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JP5939016B2 - 光学デバイス及び検出装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光学デバイス及び検出装置等に関する。
近年、医療診断や飲食物の検査等に用いられるセンサーチップの需要が増大しており、高感度かつ小型のセンサーチッブの開発が求められている。このような要求に応えるために、電気化学的な手法をはじめ様々なタイプのセンサーチップが検討されている。これらの中で、集積化が可能であること、低コスト、測定環境を選ばないこと等の理由から、表面プラズモン共鳴(SPR: Surface Plasmon Resonance)を利用した分光分析、特に表面増強ラマン散乱分光(SERS: Surface Enhanced Raman Scattering)用いたセンサーチップに対する関心が高まっている。
ここで、表面プラズモンとは、表面固有の境界条件により光とカップリングを起こす電子波の振動モードである。表面プラズモンを励起する方法としては、金属表面に回折格子を刻み、光とプラズモンを結合させる方法やエバネッセント波を利用する方法がある。例えば、SPRを利用したセンサーとしては、全反射型プリズムと、当該プリズムの表面に形成された標的物質に接触する金属膜と、を具備して構成されるものがある。このような構成により、抗原抗体反応における抗原の吸着の有無など、標的物質の吸着の有無を検出している。
ところで、金属表面に伝搬型の表面プラズモンが存在する一方、金属微粒子には局在型の表面プラズモンが存在する。局在型の表面プラズモン、つまり、表面の金属微細構造上に局在する表面プラズモンが励起された際には、著しく増強された電場が誘起されることが知られている。
更に、金属ナノ粒子を用いた局在表面プラズモン共鳴(LSPR:Localized Surface Plasmon Resonance)によって形成される増強電場にラマン散乱光が照射されると表面増強ラマン散乱現象によってラマン散乱光が増強されることが知られており、高感度のセンサー(検出装置)が提案されている。この原理を用いることで、各種の微量な物質を検出することが可能になる。
増強電場は、金属粒子の周囲、特に隣り合う金属粒子間の間隙で大きく、流体試料中の標的分子を金属粒子間の間隙に止まらせる必要がある。例えば、特許文献1や非特許文献1には、センサーチップの金属表面上に自己組織化単分子膜(SAM:Self-Assembled Monolayer)を形成している。
特開2009−222401号公報
非特許文献1では、SAM材料としてアルカンチオールを用いている。この種のチオール(SH基)化合物のSAMは、金属表面に特異的に結合する。よって、誘電体上に金属粒子を形成する場合、この種のSAMは、隣り合う金属粒子の間には形成されない。
一方、増強電場は隣り合う金属粒子間での強度が強いため、チオール化合物のSAMは、増強電場が強い金属粒子間にある標的物質を吸着することができない。
一方、特許文献1はSAM材料としてシランカップリング剤を開示し、シランカップリング剤を金属粒子間の基板上に形成している。ここで、増強電場の強度は金属粒子間の間隔に反比例する。ただし、金属粒子間の間隔を狭めると、金属粒子間に標的分子が入り込む確率が少なくなる。特許文献1は、金属粒子が矩形断面であり、金属粒子間の間隔は10nm以上とされていた。このように金属粒子間の間隔が広いと、十分な感度向上が期待できない。
本発明の幾つかの態様は、金属粒子間の誘電体上に有機分子膜を形成すると共に、金属粒子間の間隔を狭めながら標的分子が入り込み易い金属粒子形状して、感度を向上させることができる光学デバイス及び検出装置を提供することを目的とする。
(1)本発明の一態様は、
表面に誘電体を有する基板と、
前記誘電体上に形成される複数の金属粒子と、
前記金属粒子間の前記誘電体上に形成され、標的分子を付着する有機分子膜と、
を有し、
前記複数の金属粒子は平面視での粒子径が1〜500nmであり、隣り合う金属粒子間の間隔が0.1nm以上で10nm未満であり、
前記複数の金属粒子は、前記誘電体の表面を起点とする第1高さ位置と、前記起点からの高さが前記第1高さ位置よりも高い第2高さ位置と、を有し、隣り合う金属粒子間の前記第2高さ位置での間隔は前記第1高さ位置での間隔よりも広い、光学デバイスに関する。
