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JP6091296B2 - Imaging device, manufacturing method of imaging device, and imaging module - Google Patents

Imaging device, manufacturing method of imaging device, and imaging module Download PDF

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JP6091296B2 JP2013078633A JP2013078633A JP6091296B2 JP 6091296 B2 JP6091296 B2 JP 6091296B2 JP 2013078633 A JP2013078633 A JP 2013078633A JP 2013078633 A JP2013078633 A JP 2013078633A JP 6091296 B2 JP6091296 B2 JP 6091296B2
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Description

本発明は、撮像素子が形成された撮像チップが実装された配線板を具備する撮像装置、前記撮像装置の製造方法、及び前記撮像装置を具備する撮像モジュールに関し、特にチップサイズパッケージ型の撮像チップを具備する撮像装置、前記撮像装置の製造方法、及び前記撮像装置を具備する撮像モジュールに関する。   The present invention relates to an image pickup apparatus including a wiring board on which an image pickup chip on which an image pickup element is formed is mounted, a method for manufacturing the image pickup apparatus, and an image pickup module including the image pickup apparatus, and in particular, a chip size package type image pickup chip. An imaging device including the imaging device, a method for manufacturing the imaging device, and an imaging module including the imaging device.

撮像チップを具備する撮像装置は、例えば電子内視鏡の先端部に配設されて使用される。電子内視鏡の先端部は患者の苦痛を和らげるために、細径化が重要な課題である。   An imaging apparatus including an imaging chip is used, for example, provided at the distal end portion of an electronic endoscope. In order to relieve the pain of the patient, it is an important task to reduce the diameter of the tip of the electronic endoscope.

図1に示すように、特開2011−217887号公報には、撮像チップ110の投影面110S内に配線板130が配置されている撮像装置101が開示されている。撮像装置101では、撮像チップ110の外部接続端子113と、配線板130の金バンプ131とが接合されている。そして配線板130の屈曲部133が折り曲げられている。   As shown in FIG. 1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-217887 discloses an imaging apparatus 101 in which a wiring board 130 is disposed in a projection surface 110S of an imaging chip 110. In the imaging device 101, the external connection terminal 113 of the imaging chip 110 and the gold bump 131 of the wiring board 130 are joined. The bent portion 133 of the wiring board 130 is bent.

撮像装置101は、撮像チップ110と配線板130とは、外部接続端子113と金バンプ131との接合部だけで接合されている。このため、信頼性及び接合強度が十分に担保されているとはいえないおそれがあった。   In the image pickup apparatus 101, the image pickup chip 110 and the wiring board 130 are joined only by a joint portion between the external connection terminal 113 and the gold bump 131. For this reason, there exists a possibility that it cannot be said that reliability and joining strength are fully ensured.

これに対して、図2に示すように、特開2012−64883号公報には、撮像チップ210の外部接続端子213と配線板230の接続パッド231との接合部を、封止層220で封止した撮像装置201が開示されている。封止層220は、異方性導電膜からなり、外部接続端子213と接続パッド231とを電気的に接続すると共に、接合部の封止機能及び補強機能を有する。   On the other hand, as shown in FIG. 2, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-64883 discloses that a joint between the external connection terminal 213 of the imaging chip 210 and the connection pad 231 of the wiring board 230 is sealed with a sealing layer 220. A stopped imaging device 201 is disclosed. The sealing layer 220 is made of an anisotropic conductive film, and electrically connects the external connection terminal 213 and the connection pad 231 and has a sealing function and a reinforcing function for the joint portion.

しかし、撮像装置201では、封止層220を接合部に合わせて所定形状にパターニングする必要があった。   However, in the imaging device 201, it is necessary to pattern the sealing layer 220 into a predetermined shape in accordance with the joint portion.

図3に示す撮像装置301では、撮像チップ310と配線板330とを接合した後に、接合部の隙間に、液体樹脂を注入後に硬化処理することで、封止層320を配設している。撮像装置301は製造が簡単である。   In the imaging device 301 illustrated in FIG. 3, after the imaging chip 310 and the wiring board 330 are joined, the sealing layer 320 is disposed by performing a curing process after injecting a liquid resin in the gap between the joined portions. The imaging device 301 is easy to manufacture.

しかし、液体樹脂は流動性があるため、確実に接合部を封止しようとすると、撮像チップ310と配線板330との間の隙間は全て封止層320により充填される。言い換えれば、撮像チップ310の平面視寸法と封止層320平面視寸法とは同じ大きさである。配線板330は、撮像チップ310の外周部にも固定されているため、折り曲げても、撮像チップ310の投影面310S内に配置することはできなかった。   However, since the liquid resin has fluidity, all the gaps between the imaging chip 310 and the wiring board 330 are filled with the sealing layer 320 in order to reliably seal the joint. In other words, the planar size of the imaging chip 310 and the planar size of the sealing layer 320 are the same size. Since the wiring board 330 is also fixed to the outer peripheral portion of the imaging chip 310, the wiring board 330 could not be arranged in the projection surface 310 </ b> S of the imaging chip 310 even if it was bent.

特開2011−217887号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-217887 特開2012−64883号公報JP 2012-64883 A

本発明は、製造が容易で狭い空間内に配設可能な撮像装置、前記撮像装置の製造方法法、及び前記撮像装置を具備する撮像モジュールを提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide an imaging device that can be easily manufactured and disposed in a narrow space, a method for manufacturing the imaging device, and an imaging module including the imaging device.

本発明の実施形態の撮像装置は、第1の主面に撮像素子を有し、第2の主面に前記撮像素子と貫通配線を介して接続された第1の接合端子を有する撮像チップと、前記撮像チップの前記第1の接合端子と接合された第2の接合端子を有するチップ接合部と、前記チップ接合部から延設された屈曲部と、前記屈曲部から延設された、前記第2の接合端子と接続されたケーブル接続端子を端部に有する延設部とからなる配線板と、前記第1の接合端子と前記第2の接合端子との端子接合部を封止する封止樹脂からなる封止層と、を具備し、前記撮像チップに前記封止層を介して固定されていた前記屈曲部が、前記封止層から分離することにより前記配線板が前記撮像チップの投影面内に配置されている。   An image pickup apparatus according to an embodiment of the present invention includes an image pickup chip having an image pickup element on a first main surface, and a first junction terminal connected to the image pickup element via a through wiring on a second main surface. A chip bonding portion having a second bonding terminal bonded to the first bonding terminal of the imaging chip, a bent portion extending from the chip bonding portion, and extending from the bent portion, A wiring board comprising an extended portion having an end portion of a cable connection terminal connected to the second joint terminal, and a seal that seals a terminal joint portion between the first joint terminal and the second joint terminal A sealing layer made of a stop resin, and the bent portion fixed to the imaging chip via the sealing layer is separated from the sealing layer, so that the wiring board of the imaging chip Arranged in the projection plane.

