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JP5887420B2 - Metal foil with carrier - Google Patents

Metal foil with carrier Download PDF

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JP5887420B2 JP2014538663A JP2014538663A JP5887420B2 JP 5887420 B2 JP5887420 B2 JP 5887420B2 JP 2014538663 A JP2014538663 A JP 2014538663A JP 2014538663 A JP2014538663 A JP 2014538663A JP 5887420 B2 JP5887420 B2 JP 5887420B2
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Description

本発明は、キャリア付金属箔に関する。より詳細には、プリント配線板に使用される片面若しくは2層以上の多層積層板又は極薄のコアレス基板の製造において用いられるキャリア付金属箔に関する。   The present invention relates to a metal foil with a carrier. More specifically, the present invention relates to a metal foil with a carrier used in the production of a single-sided or two-layer multilayer board or an ultra-thin coreless substrate used for a printed wiring board.

一般に、プリント配線板は、合成樹脂板、ガラス板、ガラス不織布、紙などの基材に合成樹脂を含浸させて得た「プリプレグ(Prepreg)」と称する誘電材を、基本的な構成材料としている。また、プリプレグと相対する側には電気伝導性を持った銅又は銅合金箔等のシートが接合されている。このように組み立てられた積層物を、一般にCCL(Copper Clad Laminate)材と呼んでいる。銅箔のプリプレグと接する面は、接合強度を高めるためにマット面とすることが通常である。銅又は銅合金箔の代わりに、アルミニウム、ニッケル、亜鉛などの箔を使用する場合もある。これらの厚さは5〜200μm程度である。この一般的に用いられるCCL(Copper Clad Laminate)材を図1に示す。   In general, a printed wiring board uses, as a basic constituent material, a dielectric material called “prepreg” obtained by impregnating a base material such as a synthetic resin plate, a glass plate, a glass nonwoven fabric, and paper with a synthetic resin. . Further, a sheet such as copper or copper alloy foil having electrical conductivity is bonded to the side facing the prepreg. The laminated body thus assembled is generally called a CCL (Copper Clad Laminate) material. The surface of the copper foil in contact with the prepreg is usually a mat surface in order to increase the bonding strength. A foil made of aluminum, nickel, zinc or the like may be used instead of the copper or copper alloy foil. Their thickness is about 5 to 200 μm. This commonly used CCL (Copper Clad Laminate) material is shown in FIG.

特許文献1には、合成樹脂製の板状キャリアと、該キャリアの少なくとも一方の面に、機械的に剥離可能に密着させた金属箔からなるキャリア付金属箔が提案され、このキャリア付金属箔はプリント配線板の組み立てに供することができる旨記載されている。そして、板状キャリアと金属箔の剥離強度は、1gf/cm〜1kgf/cmであることが望ましいことを示した。当該キャリア付金属箔によれば、合成樹脂で銅箔を全面に亘って支持するので、積層中に銅箔に皺の発生を防止できる。また、このキャリア付金属箔は、金属箔と合成樹脂が隙間なく密着しているので、金属箔表面を鍍金又はエッチングする際に、これを鍍金又はエッチング用の薬液に投入することが可能となる。更に、合成樹脂の線膨張係数は、基板の構成材料である銅箔及び重合後のプリプレグと同等のレベルにあることから、回路の位置ずれを招くことがないので、不良品発生が少なくなり、歩留りを向上させることができるという優れた効果を有する。   Patent Document 1 proposes a metal foil with a carrier composed of a synthetic resin plate-shaped carrier and a metal foil that is mechanically peelably adhered to at least one surface of the carrier. Describes that it can be used for the assembly of printed wiring boards. And it was shown that the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil is desirably 1 gf / cm to 1 kgf / cm. According to the metal foil with a carrier, since the copper foil is supported over the entire surface by the synthetic resin, generation of wrinkles on the copper foil during lamination can be prevented. In addition, since the metal foil with carrier is in close contact with the synthetic resin without gaps, when the surface of the metal foil is plated or etched, it can be put into the chemical solution for plating or etching. . Furthermore, since the linear expansion coefficient of the synthetic resin is at the same level as the copper foil that is a constituent material of the substrate and the prepreg after polymerization, the circuit is not misaligned, resulting in fewer defective products, It has the outstanding effect that a yield can be improved.

特開2009−272589号公報JP 2009-272589 A 特開2000−196207号公報JP 2000-196207 A

特許文献1に記載のキャリア付金属箔は、プリント回路板の製造工程を簡素化及び歩留まりアップにより製造コスト削減に大きく貢献する画期的な発明であるが、板状キャリアと金属箔の剥離強度の最適化及びその手段については未だ検討の余地が残されている。特に、本発明者にとって顕著な問題として、板状キャリアと金属箔の剥離強度が板状キャリアの材質によっては高くなりすぎるという点が挙げられ、当該剥離強度を簡便に調節できる手段が提供されることが望ましい。また、従来のキャリア付金属箔は、ハンドリング中に角の部分が他の部材とぶつかり、その時に加わる外力によりキャリアと金属箔とが剥がれ、不良となることがあり、これについても改善が望まれている。そこで本発明は、樹脂製の板状キャリアと金属箔の剥離強度が調節され、かつ、搬送時や加工時(ハンドリング中)のキャリアと金属箔との剥がれ防止にも対応したキャリア付金属箔を提供することを課題とする。   The metal foil with carrier described in Patent Document 1 is an epoch-making invention that greatly contributes to the reduction of manufacturing cost by simplifying the manufacturing process of printed circuit boards and increasing the yield, but the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil. There is still room for further study on the optimization and means of the above. In particular, a remarkable problem for the inventor is that the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil becomes too high depending on the material of the plate-like carrier, and means for easily adjusting the peel strength is provided. It is desirable. In addition, the conventional metal foil with a carrier has a corner portion that collides with another member during handling, and the carrier and the metal foil may be peeled off due to an external force applied at that time, and this is also desired to be improved. ing. Accordingly, the present invention provides a metal foil with a carrier in which the peel strength between the resin plate carrier and the metal foil is adjusted, and the carrier and the metal foil are also prevented from being peeled off during transportation or processing (during handling). The issue is to provide.

本発明者等は、樹脂板と金属箔との間の剥離強度の調節の方法について鋭意検討した結果、樹脂板と金属箔との貼り合わせに先立って、キャリアと金属箔とを重ねる態様につき、鋭意検討した結果、キャリアが占める面積よりも小さな面積を有する金属箔を重ねることにより両者を重ね合わせた後他の部材がぶつかって生じる外力だけでは剥がれにくくなることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of earnestly examining the method of adjusting the peel strength between the resin plate and the metal foil, the present inventors, as a result of stacking the carrier and the metal foil prior to bonding the resin plate and the metal foil, As a result of intensive studies, it was found that by overlapping metal foils having an area smaller than the area occupied by the carrier, it was difficult to peel off only by an external force generated by colliding with other members after completing both, and the present invention was completed. .

すなわち、本発明は、以下のとおりである。
(1)樹脂製の板状キャリアと、該キャリアの少なくとも一方の面に、剥離可能に密着させた金属箔からなるキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状であるキャリア付金属箔。
(2)(1)に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、直線と曲線とで囲まれた形状であるキャリア付金属箔。
(3)(2)に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、曲線が円弧または楕円弧であるキャリア付金属箔。
(4)(1)に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、すべての内角が90度より大きい角度の多角形状であるキャリア付金属箔。
(5)(4)に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、すべての内角が90度より大きく、かつ180度より小さい角度の凸多角形状であるキャリア付金属箔。
(6)(1)に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、曲線のみで囲まれた形状であるキャリア付金属箔。
(7)板状キャリアと金属箔の剥離強度が10gf/cm以上200gf/cm以下である(1)〜(6)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(8)樹脂製の板状キャリアが熱硬化性樹脂を含む(1)〜(7)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(9)樹脂製の板状キャリアがプリプレグである(1)〜(7)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(10)前記板状キャリアは、120〜320℃のガラス転移温度Tgを有する(8)または(9)に記載のキャリア付金属箔。
(11)前記金属箔の前記キャリアと接する側表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下である(1)〜(10)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(12)前記金属箔の前記キャリアと接しない側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、0.4μm以上10.0μm以下である(1)〜(11)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(13)前記金属箔の厚みが、1μm以上400μm以下である(1)〜(12)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(14)前記板状キャリアの厚みが5μm以上1000μm以下である(1)〜(13)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(15)平面視したときに、切断して除去する領域において、直径0.01mm〜10mm程度の孔を1〜10箇所程度設けられた(1)〜(14)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(16)板状キャリアと金属箔とを、離型剤を用いて貼り合わせてなる(1)〜(15)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(17)前記離型剤が、次式:
That is, the present invention is as follows.
(1) A metal foil with a carrier made of a resin-made plate-like carrier and a metal foil that is detachably adhered to at least one surface of the carrier,
A metal foil with a carrier having a shape in which the metal foil and the plate-like carrier have the same shape and have no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when seen in a plan view.
(2) The metal foil with a carrier according to (1),
The metal foil with a carrier which is the shape where the said metal foil and the said plate-shaped carrier were the same shape when it planarly viewed, and were enclosed by the straight line and the curve.
(3) The metal foil with a carrier according to (2),
A metal foil with a carrier, wherein the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in plan, and the curve is an arc or an elliptical arc.
(4) The metal foil with a carrier according to (1),
A metal foil with a carrier, wherein the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in a plan view, and all the internal angles are polygonal shapes having an angle larger than 90 degrees.
(5) The metal foil with a carrier according to (4),
The metal foil with a carrier which is a convex polygonal shape in which the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in a plane, and all inner angles are larger than 90 degrees and smaller than 180 degrees.
(6) The metal foil with a carrier according to (1),
The metal foil with a carrier which is the shape where the said metal foil and the said plate-shaped carrier were the same shape when it planarly viewed, and were only enclosed by the curve.
(7) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (6), wherein the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil is 10 gf / cm or more and 200 gf / cm or less.
(8) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (7), wherein the resin-made plate-like carrier contains a thermosetting resin.
(9) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (7), wherein the resinous plate-like carrier is a prepreg.
(10) The metal foil with a carrier according to (8) or (9), wherein the plate-like carrier has a glass transition temperature Tg of 120 to 320 ° C.
(11) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (10), wherein a ten-point average roughness (Rz jis) of a side surface in contact with the carrier of the metal foil is 3.5 μm or less.
(12) The ten-point average roughness (Rz jis) of the surface of the metal foil that is not in contact with the carrier is 0.4 μm or more and 10.0 μm or less, according to any one of (1) to (11). Metal foil with carrier.
(13) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (12), wherein the thickness of the metal foil is 1 μm or more and 400 μm or less.
(14) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (13), wherein the thickness of the plate-like carrier is 5 μm or more and 1000 μm or less.
(15) With the carrier according to any one of (1) to (14), about 1 to 10 holes having a diameter of about 0.01 mm to 10 mm are provided in a region to be cut and removed when viewed in plan. Metal foil.
(16) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (15), wherein a plate-like carrier and a metal foil are bonded together using a release agent.
(17) The mold release agent has the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて用いてなる(16)に記載のキャリア付金属箔。
(18)前記離型剤が、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を用いてなる(16)に記載のキャリア付金属箔。
(19)前記離型剤が、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
The metal foil with a carrier according to (16), wherein the silane compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product are used singly or in combination.
(18) The metal foil with a carrier according to (16), wherein the release agent comprises a compound having two or less mercapto groups in the molecule.
(19) The mold release agent has the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて用いてなる(16)に記載のキャリア付金属箔。
(20)板状キャリアと金属箔とを、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を用いて貼り合わせてなる(1)〜(15)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(21)220℃で3時間、6時間または9時間のうちの少なくとも一つの加熱後における、金属箔と板状キャリアとの剥離強度が、10gf/cm以上200gf/cm以下である(1)〜(20)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(22)前記金属箔が、銅箔である(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付金属箔。
(23)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
The metal foil with a carrier according to (16), wherein the aluminate compound, the titanate compound, the zirconate compound, the hydrolysis products thereof, and the condensates of the hydrolysis products are used singly or in combination.
(20) The plate-like carrier and the metal foil are bonded together using a resin coating film composed of silicone and any one or a plurality of resins selected from epoxy resins, melamine resins and fluororesins. The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (15).
(21) The peel strength between the metal foil and the plate carrier after heating at 220 ° C. for 3 hours, 6 hours or 9 hours is 10 gf / cm or more and 200 gf / cm or less (1) to (20) Metal foil with a carrier in any one of.
(22) The metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), wherein the metal foil is a copper foil.
(23) On the surface of the metal foil having a shape without an angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(24)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(25)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
The metal foil for coreless multilayer printed wiring boards which has the silane compound shown in 1 above, its hydrolysis product, and the condensate of this hydrolysis product individually or in combination.
(24) A coreless multilayer printed wiring board having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on the surface of a metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan Metal foil.
(25) On the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(26)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(27)前記金属箔の(23)〜(26)のいずれかに記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面に対して、当該化合物または樹脂塗膜を作用させる前に、クロメート処理をすることを特徴とするコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(28)(23)〜(27)のいずれかに記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔であって、
前記金属箔の(23)〜(26)のいずれかに記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下であるコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(29)(23)〜(28)のいずれかに記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔であって、
前記金属箔の(23)〜(26)のいずれかに記載の化合物または樹脂塗膜を作用させない側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、0.4μm以上10.0μm以下であるコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(30)前記金属箔が、銅箔である(23)〜(29)のいずれかに記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔。
(31)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board having the aluminate compound, titanate compound, zirconate compound, hydrolyzed products thereof, and condensates of the hydrolyzed products alone or in combination.
(26) Any one selected from silicone, epoxy-based resin, melamine-based resin, and fluororesin on the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board having a resin coating film composed of one or a plurality of resins.
(27) Chromate treatment is performed on the surface of the metal foil on the side on which the compound or resin coating film according to any one of (23) to (26) is applied before the compound or resin coating film is applied. A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board.
(28) A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board according to any one of (23) to (27),
A coreless multilayer printed wiring having a ten-point average roughness (Rz jis) of the surface on which the compound or resin coating film according to any one of (23) to (26) is applied is 3.5 μm or less. Metal foil for plates.
(29) A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board according to any one of (23) to (28),
The ten-point average roughness (Rz jis) of the surface on which the compound or resin coating film according to any one of (23) to (26) of the metal foil does not act is 0.4 μm or more and 10.0 μm or less. Metal foil for coreless multilayer printed wiring boards.
(30) The metal foil for coreless multilayer printed wiring boards according to any one of (23) to (29), wherein the metal foil is a copper foil.
(31) On a surface of a metal foil having a shape having no angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
(32)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
(33)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
A metal foil having a silane compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product alone or in combination, wherein the resin plate carrier is adhered to the surface in a peelable manner. Metal foil used in
(32) A metal foil having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on the surface of the metal foil having a shape having no inner angle (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan. A metal foil used for the purpose of allowing a resin plate carrier to be peeled and adhered to the surface.
(33) On the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
(34)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
(35)(31)〜(34)のいずれかに記載の金属箔であって、
前記金属箔の(31)〜(34)のいずれかに一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面に対して、当該化合物または樹脂塗膜を作用させる前に、クロメート処理をすることを特徴とする金属箔。
(36)(31)〜(35)のいずれかに記載の金属箔であって、
前記金属箔の請求項28〜33のいずれかに一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下である金属箔。
(37)前記金属箔が、銅箔である(31)〜(36)のいずれかに記載のプリント配線板用金属箔。
(38)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A metal foil having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, a condensate of the hydrolysis product, or a combination of a plurality of the hydrolysis products. Metal foil used for applications in which the carrier is peelably adhered.
(34) Any one selected from silicone, an epoxy resin, a melamine resin, and a fluororesin on the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when seen in a plan view A metal foil having a resin coating film composed of one or a plurality of resins, and used for the purpose of releasably adhering a resin plate carrier on the surface.
(35) The metal foil according to any one of (31) to (34),
Before the compound or resin coating film is allowed to act on the surface of the metal foil on which the compound or resin coating film according to any one of (31) to (34) is allowed to act, chromate treatment is performed. A metal foil characterized by.
(36) The metal foil according to any one of (31) to (35),
A metal foil having a ten-point average roughness (Rz jis) of 3.5 μm or less on a surface on which the compound or resin coating film according to any one of claims 28 to 33 is applied.
(37) The metal foil for printed wiring board according to any one of (31) to (36), wherein the metal foil is a copper foil.
(38) On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリア。
(39)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する板状キャリア。
(40)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
A plate-like carrier having a silane compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product alone or in combination.
(39) A compound having two or less mercapto groups in the molecule on at least one surface of a resinous plate-like carrier having an inner angle of 90 degrees or less (vertex) when viewed in plan A plate-like carrier.
(40) On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape with no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリア。
(41)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する板状キャリア。
(42)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A plate carrier having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product, either alone or in combination.
(41) Silicone, an epoxy resin, a melamine resin, and fluorine are formed on at least one surface of a resinous plate-like carrier having an angle (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan. A plate-like carrier having a resin coating film composed of any one or a plurality of resins selected from resins.
(42) On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
(43)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
(44)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
Is a plate-like carrier having a silane compound, a hydrolysis product thereof, or a condensate of the hydrolysis product alone or in combination, and is used for the purpose of releasably adhering a metal foil on the surface. Plate carrier.
(43) A compound having two or less mercapto groups in the molecule on at least one surface of a resinous plate-like carrier having an inner angle of 90 degrees or less (vertex) when viewed in plan It is a plate-shaped carrier which is used, It is a plate-shaped carrier used for the use which adheres metal foil in the said surface so that peeling is possible.
(44) On at least one surface of the resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan, the following formula:

