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JP5929321B2 - Multilayer coil parts - Google Patents

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JP5929321B2 JP2012045631A JP2012045631A JP5929321B2 JP 5929321 B2 JP5929321 B2 JP 5929321B2 JP 2012045631 A JP2012045631 A JP 2012045631A JP 2012045631 A JP2012045631 A JP 2012045631A JP 5929321 B2 JP5929321 B2 JP 5929321B2
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Description

本発明は、積層型コイル部品に関する。   The present invention relates to a laminated coil component.

従来の積層型コイル部品として、例えば特許文献1に記載されているものが知られている。この積層型コイル部品では、ガラスセラミックのシート上にコイル導体の導体パターンを形成し、各シートを積層すると共に各シートにおけるコイル導体を電気的に接続し、焼成することによって内部にコイル部が配置された素体が形成される。また、素体の両端面に、コイル部の端部と電気的に接続された外部電極部が形成されている。   As a conventional multilayer coil component, for example, one described in Patent Document 1 is known. In this laminated coil component, a coil conductor is formed on a glass ceramic sheet, the sheets are laminated, the coil conductors in each sheet are electrically connected, and the coil portion is placed inside by firing. The formed element body is formed. In addition, external electrode portions electrically connected to the end portions of the coil portions are formed on both end faces of the element body.

特開平11−297533号公報JP-A-11-297533

ここで、積層型コイル部品は、その構造や製造方法などの理由などにより、ワイヤを巻回した巻線コイルに比してQ(quality factor)値が低かった。しかしながら、近年特に高周波に対応できる部品が要求されることに伴い、積層型コイル部品に対しても、高いQ値が要求されている。従来の積層型コイル部品では、このような要求を満たすまでの、高いQ値を実現することができなかった。高いQ値が得られるとしても、素体の強度が弱い場合は、応力や衝撃によって割れや欠けが生じるという問題がある。   Here, the multilayer coil component has a lower Q (quality factor) value than a wound coil wound with a wire due to reasons such as its structure and manufacturing method. However, with the recent demand for components that can cope with high frequencies in particular, high Q values are also required for laminated coil components. Conventional multilayer coil components have not been able to realize a high Q value until such a requirement is satisfied. Even if a high Q value is obtained, if the strength of the element body is weak, there is a problem that cracking or chipping occurs due to stress or impact.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、高いQ値を得ることができ、かつ、応力に強い積層型コイル部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a multilayer coil component that can obtain a high Q value and is resistant to stress.

コイルのQ値を上げるためには、コイル導体の表面の平滑性を上げることが好適である。そして、本発明者らは、コイル導体の表面の平滑性を上げるために、素体のセラミックを非晶質とすることが効果的であることを見出している。素体が結晶質であると、当該素体の表面の凹凸の影響により、そこに接するコイル導体の表面も凹凸が大きくなり、平滑性が低くなる(例えば、図3(a)を参照)。一方、素体が非晶質であると、当該素体の滑らかな表面の影響により、そこに接するコイル導体の表面も滑らかになり、平滑性が高くなる(例えば、図3(b)を参照)。   In order to increase the Q value of the coil, it is preferable to increase the smoothness of the surface of the coil conductor. The inventors of the present invention have found that it is effective to make the base ceramic amorphous so as to increase the smoothness of the surface of the coil conductor. When the element body is crystalline, the surface of the coil conductor in contact with the element body becomes uneven due to the influence of the unevenness on the surface of the element body, and the smoothness becomes low (see, for example, FIG. 3A). On the other hand, if the element body is amorphous, the surface of the coil conductor in contact with the element body becomes smooth due to the influence of the smooth surface of the element body, and the smoothness becomes high (see, for example, FIG. 3B). ).

ここで、本発明者らは、素体を非晶質とした場合、素体の強度が弱くなってしまい、外的応力や衝撃によって割れや欠けが生じてしまうという問題があることを見出した。そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、好適な積層型コイル部品の構成を見出すに至った。   Here, the present inventors have found that when the element body is amorphous, the strength of the element body is weakened, and there is a problem that cracks and chips are generated due to external stress and impact. . Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have found a suitable configuration of a laminated coil component.

すなわち、本発明に係る積層型コイル部品は、複数の絶縁体層を積層することによって形成される素体と、複数のコイル導体によって素体の内部に形成されるコイル部と、を備え、素体は、内部にコイル部が配置される、ガラスセラミックスからなる非晶質のコイル部配置層と、コイル部配置層を補強する、ガラスセラミックスからなる結晶質の補強層と、コイル部配置層と補強層との間に形成され、他の部分よりも高い空孔率を有する応力緩和層と、を備えることを特徴とする。   That is, a multilayer coil component according to the present invention includes an element body formed by laminating a plurality of insulator layers, and a coil portion formed inside the element body by a plurality of coil conductors. The body includes an amorphous coil part arrangement layer made of glass ceramics, in which a coil part is arranged, a crystalline reinforcement layer made of glass ceramics that reinforces the coil part arrangement layer, and a coil part arrangement layer A stress relieving layer formed between the reinforcing layer and having a higher porosity than the other portions.