別の実施形態の撮像装置の製造方法は、第1の主面に撮像素子を有し、第2の主面に前記撮像素子と貫通配線を介して接続された第1の接合端子を有する撮像チップが作製される工程と、前記撮像チップの前記第1の接合端子と接合される第2の接合端子を有するチップ接合部と、前記チップ接合部から延設された屈曲部と、前記屈曲部から延設された、前記第2の接合端子と接続されたケーブル接続端子を端部に有する延設部とからなる配線板が作製される工程と、前記配線板の前記第1の接合端子と前記撮像チップの前記第2の接合端子とが接合される接合工程と、前記撮像チップの前記第2の主面と平板状態の前記配線板との隙間に液体樹脂が注入された後に、硬化処理されて前記第1の接合端子と前記第2の接合端子との端子接合部を封止する封止層が配設される工程と、前記配線板が前記屈曲部で折り曲げられることにより、前記撮像チップに固定されていた前記屈曲部が、前記封止層から分離し、前記配線板が前記撮像チップの投影面内に配設される工程と、を具備する。   An image pickup apparatus manufacturing method according to another embodiment has an image pickup device on a first main surface, and an image pickup device having a first junction terminal connected to the image pickup device via a through-wire on a second main surface. A step of manufacturing a chip, a chip joint having a second joint terminal joined to the first joint terminal of the imaging chip, a bent portion extending from the chip joint, and the bent portion A step of producing a wiring board comprising an extended portion having an end portion having a cable connection terminal connected to the second joint terminal, and the first joint terminal of the wiring board; After the liquid resin is injected into the gap between the second main surface of the imaging chip and the wiring board in a flat plate state, the curing process is performed. And a terminal joint portion between the first joint terminal and the second joint terminal A step of providing a sealing layer for sealing; and the wiring board is bent at the bent portion, whereby the bent portion fixed to the imaging chip is separated from the sealing layer, and the wiring A plate is disposed in a projection plane of the imaging chip.

本発明によれば、狭い空間内に配設可能な撮像装置、前記撮像装置の製造方法法、及び前記撮像装置を具備する撮像モジュールを提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the imaging device which can be arrange | positioned in a narrow space, the manufacturing method of the said imaging device, and the imaging module provided with the said imaging device can be provided.

従来の撮像装置の側面図である。It is a side view of the conventional imaging device. 従来の撮像装置の分解図である。It is an exploded view of the conventional imaging device. 従来の撮像装置の側面図である。It is a side view of the conventional imaging device. 第1実施形態の撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の上面図である。It is a top view of the imaging device of a 1st embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の撮像装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the imaging device of 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例1の撮像装置の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of an imaging device of modification 1 of a 1st embodiment. 第1実施形態の変形例2の撮像装置の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of an imaging device of modification 2 of a 1st embodiment. 第1実施形態の変形例3の撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the imaging device of the modification 3 of 1st Embodiment. 第2実施形態の撮像モジュールの断面図である。It is sectional drawing of the imaging module of 2nd Embodiment.

<第1実施形態>
図4及び図5に示すように、本実施形態の撮像装置1は、撮像チップ10と、封止層20と、配線板30と、信号ケーブル50と、を具備する。
<First Embodiment>
As shown in FIGS. 4 and 5, the imaging device 1 of this embodiment includes an imaging chip 10, a sealing layer 20, a wiring board 30, and a signal cable 50.

撮像装置1は、配線板30の屈曲部33に剥離層40が配設されている。すなわち、後述するように、配線板30と撮像チップ10との隙間は封止層20で外周部まで充填されるが、配線板30が折り曲げられると、剥離層40と封止層20の界面が剥離するため、配線板30は撮像チップ10の投影面10S内に配設される。   In the imaging device 1, the release layer 40 is disposed on the bent portion 33 of the wiring board 30. That is, as will be described later, the gap between the wiring board 30 and the imaging chip 10 is filled to the outer peripheral portion with the sealing layer 20, but when the wiring board 30 is bent, the interface between the release layer 40 and the sealing layer 20 is In order to peel off, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10.

なお、投影面10Sとは撮像チップ10の第1の主面10SA及び第2の主面10SBの垂直投影面である。   The projection surface 10S is a vertical projection surface of the first main surface 10SA and the second main surface 10SB of the imaging chip 10.

以下、撮像装置1の構成要素について説明する。
撮像チップ10は、第1の主面10SAに、COMSイメージセンサ等の撮像素子11を有し、第2の主面10SBに複数の第1の接合端子13を有する。
Hereinafter, components of the imaging device 1 will be described.
The imaging chip 10 has an imaging element 11 such as a COMS image sensor on the first main surface 10SA, and a plurality of first junction terminals 13 on the second main surface 10SB.

撮像チップ10は、シリコン基板を用いてウエハレベルチップサイズパッケージ法で作製されている。撮像素子11は、TSV(Through-Silicon Via)等による貫通配線12を介して第2の主面10SBの第1の接合端子13と接続されている。   The imaging chip 10 is manufactured by a wafer level chip size package method using a silicon substrate. The image sensor 11 is connected to the first junction terminal 13 of the second main surface 10SB via a through wiring 12 made of TSV (Through-Silicon Via) or the like.

配線板30は、チップ接合部32と、チップ接合部32の対向する両端部からそれぞれ延設された2つの屈曲部33と、それぞれの屈曲部33から延設された延設部34とからなる。   The wiring board 30 includes a chip joint portion 32, two bent portions 33 extending from both opposing ends of the chip joint portion 32, and extended portions 34 extending from the respective bent portions 33. .

