の表面処理ガラス繊維フィルムを製造する。   Although the conditions vary depending on the organosilicon compound to be used, after the coating, for the purpose of drying and curing, heat treatment is performed at room temperature to 300 ° C, preferably 100 ° C to 250 ° C, more preferably 150 ° C to 230 ° C. It may be treated at a high temperature from the beginning, or the temperature may be raised in stages, but when it is first dried at room temperature to 100 ° C and then treated at a high temperature of 150 ° C to 200 ° C, voids caused by solvents, etc. are suppressed. This is particularly preferred because it can The treatment time is 1 minute to 24 hours, preferably 3 minutes to 4 hours, more preferably 5 minutes to 1 hour. These conditions may be set in consideration of productivity, cost, and workability, and the surface-treated glass fiber film of the present invention is produced by this heat treatment.

塗布液は上記有機ケイ素化合物を溶媒で希釈したものである。溶媒の例としては、水あるいは有機溶剤をそれぞれ単独あるいは2種以上混合して用いることができる。有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられる。この希釈液に、さらにギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、などの有機酸やアンモニア水などのpH調整剤、顔料、充填剤、界面活性剤、増粘剤などを添加することもできる。   The coating solution is obtained by diluting the organosilicon compound with a solvent. As examples of the solvent, water or organic solvents can be used alone or in admixture of two or more. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, glycol ethers such as ethylene glycol and propylene glycol, and fats such as hexane and heptane. And aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether and di n-butyl ether. In addition, pH adjusting agents such as organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, and oxalic acid, and aqueous ammonia, pigments, fillers, surfactants, thickeners, and the like can be added to the diluted solution.

また、アルコキシ基の縮合触媒を添加してもよく、例えば有機スズ化合物、有機チタン化合物、有機ビスマス化合物のような有機金属化合物系、アミン系化合物などが挙げられる。   Further, an alkoxy group condensation catalyst may be added, and examples thereof include organometallic compounds such as organotin compounds, organotitanium compounds, and organic bismuth compounds, and amine compounds.

有機金属化合物系の縮合触媒としては、ジブチルスズジメトキサイド、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズビス(アセチルアセトナート)、ジブチルスズビス(ベンジルマレート)、ジメチルスズジメトキサイド、ジメチルスズジアセテート、ジオクチルスズジオクテート、ジオクチルスズジラウレート、スズジオクテート、及びスズジラウレート等の有機スズ化合物、並びに、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、テトラターシャリーブチルチタネート、テトラノルマルプロピルチタネート、テトラ−2−エチルヘキシルチタネート、ジイソプロピルジターシャリーブチルチタネート、ジメトキシチタンビスアセチルアセトナート、ジイソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート、ジターシャーリーブトキシチタンビスエチルアセトアセテート、及びジターシャリーブトキシチタンビスメチルアセトアセテート等の有機チタン化合物、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)又はビスマストリス(ネオデカノエート)等の有機ビスマス化合物などの金属ルイス酸等、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノステアレートなどのジルコニウム化合物が挙げられる。上記触媒は単独でも、2種以上の組み合わせであってもよい。 アミン系化合物の例としては、ヘキシルアミン、ジ−2−エチルヘキシルアミン、N,N−ジメチルドデシルアミン、ジ−n−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジ−n−オクチルアミン、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。   Examples of organometallic compound-based condensation catalysts include dibutyltin dimethoxide, dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin bis (acetylacetonate), dibutyltin bis (benzyl malate), dimethyltin dimethoxide, dimethyl Organotin compounds such as tin diacetate, dioctyltin dioctate, dioctyltin dilaurate, tin dioctate, and tin dilaurate, and tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, tetra tertiary butyl titanate, tetra normal propyl titanate, tetra-2 -Ethylhexyl titanate, diisopropyl ditertiary butyl titanate, dimethoxy titanium bisacetylacetonate, diisopro Organic titanium compounds such as xititanium bisethylacetoacetate, ditertiary butoxytitanium bisethylacetoacetate, and ditertiary butoxytitanium bismethylacetoacetate, organic bismuth compounds such as bismuth tris (2-ethylhexanoate) or bismuth tris (neodecanoate), etc. Metallic Lewis acids such as zirconium tetranormal propoxide, zirconium tetranormal butoxide, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxymonoacetylacetonate, zirconium monobutoxyacetylacetonate, zirconium dibutoxybis (ethylacetoacetate), zirconium tetra Zirconium such as acetylacetonate and zirconium tributoxy monostearate Compounds. The catalyst may be used alone or in combination of two or more. Examples of amine compounds include hexylamine, di-2-ethylhexylamine, N, N-dimethyldodecylamine, di-n-hexylamine, dicyclohexylamine, di-n-octylamine, hexamethoxymethylmelamine and the like. It is done.