Figure 0005887420
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
(45)平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
(46)(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔側に対して、樹脂を積層し、次いで樹脂又は金属箔を1回以上繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法。
(47)(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面金属張積層板、(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔を1回以上繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法。
(48)(46)または(47)に記載の多層金属張積層板の製造方法において、前記キャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断する工程を含む多層金属張積層板の製造方法。
(49)(46)または(47)に記載の製造方法において、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔を剥離して分離する工程を更に含む多層金属張積層板の製造方法。
(50)(48)に記載の製造方法において、前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体における樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程を更に含む多層金属張積層板の製造方法。
(51)(49)または(50)に記載の製造方法において、剥離して分離した金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を含む多層金属張積層板の製造方法。
(52)(46)〜(51)のいずれか一項に記載の製造方法により得られる多層金属張積層板。
(53)(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に、ビルドアップ配線層を一層以上形成する工程を含むビルドアップ基板の製造方法。
(54)ビルドアップ配線層はサブトラクティブ法又フルアディティブ法又はセミアディティブ法の少なくとも一つを用いて形成される(53)に記載のビルドアップ基板の製造方法。
(55)(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付き金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔を1回以上繰り返して積層することを含むビルドアップ基板の製造方法。
(56)(55)に記載のビルドアップ基板の製造方法において、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、キャリア付き金属箔の金属箔、キャリア付き金属箔の板状キャリア、積層体の金属箔、積層体の板状キャリア、金属箔、又は樹脂に穴を開け、当該穴の側面および底面に導通めっきをする工程を更に含むビルドアップ基板の製造方法。
(57)(55)または(56)のいずれかに記載のビルドアップ基板の製造方法において、前記片面あるいは両面配線基板を構成する金属箔、片面あるいは両面金属張積層板を構成する金属箔、及びキャリア付き金属箔を構成する金属箔、積層体を構成する金属箔、または金属箔の少なくとも一つに配線を形成する工程を1回以上行うことを更に含むビルドアップ基板の製造方法。
(58)配線形成された表面の上に、片面に金属箔を密着させた(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付金属箔のキャリア側、または樹脂の片面に金属箔を積層した積層体の樹脂側を接触させて積層する工程を更に含む(55)〜(57)のいずれかに記載のビルドアップ基板の製造方法。
(59)配線形成された表面の上に、樹脂を積層し、当該樹脂に両面に金属箔を密着させた(1)〜(22)のいずれかに記載のキャリア付金属箔、または樹脂の両面に金属箔を積層した積層体を接触させて積層する工程を更に含む(55)〜(57)のいずれかに記載のビルドアップ基板の製造方法。
(60)前記樹脂の少なくとも一つがプリプレグであることを特徴とする(55)〜(59)のいずれかに記載のビルドアップ基板の製造方法。
(61)(53)〜(60)のいずれかに記載の方法で得られたビルドアップ基板に対して、前記キャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断する工程を含むビルドアップ配線板の製造方法。
(62)(53)〜(60)のいずれかに記載の方法で得られたビルドアップ基板に対して、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔を剥離して分離する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。
(63)(61)に記載の製造方法において、前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体における樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。
(64)(62)または(63)に記載のビルドアップ配線板の製造方法において、板状キャリアと密着していた金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。
(65)(61)〜(64)のいずれかに記載の方法により得られるビルドアップ配線板。
(66)(61)〜(64)のいずれかに記載の方法によりビルドアップ配線板を製造する工程を含むプリント回路板の製造方法。
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A plate-like carrier having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, or a condensate of the hydrolysis product as shown in FIG. A plate-like carrier used for close contact.
(45) Silicone, an epoxy resin, a melamine resin, and fluorine on at least one surface of a resin-made plate-like carrier having an inner angle of 90 degrees or less (vertex) when viewed in plan A plate-like carrier having a resin coating film composed of any one or a plurality of resins selected from resins, which is used for applications in which a metal foil is peelably adhered on the surface.
(46) A resin is laminated on at least one metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), and then the resin or the metal foil is repeatedly laminated one or more times. A method for producing a multilayer metal-clad laminate comprising:
(47) A resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), and then a resin, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, and any of (1) to (22) A method for producing a multilayer metal-clad laminate comprising the above-described metal foil with a carrier, a laminate obtained by laminating a metal foil on the surface of a resin, or laminating a metal foil repeatedly one or more times.
(48) In the method for producing a multilayer metal-clad laminate according to (46) or (47), the laminate surface of the plate-like carrier and metal foil in the metal foil with carrier or the resin and metal foil in the laminate A method for producing a multilayer metal-clad laminate comprising a step of cutting at a laminate surface.
(49) The method for producing a multilayer metal-clad laminate in the production method according to (46) or (47), further comprising a step of peeling and separating the plate-like carrier of the metal foil with carrier and the metal foil.
(50) In the manufacturing method according to (48), the step of separating the plate-like carrier and the metal foil of the metal foil with a carrier after cutting and separating the resin or the metal foil in the laminate after the cutting The manufacturing method of the multilayer metal-clad laminated board which further includes the process of peeling and isolate | separating.
(51) The method for producing a multilayer metal-clad laminate comprising the step of removing a part or all of the separated and separated metal foil by etching in the production method according to (49) or (50).
(52) A multilayer metal-clad laminate obtained by the production method according to any one of (46) to (51).
(53) A method for manufacturing a buildup substrate, comprising a step of forming one or more buildup wiring layers on the metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22).
(54) The buildup wiring layer manufacturing method according to (53), wherein the buildup wiring layer is formed using at least one of a subtractive method, a full additive method, and a semi-additive method.
(55) A resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), and then a resin, a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, (1) The metal foil with a carrier in any one of-(22), the laminated body which laminated | stacked metal foil on the surface of resin, or the manufacturing method of the buildup board | substrate including repeatedly laminating | stacking metal foil once or more.
(56) In the method for manufacturing a build-up board according to (55), a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, a metal foil of a metal foil with a carrier, a plate-like carrier of a metal foil with a carrier, or a laminate The manufacturing method of the buildup board | substrate which further includes the process of drilling a hole in the metal foil of this, a plate-shaped carrier of a laminated body, metal foil, or resin, and conducting conductive plating on the side surface and bottom face of the said hole.
(57) In the method for manufacturing a buildup board according to any one of (55) and (56), a metal foil constituting the single-sided or double-sided wiring board, a metal foil constituting a single-sided or double-sided metal-clad laminate, and The manufacturing method of the buildup board | substrate which further includes performing the process of forming wiring in at least one of the metal foil which comprises metal foil with a carrier, the metal foil which comprises a laminated body, or metal foil once or more.
(58) A metal foil is laminated on the carrier side of the metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), or on one side of a resin, wherein a metal foil is adhered to one side on the surface on which the wiring is formed. The manufacturing method of the buildup board | substrate in any one of (55)-(57) which further includes the process of making the resin side of the laminated body contacted, and laminating | stacking.
(59) A metal foil with a carrier according to any one of (1) to (22), wherein a resin is laminated on a surface on which wiring is formed, and a metal foil is adhered to both surfaces of the resin, or both surfaces of the resin The manufacturing method of the buildup board | substrate in any one of (55)-(57) which further includes the process of making the laminated body which laminated | stacked metal foil on and laminating | stacking.
(60) The method for manufacturing a buildup substrate according to any one of (55) to (59), wherein at least one of the resins is a prepreg.
(61) With respect to the build-up substrate obtained by the method according to any one of (53) to (60), a laminate surface of the plate-like carrier and metal foil in the metal foil with carrier or a resin in the laminate Manufacturing method of the buildup wiring board including the process cut | disconnected in the laminated surface of a metal foil.
(62) The method further includes a step of separating and separating the plate-like carrier and the metal foil of the metal foil with carrier from the build-up substrate obtained by the method according to any one of (53) to (60). Manufacturing method of build-up wiring board.
(63) In the manufacturing method according to (61), the step of peeling and separating the plate-like carrier and the metal foil of the metal foil with a carrier after cutting or the resin and the metal foil in the laminate after the cutting The manufacturing method of the buildup wiring board which further includes the process of peeling and isolate | separating.
(64) In the buildup wiring board manufacturing method according to (62) or (63), the buildup wiring board further includes a step of removing a part or all of the metal foil adhered to the plate carrier by etching. Manufacturing method.
(65) A build-up wiring board obtained by the method according to any one of (61) to (64).
(66) A method for producing a printed circuit board, comprising a step of producing a build-up wiring board by the method according to any one of (61) to (64).

本発明によって、他の部材がぶつかって生じる外力に起因する両者の剥がれを効果的に少なくする。そのため、キャリア付金属箔のハンドリング性が向上し、キャリア付金属箔を利用したプリント配線板の生産性が向上するという利点が得られる。   According to the present invention, both peeling due to an external force generated by the collision with another member is effectively reduced. Therefore, the handling property of the metal foil with carrier is improved, and the advantage that the productivity of the printed wiring board using the metal foil with carrier is improved is obtained.

CCLの一構成例を示す。An example of the configuration of CCL is shown. 本発明に係るキャリア付金属箔の一構成例を示す。The structural example of the metal foil with a carrier which concerns on this invention is shown. 本発明に係るキャリア付金属箔を平面視したときの典型的な構成例を示す。The typical structural example when the metal foil with a carrier which concerns on this invention is planarly viewed is shown. 図10のキャリア付金属箔を重ね合わせる方向に対して垂直な方向から見た図である。It is the figure seen from the direction perpendicular | vertical with respect to the direction which overlaps the metal foil with a carrier of FIG. 本発明に係るキャリア付金属箔の他の典型的な構成例を示す。The other typical structural example of the metal foil with a carrier which concerns on this invention is shown. 図12のキャリア付金属箔を重ね合わせる方向に対して垂直な方向から見た図である。It is the figure seen from the direction perpendicular | vertical with respect to the direction which overlaps the metal foil with a carrier of FIG. 本発明に係るキャリア付銅箔(樹脂板の片面に銅箔が接合した形態)を利用した多層CCLの組み立て例を示す。The assembly example of the multilayer CCL using the copper foil with a carrier which concerns on this invention (The form which copper foil joined to the single side | surface of the resin board) is shown. 本発明に係るキャリア付銅箔(樹脂板の両面に銅箔が接合した形態)を利用した多層CCLの組み立て例を示す。The assembly example of the multilayer CCL using the copper foil with a carrier which concerns on this invention (The form which copper foil joined on both surfaces of the resin board) is shown.

本発明に係るキャリア付金属箔の一実施形態においては、樹脂製の板状キャリアと該キャリアの片面又は両面、好ましくは両面に剥離可能に密着させた金属箔とからなるキャリア付金属箔を準備する。本発明に係るキャリア付金属箔の一構成例を図2および図7に示す。特に、図7の最初のところには、樹脂製の板状キャリア11cの両面に、金属箔11aを剥離可能に密着させたキャリア付金属箔11が示されている。板状キャリア11cと金属箔11aとの間は、後述する離型剤からなる層あるいは離型材11bを用いて貼り合わせられている。   In one embodiment of a metal foil with a carrier according to the present invention, a metal foil with a carrier comprising a resin-made plate-like carrier and a metal foil that is detachably adhered to one or both sides, preferably both sides of the carrier, is prepared. To do. One structural example of the metal foil with a carrier according to the present invention is shown in FIGS. In particular, at the beginning of FIG. 7, the metal foil with carrier 11 is shown in which the metal foil 11a is detachably adhered to both surfaces of a resin plate carrier 11c. The plate-like carrier 11c and the metal foil 11a are bonded together by using a layer made of a release agent or a release material 11b described later.

構造的には、図1に示したCCLと類似しているが、本発明のキャリア付金属箔では、金属箔と樹脂が最終的に分離されるもので、容易に剥離できる構造を有する。この点、CCLは剥離させるものではないので、構造と機能は、全く異なるものである。   Although structurally similar to the CCL shown in FIG. 1, the metal foil with a carrier of the present invention has a structure in which the metal foil and the resin are finally separated and can be easily peeled off. In this respect, since the CCL is not peeled off, the structure and function are completely different.

本発明で使用するキャリア付金属箔はいずれ剥がさなければならないので過度に密着性が高いのは不都合であるが、板状キャリアと金属箔とは、プリント回路板作製過程で行われるめっき等の薬液処理工程において剥離しない程度の密着性は必要である。このような観点から、金属箔と板状キャリアとの剥離強度は、10gf/cm以上であることが好ましく、30gf/cm以上であることがより好ましく、50gf/cm以上であることが一層好ましい一方で、200gf/cm以下であることが好ましく、150gf/cm以下であることがより好ましく、80gf/cm以下であることが一層好ましい。金属箔と板状キャリアの剥離強度をこのような範囲とすることによって、搬送時や加工時に剥離することない一方で、人手で容易に剥がす、すなわち機械的に剥がすことができる。   Since the metal foil with carrier used in the present invention must be peeled off eventually, it is inconvenient that the adhesiveness is excessively high, but the plate-like carrier and the metal foil are chemicals such as plating performed in the printed circuit board manufacturing process. Adhesiveness that does not peel in the processing step is necessary. From such a viewpoint, the peel strength between the metal foil and the plate-like carrier is preferably 10 gf / cm or more, more preferably 30 gf / cm or more, and even more preferably 50 gf / cm or more. Therefore, it is preferably 200 gf / cm or less, more preferably 150 gf / cm or less, and still more preferably 80 gf / cm or less. By setting the peel strength between the metal foil and the plate-like carrier in such a range, it can be easily peeled off by hand, that is, mechanically peeled off without being peeled off during transport or processing.

また、キャリア付金属箔は、平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状をとる。このような「90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状」の代表的な例としては、平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、直線と曲線とで囲まれた形状が挙げられる。このとき、曲線は円弧または楕円弧である。また、別の代表例としては、すべての内角が90度より大きい角度の多角形状、例えばすべての内角が90度より大きく、かつ180度より小さい角度の凸多角形状が挙げられる。さらに、別の代表例としては、曲線のみで囲まれた形状が挙げられる。   Further, the metal foil with carrier has a shape in which the metal foil and the plate-like carrier have the same shape and have no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan. As a typical example of such a “shape having no corner (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less”, the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in plan, and And a shape surrounded by straight lines and curves. At this time, the curve is an arc or an elliptical arc. Another representative example is a polygonal shape with all internal angles larger than 90 degrees, for example, a convex polygonal shape with all internal angles larger than 90 degrees and smaller than 180 degrees. Furthermore, another typical example is a shape surrounded only by a curve.

このような構造の具体例としては、平面視したときに、図3に示したように直線と曲線とで囲まれた形状や、図5に示したように内角が90度より大きい角度の多角形状が挙げられる。   Specific examples of such a structure include a shape surrounded by straight lines and curves as shown in FIG. 3 when viewed in plan, or a polygon having an interior angle larger than 90 degrees as shown in FIG. Shape.

図3、4は、キャリア付金属箔の典型的な構成例を示す。図3はこの構成例を平面視したときの図であり、図4はこの構成例を重ね合わせる方向に対して垂直な方向から見たときの図である。
図3、4において、板状キャリア21と金属箔22と貼り合わせてキャリア付金属箔20を構成するが、平面視したときに、金属箔22と板状キャリア21とが同一の形状であり、かつ、図3に示すように、金属箔22および板状キャリア21はともに辺と曲面34で囲まれた形状である。
3 and 4 show typical configuration examples of the metal foil with a carrier. FIG. 3 is a diagram when this configuration example is viewed in plan, and FIG. 4 is a diagram when the configuration example is viewed from a direction perpendicular to the direction in which the configuration example is superimposed.
3 and 4, the plate-like carrier 21 and the metal foil 22 are bonded together to constitute the carrier-attached metal foil 20, but when viewed in plan, the metal foil 22 and the plate-like carrier 21 have the same shape, In addition, as shown in FIG. 3, both the metal foil 22 and the plate-like carrier 21 have a shape surrounded by sides and a curved surface 34.

また、図5、6は、キャリア付金属箔の他の典型的な構成例を示す。図5はこの構成例を平面視したときの図であり、図6はこの構成例を重ね合わせる方向に対して垂直な方向から見たときの図である。
図5、6において、板状キャリア31と金属箔32と貼り合わせてキャリア付金属箔30を構成するが、平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、図5に示すように、内角が90℃より大きい角度の多角形状である。すなわち、図3のキャリア付金属箔の曲面34のかわりに、金属箔32と板状キャリア31との積層方向において、平坦面が構成される形状である。
5 and 6 show other typical configuration examples of the metal foil with carrier. FIG. 5 is a diagram when this configuration example is viewed in plan, and FIG. 6 is a diagram when the configuration example is viewed from a direction perpendicular to the direction in which the configuration example is superimposed.
5 and 6, the plate-like carrier 31 and the metal foil 32 are laminated to constitute the metal foil 30 with a carrier, and when viewed in plan, the metal foil and the plate-like carrier have the same shape, And as shown in FIG. 5, it is a polygonal shape whose interior angle is an angle larger than 90 degreeC. That is, instead of the curved surface 34 of the metal foil with a carrier in FIG. 3, a flat surface is formed in the stacking direction of the metal foil 32 and the plate-like carrier 31.

このような構成とすることにより、最も他の部材が当接しやすい四角の角近辺に、突出した部分がないため、他の部材がぶつかって生じる外力だけでは、板状キャリアと金属箔との界面での大きな応力変化が起こりにくくなることから、ハンドリング中の板状キャリアと金属箔との剥がれを少なくすることができる。   By adopting such a configuration, there is no projecting portion in the vicinity of the square where the other member is most likely to come into contact, so the interface between the plate-like carrier and the metal foil can be obtained only by an external force generated by the collision of the other member. As a result, it is difficult for a large stress change to occur, so that peeling between the plate-like carrier and the metal foil during handling can be reduced.

また、図3〜図6では、板状キャリアの片面にのみ金属箔を貼り合わせる態様を示したが、両面ともに金属箔を貼り合わせてもよい。   Moreover, although the aspect which bonds a metal foil only to the single side | surface of a plate-shaped carrier was shown in FIGS. 3-6, you may bond a metal foil to both surfaces.

また、後述するように、上述のキャリア付金属箔を端部にて切断する用途に用いる際に、平面視したときに、この切断して除去する領域において、ドリルなどを用いて、直径0.01mm〜10mm程度の孔を1〜10箇所程度設けてもよい。このように設けられた孔は、後述する多層金属張積層板の製造や、ビルドアップ基板の製造に際して、位置決めピンなどを固定するための手段として用いることができる。   In addition, as will be described later, when the above-described metal foil with a carrier is used for cutting at an end portion, when viewed in a plan view, a region having a diameter of 0. About 1 to 10 holes having a diameter of about 01 mm to 10 mm may be provided. The holes provided in this way can be used as means for fixing positioning pins or the like in the production of a multilayer metal-clad laminate described later or the build-up board.

次に、後述するキャリア付金属箔の用途に要求される密着性を実現するために、板状キャリアと金属箔とを貼り合わせるときに好ましく用いることができる離型剤または離型材について説明する。   Next, a release agent or a release material that can be preferably used when the plate-like carrier and the metal foil are bonded together in order to realize the adhesion required for the use of the metal foil with a carrier described later will be described.