本発明に係る積層型コイル部品では、素体が、内部にコイル部が配置されるコイル部配置層と、当該コイル部配置層を補強する補強層と、を有している。コイル部配置層は、ガラスセラミックスからなる非晶質の層であるため、内部に配置されるコイル導体の表面の平滑性を向上させることができ、これにより積層型コイル部品のQ値を上げることができる。また、補強層はガラスセラミックスからなる結晶質の層であるため、非晶質のコイル部配置層を補強することができる。更に、素体は、コイル部配置層と補強層との間に応力緩和層を備えている。この応力緩和層は、他の部分よりも高い空孔率を有しているため、コイル部配置層と補強層との間で素体に作用する応力を緩和することができる。以上によって、積層型コイル部品のQ値を向上させることができ、かつ、応力に対して強くすることができる。   In the multilayer coil component according to the present invention, the element body has a coil part arrangement layer in which the coil part is arranged, and a reinforcing layer that reinforces the coil part arrangement layer. Since the coil portion arrangement layer is an amorphous layer made of glass ceramics, it can improve the smoothness of the surface of the coil conductor arranged inside, thereby increasing the Q value of the multilayer coil component. Can do. Further, since the reinforcing layer is a crystalline layer made of glass ceramics, the amorphous coil portion arrangement layer can be reinforced. Furthermore, the element body includes a stress relaxation layer between the coil portion arrangement layer and the reinforcing layer. Since this stress relaxation layer has a higher porosity than other portions, it is possible to relieve stress acting on the element body between the coil portion arrangement layer and the reinforcing layer. As described above, the Q value of the multilayer coil component can be improved and can be strengthened against stress.

また、本発明に係る積層型コイル部品において、応力緩和層の空孔率は、8〜30%であることが好ましい。応力緩和層の空孔率を当該範囲とすることで、十分な応力緩和性能を確保することができる。また、空孔率が高すぎる場合は、吸湿による経年劣化や強度が不足するが、応力緩和層の空孔率を30%以下としておくことで、経年劣化や強度不足を抑制することができる。   In the multilayer coil component according to the present invention, the stress relaxation layer preferably has a porosity of 8 to 30%. By setting the porosity of the stress relaxation layer in this range, sufficient stress relaxation performance can be ensured. Moreover, when the porosity is too high, aging deterioration and strength due to moisture absorption are insufficient, but by setting the porosity of the stress relaxation layer to 30% or less, aging deterioration and insufficient strength can be suppressed.

また、本発明に係る積層型コイル部品において、コイル部配置層は、0.7〜1.2重量%のKOを含有することが好ましい。これによって、低温で焼結することができ、コイル部配置層を非晶質とすることができる。 In the multilayer coil component according to the present invention, the coil portion arrangement layer preferably contains 0.7 to 1.2% by weight of K 2 O. Thereby, it can sinter at low temperature and a coil part arrangement | positioning layer can be made amorphous.

また、本発明に係る積層型コイル部品において、補強層のKOの含有率は、前記コイル部配置層のKOの含有率よりも小さいことが好ましい。これにより、コイル部配置層から補強層へKが拡散することにより、コイル部配置層における境界部分付近に応力緩和層を形成することができる。 In the multilayer coil component according to the present invention, the K 2 O content of the reinforcing layer is preferably smaller than the K 2 O content of the coil portion arrangement layer. Thereby, when K diffuses from the coil part arrangement layer to the reinforcing layer, a stress relaxation layer can be formed in the vicinity of the boundary part in the coil part arrangement layer.

本発明によれば、積層型コイル部品のQ値を高くすることができる。   According to the present invention, the Q value of the multilayer coil component can be increased.

本発明の実施形態に係る積層型コイル部品を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated coil component which concerns on embodiment of this invention. コイル導体の表面の平滑性と表面抵抗の関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the relationship between the smoothness of the surface of a coil conductor, and surface resistance. 素体の状態とコイル導体の表面の平滑性の関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the relationship between the state of an element body, and the smoothness of the surface of a coil conductor. 応力緩和層が形成される様子を示す模式図、及び各層の様子を示す拡大図である。It is the schematic diagram which shows a mode that a stress relaxation layer is formed, and the enlarged view which shows the mode of each layer.

以下、図面を参照しながら、本発明に係る積層型コイル部品の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a multilayer coil component according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態に係る積層型コイル部品を示す断面図である。図1に示すように、積層型コイル部品1は、複数の絶縁体層を積層することによって形成される素体2と、複数のコイル導体4,5によって素体2の内部に形成されるコイル部3と、素体2の両端面に形成される一対の外部電極6と、を備えている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated coil component according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the laminated coil component 1 includes an element body 2 formed by laminating a plurality of insulator layers, and a coil formed inside the element body 2 by a plurality of coil conductors 4 and 5. The part 3 and a pair of external electrodes 6 formed on both end faces of the element body 2 are provided.