これら縮合触媒の中では、有機チタン化合物、ジルコニウム化合物を用いることが好ましく、特に耐変色性が高く、反応性に富むジルコニウム系触媒のオルガチックスZAシリーズ(マツモトファインケミカル株式会社製)を用いることが特に好ましい。   Among these condensation catalysts, it is preferable to use an organic titanium compound or a zirconium compound, and it is particularly preferable to use the ORGATIXX ZA series (manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.), which is a zirconium-based catalyst having high discoloration resistance and high reactivity. preferable.

塗布液は、塗布環境への影響を考慮して、水系の塗布液が好ましい。アミノ基含有シランカップリング剤(商品例:KBM−903(信越化学工業(株)製))は水系での安定性に優れ、溶解性もよいことから好ましい有機ケイ素化合物である。   The coating solution is preferably an aqueous coating solution in consideration of the influence on the coating environment. An amino group-containing silane coupling agent (commercial example: KBM-903 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) is a preferred organosilicon compound because of its excellent stability in water and good solubility.

本発明の透明ガラス繊維フィルムは、上述の表面処理ガラス繊維フィルムを1枚、もしくは複数枚積層させた積層板を含むものである。即ち、表面処理ガラス繊維フィルム1枚をそのまま用いることもできるし、複数枚の表面処理ガラス繊維フィルムを例えば、接着剤等で貼り合わせた積層板を用いることもできる。このとき用いることのできる接着剤としては特に限定されないが、耐熱性、耐変色性の観点から、熱硬化性樹脂からなるものが好ましい。   The transparent glass fiber film of the present invention includes a laminate obtained by laminating one or a plurality of the above-mentioned surface-treated glass fiber films. That is, one surface-treated glass fiber film can be used as it is, or a laminated plate obtained by bonding a plurality of surface-treated glass fiber films with an adhesive or the like can be used. Although it does not specifically limit as an adhesive agent which can be used at this time, What consists of thermosetting resins from a heat resistant and discoloration-resistant viewpoint is preferable.

本発明の透明ガラス繊維フィルムは、有機ケイ素化合物等でガラス繊維フィルムが表面処理されており、透明性、耐熱性、電気絶縁性、寸法安定性、変色性、耐光性、耐候性などに優れている。また、ガラスクロスと有機ケイ素化合物との屈折率を近づけたものを表面処理ガラス繊維フィルムに用いることにより、ガラス繊維にない自立性があり、繊維が固定化されていることによる樹脂充填時におけるガラス繊維のよれや目開きなどの問題が発生しない均一、均質な透明ガラス繊維フィルムが得られる。   In the transparent glass fiber film of the present invention, the glass fiber film is surface-treated with an organosilicon compound or the like, and is excellent in transparency, heat resistance, electrical insulation, dimensional stability, discoloration, light resistance, weather resistance, and the like. Yes. In addition, by using a glass fiber film that has a refractive index close to that of glass cloth and an organic silicon compound, the glass fiber film has self-supporting properties that are not found in glass fibers, and the glass at the time of resin filling because the fibers are fixed. A uniform and homogeneous transparent glass fiber film that does not cause problems such as fiber twist and mesh opening can be obtained.

このことから、本発明の透明ガラス繊維フィルムは、半導体装置の材料、特に光半導体装置の材料として好適に用いることができる。その際には、フィルム単独での使用が可能である。また、プリプレグの補強基板としても使用できる。さらに、その表面に銅張りあるいは銅メッキすることで金属張基板とすることができ、LED実装基板に好適に使用できる。   From this, the transparent glass fiber film of this invention can be used suitably as a material of a semiconductor device, especially a material of an optical semiconductor device. In that case, the film can be used alone. It can also be used as a prepreg reinforcing substrate. Furthermore, it can be set as a metal-clad board | substrate by carrying out copper clad or copper plating on the surface, and can be used conveniently for a LED mounting board.

また、本発明の透明ガラス繊維フィルムは、透明性が高く、ガラスのように割れることがないため、薄型PC、タブレットPC、スマートフォンなどに用いられるディスプレイ用保護フィルムなどへの応用も可能である。ディスプレイ用保護フィルムとして使用する際は、保護フィルムの片面又は両面に、反射防止層又は防汚層、もしくはこれらの両方を設けたものを好適に用いることができる。   Moreover, since the transparent glass fiber film of the present invention has high transparency and does not break like glass, it can be applied to a protective film for a display used in a thin PC, a tablet PC, a smartphone, and the like. When used as a protective film for a display, a film provided with an antireflection layer, an antifouling layer, or both on one or both sides of the protective film can be suitably used.