(1)シラン化合物
次式に示す構造を有するシラン化合物、またはその加水分解生成物質、または該加水分解生成物質の縮合体(以下、単にシラン化合物と記述する)を単独でまたは複数混合して使用して、板状キャリアと金属箔を貼り合わせることで、適度に密着性が低下し、剥離強度を後述するような範囲に調節できる。
(1) Silane compound A silane compound having a structure represented by the following formula, a hydrolysis product thereof, or a condensate of the hydrolysis product (hereinafter simply referred to as a silane compound) is used alone or in combination. Then, by sticking the plate-like carrier and the metal foil, the adhesiveness is moderately lowered, and the peel strength can be adjusted to a range as described later.

式:

Figure 0005887420
formula:
Figure 0005887420

(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)

当該シラン化合物はアルコキシ基を少なくとも一つ有していることが必要である。アルコキシ基が存在せずに、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基のみで置換基が構成される場合、板状キャリアと金属箔表面の密着性が低下し過ぎる傾向がある。また、当該シラン化合物はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基を少なくとも一つ有していることが必要である。当該炭化水素基が存在しない場合、板状キャリアと金属箔表面の密着性が上昇する傾向があるからである。なお、本願発明に係るアルコキシ基には一つ以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたアルコキシ基も含まれるものとする。   The silane compound needs to have at least one alkoxy group. A hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group in the absence of an alkoxy group, or any one of these hydrocarbons in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom When a substituent is comprised only by group, there exists a tendency for the adhesiveness of a plate-shaped carrier and metal foil surface to fall too much. The silane compound is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group, or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom. It is necessary to have at least one. This is because when the hydrocarbon group does not exist, the adhesion between the plate-like carrier and the metal foil surface tends to increase. The alkoxy group according to the present invention includes an alkoxy group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms.

板状キャリアと金属箔の剥離強度を上述した範囲に調節する上では、当該シラン化合物はアルコキシ基を三つ、上記炭化水素基(一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換された炭化水素基を含む)を一つ有していることが好ましい。これを上の式でいえば、R3及びR4の両方がアルコキシ基ということになる。In adjusting the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil to the above-mentioned range, the silane compound has three alkoxy groups and the hydrocarbon group (a hydrocarbon group in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom). It is preferable to have one). In terms of the above formula, both R 3 and R 4 are alkoxy groups.

アルコキシ基としては、限定的ではないが、メトキシ基、エトキシ基、n−又はiso−プロポキシ基、n−、iso−又はtert−ブトキシ基、n−、iso−又はneo−ペントキシ基、n−ヘキソキシ基、シクロヘキシソキシ基、n−ヘプトキシ基、及びn−オクトキシ基等の直鎖状、分岐状、又は環状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include, but are not limited to, methoxy group, ethoxy group, n- or iso-propoxy group, n-, iso- or tert-butoxy group, n-, iso- or neo-pentoxy group, n-hexoxy. Group, cyclohexyloxy group, n-heptoxy group, n-octoxy group, etc., linear, branched, or cyclic carbon number of 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5 alkoxy groups.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルキル基としては、限定的ではないが、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、iso−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。   Examples of the alkyl group include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, iso- or tert-butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, and n-hexyl. A linear or branched alkyl group having 1 to 20, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, such as a group, an n-octyl group, and an n-decyl group.

シクロアルキル基としては、限定的ではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜10、好ましくは炭素数5〜7のシクロアルキル基が挙げられる。   Examples of the cycloalkyl group include, but are not limited to, cyclopropyl groups, cyclobutyl groups, cyclopentyl groups, cyclohexyl groups, cycloheptyl groups, cyclooctyl groups, and the like. An alkyl group is mentioned.

アリール基としては、フェニル基、アルキル基で置換されたフェニル基(例:トリル基、キシリル基)、1−又は2−ナフチル基、アントリル基等の炭素数6〜20、好ましくは6〜14のアリール基が挙げられる。   As the aryl group, a phenyl group substituted with an alkyl group (eg, tolyl group, xylyl group), 1- or 2-naphthyl group, anthryl group, etc., having 6 to 20, preferably 6 to 14 carbon atoms. An aryl group is mentioned.

これらの炭化水素基は一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよく、例えば、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置換されることができる。   In these hydrocarbon groups, one or more hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom, and may be substituted with, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom.

好ましいシラン化合物の例としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、n−又はiso−プロピルトリメトキシシラン、n−、iso−又はtert−ブチルトリメトキシシラン、n−、iso−又はneo−ペンチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン;アルキル置換フェニルトリメトキシシラン(例えば、p−(メチル)フェニルトリメトキシシラン)、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−又はiso−プロピルトリエトキシシラン、n−、iso−又はtert−ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、アルキル置換フェニルトリエトキシシラン(例えば、p−(メチル)フェニルトリエトキシシラン)、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、及びトリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、トリメチルフルオロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジフェニルジブロモシラン、これらの加水分解生成物、及びこれらの加水分解生成物の縮合体などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性の観点から、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランが好ましい。   Examples of preferred silane compounds include methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, n- or iso-propyltrimethoxysilane, n-, iso- or tert-butyltrimethoxysilane, n-, iso- or neo-pentyl. Trimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane; alkyl-substituted phenyltrimethoxysilane (eg, p- (methyl) phenyltrimethoxysilane), methyltriethoxysilane, ethyl Triethoxysilane, n- or iso-propyltriethoxysilane, n-, iso- or tert-butyltriethoxysilane, pentyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxy Lan, decyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, alkyl-substituted phenyltriethoxysilane (eg, p- (methyl) phenyltriethoxysilane), (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, and trideca Fluorooctyltriethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, phenyltrichlorosilane, trimethylfluorosilane, dimethyldibromosilane, diphenyldibromosilane, their hydrolysis products, and condensates of these hydrolysis products Etc. Among these, propyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and decyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoint of availability.

キャリア付き金属箔は板状キャリアと金属箔をホットプレスで密着させて製造可能である。例えば、金属箔及び/又は板状キャリアの貼り合わせ面に前記シラン化合物を塗工した上で、金属箔の貼り合わせ面に対して、Bステージの樹脂製の板状キャリアをホットプレス積層することで製造可能である。   The metal foil with a carrier can be produced by bringing a plate-like carrier and the metal foil into close contact with each other by hot pressing. For example, after the silane compound is applied to the bonding surface of the metal foil and / or plate carrier, the B-stage resin plate carrier is hot-press laminated on the bonding surface of the metal foil. Can be manufactured.

シラン化合物は水溶液の形態で使用することができる。水への溶解性を高めるためにメタノールやエタノールなどのアルコールを添加することもできる。アルコールの添加は特に疎水性の高いシラン化合物を使用するときに有効である。シラン化合物の水溶液は、撹拌することでアルコキシ基の加水分解が促進され、撹拌時間が長いと加水分解生成物の縮合が促進される。一般には、十分な撹拌時間を経て加水分解および縮合が進んだシラン化合物を用いた方が金属箔と板状キャリアの剥離強度は低下する傾向にある。従って、撹拌時間の調整によって剥離強度を調整可能である。限定的ではないが、シラン化合物を水に溶解させた後の撹拌時間としては例えば1〜100時間とすることができ、典型的には1〜30時間とすることができる。当然ながら、撹拌せずに用いる方法もある。   The silane compound can be used in the form of an aqueous solution. Alcohols such as methanol and ethanol can be added in order to increase the solubility in water. The addition of alcohol is particularly effective when a highly hydrophobic silane compound is used. By stirring the aqueous solution of the silane compound, hydrolysis of the alkoxy group is promoted, and when the stirring time is long, condensation of the hydrolysis product is promoted. In general, the peel strength between the metal foil and the plate carrier tends to decrease when a silane compound that has undergone hydrolysis and condensation after a sufficient stirring time has been used. Therefore, the peel strength can be adjusted by adjusting the stirring time. Although it is not limited, the stirring time after the silane compound is dissolved in water can be, for example, 1 to 100 hours, and typically 1 to 30 hours. Of course, there is a method of using without stirring.

シラン化合物の水溶液中のシラン化合物の濃度は高い方が金属箔と板状キャリアの剥離強度は低下する傾向にあり、シラン化合物の濃度調整によって剥離強度を調整可能である。限定的ではないが、シラン化合物の水溶液中の濃度は0.01〜10.0体積%とすることができ、典型的には0.1〜5.0体積%とすることができる。   The higher the concentration of the silane compound in the aqueous solution of the silane compound, the lower the peel strength between the metal foil and the plate carrier, and the peel strength can be adjusted by adjusting the concentration of the silane compound. Although it is not limited, the concentration of the silane compound in the aqueous solution can be 0.01 to 10.0% by volume, and typically 0.1 to 5.0% by volume.

シラン化合物の水溶液のpHは特に制限はなく、酸性側でもアルカリ性側でも利用できる。例えば3.0〜10.0の範囲のpHで使用できる。特段のpH調整が不要であるという観点から中性付近である5.0〜9.0の範囲のpHとするのが好ましく、7.0〜9.0の範囲のpHとするのがより好ましい。   The pH of the aqueous solution of the silane compound is not particularly limited and can be used on either the acidic side or the alkaline side. For example, it can be used at a pH in the range of 3.0 to 10.0. From the standpoint that no special pH adjustment is necessary, it is preferable to set the pH in the range of 5.0 to 9.0, which is near neutral, and more preferable to set the pH in the range of 7.0 to 9.0. .

(2)分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物
分子内に2つ以上のメルカプト基を有する化合物を使用して、板状キャリアと金属箔を貼り合わせることによっても、適度に密着性が低下し、剥離強度を後述するような範囲に調節できる。
但し、分子内に3つ以上のメルカプト基を有する化合物またはその塩を板状キャリアと金属箔との間に介在させて貼り合わせた場合、本願記載の剥離強度低減の目的には適さない。これは、分子内にメルカプト基が過剰に存在するとメルカプト基同士、またはメルカプト基と板状キャリア、またはメルカプト基と金属箔との化学反応によってスルフィド結合、ジスルフィド結合またはポリスルフィド結合が過剰に生成し、板状キャリアと金属箔の間に強固な3次元架橋構造が形成されることで剥離強度が上昇することがあると考えられるからである。このような事例は特許文献2(特開2000−196207)に開示されている。
(2) Compound having two or less mercapto groups in the molecule By using a compound having two or more mercapto groups in the molecule and laminating the plate-like carrier and the metal foil, moderate adhesion can be obtained. The peel strength can be adjusted to a range as described later.
However, when a compound having three or more mercapto groups in the molecule or a salt thereof is bonded between the plate carrier and the metal foil, it is not suitable for the purpose of reducing the peel strength described in the present application. This is because when there is an excessive amount of mercapto groups in the molecule, an excessive amount of sulfide bonds, disulfide bonds or polysulfide bonds are generated by the chemical reaction between the mercapto groups, or the mercapto group and the plate carrier, or the mercapto group and the metal foil, This is because it is considered that the peel strength may be increased by forming a strong three-dimensional crosslinked structure between the plate-like carrier and the metal foil. Such a case is disclosed in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-196207).

この分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物としては、チオール、ジチオール、チオカルボン酸またはその塩、ジチオカルボン酸またはその塩、チオスルホン酸またはその塩、およびジチオスルホン酸またはその塩が挙げられ、これらの中から選択される少なくとも一種を用いることができる。   Examples of the compound having two or less mercapto groups in the molecule include thiol, dithiol, thiocarboxylic acid or a salt thereof, dithiocarboxylic acid or a salt thereof, thiosulfonic acid or a salt thereof, and dithiosulfonic acid or a salt thereof. At least one selected from these can be used.

チオールは、分子内に一つのメルカプト基を有するものであり、例えばR−SHで表される。ここで、Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。   The thiol has one mercapto group in the molecule and is represented by R-SH, for example. Here, R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group.

ジチオールは、分子内に二つのメルカプト基を有するものであり、例えばR(SH)2で表される。Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。また、二つのメルカプト基は、それぞれ同じ炭素に結合してもよいし、互いに別々の炭素または窒素に結合してもよい。Dithiol has two mercapto groups in the molecule and is represented by, for example, R (SH) 2 . R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group. Two mercapto groups may be bonded to the same carbon, or may be bonded to different carbons or nitrogens.

チオカルボン酸は、有機カルボン酸の水酸基がメルカプト基に置換されたものであり、例えばR−CO−SHで表される。Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。また、チオカルボン酸は、塩の形態でも使用することが可能である。なお、チオカルボン酸基を、二つ有する化合物も使用可能である。   A thiocarboxylic acid is one in which a hydroxyl group of an organic carboxylic acid is substituted with a mercapto group, and is represented by R-CO-SH, for example. R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group. The thiocarboxylic acid can also be used in the form of a salt. A compound having two thiocarboxylic acid groups can also be used.

ジチオカルボン酸は、有機カルボン酸のカルボキシ基中の2つの酸素原子が硫黄原子に置換されたものであり、例えばR−(CS)−SHで表される。Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。また、ジチオカルボン酸は、塩の形態でも使用することが可能である。なお、ジチオカルボン酸基を、二つ有する化合物も使用可能である。   The dithiocarboxylic acid is one in which two oxygen atoms in the carboxy group of the organic carboxylic acid are substituted with sulfur atoms, and is represented by, for example, R- (CS) -SH. R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group. Dithiocarboxylic acid can also be used in the form of a salt. A compound having two dithiocarboxylic acid groups can also be used.

チオスルホン酸は、有機スルホン酸の水酸基がメルカプト基に置換されたものであり、例えばR(SO2)−SHで表される。Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。また、チオスルホン酸は、塩の形態でも使用することが可能である。The thiosulfonic acid is obtained by replacing the hydroxyl group of an organic sulfonic acid with a mercapto group, and is represented by, for example, R (SO 2 ) —SH. R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group. Further, thiosulfonic acid can be used in the form of a salt.

ジチオスルホン酸は、有機ジスルホン酸の二つの水酸基がそれぞれメルカプト基に置換されたものであり、例えばR−((SO2)−SH)2で表される。Rは、水酸基またはアミノ基を含んでもよい、脂肪族系または芳香族系炭化水素基または複素環基を表す。また、二つのチオスルホン酸基は、それぞれ同じ炭素に結合してもよいし、互いに別々の炭素に結合してもよい。また、ジチオスルホン酸は、塩の形態でも使用することが可能である。Dithiosulfonic acid is one in which two hydroxyl groups of an organic disulfonic acid are each substituted with a mercapto group, and is represented by, for example, R-((SO 2 ) -SH) 2 . R represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group which may contain a hydroxyl group or an amino group. Two thiosulfonic acid groups may be bonded to the same carbon, or may be bonded to different carbons. Dithiosulfonic acid can also be used in the form of a salt.

ここで、Rとして好適な脂肪族系炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基が挙げられ、これら炭化水素基は水酸基とアミノ基のどちらかまたは両方を含んでいてもよい。   Here, examples of the aliphatic hydrocarbon group suitable as R include an alkyl group and a cycloalkyl group, and these hydrocarbon groups may contain either or both of a hydroxyl group and an amino group.

また、アルキル基としては、限定的ではないが、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、iso−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。   Examples of the alkyl group include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, iso- or tert-butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, n -A linear or branched alkyl group having 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5 carbon atoms, such as a hexyl group, an n-octyl group, and an n-decyl group. .

また、シクロアルキル基としては、限定的ではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜10、好ましくは炭素数5〜7のシクロアルキル基が挙げられる。   Moreover, as a cycloalkyl group, although it is not limited, C3-C10, such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, Preferably it is C5-C7 Of the cycloalkyl group.

また、Rとして好適な芳香族炭化水素基としては、フェニル基、アルキル基で置換されたフェニル基(例:トリル基、キシリル基)、1−又は2−ナフチル基、アントリル基等の炭素数6〜20、好ましくは6〜14のアリール基が挙げられ、これら炭化水素基は水酸基とアミノ基のどちらかまたは両方を含んでいてもよい。   Further, examples of the aromatic hydrocarbon group suitable as R include a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group (eg, tolyl group, xylyl group), 1- or 2-naphthyl group, anthryl group and the like. -20, preferably 6-14 aryl groups are included, and these hydrocarbon groups may contain either or both of a hydroxyl group and an amino group.

また、Rとして好適な複素環基としては、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールが挙げられ、水酸基とアミノ基のどちらかまたは両方を含んでいてもよい。   Moreover, examples of the heterocyclic group suitable as R include imidazole, triazole, tetrazole, benzimidazole, benzotriazole, thiazole, and benzothiazole, which may contain one or both of a hydroxyl group and an amino group.

分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物の好ましい例としては、3−メルカプト−1,2プロパンジオール、2−メルカプトエタノール、1,2−エタンジチオール、6−メルカプト−1−ヘキサノール、1−オクタンチオール、1−ドデカンチオール、10−ヒドロキシ−1−ドデカンチオール、10−カルボキシ−1−ドデカンチオール、10−アミノ−1−ドデカンチオール、1−ドデカンチオールスルホン酸ナトリウム、チオフェノール、チオ安息香酸、4−アミノ−チオフェノール、p−トルエンチオール、2,4−ジメチルベンゼンチオール、3−メルカプト−1,2,4トリアゾール、2−メルカプト−ベンゾチアゾールが挙げられる。これらの中でも水溶性と廃棄物処理上の観点から、3−メルカプト−1,2プロパンジオールが好ましい。   Preferred examples of the compound having 2 or less mercapto groups in the molecule include 3-mercapto-1,2propanediol, 2-mercaptoethanol, 1,2-ethanedithiol, 6-mercapto-1-hexanol, 1- Octanethiol, 1-dodecanethiol, 10-hydroxy-1-dodecanethiol, 10-carboxy-1-dodecanethiol, 10-amino-1-dodecanethiol, sodium 1-dodecanethiolsulfonate, thiophenol, thiobenzoic acid, Examples include 4-amino-thiophenol, p-toluenethiol, 2,4-dimethylbenzenethiol, 3-mercapto-1,2,4 triazole, and 2-mercapto-benzothiazole. Among these, 3-mercapto-1,2 propanediol is preferable from the viewpoint of water solubility and waste disposal.

キャリア付金属箔は板状キャリアと金属箔をホットプレスで密着させて製造可能である。例えば、金属箔及び/又は板状キャリアの貼り合わせ面に前記分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を被覆処理した上で、金属箔の貼り合わせ面に対して、Bステージの樹脂製の板状キャリアをホットプレス積層することで製造可能である。   The metal foil with a carrier can be produced by bringing a plate-like carrier and the metal foil into close contact with each other by hot pressing. For example, after a metal foil and / or a plate-like carrier bonding surface is coated with a compound having two or less mercapto groups in the molecule, the metal foil bonding surface is made of a B-stage resin. This plate-shaped carrier can be manufactured by hot press lamination.