本発明の一態様では、複数の金属粒子は平面視での粒子径が1〜500nmであると、隣り合う金属粒子間に増強電場が形成される。しかも、隣り合う金属粒子間の間隔が0.1nm以上で10nm未満と狭いため、金属粒子間の間隔と反比例する増強電場の強度を高めることができる。この増強電場が形成されるホットサイトである金属粒子間の誘電体上に有機分子膜を形成している。複数の金属粒子は、隣り合う金属粒子間の間隔が標的分子の入り口側で間口が広く形成されるので、金属粒子間の間隔を狭めて増強電場を高めながら、標的分子が有機分子膜に吸着される確率を高めることができる。それにより、ホットサイトにて標的分子を捕捉することができ、信号感度を向上させることができる。しかも、金属粒子に有機分子膜を形成すると、有機分子膜に付着した標的分子と金属粒子との距離は、有機分子膜の厚さに依存して大きくなる。信号感度は標的分子と金属粒子との距離に反比例するので、信号感度は有機分子膜の厚さに依存して低下することになる。その点、金属粒子間の誘電体上に有機分子膜を形成すると、有機分子膜に付着した標的分子と金属粒子間の距離は、有機分子膜の厚さに依存しない。
(2)本発明の一態様では、前記複数の金属粒子は、隣り合う金属粒子間の間隔が、前記隣り合う金属粒子がそれぞれ前記誘電体と接する2点間で最も狭くなる形状とすることができる。
金属粒子の表面との距離が最も短くなる位置で付着する標的分子とは、金属粒子が誘電体と接する位置の近傍の有機分子膜で付着した標的分子である。その位置での増強電場をより強くできるので、信号感度をより向上できる。
(3)本発明の一態様では、前記複数の金属粒子は、前記誘電体の表面からの高さを前記金属粒子径よりも小さくすることができる。
複数の金属粒子の誘電体の表面からの高さを金属粒子径よりも小さくすることで、間口の広い金属粒子間に取り込まれた標的分子は、比較的低い高さの金属粒子間にて誘電体上に形成された有機分子膜に付着されやすくなる。
(4)本発明の一態様では、前記有機分子膜の厚さを0.1〜5nmとすることができる。
隣り合う金属粒子間の間隔は誘電体表面に近いほど狭いので、誘電体表面からの距離が短い方が増強電場は強い。増強電場が強い位置にて標的分子を付着するために、有機分子膜の厚さを0.1〜5nmとしている。
(5)本発明の一態様では、前記有機分子膜は、有機シラン分子にて形成することができる。
シランとはSi(珪素)に4つの官能基が結合したものの総称であり、有機シラン分子は、Siに結合する4つの官能基のうち少なくとも1つが有機基である。有機シラン分子の有機基が標的分子を付着し、その他の官能基は誘電体表面が持つOH基と反応して誘電体表面に固定化される。
(6)本発明の一態様では、前記有機シラン分子は疎水基を有し、前記標的分子は疎水基を有することができる。
疎水基(例えばメチル基やフェニル基など)を持つ標的分子は、有機基として疎水基を有する有機シラン分子に吸着することができる。
(7)本発明の一態様では、前記有機分子は親水基を有し、前記標的分子は親水基を有することができる。
親水基(例えば水酸基やアミド基ポリエチレングリコールなど)を持つ標的分子には、有機基として親水基を有する有機シラン分子に吸着させることができる。
(8)本発明の他の態様は、
光源と、
前記光源からの光が入射される(1)〜(5)のいずれかの態様の光学デバイスと、
前記光学デバイスから出射された光を検出する光検出器と、
を有する検出装置に関する。
この検出装置は、標的分子の検出感度を向上させることができる。
本発明の実施形態に係る光学デバイスの断面図である。 図2(A)〜図2(D)は、表面増強ラマン散乱光の検出原理の説明図である。 金属粒子間距離とSERS強度との関係を示す特性図である。 金属表面から標的分子までの距離とSERS強度との関係を示す特性図である。 比較例の有機分子膜が捕捉する標的分子から金属粒子の表面までの距離を説明する図である。 本実施形態の有機分子膜が捕捉する標的分子から金属粒子の表面までの距離を説明する図である。 図7(A)〜図7(C)は有機分子膜としての有機シラン分子の一例を示す図である。 図7(C)の有機シラン分子の加水分解を示す図である。 図8に示す有機シラン分子のシラノール基が誘電体表面の水酸基と脱水縮合して誘電体の表面に固定化される状態を示す図である。 図10(A)(B)は有機基がメチル基およびフェニル基である有機シラン分子の例を示す図である。 有機シラン分子のさらに他の例であるHDMS(ヘキサメチルジシラザン)が誘電体に固定化される反応を示す図である。 比較例の金属粒子を示す図である。 本実施形態の金属粒子を示す図である。 本実施形態の金属粒子の形状を拡大して示す図である。 標的分子の基板表面からの距離とSERS強度との関係を示す特性図である。 有機分子膜を形成する気相法を示す図である。 有機分子膜の形成前と形成後の光学デバイスを用いて測定したSERS信号を示す特性図である。 本発明の第2実施形態に係る検出装置の全体構成を示す図である。 図18に示す検出装置の制御系ブロック図である。 図18に示す検出装置の光源を示す図である。 図18に示す光源に設けられた2つの共振器と歪付加部を示す図である。 図1に示す光デバイスの基本構造の変形例を示す図である。 金属粒子を金属アイランド構造とした変形例を示す図である。