このうちの反射防止層は、本発明の透明ガラス繊維フィルムを上記保護フィルムとして用いる際に、周辺光の映り込みなどによる反射を防止・低減させ、視認性を向上させるために施すものである。具体的には、TiO、ZrO、SiO、MgF等の薄膜が好適に用いられ、より好ましくはこれらの積層体が用いられる。
また、防汚層は、上記保護フィルム又は反射防止層の表面に処理するものであり、表面が指紋、皮脂などの人体からの汚れが付着するのを防止したり、汚れをふき取りやすくしたり、目立たなくさせたりするために施すものである。そのため、撥水撥油性を有することが望ましく、このような性能を付与するには、フッ素系シランカップリング剤やフッ素系アクリレートを含有するアクリル樹脂などを塗工することが好ましい。特にこれらフッ素系処理剤として、パーフルオロポリエーテル基を有する処理剤を用いると、撥水撥油性に優れているため、高い防汚性能を得ることができるので特に好ましい。
Among these, when using the transparent glass fiber film of the present invention as the protective film, the antireflection layer is applied to prevent or reduce reflection due to reflection of ambient light and improve visibility. Specifically, a thin film of TiO 2 , ZrO, SiO 2 , MgF or the like is preferably used, and more preferably a laminate of these.
In addition, the antifouling layer is a treatment for the surface of the protective film or antireflection layer, and prevents the surface from being attached with dirt from the human body such as fingerprints and sebum, making it easy to wipe off dirt, It is applied to make it inconspicuous. Therefore, it is desirable to have water and oil repellency, and in order to provide such performance, it is preferable to apply a fluorine-based silane coupling agent or an acrylic resin containing a fluorine-based acrylate. In particular, it is particularly preferable to use a perfluoropolyether group-containing treating agent as these fluorine-based treating agents because they are excellent in water and oil repellency and can provide high antifouling performance.

本発明の透明ガラス繊維フィルムは、上記以外にも、防爆用又は防犯用窓などの建築用透明補強フィルムとして用いられたり、航空用窓や自動車用など高強度透明補強フィルムとして用いられたりすることも可能である。また、透明性が高いため、透明ガラス繊維フィルム上にITOなどの透明導電性材料を蒸着させたりすることにより、フレキシブルディスプレイや太陽電池を安価で製造できるなど、本発明の透明ガラス繊維フィルムは多種多様な分野で用いることができる。   In addition to the above, the transparent glass fiber film of the present invention may be used as a transparent reinforcing film for construction such as an explosion-proof or crime prevention window, or as a high-strength transparent reinforcing film such as for aviation windows and automobiles. Is also possible. In addition, since the transparency is high, the transparent glass fiber film of the present invention can be manufactured at a low cost by depositing a transparent conductive material such as ITO on the transparent glass fiber film. It can be used in various fields.

以下、合成例、実施例、及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。尚、本発明中で言及する重量平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質とした重量平均分子量を指すこととする。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. The weight average molecular weight referred to in the present invention refers to a weight average molecular weight using polystyrene as a standard substance by gel permeation chromatography (GPC) measured under the following conditions.

[測定条件]
展開溶媒:THF
流量:0.6mL/min
検出器:示差屈折率検出器(RI)
カラム:TSK Guardcolomn SuperH−L
TSKgel SuperH4000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH3000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH2000(6.0mmI.D.×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:20μL(濃度0.5重量%のTHF溶液)
[Measurement condition]
Developing solvent: THF
Flow rate: 0.6mL / min
Detector: Differential refractive index detector (RI)
Column: TSK Guardcolom SuperH-L
TSKgel SuperH4000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel Super H3000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel SuperH2000 (6.0 mm ID × 15 cm × 2)
(Both manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Sample injection volume: 20 μL (0.5% by weight THF solution)

[合成例1]
ケイ素原子を含む有機化合物として、フェニルトリメトキシシラン(KBM−103 信越化学工業(株)製)198.3g(1.00mol)、ジフェニルジメトキシシラン(KBM−202 信越化学工業(株)製)224.4g(1.00mol)、イソプロピルアルコール600gをフラスコに加え、25%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)14gと水128gを混合し、それをフラスコに添加し3時間攪拌した。トルエン400gを加え、水洗し、溶剤留去を行なった。得られたアルコキシシランの部分加水分解縮合物の重量平均分子量(Mw)は1,500、屈折率はn 25=1.551であった。
[Synthesis Example 1]
As an organic compound containing a silicon atom, 198.3 g (1.00 mol) of phenyltrimethoxysilane (KBM-103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), diphenyldimethoxysilane (KBM-202 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 224. 4 g (1.00 mol) and 600 g of isopropyl alcohol were added to the flask, 14 g of 25% tetramethylammonium hydroxide (TMAH) and 128 g of water were mixed, and the mixture was added to the flask and stirred for 3 hours. 400 g of toluene was added, washed with water, and the solvent was distilled off. The resulting alkoxysilane partially hydrolyzed condensate had a weight average molecular weight (Mw) of 1,500 and a refractive index of n D 25 = 1.551.