分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物は水溶液の形態で使用することができる。水への溶解性を高めるためにメタノールやエタノールなどのアルコールを添加することもできる。アルコールの添加は特に疎水性の高い分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を使用するときに有効である。   A compound having two or less mercapto groups in the molecule can be used in the form of an aqueous solution. Alcohols such as methanol and ethanol can be added in order to increase the solubility in water. The addition of alcohol is particularly effective when a compound having two or less mercapto groups in a highly hydrophobic molecule is used.

分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物の水溶液中の濃度は高い方が金属箔と板状キャリアの剥離強度は低下する傾向にあり、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物の濃度調整によって剥離強度を調整可能である。限定的ではないが、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物の水溶液中の濃度は0.01〜10.0重量%とすることができ、典型的には0.1〜5.0重量%とすることができる。   The higher the concentration of the compound having 2 or less mercapto groups in the molecule in the aqueous solution, the lower the peel strength between the metal foil and the plate carrier, and the lower the concentration of the compound having 2 or less mercapto groups in the molecule. The peel strength can be adjusted by adjusting the concentration. Although it is not limited, the concentration of the compound having 2 or less mercapto groups in the molecule in the aqueous solution can be 0.01 to 10.0% by weight, typically 0.1 to 5.0%. % By weight.

分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物の水溶液のpHは特に制限はなく、酸性側でもアルカリ性側でも利用できる。例えば3.0〜10.0の範囲のpHで使用できる。特段のpH調整が不要であるという観点から中性付近である5.0〜9.0の範囲のpHとするのが好ましく、7.0〜9.0の範囲のpHとするのがより好ましい。   The pH of the aqueous solution of the compound having two or less mercapto groups in the molecule is not particularly limited and can be used on either the acidic side or the alkaline side. For example, it can be used at a pH in the range of 3.0 to 10.0. From the standpoint that no special pH adjustment is necessary, it is preferable to set the pH in the range of 5.0 to 9.0, which is near neutral, and more preferable to set the pH in the range of 7.0 to 9.0. .

(3)金属アルコキシド
次式に示す構造を有するアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、またはその加水分解生成物質、または該加水分解生成物質の縮合体(以下、単に金属アルコキシドと記述する)を単独でまたは複数混合して使用して、板状キャリアと金属箔を貼り合わせることで、適度に密着性が低下し、剥離強度を後述するような範囲に調節できる。
(3) Metal alkoxide An aluminate compound, titanate compound, zirconate compound, or a hydrolysis product thereof having a structure represented by the following formula, or a condensation product of the hydrolysis product (hereinafter simply referred to as a metal alkoxide) alone By adhering the plate-like carrier and the metal foil to each other or using a mixture of them, the adhesiveness is moderately lowered, and the peel strength can be adjusted to a range as described later.

Figure 0005887420
Figure 0005887420

式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である。In the formula, R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms. Any one of these substituted hydrocarbon groups, M is any one of Al, Ti, and Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M, and R1 At least one of these is an alkoxy group. M + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr.

当該金属アルコキシドはアルコキシ基を少なくとも一つ有していることが必要である。アルコキシ基が存在せずに、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基のみで置換基が構成される場合、板状キャリアと金属箔表面の密着性が低下し過ぎる傾向がある。また、当該金属アルコキシドはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基を0〜2個有していることが必要である。当該炭化水素基を3つ以上有する場合、板状キャリアと金属箔表面の密着性が低下し過ぎる傾向があるからである。なお、本願発明に係るアルコキシ基には一つ以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたアルコキシ基も含まれるものとする。 板状キャリアと金属箔の剥離強度を上述した範囲に調節する上では、当該金属アルコキシドはアルコキシ基を二つ以上、上記炭化水素基(一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換された炭化水素基を含む)を一つか二つ有していることが好ましい。   The metal alkoxide needs to have at least one alkoxy group. A hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group in the absence of an alkoxy group, or any one of these hydrocarbons in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom When a substituent is comprised only by group, there exists a tendency for the adhesiveness of a plate-shaped carrier and metal foil surface to fall too much. The metal alkoxide is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group, or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom. It is necessary to have 0 to 2 pieces. This is because when three or more hydrocarbon groups are present, the adhesion between the plate-like carrier and the metal foil surface tends to be excessively lowered. The alkoxy group according to the present invention includes an alkoxy group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms. In adjusting the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil to the above-mentioned range, the metal alkoxide has two or more alkoxy groups and the hydrocarbon group (a hydrocarbon in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom). It preferably has one or two groups).

また、アルキル基としては、限定的ではないが、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、iso−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。   Examples of the alkyl group include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, iso- or tert-butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, n -A linear or branched alkyl group having 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5 carbon atoms, such as a hexyl group, an n-octyl group, and an n-decyl group. .

また、シクロアルキル基としては、限定的ではないが、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜10、好ましくは炭素数5〜7のシクロアルキル基が挙げられる。   Moreover, as a cycloalkyl group, although it is not limited, C3-C10, such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, Preferably it is C5-C7 Of the cycloalkyl group.

また、R2として好適な芳香族炭化水素基としては、フェニル基、アルキル基で置換されたフェニル基(例:トリル基、キシリル基)、1−又は2−ナフチル基、アントリル基等の炭素数6〜20、好ましくは6〜14のアリール基が挙げられ、これら炭化水素基は水酸基とアミノ基のどちらかまたは両方を含んでいてもよい。
これらの炭化水素基は一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されてもよく、例えば、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置換されることができる。
In addition, examples of the aromatic hydrocarbon group suitable as R 2 include a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group (eg, tolyl group, xylyl group), 1- or 2-naphthyl group, anthryl group, and the like. Examples thereof include 6 to 20, preferably 6 to 14, aryl groups, and these hydrocarbon groups may contain one or both of a hydroxyl group and an amino group.
In these hydrocarbon groups, one or more hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom, and may be substituted with, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom.

好ましいアルミネート化合物の例としては、トリメトキシアルミニウム、メチルジメトキシアルミニウム、エチルジメトキシアルミニウム、n−又はiso−プロピルジメトキシアルミニウム、n−、iso−又はtert−ブチルジメトキシアルミニウム、n−、iso−又はneo−ペンチルジメトキシアルミニウム、ヘキシルジメトキシアルミニウム、オクチルジメトキシアルミニウム、デシルジメトキシアルミニウム、フェニルジメトキシアルミニウム;アルキル置換フェニルジメトキシアルミニウム(例えば、p−(メチル)フェニルジメトキシアルミニウム)、ジメチルメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、メチルジエトキシアルミニウム、エチルジエトキシアルミニウム、n−又はiso−プロピルジエトキシアルミニウム、n−、iso−又はtert−ブチルジエトキシアルミニウム、ペンチルジエトキシアルミニウム、ヘキシルジエトキシアルミニウム、オクチルジエトキシアルミニウム、デシルジエトキシアルミニウム、フェニルジエトキシアルミニウム、アルキル置換フェニルジエトキシアルミニウム(例えば、p−(メチル)フェニルジエトキシアルミニウム)、ジメチルエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、メチルジイソプロポキシアルミニウム、エチルジイソプロポキシアルミニウム、n−又はiso−プロピルジエトキシアルミニウム、n−、iso−又はtert−ブチルジイソプロポキシアルミニウム、ペンチルジイソプロポキシアルミニウム、ヘキシルジイソプロポキシアルミニウム、オクチルジイソプロポキシアルミニウム、デシルジイソプロポキシアルミニウム、フェニルジイソプロポキシアルミニウム、アルキル置換フェニルジイソプロポキシアルミニウム(例えば、p−(メチル)フェニルジイソプロポキシアルミニウム)、ジメチルイソプロポキシアルミニウム、(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメトキシアルミニウム、及びトリデカフルオロオクチルジエトキシアルミニウム、メチルジクロロアルミニウム、ジメチルクロロアルミニウム、ジメチルクロロアルミニウム、フェニルジクロロアルミニウム、ジメチルフルオロアルミニウム、ジメチルブロモアルミニウム、ジフェニルブロモアルミニウム、これらの加水分解生成物、及びこれらの加水分解生成物の縮合体などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性の観点から、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、が好ましい。   Examples of preferred aluminate compounds include trimethoxyaluminum, methyldimethoxyaluminum, ethyldimethoxyaluminum, n- or iso-propyldimethoxyaluminum, n-, iso- or tert-butyldimethoxyaluminum, n-, iso- or neo- Pentyl dimethoxy aluminum, hexyl dimethoxy aluminum, octyl dimethoxy aluminum, decyl dimethoxy aluminum, phenyl dimethoxy aluminum; alkyl-substituted phenyl dimethoxy aluminum (for example, p- (methyl) phenyl dimethoxy aluminum), dimethyl methoxy aluminum, triethoxy aluminum, methyl diethoxy aluminum Ethyldiethoxyaluminum, n- or iso-propyldiethoxy Luminium, n-, iso- or tert-butyldiethoxyaluminum, pentyldiethoxyaluminum, hexyldiethoxyaluminum, octyldiethoxyaluminum, decyldiethoxyaluminum, phenyldiethoxyaluminum, alkyl-substituted phenyldiethoxyaluminum (eg p -(Methyl) phenyldiethoxyaluminum), dimethylethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum, methyldiisopropoxyaluminum, ethyldiisopropoxyaluminum, n- or iso-propyldiethoxyaluminum, n-, iso- or tert-butyl Diisopropoxy aluminum, pentyl diisopropoxy aluminum, hexyl diisopropoxy aluminum, octyl diiso Ropoxyaluminum, decyldiisopropoxyaluminum, phenyldiisopropoxyaluminum, alkyl-substituted phenyldiisopropoxyaluminum (eg, p- (methyl) phenyldiisopropoxyaluminum), dimethylisopropoxyaluminum, (3,3,3- Trifluoropropyl) dimethoxyaluminum, and tridecafluorooctyldiethoxyaluminum, methyldichloroaluminum, dimethylchloroaluminum, dimethylchloroaluminum, phenyldichloroaluminum, dimethylfluoroaluminum, dimethylbromoaluminum, diphenylbromoaluminum, and their hydrolysis products And condensates of these hydrolysis products. Among these, from the viewpoint of availability, trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, and triisopropoxyaluminum are preferable.

好ましいチタネート化合物の例としては、テトラメトキシチタン、メチルトリメトキシチタン、エチルトリメトキシチタン、n−又はiso−プロピルトリメトキシチタン、n−、iso−又はtert−ブチルトリメトキシチタン、n−、iso−又はneo−ペンチルトリメトキシチタン、ヘキシルトリメトキシチタン、オクチルトリメトキシチタン、デシルトリメトキシチタン、フェニルトリメトキシチタン;アルキル置換フェニルトリメトキシチタン(例えば、p−(メチル)フェニルトリメトキシチタン)、ジメチルジメトキシチタン、テトラエトキシチタン、メチルトリエトキシチタン、エチルトリエトキシチタン、n−又はiso−プロピルトリエトキシチタン、n−、iso−又はtert−ブチルトリエトキシチタン、ペンチルトリエトキシチタン、ヘキシルトリエトキシチタン、オクチルトリエトキシチタン、デシルトリエトキシチタン、フェニルトリエトキシチタン、アルキル置換フェニルトリエトキシチタン(例えば、p−(メチル)フェニルトリエトキシチタン)、ジメチルジエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、メチルトリイソプロポキシチタン、エチルトリイソプロポキシチタン、n−又はiso−プロピルトリエトキシチタン、n−、iso−又はtert−ブチルトリイソプロポキシチタン、ペンチルトリイソプロポキシチタン、ヘキシルトリイソプロポキシチタン、オクチルトリイソプロポキシチタン、デシルトリイソプロポキシチタン、フェニルトリイソプロポキシチタン、アルキル置換フェニルトリイソプロポキシチタン(例えば、p−(メチル)フェニルトリイソプロポキシチタン)、ジメチルジイソプロポキシチタン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシチタン、及びトリデカフルオロオクチルトリエトキシチタン、メチルトリクロロチタン、ジメチルジクロロチタン、トリメチルクロロチタン、フェニルトリクロロチタン、ジメチルジフルオロチタン、ジメチルジブロモチタン、ジフェニルジブロモチタン、これらの加水分解生成物、及びこれらの加水分解生成物の縮合体などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性の観点から、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、が好ましい。   Examples of preferred titanate compounds include tetramethoxy titanium, methyl trimethoxy titanium, ethyl trimethoxy titanium, n- or iso-propyl trimethoxy titanium, n-, iso- or tert-butyl trimethoxy titanium, n-, iso- Or neo-pentyltrimethoxytitanium, hexyltrimethoxytitanium, octyltrimethoxytitanium, decyltrimethoxytitanium, phenyltrimethoxytitanium; alkyl-substituted phenyltrimethoxytitanium (eg, p- (methyl) phenyltrimethoxytitanium), dimethyldimethoxy Titanium, tetraethoxy titanium, methyl triethoxy titanium, ethyl triethoxy titanium, n- or iso-propyl triethoxy titanium, n-, iso- or tert-butyl triethoxy titanium, Tiltlyethoxytitanium, Hexyltriethoxytitanium, Octyltriethoxytitanium, Decyltriethoxytitanium, Phenyltriethoxytitanium, Alkyl-substituted phenyltriethoxytitanium (eg, p- (methyl) phenyltriethoxytitanium), Dimethyldiethoxytitanium, Tetraisopropoxytitanium, methyltriisopropoxytitanium, ethyltriisopropoxytitanium, n- or iso-propyltriethoxytitanium, n-, iso- or tert-butyltriisopropoxytitanium, pentyltriisopropoxytitanium, hexyltriiso Propoxy titanium, octyltriisopropoxy titanium, decyl triisopropoxy titanium, phenyl triisopropoxy titanium, alkyl substituted phenyl triisopropoxy titanium (example P- (methyl) phenyltriisopropoxytitanium), dimethyldiisopropoxytitanium, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxytitanium, and tridecafluorooctyltriethoxytitanium, methyltrichlorotitanium, dimethyldichloro Examples include titanium, trimethylchlorotitanium, phenyltrichlorotitanium, dimethyldifluorotitanium, dimethyldibromotitanium, diphenyldibromotitanium, hydrolysis products thereof, and condensates of these hydrolysis products. Among these, tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, and tetraisopropoxy titanium are preferable from the viewpoint of availability.

好ましいジルコネート化合物の例としては、テトラメトキシジルコニウム、メチルトリメトキシジルコニウム、エチルトリメトキシジルコニウム、n−又はiso−プロピルトリメトキシジルコニウム、n−、iso−又はtert−ブチルトリメトキシジルコニウム、n−、iso−又はneo−ペンチルトリメトキシジルコニウム、ヘキシルトリメトキシジルコニウム、オクチルトリメトキシジルコニウム、デシルトリメトキシジルコニウム、フェニルトリメトキシジルコニウム;アルキル置換フェニルトリメトキシジルコニウム(例えば、p−(メチル)フェニルトリメトキシジルコニウム)、ジメチルジメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、メチルトリエトキシジルコニウム、エチルトリエトキシジルコニウム、n−又はiso−プロピルトリエトキシジルコニウム、n−、iso−又はtert−ブチルトリエトキシジルコニウム、ペンチルトリエトキシジルコニウム、ヘキシルトリエトキシジルコニウム、オクチルトリエトキシジルコニウム、デシルトリエトキシジルコニウム、フェニルトリエトキシジルコニウム、アルキル置換フェニルトリエトキシジルコニウム(例えば、p−(メチル)フェニルトリエトキシジルコニウム)、ジメチルジエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、メチルトリイソプロポキシジルコニウム、エチルトリイソプロポキシジルコニウム、n−又はiso−プロピルトリエトキシジルコニウム、n−、iso−又はtert−ブチルトリイソプロポキシジルコニウム、ペンチルトリイソプロポキシジルコニウム、ヘキシルトリイソプロポキシジルコニウム、オクチルトリイソプロポキシジルコニウム、デシルトリイソプロポキシジルコニウム、フェニルトリイソプロポキシジルコニウム、アルキル置換フェニルトリイソプロポキシジルコニウム(例えば、p−(メチル)フェニルトリイソプロポキシチタン)、ジメチルジイソプロポキシジルコニウム、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシジルコニウム、及びトリデカフルオロオクチルトリエトキシジルコニウム、メチルトリクロロジルコニウム、ジメチルジクロロジルコニウム、トリメチルクロロジルコニウム、フェニルトリクロロジルコニウム、ジメチルジフルオロジルコニウム、ジメチルジブロモジルコニウム、ジフェニルジブロモジルコニウム、これらの加水分解生成物、及びこれらの加水分解生成物の縮合体などが挙げられる。これらの中でも、入手の容易性の観点から、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、が好ましい。   Examples of preferred zirconate compounds include tetramethoxyzirconium, methyltrimethoxyzirconium, ethyltrimethoxyzirconium, n- or iso-propyltrimethoxyzirconium, n-, iso- or tert-butyltrimethoxyzirconium, n-, iso- Or neo-pentyltrimethoxyzirconium, hexyltrimethoxyzirconium, octyltrimethoxyzirconium, decyltrimethoxyzirconium, phenyltrimethoxyzirconium; alkyl-substituted phenyltrimethoxyzirconium (eg, p- (methyl) phenyltrimethoxyzirconium), dimethyldimethoxy Zirconium, tetraethoxyzirconium, methyltriethoxyzirconium, ethyltriethoxyzirconium, n Or iso-propyltriethoxyzirconium, n-, iso- or tert-butyltriethoxyzirconium, pentyltriethoxyzirconium, hexyltriethoxyzirconium, octyltriethoxyzirconium, decyltriethoxyzirconium, phenyltriethoxyzirconium, alkyl-substituted phenyltri Ethoxyzirconium (eg, p- (methyl) phenyltriethoxyzirconium), dimethyldiethoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, methyltriisopropoxyzirconium, ethyltriisopropoxyzirconium, n- or iso-propyltriethoxyzirconium, n- , Iso- or tert-butyltriisopropoxyzirconium, pentyltriisopropoxydi Konium, hexyltriisopropoxyzirconium, octyltriisopropoxyzirconium, decyltriisopropoxyzirconium, phenyltriisopropoxyzirconium, alkyl-substituted phenyltriisopropoxyzirconium (eg, p- (methyl) phenyltriisopropoxytitanium), dimethyldi Isopropoxyzirconium, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxyzirconium, and tridecafluorooctyltriethoxyzirconium, methyltrichlorozirconium, dimethyldichlorozirconium, trimethylchlorozirconium, phenyltrichlorozirconium, dimethyldifluorozirconium, dimethyldibromo Zirconium, diphenyldibromozirconium and their hydrolyzed products Examples thereof include condensates of these products and hydrolysis products thereof. Among these, tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, and tetraisopropoxyzirconium are preferable from the viewpoint of availability.

