JP6082267B2 - 分岐状ポリシロキサンおよびこれらの使用 - Google Patents
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Description
本発明は、式(I)Ma1MH a2MVi a3Db1DH b2DVi b3Tc1TH c2TVi c3Qdの分岐状ポリシロキサンおよびポリシロキサン、特に式(I)のものを製造するためのプロセスに加えて、これらの使用、特に、硬化性1成分系シリコーン組成物としての使用または硬化性1成分系シリコーン組成物を製造するための使用にも関する。
硬化性シリコーン組成物は、例えば、封止材やコーティング材として幅広く使用されている。ビニル官能性ポリシロキサンおよび架橋剤としてのSiH官能性ポリシロキサンから構成される2成分系が多岐に亘り使用されている。
Ma1MH a2MVi a3Db1DH b2DVi b3Tc1TH c2TVi c3Qd (I)
のポリシロキサンを提供する。
Ma1MH a2MVi a3Db1DH b2DVi b3Tc1TH c2TVi c3Qd (I)
(式中、
Mは、[R2R1 2SiO1/2]であり、
MHは、[R1 2HSiO1/2]であり、
MViは、[R3R1 2SiO1/2]であり、
Dは、[R1 2SiO2/2]であり、
DHは、[R1HSiO2/2]であり、
DViは、[R1R3SiO2/2]であり、
Tは、[R4SiO3/2]であり、
THは、[HSiO3/2]であり、
TViは、[R3SiO3/2]であり、
Qは、[SiO4/2]であり、
R1は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/または環状の飽和または不飽和の炭化水素部分、好ましくは1〜30個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素部分または6〜30個の炭素原子を有する芳香族炭化水素部分、好ましくはメチルまたはフェニル、特に好ましくはメチルであり、
R2は、互いに独立に、R1と同一であるか、アルコキシ部分であるかまたはヒドロキシ基であり、好ましくは、R1、特に好ましくはメチルであり、
R3は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状のオレフィン性不飽和炭化水素部分、好ましくは末端二重結合、特に好ましくはアリルまたはビニル、その中でも特に好ましくはビニルを含む炭化水素部分であり、
R4は、互いに独立に、R1であるか、または同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の、飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子、好ましくは酸素もしくはハロゲン原子を含む炭化水素部分、好ましくは、ハロアルキル、擬ハロアルキルおよびカルボキシアルキル部分、特に好ましくは、3−クロロプロピル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル、3−アクリルオキシプロピルおよび3−メタクリロキシプロピルであり、
a1は、0〜50、好ましくは10未満、その中でも好ましくは0であり、
a2は、1〜50、好ましくは2〜30、その中でも好ましくは4以上であり、
a3は、1〜50、好ましくは2〜30、その中でも好ましくは4以上であり、
b1は、10〜5000、好ましくは10〜1000、その中でも好ましくは10〜500であり、
b2は、0〜30、好ましくは0〜12、その中でも好ましくは0であり、
b3は、0〜30、好ましくは0〜12、その中でも好ましくは0であり、
c1は、0〜50、好ましくは1〜50、その中でも好ましくは0超であり、
c2は、0〜50、好ましくは0〜50、その中でも好ましくは0であり、
c3は、0〜50、好ましくは0〜50、その中でも好ましくは0であり、
dは、0〜50、好ましくは2〜20、その中でも好ましくは4〜10であり、
但し、c1+c2+c3+dの合計は1以上であり、好ましくは、dは1以上であり、その中でも好ましくは4〜10であり、c1=c2=c3=0である)
であることにある。
a)1個以上のSiH官能基を有し、オレフィン性不飽和炭化水素部分を有しない1種以上のシランもしくはシロキサン、
b)任意選択的な、SiH官能基もオレフィン性不飽和炭化水素部分も有しない1種以上のシロキサン、
c)1種以上のオレフィン性不飽和炭化水素部分を有する1種以上のシランもしくはシロキサン、
d)1種以上のテトラアルコキシシランおよび/または
e)SiH官能基もビニル官能基も有しない1種以上のトリアルコキシシラン
を、水を添加し、少なくとも1種のブレンステッド酸触媒(好ましくは、スルホン酸からまたはスルホン酸基を有する化合物から選択される)の存在下に反応させるプロセスであって、
構成成分a)、c)、d)およびe)に使用されるシランがいずれもアルコキシ基、好ましくはメトキシまたはエトキシ基を有する、プロセスであることを特徴とする。