[合成例2]
ケイ素原子を含む有機化合物として、フェニルトリメトキシシラン(KBM−103 信越化学工業(株)製)198.3g(1.00mol)、1,4−ビス(メトキシジメチルシリル)ベンゼン509.0g(2.00mol)、イソプロピルアルコール600gをフラスコに加え、以下の操作は合成例1と同様の操作を行なった。Mwは1,800、屈折率はn 25=1.542であった。
[Synthesis Example 2]
As an organic compound containing a silicon atom, phenyltrimethoxysilane (KBM-103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 198.3 g (1.00 mol), 1,4-bis (methoxydimethylsilyl) benzene 509.0 g (2. 00 mol) and 600 g of isopropyl alcohol were added to the flask, and the following operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1. Mw was 1,800 and the refractive index was n D 25 = 1.542.

[合成例3]
ケイ素原子を含む有機化合物として、ナフチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)248.4g(1.00mol)、ジフェニルジメトキシシラン(KBM−202 信越化学工業(株)製)224.4g(1.00mol)、イソプロピルアルコール600gをフラスコに加え、以下の操作は合成例1と同様の操作を行なった。Mwは2,000、屈折率はn 25=1.555であった。
[Synthesis Example 3]
As an organic compound containing a silicon atom, naphthyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 248.4 g (1.00 mol), diphenyldimethoxysilane (KBM-202 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 224.4 g (1) 0.0000 mol) and 600 g of isopropyl alcohol were added to the flask, and the following operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1. Mw was 2,000, and the refractive index was n D 25 = 1.555.

[実施例1]
合成例1の樹脂を10wt%トルエン溶液にし、ガラスクロス(用糸:E250、密度:タテ糸59本/25mm、ヨコ糸57本/25mm、厚さ:87μm、質量:95g/m)に含浸させ、100℃×10分で加熱乾燥させた。その後100℃×1時間及び200℃×1時間加熱処理して表面処理ガラス繊維フィルムを作製した。処理前のガラスクロスと表面処理後のガラス繊維フィルムの質量を測定し、有機ケイ素化合物の付着量を下記式により算出した。
付着量(質量%)=(処理後のガラス繊維フィルムの質量[g]−処理前のガラスクロスの質量[g])/処理後のガラス繊維フィルムの質量[g]
その結果を表1に示す。また、表面処理透明ガラス処理フィルムに対し、以下の測定を行なった。
[Example 1]
The resin of Synthesis Example 1 is made into a 10 wt% toluene solution and impregnated into glass cloth (for yarn: E250, density: warp yarn 59/25 mm, weft yarn 57/25 mm, thickness: 87 μm, mass: 95 g / m 2 ). And dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes. Thereafter, heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 hour and 200 ° C. for 1 hour to prepare a surface-treated glass fiber film. The masses of the glass cloth before the treatment and the glass fiber film after the surface treatment were measured, and the adhesion amount of the organosilicon compound was calculated by the following formula.
Adhesion amount (mass%) = (mass of glass fiber film after treatment [g] −mass of glass cloth before treatment [g]) / mass of glass fiber film after treatment [g]
The results are shown in Table 1. Moreover, the following measurements were performed with respect to the surface-treated transparent glass-treated film.

・機械的特性
得られた表面処理ガラス繊維処理フィルムについて以下の機械的特性を測定した。
1.慣用曲げ剛性
JIS R 3420(ガラス繊維一般試験方法)に記載の方法で測定を行い、縦糸方向での測定値を用いた。結果を表1に示す。
-Mechanical characteristics The following mechanical characteristics were measured about the obtained surface treatment glass fiber treatment film.
1. Measurement was carried out by the method described in conventional bending rigidity JIS R 3420 (Glass Fiber General Test Method), and the measured value in the warp direction was used. The results are shown in Table 1.

・光学特性
2.全光線透過率
JIS K7375に準拠して、表面処理ガラス繊維フィルム1枚(厚み100〜150μm)での全光線透過率を測定した。
·optical properties
2. Total light transmittance Based on JIS K7375, the total light transmittance in one surface treatment glass fiber film (thickness 100-150 micrometers) was measured.