キャリア付金属箔は板状キャリアと金属箔をホットプレスで密着させて製造可能である。例えば、金属箔及び/又は板状キャリアの貼り合わせ面に前記分子内に前記金属アルコキシドを塗工処理した上で、金属箔の貼り合わせ面に対して、Bステージの樹脂製の板状キャリアをホットプレス積層することで製造可能である。   The metal foil with a carrier can be produced by bringing a plate-like carrier and the metal foil into close contact with each other by hot pressing. For example, after applying the metal alkoxide in the molecule to the bonding surface of the metal foil and / or plate carrier, the B-stage resin plate carrier is applied to the bonding surface of the metal foil. It can be manufactured by hot press lamination.

金属アルコキシドは水溶液の形態で使用することができる。水への溶解性を高めるためにメタノールやエタノールなどのアルコールを添加することもできる。アルコールの添加は特に疎水性の高い金属アルコキシドを使用するときに有効である。   The metal alkoxide can be used in the form of an aqueous solution. Alcohols such as methanol and ethanol can be added in order to increase the solubility in water. The addition of alcohol is particularly effective when a highly hydrophobic metal alkoxide is used.

金属アルコキシドの水溶液中の濃度は高い方が金属箔と板状キャリアの剥離強度は低下する傾向にあり、金属アルコキシド濃度調整によって剥離強度を調整可能である。限定的ではないが、金属アルコキシドの水溶液中の濃度は0.001〜1.0mol/Lとすることができ、典型的には0.005〜0.2mol/Lとすることができる。   The higher the concentration of the metal alkoxide in the aqueous solution, the lower the peel strength between the metal foil and the plate carrier, and the peel strength can be adjusted by adjusting the metal alkoxide concentration. Although not limited, the concentration of the metal alkoxide in the aqueous solution can be 0.001 to 1.0 mol / L, and typically 0.005 to 0.2 mol / L.

金属アルコキシドの水溶液のpHは特に制限はなく、酸性側でもアルカリ性側でも利用できる。例えば3.0〜10.0の範囲のpHで使用できる。特段のpH調整が不要であるという観点から中性付近である5.0〜9.0の範囲のpHとするのが好ましく、7.0〜9.0の範囲のpHとするのがより好ましい。   The pH of the aqueous solution of the metal alkoxide is not particularly limited and can be used on either the acidic side or the alkaline side. For example, it can be used at a pH in the range of 3.0 to 10.0. From the standpoint that no special pH adjustment is necessary, it is preferable to set the pH in the range of 5.0 to 9.0, which is near neutral, and more preferable to set the pH in the range of 7.0 to 9.0. .

(4)樹脂塗膜からなる離型材
板状キャリアと金属箔とを、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を使用して、板状キャリアと金属箔を貼り合わせることで、適度に密着性が低下し、剥離強度を後述するような範囲に調節できる。
(4) Release material comprising a resin coating film A resin comprising a plate-like carrier and a metal foil, and one or more resins selected from silicone, epoxy resin, melamine resin and fluororesin By sticking the plate-like carrier and the metal foil using the coating film, the adhesiveness is moderately lowered, and the peel strength can be adjusted to a range as described later.

このような密着性を実現するための剥離強度の調節は、後述するようにシリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を使用することで行う。このような樹脂塗膜に後述するような所定条件の焼付け処理を行って、板状キャリアと金属箔との間に用いてホットプレスして貼り合わせることで、適度に密着性が低下し、剥離強度を上述した範囲に調節できるようになるからである。   As described later, the adjustment of the peel strength for realizing such adhesion is composed of silicone and any one or a plurality of resins selected from an epoxy resin, a melamine resin, and a fluororesin. This is done by using a resin coating. Such a resin coating film is baked under predetermined conditions as described later, and is hot-pressed and bonded between the plate-like carrier and the metal foil, so that the adhesiveness is appropriately lowered and peeled. This is because the strength can be adjusted to the above-described range.

エポキシ系樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、アミン型エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、臭素化フェノキシ樹脂等が挙げられる。   Epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, brominated epoxy resin, amine type epoxy resin, flexible epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, phenoxy resin, Examples thereof include brominated phenoxy resin.

メラミン系樹脂としては、メチルエーテル化メラミン樹脂、ブチル化尿素メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、メチル化メラミン樹脂、ブチルアルコール変性メラミン樹脂等が挙げられる。また、メラミン系樹脂は、前記樹脂とブチル化尿素樹脂、ブチル化ベンゾグアナミン樹脂等との混合樹脂であってもよい。   Examples of the melamine-based resin include methyl etherified melamine resin, butylated urea melamine resin, butylated melamine resin, methylated melamine resin, and butyl alcohol-modified melamine resin. The melamine resin may be a mixed resin of the resin and a butylated urea resin, a butylated benzoguanamine resin, or the like.

なお、エポキシ系樹脂の数平均分子量は2000〜3000、メラミン系樹脂の数平均分子量は500〜1000であることが好ましい。このような数平均分子量を有することによって、樹脂の塗料化が可能になると共に、樹脂塗膜の接着強度を所定範囲に調整し易くなる。   The number average molecular weight of the epoxy resin is preferably 2000 to 3000, and the number average molecular weight of the melamine resin is preferably 500 to 1000. By having such a number average molecular weight, the resin can be made into a paint and the adhesive strength of the resin coating film can be easily adjusted to a predetermined range.

また、フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル等が挙げられる。   Examples of the fluororesin include polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and polyvinyl fluoride.

シリコーンとしては、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン、変性ジメチルポリシロキサン、これらの混合物等が挙げられる。ここで、変性とは、例えば、エポキシ変性、アルキル変性、アミノ変性、カルボキシル変性、アルコール変性、フッ素変性、アルキルアラルキルポリエーテル変性、エポキシポリエーテル変性、ポリエーテル変性、アルキル高級アルコールエステル変性、ポリエステル変性、アシロキシアルキル変性、ハロゲン化アルキルアシロキシアルキル変性、ハロゲン化アルキル変性、アミノグリコール変性、メルカプト変性、水酸基含有ポリエステル変性等が挙げられる。   Examples of silicone include methylphenylpolysiloxane, methylhydropolysiloxane, dimethylpolysiloxane, modified dimethylpolysiloxane, and mixtures thereof. Here, the modification is, for example, epoxy modification, alkyl modification, amino modification, carboxyl modification, alcohol modification, fluorine modification, alkylaralkyl polyether modification, epoxy polyether modification, polyether modification, alkyl higher alcohol ester modification, polyester modification. And acyloxyalkyl modification, halogenated alkylacyloxyalkyl modification, halogenated alkyl modification, aminoglycol modification, mercapto modification, hydroxyl group-containing polyester modification, and the like.

樹脂塗膜において、膜厚が小さすぎると、樹脂塗膜が薄膜すぎて形成が困難であるため、生産性が低下し易い。また、膜厚が一定の大きさを超えても、樹脂塗膜の剥離性のさらなる向上は見られず、樹脂塗膜の製造コストが高くなり易い。このような観点から、樹脂塗膜は、その膜厚が0.1〜10μmであることが好ましく、0.5〜5μmであることがさらに好ましい。また、樹脂塗膜の膜厚は、後述する手順において、樹脂塗料を所定塗布量で塗布することによって達成される。   In the resin coating film, when the film thickness is too small, the resin coating film is too thin and difficult to form, so that productivity is easily lowered. Moreover, even if a film thickness exceeds a fixed magnitude | size, the further improvement of the peelability of a resin coating film is not seen, but the manufacturing cost of a resin coating film tends to become high. From such a viewpoint, the resin coating film preferably has a thickness of 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm. Moreover, the film thickness of a resin coating film is achieved by apply | coating a resin coating material by the predetermined application amount in the procedure mentioned later.

樹脂塗膜において、シリコーンは樹脂塗膜の剥離剤として機能する。そこで、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂の合計量がシリコーンに比べて多すぎると、板状キャリアと金属箔との間で樹脂塗膜が付与する剥離強度が大きくなるため、樹脂塗膜の剥離性が低下し、人手で容易に剥がせなくなることがある。一方で、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂の合計量が少なすぎると、前述の剥離強度が小さくなるため、キャリア付金属箔の搬送時や加工時に剥離することがある。この観点から、シリコーン100質量部に対して、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂の合計が10〜1500質量部の量で含まれることが好ましく、さらに好ましくは20〜800重量部の量で含まれることが好ましい。   In the resin coating film, silicone functions as a release agent for the resin coating film. Therefore, if the total amount of epoxy resin and melamine resin is too much compared to silicone, the peel strength imparted by the resin coating between the plate-like carrier and the metal foil increases, so that the peelability of the resin coating is increased. May decrease and may not be easily removed by hand. On the other hand, if the total amount of the epoxy resin and the melamine resin is too small, the above-mentioned peel strength becomes small, and therefore, the metal foil with a carrier may be peeled off during transport or processing. From this viewpoint, it is preferable that the total of the epoxy resin and the melamine resin is included in an amount of 10 to 1500 parts by mass, and more preferably 20 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of silicone. Is preferred.

また、フッ素樹脂は、シリコーンと同様、剥離剤として機能し、樹脂塗膜の耐熱性を向上させる効果がある。フッ素樹脂がシリコーンに比べて多すぎると、前述の剥離強度が小さくなるため、キャリア付金属箔の搬送時や加工時に剥離することがあるほか、後述する焼き付け工程に必要な温度が上がるため不経済となる。この観点から、フッ素樹脂は、シリコーン100質量部に対して、0〜50質量部であることが好ましく、さらに好ましくは0〜40質量部であることが好ましい。   Further, like silicone, the fluororesin functions as a release agent and has the effect of improving the heat resistance of the resin coating film. If the amount of fluororesin is too much compared to silicone, the aforementioned peel strength will be low, which may cause peeling during transport or processing of the metal foil with carrier, and it will be uneconomical because the temperature required for the baking process described later will increase. It becomes. From this viewpoint, the fluororesin is preferably 0 to 50 parts by mass, more preferably 0 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of silicone.

樹脂塗膜は、シリコーン、およびエポキシ樹脂および/またはメラミン樹脂、および必要に応じてフッ素樹脂に加えて、SiO2、MgO、Al23、BaSO4およびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子をさらに含有していてもよい。樹脂塗膜が表面粗化粒子を含有することによって、樹脂塗膜の表面が凹凸となる。その凹凸によって、樹脂塗膜が塗布された板状キャリアあるいは金属箔の表面が凹凸となり、艶消し表面となる。表面粗化粒子の含有量は、樹脂塗膜が凹凸化されれば特に限定されないが、シリコーン100質量部に対して、1〜10質量部が好ましい。The resin coating film is selected from SiO 2 , MgO, Al 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 in addition to silicone and epoxy resin and / or melamine resin and, if necessary, fluororesin 1 You may further contain the surface roughening particle | grains of a seed | species or more. When the resin coating film contains surface roughening particles, the surface of the resin coating film becomes uneven. Due to the unevenness, the surface of the plate-like carrier or metal foil to which the resin coating film is applied becomes uneven and becomes a matte surface. Although content of the surface roughening particle | grains will not be specifically limited if a resin coating film is uneven | corrugated, 1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of silicone.

表面粗化粒子の粒子径は、15nm〜4μmであることが好ましい。ここで、粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)写真等から測定した平均粒子径(最大粒子径と最小粒子径の平均値)を意味する。表面粗化粒子の粒子径が前記範囲であることによって、樹脂塗膜の表面の凹凸量が調整し易くなり、結果的に板状キャリアあるいは金属箔の表面の凹凸量が調整し易くなる。具体的には、板状キャリアあるいは金属箔の表面の凹凸量は、JIS規定の最大高さ粗さRyで4.0μm程度となる。   The particle diameter of the surface roughened particles is preferably 15 nm to 4 μm. Here, the particle diameter means an average particle diameter (average value of the maximum particle diameter and the minimum particle diameter) measured from a scanning electron microscope (SEM) photograph or the like. When the particle diameter of the surface roughened particles is within the above range, the unevenness on the surface of the resin coating film can be easily adjusted, and as a result, the unevenness on the surface of the plate-like carrier or metal foil can be easily adjusted. Specifically, the amount of irregularities on the surface of the plate-like carrier or metal foil is about 4.0 μm in terms of the maximum height roughness Ry defined by JIS.

ここで、キャリア付金属箔の製造方法について説明する。
このキャリア付金属箔は、板状キャリアあるいは金属箔の少なくとも一方の表面に、上述した樹脂塗膜を塗布する工程と、この塗布した樹脂塗膜を硬化させる焼付け工程とを有する手順を経て得られる。以下、各工程について説明する。
Here, the manufacturing method of metal foil with a carrier is demonstrated.
This metal foil with a carrier is obtained through a procedure having a step of applying the above-described resin coating to at least one surface of a plate-like carrier or metal foil and a baking step of curing the applied resin coating. . Hereinafter, each step will be described.

(塗布工程)
塗布工程は、板状キャリアの片面または両面に、主剤としてのシリコーンと、硬化剤としてのエポキシ系樹脂、メラミン系樹脂と、必要に応じて剥離剤としてのフッ素樹脂とからなる樹脂塗料を塗布して樹脂塗膜を形成する工程である。樹脂塗料は、アルコール等の有機溶媒にエポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フッ素樹脂およびシリコーンを溶解したものである。また、樹脂塗料における配合量(添加量)は、リコーン100質量部に対して、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂の合計が10〜1500質量部であることが好ましい。また、フッ素樹脂は、シリコーン100質量部に対して、0〜50質量部であることが好ましい。
(Coating process)
In the coating process, a resin coating consisting of silicone as the main agent, epoxy resin as the curing agent, melamine resin, and fluororesin as the release agent as required is applied to one or both sides of the plate-like carrier. And forming a resin coating film. The resin paint is obtained by dissolving an epoxy resin, a melamine resin, a fluororesin, and silicone in an organic solvent such as alcohol. Moreover, it is preferable that the compounding quantity (addition quantity) in a resin coating material is 10-1500 mass parts with respect to 100 mass parts of ricone, and the sum total of an epoxy resin and a melamine resin. Moreover, it is preferable that a fluororesin is 0-50 mass parts with respect to 100 mass parts of silicone.

塗布工程における塗布方法としては、樹脂塗膜が形成できれば特に限定されるものではないが、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、カーテンフローコート法、静電塗装機を用いる方法等が用いられ、樹脂塗膜の均一性、および、作業の簡便性からグラビアコート法が好ましい。また、塗布量としては、樹脂塗膜3が好ましい膜厚:0.5〜5μmとなるように、樹脂量として1.0〜2.0g/m2が好ましい。The coating method in the coating process is not particularly limited as long as a resin coating film can be formed, but a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a curtain flow coating method, a method using an electrostatic coating machine, etc. are used. In view of the uniformity of the resin coating film and the ease of work, the gravure coating method is preferred. Moreover, as an application quantity, 1.0-2.0 g / m < 2 > is preferable as a resin quantity so that the resin coating film 3 may become preferable film thickness: 0.5-5 micrometers.

グラビアコート法は、ロール表面に設けられた凹部(セル)に満たされた樹脂塗料を板状キャリアに転写させることによって、板状キャリアの表面に樹脂塗膜を形成させる方法である。具体的には、表面にセルが設けられた下側ロールの下部を樹脂塗料中に浸漬し、下側ロールの回転によってセル内に樹脂塗料を汲み上げる。そして、下側ロールと、下側ロールの上側に配置された上側ロールとの間に板状キャリアを配置し、上側ロールで板状キャリアを下側ロールに押し付けながら、下側ロールおよび上側ロールを回転させることによって、板状キャリアが搬送されると共に、セル内に汲み上げられた樹脂塗料が板状キャリアの片面に転写(塗布)される。   The gravure coating method is a method in which a resin coating film is formed on the surface of a plate-like carrier by transferring a resin coating filled in a recess (cell) provided on the roll surface to the plate-like carrier. Specifically, the lower part of the lower roll having cells provided on the surface is immersed in the resin paint, and the resin paint is pumped into the cell by the rotation of the lower roll. Then, the plate-like carrier is arranged between the lower roll and the upper roll arranged on the upper side of the lower roll, and the lower roll and the upper roll are held while pressing the plate-like carrier against the lower roll with the upper roll. By rotating, the plate-like carrier is conveyed, and the resin paint pumped into the cell is transferred (applied) to one side of the plate-like carrier.

また、板状キャリアの搬入側に、下側ロールの表面に接触するようにドクターブレードを配置することによって、セル以外のロール表面に汲み上げられた過剰な樹脂塗料が取り除かれ、板状キャリアの表面に所定量の樹脂塗料が塗布される。なお、セルの番手(大きさおよび深さ)が大きい場合、または、樹脂塗料の粘度が高い場合には、板状キャリアの片面に形成される樹脂塗膜が平滑になり難くなる。したがって、板状キャリアの搬出側にスムージングロールを配置して、樹脂塗膜の平滑度を維持してもよい。   In addition, by placing a doctor blade on the side where the plate-shaped carrier is brought into contact with the surface of the lower roll, excess resin paint pumped up on the roll surface other than the cells is removed, and the surface of the plate-shaped carrier is removed. A predetermined amount of resin paint is applied to the substrate. In addition, when the count (size and depth) of a cell is large, or when the viscosity of a resin coating is high, the resin coating film formed on one side of a plate-like carrier becomes difficult to become smooth. Therefore, a smoothing roll may be disposed on the carry-out side of the plate carrier to maintain the smoothness of the resin coating film.

なお、板状キャリアの両面に樹脂塗膜を形成させる場合には、板状キャリアの片面に樹脂塗膜を形成させた後に、板状キャリアを裏返して、再度、下側ロールと上側ロールとの間に配置する。そして、前記と同様に、下側ロールのセル内の樹脂塗料を板状キャリアの裏面に転写(塗布)する。   In addition, when forming the resin coating film on both surfaces of the plate carrier, after forming the resin coating film on one surface of the plate carrier, turn over the plate carrier, and again between the lower roll and the upper roll. Place between. In the same manner as described above, the resin paint in the cell of the lower roll is transferred (applied) to the back surface of the plate-like carrier.