以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお以下に説明する本実施形態は特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。
1.第1実施形態
1.1.光学デバイスの構造
図1に示す光学デバイス10は、基板12の最表面に誘電体16を有する。基板12自体が酸化物等の誘電体であってもよく、その場合、基板12は、ガラス、マイカ(雲母)、SiO、SnO、GeO、ZrO、TiO、Al、PZTなどにて形成できる。誘電体以外の材質の基板12上に、上述した誘電体16を形成しても良い。本実施形態では、例えばガラス基板12と誘電体16との間に金属(導体)膜14を有することができる。
誘電体16上には、複数の金属粒子18から成る金属微細構造20が形成されている。複数の金属粒子18は、周期Pにて配列することができる。周期Pは一定であるものに限らず、最小周期Pでランダム配置されていても良い。金属粒子18は、一次元配列であってもよく、二次元配列であってもよい。
金属粒子18は入射光の波長よりも小さいナノオーダーの金属ナノ粒子であり、平面視でのサイズ(粒径)が1〜500nmである。この入射光とは表面の金属微細構造上に局在する表面プラズモンを励起する励起光である。金属粒子18としては、例えば金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)もしくはこれらの合金或いは複合体が用いられる。金属粒子18は、絶縁体の凸部を被覆して形成されてもよい(図2(D)参照)。
金属膜14は、伝播型プラズモンの増強構造として形成され、平坦な膜(図1)あるいは、周期的な凹凸のある金属回折格子(後述の図22及び図23参照)などが適している。図1では、真空蒸着法又はスパッタ法で金(Au)の金属膜14を形成する例を示している。Au膜の厚さとしておよそ10nm〜数10nmが望ましい。金属の種類としては、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、タングステン(W)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)などが適している。
金属膜14上に形成される誘電体16としては、SiO、Al、TiOなどの酸化物が適しており、その厚さは、およそ10nm〜1000nmが望ましい。
1.2.光検出原理
図2(A)〜図2(D)を用いて、標的分子を反映した光検出原理の一例としてラマン散乱光の検出原理の説明図を示す。図2(A)に示すように、光学デバイス10に吸着される検出対象の標的分子1に入射光(振動数ν)が照射される。一般に、入射光の多くは、レイリー散乱光として散乱され、レイリー散乱光の振動数ν又は波長は入射光に対して変化しない。入射光の一部は、ラマン散乱光として散乱され、ラマン散乱光の振動数(ν−ν’及びν+ν’)又は波長は、標的分子1の振動数ν’(分子振動)が反映される。つまり、ラマン散乱光は、検査対象の標的分子1を反映した光である。入射光の一部は、標的分子1を振動させてエネルギーを失うが、標的分子1の振動エネルギーがラマン散乱光の振動エネルギー又は光エネルギーに付加されることもある。このような振動数のシフト(ν’)をラマンシフトと呼ぶ。
図2(B)に、標的分子に固有の指紋スペクトルとして、アセトアルデヒドの例を示す。この指紋スプクトルによって、検出した物質がアセトアルデヒドと特定することが可能である。しかしながら、ラマン散乱光は非常に微弱であり、微量にしか存在しない物質を検出することは困難であった。
図2(D)に示すように、入射光が入射された領域では、隣り合う金属粒子18間のギャップに、増強電場13が形成される。特に、図2(C)に示すように、入射光の波長λよりも小さな金属粒子18に対して入射光を照射する場合、入射光の電場は、金属粒子18の表面に存在する自由電子に作用し、共鳴を引き起こす。これにより、自由電子による電気双極子が金属粒子18内に励起され、入射光の電場よりも強い増強電場13が形成される。これは、局在表面プラズモン共鳴(LSPR:Localized Surface Plasmon Resonance)とも呼ばれる。この現象は、入射光の波長よりも小さな1〜500nmの凸部を有する金属粒子に特有の現象である。