素体2は、セラミックグリーンシートを複数積層させた焼結体からなる直方体状または立方体状の積層体である。素体2の大きさは、長さ0.3〜1.7mm、幅0.1〜0.9mm、高さ0.1〜0.9mm程度に設定されている。素体2は、内部にコイル部3が配置されるコイル部配置層2Aと、当該コイル部配置層2Aを挟むように一対設けられる補強層2Bと、コイル部配置層2Aと補強層2Bとの間に形成される応力緩和層2Cと、を備えている。コイル部配置層2Aは、ガラスセラミックスからなる非晶質の層である。コイル部配置層2Aの厚さは、0.1mm以上に設定されている。補強層2Bは、ガラスセラミックスからなる結晶質の層である。補強層2Bは、非晶質のコイル部配置層2Aの強度を補強する機能を有している。また、補強層2Bは、コイル部配置層2Aの焼結時の形状を保つ機能も有している。補強層2Bの厚さは、5μm以上に設定されている。応力緩和層2Cは、内部に多数の空孔を有するセラミックスからなる層である。応力緩和層2Cは、素体2に作用する応力を緩和する機能を有している。応力緩和層2Cの厚さは、10〜25μm程度に設定されている。補強層2Bは、コイル部配置層2Aの端面のうち、積層方向において対向する端面2a及び端面2bの全面を覆うように形成されている。また、応力緩和層2Cは、コイル部配置層2Aと補強層2Bとの間において、端面2a及び端面2bの全面を覆うように形成されている。   The element body 2 is a rectangular parallelepiped or cubic laminate made of a sintered body in which a plurality of ceramic green sheets are laminated. The size of the element body 2 is set to a length of about 0.3 to 1.7 mm, a width of 0.1 to 0.9 mm, and a height of about 0.1 to 0.9 mm. The element body 2 includes a coil part arrangement layer 2A in which the coil part 3 is arranged, a reinforcing layer 2B provided so as to sandwich the coil part arrangement layer 2A, and a coil part arrangement layer 2A and a reinforcement layer 2B. A stress relaxation layer 2C formed therebetween. The coil portion arrangement layer 2A is an amorphous layer made of glass ceramics. The thickness of the coil portion arrangement layer 2A is set to 0.1 mm or more. The reinforcing layer 2B is a crystalline layer made of glass ceramics. The reinforcing layer 2B has a function of reinforcing the strength of the amorphous coil portion arrangement layer 2A. The reinforcing layer 2B also has a function of maintaining the shape of the coil portion arrangement layer 2A during sintering. The thickness of the reinforcing layer 2B is set to 5 μm or more. The stress relaxation layer 2C is a layer made of ceramics having a large number of pores inside. The stress relaxation layer 2 </ b> C has a function of relaxing stress acting on the element body 2. The thickness of the stress relaxation layer 2C is set to about 10 to 25 μm. The reinforcing layer 2B is formed so as to cover the entire end face 2a and end face 2b facing each other in the stacking direction, among the end faces of the coil portion arrangement layer 2A. The stress relaxation layer 2C is formed so as to cover the entire end surface 2a and the end surface 2b between the coil portion arrangement layer 2A and the reinforcing layer 2B.

コイル部配置層2Aは、主成分として、ホウケイ酸ガラス成分を35〜60重量%含有し、石英成分を15〜35重量%含有し、残部にアモルファスシリカ成分を含有し、副成分として、アルミナを含有し、アルミナの含有量が、前記主成分100重量%に対して、0.5〜2.5重量%含有する。且つ、コイル部配置層2Aは、焼成後において、SiOが86.7〜92.5重量%、Bが6.2〜10.7重量%、KOが0.7〜1.2重量%、Alが0.5〜2.4重量%の組成を有する。コイル部配置層2Aが、86.7〜92.5重量%のSiOを含有することによって、コイル部配置層2Aの誘電率を小さくすることができる。また、コイル部配置層2Aが、0.5〜2.4重量%のAlを含有することによって、コイル部配置層2Aでの結晶転移を防止することができる。コイル部配置層2Aが、0.7〜1.2重量%のKOを含有することによって、低温(800〜950℃)で焼結され、コイル部配置層2Aを非晶質層にすることができる。なお、MgO、CaOを1.0重量%以下含有してもよい。 The coil portion arrangement layer 2A contains 35-60% by weight of a borosilicate glass component as a main component, 15-35% by weight of a quartz component, an amorphous silica component in the balance, and alumina as a subcomponent. The content of alumina is 0.5 to 2.5% by weight with respect to 100% by weight of the main component. And a coil portion disposed layer 2A is after sintering, SiO 2 is from 86.7 to 92.5 wt%, B 2 O 3 is 6.2 to 10.7 wt%, K 2 O is 0.7 to 1 .2 wt%, Al 2 O 3 has a composition of 0.5 to 2.4 wt%. Coil unit arrangement layer 2A is, by containing SiO 2 of 86.7 to 92.5 wt%, it is possible to reduce the dielectric constant of the coil portion disposed layer 2A. The coil unit arrangement layer 2A is, by containing Al 2 O 3 of 0.5 to 2.4 wt%, it is possible to prevent the crystal transition of the coil portion disposed layer 2A. Coil unit arrangement layer 2A is, by containing 0.7 to 1.2 wt% of K 2 O, is sintered at a low temperature (800 to 950 ° C.), the coil portion disposed layer 2A on the amorphous layer be able to. In addition, you may contain 1.0 weight% or less of MgO and CaO.