使用されるSiH官能性シランは、例えば、ジメチルモノアルコキシシラン、メチルジアルコキシシランまたはトリアルコキシシランを含むことができる。使用される1個以上のSiH官能基を有するシロキサンとしては、例えば、シロキサン中のSiH官能基が、末端配置のみ、懸垂配置のみ、または末端配置および懸垂配置が混合されたものを用いることができる。使用されるSiH官能性シロキサンは、例えば、直鎖状ポリメチルヒドロシロキサン、例えば、Gelest Inc.からのHMS-993、直鎖状ポリジメチルメチルヒドロシロキサン、例えば、Gelest Inc.からのHMS-031および/もしくはHMS-07、直鎖状α,ω−ジヒドロポリジメチルシロキサン、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンおよび/もしくは1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、比較的高分子量の低重合体、例えば、Gelest Inc.からのDMS-H03および/もしくはDMS-H11、環状ポリメチルヒドロシロキサン、例えば、テトラメチルシクロテトラシロキサンもしくはペンタメチルシクロペンタシロキサンならびに環状ポリジメチルメチルヒドロシロキサン、例えば、ヘプタメチルシクロテトラシロキサンおよび/もしくはノナメチルシクロペンタシロキサンまたはこれらの混合物を含むことができる。使用されるSiH官能性シロキサンは、特に好ましくは、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、DMS-H03、HMS-993(それぞれGelest Inc.から)およびペンタメチルシクロペンタシロキサンを含む。
SiH官能基を含まない使用可能なシロキサンは、例えば、直鎖状ポリジメチルシロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサンまたは環状ポリジメチルシロキサン、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサンおよび/もしくはデカメチルシクロペンタシロキサンを含む。ヘキサメチルジシロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンを使用することが好ましい。
使用される少なくとも1種のオレフィン性不飽和炭化水素部分を含むシランおよびシロキサンには、好ましくは、ウンデセニル、アリルまたはビニル部分の少なくとも1種を含むシランおよびシロキサンが含まれる。構成成分c)としてのシランまたはシロキサンは、好ましくは、アリルトリアルコキシシラン(例えば、アリルトリメトキシシランまたはアリルトリエトキシシラン)、アリルジアルコキシシラン(例えば、アリルジメトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルジエトキシシランまたはアリルメチルジエトキシシラン)、アリルモノアルコキシシラン、ウンデセニルトリアルコキシシラン(例えば、ウンデセニルトリメトキシシラン)、ビニルトリアルコキシシラン(例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシランまたはビニルトリブトキシシラン)、ビニルジアルコキシシラン(例えば、ビニルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルフェニルジメトキシシラン、ビニルジエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン)およびビニルモノアルコキシシラン(例えば、ビニルフェニルメチルメトキシシラン)、アリルオキシウンデシルトリメトキシシラン、1,3−ジアリルテトラメチルジシロキサン、ビニルトリアセトキシシラン、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン、ビニルテトラメチルジシロキサンならびに1,3−ジビニルテトラフェニルジシロキサンから選択される。
使用されるテトラアルコキシシランは、原則として、任意のテトラアルコキシシラン、特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランもしくはテトライソプロポキシシランまたはこれらの縮合物を含むことができる。使用されるテトラアルコキシシランは、アルコキシ部分がすべて同一であるか、すべて異なるか、または一部が同一であるものを含むことができる。特に好ましくは、テトラエトキシシランが使用される。
