[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP6053426B2 - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6053426B2
JP6053426B2 JP2012212308A JP2012212308A JP6053426B2 JP 6053426 B2 JP6053426 B2 JP 6053426B2 JP 2012212308 A JP2012212308 A JP 2012212308A JP 2012212308 A JP2012212308 A JP 2012212308A JP 6053426 B2 JP6053426 B2 JP 6053426B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
drain pipe
cleaning
preliminary
receiving container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012212308A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014067871A (ja
Inventor
信 前嶋
信 前嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2012212308A priority Critical patent/JP6053426B2/ja
Publication of JP2014067871A publication Critical patent/JP2014067871A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6053426B2 publication Critical patent/JP6053426B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

本発明は、洗浄液受け容器を有した洗浄装置に関する。
従来例えば特許文献1〜3に記載されるように、各種の加工装置において、加工された被加工物を洗浄するための洗浄装置を備える構成が知られている。特許文献1,2には、それぞれ研削装置(グラインダー)に洗浄装置を備えた構成が開示されており、特許文献3には、切削装置(ダイサー)に洗浄装置を備えた構成が開示されている。
そして、特許文献1にも開示されるように、一般的な洗浄装置の形態においては、洗浄液を受けるための洗浄液受け容器(洗浄液受け容器)を有する構成としている。そして、洗浄液受け容器で受けられた洗浄液は、洗浄液受け容器の下部の一箇所に設けられた排水孔を介して排水される構成としている。
特開平07−211685号公報 特開2003−273055号公報 特開2006−128359号公報
しかしながら、上述の従来構成の場合では、屑や被洗浄物の破片等が排水孔を目詰まりさせてしまうことや、洗浄液受け容器に堆積して排水孔の周囲を覆ってしまう等の事態が生じることが懸念される。そして、洗浄液の排水が滞ってしまい、洗浄液受け容器から洗浄液が溢れてしまう、つまりは、オーバーフローする不具合が生じるおそれがある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、洗浄装置において、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれを低減する洗浄装置を提供することである。
本発明によると、洗浄装置であって、被洗浄物を保持する保持手段と、該保持手段で保持された該被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、該保持手段と該洗浄液供給手段とを収容し該被洗浄物に供給された洗浄液を受ける洗浄液受け容器と、該洗浄液受け容器に形成された排水孔に接続されフィルタ部材を通じて洗浄液が流入される排水管と、該排水孔より高い位置で該洗浄液受け容器に形成された予備排水孔に一端が接続される予備排水管と、を備え、該予備排水管の他端は、該排水管における該フィルタ部材よりも下流側で該排水管に接続され、前記予備排水管には、前記予備排水孔からの前記洗浄液の流出を検出することで前記フィルタ部材の詰まりを検出する検出手段が配設されている、ことを特徴とする洗浄装置が提供される。
本発明によると、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれを低減する洗浄装置が提供される。
より具体的には、フィルタ部材を介して排水孔に排水管が接続されることで、排水管内に異物が洗浄液とともに流出することが防止され、これにより、排水管の詰まりが防止され、ひいては、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
また、排水孔より高い位置に予備排水孔が形成されているため、洗浄受け容器内で異物が堆積して洗浄液嵩が増しても、予備排水孔から洗浄液が排水されるため、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
また、一端が予備排水孔に接続される予備排水管の他端は、排水管におけるフィルタ部材よりも下流側で排水管に接続されるため、万一フィルタ部材が詰まっていても排水が可能となり、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
さらに、請求項2に記載の発明によると、予備排水孔から洗浄液が流出した際には、フィルタ部材の詰まりを検出することができる。