補強層2Bは、主成分として、ガラス成分を50〜70重量%含有し、アルミナ成分を30〜50重量%含有している。且つ、補強層2Bは、焼成後において、SiOが23〜42重量%、Bが0.25〜3.5重量%、Alが34.2〜58.8重量%、アルカリ土類金属酸化物12.5〜31.5重量%の組成を有し、該アルカリ土類金属酸化物中の60重量%以上(すなわち補強層2B全体の7.5〜31.5重量%)がSrOである。 The reinforcing layer 2B contains 50 to 70% by weight of a glass component and 30 to 50% by weight of an alumina component as main components. And the reinforcing layer 2B is after sintering, SiO 2 is 23 to 42 wt%, B 2 O 3 is 0.25 to 3.5 wt%, Al 2 O 3 is from 34.2 to 58.8 wt%, The alkaline earth metal oxide has a composition of 12.5 to 31.5% by weight, and is 60% by weight or more in the alkaline earth metal oxide (that is, 7.5 to 31.5% by weight of the entire reinforcing layer 2B). ) Is SrO.

応力緩和層2Cは、コイル部配置層2A及び補強層2Bに比して、高い空孔率を有したセラミックの層である。応力緩和層2Cの空孔率は、8〜30%であることが好ましく、10〜25%であることがより好ましい。応力緩和層2Cの空孔率を当該範囲とすることで、十分な応力緩和性能を確保することができる。また、空孔率が高すぎる場合は、吸湿による経年劣化や強度が不足するが、応力緩和層2Cの空孔率を30%以下、より好ましくは25%以下としておくことで、経年劣化や強度不足を抑制することができる。なお、「空孔率」とは、焼成後のセラミック破断面のSEM像を、画像解析を用いて、観察視野の応力緩和層2Cに示す空孔の割合(観察視野全体の面積に対する、空孔が占めている面積)を算出することによって定められる値である。   The stress relaxation layer 2C is a ceramic layer having a higher porosity than the coil portion arrangement layer 2A and the reinforcing layer 2B. The porosity of the stress relaxation layer 2C is preferably 8 to 30%, and more preferably 10 to 25%. By setting the porosity of the stress relaxation layer 2C within the range, sufficient stress relaxation performance can be ensured. In addition, when the porosity is too high, aging deterioration and strength due to moisture absorption are insufficient, but by setting the porosity of the stress relaxation layer 2C to 30% or less, more preferably 25% or less, aging deterioration and strength The shortage can be suppressed. The “porosity” refers to the ratio of the vacancy shown in the stress relaxation layer 2C in the observation visual field using the image analysis of the SEM image of the ceramic fracture surface after firing (the vacancy ratio relative to the entire area of the observation visual field. This is a value determined by calculating the area occupied by.

具体的に、応力緩和層2Cは、コイル部配置層2Aを構成する非晶質のセラミックの層が内部に多数の空孔を有することによって形成される。上述の組成を有するコイル部配置層2Aのセラミックグリーンシートと、上述の組成を有する補強層2Bのセラミックグリーンシートを積層して焼成すると、図4(a)に示すように、両層の境界付近において、KやB等の拡散が起きる。すなわち、コイル部配置層2AのKやB等の成分(図中Mで示す)が、当該コイル部配置層2Aに比してそれらの成分が少ない補強層2Bへ拡散する。これにより、境界付近における非晶質の層でのKやB等の成分が減少することで組成のバランスが崩れ、当該領域が十分に焼結されない。このように十分な焼結が起きないことにより、当該領域での粒成長が十分に行われないこととなり、その結果として図4(b)に示すような空孔Hが形成される。応力緩和層2Cの空孔率の調整は、境界部分におけるコイル部配置層2Aのセラミックグリーンシート及び補強層2Bのセラミックグリーンシートの成分調整を行うことによって行われる。なお、両セラミックグリーンシートの成分調整を行うことにより、補強層2Bからコイル部配置層2AにKやB等の成分が拡散するようにし、補強層2Bを構成する結晶質のセラミックスの層に空孔を形成して応力緩和層2Cを形成してもよい。ただし、補強層2BのKOの含有率は、コイル部配置層2AのKOの含有率よりも小さくし、コイル部配置層2A側に応力緩和層2Cを形成するようにすることが好ましい。 Specifically, the stress relaxation layer 2C is formed by an amorphous ceramic layer constituting the coil portion arrangement layer 2A having a large number of holes therein. When the ceramic green sheet of the coil portion arrangement layer 2A having the above composition and the ceramic green sheet of the reinforcing layer 2B having the above composition are laminated and fired, as shown in FIG. , Diffusion of K, B, etc. occurs. That is, components such as K and B (indicated by M in the drawing) of the coil portion arrangement layer 2A diffuse into the reinforcing layer 2B having fewer components than the coil portion arrangement layer 2A. As a result, the composition balance is lost due to a decrease in components such as K and B in the amorphous layer near the boundary, and the region is not sufficiently sintered. Since sufficient sintering does not occur in this way, grain growth in the region is not sufficiently performed, and as a result, voids H as shown in FIG. 4B are formed. The porosity of the stress relaxation layer 2C is adjusted by adjusting the components of the ceramic green sheet of the coil portion arrangement layer 2A and the ceramic green sheet of the reinforcing layer 2B at the boundary portion. By adjusting the components of both ceramic green sheets, components such as K and B are diffused from the reinforcing layer 2B to the coil portion arranging layer 2A, and the crystalline ceramic layer constituting the reinforcing layer 2B is empty. A hole may be formed to form the stress relaxation layer 2C. However, the K 2 O content of the reinforcing layer 2B is made smaller than the K 2 O content of the coil portion arrangement layer 2A, and the stress relaxation layer 2C is formed on the coil portion arrangement layer 2A side. preferable.