[実施例2,3]
合成例2及び3の樹脂を10wt%トルエン溶液にし、ガラスクロス(用糸:E250、密度:タテ糸59本/25mm、ヨコ糸57本/25mm、厚さ:87μm、質量:95g/m)に含浸させ、100℃×10分で加熱乾燥させた。その後100℃×1hr及び200℃×1hrで加熱処理して表面処理ガラス繊維フィルムを作製し、実施例1と同様の測定を行った。
[Examples 2 and 3]
The resin of Synthesis Examples 2 and 3 was made into a 10 wt% toluene solution, and glass cloth (yarn: E250, density: warp yarn 59/25 mm, weft yarn 57/25 mm, thickness: 87 μm, mass: 95 g / m 2 ) And dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes. Thereafter, heat treatment was performed at 100 ° C. × 1 hr and 200 ° C. × 1 hr to prepare a surface-treated glass fiber film, and the same measurement as in Example 1 was performed.

[実施例4〜6]
合成例1〜3の樹脂にオルガチックスZA−65(テトラブトキシジルコニウム n−ブタノール溶液 マツモトファインケミカル(株)製)を樹脂100部に対し0.3部加え、その後トルエンで10wt%溶液に調製したものに対し、以下実施例1と同様の操作を行い、表面処理ガラス繊維フィルムを作製し、実施例1と同様の測定を行った。
[Examples 4 to 6]
ORGATICS ZA-65 (tetrabutoxyzirconium n-butanol solution manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) is added to the resin of Synthesis Examples 1 to 3 with respect to 100 parts of resin, and then a 10 wt% solution is prepared with toluene. On the other hand, the same operation as in Example 1 was performed to produce a surface-treated glass fiber film, and the same measurement as in Example 1 was performed.

[比較例1]
シアネートエステル樹脂(Lonza社製「BADCy」、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパンを52質量部、1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株)製 EHPE3150)を48質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を0.02質量部配合し、これにトルエン50質量部、メチルエチルケトン50質量部を添加して、温度70℃で攪拌溶解することによって、樹脂ワニスを調製した。このワニスを用いて実施例1に示される工程を経てプリプレグを作製し、実施例1と同様の測定を行なった。
[Comparative Example 1]
Cyanate ester resin (Lonza “BADCy”, 52 parts by mass of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, epoxy resin containing 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane (Daicel Chemical) 48 parts by mass of EHPE3150 manufactured by Kogyo Co., Ltd., 0.02 parts by mass of zinc octoate as a curing initiator, 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of methyl ethyl ketone were added thereto, and the temperature was 70 ° C. A resin varnish was prepared by stirring and dissolving in 1. A prepreg was prepared through the steps shown in Example 1 using this varnish, and the same measurement as in Example 1 was performed.

[比較例2]
アロニックスM−315(トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート 東亜合成製)40部、エポキシエステル3000A(ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物(共栄社化学製)30部、カヤラッドHX220(ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのカプロラクトン付加(m+n=2)のジアクリレート(日本化薬製)30部、硬化触媒としてイルガキュア369(BASFジャパン製)2部、カヤキュアITX(日本化薬製)0.4部、パーブチルO(t−ブチルー2−エチルペルヘキサノエート 日本油脂製)1.5部加え、攪拌混合した調製液を、ガラスクロス(用糸:E250、密度:タテ糸59本/25mm、ヨコ糸57本/25mm、厚さ:87μm、質量:95g/m)に含浸させUV照射し硬化させた。以下は実施例1と同様の測定を行なった。
[Comparative Example 2]
Aronix M-315 (Trisacryloyloxyethyl isocyanurate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Epoxy ester 3000A (Bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)), Kayarad HX220 (Caprolactone of neopentyl glycol hydroxypivalate) Addition (m + n = 2) diacrylate (Nippon Kayaku) 30 parts, Irgacure 369 (BASF Japan) 2 parts as curing catalyst, Kayacure ITX (Nippon Kayaku) 0.4 part, perbutyl O (t-butyl-) Add 1.5 parts of 2-ethylperhexanoate from Nippon Oil & Fats, stir and mix the prepared solution into a glass cloth (yarn: E250, density: warp 59 / 25mm, weft 57 / 25mm, thickness : 87 .mu.m, mass: impregnated into 95g / m 2) U Irradiated and cured. The following measurements were made as in Example 1.

実施例1〜6、比較例1,2に対し、以下の測定を行なった。
柔軟性試験
それぞれのフィルム及びプリプレグを、図1で示す筐体の外側にはめ込み、フィルムのわれ、くずれなどを確認した。結果を表1に示す。
The following measurements were performed on Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2.
Each film and prepreg of the flexibility test were fitted on the outside of the casing shown in FIG. 1 to check for film breakage and breakage. The results are shown in Table 1.