これにより、フィルタ部材の詰まりが生じた際には、例えば、警告音などを発生させることとし、これに基づいて清掃を実施するといったことが可能となる。そして、この清掃によって、洗浄液が予備排水管を通じてフィルタを介さずに排水管に流出してしまうことを防止できる。
なお、万一、フィルタ部材の詰まりに気づかない場合や、清掃が間に合わないといった事態が生じた場合でも、予備排水管を通じて排水が可能なので、洗浄液受け容器から洗浄液がオーバーフローするおそれを低減できることになる。
洗浄装置を搭載するのに適した研削装置の斜視図である。 本発明実施形態の洗浄装置の構成について示す斜視図である。 本発明実施形態の洗浄装置の構成について示す側面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明の洗浄装置を搭載するのに適した研削装置2の斜視図が示されている。4は研削装置2のハウジング(ベース)であり、ハウジング4の後方にはコラム6が立設されている。コラム6には、上下方向に延びる一対のガイドレール(一本のみ図示)8が固定されている。
この一対のガイドレール8に沿って研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されている。研削ユニット10は、そのハウジング20が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。
研削ユニット10は、ハウジング20と、ハウジング20中に回転可能に収容されたスピンドル(不図示)と、スピンドルを回転駆動するサーボモータ22と、スピンドルの先端に固定されたホイールマウント24と、ホイールマウント24に着脱可能に装着された先端に複数の研削砥石26が固着された研削ホイール25とを含んでいる。
研削ユニット10は、研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ14とパルスモータ16とから構成される研削ユニット送り機構18を備えている。パルスモータ16をパルス駆動すると、ボールねじ14が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。
ハウジング4の中間部分にはチャックテーブル50を有するチャックテーブル機構28が配設されており、チャックテーブル機構28は図示しないチャックテーブル移動機構によりY軸方向に移動される。30はチャックテーブル機構28をカバーする蛇腹である。
ハウジング4の前側部分には、第1のウェーハカセット32と、第2のウェーハカセット34と、ウェーハ搬送用ロボット36と、複数の位置決めピン40を有する位置決め機構38と、ウェーハ搬入機構(ローディングアーム)42と、ウェーハ搬出機構(アンローディングアーム)44と、洗浄装置60が配設されている。
また、ハウジング4の概略中央部には、チャックテーブル50を洗浄する洗浄水噴射ノズル48が設けられている。この洗浄水噴射ノズル48は、チャックテーブル50が装置手前側のウェーハ搬入・搬出領域に位置付けられた状態において、チャックテーブル50に向かって洗浄水を噴射すべく構成されている。
次に、図2を用いて洗浄装置60について説明する。洗浄装置60は、基体61と、基体61上に設けられた洗浄液受け容器62を有している。
洗浄液受け容器62内には、被洗浄物となるウェーハ(不図示)を吸引保持するスピンナーテーブル63が収容されている。また、スピンナーテーブル63を取り囲むように側部カバー64が設けられており、側部カバー64は上下動用シリンダー66によって上下移動されるように構成されている。
側部カバー64が上方に設けられた上部カバー65の位置まで到達すると、側部カバー64、上部カバー65、洗浄液受け容器62によって閉じられた洗浄用空間が形成される。
そして、閉じられた洗浄用空間が形成された状態において、洗浄液供給ノズル67からの洗浄液や、噴射ノズル68からのエアーがウェーハ(不図示)に向かって噴射され、洗浄が実施される。
他方、側部カバー64が上下動用シリンダー66によって下側の位置に位置付けられるとスピンナーテーブル63が現れ、このスピンナーテーブル63に対するウェーハ(不図示)のロード/アンロードが行われる。
次に、図3を用いて洗浄装置60の排水に関する構造について説明する。上方が開放された洗浄液受け容器62には、上側から筒状の側部カバー64が挿入されており、側部カバー64が上下動用シリンダー66によって上下動される構成としている。
洗浄液受け容器62の側壁の一面を構成する側壁部62aには、排水孔62bが設けられており、この排水孔62bに対し、洗浄液受け容器62の外部から排水管70が接続される。
排水孔62bは、洗浄液受け容器62の内部空間に連通しており、この連通する部位には、フィルタ部材80が設けられている。これにより、洗浄液受け容器62内の洗浄液は、フィルタ部材80を介して排水孔62bへと流入し、排水管70を通じて外部へと排出される。屑や被洗浄物の破片等の異物は、フィルタ部材80によって捕捉されるため、外部に排出されることがない。
洗浄液受け容器62の側壁の他の一面を構成する側壁部62cには、予備排水孔62dが設けられており、この予備排水孔62dに対し、洗浄液受け容器62の外部から予備排水管72が接続される。
予備排水管72の一端は予備排水孔62dに接続される一方で、他端は排水管70に対して接続される。これにより、予備排水管72に流出した洗浄液は、排水管70へと案内され、排水管70を通じて外部へと排出される。
また、予備排水管72の排水管70に対する接続箇所は、排水管70においてフィルタ部材80よりも下流側となる位置とされる。これにより、フィルタ部材80が屑や被洗浄物の破片等の異物で詰まってしまった場合においても、予備排水管72からの洗浄液を排水管70を通じて確実に外部に排出することが可能となっている。