なお、応力緩和層2Cを形成するための方法は、上述のようにコイル部配置層2Aのセラミックグリーンシート及び補強層2Bのセラミックグリーンシートの成分調整による方法以外の方法を採用してもよい。例えば、コイル部配置層2Aのセラミックグリーンシートと、補強層2Bのセラミックグリーンシートとの間に、樹脂の粒を含んだグリーンシートを介在させてもよい。このグリーンシートでは、焼成によって樹脂の粒が焼失して空孔となる。これにより、当該グリーンシートの部分が応力緩和層2Cとなる。なお、このときのグリーンシートの成分は特に限定されない。あるいは、境界部分におけるコイル部配置層2Aのセラミックグリーンシート(絶縁体ペースト)及び/または補強層2Bのセラミックグリーンシート(絶縁体ペースト)の樹脂量を多くしておいてもよい。これにより、当該部分では樹脂が多いために焼成によって空孔が形成され、応力緩和層2Cとなる。なお、樹脂量を多くして空孔を形成する場合、樹脂量はセラミック粉重量に対して20〜30重量%とすることが好ましい。   In addition, as a method for forming the stress relaxation layer 2C, a method other than the method by adjusting the components of the ceramic green sheet of the coil portion arrangement layer 2A and the ceramic green sheet of the reinforcing layer 2B as described above may be employed. For example, a green sheet containing resin particles may be interposed between the ceramic green sheet of the coil portion arrangement layer 2A and the ceramic green sheet of the reinforcing layer 2B. In this green sheet, the resin particles are burned out by firing to form pores. Thereby, the portion of the green sheet becomes the stress relaxation layer 2C. In addition, the component of the green sheet at this time is not specifically limited. Alternatively, the resin amount of the ceramic green sheet (insulator paste) of the coil portion arrangement layer 2A and / or the ceramic green sheet (insulator paste) of the reinforcing layer 2B at the boundary portion may be increased. Thereby, since there is much resin in the said part, a void | hole is formed by baking and it becomes the stress relaxation layer 2C. In addition, when increasing the amount of resin and forming a void | hole, it is preferable that the amount of resin shall be 20-30 weight% with respect to the ceramic powder weight.

コイル部3は、巻線部に係るコイル導体4と、外部電極6と接続される引出部に係るコイル導体5と、を有している。コイル導体4,5は、例えば銀、銅及びニッケルのいずれかを主成分とした導体ペーストによって形成される。コイル部3は、コイル部配置層2Aの内部にのみ配置され、補強層2B及び応力緩和層2Cの中には配置されない。また、コイル部3のいずれのコイル導体4,5も補強層2B及び応力緩和層2Cと接触していない。積層方向におけるコイル部3の両端部は、補強層2B及び応力緩和層2Cから離間しており、当該コイル部3と補強層2B及び応力緩和層2Cとの間にはコイル部配置層2Aのセラミックが配置される。巻線部に係るコイル導体4は、コイル部配置層2Aを形成するセラミックグリーンシート上に、導体ペーストにて所定の巻線の導体パターンを形成することで構成される。各層の導体パターンは、スルーホール導体によって積層方向に接続される。また、引出部に係るコイル導体5は、巻線パターンの端部を外部電極6まで引き出すような導体パターンによって構成される。なお、巻線部のコイルパターンや巻線数や、引出部の引出し位置などは特に限定されない。   The coil part 3 has a coil conductor 4 related to the winding part and a coil conductor 5 related to the lead part connected to the external electrode 6. The coil conductors 4 and 5 are formed of a conductor paste containing, for example, one of silver, copper, and nickel as a main component. The coil part 3 is arranged only inside the coil part arrangement layer 2A, and is not arranged in the reinforcing layer 2B and the stress relaxation layer 2C. Further, none of the coil conductors 4 and 5 of the coil portion 3 is in contact with the reinforcing layer 2B and the stress relaxation layer 2C. Both end portions of the coil portion 3 in the stacking direction are separated from the reinforcing layer 2B and the stress relaxation layer 2C, and the ceramic of the coil portion arrangement layer 2A is interposed between the coil portion 3, the reinforcement layer 2B, and the stress relaxation layer 2C. Is placed. The coil conductor 4 related to the winding portion is configured by forming a conductor pattern of a predetermined winding with a conductor paste on the ceramic green sheet forming the coil portion arrangement layer 2A. The conductor patterns of each layer are connected in the stacking direction by through-hole conductors. Further, the coil conductor 5 relating to the lead-out portion is configured by a conductor pattern that pulls the end of the winding pattern to the external electrode 6. In addition, the coil pattern of the winding part, the number of windings, the drawing position of the drawing part, etc. are not particularly limited.