チップ接合部32には、撮像チップ10の複数の第1の接合端子と、それぞれが接合された複数の第2の接合端子31が配設されている。延設部34には、信号ケーブル50と接続されたケーブル接続端子35が端部に配設されている。第2の接合端子31とケーブル接続端子35とは屈曲部33を介した配線層36により接続されている。凸形状の第2の接合端子31は、金バンプ、銅バンプ又は半田バンプ等である。なお、配線板30の第2の接合端子31が平板状の電極パッドで、撮像チップ10の第1の接合端子13が凸形状のバンプであってもよい。   The chip joint portion 32 is provided with a plurality of first joint terminals of the imaging chip 10 and a plurality of second joint terminals 31 to which each is joined. A cable connection terminal 35 connected to the signal cable 50 is disposed at the end of the extended portion 34. The second joint terminal 31 and the cable connection terminal 35 are connected by a wiring layer 36 through a bent portion 33. The convex second joining terminal 31 is a gold bump, a copper bump, a solder bump, or the like. Note that the second joint terminal 31 of the wiring board 30 may be a flat electrode pad, and the first joint terminal 13 of the imaging chip 10 may be a convex bump.

ここで、便宜上、配線板30を、チップ接合部32、屈曲部33、延設部34、と区分して表現しているが、配線板30は1枚のフレキシブル配線板であり、前記区分の境界は明確に定義されるものではない。なお配線板は少なくとも屈曲部33が可撓性を有していればよく、チップ接合部32及び延設部34を硬質基板で構成したリジッドフレキシブル配線板でもよい。リジッドフレキシブル配線板では、前記区分の境界は比較的、明確である。   Here, for the sake of convenience, the wiring board 30 is expressed as being divided into a chip joint portion 32, a bent portion 33, and an extending portion 34. However, the wiring board 30 is a single flexible wiring board, The boundaries are not clearly defined. The wiring board only needs to have at least the bent portion 33 to be flexible, and may be a rigid flexible wiring board in which the chip bonding portion 32 and the extending portion 34 are formed of a hard substrate. In the rigid flexible wiring board, the boundary between the sections is relatively clear.

図5に示すように、配線板30の幅W30は撮像チップ10の幅W10よりも小さいが、配線板30の長さは撮像チップ10の長さ(高さ)よりも長い。しかし、配線板30は、屈曲部33で内側に屈曲しているため、撮像チップ10の投影面10Sの内側に配置されている。   As shown in FIG. 5, the width W30 of the wiring board 30 is smaller than the width W10 of the imaging chip 10, but the length of the wiring board 30 is longer than the length (height) of the imaging chip 10. However, since the wiring board 30 is bent inward at the bent portion 33, the wiring board 30 is disposed inside the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10.

封止層20は、撮像チップ10と配線板30との接合部を封止すると共に、接合強度を高めている。封止層20は、液体樹脂20A(図7(B)参照)が硬化処理された封止樹脂からなる。後述するように、撮像チップ10の第1の接合端子13と配線板30の第2の接合端子31とが接合されると、第1の接合端子13の厚さと第2の接合端子31の厚さとにより、撮像チップ10と配線板30との間には隙間が形成される。液体樹脂20Aは、この隙間に注入され硬化処理され封止樹脂となる。   The sealing layer 20 seals the joint portion between the imaging chip 10 and the wiring board 30 and increases the joint strength. The sealing layer 20 is made of a sealing resin obtained by curing the liquid resin 20A (see FIG. 7B). As will be described later, when the first joint terminal 13 of the imaging chip 10 and the second joint terminal 31 of the wiring board 30 are joined, the thickness of the first joint terminal 13 and the thickness of the second joint terminal 31 are combined. As a result, a gap is formed between the imaging chip 10 and the wiring board 30. The liquid resin 20A is injected into the gap and cured to become a sealing resin.

狭い隙間を確実に封止するためには流動性の高い液体樹脂20Aを使用する必要がある。すると、液体樹脂20Aは、第1の接合端子13と第2の接合端子31との接合箇所だけでなく、撮像チップ10の第2の主面10SBと配線板30との対向領域全面に広がってしまう。このため、液体樹脂20Aの硬化により形成される封止層20は、配線板30のチップ接合部32だけでなく屈曲部33までも撮像チップ10に固定してしまう。   In order to securely seal the narrow gap, it is necessary to use the liquid resin 20A having high fluidity. Then, the liquid resin 20 </ b> A spreads not only at the joint portion between the first joint terminal 13 and the second joint terminal 31, but also across the entire area where the second main surface 10 </ b> SB of the imaging chip 10 and the wiring board 30 face each other. End up. For this reason, the sealing layer 20 formed by curing of the liquid resin 20 </ b> A is fixed to the imaging chip 10 not only at the chip joint portion 32 of the wiring board 30 but also at the bent portion 33.

配線板30の延設部34のケーブル接続端子35と接続されたケーブル50は、撮像チップ10と図示しない制御部及び信号処理部等との間の信号等を伝達する。なお、配線板30の延設部34等に電子部品が実装されていてもよい。   A cable 50 connected to the cable connection terminal 35 of the extending portion 34 of the wiring board 30 transmits a signal and the like between the imaging chip 10 and a control unit and a signal processing unit (not shown). An electronic component may be mounted on the extended portion 34 or the like of the wiring board 30.

そして、剥離層40が配線板30の屈曲部33に配設されている。厳密には、剥離層40が配設された領域が配線板30の屈曲部33となっている。   The release layer 40 is disposed on the bent portion 33 of the wiring board 30. Strictly speaking, a region where the release layer 40 is disposed is a bent portion 33 of the wiring board 30.

剥離層40は、例えば、シリコーン樹脂、又はフッ素樹脂等からなる。   The release layer 40 is made of, for example, a silicone resin or a fluororesin.

剥離層40は、封止層20との剥離強度が配線板30との剥離強度よりも小さい。剥離層40の封止層20との剥離強度は、10.0N/cm以下であり、好ましくは5.0N/cm以下である。なお剥離強度とは、JIS Z0237に規定されている「粘着テープ、粘着シート試験方法」に準じて測定した垂直剥離強度である。   The peeling layer 40 has a peeling strength with the sealing layer 20 that is smaller than a peeling strength with the wiring board 30. The peel strength between the release layer 40 and the sealing layer 20 is 10.0 N / cm or less, preferably 5.0 N / cm or less. The peel strength is a vertical peel strength measured according to “Testing method of adhesive tape and adhesive sheet” defined in JIS Z0237.

