JP5815422B2 - 研削装置 - Google Patents
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Description
[1]研削装置の基本的な構成および動作
図1は、一実施形態の研削装置10の全体を示している。この研削装置10は、例えばシリコンウェーハ等の円板状の半導体ウェーハを被加工物(図2のWで示す)とし、その被加工物Wの例えば裏面を研削するものである。
セットアップ機構100は、図3に示すように、水平に延びる上下一対の板ばね101と、板ばね101の先端に支持された検出部110と、板ばね101を水平旋回させて、検出部110を、保持テーブル20の保持面22aと研削砥石37の研削面37aとの間の検出位置と、保持テーブル20上から外れ、かつ、加工送りされる研削手段30と干渉しない退避位置(図1の破線で示している)とにそれぞれ位置付ける位置付け手段140とを備えている。板ばね101は上下方向に撓んで弾性変形可能なもので、これにより検出部110は上下方向への移動が可能となっている。なお、板ばね101に替えて平行リンクを利用して検出部110を上下動可能に支持する構成としてもよい。
以上がセットアップ機構100の構成であり、続いて、セットアップ機構100の設定について説明する。セットアップ機構100は、一次研削側と二次研削側の各研削手段30に対してそれぞれ設けられており、これらセットアップ機構100の設定は、例えば当該装置10の組み立て時や初めて使用する前に行われる。
次に、上記のようにして研削面37aに対する当接面126bの平行度設定がなされたセットアップ機構100により、セットアップを行う方法を説明する。なお、セットアップは、装置の立ち上げ時や、上述したセルフグラインドを行った後、あるいは研削砥石37が磨耗したときや保持テーブル20を交換したときなど、必要に応じて随時行われる。
上記実施形態のセットアップ機構100によれば、セットアップ機構100の設定を行うにあたり、研削手段30を下降させて研削砥石37の研削面37aを検出部110の上端部120における当接板126の当接面126bに当接させ、かつ、押圧することにより、当接面126bが研削面37aに倣って傾斜して密着し、これによって研削砥石37の研削面37aに対し検出部110の当接面126bを平行に設定することができる。
Claims (1)
- 被加工物を保持する保持面を有した保持テーブルと、該保持テーブルに対向して配設され該保持テーブルで保持された被加工物を研削する研削面を有した研削砥石を有する研削ホイールと該研削ホイールが装着されるとともに該研削ホイールを回転せしめるスピンドルとを含む研削手段と、該研削手段を該保持テーブルに対して近接離反移動させる加工送り手段と、を備えた研削装置であって、
前記保持テーブルの前記保持面と前記研削砥石の前記研削面との間に挿入されて該研削砥石の該研削面が当接する上端部と、該保持テーブルの該保持面に当接する下端部と、を有し、該下端部は、前記研削手段が該保持テーブルに近接移動することで該研削砥石が該上端部を押圧して該下端部が該保持面に当接したことを検出する接触センサを備え、該上端部が該研削砥石の該研削面に当接するとともに該接触センサが該保持テーブルの該保持面に当接することで該保持面に対する該研削面の高さ位置を検出するための所定の厚さを有した検出部と、該検出部を該保持テーブルの該保持面と該研削砥石の該研削面との間の検出位置と退避位置とにそれぞれ位置付ける位置付け手段と、を有したセットアップ機構を備え、
前記検出部の前記上端部は、前記研削砥石の前記研削面が当接する当接面を有し該当接面が突出するよう筐体に収容された当接板と、
前記筐体から前記当接板が飛び出すことを規制する規制部と、
前記筐体内に収容されて前記当接板の下で該当接面が前記研削面に倣って傾斜するように該当接板を支持する支持球と、
から少なくとも構成されることを特徴とする研削装置。
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