一対の外部電極6は、素体2の端面のうち、積層方向と直交する方向において対向する両端面を覆うように形成されている。各外部電極6は、当該両端面全体を覆うように形成されていると共に、一部が当該両端面から他の四面へ回り込んでいてもよい。各外部電極6は、例えば銀、銅及びニッケルのいずれかを主成分とした導体ペーストをスクリーン印刷するか、あるいはディップ方式を用いて形成する。   The pair of external electrodes 6 are formed so as to cover both end faces facing each other in the direction orthogonal to the stacking direction, among the end faces of the element body 2. Each external electrode 6 may be formed so as to cover the entire both end surfaces, and a part may wrap around from the both end surfaces to the other four surfaces. Each external electrode 6 is formed, for example, by screen-printing a conductor paste containing silver, copper, or nickel as a main component, or by using a dip method.

次に、上述した構成の積層型コイル部品1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the multilayer coil component 1 having the above-described configuration will be described.

まず、コイル部配置層2Aを形成するセラミックグリーンシートと、補強層2Bを形成するセラミックグリーンシートを用意する。上述のような組成となるように、セラミックのペーストを調整し、ドクターブレード法などによりシート成型することで、各セラミックグリーンシートを用意する。なお、コイル部配置層2Aのセラミックグリーンシートと補強層2Bのセラミックグリーンシートの境界付近のみ、応力緩和層2Cが形成されやすいように別途の組成にて調整してもよい。   First, a ceramic green sheet for forming the coil portion arrangement layer 2A and a ceramic green sheet for forming the reinforcing layer 2B are prepared. Each ceramic green sheet is prepared by adjusting a ceramic paste so as to have the above-described composition and molding the sheet by a doctor blade method or the like. The stress relaxation layer 2C may be adjusted with a separate composition only near the boundary between the ceramic green sheet of the coil portion arrangement layer 2A and the ceramic green sheet of the reinforcing layer 2B.

続いて、コイル部配置層2Aとなる各セラミックグリーンシートの所定の位置、すなわちスルーホール電極が形成される予定の位置に、レーザー加工等によってスルーホールをそれぞれ形成する。次に、コイル部配置層2Aとなる各セラミックグリーンシートの上に、各導体パターンをそれぞれ形成する。ここで、各導体パターン及び各スルーホール電極は、銀又はニッケルなどを含んだ導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法により形成される。   Subsequently, a through hole is formed by laser processing or the like at a predetermined position of each ceramic green sheet serving as the coil portion arrangement layer 2A, that is, a position where a through hole electrode is to be formed. Next, each conductor pattern is formed on each ceramic green sheet to be the coil portion arrangement layer 2A. Here, each conductor pattern and each through-hole electrode are formed by screen printing using a conductive paste containing silver or nickel.

続いて、各セラミックグリーンシートを積層する。このとき、補強層2Bとなるセラミックグリーンシートの上にコイル部配置層2Aとなるセラミックグリーンシートを積み重ね、その上から補強層2Bとなるセラミックグリーンシートを重ねる。なお、底部と上部に形成される補強層2Bは、それぞれ一枚のセラミックグリーンシートによって形成されてもよく、複数枚のセラミックグリーンシートによって形成されてもよい。次に、積層方向に圧力を加えて各セラミックグリーンシートを圧着する。   Subsequently, each ceramic green sheet is laminated. At this time, the ceramic green sheet to be the coil portion arrangement layer 2A is stacked on the ceramic green sheet to be the reinforcing layer 2B, and the ceramic green sheet to be the reinforcing layer 2B is stacked thereon. The reinforcing layer 2B formed on the bottom and the top may be formed by a single ceramic green sheet, or may be formed by a plurality of ceramic green sheets. Next, pressure is applied in the stacking direction to pressure-bond each ceramic green sheet.