剥離層40の封止層20との剥離強度が前記範囲以下であれば、配線板30が外力により折り曲げられるときに、剥離層40と封止層20の界面が剥離するため、配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配設される。剥離強度の下限値は特に限定されるものではないが、例えば1.0N/cm以上である。   If the peeling strength between the peeling layer 40 and the sealing layer 20 is equal to or less than the above range, the interface between the peeling layer 40 and the sealing layer 20 peels when the wiring board 30 is bent by an external force. It is disposed in the projection surface 10S of the imaging chip 10. Although the lower limit of peeling strength is not specifically limited, For example, it is 1.0 N / cm or more.

すなわち、撮像装置1は、封止層をパターニングする必要がないため、製造が簡単である。さらに、撮像チップ10に封止層20を介して固定されていた屈曲部33が、封止層20から分離することにより配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配置されているため、狭い空間内に配設可能である。   That is, the imaging device 1 is easy to manufacture because it is not necessary to pattern the sealing layer. Furthermore, since the bent part 33 fixed to the imaging chip 10 via the sealing layer 20 is separated from the sealing layer 20, the wiring board 30 is arranged in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10. It can be arranged in a narrow space.

なお、配線板30を折り曲げるときには、所定角度で交差する2面のある治具を用いることが好ましい。また後述するように、配線板30の折り曲げ状態を維持すると共に放熱のために、配線板30の第2の主面30SBを所定形状のブロックに接着してもよい。   When the wiring board 30 is bent, it is preferable to use a jig having two surfaces that intersect at a predetermined angle. As will be described later, the second main surface 30SB of the wiring board 30 may be bonded to a block having a predetermined shape in order to maintain the bent state of the wiring board 30 and to dissipate heat.

撮像装置1の断面積は撮像チップ10の投影面10Sと同じであるために、撮像装置1は、細径で狭い空間内に配設可能である。そして、撮像装置1が先端部に配設された内視鏡は、先端部の細径化が容易である。   Since the cross-sectional area of the imaging device 1 is the same as the projection surface 10S of the imaging chip 10, the imaging device 1 can be disposed in a narrow space with a small diameter. The endoscope in which the imaging device 1 is disposed at the distal end can easily reduce the diameter of the distal end.

次に、図6のフローチャートに沿って撮像装置1の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the imaging device 1 will be described along the flowchart of FIG.

<ステップS11>撮像チップ作製
図7(A)に示すように、撮像チップ10はウエハレベルチップサイズパッケージ型である。最初に、シリコン等の半導体ウエハの第1の主面10SAに、COMSイメージセンサ等の複数の撮像素子11が公知の半導体製造技術により形成される。第2の主面10SB側から貫通孔が、ウエットエッチング又はドライエッチングにより形成された後に、貫通孔の内面を導電化することにより、撮像素子11と接続された貫通配線12が作製される。そして、第2の主面10SBに貫通配線12と接続された第1の接合端子13が形成される。
<Step S11> Imaging Chip Fabrication As shown in FIG. 7A, the imaging chip 10 is a wafer level chip size package type. First, a plurality of image sensors 11 such as a COMS image sensor are formed on a first main surface 10SA of a semiconductor wafer such as silicon by a known semiconductor manufacturing technique. After the through hole is formed by wet etching or dry etching from the second main surface 10SB side, the inner surface of the through hole is made conductive, whereby the through wiring 12 connected to the imaging element 11 is produced. And the 1st junction terminal 13 connected with the penetration wiring 12 is formed in 2nd main surface 10SB.

貫通配線12は、第1の主面10SAの撮像素子11の外周部に形成されるが、第2の主面10SBの第1の接合端子13は、より内周側に配設することが好ましい。すなわち、第1の接合端子13の配設位置が撮像チップ10の外周に近い場合には、配線板30を撮像チップ10の投影面10Sの内部に配設することが困難となる場合がある。このため、撮像チップ10では、貫通配線12の形成部よりも内周側に第1の接合端子13を配設するために、配線層(不図示)を用いている。なお、貫通配線12と撮像素子11との間も配線層(不図示)により接続されている。   The through-wiring 12 is formed on the outer peripheral portion of the imaging element 11 on the first main surface 10SA, but the first joint terminal 13 on the second main surface 10SB is preferably arranged on the inner peripheral side. . That is, when the position where the first joining terminal 13 is disposed is close to the outer periphery of the imaging chip 10, it may be difficult to dispose the wiring board 30 inside the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10. For this reason, in the imaging chip 10, a wiring layer (not shown) is used in order to dispose the first joint terminals 13 on the inner peripheral side with respect to the formation portion of the through wiring 12. The through wiring 12 and the image sensor 11 are also connected by a wiring layer (not shown).

半導体ウエハをワイヤーソー、ブレードダイシング装置、又はレーザーダイシング装置等を用い、切断し個片化することにより多数の撮像チップ10が一括して作製される。   A large number of imaging chips 10 are collectively manufactured by cutting a semiconductor wafer into pieces using a wire saw, a blade dicing apparatus, or a laser dicing apparatus.

なお、半導体ウエハの第1の主面10SAに、ガラスウエハを接着後に貫通孔等を形成することにより、第1の主面10SAがカバーガラスで覆われた撮像装置を作製してもよい。   Note that an imaging device in which the first main surface 10SA is covered with a cover glass may be manufactured by forming a through-hole or the like on the first main surface 10SA of the semiconductor wafer after bonding the glass wafer.

<ステップS12>配線板作製
例えば、ポリイミド等の可撓性樹脂を基材とするフレキシブル配線板である配線板30が公知の配線板作製技術により作製される。配線板30の第1の主面30SAの、チップ接合部32には複数の接合端子31が形成されており、延設部34には複数のケーブル接続端子35が形成されている。配線板30は片面配線板でもよいが、両面配線板、又は多層配線板であることが好ましい。また、後述するように、配線板30にチップコンデンサ等の電子部品を予め実装しておいてもよい。
<Step S12> Wiring Board Production For example, the wiring board 30 which is a flexible wiring board using a flexible resin such as polyimide as a base material is produced by a known wiring board production technique. On the first main surface 30SA of the wiring board 30, a plurality of joining terminals 31 are formed on the chip joining portion 32, and a plurality of cable connection terminals 35 are formed on the extending portion. The wiring board 30 may be a single-sided wiring board, but is preferably a double-sided wiring board or a multilayer wiring board. Further, as will be described later, electronic components such as chip capacitors may be mounted on the wiring board 30 in advance.

