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JP6056079B2 - Heat treatment equipment - Google Patents

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JP6056079B2
JP6056079B2 JP2013096632A JP2013096632A JP6056079B2 JP 6056079 B2 JP6056079 B2 JP 6056079B2 JP 2013096632 A JP2013096632 A JP 2013096632A JP 2013096632 A JP2013096632 A JP 2013096632A JP 6056079 B2 JP6056079 B2 JP 6056079B2
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vacuum
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一久 百瀬
一久 百瀬
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Description

本発明は、ワークに熱処理を施す熱処理装置に関する。   The present invention relates to a heat treatment apparatus that heat-treats a workpiece.

水晶振動子等の電子部品は、パッケージの開口に蓋となるリッド(以下、パッケージとリッドをまとめてワークともいう。)をシーム溶接する等して製造される。その過程で、ワークは、ベーキング炉(熱処理装置)内において、真空雰囲気(略真空)中でベーキング(熱処理)されて水分などが除去される(例えば、特許文献1参照)。このように、ワークをベーキングすることで、電子部品の品質を改善している。   Electronic components such as a crystal resonator are manufactured by seam welding a lid (hereinafter, package and lid are collectively referred to as a workpiece) to the opening of the package. In the process, the workpiece is baked (heat treated) in a vacuum atmosphere (substantially vacuum) in a baking furnace (heat treatment apparatus) to remove moisture and the like (for example, see Patent Document 1). Thus, the quality of the electronic component is improved by baking the workpiece.

特許第4450529号公報Japanese Patent No. 4450529

電子部品は、低価格化の傾向にあり、結果として、製造に要する時間の短縮が望まれている。しかしながら、真空雰囲気中でのベーキングは、熱の伝わりが悪いことから、処理に時間を要する。この影響を抑えるため、大量のワークをまとめてバッチ処理するようにしている。バッチ処理の場合、その都度、ベーキング炉内全体の温度が変化するので、エネルギーの無駄が生じるという問題があった。   Electronic parts tend to be lower in price, and as a result, it is desired to shorten the time required for manufacturing. However, baking in a vacuum atmosphere takes time because the heat transfer is poor. In order to suppress this effect, batch processing is performed on a large amount of workpieces. In the case of batch processing, there is a problem that energy is wasted because the temperature inside the baking furnace changes each time.

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、省エネを実現した熱処理装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said subject, and it aims at providing the heat processing apparatus which implement | achieved energy saving.

本発明者の鋭意研究により、上記目的は以下の手段によって達成される。   The above-mentioned object is achieved by the following means based on the earnest research of the present inventors.

(1)本発明は、複数のワークを連続的に搬送しながら該ワークに熱処理を施す熱処理装置であって、前記ワークが搬入される入口、及び前記ワークが搬出される出口を有し、自身の内部を真空雰囲気に保つチャンバと、前記チャンバ内における前記入口から前記出口まで前記ワークを搬送する搬送手段と、前記チャンバ内に、前記ワークの搬送方向に沿って配列された複数のブロックであって、該複数のブロックが時間的に一定の温度に保たれて前記ワークを加熱する複数の加熱ブロックと、を備え、前記ワークは、前記複数の加熱ブロックの傍らを通過することで加熱されることを特徴とする、熱処理装置である。   (1) The present invention is a heat treatment apparatus that heat-treats a plurality of workpieces while continuously conveying the workpiece, and has an inlet through which the workpiece is carried in and an outlet through which the workpiece is carried out. A chamber for maintaining the inside of the chamber in a vacuum atmosphere, transport means for transporting the work from the inlet to the outlet in the chamber, and a plurality of blocks arranged in the chamber along the transport direction of the work. A plurality of heating blocks that heat the workpiece while the plurality of blocks are maintained at a constant temperature in time, and the workpiece is heated by passing by the plurality of heating blocks This is a heat treatment apparatus.

(2)本発明はまた、前記チャンバ内であって、かつ、最も前記出口の側の前記加熱ブロックよりも前記出口の側に設けられ、前記ワークを冷却する一又は複数の冷却ブロック、を備えることを特徴とする、上記(1)に記載の熱処理装置である。   (2) The present invention also includes one or a plurality of cooling blocks that are provided in the chamber and closer to the outlet than the heating block closest to the outlet, and cool the workpiece. The heat treatment apparatus according to (1) above, wherein

本発明によれば、省エネを実現できるという優れた効果を奏し得る。   According to the present invention, it is possible to achieve an excellent effect that energy saving can be realized.

本発明の実施形態に係る熱処理装置の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the heat processing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 真空チャンバ内の構成を示す左側面図である。It is a left view which shows the structure in a vacuum chamber. 真空チャンバ内の構成を示す背面図である。It is a rear view which shows the structure in a vacuum chamber. 真空チャンバ内の構成を示す右側面図である。It is a right view which shows the structure in a vacuum chamber.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例について詳細に説明する。なお、以下の説明では、図に示したX、Y、Z軸を基準として方向を説明する。X、Y軸は互いに直角な水平軸であり、Z軸はX、Y軸に直角な鉛直軸である。各図において、一部の構成の図示を適宜省略して、図面を簡略化している。   Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, directions are described with reference to the X, Y, and Z axes shown in the drawings. The X and Y axes are horizontal axes perpendicular to each other, and the Z axis is a vertical axis perpendicular to the X and Y axes. In each of the drawings, illustration of some components is omitted as appropriate, and the drawings are simplified.

まず、図1〜図4を用いて、熱処理装置1の構成について説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る熱処理装置1の構成を示す平面図である。図2は、真空チャンバ100内の構成を示す左側面図である。図3は、真空チャンバ100内の構成を示す背面図である。図4は、真空チャンバ100内の構成を示す右側面図である。   First, the structure of the heat processing apparatus 1 is demonstrated using FIGS. FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a left side view showing the configuration inside the vacuum chamber 100. FIG. 3 is a rear view showing the configuration inside the vacuum chamber 100. FIG. 4 is a right side view showing the configuration inside the vacuum chamber 100.

図1に示される熱処理装置1は、電子部品を製造するラインに設置され、ワーク10に対して熱処理する際に使用される。熱処理装置1は、ワーク10を搬送しながら当該ワーク10に熱処理を施す。熱処理装置1による熱処理は、ベーキングやアニールなどを兼ねる。   A heat treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 is installed in a line for manufacturing electronic components, and is used when heat-treating a workpiece 10. The heat treatment apparatus 1 performs heat treatment on the workpiece 10 while conveying the workpiece 10. The heat treatment by the heat treatment apparatus 1 also serves as baking or annealing.