使用されるトリアルコキシシランは、原則として、構成成分a)およびc)とは異なる任意のトリアルコキシシランを含むことができる。使用されるトリアルコキシシランとしては、特に、アルコキシ部分がすべて同一であるか、全て異なるか、または一部が同一であるものが含まれる。使用されるトリアルコキシルシランとしては、特に、構成成分a)およびc)とは異なるものを含むことができる。特に好ましくは、トリエトキシシラン、好ましくはアルキルトリエトキシシラン、例えば、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、ハロゲン含有または擬ハロゲン含有アルキルトリアルコキシシラン、特に、ハロゲン含有または擬ハロゲン含有アルキルトリエトキシシラン、例えば、クロロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルトリエトキシシラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン、トリアルコキシシラン、特に、官能基を有するトリエトキシシラン、例えば、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、5−(ビシクロヘプテニル)トリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(p−クロロメチル)フェニルトリエトキシシランまたはジヒドロ−3−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]フラン−2,5−ジオンが使用される。有機官能基を有するトリアルコキシシランを分岐単位として使用することが有利となる可能性がある(平衡状態にあるものを含む)。好ましいトリアルコキシシランはメチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランである。
NMRスペクトルの記録および解析方法は当業者に知られている。参考文献として、書籍である、A.BrandoliniおよびD.Hills著、「NMR Spectra of Polymers and Polymer Additives」、2000年、Verlag Marcel Dekker Inc.発行を本明細書に導入することができる。粘度の測定は、DIN 5391に基づく方法を用いて、Brookfield(LVT)Synchro-Lectric回転粘度計およびLV2スピンドルを用いて行った。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器(stirrer with precision glass gland)、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコに、SiH価が3.0eq SiH/kgであるアルファ,オメガ−ジヒドロポリジメチルシロキサン198.7g、ジビニルテトラメチルジシロキサン(ABCR、96%)55.9gおよびテトラエトキシシラン(Sigma Aldrich、98%)104.0gを40℃で撹拌しながら装入し、トリフルオロメタンスルホンスルホン酸(Sigma Aldrichより入手可能)0.206mlを加え、混合物を2時間撹拌した。脱イオン水18gおよびエタノール4.5gの混合物を20分以内で撹拌しながら滴下し、混合物をさらに2時間撹拌した。次いでアルコールおよび過剰の水を水圧ポンプで約12mbarに減圧しながら40℃〜50℃で3時間留去した。混合物を炭酸水素ナトリウム7gで中和して濾過した。これにより、室温での粘度が10mPa・sである無色透明の液体を得た。水素含有量は1.9eq SiH/kg(理論値の89.6%)であった。29Si NMRスペクトルから求めたM単位対D単位の比は1:1.91であった。これにより得られる分子式はMVi 6MH 5.3D21.7Q5である。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコに、デカメチルシクロペンタシロキサン(Gelest Inc.より入手可能)102.2g、SiH価が3.0eq SiH/kgであるアルファ,オメガ−ジヒドロポリジメチルシロキサン3.63gおよび実施例1で製造したシロキサン60gを40℃で撹拌しながら装入した。予備乾燥させたスルホン酸陽イオン交換樹脂Lewatit(登録商標)K 2621(水分含有率10重量%:Karl Fischer法に基づく方法により測定)9.9gを加え、混合物を40℃で6時間撹拌した。樹脂を濾去し、生成物を130℃および12mbarで2時間蒸留した。得られた残渣は室温での粘度が90mPa・sである無色透明な液体であり、水素含有量は0.5eq SiH/kg(理論値の66%)であった。29Si NMRスペクトルから求めたM単位対D単位の比は1:7.3であった。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコに、デカメチルシクロペンタシロキサン(Gelest Inc.より入手可能)124.6g、SiH価が3.0eq SiH/kgであるアルファ,オメガ−ジヒドロポリジメチルシロキサン2.43gおよび実施例1で製造したシロキサン40gを40℃で撹拌しながら装入した。