なお、撮像チップ作製工程(S11)と配線板作製工程(S12)の順序が逆でもよいことは言うまでも無い。   Needless to say, the order of the imaging chip manufacturing step (S11) and the wiring board manufacturing step (S12) may be reversed.

<ステップS13>剥離層配設
配線板30の第1の主面30SAの屈曲部33に剥離層40が配設される。例えば、シリコーン樹脂からなる剥離層40が配線板30にパターン塗布され、硬化処理される。
<Step S13> Release Layer Arrangement The release layer 40 is provided on the bent portion 33 of the first main surface 30SA of the wiring board 30. For example, a release layer 40 made of a silicone resin is pattern-coated on the wiring board 30 and cured.

なお、図7(A)に示すように剥離層40が配設されるときには配線板30は平板状態である。すなわち、接合されたときに、撮像チップ10の外周部と対向する領域が屈曲部33である。   As shown in FIG. 7A, when the release layer 40 is disposed, the wiring board 30 is in a flat plate state. That is, the region that faces the outer periphery of the imaging chip 10 when bonded is the bent portion 33.

剥離層40が配設される領域は、配線板30の可撓性及び屈曲角度θvをもとに適宜、決定される。なお、撮像チップ10と配線板30との隙間から封止層20(液体樹脂20A)がはみ出すことがあるため、図7(B)に示すように、剥離層40は延設部34の一部にまで配設されていることが好ましい。   The region where the release layer 40 is disposed is appropriately determined based on the flexibility of the wiring board 30 and the bending angle θv. Since the sealing layer 20 (liquid resin 20A) may protrude from the gap between the imaging chip 10 and the wiring board 30, the release layer 40 is a part of the extended portion 34 as shown in FIG. It is preferable that it is arrange | positioned.

<ステップS14>接合
図7(A)、図7(B)に示すように、平板状態の配線板30の第1の主面30SAの接合端子31と、撮像チップ10の接合端子13とが電気的に接合される。接合は、圧着接合、超音波接合又は半田接合により行われる。
<Step S14> Joining As shown in FIGS. 7A and 7B, the joining terminal 31 of the first main surface 30SA of the flat wiring board 30 and the joining terminal 13 of the imaging chip 10 are electrically connected. Are joined together. Bonding is performed by pressure bonding, ultrasonic bonding, or solder bonding.

<ステップS15>封止層配設
すでに説明したように接合された撮像チップ10の第2の主面10SBと配線板30のチップ接合部32の第1の主面30SAとの間には、空間(隙間)が配設される。この隙間を充填するのが、アンダーフィルで、液体樹脂20Aから作製される封止層20である。液体樹脂20Aは、例えば、一液性のエポキシ樹脂であり、加熱により硬化し、封止樹脂となる。
<Step S15> Sealing Layer Arrangement Between the second main surface 10SB of the imaging chip 10 bonded as described above and the first main surface 30SA of the chip bonding portion 32 of the wiring board 30, there is a space. (Gap) is provided. It is underfill that fills this gap, and is the sealing layer 20 made of the liquid resin 20A. The liquid resin 20A is, for example, a one-component epoxy resin, and is cured by heating to become a sealing resin.

接合信頼性を担保するためには、図7(C)に示すように、撮像チップ10の第2の主面10SBを完全に覆うように液体樹脂20Aが注入され硬化される。   In order to ensure the bonding reliability, as shown in FIG. 7C, the liquid resin 20A is injected and cured so as to completely cover the second main surface 10SB of the imaging chip 10.

<ステップS16>折り曲げ
図7(D)に示すように、配線板30が、チップ接合部32の両端から延設されている2つの延設部
34の第2の主面30SBが対向するように、屈曲部33で折り曲げられる。すると、折り曲げるときの外力により、剥離層40と封止層20の界面が剥離する。このため配線板30は、撮像チップ10の投影面10S内に配置される。
<Step S16> Bending As shown in FIG. 7D, the wiring board 30 is arranged so that the second main surfaces 30SB of the two extending portions 34 extending from both ends of the chip bonding portion 32 face each other. The bent portion 33 is bent. Then, the interface between the peeling layer 40 and the sealing layer 20 peels due to the external force when bending. For this reason, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10.

折り曲げ角度θvが略90度以下の場合に、配線板30は撮像チップ10の投影面10S内に配置されるが、信号ケーブル50の接合等を考慮すると、折り曲げ角度θvは、80〜45度が好ましい。   When the bending angle θv is approximately 90 degrees or less, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10S of the imaging chip 10, but considering the joining of the signal cable 50, the bending angle θv is 80 to 45 degrees. preferable.

<ケーブル接続工程>
配線板30の延設部34のケーブル接続端子35と、信号ケーブル50とが接続される。ケーブル接続は、例えば、はんだ接合により行われる。
<Cable connection process>
The cable connection terminal 35 of the extending part 34 of the wiring board 30 and the signal cable 50 are connected. The cable connection is performed by, for example, solder bonding.

なお、ケーブル50は可撓性を有するため、撮像装置1の細径化のために、ケーブル50は全長にわたって撮像チップ10の投影面10S内の空間に配置されている必要はない。ケーブル50は、少なくとも、配線板30との接合部が投影面10S内に配置されていればよい。   Since the cable 50 has flexibility, the cable 50 does not need to be disposed in the space in the projection surface 10S of the imaging chip 10 over the entire length in order to reduce the diameter of the imaging device 1. It is only necessary that the cable 50 has at least a junction with the wiring board 30 disposed in the projection surface 10S.

以上の説明のように、本実施形態の撮像装置1の製造方法は、撮像チップ作製工程(S11)と、配線板作製工程(S12)と、剥離層配設工程(S13)と、接合工程(S14)と、封止層配設工程(S15)と、折り曲げ工程(S16)とを具備する。そして、折り曲げ工程において、剥離層40と封止層20の界面が剥離し、撮像チップ10に固定されていた屈曲部33が、封止層20から分離するため、配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配設される。   As described above, the manufacturing method of the imaging device 1 of the present embodiment includes the imaging chip manufacturing process (S11), the wiring board manufacturing process (S12), the release layer providing process (S13), and the bonding process ( S14), a sealing layer disposing step (S15), and a bending step (S16). In the bending process, the interface between the release layer 40 and the sealing layer 20 is peeled off, and the bent portion 33 fixed to the imaging chip 10 is separated from the sealing layer 20. It is disposed in the projection surface 10S.