ワーク10は、パッケージの開口に蓋となるリッドが仮付けされた状態で、ワークトレイ20上に配列されている。ワークトレイ20上には、ワーク10を収容する複数の窪みがX,Y軸方向のマトリクス状に形成されており、複数のワーク10は、X,Y軸方向のマトリクス状に配列されている。   The workpieces 10 are arranged on the workpiece tray 20 with a lid serving as a lid temporarily attached to the opening of the package. On the work tray 20, a plurality of recesses for accommodating the work 10 are formed in a matrix in the X and Y axis directions, and the plurality of works 10 are arranged in a matrix in the X and Y axis directions.

具体的に、熱処理装置1は、自身の内部を真空雰囲気に保つ真空チャンバ(チャンバ)100と、この真空チャンバ100内に設けられた複数の加熱ブロック200と、真空チャンバ100内に設けられた一又は複数の冷却ブロック300と、真空チャンバ100の上流側に並設された仕込室(ロードロック)400と、真空チャンバ100の下流側に並設された取出室(アンロードロック)500と、真空チャンバ100にワーク10を送り込む上流側搬送ユニット600と、真空チャンバ100内でワーク10を搬送するチャンバ内搬送ユニット(搬送手段)700と、真空チャンバ100からワーク10を送り出す下流側搬送ユニット800と、制御ユニット(図示省略)と、等を備えている。   Specifically, the heat treatment apparatus 1 includes a vacuum chamber (chamber) 100 that keeps the inside thereof in a vacuum atmosphere, a plurality of heating blocks 200 provided in the vacuum chamber 100, and one provided in the vacuum chamber 100. Alternatively, a plurality of cooling blocks 300, a preparation chamber (load lock) 400 arranged in parallel on the upstream side of the vacuum chamber 100, an extraction chamber (unload lock) 500 arranged in parallel on the downstream side of the vacuum chamber 100, and a vacuum An upstream transfer unit 600 that feeds the workpiece 10 into the chamber 100, an in-chamber transfer unit (transfer means) 700 that transfers the workpiece 10 in the vacuum chamber 100, a downstream transfer unit 800 that sends the workpiece 10 out of the vacuum chamber 100, A control unit (not shown), and the like.

これら熱処理装置1の各部は、制御ユニットによって統括的に制御される。制御ユニットは、CPU、RAM及びROM等から構成され、各種制御を実行する。CPUは、いわゆる中央演算処理装置であり、各種プログラムが実行されて各種機能(例えば、溶接回数をカウントする機能)を実現する。RAMは、CPUの作業領域として使用される。ROMは、CPUで実行されるプログラムを記憶する。   Each part of these heat processing apparatuses 1 is controlled centrally by the control unit. The control unit includes a CPU, a RAM, a ROM, and the like, and executes various controls. The CPU is a so-called central processing unit, and implements various functions (for example, a function for counting the number of weldings) by executing various programs. The RAM is used as a work area for the CPU. The ROM stores a program executed by the CPU.

真空チャンバ100は、略六面体の箱形容器であるチャンバ本体110と、真空ポンプ120と、大気開放弁130と、等を備えている。チャンバ本体110には、上流側の側壁に仕込室400と連通する第一開口112が形成されていると共に、下流側の側壁に取出室500と連通する第二開口114が形成されている。第一開口112は、後述する仕込室400の上流側仕切扉415によって開閉される。第二開口114は、後述する取出室500の下流側仕切扉515によって開閉される。第一開口112及び第二開口114が閉じられた状態の真空チャンバ100は、真空ポンプ120の動作によって、チャンバ本体110内の空気圧を大気圧から真空雰囲気までの任意の圧力に制御する。大気開放弁130は、メンテナンス時等に利用される。   The vacuum chamber 100 includes a chamber body 110 that is a substantially hexahedral box-shaped container, a vacuum pump 120, an air release valve 130, and the like. The chamber main body 110 has a first opening 112 communicating with the preparation chamber 400 on the upstream side wall and a second opening 114 communicating with the take-out chamber 500 on the downstream side wall. The first opening 112 is opened and closed by an upstream partition door 415 of the preparation chamber 400 described later. The 2nd opening 114 is opened and closed by the downstream partition door 515 of the extraction chamber 500 mentioned later. The vacuum chamber 100 in a state where the first opening 112 and the second opening 114 are closed controls the air pressure in the chamber body 110 to an arbitrary pressure from atmospheric pressure to a vacuum atmosphere by the operation of the vacuum pump 120. The air release valve 130 is used during maintenance.

複数の加熱ブロック200は、ワーク10の搬送方向に沿って、200A、200B、200C、200D、200E、200F、200G、200H、200I、200Jの順に配列されている。複数の加熱ブロック200は、それぞれ、ワーク10を加熱するために、時間的に一定の温度(例えば、230℃〜250℃の範囲内で一定の温度)に保たれている。   The plurality of heating blocks 200 are arranged in the order of 200A, 200B, 200C, 200D, 200E, 200F, 200G, 200H, 200I, and 200J along the conveyance direction of the workpiece 10. Each of the plurality of heating blocks 200 is kept at a constant temperature (for example, a constant temperature within a range of 230 ° C. to 250 ° C.) in order to heat the workpiece 10.

一又は複数の冷却ブロック300は、最も第二開口114の側の加熱ブロック200Jよりも第二開口114の側に設けられている。具体的に、本実施形態において、複数の冷却ブロック300は、ワーク10の搬送方向に沿って、300A、300Bの順に配列されている。複数の冷却ブロック300は、それぞれ、例えば水冷によってワーク10を冷却する。   One or a plurality of cooling blocks 300 are provided closer to the second opening 114 than the heating block 200J closest to the second opening 114. Specifically, in the present embodiment, the plurality of cooling blocks 300 are arranged in the order of 300 </ b> A and 300 </ b> B along the conveyance direction of the workpiece 10. Each of the plurality of cooling blocks 300 cools the workpiece 10 by, for example, water cooling.