本実施形態では、局在表面プラズモンと伝搬表面プラズモンとを併用することができる。伝搬表面プラズモンは、金属膜14が形成する伝搬構造によって形成することができる。例えば本出願人による特願2011―139526号に開示されているように金属膜14が凹凸の格子面であると、格子の凹凸に光が入射すると表面プラズモンが発生する。入射光の偏光方向を格子の溝方向と直交させておくと、金属格子内の自由電子の振動にともなって電磁波の振動が励起される。この電磁波の振動は自由電子の振動に影響するため、両者の振動が結合した系である表面プラズモンポラリトンが形成される。ただし、金属膜14が平坦であっても伝搬表面プラズモンは発生する。この表面プラズモンポラリトンは、金属膜14と誘電体16との界面に沿って伝搬し、増強電場13をさらに増強する。
1.3.有機分子膜を有する光学デバイス 本実施形態では、光学デバイス10は、図1に示すように、隣り合う金属粒子18の間の誘電体16上に有機分子膜30を有する。有機分子膜30は、標的分子を付着(捕捉)する吸着膜であり、例えば自己組織化単分子膜(SAM)にて形成することができる。
本実施形態では、金属粒子18間の誘電体16上に有機分子膜30が形成されるが、その金属粒子18間の間隔は、0.1nm以上で10nm未満である。
図3は、粒径が15nmのAgを金属粒子として、その金属粒子18間の間隔を横軸とし、縦軸をSERS強度としたFDTD(Finite-difference time-domain method:有限差分時間領域法)シミュレーション結果を示している。図3に示すように、金属粒子18間の間隔を狭くするとSERS強度は大きくなる。この理由は、金属粒子18間の間隔を狭くするほど、金属粒子18の間に生成される増強電場を強くできるからである。
そこで、本実施形態では、図3のシミュレーション結果に基づき、SERS強度が大きい範囲として、特許文献1に開示のない0.1以上10nm未満を金属粒子18間の間隔として採用した。
次に、SERS強度をIとし、金属粒子18の表面から標的分子1までの距離をrとしたときの、SERS強度Iと距離rとの関係は図4の通りとなる。図4から明らかなように、金属粒子18の表面から標的分子までの距離rが近いほどSERS強度Iは大きくなり、距離rが大きくなるに従ってSERS強度Iは著しく小さくなる。
このため、標的分子1が金属粒子18の表面に近ければ近いほど、標的分子を検出するセンサーとして高感度となる。
ところで、図5に示すように、金属粒子18の表面上にSAM30を形成した比較例では、SAM30の長さに依存する距離r1だけ金属粒子18の表面から離れて標的分子1が吸着することになる。
一方、金属粒子18間の誘電体16上にSAM30を形成した本実施形態を図6に示す。図6に示すように、金属粒子18の表面から標的分子1までの距離r2は、SAM30長さに依存せずに、標的分子1を金属粒子18の表面に近づけることができる(r2<r1)。このため、図6に示す本実施形態の光学デバイスでは標的分子1を反映した光(ラマン散乱光)の強度は、図5に示す比較例よりも大きくなり、センサー検出能力が高くなることが分かる。
1.4.有機分子膜
本実施形態に用いられる有機分子膜30は、概ね金属粒子18の表面よりも、誘電体16の表面に形成される。この有機分子膜30を使用する目的は、金属粒子18の表面に吸着されない標的分子1を検出対象とすることにある。
このような有機分子膜30として、有機シラン分子を挙げることができる。シランとはSi(珪素)に4つの官能基が結合したものの総称です。有機シラン分子とは、Siに結合する4つの官能基のうち少なくとも1つが有機基(アルキル基、フェニル基、アルケン、ポリエチレングリコール基など)であるものである。有機基が標的分子を付着(捕捉)する。
このうち、図7(A)(B)(C)に示すように、有機基R,R1−R3以外の官能基Xとして、ハロゲン基(Cl)、アルコキシ基(OCH、OC)が結合したものを挙げることができる。この有機シラン分子の官能基X(ハロゲン基またはアルコキシ基)は図8に示すように加水分解され、シラノール基Si−OHが生成する。このシラノール基Si−OHは、図9に示すように、図1の誘電体16表面の水酸基OHと脱水縮合して、誘電体16の表面に固定化される。このように、加水分解によってシラノール基Si−OHを生成する有機シラン分子はシランカップリング剤と称される。