本実施形態の製造方法によれば、狭い空間内に配設可能な撮像装置1を製造できる。   According to the manufacturing method of the present embodiment, the imaging device 1 that can be disposed in a narrow space can be manufactured.

<第1実施形態の変形例>
次に、第1実施形態の変形例の撮像装置1A、1B、1Cについて説明する。撮像装置1A、1B、1Cは撮像装置1と類似しているので、同じ構成要素には同じ符号を付し説明は省略する。
<Modification of First Embodiment>
Next, imaging devices 1A, 1B, and 1C according to modified examples of the first embodiment will be described. Since the imaging devices 1A, 1B, and 1C are similar to the imaging device 1, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

変形例1の撮像装置1Aでは、図8に示すように、配線板30の屈曲部33に表面改質層40Aが形成されており、表面改質層40Aと封止層20の界面が剥離している。このため配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配置されている。ここで、表面改質層40Aと封止層20との剥離強度は、表面改質層40Aと配線板30との剥離強度よりも小さく、例えば、10N/cm以下である。   In the imaging device 1A of Modification 1, as shown in FIG. 8, the surface modification layer 40A is formed on the bent portion 33 of the wiring board 30, and the interface between the surface modification layer 40A and the sealing layer 20 peels off. ing. For this reason, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10. Here, the peel strength between the surface modified layer 40A and the sealing layer 20 is smaller than the peel strength between the surface modified layer 40A and the wiring board 30, for example, 10 N / cm or less.

表面改質層40Aは、配線板30の基体の、例えばポリイミド樹脂からなる表面層に、フッ素基を導入することにより形成されている。表面改質層40Aは、屈曲部33から延設部34の全体にわたって形成されていてもよい。言い換えれば、配線板30のチップ接合部32以外の領域全体に表面改質層40Aが形成されていてもよい。同様にシリコーン樹脂又はフッ素樹脂からなる離型剤や潤滑剤をスプレー塗布することでも同様の効果が得られる。   40 A of surface modification layers are formed by introduce | transducing a fluorine group into the surface layer which consists of a polyimide resin of the base | substrate of the wiring board 30, for example. The surface modification layer 40A may be formed from the bent portion 33 to the entire extended portion 34. In other words, the surface modification layer 40 </ b> A may be formed in the entire region other than the chip bonding portion 32 of the wiring board 30. Similarly, the same effect can be obtained by spray-coating a release agent or lubricant made of silicone resin or fluororesin.

変形例2の撮像装置1Bでは、図9に示すように、屈曲部33と対向している封止層20に剥離部材40Bが接合されている。剥離部材40Bは、フレキシブル樹脂からなる基板部41の片面に接着層42を有する、例えばポリイミドテープ(ポリイミド粘着テープ)である。そして、接着層42と配線板30の屈曲部33の界面が剥離している。このため配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配置されている。剥離部材としては、セロハンテープ、アセテート粘着テープ、ビニールテープ又はクラフト粘着テープなど、接着性のテープを用いることができる。   In the imaging device 1B of Modification 2, as shown in FIG. 9, the peeling member 40B is joined to the sealing layer 20 facing the bent portion 33. The peeling member 40B is, for example, a polyimide tape (polyimide adhesive tape) having an adhesive layer 42 on one surface of the substrate portion 41 made of a flexible resin. The interface between the adhesive layer 42 and the bent portion 33 of the wiring board 30 is peeled off. For this reason, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10. As the peeling member, an adhesive tape such as a cellophane tape, an acetate pressure-sensitive adhesive tape, a vinyl tape, or a craft pressure-sensitive adhesive tape can be used.

剥離部材40Bは、配線板30の屈曲部33に接着層42を介して接着されていた。しかし、配線板30が折り曲げられるときに、剥離部材40Bは屈曲部33から剥離した。すなわち、剥離部材40Bの接着層42と配線板30の剥離強度は、基板部41と封止層20との剥離強度よりも小さく、例えば、10N/cm以下である。尚、剥離箇所が接着層42と基板部41との間または封止層20と基板部41との間であっても効果に相違はないため、基板部41の材質、接着層42の材質、それらの組み合わせは適宜選定される。   The peeling member 40 </ b> B was bonded to the bent portion 33 of the wiring board 30 via the adhesive layer 42. However, the peeling member 40 </ b> B peeled off from the bent portion 33 when the wiring board 30 was bent. That is, the peel strength between the adhesive layer 42 of the peeling member 40B and the wiring board 30 is smaller than the peel strength between the substrate portion 41 and the sealing layer 20, and is, for example, 10 N / cm or less. In addition, since there is no difference in effect even if the peeled portion is between the adhesive layer 42 and the substrate portion 41 or between the sealing layer 20 and the substrate portion 41, the material of the substrate portion 41, the material of the adhesive layer 42, Those combinations are appropriately selected.

変形例3の撮像装置1Cでは、図10に示すように、配線板30Cは、チップ接合部32の一方の端部だけから屈曲部33及び延設部34が延設されている。このため、封止層20Cは撮像チップ10の第2の主面10SBの全面を覆ってはいない、   In the imaging device 1 </ b> C according to the third modified example, as illustrated in FIG. 10, the wiring board 30 </ b> C has a bent portion 33 and an extending portion 34 extending from only one end portion of the chip joint portion 32. For this reason, the sealing layer 20C does not cover the entire surface of the second main surface 10SB of the imaging chip 10.

撮像装置1Cは、撮像装置1と同様に、屈曲部33に配設された剥離層40と、封止層20の界面が剥離することにより、配線板30Cが撮像チップ10の投影面10S内に配置されている。 Similar to the imaging device 1, the imaging device 1 </ b> C has the wiring board 30 </ b> C in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10 by peeling the interface between the release layer 40 disposed in the bent portion 33 and the sealing layer 20. Has been placed.