Figure 0006096141
Figure 0006096141

表1及び表Xの結果から、慣用曲げ剛性倍率の値が3倍から100倍の間である実施例1〜6は、柔軟性試験において良好な結果を示したが、慣用曲げ剛性倍率の値が100倍を超えている比較例1,2は、高弾性すぎて曲げられないという結果となった。   From the results of Table 1 and Table X, Examples 1 to 6 in which the value of the conventional bending rigidity magnification is between 3 times and 100 times showed good results in the flexibility test, but the values of the conventional bending rigidity magnification were In Comparative Examples 1 and 2, which exceeded 100 times, the results were that they were too elastic to bend.

[実施例7]
実施例1で得られた表面処理透明ガラス繊維フィルム2枚を付加型シリコーン樹脂接着剤(製品名:KE−109、信越化学工業(株)製)によって貼りあわせ、熱プレス機にて圧力2MPa、150℃で30分間加圧成型し、さらにこれを150℃で1時間2次硬化させて積層板を得た。得られた積層板について下記評価を行った。評価結果を表2に示す。
[Example 7]
Two surface-treated transparent glass fiber films obtained in Example 1 were bonded together with an addition-type silicone resin adhesive (product name: KE-109, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and a pressure of 2 MPa with a hot press. It was pressure-molded at 150 ° C. for 30 minutes, and further subjected to secondary curing at 150 ° C. for 1 hour to obtain a laminate. The following evaluation was performed about the obtained laminated board. The evaluation results are shown in Table 2.

[実施例8]
実施例2で得られたガラス繊維処理フィルムを用いて、実施例7と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例7と同様にして、外観、耐熱性を評価した。結果を表2に記載した。
[Example 8]
Using the glass fiber treated film obtained in Example 2, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7. Using the obtained laminate, the appearance and heat resistance were evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.

[実施例9]
実施例3で得られたガラス繊維処理フィルムを用いて、実施例7と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例7と同様にして、耐熱性を評価した。結果を表2に記載した。
[Example 9]
Using the glass fiber-treated film obtained in Example 3, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7. Using the obtained laminate, heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.

[実施例10]
実施例4で得られたガラス繊維処理フィルムを用いて、実施例7と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例7と同様にして、耐熱性を評価した。結果を表2に記載した。
[Example 10]
Using the glass fiber treated film obtained in Example 4, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7. Using the obtained laminate, heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.

[比較例3]
比較例1で得られた透明プリプレグを用いて、接着剤を用いない以外は実施例7と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例7と同様にして、耐熱性を評価した。結果を表2に記載した。
[Comparative Example 3]
Using the transparent prepreg obtained in Comparative Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that no adhesive was used. Using the obtained laminate, heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.

[比較例4]
比較例2で得られた透明プリプレグを用いて、接着剤を用いない以外は実施例7と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例7と同様にして、耐熱性を評価した。結果を表2に記載した。
[Comparative Example 4]
Using the transparent prepreg obtained in Comparative Example 2, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that no adhesive was used. Using the obtained laminate, heat resistance was evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.

耐熱性
それぞれの透明積層板を150℃×1000hrの耐熱試験を行い、外観を確認した。
Heat resistance Each transparent laminate was subjected to a heat resistance test at 150 ° C. × 1000 hr to confirm the appearance.

柔軟性試験
それぞれの透明積層板を、図1で示す幅10cmの筐体の外周部にはめ込み、フィルムのわれ、くずれなどを確認した。
Each of the transparent laminates of the flexibility test was fitted into the outer periphery of the case having a width of 10 cm shown in FIG. 1 to check for film breakage and breakage.

耐熱衝撃性試験
ヒートショック試験機で−60℃×1分⇔150℃×1分を1000サイクル行った後の試験片のクラック、剥離、変色などを観察したものを表2に示す。
Thermal shock resistance test Table 2 shows the results of observation of cracks, peeling, discoloration and the like of the test pieces after 1000 cycles of -60 ° C x 1 minute ⇔ 150 ° C x 1 minute with a heat shock tester.

Figure 0006096141
*1 フィルム柔軟性
○良好(割れ、剥離なし) ×不良(割れ又は剥離あり)
*2 熱衝撃試験 外観
○ 良好(割れ、剥離なし) × 不良(割れ又は剥離あり)
Figure 0006096141
* 1 Film flexibility
○ Good (no cracking or peeling) × Bad (with cracking or peeling)
* 2 Thermal shock test Appearance
○ Good (no cracking or peeling) × Bad (with cracking or peeling)

実施例7〜10の積層板ではエポキシ樹脂やアクリル樹脂などを含まずに積層板を製造しているため、従来のガラスエポキシ基板の欠点である基材の変色を抑えた積層板を得ることも可能になる。また、用いた表面処理ガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性倍率が3倍から10倍の範囲内であるため、フィルムの柔軟性が保たれ、かつ熱衝撃性にも強い高強度な透明基板を提供することができる。   In the laminates of Examples 7 to 10, since the laminate is produced without including epoxy resin or acrylic resin, it is possible to obtain a laminate that suppresses discoloration of the base material, which is a drawback of the conventional glass epoxy substrate. It becomes possible. In addition, since the conventional bending rigidity magnification of the surface-treated glass fiber film used is in the range of 3 to 10 times, a high-strength transparent substrate that maintains the flexibility of the film and has high thermal shock resistance is provided. be able to.