官能基がアルコキシ基である有機シラン分子として、図10(A)に示すメチルトリメトキシシランCHSi(OCH、または図10(B)に示すジメトキシメチルフェニルシランCHSi(OCHを挙げることができる。
また、図11に示すように、HDMS(ヘキサメチルジシラザン)のような有機シラン分子においても、官能基N−Hが図1の誘電体16表面の水酸基OHと反応し、アンモニアNH3を発生して誘電体16の表面に固定化される。
なお、金属粒子18の最表面が自然酸化されたとしても、例えば酸化銀(Ag2O)表面は一般的にOH基にならないため、有機シラン分子と反応しない。
有機分子膜30は、標的分子1の種類によっても使い分けることができる。例えば、疎水基(例えばメチル基やフェニル基など)を持つ標的分子1には、有機基として疎水基を有する有機シラン分子(例えば、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなど)を用いることができる。
あるいは、親水基(例えば水酸基やアミド基ポリエチレングリコールなどを有するもの)を持つ標的分子1には、有機基として親水基を有する有機シラン分子(例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシランなど)を用いることができる。有機シラン分子の有機基である疎水基は、標的分子1の疎水基と結合し易く、有機シラン分子の有機基である親水基は、標的分子1の親水基と結合し易いからである。なお、図17にて後述するトルエンやイソプレンは疎水基を有する標的分子の例である。
1.5.金属粒子間の間口の広さ
図12及び図13は、金属粒子間の間隔を狭めた光学デバイスを示している。図12は、金属粒子40を矩形断面とした比較例を示している。図12に示すように、矩形断面の金属粒子40は、金属粒子40間の間隔が一定となり、間口が狭い。
図13は、本実施形態の金属粒子18の形状を示している。図13を拡大した図14に示すように、誘電体16の表面から第1高さ位置H1にて隣り合う金属粒子18間の第1間隔W1と、誘電体16の表面から第2高さ位置H2(H2>H1)にて隣り合う金属粒子18間の間隔W2との関係は、W2>W1である。
特に、図13及び図14では金属粒子18間の間口が広くなっている。特に、図13及び図14に示す金属粒子18は、隣り合う金属粒子18間の間隔が、その隣り合う金属粒子18がそれぞれ誘電体16と接する2点間で最も狭くなる形状である。図6から明らかように、金属粒子18の表面との距離r2が最も短くなる位置で捕捉される標的分子1とは、金属粒子18が誘電体16と接する位置の近傍の有機分子膜30で捕捉された標的分子1である。隣り合う金属粒子18間の間隔が最も狭いと増強電場は最も強く、金属粒子18の表面と標的分子1との距離r2が短いと信号強度は最も大きくなるの。
図13及び図14では、金属粒子18の輪郭は円弧のように湾曲している。この湾曲形状は、一つの曲率半径を有するものに限らず、複数の曲率半径の円弧を繋ぎ合わせた形状であってもよい。これらに代えて、金属粒子18を台形形状として、隣り合う金属粒子18の対向する斜面を利用して間口を広げても良い。なお、図14に示す右側の金属粒子18の円弧状の輪郭に所定高さ位置(例えばH2)で接する接線と、左側の金属粒子18の円弧状の輪郭に同一高さ位置H2で接する接線との交差角をθとすると、交差角θが大きいほど間口はより広くなる。
1.6.金属粒子の高さ
図12の比較例では、間口が狭いばかりか、誘電体16の表面からの金属粒子40の高さも高い。よって、標的分子1は金属粒子40間に入り込む確率が低いだけでなく、金属粒子40間に入り込んだ標的分子1が、誘電体16上に形成されSAM(図12では省略)に吸着される可能性も低い。
図13及び図14の構造では、誘電体16の表面からの金属粒子18の高さを低くしている。それにより、標的分子1は間口の広い金属粒子18間に入り込む確率が高くなるだけでなく、金属粒子18間に入り込んだ標的分子1が、誘電体16上に形成されSAM30(図13及び図14では省略)に吸着される可能性も高くなる。このことから、本実施形態では、誘電体16の表面からの金属粒子18の高さは、金属粒子径よりも小さくすることができる。
1.7.有機分子膜の厚さ