上記変形例の撮像装置1A〜1Cは、いずれも撮像装置1の効果を有し、変形例の撮像装置1A〜1Cの製造方法は、いずれも撮像装置1の製造方法の効果を有する。   The imaging devices 1A to 1C of the modified example all have the effects of the imaging device 1, and the manufacturing methods of the imaging devices 1A to 1C of the modified example all have the effects of the manufacturing method of the imaging device 1.

<第2実施形態>
第2実施形態の撮像モジュール2は、図11に示すように、撮像装置1Dが金属からなる筐体であるシールドケース60に収容されている。すでに説明した撮像装置1等と同じように撮像装置1Dは、配線板30は撮像チップ10の投影面10S内に配置されている。すなわち、図11には詳細を図示しないが、撮像装置1Dは、撮像装置1、1A〜1Cのいずれかと同じ構成を有し、撮像チップ10に封止層20を介して固定されていた屈曲部33が封止層20から分離することにより配線板30が撮像チップ10の投影面10S内に配置されている。このため、シールドケース60の内寸は、撮像チップ10の外寸と略同じで小型(小径)である。
Second Embodiment
As shown in FIG. 11, the imaging module 2 of the second embodiment is housed in a shield case 60, which is a housing made of metal, and the imaging device 1D. Similar to the imaging apparatus 1 and the like already described, in the imaging apparatus 1D, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10S of the imaging chip 10. That is, although details are not illustrated in FIG. 11, the imaging device 1 </ b> D has the same configuration as any of the imaging devices 1, 1 </ b> A to 1 </ b> C, and is a bent portion fixed to the imaging chip 10 via the sealing layer 20. By separating 33 from the sealing layer 20, the wiring board 30 is disposed in the projection surface 10 </ b> S of the imaging chip 10. For this reason, the inner dimension of the shield case 60 is substantially the same as the outer dimension of the imaging chip 10 and is small (small diameter).

また、撮像チップ10の第1の主面10SAにはカバーガラス61が接着されている。配線板30の延設部34には電子部品63が実装されている。   A cover glass 61 is bonded to the first main surface 10SA of the imaging chip 10. An electronic component 63 is mounted on the extending portion 34 of the wiring board 30.

撮像装置1Dと模式的に示している複数のレンズ(その他の光学部材を含む)からなる光学系62とは、光学系62の保持体である光学系ホルダー65により光軸Oを中心に位置合せされている。また、光学系ホルダー65と接合しているシールドケース60の内部は、高熱伝導性の封止樹脂64で封止されている。   The optical system 62 composed of a plurality of lenses (including other optical members) schematically shown with the imaging device 1D is aligned around the optical axis O by an optical system holder 65 that is a holder of the optical system 62. Has been. Further, the inside of the shield case 60 bonded to the optical system holder 65 is sealed with a highly heat conductive sealing resin 64.

さらに、撮像装置1Dは、配線板30の屈曲部33を所定角度で内側折り曲げて保持するための補強部材であるブロック70を有する。ブロック70は、配線板30の第2の主面30SBと接合されている接合面と、接合面の両側に所定角度θVで内側方向に傾斜した傾斜面を有する。配線板30はブロック70に沿って折り曲げられており、屈曲部33の屈曲角度θvは、ブロック70の傾斜面の角度θvにより決定される。ブロック70は、アルミニウム等の高熱伝導材料からなり、放熱機能を有していることが好ましい。   Furthermore, the imaging apparatus 1D includes a block 70 that is a reinforcing member for holding the bent portion 33 of the wiring board 30 by bending it inside at a predetermined angle. The block 70 has a joint surface joined to the second main surface 30SB of the wiring board 30, and inclined surfaces inclined inward at a predetermined angle θV on both sides of the joint surface. The wiring board 30 is bent along the block 70, and the bending angle θv of the bent portion 33 is determined by the angle θv of the inclined surface of the block 70. The block 70 is preferably made of a highly heat conductive material such as aluminum and has a heat dissipation function.

撮像装置1Dが小型で製造が容易であるため、撮像モジュール2は小型化及び製造が容易である。また、ブロック70により折り曲げた配線板30は安定に保持される。さらに撮像チップ10が発生した熱はブロック70を介して伝熱されるため、撮像モジュール2は撮像チップ10が高温になりにくいため、動作が安定している。撮像モジュール2は細径であるため、電子内視鏡の先端部の撮像手段として好ましく用いることができる。   Since the imaging device 1D is small and easy to manufacture, the imaging module 2 can be easily downsized and manufactured. Further, the wiring board 30 bent by the block 70 is stably held. Furthermore, since the heat generated by the imaging chip 10 is transferred through the block 70, the imaging module 2 is stable in operation because the imaging chip 10 does not easily reach a high temperature. Since the imaging module 2 has a small diameter, it can be preferably used as an imaging means for the distal end portion of the electronic endoscope.

本発明は上述した実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等ができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and various changes and modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1、1〜1C…撮像装置、10…撮像チップ、11…撮像素子、12…貫通配線、13…接合端子、20…封止層、20A…液体樹脂、30…配線板、31…接合端子、32…チップ接合部、33…屈曲部、34…延設部、35…ケーブル接続端子、36…配線層、40…剥離層、40A…表面改質層、40B…剥離部材、41…基板部、42…接着層、50…信号ケーブル、60…シールドケース、61・・・カバーガラス、62・・・光学系、63・・・電子部品、64・・・封止樹脂、65・・・光学系ホルダー、70…ブロック DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1-1C ... Imaging device, 10 ... Imaging chip, 11 ... Imaging element, 12 ... Through wiring, 13 ... Joining terminal, 20 ... Sealing layer, 20A ... Liquid resin, 30 ... Wiring board, 31 ... Joining terminal, 32 ... Chip bonding part, 33 ... Bending part, 34 ... Extension part, 35 ... Cable connection terminal, 36 ... Wiring layer, 40 ... Peeling layer, 40A ... Surface modification layer, 40B ... Peeling member, 41 ... Substrate part, 42 ... Adhesive layer, 50 ... Signal cable, 60 ... Shield case, 61 ... Cover glass, 62 ... Optical system, 63 ... Electronic component, 64 ... Sealing resin, 65 ... Optical system Holder, 70 ... Block

Claims (9)