仕込室400は、真空チャンバ100を真空雰囲気に保ちながら大気中から当該真空チャンバ100に複数のワーク10を送り込む機能を有する。具体的に、仕込室400は、略六面体の箱形容器である仕込室本体410と、仕込室本体用真空ポンプ420と、仕込室本体用大気開放弁430と、等を備えている。仕込室本体410には、上流側の側壁に外部に連通する仕込室本体用外部開口412が形成されて、当該仕込室本体用外部開口412を開閉する仕込室本体用外部扉413を備えている。また、仕込室本体410には、真空チャンバ100側の側壁に第一開口112を介して真空チャンバ100と連通する仕込室本体用連通口414が形成されて、当該仕込室本体用連通口414を開閉する上流側仕込扉415を備えている。仕込室本体用外部開口612及び仕込室本体用連通口414が閉じられた状態の仕込室400は、仕込室本体用真空ポンプ420の動作によって、仕込室本体410内の空気圧を大気圧から真空雰囲気までの任意の圧力に制御する。なお、仕込室400は、仕込室本体用真空ポンプ420として、真空ポンプ120を兼用するように構成することも可能であり、仕込室本体用真空ポンプ420を省略することも可能である。   The preparation chamber 400 has a function of feeding a plurality of workpieces 10 from the atmosphere to the vacuum chamber 100 while keeping the vacuum chamber 100 in a vacuum atmosphere. Specifically, the charging chamber 400 includes a charging chamber main body 410 that is a substantially hexahedral box-shaped container, a vacuum pump 420 for a charging chamber main body, an atmosphere opening valve 430 for the charging chamber main body, and the like. The charging chamber main body 410 is provided with a charging chamber main body external door 413 that is formed on the upstream side wall with an external opening 412 for a charging chamber main body that communicates with the outside, and opens and closes the external opening 412 for the charging chamber main body. . In addition, the charging chamber main body 410 is provided with a charging chamber main body communication port 414 communicating with the vacuum chamber 100 through the first opening 112 on the side wall on the vacuum chamber 100 side. An upstream charging door 415 that opens and closes is provided. The charging chamber 400 in a state where the external opening 612 for the charging chamber main body and the communication port 414 for the charging chamber main body are closed is operated by operating the vacuum pump 420 for the charging chamber main body to change the air pressure in the charging chamber main body 410 from the atmospheric pressure to the vacuum atmosphere. Control to any pressure up to. The charging chamber 400 can be configured to also serve as the vacuum pump 120 as the charging chamber main body vacuum pump 420, and the charging chamber main body vacuum pump 420 can be omitted.

取出室500は、真空チャンバ100を真空雰囲気に保ちながら当該真空チャンバ100から大気中に複数のワーク10を送り出す機能を有する。具体的に、取出室500は、略六面体の箱形容器である取出室本体510と、取出室本体用真空ポンプ520と、取出室本体用大気開放弁530と、バッファラック540と、等を備えている。取出室本体510には、下流側の側壁に外部に連通する取出室本体用外部開口512が形成されて、当該取出室本体用外部開口512を開閉する取出室本体用外部扉513を備えている。また、取出室本体510には、真空チャンバ100側の側壁に第二開口114を介して真空チャンバ100と連通する取出室本体用連通口514が形成されて、当該取出室本体用連通口514を開閉する下流側仕切扉515を備えている。取出室本体用外部開口512及び取出室本体用連通口514が閉じられた状態の取出室500は、取出室本体用真空ポンプ520の動作によって、取出室本体510内の空気圧を大気圧から真空雰囲気までの任意の圧力に制御する。なお、取出室500は、取出室本体用真空ポンプ520として、真空ポンプ120を兼用するように構成することも可能であり、取出室本体用真空ポンプ520を省略することも可能である。   The take-out chamber 500 has a function of sending a plurality of workpieces 10 from the vacuum chamber 100 to the atmosphere while keeping the vacuum chamber 100 in a vacuum atmosphere. Specifically, the take-out chamber 500 includes a take-out chamber main body 510 that is a substantially hexahedral box-shaped container, a vacuum pump 520 for the take-out chamber main body, an air release valve 530 for the take-out chamber main body, a buffer rack 540, and the like. ing. The take-out chamber main body 510 is provided with a take-out chamber main body external door 513 that is formed on the downstream side wall with an external opening 512 for the take-out chamber main body that communicates with the outside. . The extraction chamber main body 510 is formed with an extraction chamber main body communication port 514 communicating with the vacuum chamber 100 through the second opening 114 on the side wall on the vacuum chamber 100 side. A downstream partition door 515 that opens and closes is provided. The extraction chamber 500 in a state where the external opening 512 for the extraction chamber main body and the communication port 514 for the extraction chamber main body are closed is operated by the operation of the vacuum pump 520 for the extraction chamber main body to change the air pressure in the extraction chamber main body 510 from the atmospheric pressure to the vacuum atmosphere. Control to any pressure up to. The take-out chamber 500 can also be configured to serve as the vacuum pump 120 as the take-out chamber main body vacuum pump 520, and the take-out chamber main body vacuum pump 520 can be omitted.

バッファラック540は、後述する下流側第二搬送機構820に隣接するように配置されている。具体的に、バッファラック540は、上下に配置された複数の棚板(図示省略)と、これら複数の棚板を昇降させる昇降機構(図示省略)と、下流側第二搬送機構820に位置するワークトレイ20を棚板に移動させると共に、棚板に位置するワークトレイ20を下流側第二搬送機構20に移動させるトレイ移動機構(図示省略)と、を備えている。このバッファラック540は、真空チャンバ100内で熱処理が施されたワーク10を、ワークトレイ20ごと一時的に待機させる。これにより、後工程の処理状況に応じて、ワーク10の流れを調整することができる。   The buffer rack 540 is disposed adjacent to a downstream second transport mechanism 820 described later. Specifically, the buffer rack 540 is positioned in a plurality of shelf plates (not shown) arranged above and below, an elevating mechanism (not shown) that raises and lowers the plurality of shelf plates, and the downstream second transport mechanism 820. A tray moving mechanism (not shown) that moves the work tray 20 to the shelf and moves the work tray 20 positioned on the shelf to the downstream second transport mechanism 20 is provided. The buffer rack 540 temporarily waits the workpiece 10 that has been heat-treated in the vacuum chamber 100 together with the workpiece tray 20. Thereby, the flow of the workpiece | work 10 can be adjusted according to the process condition of a post process.

上流側搬送ユニット600は、上流側第一搬送機構610と、上流側第二搬送機構620と、上流側第三搬送機構630と、を備え、これらが上流側から順に配設されている。上流側第一搬送機構610は、仕込室本体410の外側底面における仕込室本体用外部扉413の近傍に配設され、ワークトレイ20を仕込室本体410の外側から内側に向けて搬送する。具体的に、上流側第一搬送機構610は、X軸方向に連続して配設された複数の上流側第一搬送ローラ612を備えている。これら複数の上流側第一搬送ローラ612は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。上流側第二搬送機構620は、仕込室本体410の内側底面に配設され、ワークトレイ20を仕込室本体410からチャンバ本体110に向けて搬送する。具体的に、上流側第二搬送機構620は、X軸方向に連続して配設された複数の上流側第二搬送ローラ622を備えている。これら複数の上流側第二搬送ローラ622は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。上流側第三搬送機構630は、チャンバ本体110の内側底面における第一開口112の近傍に配設され、ワークトレイ20をチャンバ本体110内に受け入れる際に、当該チャンバ本体110の上流で搬送する。具体的に、上流側第三搬送機構630は、X軸方向に連続して配設された複数の上流側第三搬送ローラ632を備えている。これら複数の上流側第三搬送ローラ632は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。   The upstream transport unit 600 includes an upstream first transport mechanism 610, an upstream second transport mechanism 620, and an upstream third transport mechanism 630, which are arranged in order from the upstream side. The upstream first transport mechanism 610 is disposed in the vicinity of the external door 413 for the preparation chamber body on the outer bottom surface of the preparation chamber body 410, and conveys the work tray 20 from the outside to the inside of the preparation chamber body 410. Specifically, the upstream first transport mechanism 610 includes a plurality of upstream first transport rollers 612 arranged continuously in the X-axis direction. The plurality of first upstream conveying rollers 612 are arranged so as to be rotatable around the Y axis, and convey the work tray 20 in the X axis direction. The upstream second transfer mechanism 620 is disposed on the inner bottom surface of the preparation chamber main body 410 and transfers the work tray 20 from the preparation chamber main body 410 toward the chamber main body 110. Specifically, the upstream second transport mechanism 620 includes a plurality of upstream second transport rollers 622 disposed continuously in the X-axis direction. Each of the plurality of second upstream-side transport rollers 622 is rotatably arranged around the Y axis, and transports the work tray 20 in the X-axis direction. The upstream third transport mechanism 630 is disposed in the vicinity of the first opening 112 on the inner bottom surface of the chamber body 110, and transports the work tray 20 upstream of the chamber body 110 when receiving the work tray 20 into the chamber body 110. Specifically, the upstream third transport mechanism 630 includes a plurality of upstream third transport rollers 632 arranged continuously in the X-axis direction. Each of the plurality of upstream third transport rollers 632 is disposed so as to be rotatable around the Y axis, and transports the work tray 20 in the X axis direction.