(焼付け工程)
焼付け工程は、塗布工程で形成された樹脂塗膜に125〜320℃(焼付け温度)で0.5〜60秒間(焼付け時間)の焼付け処理を施す工程である。このように、所定配合量の樹脂塗料で形成された樹脂塗膜に所定条件の焼付け処理を施すことによって、樹脂塗膜により付与される板状キャリアと金属箔との間の剥離強度が所定範囲に制御される。本発明において、焼付け温度は板状キャリアの到達温度である。また、焼付け処理に使用される加熱手段としては、従来公知の装置を使用する。
(Baking process)
A baking process is a process of performing the baking process for 0.5 to 60 second (baking time) at 125-320 degreeC (baking temperature) to the resin coating film formed at the application | coating process. In this way, by subjecting the resin coating formed with a predetermined amount of resin coating to a predetermined baking condition, the peel strength between the plate carrier and the metal foil provided by the resin coating is in a predetermined range. Controlled. In the present invention, the baking temperature is the ultimate temperature of the plate carrier. Moreover, a conventionally well-known apparatus is used as a heating means used for a baking process.

焼き付けが不十分となる条件、例えば焼付け温度が125℃未満、または、焼付け時間が0.5秒未満である場合には、樹脂塗膜が硬化不足となり、上記剥離強度が200gf/cmを超え、剥離性が低下する。また、焼き付けが過度な条件、例えば焼付け温度が320℃を超える場合には、樹脂塗膜が劣化して、上記剥離強度が200gf/cmを超え、剥離時の作業性が悪化する。あるいは、板状キャリアが高温によって変質することがある。また、焼付け時間が60秒を超える場合には、生産性が悪化する。   When the baking is insufficient, for example, when the baking temperature is less than 125 ° C. or when the baking time is less than 0.5 seconds, the resin coating becomes insufficiently cured, and the peel strength exceeds 200 gf / cm, The peelability is reduced. Moreover, when baking is an excessive condition, for example, when baking temperature exceeds 320 degreeC, a resin coating film deteriorates, the said peeling strength exceeds 200 gf / cm, and the workability | operativity at the time of peeling deteriorates. Or a plate-shaped carrier may change in quality by high temperature. Further, when the baking time exceeds 60 seconds, the productivity is deteriorated.

キャリア付金属箔の製造方法においては、前記塗布工程の樹脂塗料が、主剤としてのシリコーンと、硬化剤としてのエポキシ樹脂、メラミン系樹脂と、剥離剤としてのフッ素樹脂と、SiO2、MgO、Al23、BaSO4およびMg(OH)2から選択される1種以上の表面粗化粒子とからなるものであってもよい。In the method for producing a metal foil with a carrier, the resin coating in the coating step is made of silicone as a main agent, epoxy resin as a curing agent, melamine resin, fluororesin as a release agent, SiO 2 , MgO, Al It may be composed of one or more kinds of surface roughened particles selected from 2 O 3 , BaSO 4 and Mg (OH) 2 .

具体的には、樹脂塗料は、前記したシリコーン添加樹脂溶液に表面粗化粒子をさらに添加したものである。このような表面粗化粒子を樹脂塗料にさらに添加することによって、樹脂塗膜の表面が凹凸となり、この凹凸によって板状キャリアあるいは金属箔が凹凸となり、艶消し表面となる。そして、このような艶消し表面を有する板状キャリアあるいは金属箔を得るためには、樹脂塗料における表面粗化粒子の配合量(添加量)が、シリコーン100質量部に対して、1〜10質量部であることが好ましい。また、表面粗化粒子の粒子径が15nm〜4μmであることがさらに好ましい。   Specifically, the resin coating is obtained by further adding surface roughening particles to the above-described silicone-added resin solution. By further adding such surface-roughened particles to the resin coating, the surface of the resin coating film becomes uneven, and the unevenness makes the plate-like carrier or metal foil uneven, resulting in a matte surface. And in order to obtain the plate-like carrier or metal foil which has such a matt surface, the compounding quantity (addition amount) of the surface roughening particle | grains in a resin coating is 1-10 mass with respect to 100 mass parts of silicone. Part. Moreover, it is more preferable that the particle diameter of the surface roughened particles is 15 nm to 4 μm.

本発明に係る製造方法は、以上説明したとおりであるが、本発明を行うにあたり、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、塗布工程の前に板状キャリアの表面を洗浄する洗浄工程を行ってもよい。   The production method according to the present invention is as described above. However, in carrying out the present invention, other steps may be included between or before and after each step within a range that does not adversely affect each step. . For example, you may perform the washing | cleaning process which wash | cleans the surface of a plate-shaped carrier before an application | coating process.

(多層プリント配線板の製造過程における熱履歴を考慮した剥離強度)
一般に、多層プリント配線板の製造過程では、積層プレス工程やデスミア工程で加熱処理することが多い。そのため、キャリア付金属箔が受ける熱履歴は、積層数が多くなるほど厳しくなる。従って、特に多層プリント配線板への適用を考える上では、所要の熱履歴を経た後にも、金属箔と板状キャリアとの剥離強度が先述した範囲にあることが望ましい。
(Peel strength considering thermal history in the manufacturing process of multilayer printed wiring boards)
In general, in the manufacturing process of a multilayer printed wiring board, heat treatment is often performed in a lamination press process or a desmear process. Therefore, the heat history that the metal foil with a carrier receives becomes severer as the number of laminated layers increases. Therefore, when considering application to a multilayer printed wiring board in particular, it is desirable that the peel strength between the metal foil and the plate-like carrier is in the above-described range even after passing through a required thermal history.

従って、本発明の更に好ましい一実施形態においては、多層プリント配線板の製造過程における加熱条件を想定した、例えば220℃で3時間、6時間または9時間のうちの少なくとも一つの加熱後における、金属箔と板状キャリアの剥離強度が、30gf/cm以上であることが好ましく、50gf/cm以上であることがより好ましい。また、当該剥離強度が200gf/cm以下であることが好ましく、150gf/cm以下であることがより好ましく、80gf/cm以下であることが更により好ましい。   Accordingly, in a further preferred embodiment of the present invention, the metal after assuming at least one of heating for 3 hours, 6 hours or 9 hours at 220 ° C., assuming heating conditions in the production process of the multilayer printed wiring board. The peel strength between the foil and the plate-like carrier is preferably 30 gf / cm or more, and more preferably 50 gf / cm or more. The peel strength is preferably 200 gf / cm or less, more preferably 150 gf / cm or less, and even more preferably 80 gf / cm or less.

220℃での加熱後の剥離強度については、多彩な積層数に対応可能であるという観点から、3時間後および6時間後の両方、または6時間および9時間後の両方において剥離強度が上述した範囲を満たすことが好ましく、3時間、6時間および9時間後の全ての剥離強度が上述した範囲を満たすことが更に好ましい。   Regarding the peel strength after heating at 220 ° C., the peel strength was described above in both 3 hours and 6 hours, or both 6 hours and 9 hours from the viewpoint of being able to cope with various lamination numbers. It is preferable to satisfy the range, and it is further preferable that all peel strengths after 3 hours, 6 hours, and 9 hours satisfy the above-described range.

本発明において、剥離強度はJIS C6481に規定される90度剥離強度測定方法に準拠して測定する。   In this invention, peel strength is measured based on the 90 degree peel strength measuring method prescribed | regulated to JISC6481.

以下、このような剥離強度を実現するための各材料の具体的構成要件について説明する。   Hereinafter, specific constituent requirements of each material for realizing such peel strength will be described.

板状キャリアとなる樹脂としては、特に制限はないが、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、天然ゴム、松脂等を使用することができるが、熱硬化性樹脂であることが好ましい。また、プリプレグを使用することもできる。金属箔と貼り合わせ前のプリプレグはBステージの状態にあるものがよい。プリプレグ(Cステージ)の線膨張係数は12〜18(×10-6/℃)と、基板の構成材料である銅箔の16.5(×10-6/℃)、またはSUSプレス板の17.3(×10-6/℃)とほぼ等しいことから、プレス前後の基板サイズが設計時のそれとは異なる現象(スケーリング変化)による回路の位置ずれが発生し難い点で有利である。更に、これらのメリットの相乗効果として多層の極薄コアレス基板の生産も可能になる。ここで使用するプリプレグは、回路基板を構成するプリプレグと同じ物であっても異なる物であってもよい。なお、従来は、キャリア付金属箔の板状キャリアとして金属板が用いられていた。この場合、板状キャリアと金属箔とを溶接や接着剤により密着させていた。接着剤を用いる場合、耐熱性の観点から、一般的にビルドアップに好適とは言えないものが多く、溶接により密着させる場合、全面溶接を用いると剥離強度が高すぎて、後段にて手で容易に剥がすことが困難となり、また部分溶接を用いると板状キャリアと金属箔との間の薬液の浸入を防ぐことが困難となり、いずれの場合であっても、ビルドアップに好適とは言えない。そこで、樹脂製の板状キャリアを用いることで、金属箔との間で適度な剥離強度を発揮し、かつ、耐熱性樹脂を用いることによりビルドアップ時の熱履歴に十分に耐えられるものとすることができる。なお、耐熱性樹脂としては、公知のものを用いることができる。The resin that serves as the plate-like carrier is not particularly limited, and phenol resin, polyimide resin, epoxy resin, natural rubber, pine resin, and the like can be used, but a thermosetting resin is preferable. A prepreg can also be used. The prepreg before being bonded to the metal foil is preferably in a B-stage state. The linear expansion coefficient of the prepreg (C stage) is 12 to 18 (× 10 −6 / ° C.), 16.5 (× 10 −6 / ° C.) of the copper foil as the constituent material of the substrate, or 17 of the SUS press plate .3 (× 10 −6 / ° C.) is advantageous in that it is difficult to cause circuit misalignment due to a phenomenon (scaling change) in which the substrate size before and after pressing differs from that at the time of design. Furthermore, as a synergistic effect of these merits, it becomes possible to produce a multilayer ultra-thin coreless substrate. The prepreg used here may be the same as or different from the prepreg constituting the circuit board. Conventionally, a metal plate has been used as a plate-shaped carrier of a metal foil with a carrier. In this case, the plate-like carrier and the metal foil are adhered to each other by welding or an adhesive. When using an adhesive, from the viewpoint of heat resistance, there are many things that are generally not suitable for build-up, and when closely contacting by welding, the peel strength is too high when using full-surface welding, It is difficult to peel off easily, and it becomes difficult to prevent the chemical solution from entering between the plate-shaped carrier and the metal foil when using partial welding. . Therefore, by using a resin-made plate-like carrier, an appropriate peel strength can be exhibited with the metal foil, and by using a heat-resistant resin, it can sufficiently withstand the heat history during build-up. be able to. In addition, as a heat resistant resin, a well-known thing can be used.

したがって、板状キャリアは、高いガラス転移温度Tgを有することが加熱後の剥離強度を最適な範囲に維持する観点で好ましく、例えば120〜320℃、好ましくは170〜240℃のガラス転移温度Tgである。なお、ガラス転移温度Tgは、DSC(示差走査熱量測定法)により測定される値とする。   Therefore, it is preferable that the plate-like carrier has a high glass transition temperature Tg from the viewpoint of maintaining the peel strength after heating in an optimum range, for example, a glass transition temperature Tg of 120 to 320 ° C, preferably 170 to 240 ° C. is there. The glass transition temperature Tg is a value measured by DSC (differential scanning calorimetry).

また、樹脂の熱膨張率が、金属箔の熱膨張率の+10%、−30%以内であることが望ましい。これによって、金属箔と樹脂との熱膨張差に起因する回路の位置ずれを効果的に防止することができ、不良品発生を減少させ、歩留りを向上させることができる。   The thermal expansion coefficient of the resin is preferably within + 10% and −30% of the thermal expansion coefficient of the metal foil. As a result, it is possible to effectively prevent circuit misalignment due to the difference in thermal expansion between the metal foil and the resin, thereby reducing the occurrence of defective products and improving the yield.

板状キャリアの厚みは特に制限はなく、リジッドでもフレキシブルでもよいが、厚すぎるとホットプレス中の熱分布に悪影響がでる一方で、薄すぎると撓んでしまいプリント配線板の製造工程を流れなくなることから、通常5μm以上1000μm以下であり、50μm以上900μm以下が好ましく、100μm以上400μm以下がより好ましい。   The thickness of the plate-like carrier is not particularly limited and may be rigid or flexible. However, if it is too thick, it will adversely affect the heat distribution during hot pressing, while if it is too thin, it will bend and will not flow through the printed wiring board manufacturing process. Therefore, it is usually 5 μm or more and 1000 μm or less, preferably 50 μm or more and 900 μm or less, and more preferably 100 μm or more and 400 μm or less.

金属箔としては、銅又は銅合金箔が代表的なものであるが、アルミニウム、ニッケル、亜鉛などの箔を使用することもできる。銅又は銅合金箔の場合、電解箔又は圧延箔を使用することができる。金属箔は、限定的ではないが、プリント回路基板の配線としての使用を考えると、1μm以上、好ましくは5μm以上、および400μ以下、好ましくは120μm以下の厚みを有するのが一般的である。板状キャリアの両面に金属箔を貼り付ける場合、同じ厚みの金属箔を用いても良いし、異なる厚みの金属箔を用いても良い。   As the metal foil, copper or copper alloy foil is typical, but foils of aluminum, nickel, zinc and the like can also be used. In the case of copper or copper alloy foil, electrolytic foil or rolled foil can be used. Although not limited, the metal foil generally has a thickness of 1 [mu] m or more, preferably 5 [mu] m or more, and 400 [mu] m or less, preferably 120 [mu] m or less, considering use as a wiring of a printed circuit board. When metal foil is affixed on both surfaces of the plate-like carrier, metal foils having the same thickness may be used, or metal foils having different thicknesses may be used.

使用する金属箔には各種の表面処理が施されていてもよい。例えば、耐熱性付与を目的とした金属めっき(Niめっき、Ni−Zn合金めっき、Cu−Ni合金めっき、Cu−Zn合金めっき、Znめっき、Cu−Ni−Zn合金めっき、Co−Ni合金めっきなど)、防錆性や耐変色性を付与するためのクロメート処理(クロメート処理液中にZn、P、Ni、Mo、Zr、Ti等の合金元素を1種以上含有させる場合を含む)、表面粗度調整のための粗化処理(例:銅電着粒やCu−Ni−Co合金めっき、Cu−Ni−P合金めっき、Cu−Co合金めっき、Cu−Ni合金めっき、Cu−Co合金めっき、Cu−As合金めっき、Cu−As−W合金めっき等の銅合金めっきによるもの)が挙げられる。粗化処理が金属箔と板状キャリアの剥離強度に影響を与えることはもちろん、クロメート処理も大きな影響を与える。クロメート処理は防錆性や耐変色性の観点から重要であるが、剥離強度を有意に上昇させる傾向が見られるので、剥離強度の調整手段としても意義がある。   Various surface treatments may be applied to the metal foil used. For example, metal plating for the purpose of imparting heat resistance (Ni plating, Ni—Zn alloy plating, Cu—Ni alloy plating, Cu—Zn alloy plating, Zn plating, Cu—Ni—Zn alloy plating, Co—Ni alloy plating, etc. ), Chromate treatment (including the case where one or more alloy elements such as Zn, P, Ni, Mo, Zr, Ti, etc. are contained in the chromate treatment liquid) for imparting rust prevention and discoloration resistance, surface roughness Roughening treatment for adjusting the degree (eg: copper electrodeposited grains, Cu—Ni—Co alloy plating, Cu—Ni—P alloy plating, Cu—Co alloy plating, Cu—Ni alloy plating, Cu—Co alloy plating, And Cu-As alloy plating, Cu-As-W alloy plating and other copper alloy plating). The roughening treatment not only affects the peel strength between the metal foil and the plate carrier, but also the chromate treatment has a great influence. Chromate treatment is important from the viewpoint of rust prevention and discoloration resistance, but since it tends to significantly increase the peel strength, it is also meaningful as a means for adjusting the peel strength.

従来のCCLでは、樹脂と銅箔のピール強度が高いことが望まれるので、例えば、電解銅箔のマット面(M面)を樹脂との接着面とし、粗化処理等の表面処理を施すことによって化学的および物理的アンカー効果による接着力向上が図られている。また、樹脂側においても、金属箔との接着力をアップするために各種バインダーが添加される等している。前述したように、本発明においてはCCLとは異なり、金属箔と樹脂は最終的に剥離する必要があるので、過度に剥離強度が高いのは不利である。   In conventional CCL, since it is desired that the peel strength between the resin and the copper foil is high, for example, the matte surface (M surface) of the electrolytic copper foil is used as an adhesive surface with the resin, and surface treatment such as roughening treatment is performed. Thus, the adhesive strength is improved by the chemical and physical anchoring effects. On the resin side, various binders are added to increase the adhesive strength with the metal foil. As described above, in the present invention, unlike the CCL, since the metal foil and the resin need to be finally peeled, it is disadvantageous that the peel strength is excessively high.

そこで、本発明に係るキャリア付金属箔の好ましい一実施形態においては、金属箔と板状キャリアの剥離強度を先述した好ましい範囲に調節するため、貼り合わせ面の表面粗度を、接触式粗さ計にて、JIS B 0601:2001に準拠して測定した金属箔表面の十点平均粗さ(Rz jis)で表して、3.5μm以下、更に3.0μm以下とすることが好ましい。但し、表面粗度を際限なく小さくするのは手間がかかりコスト上昇の原因となるので、0.1μm以上とするのが好ましく、0.3μm以上とすることがより好ましい。金属箔として電解銅箔を使用する場合、このような表面粗度に調整すれば、光沢面(シャイニー面、S面)及び粗面(マット面、M面)の何れを使用することも可能であるが、S面を用いた方が上記表面粗度への調整が容易である。一方で、前記金属箔の前記キャリアと接しない側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)は、0.4μm以上10.0μm以下であることが好ましい。   Therefore, in a preferred embodiment of the metal foil with a carrier according to the present invention, in order to adjust the peel strength between the metal foil and the plate-like carrier to the preferred range described above, the surface roughness of the bonded surface is contact-type roughness. It is preferably 3.5 μm or less, more preferably 3.0 μm or less, expressed as a ten-point average roughness (Rz jis) of the surface of the metal foil measured according to JIS B 0601: 2001. However, reducing the surface roughness indefinitely takes time and increases costs, so it is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 0.3 μm or more. When electrolytic copper foil is used as the metal foil, it is possible to use either a glossy surface (shiny surface, S surface) or a rough surface (matte surface, M surface) by adjusting to such a surface roughness. However, it is easier to adjust the surface roughness by using the S-plane. On the other hand, it is preferable that the ten-point average roughness (Rz jis) of the surface of the metal foil not contacting the carrier is 0.4 μm or more and 10.0 μm or less.