第1の主面に撮像素子を有し、第2の主面に前記撮像素子と貫通配線を介して接続された第1の接合端子を有する撮像チップと、
前記撮像チップの前記第1の接合端子と接合された第2の接合端子を有するチップ接合部と、前記チップ接合部から延設された屈曲部と、前記屈曲部から延設された、前記第2の接合端子と接続されたケーブル接続端子を端部に有する延設部とからなる配線板と、
前記第1の接合端子と前記第2の接合端子との端子接合部を封止する封止樹脂からなる封止層と、を具備し、
前記撮像チップに前記封止層を介して固定されていた前記屈曲部が、前記封止層から分離することにより前記配線板が前記撮像チップの投影面内に配置されていることを特徴とする撮像装置。
An imaging chip having an image sensor on a first main surface and having a first junction terminal connected to the image sensor on a second main surface via a through-wiring;
A chip joint having a second joint terminal joined to the first joint terminal of the imaging chip, a bent portion extending from the chip joint, and the first extending from the bent portion. A wiring board composed of an extended portion having an end portion of a cable connection terminal connected to the two junction terminals;
A sealing layer made of a sealing resin for sealing a terminal joint portion between the first joint terminal and the second joint terminal;
The wiring board is arranged in a projection plane of the imaging chip by separating the bent portion fixed to the imaging chip via the sealing layer from the sealing layer. Imaging device.
前記屈曲部に剥離層が配設されており、前記剥離層と前記封止層の界面が剥離していることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。   The imaging apparatus according to claim 1, wherein a peeling layer is disposed at the bent portion, and an interface between the peeling layer and the sealing layer is peeled off. 前記屈曲部に表面改質層が形成されており、前記表面改質層と前記封止層の界面が剥離していることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。   The imaging device according to claim 1, wherein a surface modification layer is formed at the bent portion, and an interface between the surface modification layer and the sealing layer is peeled off. 基板部の片面に接着層を有する剥離部材が前記封止層に接合されており、前記剥離部材の前記接着層と前記屈曲部の界面が剥離していることを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。   The peeling member having an adhesive layer on one side of the substrate portion is bonded to the sealing layer, and an interface between the adhesive layer and the bent portion of the peeling member is peeled off. Imaging device. 第1の主面に撮像素子を有し、第2の主面に前記撮像素子と貫通配線を介して接続された第1の接合端子を有する撮像チップが作製される工程と、
前記撮像チップの前記第1の接合端子と接合される第2の接合端子を有するチップ接合部と、前記チップ接合部から延設された屈曲部と、前記屈曲部から延設された、前記第2の接合端子と接続されたケーブル接続端子を端部に有する延設部とからなる配線板が作製される工程と、
前記配線板の前記第1の接合端子と前記撮像チップの前記第2の接合端子とが接合される接合工程と、
前記撮像チップの前記第2の主面と平板状態の前記配線板との隙間に液体樹脂が注入された後に、硬化処理されて前記第1の接合端子と前記第2の接合端子との端子接合部を封止する封止層が配設される工程と、
前記配線板が前記屈曲部で折り曲げられることにより、前記撮像チップに固定されていた前記屈曲部が、前記封止層から分離し、前記配線板が前記撮像チップの投影面内に配設される工程と、を具備することを特徴とする撮像装置の製造方法。
A step of producing an imaging chip having an image sensor on a first main surface and having a first junction terminal connected to the image sensor on a second main surface via a through wiring;
A chip joint having a second joint terminal joined to the first joint terminal of the imaging chip; a bent portion extending from the chip joint; and the first extending from the bent portion. A step of producing a wiring board composed of an extended portion having a cable connection terminal connected to the two junction terminals at an end;
A joining step in which the first joining terminal of the wiring board and the second joining terminal of the imaging chip are joined;
After the liquid resin is injected into the gap between the second main surface of the imaging chip and the flat wiring board, the terminal is bonded to the first and second bonding terminals after being cured. A step of disposing a sealing layer for sealing the part;
When the wiring board is bent at the bent portion, the bent portion fixed to the imaging chip is separated from the sealing layer, and the wiring board is disposed in the projection plane of the imaging chip. A method of manufacturing an imaging device.
前記接合工程の前に、前記配線板の前記屈曲部に剥離層を配設する工程を具備し、
前記配線板が前記屈曲部で折り曲げられるときに、前記剥離層と前記封止層の界面が剥離することを特徴とする請求項5に記載の撮像装置の製造方法。
Before the joining step, comprising the step of disposing a release layer on the bent portion of the wiring board,
The method for manufacturing an imaging device according to claim 5, wherein an interface between the peeling layer and the sealing layer is peeled off when the wiring board is bent at the bent portion.
前記接合工程の前に、前記配線板の前記屈曲部に表面改質層を形成する工程を具備し、
前記配線板が前記屈曲部で折り曲げられるときに、前記表面改質層と前記封止層の界面が剥離することを特徴とする請求項5に記載の撮像装置の製造方法。
Before the joining step, comprising the step of forming a surface modification layer on the bent portion of the wiring board,
The method for manufacturing an imaging device according to claim 5, wherein an interface between the surface modification layer and the sealing layer is peeled off when the wiring board is bent at the bent portion.
前記接合工程の前に、基板部の片面に接着層を有する剥離部材を、前記接着層を介して前記屈曲部に接着する工程を具備し、
前記配線板が前記屈曲部で折り曲げられるときに、前記接着層と前記屈曲部の界面が剥離することを特徴とする請求項5に記載の撮像装置の製造方法。
Before the joining step, comprising a step of adhering a peeling member having an adhesive layer on one side of the substrate portion to the bent portion via the adhesive layer,
6. The method of manufacturing an imaging device according to claim 5, wherein when the wiring board is bent at the bent portion, an interface between the adhesive layer and the bent portion is peeled off.
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の撮像装置と、
前記撮像装置の前方に配置された光学系と、
前記光学系の保持体である光学系ホルダーと、
前記光学系ホルダーと接合している、前記撮像装置を収容したシールドケースと、
前記シールドケースの内部を充填した封止樹脂と、を具備することを特徴とする撮像モジュール。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 4,
An optical system disposed in front of the imaging device;
An optical system holder that is a holder of the optical system;
A shield case containing the imaging device, which is joined to the optical system holder;
An imaging module comprising: a sealing resin filling the inside of the shield case.
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