予備乾燥させたスルホン酸陽イオン交換樹脂Lewatit(登録商標)K 2621(水分含有率10重量%:Karl Fischer法に基づく方法により測定)10gを添加した後、混合物を40℃で6時間撹拌した。樹脂を濾去して生成物を130℃および12mbarで2時間蒸留した。得られた残渣は室温での粘度が45mPa・sである無色透明な液体であり、水素含有量が0.41eq SiH/kg(理論値の82%)であった。29Si NMRスペクトルから求めたM単位対D単位の比は1:12.9であった。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコにデカメチルシクロペンタシロキサン(Gelest Inc.より入手可能)135.6g、SiH価が3.0eq SiH/kgであるアルファ,オメガ−ジヒドロポリジメチルシロキサン2.43gおよび実施例1で製造したシロキサン30gを40℃で撹拌しながら装入した。予備乾燥させたスルホン酸陽イオン交換樹脂Lewatit(登録商標)K 2621(水分含有率10重量%:Karl Fischer法に基づく方法により測定)10gを添加した後、混合物を40℃で6時間撹拌した。樹脂を濾去して生成物を130℃、10〜15mbarで2時間蒸留した。得られた残渣は、室温での粘度が181mPa・sである無色透明な液体であり、水素含有量は0.28eq SiH/kg(理論値の75%)であった。29Si NMRスペクトルから求めたM単位対D単位の比は1:23であった。
実施例5:国際公開第2010/129123号パンフレットによる式MH 2DVi 22DH 43のオレフィン性不飽和SiH官能性ポリシロキサンを製造するための比較例1
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計および窒素バルブを備えた3ッ口フラスコに、ジヒドロテトラメチルジシロキサン(ABCRより入手可能)5.23g、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン(ABCRより入手可能)73.8gおよびテトラヒドロテトラメチルシクロテトラシロキサン100gを室温で撹拌しながら装入し、トリフルオロメタンスルホンスルホン酸(Sigma Aldrichより入手可能)0.179gを加え、混合物を6時間撹拌した。次いで炭酸水素ナトリウム3.6gを加え、混合物を室温で一夜撹拌した。次いで混合物を60℃でさらに6時間中和して濾過した。こうすることにより、室温での粘度が38mPa・sである無色透明な液体を得た。水素含有量は9.72eq SiH/kgであった。29Si NMRスペクトルより求めたM単位対D単位の比は1:32であった。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコに、SiH価が3.0eq SiH/kgであるアルファ,オメガ−ジヒドロポリジメチルシロキサン8.78g、デカメチルペンタシロキサン(Gelest Inc.より入手可能)150gおよびトリフルオロメタンスルホン酸(Sigma Aldrichより入手可能)0.16gを室温で撹拌しながら装入した。次いでビニルトリエトキシシラン(Evonik Industries)2.76gを加え、混合物を40℃で2時間撹拌した。次いで脱イオン水0.4gおよびエタノール0.01gの混合物を撹拌しながら滴下し、混合物を45℃でさらに2時間撹拌した。次いでロータリーエバポレーターを用いてアルコールおよび過剰の水を40℃〜50℃、約1mbarで2時間留去した。混合物を炭酸水素ナトリウム3.2gで中和して、濾過した。最後に、ロータリーエバポレーターを用いて過剰のデカメチルペンタシロキサンを110℃、1mbarで除去した。これにより、室温での粘度が488mPa・sである無色透明の液体を得た。水素含有量は0.14eq SiH/kgであった。29Si NMR スペクトルから求めたM単位対D単位の比は1:85であった。
まず最初に、摺合せガラス付き撹拌器、内部温度計、滴下漏斗および蒸留用連結管を備えた4ッ口フラスコに、ヘキサメチルジシロキサン(Flukaより入手可能)6.48g、テトラメチルテトラビニルテトラシロキサン(ABCRより入手可能)31g、テトラヒドロテトラメチルテトラシロキサン(ABCRより入手可能)39.84gおよびトリフルオロメタンスルホン酸(Sigma Aldrichより入手可能)0.14gを室温で撹拌しながら装入した。次いでメチルフェニルジエトキシシラン(ABCRより入手可能)54.69gを添加し、混合物を40℃で2時間撹拌した。次いで脱イオン水2.3gおよびエタノール0.58gの混合物を撹拌しながら滴下し、混合物を45℃でさらに2時間撹拌した。次いで、ロータリーエバポレーターを用いてアルコールおよび過剰の水を約1mbar、40℃〜50℃で2時間留去した。混合物を炭酸水素ナトリウム2.6gで中和して濾過した。最後に、ロータリーエバポレーターを用いて過剰の水を110℃、1mbarで留去した。これにより、室温での粘度が13mPa・sである無色透明の液体を得た。水素含有量は4.5eq SiH/kg(理論値の89.6%)であった。