図2〜図4に示されるチャンバ内搬送ユニット700は、チャンバ内第一搬送機構710と、チャンバ内第二搬送機構720と、チャンバ内第三搬送機構730と、を備え、これらが上流側から順に配設されている。   The in-chamber transport unit 700 shown in FIGS. 2 to 4 includes a first in-chamber transport mechanism 710, a second in-chamber transport mechanism 720, and a third in-chamber transport mechanism 730, which are arranged from the upstream side. They are arranged in order.

図2(A)〜図2(D)に示されるチャンバ内第一搬送機構710は、加熱ブロック200A〜200Fの上方に、Y軸方向に沿って配設された上下一対のチャンバ内第一搬送駆動軸711と、このチャンバ内第一搬送駆動軸711に等間隔に取り付けられた複数のチャンバ内第一搬送アーム712と、これら複数のチャンバ内第一搬送アーム712を昇降させるチャンバ内第一搬送アーム昇降機構713と、一対のチャンバ内第一搬送駆動軸711を進退させるチャンバ内第一搬送駆動機構716と、を備えている。チャンバ内第一搬送駆動軸711は、チャンバ内第一搬送駆動機構716によって自身がY軸方向に進退することで、複数のチャンバ内第一搬送アーム712をY軸方向に進退させる。複数のチャンバ内第一搬送アーム712は、チャンバ内第一搬送駆動軸711がY軸方向に進退することで、当該チャンバ内第一搬送駆動軸711と共にY軸方向に全てが同時に進退する。そして、複数のチャンバ内第一搬送アーム712は、チャンバ内第一搬送アーム昇降機構713の動作に伴って全てが同時に昇降する。チャンバ内第一搬送アーム昇降機構713は、加熱ブロック200A〜200Fの上方であって、かつ、チャンバ内第一搬送駆動軸711の両脇下方に、Y軸方向に沿って配設された一対のチャンバ内第一昇降軸714(図示は、一本のチャンバ内第一昇降軸714)と、これら一対のチャンバ内第一昇降軸714の各々に取り付けられたチャンバ内第一昇降カム715と、を備えている。一対のチャンバ内第一昇降軸714は、図示を省略する動力源によって自身がY軸回りに回転することで、チャンバ内第一昇降カム715をY軸回りに回転させる。一対のチャンバ内第一昇降カム715は、チャンバ内第一昇降軸714がY軸回りに回転することで、当該チャンバ内第一昇降軸714と共にY軸回りに回転して、全てのチャンバ内第一搬送アーム712を同時に昇降させる。   The first in-chamber transport mechanism 710 shown in FIGS. 2 (A) to 2 (D) is a pair of upper and lower chambers in the first chamber disposed above the heating blocks 200A to 200F along the Y-axis direction. A drive shaft 711, a plurality of first chamber transfer arms 712 mounted at equal intervals on the first transfer drive shaft 711 in the chamber, and a first transfer chamber in the chamber for moving the plurality of first transfer arms 712 in the chamber up and down. An arm elevating mechanism 713 and an in-chamber first transport drive mechanism 716 for moving the first transport drive shaft 711 in the chamber forward and backward are provided. The in-chamber first transport driving shaft 711 is advanced and retracted in the Y-axis direction by the in-chamber first transport driving mechanism 716, so that the plurality of first in-chamber transport arms 712 are advanced and retracted in the Y-axis direction. The plurality of first in-chamber transfer arms 712 all advance and retreat simultaneously in the Y-axis direction together with the in-chamber first transfer drive shaft 711 as the first in-chamber transfer drive shaft 711 advances and retreats in the Y-axis direction. The plurality of first in-chamber transfer arms 712 are all moved up and down simultaneously with the operation of the in-chamber first transfer arm lifting mechanism 713. The in-chamber first transfer arm raising / lowering mechanism 713 is above the heating blocks 200A to 200F and below the both sides of the in-chamber first transfer drive shaft 711 along a Y-axis direction. A first in-chamber elevating shaft 714 (shown in the figure is one in-chamber first elevating shaft 714) and a first in-chamber elevating cam 715 attached to each of the pair of first in-chamber elevating shafts 714. I have. The pair of in-chamber first elevating shafts 714 rotate around the Y axis by a power source (not shown) to rotate the in-chamber first elevating cam 715 around the Y axis. The pair of first lift cams 715 in the chamber rotate around the Y axis together with the first lift shaft 714 in the chamber by rotating the first lift shaft 714 around the Y axis. One transfer arm 712 is raised and lowered simultaneously.