図13及び図14の構造では、金属粒子18が誘電体16と接する点にて、隣り合う金属粒子18間の間隔が最も狭い。従って、粒径50nmのAg粒子を用いたFDTDシミュレーション結果である図15に示すように、誘電体16上にてSERS強度が最も大きく、誘電体16から離れるほどSERS強度は低下する。よって、標的分子1が吸着される有機分子膜30の膜厚は小さいほど良い。このことから、有機分子膜30の厚さは0.1〜5nmとすることができる。但し、この誘電体16からの距離によるSERS強度の減衰は、図4の金属粒子18表面からの距離によるSERS強度の減衰に比べると十分に小さいため、金属粒子18の表面上にSAM30を形成した場合よりも、誘電体16上にSAM30を形成した方が有利なことに変わりはない。
1.8.実施例
ガラス基板12上に金属粒子18の材料である銀(Ag)を10nm蒸着し、ガラス基板12上に銀の金属粒子18が直径約70nm程度、高さ約20nm程度、金属粒子18間の間隔が約5nmのアイランド構造により金属微細構造20を形成した。次に、図16に示す6mlの容器50にSAM形成溶液材料51であるHMDS(ヘキサメチルジシラザン)を1ml入れ、室温・大気圧下で2時間静置し、気体となったSAM膜材料52を金属粒子18間の誘電体16上に付着させて、有機分子膜30としてHMDSSAMを形成させた。
有機分子膜30の形成前と形成後の2種類の光学デバイスをセンサーチップとして用いて、トルエンおよびイソプレンの気体分子をSERSにより検出した結果を図17に示す。図17は、2mWのレーザー光源から波長632.8nmの光を光学デバイスに入射させ、露光時間を60秒として測定した結果である。
図17に示すように、有機分子膜30が形成された光学デバイスでは、それぞれの標的分子の特徴的なラマンスペクトル(トルエン:1006cm−1、イソプレン:1632cm−1)のピーク強度(カウント数)が大きくなっている。よって、有機分子膜30が形成されていない金属微細構造のみではSERS検出不可能であった標的分子を、本実施形態の光学デバイスにより検出が可能となっている。
2.第2実施形態
2.1.検出装置の全体構成
次に、第2実施形態として、検出装置の全体構成について説明する。図18は、本実施形態の検出装置の具体的な構成例を示す。図18に示される検出装置100は、吸引口101A及び除塵フィルター101Bを有する試料供給流路101、排出口102Aを有する試料排出流路102、図4に示す構造を有する光学デバイス(センサーチップ)103等を備えた光学デバイスユニット110を有する。光学デバイス103には、光が入射される。検出装置100の筐体120は、ヒンジ部121により開閉可能なセンサーカバー122備える。光学デバイスユニット110は、センサーカバー122内にて、筐体120に対して着脱自在に配置される。光学デバイスユニット110が装着/非装着状態は、センサー検出器123により検出できる。
試料供給流路101及び試料排出流路102は、迂回して形成されることで、外光が入射し難い構造となっている。
なお、流体試料を吸引及び排出する経路形状については、外部からの光がセンサーに入らないように、かつ、流体試料に対する流体抵抗が小さくなるように、夫々考慮されたものなっている。外光が光学デバイス103に入らないようにすることで、ラマン散乱光以外の雑音となる光が入らず、信号のS/N比が向上する。流路形状と共に、流路を形成する材料も、光を反射し難いような材料、色、表面形状を選択することが必要となる。また、流体試料に対する流体抵抗が小さくなるようにすることで、この装置の近傍の流体試料を多く収集でき、高感度な検出が可能になる。流路の形状は、できるだけ角部をなくし滑らかな形状にすることで、角部での滞留がなくなる。また、流体排出流路102に設けられる負圧発生部103としては、流路抵抗に応じた静圧、風量のファンやポンプを選択することも必要である。
筐体120内には、光源130、光学系131と、光検出部132と、信号処理・制御部133と、電力供給部134とが設けられている。
図18において、光源130は例えばレーザーであり、小型化の観点から好ましくは垂直共振型面発光レーザーを用いることができるが、これに限定されない。
光源130からの光は、光学系131を構成するコリメーターレンズ131Aにより平行光にされる。コリメーターレンズ131Aの下流に偏光制御素子を設け、直線偏光に変換しても良い。ただし、光源130として例えば面発光レーザーを採用し、直線偏光を有する光を発光可能であれば、偏光制御素子を省略することができる。
コリメーターレンズ131Aにより平行光された光は、ハーフミラー(ダイクロイックミラー)131Bにより光学デバイス103の方向に導かれ、対物レンズ131Cで集光され、光学デバイス103に入射する。光学デバイス103からのレイリー散乱光及びラマン散乱光は、対物レンズ131Cを通過し、ハーフミラー131Bによって光検出部132の方向に導かれる。