また、本発明に係るキャリア付金属箔の好ましい一実施形態においては、金属箔の樹脂との貼り合わせ面に対しては、粗化処理等剥離強度向上のための表面処理は行わない。また、本発明に係るキャリア付金属箔の好ましい一実施形態においては、樹脂中には、金属箔との接着力をアップするためのバインダーは添加されていない。   Moreover, in preferable one Embodiment of metal foil with a carrier which concerns on this invention, surface treatment for peeling strength improvement, such as a roughening process, is not performed with respect to the bonding surface with resin of metal foil. Moreover, in preferable one Embodiment of metal foil with a carrier which concerns on this invention, the binder for improving the adhesive force with metal foil is not added in resin.

キャリア付金属箔を製造するためのホットプレスの条件としては、板状キャリアとしてプリプレグを使用する場合、圧力30〜40kg/cm2、プリプレグのガラス転移温度よりも高い温度でホットプレスすることが好ましい。As conditions for hot pressing for producing a metal foil with a carrier, when a prepreg is used as a plate-like carrier, it is preferable to hot press at a pressure of 30 to 40 kg / cm 2 and a temperature higher than the glass transition temperature of the prepreg. .

以上の観点から、本発明は、樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させるために、当該密着面となる、上述したような金属箔の少なくとも一方の表面に、上記の離型剤からなる層あるいは離型材を被覆処理した金属箔を提供する。また、この金属箔の表面は、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物にて塗工する前に、前述したようなクロメート処理等を行ってもよい。   From the above viewpoints, the present invention comprises the above release agent on at least one surface of the metal foil as described above, which serves as the adhesion surface, in order to allow the resin-made plate carrier to be adhered in a peelable manner. Provided is a metal foil coated with a layer or a release material. The surface of the metal foil may be subjected to the chromate treatment as described above before coating with a compound having two or less mercapto groups in the molecule.

別の観点から、本発明は、金属箔の密着面となる板状キャリアの少なくとも一方の表面に、上記の離型剤からなる層あるいは離型材を有する板状キャリアを提供する。この板状キャリアは、上述したような金属箔を剥離可能に密着させる用途に好適に用いることができる。   From another viewpoint, the present invention provides a plate-like carrier having a layer made of the above-mentioned mold release agent or a release material on at least one surface of the plate-like carrier that serves as an adhesion surface of a metal foil. This plate-like carrier can be suitably used for applications in which the metal foil as described above is adhered in a peelable manner.

さらに別の観点から、本発明は、上述したような金属箔の表面に、上記の離型剤からなる層あるいは離型材を被覆処理したコアレス多層プリント配線板用金属箔を提供する。また、この金属箔の表面は、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物にて被覆する前に、前述したようなクロメート処理等を行ってもよい。   From yet another viewpoint, the present invention provides a metal foil for coreless multilayer printed wiring boards, wherein the surface of the metal foil as described above is coated with a layer or a release material made of the above release agent. Further, the surface of the metal foil may be subjected to the chromate treatment as described above before being coated with a compound having two or less mercapto groups in the molecule.

なお、金属箔または樹脂の表面をXPS(X線光電子分光装置)、EPMA(電子線マイクロアナライザ)、EDX(エネルギー分散型X線分析)を備えた走査電子顕微鏡等の機器で測定し、Siが検出されれば、金属箔または樹脂の表面にシラン化合物が存在すると推察することができ、またSが検出されれば、金属箔または樹脂の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物が存在すると推察することができ、またAl、Ti、Zrが検出されれば、金属箔または樹脂の表面に、上記金属アルコキシドが存在すると推察することができる。   The surface of the metal foil or resin was measured with a scanning electron microscope or the like equipped with XPS (X-ray photoelectron spectrometer), EPMA (electron beam microanalyzer), EDX (energy dispersive X-ray analysis). If detected, it can be inferred that a silane compound is present on the surface of the metal foil or resin. If S is detected, the surface of the metal foil or resin has two or less mercapto groups in the molecule. It can be inferred that a compound is present, and if Al, Ti, Zr is detected, it can be inferred that the metal alkoxide is present on the surface of the metal foil or resin.

さらに、別の観点から、本発明は、上述したキャリア付金属箔の用途を提供する。
第一に、上述したキャリア付金属箔の少なくとも一つの金属箔側に対して、樹脂を積層し、次いで樹脂又は金属箔を1回以上、例えば1〜10回繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法が提供される。
Furthermore, from another viewpoint, this invention provides the use of the metal foil with a carrier mentioned above.
First, a multilayer metal including laminating a resin on at least one metal foil side of the metal foil with a carrier described above, and then laminating the resin or the metal foil one or more times, for example, 1 to 10 times repeatedly. A method for producing a tension laminate is provided.

第二に、上述したキャリア付金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面金属張積層板、または本発明のキャリア付金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔を1回以上、例えば1〜10回繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法が提供される。なお、最初のキャリア付金属箔に積層した樹脂以降の積層は、所望する回数だけ行われ、各積層回とも、樹脂、片面あるいは両面金属張積層板、本発明のキャリア付金属箔、積層体、および金属箔からなる群から任意に選択することができる。   Second, the resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with carrier described above, and then the metal foil is laminated on the surface of the resin, the single-sided or double-sided metal-clad laminate, the metal foil with carrier of the present invention, or the resin. There is provided a method for producing a multilayer metal-clad laminate including repeatedly laminating a laminated body or a metal foil one or more times, for example, 1 to 10 times. In addition, the subsequent lamination of the resin laminated on the first metal foil with carrier is performed as many times as desired, and in each lamination time, resin, single-sided or double-sided metal-clad laminate, metal foil with carrier of the present invention, laminate, And can be arbitrarily selected from the group consisting of metal foils.

さらに、ここで用いられる積層体は、単に樹脂と金属箔とを積層させてなるものであれば何でも良く、本発明のキャリア付金属箔のように樹脂と金属箔とを一定の条件下で容易に剥がすことが要求されるものではないものを指す。また、ここで用いられる積層体は樹脂と金属箔が接着または接合されている箇所を切断することで、当該積層体を構成する樹脂と金属箔が剥離できるようになるものであってもよい。また、樹脂と金属箔との積層は、樹脂の片面であっても両面であってもよい。   Furthermore, the laminate used here may be anything as long as it is simply formed by laminating a resin and a metal foil, and the resin and the metal foil can be easily used under certain conditions like the metal foil with a carrier of the present invention. It is not required to be peeled off. In addition, the laminate used here may be one in which the resin and the metal foil constituting the laminate can be peeled by cutting a portion where the resin and the metal foil are bonded or bonded. Further, the lamination of the resin and the metal foil may be one side or both sides of the resin.

上記の多層金属張積層板の製造方法においては、必要に応じて、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔との積層面にてまたは前記の積層体の樹脂と金属箔の積層面にて、例えば前記キャリア付金属箔の金属箔上または前記積層体の金属箔上で切断する工程と、また例えば前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体の樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程とをそれぞれ更に含むことができる。   In the above-described method for producing a multilayer metal-clad laminate, if necessary, on the laminate surface of the plate-like carrier and metal foil of the metal foil with carrier or on the laminate surface of the resin and metal foil of the laminate. For example, the step of cutting on the metal foil of the metal foil with carrier or the metal foil of the laminate, and for example, the plate-like carrier of the metal foil with carrier after cutting and the metal foil are separated and separated. A step or a step of separating and separating the resin and metal foil of the laminate after the cutting may be further included.

さらに、前記板状キャリアと金属箔とを剥離して分離した後、金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を更に含むことができる。   Furthermore, after peeling and isolate | separating the said plate-shaped carrier and metal foil, the process of removing a part or all of metal foil by an etching can be further included.

第三に、上述したキャリア付金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、本発明のキャリア付金属箔、または上述したような積層体、または金属箔を1回以上、例えば1〜10回繰り返して積層することを含むビルドアップ基板の製造方法が提供される。なお、最初のキャリア付金属箔に積層した樹脂以降の積層は、所望する回数だけ行われ、各積層回とも、樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、本発明のキャリア付金属箔、上述したような積層体および金属箔からなる群から任意に選択することができる。   Third, the resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with carrier described above, and then the resin, single-sided or double-sided wiring board, single-sided or double-sided metal-clad laminate, metal foil with carrier of the present invention, or as described above There is provided a method for producing a build-up substrate, which includes laminating a laminate or a metal foil repeatedly at least once, for example, 1 to 10 times. In addition, the lamination after the resin laminated on the first metal foil with a carrier is performed as many times as desired. In each lamination, the resin, the single-sided or double-sided wiring board, the single-sided or double-sided metal-clad laminate, and the carrier of the present invention are attached. It can be arbitrarily selected from the group consisting of a metal foil, a laminate as described above, and a metal foil.

第四に、上述したキャリア付金属箔の金属箔側に、ビルドアップ配線層を一層以上積層する工程を含むビルドアップ基板の製造方法が提供される。この際、ビルドアップ配線層はサブトラクティブ法又はフルアディティブ法又はセミアディティブ法の少なくとも一方を用いて形成することができる。   Fourth, there is provided a method for manufacturing a buildup substrate including a step of laminating one or more buildup wiring layers on the metal foil side of the metal foil with carrier described above. At this time, the build-up wiring layer can be formed using at least one of a subtractive method, a full additive method, and a semi-additive method.

ここで、キャリア付金属箔を用いた第四のビルドアップ基板の製造方法における、サブトラクティブ法とは、金属張積層板や配線基板(プリント配線板、プリント回路板を含む)上の金属箔の不要部分を、エッチングなどによって、選択的に除去して、導体パターンを形成する方法を指す。フルアディテイブ法とは、導体層に金属箔を使用せず、無電解めっき又は/および電解めっきにより導体パターンを形成する方法であり、セミアディティブ法は、例えば金属箔からなるシード層上に無電解金属析出と、電解めっき、エッチング、又はその両者を併用して導体パターンを形成した後、不要なシード層をエッチングして除去することで導体パターンを得る方法である。   Here, the subtractive method in the fourth buildup board manufacturing method using the metal foil with carrier is a metal-clad laminate or a metal foil on a wiring board (including a printed wiring board and a printed circuit board). It refers to a method of forming a conductor pattern by selectively removing unnecessary portions by etching or the like. The full additive method is a method of forming a conductor pattern by electroless plating and / or electrolytic plating without using a metal foil for the conductor layer. The semi-additive method is a method of forming a conductive pattern on a seed layer made of metal foil, for example. In this method, a conductive pattern is formed by using electrolytic metal deposition and electrolytic plating, etching, or a combination thereof, and then the unnecessary seed layer is removed by etching.

上述したキャリア付き金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、本発明のキャリア付金属箔、または上述したような積層体、または金属箔を1回以上、例えば1〜10回繰り返して積層した後、樹脂、その上に金属箔側が当該最後に積層した樹脂と接触するようにしてキャリア付金属箔を積層する工程を含むビルドアップ基板の製造方法が提供される。   Laminating resin on the metal foil side of the metal foil with carrier described above, then resin, single-sided or double-sided wiring board, single-sided or double-sided metal-clad laminate, metal foil with carrier of the present invention, or laminate as described above, or Build-up including a step of laminating a metal foil with a carrier in such a manner that the metal foil is repeatedly laminated one or more times, for example, 1 to 10 times, and then the resin and the metal foil side are in contact with the last laminated resin. A method for manufacturing a substrate is provided.

上記のビルドアップ基板の製造方法においては、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、キャリア付金属箔の金属箔、キャリア付金属箔の板状キャリア、積層体の金属箔、積層体の樹脂、金属箔、又は樹脂に穴を開け、当該穴の側面および底面に導通めっきをする工程を更に含むことができる。また、前記片面あるいは両面配線基板を構成する金属箔、片面あるいは両面金属張積層板を構成する金属箔、キャリア付金属箔を構成する金属箔、積層体を構成する金属箔、および金属箔の少なくとも一つに配線を形成する工程を1回以上行うことを更に含むこともできる。   In the above method for manufacturing a build-up substrate, a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, a metal foil with a carrier, a plate-like carrier with a metal foil with a carrier, a metal foil with a laminate, a laminate The method may further include a step of forming a hole in the resin, metal foil, or resin, and conducting conductive plating on the side and bottom surfaces of the hole. Further, at least one of the metal foil constituting the single-sided or double-sided wiring board, the metal foil constituting the single-sided or double-sided metal-clad laminate, the metal foil constituting the metal foil with carrier, the metal foil constituting the laminate, and the metal foil It can further include performing the process of forming wiring in one or more times.

上記のビルドアップ基板の製造方法においては、配線形成された表面の上に、片面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔のキャリア側、または樹脂の片面に金属箔を積層した積層体の樹脂側を積層する工程を更に含むこともできる。また、配線形成された表面の上に、樹脂を積層し、当該樹脂に両面に金属箔を密着させた本発明に係るキャリア付金属箔、または樹脂の両面に金属箔を積層した積層体を積層する工程を更に含むこともできる。   In the above build-up board manufacturing method, a resin of a laminate in which a metal foil is laminated on one side of a carrier, or on the carrier side of a metal foil with a carrier having a metal foil adhered to one side on the surface on which a wiring is formed. A step of laminating the sides can be further included. Also, a metal foil with a carrier according to the present invention in which a resin is laminated on the surface on which the wiring is formed and the metal foil is adhered to both sides of the resin, or a laminate in which the metal foil is laminated on both sides of the resin is laminated. The process of carrying out can also be included.

なお、「配線形成された表面」とは、ビルドアップを行う過程で都度現れる表面に配線形成された部分を意味し、ビルドアップ基板としては最終製品のものも、その途中のものも包含する。   The “surface on which the wiring is formed” means a portion where wiring is formed on the surface that appears every time a buildup is performed, and the buildup substrate includes both a final product and an intermediate product.

上記のビルドアップ基板の製造方法においては、必要に応じて、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔との積層面にてまたは前記の積層体の樹脂と金属箔の積層面にて、例えば前記キャリア付金属箔の金属箔上または前記積層体の金属箔上で切断する工程と、また例えば前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体の樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程とをそれぞれ更に含むこともできる。   In the manufacturing method of the build-up substrate, if necessary, on the laminate surface of the plate-like carrier and metal foil of the metal foil with carrier or on the laminate surface of the resin and metal foil of the laminate, For example, the step of cutting on the metal foil of the metal foil with carrier or the metal foil of the laminate, and the step of separating and separating the plate carrier and the metal foil of the metal foil with carrier after the cutting, for example A step of peeling and separating the resin and the metal foil of the laminate after the cutting can be further included.

さらに、前記板状キャリアと金属箔とを剥離して分離した後、金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を更に含むことができる。   Furthermore, after peeling and isolate | separating the said plate-shaped carrier and metal foil, the process of removing a part or all of metal foil by an etching can be further included.

なお、上述の多層金属張積層板の製造方法およびビルドアップ基板の製造方法において、各層同士は熱圧着を行うことにより積層させることができる。この熱圧着は、一層一層積層するごとに行ってもよいし、ある程度積層させてからまとめて行ってもよいし、最後に一度にまとめて行ってもよい。   In addition, in the manufacturing method of the above-mentioned multilayer metal-clad laminate and the manufacturing method of a buildup board | substrate, each layer can be laminated | stacked by performing thermocompression bonding. This thermocompression bonding may be performed every time one layer is stacked, may be performed after being laminated to some extent, or may be performed collectively at the end.

特に、本発明は、上記のビルドアップ基板の製造方法において、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面銅張積層板、キャリア付金属箔の金属箔、キャリア付金属箔の板状キャリア、積層体の金属箔、積層体の樹脂、金属箔または樹脂に穴を開け、当該穴の側面および底面に導通めっきをし、更に前記片面あるいは両面配線基板を構成する金属箔および回路部分、片面あるいは両面銅張積層板を構成する金属箔、キャリア付金属箔を構成する金属箔、積層体を構成する金属箔、または金属箔に回路を形成する工程を少なくとも1回以上行うビルドアップ基板の製造方法を提供する。   In particular, the present invention provides a method for manufacturing a build-up board as described above, comprising a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or double-sided copper-clad laminate, a metal foil with a carrier metal foil, a plate-like carrier with a carrier metal foil, and a laminate. Holes are made in metal foil, laminated resin, metal foil or resin, conductive plating is applied to the side and bottom surfaces of the holes, and the metal foil and circuit portion constituting the single-sided or double-sided wiring board, single-sided or double-sided copper-clad Provided is a method for producing a build-up substrate in which a metal foil constituting a laminated plate, a metal foil constituting a metal foil with a carrier, a metal foil constituting a laminated body, or a step of forming a circuit on the metal foil is performed at least once. .

以下、上述した用途の具体例として、本発明に係るキャリア付金属箔を利用した4層CCLの製法を説明する。ここで使用するキャリア付金属箔は、板状キャリア11cの片面に金属箔11aを密着させたキャリア付金属箔11である。このキャリア付金属箔上11に、所望枚数のプリプレグ12、次に内層コア13と称する2層プリント回路基板または2層金属張積層板、次にプリプレグ12、更にキャリア付金属箔11を順に重ねることで1組の4層CCLの組み立てユニットが完成する。次に、このユニット14(通称「ページ」と言う)を10回程度繰り返し、プレス組み立て物15(通称「ブック」と言う)を構成する(図7)。その後、このブック15を積層金型10で挟んでホットプレス機にセットし、所定の温度及び圧力で加圧成型することにより多数の4層CCLを同時に製造することができる。積層金型10としては例えばステンレス製プレートを使用することができる。プレートは、限定的ではないが、例えば1〜10mm程度の厚板を使用することができる。4層以上のCCLについても、一般的には内層コアの層数を上げることで、同様の工程で生産することが可能である。   Hereinafter, as a specific example of the above-described application, a method for producing a four-layer CCL using the metal foil with a carrier according to the present invention will be described. The metal foil with carrier used here is the metal foil with carrier 11 in which the metal foil 11a is adhered to one surface of the plate-like carrier 11c. On this metal foil with carrier 11, a desired number of prepregs 12, and then a two-layer printed circuit board or two-layer metal-clad laminate called inner layer core 13, then prepreg 12, and further metal foil 11 with carrier 11 are sequentially stacked. Thus, a set of four-layer CCL assembly units is completed. Next, this unit 14 (commonly called “page”) is repeated about 10 times to form a press assembly 15 (commonly called “book”) (FIG. 7). Thereafter, the book 15 is sandwiched between the laminated molds 10 and set in a hot press machine, and a large number of four-layer CCLs can be manufactured simultaneously by press molding at a predetermined temperature and pressure. As the laminated mold 10, for example, a stainless plate can be used. Although a plate is not limited, For example, a thick board about 1-10 mm can be used. In general, CCL having four or more layers can be produced in the same process by increasing the number of inner core layers.