チャンバ内第一搬送駆動機構716は、一対のチャンバ内第一搬送駆動軸711の一端に被さる一対の第一真空パイプと、これら一対の第一真空パイプと平行に配置された第一ねじ軸と、一対の第一真空パイプ及び第一ねじ軸に沿ってY軸方向に移動する第一スライダと、この第一スライダを第一ねじ軸に沿ってY軸方向に移動させる第一ピニオン及び第一モータと、第一スライダと一体となってチャンバ内第一搬送駆動軸711をY軸方向に移動させる第一磁石と、などを備えている(いずれも符号省略又は図示省略)。一対の第一真空パイプは、チャンバ本体110と一体となって真空雰囲気の空間を構成する。これら一対の第一真空パイプ内には、チャンバ内第一搬送駆動軸711がスライド可能に設けられている。第一スライダには、第一モータが固定されている。この第一モータには、第一ねじ軸に噛み合う第一ピニオンが取り付けられている。第一モータの動力により第一ピニオンが回転することで、第一スライダがY軸方向に移動する。第一スライダ及びチャンバ内第一搬送駆動軸711には、それぞれ、第一磁石が固定されており、互いに引き付ける磁力が生じている。この磁力により、第一スライダがY軸方向に移動することで、一体となってチャンバ内第一搬送駆動軸711がY軸方向に移動する。   The in-chamber first transfer driving mechanism 716 includes a pair of first vacuum pipes covering one end of the pair of in-chamber first transfer driving shafts 711, and a first screw shaft disposed in parallel to the pair of first vacuum pipes. A first slider that moves in the Y-axis direction along the pair of first vacuum pipes and the first screw axis, and a first pinion and a first pinion that moves the first slider in the Y-axis direction along the first screw axis A motor, a first magnet that moves the in-chamber first transport drive shaft 711 in the Y-axis direction integrally with the first slider, and the like are provided (all omitted or not shown). The pair of first vacuum pipes and the chamber main body 110 form a vacuum atmosphere space. In the pair of first vacuum pipes, an in-chamber first transport drive shaft 711 is slidably provided. A first motor is fixed to the first slider. A first pinion that meshes with the first screw shaft is attached to the first motor. As the first pinion rotates by the power of the first motor, the first slider moves in the Y-axis direction. A first magnet is fixed to each of the first slider and the first conveyance drive shaft 711 in the chamber, and a magnetic force attracting each other is generated. By this magnetic force, the first slider moves in the Y-axis direction, so that the in-chamber first transport drive shaft 711 moves integrally in the Y-axis direction.

図2(A)に示されるように、初期位置のチャンバ内第一搬送機構710は、複数のチャンバ内第一搬送アーム712が下降した状態で、かつ、上流側(図面右側)に寄せられた状態となっている。そして、図2(A)から図2(B)に示されるように、チャンバ内第一搬送駆動軸711及び複数のチャンバ内第一搬送アーム712が下流(図面左)に向けて移動することで、複数のチャンバ内第一搬送アーム712の各々が、ワークトレイ20を同時に押して、隣の加熱ブロック200まで移動させる。また、図2(B)から図2(C)に示されるように、チャンバ内第一搬送アーム昇降機構713が動作することで、複数のチャンバ内第一搬送アーム712を同時に上昇させる。その後、図2(C)から図2(D)に示されるように、チャンバ内第一搬送駆動軸711及び複数のチャンバ内第一搬送アーム712は、上流(図面右)に向けて移動して、初期位置に戻る。   As shown in FIG. 2A, the in-chamber first transfer mechanism 710 in the initial position is brought to the upstream side (right side in the drawing) with the plurality of in-chamber first transfer arms 712 lowered. It is in a state. Then, as shown in FIG. 2A to FIG. 2B, the in-chamber first transport drive shaft 711 and the plurality of in-chamber first transport arms 712 move toward the downstream (left side in the drawing). Each of the plurality of first chamber transfer arms 712 simultaneously pushes the work tray 20 to move to the adjacent heating block 200. Further, as shown in FIGS. 2B to 2C, the first in-chamber transfer arm raising / lowering mechanism 713 operates to raise the plurality of in-chamber first transfer arms 712 at the same time. Thereafter, as shown in FIGS. 2C to 2D, the in-chamber first transport drive shaft 711 and the plurality of in-chamber first transport arms 712 move toward the upstream (right side in the drawing). Return to the initial position.

図3(A)及び図3(B)に示されるチャンバ内第二搬送機構720は、加熱ブロック200F,200Gの上方に、X軸方向に沿って配設された上下一対のチャンバ内第二搬送駆動軸721と、このチャンバ内第二搬送駆動軸721に取り付けられたチャンバ内第二搬送アーム722と、一対のチャンバ内第二搬送駆動軸721を進退させるチャンバ内第二搬送駆動機構723と、を備えている。チャンバ内第二搬送駆動軸721は、チャンバ内第二搬送駆動機構723によって自身がX軸方向に進退することで、チャンバ内第二搬送アーム722をX軸方向に進退させる。チャンバ内第二搬送アーム722は、チャンバ内第二搬送駆動軸721がX軸方向に進退することで、当該チャンバ内第二搬送駆動軸721と共にX軸方向に進退する。   The second in-chamber transport mechanism 720 shown in FIGS. 3A and 3B has a pair of upper and lower chamber second transports disposed along the X-axis direction above the heating blocks 200F and 200G. A drive shaft 721, a second in-chamber transfer arm 722 attached to the second in-chamber transfer drive shaft 721, an in-chamber second transfer drive mechanism 723 that moves the pair of in-chamber second transfer drive shafts 721 forward and backward, It has. The in-chamber second transport drive shaft 721 is advanced and retracted in the X-axis direction by the in-chamber second transport drive mechanism 723, thereby moving the in-chamber second transport drive shaft 721 in the X-axis direction. The in-chamber second transfer arm 722 advances and retreats in the X-axis direction together with the in-chamber second transfer drive shaft 721 as the in-chamber second transfer drive shaft 721 advances and retreats in the X-axis direction.

チャンバ内第二搬送駆動機構723は、一対のチャンバ内第二搬送駆動軸721の一端に被さる一対の第二真空パイプと、これら一対の第二真空パイプと平行に配置された第二ねじ軸と、一対の第二真空パイプ及び第二ねじ軸に沿ってX軸方向に移動する第二スライダと、この第二スライダを第二ねじ軸に沿ってX軸方向に移動させる第二ピニオン及び第二モータと、第二スライダと一体となってチャンバ内第二搬送駆動軸721をX軸方向に移動させる第二磁石と、などを備えている(いずれも符号省略又は図示省略)。一対の第二真空パイプは、チャンバ本体110と一体となって真空雰囲気の空間を構成する。これら一対の第二真空パイプ内には、チャンバ内第二搬送駆動軸721がスライド可能に設けられている。第二スライダには、第二モータが固定されている。この第二モータには、第二ねじ軸に噛み合う第二ピニオンが取り付けられている。第二モータの動力により第二ピニオンが回転することで、第二スライダがX軸方向に移動する。第二スライダ及びチャンバ内第二搬送駆動軸721には、それぞれ、第二磁石が固定されており、互いに引き付ける磁力が生じている。この磁力により、第二スライダがX軸方向に移動することで、一体となってチャンバ内第二搬送駆動軸721がX軸方向に移動する。   The in-chamber second transport driving mechanism 723 includes a pair of second vacuum pipes covering one end of the pair of in-chamber second transport driving shafts 721, and a second screw shaft disposed in parallel with the pair of second vacuum pipes. A second slider that moves in the X-axis direction along the pair of second vacuum pipes and the second screw shaft, and a second pinion and a second pinion that move the second slider in the X-axis direction along the second screw shaft A motor, a second magnet that moves the second conveyance drive shaft 721 in the chamber in the X-axis direction, and the like integrated with the second slider, and the like (all omitted or not shown). The pair of second vacuum pipes form a vacuum atmosphere space together with the chamber body 110. In the pair of second vacuum pipes, an in-chamber second transport drive shaft 721 is slidably provided. A second motor is fixed to the second slider. A second pinion that meshes with the second screw shaft is attached to the second motor. When the second pinion is rotated by the power of the second motor, the second slider moves in the X-axis direction. A second magnet is fixed to each of the second slider and the second conveyance drive shaft 721 in the chamber, and a magnetic force attracting each other is generated. Due to this magnetic force, the second slider moves in the X-axis direction, so that the in-chamber second transport drive shaft 721 moves integrally in the X-axis direction.