また、フィルタ部材80の形状については、特に限定されるものではないが、洗浄液受け容器62内に配置される部位において、半球状のフィルタリング面が構成されることが好ましい。半球状とすることにより、フィルタ部材80における通水面積を広く確保することができ、フィルタ部材80が完全に詰まってしまうまでの時間を長くすることや、異物を付着し難くすることが期待できる。なお、板状のウェーハの破片の発生が予想される場合には、仮にフィルタリング面が平面であると、フィルタリング面が容易に覆われてしまうことが懸念されるため、半球状のフィルタリング面にて構成することが特に好ましい。
予備排水孔62dは、洗浄液受け容器62の内部空間に連通しており、この連通する部位には、フィルタ部材が設けられない。これにより、予備排水孔62dの部位においてフィルタ部材の詰まりが発生することがなく、予備排水孔62dに流入した洗浄液受け容器62内の洗浄液は、予備排水管72介して排水管70へと案内され、排水管70を通じて外部へと排出される。
また、予備排水管72の一端が接続される予備排水孔62dの位置は、排水管70が接続される排水孔62bの位置よりも高い位置に設けられている。
これにより、フィルタ部材80が詰まっていない通常時の状態においては、フィルタ部材80を通じて排水孔62bへと洗浄液が流入し、排水管70を通じて洗浄液が外部へと排出される。
また、排水孔62bより高い位置に予備排水孔62dが形成されているため、洗浄液受け容器62内で異物が堆積して洗浄液嵩が増しても、予備排水孔62dから洗浄液が排水されるため、洗浄液受け容器62から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
また、本実施形態では、予備排水管72は、予備排水孔62dの位置から上方に伸びる縦管部72aと、縦管部72aから水平方向に伸びる横管部72bと、横管部72bから下方に向かって伸びる縦管部72cと、を有して構成されている。
そして、縦管部72aには、当該縦管部72aに洗浄液が流入した際に、この洗浄液を検出するためのオーバーフローセンサ(検出手段)76が設けられている。
このオーバーフローセンサ76は、図示せぬ制御装置に接続され、オーバーフローセンサ76において洗浄液が検出された際には、所定の警告音を発生させるなどすることで、フィルタ部材80の詰まりを注意喚起することができる。
なお、このオーバーフローセンサ76を所定の高さに設置することで、洗浄液受け容器62内における洗浄液の水嵩を把握するためのフローメータとして使用することとしてもよい。
また、縦管部72aを設けることで、洗浄液の水嵩が横管部72bの高さに至るまで洗浄液を貯溜して、オーバーフローに至るまでの時間稼ぎをすることが可能となり、予備排水管72を通じることでフィルタリングされずに排水管70へ排出されることを極力抑えることができる。
以上のようにして本発明を実施することができる。
即ち、図2及び図3に示すように、洗浄装置60であって、被洗浄物を保持するスピンナーテーブル(保持手段)63と、スピンナーテーブル63で保持された被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル(洗浄液供給手段)67と、スピンナーテーブル63と洗浄液供給ノズル67とを収容し被洗浄物に供給された洗浄液を受ける洗浄液受け容器62と、洗浄液受け容器62に形成された排水孔62bに接続されフィルタ部材80を通じて洗浄液が流入される排水管70と、排水孔62dより高い位置で洗浄液受け容器62に形成された予備排水孔62dに一端が接続される予備排水管72と、を備え、予備排水管72の他端は、排水管70におけるフィルタ部材80よりも下流側で排水管70に接続される、洗浄装置とする。
また、予備排水管72には、予備排水孔62dからの前記洗浄液の流出を検出することでフィルタ部材80の詰まりを検出するオーバーフローセンサ(検出手段)76を備えることとしている。
これにより、洗浄液受け容器62から洗浄液がオーバーフローするおそれを低減する洗浄装置60が提供される。
より具体的には、フィルタ部材80を介して排水孔62bに排水管70が接続されることで、排水管70内に異物が洗浄液とともに流出することが防止され、これにより、排水管70の詰まりが防止され、ひいては、洗浄液受け容器62から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
また、排水孔62bより高い位置に予備排水孔62dが形成されているため、洗浄受け容器内62で異物が堆積して洗浄液嵩が増しても、予備排水孔62dから洗浄液が排水されるため、洗浄液受け容器62から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
また、一端が予備排水孔62dに接続される予備排水管72の他端は、排水管70におけるフィルタ部材80よりも下流側で排水管70に接続されるため、万一フィルタ部材80が詰まっていても排水が可能となり、洗浄液受け容器62から洗浄液がオーバーフローするおそれが低減される。
さらに、予備排水孔62dから洗浄液が流出した際には、オーバーフローセンサ76によってフィルタ部材80の詰まりを検出することができる。
これにより、フィルタ部材80の詰まりが生じた際には、例えば、警告音などを発生させることとし、これに基づいて清掃を実施するといったことが可能となる。この清掃によって、洗浄液が予備排水管72を通じてフィルタを介さずに排水管に流出してしまうことを防止できる。
なお、以上の実施形態では、加工装置(研削装置)に組み込まれる洗浄装置の例を用いて説明したが、本発明は、このような実施形態に限らず、単体の洗浄装置についても適用可能である。
60 洗浄装置
62 洗浄液受け容器
62a 側壁部
62b 排水孔
62c 側壁部
62d 予備排水孔
63 スピンナーテーブル
67 洗浄液供給ノズル
68 噴射ノズル
70 排水管
72 予備排水管
76 オーバーフローセンサ
80 フィルタ部材