形状変化試験
実施例1、実施例2、実施例4、実施例5で得られたガラスクロス及び、比較例1で得られた透明プリプレグを用いて下記の比較評価試験を行った。
Shape Change Test Using the glass cloth obtained in Example 1, Example 2, Example 4, and Example 5 and the transparent prepreg obtained in Comparative Example 1, the following comparative evaluation test was performed.

予め、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品名:EPICRON N−695、(株)DIC製)10質量部、フェノールノボラック樹脂(商品名:PHENOLITE TD−2090、(株)DIC製)5質量部、イミダゾール系触媒(商品名:1B2PZ、(株)四国化成製)0.1質量部及びMEK溶剤50質量部からなる高フィラー含有エポキシ樹脂組成物のスラリーを調製した。   In advance, cresol novolac type epoxy resin (trade name: EPICRON N-695, manufactured by DIC Corporation) 10 parts by mass, phenol novolac resin (trade name: PHENOLITE TD-2090, manufactured by DIC Corporation) 5 parts by mass, imidazole series A slurry of a high filler-containing epoxy resin composition comprising 0.1 part by mass of a catalyst (trade name: 1B2PZ, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) and 50 parts by mass of a MEK solvent was prepared.

[実施例11]
実施例1で得られたガラス繊維フィルムを上記エポキシ樹脂組成物スラリーに含浸したのち、100℃で10分乾燥後、2枚重ねて金型にセットし、温度:200℃、圧力:2MPa、加圧時間:70分でプレスして積層板を得た。その後、フィルム及びガラスクロスの目開き、よじれなどを目視で観察した。その結果を表3に示す。
[Example 11]
The glass fiber film obtained in Example 1 was impregnated with the above-mentioned epoxy resin composition slurry, dried at 100 ° C. for 10 minutes, then placed in a mold with two sheets stacked, temperature: 200 ° C., pressure: 2 MPa, applied Pressing time: 70 minutes to obtain a laminate. Then, the opening of the film and the glass cloth, kinking, etc. were observed visually. The results are shown in Table 3.

[実施例12]
実施例2で得られたガラス繊維フィルムを用いて、実施例11と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例11と同様にして、フィルム及びガラスクロスの目開き、よじれなどを目視で観察した。その結果を表3に示す。
[Example 12]
Using the glass fiber film obtained in Example 2, a laminate was obtained in the same manner as in Example 11. Using the obtained laminated plate, the opening of the film and glass cloth, kinking, and the like were visually observed in the same manner as in Example 11. The results are shown in Table 3.

[実施例13]
実施例4で得られたガラス繊維フィルムを用いて、実施例11と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例11と同様にして、フィルム及びガラスクロスの目開き、よじれなどを目視で観察した。その結果を表3に示す。
[Example 13]
Using the glass fiber film obtained in Example 4, a laminate was obtained in the same manner as in Example 11. Using the obtained laminated plate, the opening of the film and glass cloth, kinking, and the like were visually observed in the same manner as in Example 11. The results are shown in Table 3.

[実施例14]
実施例5で得られたガラス繊維フィルムを用いて、実施例11と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例11と同様にして、フィルム及びガラスクロスの目開き、よじれなどを目視で観察した。その結果を表3に示す。
[Example 14]
Using the glass fiber film obtained in Example 5, a laminate was obtained in the same manner as in Example 11. Using the obtained laminated plate, the opening of the film and glass cloth, kinking, and the like were visually observed in the same manner as in Example 11. The results are shown in Table 3.

[比較例5]
比較例1で得られた透明プリプレグを用いて、実施例11と同様の方法で積層板を得た。得られた積層板を用いて、実施例11と同様にして、フィルム及びガラスクロスの目開き、よじれなどを目視で観察した。その結果を表3に示す。
[Comparative Example 5]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 11 using the transparent prepreg obtained in Comparative Example 1. Using the obtained laminated plate, the opening of the film and glass cloth, kinking, and the like were visually observed in the same manner as in Example 11. The results are shown in Table 3.