実施例8:配合例F1
実施例1で製造したビニルヒドロシロキサン10gを、白金濃度が0.1重量%である、白金(0)−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のデカメチルシクロペンタシロキサン中溶液(白金21.37重量%でUmicoreより入手可能、デカメチルシクロペンタシロキサンでPtが0.1重量%になるように希釈)0.3gと混合した。混合処理の後、混合物は室温で10分以内にキュアした。硬化時間は、混合物がタックフリーとなるまでに必要な時間とした。硬化後のシリコーンの表面を指先で触ると、硬化後のシリコーンは滑らかな感触を示し、粘着性や液状感はもはや感じられなくなった。
実施例1の生成物に替えて実施例2の生成物を使用したことを除いて実施例8と同様に材料を配合した。混合処理後、混合物は室温で5分以内に硬化した。
実施例1の生成物に替えて実施例3の生成物を使用したことを除いて実施例8と同様に材料を配合した。混合処理後、混合物は室温で2分以内に硬化した。
実施例1の生成物に替えて実施例4の生成物を使用したことを除いて実施例8と同様に材料を配合した。混合処理後、混合物は室温で2分以内に硬化した。
実施例4で生成したビニルヒドロシロキサン10gを白金(0)−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のデカメチルシクロペンタシロキサン中溶液(白金濃度0.1重量%)0.02gと混合した。混合処理後、混合物は室温で2分以内に硬化した。
実施例1の生成物に替えて実施例5(比較例1)の生成物を使用したことを除いて実施例1と同様に材料を配合した。混合処理後、24時間経過してさえも混合物は硬化しなかった。材料の温度を80℃に調整すると5分後に硬化が起こった。
実施例1の生成物に替えて実施例6(比較例2)の生成物を使用したことを除いて実施例1と同様に材料を配合した。混合処理後、室温でも80℃でも混合物は24時間以内に硬化しなかった。
実施例1の生成物に替えて実施例7(比較例3)の生成物を使用したことを除いて実施例1と同様に材料を配合した。混合処理後、24時間経過してさえも混合物は硬化しなかった。材料の温度を80℃に調整すると10分後に硬化が起こった。
DIN 53504の方法に基づき、実施例8の混合物を所定の寸法のダンベル型試験片の型に注入し、80℃で10分間硬化させた。
DIN 53504の方法に基づき、実施例9の混合物を所定の寸法のダンベル型試験片に注型し、80℃で10分間硬化させた。
DIN 53504の方法に基づき、実施例10の混合物を所定の寸法のダンベル型試験片に注型し、室温で10分間硬化させた。
DIN 53504の方法に基づき、実施例11の混合物を所定の寸法のダンベル型試験片に注型し、室温で10分間硬化させた。
硬化例H1、H2、H3およびH4(実施例10〜13)について、表1に列挙したレオロジー特性を、DIN 53504の方法に基づき、万能試験機でローラ引張システム(roller tensioning system)を用いて引張速度を200mm/分として測定を行った。
配合例F1〜F5をそれぞれ丸形のアルミニウム皿で硬化させ、厚さ1.5mmの層を得た。この皿を200℃の乾燥オーブンで3日間劣化させた。収縮も亀裂も認められなかった。黄変を評価するため、層をアルミニウム基板から分離し、白色の背景と比較して目視で検査した。硬化した配合例F5は黄色変化が認められず、硬化した配合例F1にはわずかな黄色変化が認められた。
光透過率を測定するために、配合例F1およびF3(ただし、白金(0)−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のデカメチルシクロペンタシロキサン中溶液(白金濃度0.1重量%)0.02gを用いた)をUVセルに移して室温で硬化させた。次いで、Helios Zetaからの紫外分光計を用いて200〜900nmの波長範囲で透過率を測定した。いずれの試験片も透過率は300〜900nmの波長範囲で>92%であった。
Claims (20)
- 式(I)
Ma1MH a2MVi a3Db1DH b2DVi b3Tc1TH c2TVi c3Qd
(I)
(式中、
Mは、[R2R1 2SiO1/2]であり、
MHは、[R1 2HSiO1/2]であり、
MViは、[R3R1 2SiO1/2]であり、
Dは、[R1 2SiO2/2]であり、
DHは、[R1HSiO2/2]であり、
DViは、[R1R3SiO2/2]であり、
Tは、[R4SiO3/2]であり、
THは、[HSiO3/2]であり、
TViは、[R3SiO3/2]であり、
Qは、[SiO4/2]であり、
R1は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の飽和または不飽和の炭化水素部分であり、
R2は、互いに独立に、R1と同一であるか、アルコキシ部分であるかまたはヒドロキシ基であり、