Claims (1)

  1. 洗浄装置であって、
    被洗浄物を保持する保持手段と、
    該保持手段で保持された該被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
    該保持手段と該洗浄液供給手段とを収容し該被洗浄物に供給された洗浄液を受ける洗浄液受け容器と、
    該洗浄液受け容器に形成された排水孔に接続されフィルタ部材を通じて洗浄液が流入される排水管と、
    該排水孔より高い位置で該洗浄液受け容器に形成された予備排水孔に一端が接続される予備排水管と、を備え、
    該予備排水管の他端は、該排水管における該フィルタ部材よりも下流側で該排水管に接続され
    前記予備排水管には、前記予備排水孔からの前記洗浄液の流出を検出することで前記フィルタ部材の詰まりを検出する検出手段が配設されている、
    ことを特徴とする洗浄装置。
JP2012212308A 2012-09-26 2012-09-26 洗浄装置 Active JP6053426B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012212308A JP6053426B2 (ja) 2012-09-26 2012-09-26 洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012212308A JP6053426B2 (ja) 2012-09-26 2012-09-26 洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014067871A JP2014067871A (ja) 2014-04-17
JP6053426B2 true JP6053426B2 (ja) 2016-12-27

Family

ID=50743977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012212308A Active JP6053426B2 (ja) 2012-09-26 2012-09-26 洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6053426B2 (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4779073B2 (ja) * 2005-10-29 2011-09-21 丸一株式会社 排水装置
JP5314574B2 (ja) * 2009-11-13 2013-10-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP2011212589A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Kenso Kogyo Co Ltd 器具類の付着物の洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014067871A (ja) 2014-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102210285B1 (ko) 절삭 장치
CN102097373B (zh) 切削装置
JP6927814B2 (ja) ドライ研磨装置
JP2009158768A (ja) 研削装置
JP2009099940A (ja) ダイシング装置
JP2007216377A (ja) ダイシング装置及びダイシング方法
TW201709259A (zh) 切削裝置
CN101992504A (zh) 切削装置
CN101992505A (zh) 切削装置
JP5495911B2 (ja) ダイシング装置並びに排水排気機構付きダイシング装置及びその環境制御方法
JP6053426B2 (ja) 洗浄装置
JP2011110631A (ja) 切削装置
JP2010114251A (ja) 切削装置
JP2016043421A (ja) 流体吸引装置
US6538573B2 (en) Eyeglass lens processing apparatus
KR20170113595A (ko) 반도체 장치를 세정하기 위한 낙하방지 장치와, 그 장치를 갖는 챔버
US20220344177A1 (en) Wafer processing apparatus and wafer processing method
JP2014079838A (ja) 研削装置
CN114985858B (zh) 一种带有清理装置的线切割机
KR20100117534A (ko) 다이싱 장치 및 배수 배기 기구가 부착된 다이싱 장치 및 그 환경 제어 방법
JP2010056312A (ja) ダイシング装置及びワーク洗浄乾燥方法
US20230127348A1 (en) Inkjet Recording Apparatus and Method for Cleaning Inkjet Recording Apparatus
JP5954978B2 (ja) バイト切削装置
CN106219785A (zh) 工件清洗水过滤净化循环系统
KR101909325B1 (ko) 노즐용 초음파 세척장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150824

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150908

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161011

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161129

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6053426

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250