図3(A)に示されるように、初期位置のチャンバ内第二搬送機構720は、チャンバ内第二搬送アーム722が上流側(図面右側)に寄せられた状態となっている。そして、図3(A)から図3(B)に示されるように、チャンバ内第二搬送駆動軸721及びチャンバ内第二搬送アーム722が下流(図面左)に向けて移動することで、チャンバ内第二搬送アーム722が、ワークトレイ20を押して、加熱ブロック200Fから加熱ブロック200Gに移動させる。   As shown in FIG. 3A, the in-chamber second transfer mechanism 720 in the initial position is in a state in which the in-chamber second transfer arm 722 is moved to the upstream side (the right side in the drawing). Then, as shown in FIGS. 3A to 3B, the second in-chamber transfer drive shaft 721 and the second in-chamber transfer arm 722 move toward the downstream (left side in the drawing), so that the chamber The inner second transfer arm 722 pushes the work tray 20 to move from the heating block 200F to the heating block 200G.

図4(A)〜図4(D)に示されるチャンバ内第三搬送機構730は、加熱ブロック200G〜200J及び冷却ブロック300A,300Bの上方に、Y軸方向に沿って配設された上下一対のチャンバ内第三搬送駆動軸731と、このチャンバ内第三搬送駆動軸731に等間隔に取り付けられた複数のチャンバ内第三搬送アーム732と、これら複数のチャンバ内第三搬送アーム732を昇降させるチャンバ内第三搬送アーム昇降機構733と、一対のチャンバ内第三搬送駆動軸731を進退させるチャンバ内第三搬送駆動機構736と、を備えている。チャンバ内第三搬送駆動軸731は、チャンバ内第三搬送駆動機構736によって自身がY軸方向に進退することで、複数のチャンバ内第三搬送アーム732をY軸方向に進退させる。複数のチャンバ内第三搬送アーム732は、チャンバ内第三搬送駆動軸731がY軸方向に進退することで、当該チャンバ内第三搬送駆動軸731と共にY軸方向に全てが同時に進退する。そして、複数のチャンバ内第三搬送アーム732は、チャンバ内第三搬送アーム昇降機構733の動作に伴って全てが同時に昇降する。チャンバ内第三搬送アーム昇降機構733は、加熱ブロック200G〜200J及び冷却ブロック300A,300Bの上方であって、かつ、チャンバ内第三搬送駆動軸731の両脇下方に、Y軸方向に沿って配設された一対のチャンバ内第三昇降軸734(図示は、一本のチャンバ内第三昇降軸734)と、これら一対のチャンバ内第三昇降軸734の各々に取り付けられたチャンバ内第三昇降カム735と、を備えている。一対のチャンバ内第三昇降軸734は、図示を省略する動力源によって自身がY軸回りに回転することで、チャンバ内第三昇降カム735をY軸回りに回転させる。一対のチャンバ内第三昇降カム735は、チャンバ内第三昇降軸734がY軸回りに回転することで、当該チャンバ内第三昇降軸734と共にY軸回りに回転して、全てのチャンバ内第三搬送アーム732を同時に昇降させる。   The in-chamber third transport mechanism 730 shown in FIGS. 4A to 4D is a pair of upper and lower portions disposed along the Y-axis direction above the heating blocks 200G to 200J and the cooling blocks 300A and 300B. The third transfer drive shaft 731 in the chamber, the plurality of third transfer arms 732 in the chamber attached at equal intervals to the third transfer drive shaft 731 in the chamber, and the third transfer arms 732 in the plurality of chambers are moved up and down. An in-chamber third transport arm raising / lowering mechanism 733 and a third in-chamber third transport drive mechanism 736 for moving the pair of third in-chamber third transport drive shafts 731 forward and backward. The in-chamber third transport drive shaft 731 is advanced / retracted in the Y-axis direction by the in-chamber third transport drive mechanism 736 to advance / retreat the plurality of third in-chamber transport arms 732 in the Y-axis direction. The plurality of third in-chamber transfer arms 732 simultaneously advance and retreat in the Y axis direction together with the in-chamber third transfer drive shaft 731 as the in-chamber third transfer drive shaft 731 advances and retreats in the Y axis direction. The plurality of third in-chamber transfer arms 732 are all moved up and down simultaneously with the operation of the in-chamber third transfer arm lifting mechanism 733. The in-chamber third transfer arm elevating mechanism 733 is above the heating blocks 200G to 200J and the cooling blocks 300A and 300B, and below both sides of the in-chamber third transfer drive shaft 731 along the Y-axis direction. A pair of third in-chamber elevating shafts 734 (shown in the figure is one in-chamber third elevating shaft 734) and a third in-chamber chamber attached to each of the pair of in-chamber third elevating shafts 734. Elevating cam 735. The pair of third in-chamber elevating shafts 734 are rotated around the Y axis by a power source (not shown) to rotate the in-chamber third elevating cam 735 around the Y axis. The pair of third in-chamber elevating cams 735 rotate around the Y axis together with the third in-chamber elevating shaft 734 by rotating the third in-chamber elevating shaft 734 around the Y axis. The three transfer arms 732 are moved up and down simultaneously.