続いて、この積層された積層体を、所定温度(例えば、800〜1150℃程度)にて焼成を行い、素体2を形成する。なお、このとき設定される焼成温度は、コイル部配置層2Aの軟化点以上であって、補強層2Bの軟化点または融点未満に設定する。このとき、補強層2Bはコイル部配置層2Aの形状を保つ。また、焼成中には応力緩和層2Cに対応する領域では、他の部分に比して十分な焼結が行われないことにより十分な粒成長が起こらず、これによって空孔が形成される。これにより、非晶質のコイル部配置層2A、結晶質の補強層2B、及び高い空孔率の応力緩和層2Cが形成される。   Subsequently, the laminated body is fired at a predetermined temperature (for example, about 800 to 1150 ° C.) to form the element body 2. The firing temperature set at this time is set to be equal to or higher than the softening point of the coil portion arrangement layer 2A and lower than the softening point or melting point of the reinforcing layer 2B. At this time, the reinforcing layer 2B maintains the shape of the coil portion arrangement layer 2A. Further, during firing, in the region corresponding to the stress relaxation layer 2C, sufficient sintering does not occur as compared with other portions, and sufficient grain growth does not occur, thereby forming vacancies. As a result, an amorphous coil portion arrangement layer 2A, a crystalline reinforcing layer 2B, and a high porosity stress relaxation layer 2C are formed.

続いて、この素体2に外部電極6を形成する。これにより、積層型コイル部品1が形成されることとなる。外部電極6は、素体2の長手方向の両端面にそれぞれ銀、ニッケル又は銅を主成分とする電極ペーストを塗布して、所定温度(例えば、600〜700℃程度)で焼付けを行い、さらに電気めっきを施すことにより形成される。この電気めっきとしては、Cu、Ni及びSn等を用いることができる。   Subsequently, the external electrode 6 is formed on the element body 2. Thereby, the laminated coil component 1 is formed. The external electrode 6 is applied with an electrode paste mainly composed of silver, nickel or copper on both end faces in the longitudinal direction of the element body 2 and baked at a predetermined temperature (for example, about 600 to 700 ° C.). It is formed by applying electroplating. For this electroplating, Cu, Ni, Sn, or the like can be used.

次に、本実施形態に係る積層型コイル部品1の作用・効果について説明する。   Next, the operation and effect of the multilayer coil component 1 according to this embodiment will be described.

コイルのQ(quality factor)値を上げるためには、コイル導体の表面の平滑性を上げることが好適である。周波数が高くなれば高くなるほど表皮深さが浅くなり、高周波の場合は、コイル導体の表面の平滑性がQ値に影響を与える。例えば、図2(b)に示すようにコイル導体の表面の平滑性が低く、凹凸が形成されていた場合、コイル導体の表面抵抗が上がり、コイルのQ値が下がってしまう。一方、図2(a)のようにコイル導体の表面の平滑性が高ければ、コイル導体の表面抵抗が下がり、コイルのQ値を上げることができる。   In order to increase the quality factor (Q) value of the coil, it is preferable to increase the smoothness of the surface of the coil conductor. The higher the frequency, the shallower the skin depth. In the case of a high frequency, the smoothness of the surface of the coil conductor affects the Q value. For example, as shown in FIG. 2B, when the surface of the coil conductor has low smoothness and unevenness is formed, the surface resistance of the coil conductor increases and the Q value of the coil decreases. On the other hand, if the smoothness of the surface of the coil conductor is high as shown in FIG. 2A, the surface resistance of the coil conductor is lowered, and the Q value of the coil can be increased.

コイル導体の表面の平滑性を上げるために、素体のセラミックを非晶質とすることが効果的である。図3(a)に示すように、素体が結晶質であると、当該素体の表面の凹凸の影響により、そこに接するコイル導体の表面も凹凸が大きくなり、平滑性が低くなる。一方、図3(b)に示すように、素体が非晶質であると、当該素体の滑らかな表面の影響により、そこに接するコイル導体の表面も滑らかになり、平滑性が高くなる。   In order to increase the smoothness of the surface of the coil conductor, it is effective to make the ceramic of the element body amorphous. As shown in FIG. 3A, when the element body is crystalline, the unevenness of the surface of the coil conductor in contact therewith increases due to the influence of the unevenness of the surface of the element body, and the smoothness becomes low. On the other hand, as shown in FIG. 3B, when the element body is amorphous, the surface of the coil conductor in contact with the element body becomes smooth due to the influence of the smooth surface of the element body, and the smoothness increases. .

ここで、本発明者らは、素体を非晶質とした場合、素体の強度が弱くなってしまい、外的応力や衝撃によって割れや欠けが生じてしまうという問題があることを見出した。そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、好適な積層型コイル部品1の構成を見出すに至った。   Here, the present inventors have found that when the element body is amorphous, the strength of the element body is weakened, and there is a problem that cracks and chips are generated due to external stress and impact. . Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have found a suitable configuration of the multilayer coil component 1.