光学デバイス103からのレイリー散乱光及びラマン散乱光は、集光レンズ131Dで集光されて、光検出部132に入力される。光検出部132では先ず、光フィルター132Aに到達する。光フィルター132A(例えばノッチフィルター)によりラマン散乱光が取り出される。このラマン散乱光は、さらに分光器132Bを介して受光素子132Cにて受光される。分光器132Bは、例えばファブリペロー共振を利用したエタロン等で形
成されて通過波長帯域を可変とすることができる。分光器132Bを通過する光の波長は、信号処理・制御回路133により制御(選択)することができる。受光素子132Cによって、標的分子1に特有のラマンスペクトルが得られ、得られたラマンスペクトルと予め保持するデータと照合することで、標的分子1を特定することができる。
電力供給部134は、電源接続部135からの電力を、光源130、光検出部132、信号処理・制御部133及びファン104等に供給する。電力供給部134は、例えば2次電池で構成することができ、1次電池、ACアダプター等で構成してもよい。通信接続部136は信号処理・制御部133と接続され、信号処理・制御部133に対してデータや制御信号等を媒介する。
図18の例では、信号処理・制御部133は、図18に示される光源130以外の光検出部132、ファン104等への命令を送ることができる。さらに、信号処理・制御部133は、ラマンスペクトルによる分光分析を実行することができ、信号処理・制御部133は、標的分子1を特定することができる。なお、信号処理・制御部133は、ラマン散乱光による検出結果、ラマンスペクトルによる分光分析結果等を例えば通信接続部136に接続される外部機器(図示せず)に送信することができる。
図19は、図18に示す検出装置100の制御系ブロック図である。図19に示されるように、検出装置100は、例えばインターフェース140、表示部150及び操作パネル160等をさらに含むことができる。また、図19に示される信号処理・制御部133は、制御部としての例えばCPU(Central Processing Unit)133A、RAM(Random Access Memory)133B、ROM(Read Only Memory)133C等を有することができる。
さらに、検出装置100は、図18に示す各部を駆動する光源駆動回路130A、分光器駆動回路132B1、センサー検出回路123A、受光回路132C1、ファン駆動回路104A等を含むことができる。
2.2.光源
図20は、図18に示す光源130である垂直共振器面発光レーザーの構造例を示す。図20の例では、n型GaAs基板200の上にn型DBR(Diffracted Bragg Reflector)層201が形成される。n型DBR(Diffracted Bragg Reflector)層201の中央部に活性層202及び酸化狭窄層203が設けられる。酸化狭窄層203の上にp型DBR層204を設ける。これらの周辺部には絶縁層205を介して電極206を形成する。n型GaAs基板200の裏側にも電極207を形成する。図20の例では、n型DBR層201とp型DBR層204との間に活性層202が介在し、活性層202で発生した光がn型DBR層201とp型DBR層204との間で共振する垂直共振器210が形成される。なお、垂直共振器面発光レーザーは、図20の例に限定されず、例えば酸化狭窄層203を省略してもよい。
図18に示す光源130は、基板面に対して垂直方向に光を共振させ、基板面と垂直な方向(光源の光軸)に光を放出可能な垂直共振器面発光レーザー(広義には面発光レーザー)であることが好ましい。垂直共振器面発光レーザーを利用することで、単色(単一波長)で且つ直線偏光である光源を構成することができる。また、垂直共振器面発光レーザーは、小型化することが可能であり、携帯型の検出装置への組み込みに適している。また、垂直共振器面発光レーザーの構造から、製造工程では基板を劈開せずとも共振器210の形成やレーザー特性の検査が可能であり、大量生産に向いている。さらに、垂直共振器面発光レーザーは、他の半導体レーザーに比べて比較的安価に製造が可能であり、例えば2次元アレー型の垂直共振器面発光レーザーを提供することもできる。加えて、垂直共振器面発光レーザーの閾値電流が小さく、従って、検出装置100の消費電力を低減させることができる。また、低電流でも垂直共振器面発光レーザーの高速変調が可能であり、垂直共振器面発光レーザーの温度変化に対する特性変化の幅が少なく、垂直共振器面発光レーザーの温度制御部を簡易化できる。