Figure 0006096141
*3 形状変化
○ 良好(目開きなし) × 不良(目開きあり、縒れあり)
Figure 0006096141
* 3 Shape change ○ Good (no opening) × Poor (opening and twisting)

表3の結果から、実施例11〜14の積層板では、本発明のガラス繊維フィルムを用いているため、従来のシランカップリング剤処理ガラスクロスと異なり、プレス時の形状変化が少なく、寸法安定性に優れた基板を提供できた。そのため、内在する応力により基板自身にも捩れ、反りの発生が抑制され、高温時で高信頼性の材料として適用できる。   From the results in Table 3, in the laminated plates of Examples 11 to 14, since the glass fiber film of the present invention is used, unlike the conventional silane coupling agent-treated glass cloth, there is little shape change at the time of pressing and dimensional stability. We were able to provide an excellent substrate. For this reason, the substrate is twisted and warped due to the inherent stress, and can be applied as a highly reliable material at high temperatures.

尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

1…表面処理ガラス繊維フィルム、 2…半円筒状筐体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Surface treatment glass fiber film, 2 ... Semi-cylindrical housing.

Claims (7)

表面処理ガラス繊維フィルムを1枚、もしくは複数枚積層させたものを含む透明ガラス繊維フィルムであって、
JIS R 3420に記載の方法で測定した前記表面処理ガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値が、未処理のガラス繊維フィルムの慣用曲げ剛性の値に対して3倍から100倍であり、JIS K 7375に記載の方法で測定した厚さ500μm以下で波長400〜800nmでの前記表面処理ガラス繊維フィルムの全光線透過率が90%以上のものであり、
前記表面処理ガラス繊維フィルムが、有機ケイ素化合物により表面処理されたガラスクロスであることを特徴とする透明ガラス繊維フィルム。
A transparent glass fiber film containing one or more surface-treated glass fiber films laminated,
The value of the conventional bending rigidity of the surface-treated glass fiber film measured by the method described in JIS R 3420 is 3 to 100 times the value of the conventional bending rigidity of the untreated glass fiber film, and JIS K 7375 der those total light transmittance of 90% or more of the surface-treated glass fiber film at a wavelength of 400~800nm below thickness 500μm as measured by the method described in is,
The transparent glass fiber film, wherein the surface-treated glass fiber film is a glass cloth surface-treated with an organosilicon compound .
前記有機ケイ素化合物とガラスクロスとの25℃におけるナトリウムD線の屈折率差が−0.02以上+0.02以下であり、かつそれぞれの屈折率の値が1.44以上1.60以下である請求項に記載の透明ガラス繊維フィルム。 The refractive index difference of the sodium D line at 25 ° C. between the organosilicon compound and the glass cloth is −0.02 or more and +0.02 or less, and the respective refractive index values are 1.44 or more and 1.60 or less. The transparent glass fiber film according to claim 1 . 前記ガラスクロスが石英ガラスクロスであることを特徴とする請求項又は請求項に記載の透明ガラス繊維フィルム。 The transparent glass fiber film according to claim 1 or 2 , wherein the glass cloth is a quartz glass cloth. 前記有機ケイ素化合物が、アルコキシシラン、ポリシラザン、シリコーン変性ワニス、アルコキシシランと金属アルコキシドの混合物、及び動的光散乱法によって測定した平均粒径が1〜100nmであるシリカゾルとアルコキシシランとの混合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上の化合物であることを特徴とする請求項から請求項のいずれか1項に記載の透明ガラス繊維フィルム。 The organosilicon compound is composed of alkoxysilane, polysilazane, silicone-modified varnish, a mixture of alkoxysilane and metal alkoxide, and a mixture of silica sol and alkoxysilane having an average particle diameter measured by dynamic light scattering method of 1 to 100 nm. transparent glass fiber film as claimed in any one of claims 3, characterized in that one or more compounds selected from the group. 請求項1から請求項のいずれか1項に記載の透明ガラス繊維フィルムを用いたものであることを特徴とする半導体装置。 Wherein a claim 1 in which using a transparent glass fiber film according to any one of claims 4. 請求項1から請求項のいずれか1項に記載の透明ガラス繊維フィルムを用いたものであることを特徴とするディスプレイ用保護フィルム。 A protective film for a display, comprising the transparent glass fiber film according to any one of claims 1 to 4 . 前記ディスプレイ用保護フィルムの片面又は両面に、反射防止層又は防汚層、もしくはこれらの両方を設けたものであることを特徴とする請求項に記載のディスプレイ用保護フィルム。 The protective film for a display according to claim 6 , wherein the protective film for a display is provided with an antireflection layer, an antifouling layer, or both on one surface or both surfaces thereof.
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