すなわち、本実施形態に係る積層型コイル部品1では、素体2が、内部にコイル部3が配置されるコイル部配置層2Aと、当該コイル部配置層2Aを補強する補強層2Bと、を有している。コイル部配置層2Aは、ガラスセラミックスからなる非晶質の層であるため、内部に配置されるコイル導体4,5の表面の平滑性を向上させることができ、これにより積層型コイル部品1のQ値を上げることができる。また、補強層2Bは結晶質の層であるため、非晶質のコイル部配置層2Aを補強することができる。更に、素体2は、コイル部配置層2Aと補強層2Bとの間に応力緩和層2Cを備えている。この応力緩和層2Cは、他の部分よりも高い空孔率を有しているため、コイル部配置層2Aと補強層2Bとの間で素体2に作用する応力を緩和することができる。以上によって、積層型コイル部品1のQ値を向上させることができ、かつ、応力に対して強くすることができる。   That is, in the multilayer coil component 1 according to the present embodiment, the element body 2 includes a coil part arrangement layer 2A in which the coil part 3 is arranged, and a reinforcing layer 2B that reinforces the coil part arrangement layer 2A. Have. Since the coil portion arrangement layer 2A is an amorphous layer made of glass ceramics, the smoothness of the surfaces of the coil conductors 4 and 5 arranged inside can be improved. Q value can be increased. Further, since the reinforcing layer 2B is a crystalline layer, the amorphous coil portion arrangement layer 2A can be reinforced. Furthermore, the element body 2 includes a stress relaxation layer 2C between the coil portion arrangement layer 2A and the reinforcing layer 2B. Since this stress relaxation layer 2C has a higher porosity than the other portions, the stress acting on the element body 2 can be relaxed between the coil portion arrangement layer 2A and the reinforcing layer 2B. As described above, the Q value of the multilayer coil component 1 can be improved and can be made strong against stress.

なお、本実施形態では、コイル部配置層2Aは完全な非晶質ではなくアルミナ成分が少量(0.5〜2.5重量%)含まれている分だけ、結晶質を一部含むが、極めて少量であるため、図3(b)のような滑らかな表面が得られる。このように、ここでの「非晶質」とは、少量であれば一部に結晶質を含むものも該当する。   In the present embodiment, the coil portion arrangement layer 2A is not completely amorphous and contains a small amount of the alumina component (0.5 to 2.5% by weight). Since the amount is extremely small, a smooth surface as shown in FIG. As described above, the term “amorphous” as used herein corresponds to a part containing a crystalline substance in a small amount.

本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。   The present invention is not limited to the embodiment described above.

例えば、上述の実施形態では、一つのコイル部を有する積層型コイル部品を例示したが、例えば、アレイ状に複数のコイル部を有するものであってもよい。   For example, in the above-described embodiment, the laminated coil component having one coil part is illustrated, but for example, it may have a plurality of coil parts in an array.

また、上述の実施形態では、コイル部配置層2Aが積層方向両側から一対の補強層2B及び応力緩和層2Cで挟まれていたが、何れか一方のみに、補強層2B及び応力緩和層2Cが形成されていてもよい。あるいは、積層方向両側に一対の補強層2Bが形成されている一方、応力緩和層2Cは、積層方向の何れか一方のみに形成されていてもよい。   In the above-described embodiment, the coil portion arrangement layer 2A is sandwiched between the pair of reinforcement layers 2B and the stress relaxation layer 2C from both sides in the stacking direction. However, the reinforcement layer 2B and the stress relaxation layer 2C are provided only on one of them. It may be formed. Alternatively, the pair of reinforcing layers 2B is formed on both sides in the stacking direction, while the stress relaxation layer 2C may be formed in only one of the stacking directions.

1…積層型コイル部品、2…素体、2A…コイル部配置層、2B…補強層、2C…応力緩和層、3…コイル部、4,5…コイル導体、6…外部導体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer coil component, 2 ... Element body, 2A ... Coil part arrangement | positioning layer, 2B ... Reinforcement layer, 2C ... Stress relaxation layer, 3 ... Coil part, 4, 5 ... Coil conductor, 6 ... External conductor.

Claims (3)

複数の絶縁体層を積層することによって形成される素体と、
複数のコイル導体によって前記素体の内部に形成されるコイル部と、を備え、
前記素体は、
内部に前記コイル部が配置される、ガラスセラミックスからなる非晶質のコイル部配置層と、
前記コイル部配置層を補強する、ガラスセラミックスからなる結晶質の補強層と、
前記コイル部配置層と前記補強層との間に形成され、他の部分よりも高い空孔率を有する応力緩和層と、を備え
前記補強層のK Oの含有率は、前記コイル部配置層のK Oの含有率よりも小さいことを特徴とする積層型コイル部品。
An element body formed by laminating a plurality of insulator layers;
A coil portion formed inside the element body by a plurality of coil conductors,
The prime field is
An amorphous coil part arrangement layer made of glass ceramics, in which the coil part is arranged;
A crystalline reinforcing layer made of glass ceramics that reinforces the coil portion arrangement layer;
A stress relaxation layer formed between the coil portion arrangement layer and the reinforcing layer and having a higher porosity than other portions ;
The K 2 O content of the reinforcing layer laminated coil component, wherein the smaller this than the content of K 2 O of the coil part arranged layer.
前記応力緩和層の空孔率は、8〜30%であることを特徴とする請求項1記載の積層型コイル部品。   The multilayer coil component according to claim 1, wherein the stress relaxation layer has a porosity of 8 to 30%. 前記コイル部配置層は、0.7〜1.2重量%のKOを含有することを特徴とする請求項1又は2記載の積層型コイル部品。 The coil unit arrangement layer laminated coil component according to claim 1 or 2, wherein the containing 0.7-1.2 wt% of K 2 O.
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