ここで、従来の面発光型半導体レーザーから出射されるレーザー光の偏光面を特定の方位へ制御することが困難で、光出力や環境温度に依存して偏光面が変動したり、スイッチングを起こす問題点があった。それを克服するために、特許3482824号に記載されているように、図21に示す共振器210に隣接して歪み付加部220を配置することができる。歪み付加部220は共振器210に異方的な応力をあたえ、歪ませることによって、複屈折、利得の偏光依存性を共振器内に生じさせる。共振器210の周辺部に歪み付加部220を設けることで、安定した面偏光制御が可能になる。
なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義又は同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また光学デバイス、検出装置、分析装置等の構成、動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。
図22には、例えば図1に示す平坦な金属膜14を凹凸のある金属膜14Aに置き換えた例を示す。この構造は、上述した通り本出願人による特願2011―139526号に開示された構造である。金属膜14Aの凹凸の周期は、金属粒子18の配列周期よりも例えば10倍以上大きい。このように金属膜14が凹凸の格子面であると、格子の凹凸に光が入射すると表面プラズモンを発生させることができ、伝搬プラズモンを増強させることができる。
図23に、図22の金属粒子18を例えば40nm厚のSiO層(誘電体層)16上にAgの金属アイランドとして形成したものを示す。なお、図22では誘電体16の表面が平坦化されているが、図23では平坦化されず、例えばAuから成る金属膜14の凹凸パターンが誘電体16表面に反映している。つまり、誘電体16表面は平坦化されていてもされていなくてもよい。図23に示すAg粒子の大きさには20〜80nmの範囲でばらつきがあり、しかも周期性がない。このように形成された金属アイランドは、表面張力により外表面が湾曲するので、図1に示す金属粒子18の断面形状を得ることができる。
1 標的分子、12 光学デバイス(センサーチップ)、14 金属膜、16 誘電体、18 金属粒子、20 金属微細構造、30 有機分子膜(SAM)、100 検出装置、130 光源、132 光検出器

Claims (8)

  1. 表面に誘電体を有する基板と、
    前記誘電体上に形成される複数の金属粒子と、
    前記金属粒子間の前記誘電体上に形成され、標的分子を付着する有機分子膜と、
    を有し、
    前記複数の金属粒子は平面視での粒子径が1〜500nmであり、隣り合う金属粒子間の間隔が0.1nm以上で10nm未満であり、
    前記複数の金属粒子は、前記誘電体の表面を起点とする第1高さ位置と、前記起点からの高さが前記第1高さ位置よりも高い第2高さ位置と、を有し、隣り合う金属粒子間の前記第2高さ位置での間隔は前記第1高さ位置での間隔よりも広いことを特徴とする光学デバイス。
  2. 請求項1において、
    前記複数の金属粒子は、隣り合う金属粒子間の間隔が、前記隣り合う金属粒子がそれぞれ前記誘電体と接する2点間で最も狭くなる形状であることを特徴とする光学デバイス。
  3. 請求項1または2において、
    前記複数の金属粒子は、前記誘電体の表面からの高さが前記複数の金属粒子の粒子径よりも小さいことを特徴とする光学デバイス。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項において、
    前記有機分子膜の厚さが0.1〜5nmであることを特徴とする光学デバイス。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項において、
    前記有機分子膜は、有機シラン分子にて形成されることを特徴とする光学デバイス。
  6. 請求項5において、
    前記有機シラン分子は疎水基を有し、
    前記標的分子は疎水基を有することを特徴とする光学デバイス。
  7. 請求項5において、
    前記有機分子は親水基を有し、
    前記標的分子は親水基を有することを特徴とする光学デバイス。
  8. 光源と、
    前記光源からの光が入射される請求項1乃至5のいずれか1項記載の光学デバイスと、
    前記光学デバイスから出射された光を検出する光検出器と、
    を有することを特徴とする検出装置。
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