チャンバ内第三搬送駆動機構736は、一対のチャンバ内第三搬送駆動軸731の一端に被さる一対の第三真空パイプと、これら一対の第三真空パイプと平行に配置された第三ねじ軸と、一対の第三真空パイプ及び第三ねじ軸に沿ってY軸方向に移動する第三スライダと、この第三スライダを第三ねじ軸に沿ってY軸方向に移動させる第三ピニオン及び第三モータと、第三スライダと一体となってチャンバ内第三搬送駆動軸731をY軸方向に移動させる第三磁石と、などを備えている(いずれも符号省略又は図示省略)。一対の第三真空パイプは、チャンバ本体110と一体となって真空雰囲気の空間を構成する。これら一対の第三真空パイプ内には、チャンバ内第三搬送駆動軸731がスライド可能に設けられている。第三スライダには、第三モータが固定されている。この第三モータには、第三ねじ軸に噛み合う第三ピニオンが取り付けられている。第三モータの動力により第三ピニオンが回転することで、第三スライダがY軸方向に移動する。第三スライダ及びチャンバ内第三搬送駆動軸731には、それぞれ、第三磁石が固定されており、互いに引き付ける磁力が生じている。この磁力により、第三スライダがY軸方向に移動することで、一体となってチャンバ内第三搬送駆動軸731がY軸方向に移動する。   The in-chamber third transport driving mechanism 736 includes a pair of third vacuum pipes covering one end of the pair of in-chamber third transport driving shafts 731, and a third screw shaft disposed in parallel with the pair of third vacuum pipes. A third slider that moves in the Y-axis direction along the pair of third vacuum pipes and the third screw shaft, and a third pinion and a third pinion that moves the third slider in the Y-axis direction along the third screw shaft A motor, a third magnet that moves the in-chamber third transport drive shaft 731 in the Y-axis direction, and the like are integrated with the third slider (all omitted or not shown). The pair of third vacuum pipes is integrated with the chamber body 110 to form a space in a vacuum atmosphere. In the pair of third vacuum pipes, an in-chamber third transport drive shaft 731 is slidably provided. A third motor is fixed to the third slider. A third pinion that meshes with the third screw shaft is attached to the third motor. As the third pinion rotates by the power of the third motor, the third slider moves in the Y-axis direction. A third magnet is fixed to the third slider and the third transfer driving shaft 731 in the chamber, and a magnetic force attracting each other is generated. By this magnetic force, the third slider moves in the Y-axis direction, so that the in-chamber third transport drive shaft 731 moves in the Y-axis direction as a unit.

図4(A)に示されるように、初期位置のチャンバ内第三搬送機構730は、複数のチャンバ内第三搬送アーム732が下降した状態で、かつ、上流側(図面右側)に寄せられた状態となっている。そして、図4(A)から図4(B)に示されるように、チャンバ内第三搬送駆動軸731及び複数のチャンバ内第三搬送アーム732が下流(図面左)に向けて移動することで、複数のチャンバ内第三搬送アーム732の各々が、ワークトレイ20を同時に押して、隣の加熱ブロック200又は冷却ブロック300まで移動させる。また、図4(B)から図4(C)に示されるように、チャンバ内第三搬送アーム昇降機構733が動作することで、複数のチャンバ内第三搬送アーム732を同時に上昇させる。その後、図4(C)から図4(D)に示されるように、チャンバ内第三搬送駆動軸731及び複数のチャンバ内第三搬送アーム732は、上流(図面右)に向けて移動して、初期位置に戻る。   As shown in FIG. 4A, the in-chamber third transfer mechanism 730 in the initial position is brought to the upstream side (the right side in the drawing) with the plurality of in-chamber third transfer arms 732 lowered. It is in a state. Then, as shown in FIG. 4A to FIG. 4B, the in-chamber third transport driving shaft 731 and the plurality of in-chamber third transport arms 732 move toward the downstream (left in the drawing). Each of the plurality of third transfer arms 732 in the chamber pushes the work tray 20 at the same time to move to the adjacent heating block 200 or cooling block 300. Further, as shown in FIGS. 4B to 4C, the third in-chamber transfer arm lifting mechanism 733 operates to raise the plurality of in-chamber third transfer arms 732 at the same time. Thereafter, as shown in FIGS. 4C to 4D, the in-chamber third transport driving shaft 731 and the plurality of in-chamber third transport arms 732 move toward the upstream (right side in the drawing). Return to the initial position.

図1に戻って説明する。下流側搬送ユニット800は、下流側第一搬送機構810と、下流側第二搬送機構820と、下流側第三搬送機構830と、を備え、これらが下流側へ順に配設されている。下流側第一搬送機構810は、チャンバ本体110の内側底面における第二開口114の近傍に配設され、ワークトレイ20をチャンバ本体110から送り出す際に、当該チャンバ本体110の下流で搬送する。具体的に、下流側第一搬送機構810は、X軸方向に連続して配設された複数の下流側第一搬送ローラ812を備えている。これら複数の下流側第一搬送ローラ812は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。下流側第二搬送機構820は、取出室本体510の内側底面に配設され、ワークトレイ20を取出室本体510の内側から外側に向けて搬送する。具体的に、下流側第二搬送機構820は、X軸方向に連続して配設された複数の下流側第二搬送ローラ822を備えている。これら複数の下流側第二搬送ローラ822は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。下流側第三搬送機構830は、取出室本体510の外側底面における取出室本体用外部扉713の近傍に配設され、ワークトレイ20を取出室本体510の外側から遠退くように搬送する。具体的に、下流側第三搬送機構830は、X軸方向に連続して配設された複数の下流側第三搬送ローラ832を備えている。これら複数の下流側第三搬送ローラ832は、それぞれ、Y軸回りに回転可能に配設され、ワークトレイ20をX軸方向に搬送する。   Returning to FIG. The downstream side transport unit 800 includes a downstream side first transport mechanism 810, a downstream side second transport mechanism 820, and a downstream side third transport mechanism 830, which are arranged in this order on the downstream side. The downstream first transport mechanism 810 is disposed near the second opening 114 on the inner bottom surface of the chamber body 110 and transports the work tray 20 downstream of the chamber body 110 when the work tray 20 is sent out from the chamber body 110. Specifically, the downstream first transport mechanism 810 includes a plurality of downstream first transport rollers 812 that are continuously disposed in the X-axis direction. Each of the plurality of downstream first transport rollers 812 is disposed to be rotatable around the Y axis, and transports the work tray 20 in the X axis direction. The downstream second transport mechanism 820 is disposed on the inner bottom surface of the take-out chamber body 510 and transports the work tray 20 from the inside to the outside of the take-out chamber body 510. Specifically, the downstream second transport mechanism 820 includes a plurality of downstream second transport rollers 822 that are continuously disposed in the X-axis direction. The plurality of downstream second transport rollers 822 are each disposed so as to be rotatable around the Y axis, and transport the work tray 20 in the X axis direction. The downstream third transport mechanism 830 is disposed in the vicinity of the external door 713 for the extraction chamber main body on the outer bottom surface of the extraction chamber main body 510, and conveys the work tray 20 so as to move away from the outside of the extraction chamber main body 510. Specifically, the downstream third transport mechanism 830 includes a plurality of downstream third transport rollers 832 that are continuously disposed in the X-axis direction. Each of the plurality of downstream third transport rollers 832 is rotatably arranged around the Y axis, and transports the work tray 20 in the X axis direction.

次に、熱処理装置1による熱処理の手順について、図1を用いて説明する。   Next, a heat treatment procedure by the heat treatment apparatus 1 will be described with reference to FIG.