R3は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状のオレフィン性不飽和炭化水素部分であり、
R4は、互いに独立に、R1であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0〜50であり、
a2は、1〜50であり、
a3は、1〜50であり、
b1は、10〜5000であり、
b2は、0〜30であり、
b3は、0〜30であり、
c1は、0〜50であり、
c2は、0〜50であり、
c3は、0〜50であり、
dは、4〜10であり、
但し、b1>c1+c2+c3+dである)に従うことを特徴とする、ポリシロキサン。 - 式(I)中、
R 1 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、1〜30個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素部分または6〜30個の炭素原子を有する芳香族炭化水素部分であり、
R 2 は、R 1 であり、
R 3 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の、末端二重結合を含む炭化水素部分であり、
R 4 は、互いに独立に、R 1 であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0以上10未満であり、
a2は、2〜30であり、
a3は、2〜30であり、
b1は、10〜1000であり、
b2は、0〜12であり、
b3は、0〜12であり、
c1は、1〜50であり、
c2は、0〜50であり、
c3は、0〜50であり、
dは、4〜10であり、
但し、b1>c1+c2+c3+dである、請求項1に記載のポリシロキサン。 - 式(I)中、
R 1 は、互いに独立に、メチルまたはフェニルであり、
R 2 は、メチルであり、
R 3 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の、アリルまたはビニルを含む炭化水素部分であり、
R 4 は、互いに独立に、R 1 であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0であり、
a2は、4〜30であり、
a3は、4〜30であり、
b1は、10〜500であり、
b2は、0であり、
b3は、0であり、
c1は、1〜50であり、
c2は、0であり、
c3は、0であり、
dは、4〜10であり、
但し、b1>c1+c2+c3+dである、請求項1に記載のポリシロキサン。 - c1=c2=c3=0であることを特徴とする、請求項1に記載のポリシロキサン。
- 前記a2、b2およびc2の合計対前記a3、b3およびc3の合計の比が1:10〜10:1であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のポリシロキサン。
- b2=0、b3=0であることを特徴とする、請求項1、2、4及び5のいずれか一項に記載のポリシロキサン。
- オレフィン性不飽和基およびSiH基を有する分岐状ポリシロキサンを製造するためのプロセスであって、前記ポリシロキサンが、式(I)
M a1 M H a2 M Vi a3 D b1 D H b2 D Vi b3 T c1 T H c2 T Vi c3 Q d
(I)
(式中、
Mは、[R 2 R 1 2 SiO 1/2 ]であり、
M H は、[R 1 2 HSiO 1/2 ]であり、
M Vi は、[R 3 R 1 2 SiO 1/2 ]であり、
Dは、[R 1 2 SiO 2/2 ]であり、
D H は、[R 1 HSiO 2/2 ]であり、
D Vi は、[R 1 R 3 SiO 2/2 ]であり、
Tは、[R 4 SiO 3/2 ]であり、
T H は、[HSiO 3/2 ]であり、
T Vi は、[R 3 SiO 3/2 ]であり、
Qは、[SiO 4/2 ]であり、
R 1 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の飽和または不飽和の炭化水素部分であり、
R 2 は、互いに独立に、R 1 と同一であるか、アルコキシ部分であるかまたはヒドロキシ基であり、
R 3 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状のオレフィン性不飽和炭化水素部分であり、
R 4 は、互いに独立に、R 1 であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0〜50であり、
a2は、1〜50であり、
a3は、1〜50であり、
b1は、10〜5000であり、
b2は、0〜30であり、
b3は、0〜30であり、
c1は、0〜50であり、
c2は、0〜50であり、
c3は、0〜50であり、
dは、0〜50であり、
但し、前記c1+c2+c3+dの合計は1以上である)のポリシロキサンであり、
以下の構成成分:
a)1個以上のSiH官能基を有し、オレフィン性不飽和炭化水素部分を有しない1種以上のシランもしくはシロキサン、
b)任意選択的な、SiH官能基もオレフィン性不飽和炭化水素部分も有しない1種以上のシロキサン、
c)1種以上のオレフィン性不飽和炭化水素部分を有する1種以上のシランもしくはシロキサン、
d)1種以上のテトラアルコキシシランおよび/または
e)1種以上のトリアルコキシシラン
を、水を添加し、少なくとも1種のブレンステッド酸触媒の存在下に反応させるプロセスであって、構成成分a)、c)、d)およびe)に使用される前記シランがいずれもアルコキシ基を有することを特徴とする、プロセス。 - 式(I)中、
R 1 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、1〜30個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素部分または6〜30個の炭素原子を有する芳香族炭化水素部分であり、
R 2 は、R 1 であり、
R 3 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の、末端二重結合を含む炭化水素部分であり、
R 4 は、互いに独立に、R 1 であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0以上10未満であり、
a2は、2〜30であり、
a3は、2〜30であり、
b1は、10〜1000であり、
b2は、0〜12であり、
b3は、0〜12であり、
c1は、1〜50であり、
c2は、0〜50であり、
c3は、0〜50であり、
dは、2〜20であり、かつ、
前記少なくとも1種のブレンステッド酸触媒がスルホン酸からまたはスルホン酸基を有する化合物から選択され、
構成成分a)、c)、d)およびe)に使用される前記シランがいずれもメトキシまたはエトキシ基を有することを特徴とする、請求項7に記載のプロセス。 - 式(I)中、
R 1 は、互いに独立に、メチルまたはフェニルであり、
R 2 は、メチルであり、
R 3 は、互いに独立に、同一であっても異なっていてもよい、直鎖状または分岐状の、アリルまたはビニルを含む炭化水素部分であり、
R 4 は、互いに独立に、R 1 であるかまたは同一であっても異なっていてもよい、直鎖状、分岐状および/もしくは環状の飽和もしくは不飽和の、ヘテロ原子を含む炭化水素部分であり、
a1は、0であり、
a2は、4〜30であり、
a3は、4〜30であり、
b1は、10〜500であり、
b2は、0であり、
b3は、0であり、
c1は、1〜50であり、
c2は、0であり、
c3は、0であり、
dは、4〜10であり、かつ、
前記少なくとも1種のブレンステッド酸触媒がスルホン酸からまたはスルホン酸基を有する化合物から選択され、
構成成分a)、c)、d)およびe)に使用される前記シランがいずれもメトキシまたはエトキシ基を有することを特徴とする、請求項7に記載のプロセス。 - 式(I)中、dが1以上であり、かつc1=c2=c3=0であることを特徴とする、請求項7に記載のプロセス。
- 式(I)中、前記a2、b2およびc2の合計対前記a3、b3およびc3の合計の比が1:10〜10:1であることを特徴とする、請求項7〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 式(I)中、b2=0、b3=0かつb1>c1+c2+c3+dであることを特徴とする、請求項7〜11のいずれか一項に記載のプロセス。
- スルホン酸基を有し、25℃および1013mbarで固体である酸性イオン交換樹脂がブレンステッド酸触媒として使用されることを特徴とする、請求項7〜12のいずれか一項に記載のプロセス。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の前記式(I)の前記ポリシロキサンの、硬化性(1成分系)シリコーン組成物としての使用または硬化性(1成分系)シリコーン組成物を製造するための使用。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の前記式(I)のポリシロキサンをベースとするシリコーン組成物。
- 構成要素をさらに含むことを特徴とする、請求項15に記載のシリコーン組成物。
- 化学的および/もしくは物理的性質を調整するかまたは化学的および/もしくは物理的性質に影響を与える構成要素を含むことを特徴とする、請求項16に記載のシリコーン組成物。
- 封止もしくは接着剤、コーティング組成物または封止もしくは埋め込み用組成物であることを特徴とする、請求項15〜17のいずれか一項に記載のシリコーン組成物。
- 硬化した組成物であることを特徴とする、請求項15〜17のいずれか一項に記載のシリコーン組成物。
- 箔、電子部品、光学または光電子部品、複合製品または半完成品であることを特徴とする、請求項19に記載のシリコーン組成物。
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