図1に示されるように、ワーク10は、ワークトレイ20に載せられた状態で、真空雰囲気に保たれた真空チャンバ100内において、加熱ブロック200A〜200J及び冷却ブロック300A,300Bの上を順々に搬送される。   As shown in FIG. 1, the work 10 is placed on the work tray 20 in a vacuum chamber 100 maintained in a vacuum atmosphere, and sequentially on the heating blocks 200 </ b> A to 200 </ b> J and the cooling blocks 300 </ b> A and 300 </ b> B. It is conveyed to.

図1に示されるように、加熱ブロック200A〜200Jは、それぞれ、時間的に一定の温度(例えば、230℃〜250℃の範囲内で一定の温度)に保たれているが、真空雰囲気中であり空気の対流がないので、それらの上(近傍)を搬送されるワーク10は、徐々に温度が高められる。なお、ワーク10は、最終的に、例えば230℃から250℃程度まで加熱される。その後、ワーク10は、冷却ブロック300A,300Bによって、冷却される。   As shown in FIG. 1, each of the heating blocks 200A to 200J is maintained at a constant temperature in time (for example, a constant temperature within a range of 230 ° C. to 250 ° C.), but in a vacuum atmosphere. Since there is no air convection, the temperature of the workpiece 10 conveyed over (near) them is gradually increased. In addition, the workpiece | work 10 is finally heated from 230 degreeC to about 250 degreeC, for example. Thereafter, the workpiece 10 is cooled by the cooling blocks 300A and 300B.

以上説明したように、本実施形態に係る熱処理装置1は、バッチ処理ではなくリアルタイム処理を行うことができるので、加熱ブロック200A〜200Jによってワーク10を順々に加熱することができる。そして、その後、冷却ブロック300A,300Bによってワーク10の温度を順々に下げることができる。   As described above, since the heat treatment apparatus 1 according to the present embodiment can perform real-time processing instead of batch processing, the workpiece 10 can be sequentially heated by the heating blocks 200A to 200J. Then, the temperature of the workpiece 10 can be lowered sequentially by the cooling blocks 300A and 300B.

バッチ処理の場合、その都度、真空チャンバ100内全体の温度が変化するので、エネルギーの無駄が生じるという問題があった。一方、本実施形態に係る熱処理装置1は、リアルタイム処理を実行するため、真空チャンバ100内全体(各ブロック)の温度を時間的に一定に保つことができ、結果として省エネを実現することができる。   In the case of batch processing, the temperature inside the vacuum chamber 100 changes each time, and there is a problem that energy is wasted. On the other hand, since the heat treatment apparatus 1 according to the present embodiment performs real-time processing, the temperature in the entire vacuum chamber 100 (each block) can be kept constant over time, and as a result, energy saving can be realized. .

本発明は、上記実施形態に限られるものではなく、その趣旨及び技術思想を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。すなわち、上記実施形態において、各構成の位置、大きさ、長さ、形状、材質、向き、数量、温度などは適宜変更できる。例えば、加熱ブロック200や冷却ブロック300の数量が挙げられる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit and technical idea thereof. That is, in the above embodiment, the position, size, length, shape, material, orientation, quantity, temperature, and the like of each component can be changed as appropriate. For example, the quantity of the heating block 200 and the cooling block 300 is mentioned.

本発明の溶接装置は、電子機器や電子部品もしくはその他の各種物品の製造の分野において利用できる。   The welding apparatus of the present invention can be used in the field of manufacturing electronic equipment, electronic components, or other various articles.

1 熱処理装置
10 ワーク
100 真空チャンバ(チャンバ)
112 第一開口(入口)
114 第二開口(出口)
200,200A〜200J 加熱ブロック
300,300A,300B 冷却ブロック
700 チャンバ内搬送ユニット(搬送手段)
1 Heat treatment apparatus 10 Work 100 Vacuum chamber (chamber)
112 First opening (entrance)
114 Second opening (exit)
200, 200A to 200J Heating block 300, 300A, 300B Cooling block 700 In-chamber transport unit (transport means)

Claims (1)

複数のワークを順番に搬送しながら該ワークに熱処理を施す熱処理装置であって、
前記ワークが順番に搬入される入口、及び前記ワークが順番に搬出される出口を有し、前記入口及び前記出口がX軸方向に並ぶように配置されており、自身の内部を真空雰囲気に保つチャンバと、
前記チャンバ内における前記入口から前記出口まで前記ワークを搬送する搬送手段と、
前記チャンバ内に、前記ワークの搬送経路に沿って配列された複数のブロックであって、該複数のブロックのそれぞれが一定の温度に保たれて前記ワークを加熱する複数の加熱ブロックと、
前記チャンバ内であって、かつ、前記搬送経路に沿って最も下流側の前記加熱ブロックよりも更に下流側に設けられ、前記ワークを冷却する一又は複数の冷却ブロックと、
を備え、
前記搬送手段は、
前記入口から前記チャンバ内に搬入される前記ワークを、前記X軸方向に対して直交且つ水平となるY軸方向の一方向に搬送するチャンバ内第一搬送機構と、
前記チャンバ内第一搬送機構で搬送された前記ワークを、前記X軸方向に搬送する前記チャンバ内第二搬送機構と、
前記チャンバ内第二搬送機構で搬送された前記ワークを、前記Y軸方向の他方向に沿って前記出口まで搬送する前記チャンバ内第三搬送機構と、有し、
前記ワークは、前記複数の加熱ブロックの傍らを通過することで加熱され、且つ、前記冷却ブロックの傍らを通過することで冷却されることを特徴とする、
熱処理装置。
A heat treatment apparatus that heat-treats a plurality of workpieces while sequentially conveying the workpieces,
An outlet to inlet, and the work is carried out in the order the work is carried in sequence, the inlet and the outlet are arranged so as to line up in the X-axis direction, maintain the interior of the own vacuum A chamber;
Conveying means for conveying the workpiece from the inlet to the outlet in the chamber;
Within said chamber, said a plurality of blocks arranged along a conveying path of the workpiece, and a plurality of heating blocks for heating the workpiece each of the plurality of blocks is maintained at a constant temperature,
One or a plurality of cooling blocks that are provided in the chamber and further downstream of the heating block on the most downstream side along the transfer path, and cool the workpiece;
With
The conveying means is
A first in-chamber mechanism for transporting the work carried into the chamber from the inlet in one direction in the Y-axis direction that is orthogonal to and horizontal to the X-axis direction;
The second transport mechanism in the chamber that transports the workpiece transported by the first transport mechanism in the chamber in the X-axis direction;
The third transport mechanism in the chamber that transports the workpiece transported by the second transport mechanism in the chamber to the outlet along the other direction in the Y-axis direction;
The workpiece is heated by passing through a side of said plurality of heating blocks and, characterized by Rukoto is cooled by passing through the side of the cooling block,
Heat treatment equipment.
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