以下、上述した用途の具体例として、本発明に係る樹脂製の板状キャリア11cの両面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔11を利用したコアレスビルドアップ基板の製法を例示的に説明する。この方法では、キャリア付金属箔11の両側にビルドアップ層16を必要数積層した後、キャリア付金属箔11から両面の金属箔を剥離する(図8参照)。   Hereinafter, as a specific example of the above-described application, a method of manufacturing a coreless buildup substrate using the metal foil with carrier 11 in which the metal foil is adhered to both surfaces of the resin-made plate carrier 11c according to the present invention will be described. . In this method, after a necessary number of buildup layers 16 are laminated on both sides of the metal foil with carrier 11, the metal foils on both sides are peeled from the metal foil with carrier 11 (see FIG. 8).

例えば、本発明のキャリア付金属箔の金属箔側に、絶縁層としての樹脂、2層回路基板、絶縁層としての樹脂を順に重ね、その上に金属箔側が樹脂と接触するようにして、更に本発明のキャリア付金属箔の金属箔を順に重ねることでビルドアップ基板を製造することができる。   For example, on the metal foil side of the metal foil with a carrier of the present invention, a resin as an insulating layer, a two-layer circuit board, a resin as an insulating layer are sequentially stacked, and the metal foil side is in contact with the resin on the metal foil side. A buildup substrate can be manufactured by sequentially stacking the metal foils of the metal foil with a carrier of the present invention.

また、別の方法としては、樹脂製の板状キャリア11cの両面または片面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔の少なくともの一つの金属箔側に対して、絶縁層としての樹脂、導体層としての金属箔を順に積層する。次に、必要に応じて金属箔の全面を、ハーフエッチングして厚みを調整する工程を含めてもよい。次に、積層した金属箔の所定位置にレーザー加工を施して金属箔と樹脂を貫通するビアホールを形成し、ビアホールの中のスミアを除去するデスミア処理を施した後、ビアホール底部、側面および金属箔の全面または一部に無電解めっきを施して層間接続を形成して、必要に応じて更に電解めっきを行う。金属箔上の無電解めっきまたは電解めっきが不要な部分にはそれぞれのめっきを行う前までに予めめっきレジストを形成おいてもよい。また、無電解めっき、電解めっき、めっきレジストと金属箔の密着性が不十分である場合には予め金属箔の表面を化学的に粗化しておいてもよい。めっきレジストを使用した場合、めっき後にめっきレジストを除去する。次に、金属箔および、無電解めっき部、電解めっき部の不要部分をエッチングにより除去することで回路を形成する。その後、必要に応じて、キャリア付金属箔の金属箔が切断面に含まれるような所定の箇所でカットしてビルドアップ基板を製造することができる。樹脂、金属箔の積層から回路形成までの工程を複数回繰り返し行ってさらに多層のビルドアップ基板としてもよい。
さらに、このビルドアップ基板の最表面には、本発明の片面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔の金属箔の樹脂側を接触させて積層してもよいし、一旦樹脂を積層した後に、本発明の両面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔の一方の金属箔を接触させて積層してもよい。なお、最後に積層体を密着させる場合、その前段までで積層体の金属箔が切断面に含まれるような所定の箇所でのカットをしておいてもよいが、最後の積層体の密着までカットを行わず、最後に全ての積層体の金属面が切断面に含まれるようにカットしてもよい。
As another method, a resin or conductor layer as an insulating layer is provided on at least one metal foil side of the metal foil with a carrier in which the metal foil is adhered to both surfaces or one surface of the resinous plate-like carrier 11c. Are laminated in order. Next, if necessary, a step of half-etching the entire surface of the metal foil to adjust the thickness may be included. Next, laser processing is performed at a predetermined position of the laminated metal foil to form a via hole penetrating the metal foil and the resin, and after applying a desmear process for removing smear in the via hole, the bottom of the via hole, the side surface and the metal foil Electroless plating is performed on the entire surface or a part of the substrate to form an interlayer connection, and further electrolytic plating is performed as necessary. A plating resist may be formed in advance on each portion of the metal foil where electroless plating or electrolytic plating is unnecessary before performing each plating. In addition, when the electroless plating, the electrolytic plating, or the adhesion between the plating resist and the metal foil is insufficient, the surface of the metal foil may be chemically roughened in advance. When a plating resist is used, the plating resist is removed after plating. Next, a circuit is formed by removing unnecessary portions of the metal foil and the electroless plating portion and the electrolytic plating portion by etching. Thereafter, if necessary, the build-up substrate can be manufactured by cutting at a predetermined location where the metal foil of the metal foil with carrier is included in the cut surface. The process from the lamination of the resin and metal foil to the circuit formation may be repeated a plurality of times to form a multilayer build-up substrate.
Furthermore, on the outermost surface of this build-up substrate, the metal side of the metal foil with carrier in which the metal foil is adhered to one side of the present invention may be contacted and laminated, or after the resin is once laminated Alternatively, one metal foil of the metal foil with carrier in which the metal foil is adhered to both surfaces of the present invention may be brought into contact with each other and laminated. In addition, when the laminated body is finally adhered, it may be cut at a predetermined location so that the metal foil of the laminated body is included in the cut surface up to the preceding stage, but until the final laminated body is adhered You may cut so that the metal surface of all the laminated bodies may be finally included in a cut surface, without performing a cut.

ここで、ビルドアップ基板作製に用いる樹脂としては、熱硬化性樹脂を含有するプリプレグを好適に用いることができる。   Here, a prepreg containing a thermosetting resin can be suitably used as the resin used for manufacturing the build-up substrate.

また、別の方法としては、本発明の板状キャリアの片面または両面に金属箔、例えば銅箔を貼り合わせて得られるキャリア付金属箔の金属箔の露出表面に、絶縁層としての樹脂例えばプリプレグまたは感光性樹脂を積層する。その後、樹脂の所定位置にビアホールを形成する。樹脂として例えばプリプレグを用いる場合、ビアホールはレーザー加工により行うことができる。レーザー加工の後、このビアホールの中のスミアを除去するデスミア処理を施すとよい。また、樹脂として感光性樹脂を用いた場合、フォトリソグラフィ法によりビアホールを形成部の樹脂を除去することができる。次に、ビアホール底部、側面および樹脂の全面または一部に無電解めっきを施して層間接続を形成して、必要に応じて更に電解めっきを行う。樹脂上の無電解めっきまたは電解めっきが不要な部分にはそれぞれのめっきを行う前までに予めめっきレジストを形成おいてもよい。また、無電解めっき、電解めっき、めっきレジストと樹脂の密着性が不十分である場合には予め樹脂の表面を化学的に粗化しておいてもよい。めっきレジストを使用した場合、めっき後にめっきレジストを除去する。次に、無電解めっき部または電解めっき部の不要部分をエッチングにより除去することで回路を形成する。その後、必要に応じて、キャリア付金属箔の金属箔が切断面に含まれるような所定の箇所でカットしてビルドアップ基板を製造することができる。樹脂の積層から回路形成までの工程を複数回繰り返し行ってさらに多層のビルドアップ基板としてもよい。
さらに、このビルドアップ基板の最表面には、本発明の片面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔の金属箔の樹脂側を接触させて積層してもよいし、一旦樹脂を積層した後に、本発明の両面に金属箔を密着させたキャリア付金属箔の一方の金属箔を接触させて積層してもよい。なお、最後に積層体を密着させる場合、その前段までで積層体の金属箔が切断面に含まれるような所定の箇所でのカットをしておいてもよいが、最後の積層体の密着までカットを行わず、最後に全ての積層体の金属面が切断面に含まれるようにカットしてもよい。
As another method, a resin as an insulating layer such as a prepreg is formed on the exposed surface of a metal foil with a carrier obtained by laminating a metal foil such as a copper foil on one or both sides of the plate-like carrier of the present invention. Alternatively, a photosensitive resin is laminated. Thereafter, a via hole is formed at a predetermined position of the resin. For example, when a prepreg is used as the resin, the via hole can be formed by laser processing. After the laser processing, desmear treatment for removing smear in the via hole is preferably performed. When a photosensitive resin is used as the resin, the resin in the via hole forming portion can be removed by a photolithography method. Next, electroless plating is performed on the bottom and side surfaces of the via holes, the entire surface or a part of the resin to form interlayer connections, and further electrolytic plating is performed as necessary. A plating resist may be formed in advance on each portion of the resin where electroless plating or electrolytic plating is unnecessary before performing each plating. Further, when the adhesion between electroless plating, electrolytic plating, plating resist and resin is insufficient, the surface of the resin may be chemically roughened in advance. When a plating resist is used, the plating resist is removed after plating. Next, an unnecessary portion of the electroless plating portion or the electrolytic plating portion is removed by etching to form a circuit. Thereafter, if necessary, the build-up substrate can be manufactured by cutting at a predetermined location where the metal foil of the metal foil with carrier is included in the cut surface. The steps from resin lamination to circuit formation may be repeated a plurality of times to form a multilayered build-up substrate.
Furthermore, on the outermost surface of this build-up substrate, the metal side of the metal foil with carrier in which the metal foil is adhered to one side of the present invention may be contacted and laminated, or after the resin is once laminated Alternatively, one metal foil of the metal foil with carrier in which the metal foil is adhered to both surfaces of the present invention may be brought into contact with each other and laminated. In addition, when the laminated body is finally adhered, it may be cut at a predetermined location so that the metal foil of the laminated body is included in the cut surface up to the preceding stage, but until the final laminated body is adhered You may cut so that the metal surface of all the laminated bodies may be finally included in a cut surface, without performing a cut.

このようにして作製されたコアレスビルドアップ基板に対しては、めっき工程及び/又はエッチング工程経て表面に配線を形成し、更にキャリア樹脂と金属箔の間で、剥離分離させることでビルドアップ配線板が完成する。剥離分離後に金属箔の剥離面に対して、配線を形成してもよいし、金属箔全面をエッチングにより除去してビルドアップ配線板としてもよい。更に、ビルドアップ配線板に電子部品類を搭載することで、プリント回路板が完成する。また、樹脂剥離前のコアレスビルドアップ基板に直接、電子部品を搭載してもプリント回路板を得ることができる。   For the coreless build-up board manufactured in this way, the wiring is formed on the surface through the plating process and / or the etching process, and further, the build-up wiring board is separated and separated between the carrier resin and the metal foil. Is completed. Wiring may be formed on the peeling surface of the metal foil after peeling and separation, or the entire surface of the metal foil may be removed by etching to form a build-up wiring board. Furthermore, a printed circuit board is completed by mounting electronic components on the build-up wiring board. Moreover, a printed circuit board can be obtained even if an electronic component is mounted directly on a coreless buildup substrate before resin peeling.

以下に本発明の実施例および比較例として実験例を示すが、これらの実施例は本発明及びその利点をよりよく理解するために提供するものであり、発明が限定されることを意図するものではない。   Experimental examples are shown below as examples and comparative examples of the present invention, but these examples are provided for better understanding of the present invention and its advantages, and are intended to limit the invention. is not.

<実験例1>
複数の電解銅箔(厚さ12μm)を準備し、それぞれの電解銅箔のシャイニー(S)面に対して、下記の条件によるニッケル−亜鉛(Ni−Zn)合金めっき処理およびクロメート(Cr−Znクロメート)処理を施し、貼り合わせ面(ここではS面)の十点平均粗さ(Rz jis:JIS B 0031(2003)に準拠して測定)を1.5μmとした後、樹脂として南亜プラスティック社製のプリプレグ(FR−4レジン)を当該電解銅箔のS面と貼り合わせ、170℃で100分ホットプレス加工を行って、キャリア付銅箔を作製した。
<Experimental example 1>
A plurality of electrolytic copper foils (thickness 12 μm) were prepared, and nickel-zinc (Ni—Zn) alloy plating treatment and chromate (Cr—Zn) were performed on the shiny (S) surface of each electrolytic copper foil under the following conditions. Chromate) treatment, the ten-point average roughness (measured in accordance with JIS B 0031 (2003)) of the bonded surface (here, S surface) is 1.5 μm, and the resin is Nanya Plastic. A prepreg (FR-4 resin) manufactured by the company was bonded to the S surface of the electrolytic copper foil and hot-pressed at 170 ° C. for 100 minutes to prepare a copper foil with a carrier.

(ニッケル−亜鉛合金めっき)
Ni濃度 17g/L(NiSO4として添加)
Zn濃度 4g/L(ZnSO4として添加)
pH 3.1
液温 40℃
電流密度 0.1〜10A/dm2
めっき時間 0.1〜10秒
(Nickel-zinc alloy plating)
Ni concentration 17g / L (added as NiSO 4 )
Zn concentration 4g / L (added as ZnSO 4 )
pH 3.1
Liquid temperature 40 ℃
Current density 0.1-10A / dm 2
Plating time 0.1 to 10 seconds

(クロメート処理)
Cr濃度 1.4g/L(CrO3またはK2CrO7として添加)
Zn濃度 0.01〜1.0g/L(ZnSO4として添加)
Na2SO4濃度 10g/L
pH 4.8
液温 55℃
電流密度 0.1〜10A/dm2
めっき時間 0.1〜10秒
(Chromate treatment)
Cr concentration 1.4g / L (added as CrO 3 or K 2 CrO 7 )
Zn concentration 0.01 to 1.0 g / L (added as ZnSO 4 )
Na 2 SO 4 concentration 10 g / L
pH 4.8
Liquid temperature 55 ℃
Current density 0.1-10A / dm 2
Plating time 0.1 to 10 seconds

当該S面または板状キャリアへの離型剤の処理に関しては、離型剤の水溶液をスプレーコーターを用いて塗布してから、100℃の空気中で銅箔表面を乾燥させた後、プリプレグとの貼り合わせを行った。離型剤の使用条件について、離型剤の種類、離型剤を水中に溶解させてから塗布する前までの撹拌時間、水溶液中の離型剤の濃度、水溶液中のアルコール濃度、水溶液のpHを表1に示す。
また、当該S面または板状キャリアへの離型材樹脂塗膜の形成は、表1に示した組成を有する樹脂塗膜用の組成物をグラビアコート法により塗布した後、ドクターブレードを用いてその厚みを2〜4μmに調節した。また、塗布した樹脂塗膜は、150℃で、30秒間加熱して焼き付け処理を行った。なお、表1で示したエポキシ系樹脂としてはビスフェノールA型エポキシ樹脂を用い、メラミン系樹脂としてはメチルエーテル化メラミン樹脂を用い、フッ素樹脂としてはポリテトラフルオロエチレンを用い、ジメチルシリコーンレジンとしてはジメチルポリシロキサンを用いた。
Regarding the treatment of the mold release agent on the S surface or the plate carrier, an aqueous solution of the mold release agent is applied using a spray coater, and then the copper foil surface is dried in air at 100 ° C. Was pasted together. Regarding the use conditions of the release agent, the type of release agent, the stirring time from when the release agent is dissolved in water to before application, the concentration of the release agent in the aqueous solution, the alcohol concentration in the aqueous solution, the pH of the aqueous solution Is shown in Table 1.
Further, the formation of the release material resin coating on the S surface or the plate-like carrier is performed by applying a composition for a resin coating having the composition shown in Table 1 by a gravure coating method, and then using a doctor blade. The thickness was adjusted to 2-4 μm. Moreover, the applied resin coating film was baked by heating at 150 ° C. for 30 seconds. The epoxy resin shown in Table 1 is a bisphenol A type epoxy resin, the melamine resin is a methyl etherified melamine resin, the fluororesin is polytetrafluoroethylene, and the dimethyl silicone resin is dimethyl Polysiloxane was used.

また、キャリア付銅箔を、当該キャリア付金属箔に対して回路形成などのさらなる加熱処理の際に熱履歴がかかることを想定して、表1に記載の条件(ここでは、220℃で3時間)の熱処理を行った。   Further, assuming that the copper foil with carrier is subjected to a heat history during further heat treatment such as circuit formation with respect to the metal foil with carrier, the conditions described in Table 1 (here, 3 at 220 ° C.) Heat treatment).

ホットプレスにより得られたキャリア付銅箔、および更に熱処理を行った後のキャリア付銅箔における、銅箔と板状キャリア(加熱後の樹脂)との剥離強度を測定した。それぞれの結果を表1に示す。   The peel strength between the copper foil and the plate-like carrier (resin after heating) in the copper foil with carrier obtained by hot pressing and the copper foil with carrier after further heat treatment was measured. The results are shown in Table 1.

また、剥離作業性を評価するため、それぞれ単位個数当たりの人手による作業時間(時間/個)を評価した。結果を表2に示す。   Moreover, in order to evaluate peeling workability | operativity, the work time (time / piece) by the unit number per unit was evaluated. The results are shown in Table 2.

<実験例2〜12>
表1に示す銅箔、樹脂(プリプレグ)および離型剤を用いて、実験例1と同様の手順で、キャリア付銅箔を作製した。実験例3、7、10においては、離型剤を板状キャリア上に塗布した。また、表1に示した条件の熱処理を行った。それぞれについて実験例1と同様の評価を行った。結果を表1、2に示す。
実験例12では、離型剤および離型材のいずれも用いることなく、銅箔と樹脂(プリプレグ〜とを貼り合わせて、キャリア付銅箔を作製して、実験例1と同様の評価を行った。
<Experimental Examples 2-12>
Using the copper foil, resin (prepreg) and release agent shown in Table 1, a carrier-attached copper foil was produced in the same procedure as in Experimental Example 1. In Experimental Examples 3, 7, and 10, the release agent was applied on the plate carrier. Moreover, the heat processing of the conditions shown in Table 1 was performed. Each was evaluated in the same way as in Experimental Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.
In Experimental Example 12, a copper foil and a resin (prepregs ~ were bonded to each other to produce a copper foil with a carrier without using either a release agent or a release material, and the same evaluation as in Experimental Example 1 was performed. .

なお、銅箔の貼り合わせ面の種別、表面処理の条件および表面粗さRz jis、離型剤の使用条件、プリプレグの種類、ならびに銅箔とプリプレグとの積層条件は、表1に示したとおりである。   In addition, as shown in Table 1, the type of the bonding surface of the copper foil, the condition of the surface treatment and the surface roughness Rz jis, the use condition of the release agent, the type of the prepreg, and the lamination condition of the copper foil and the prepreg It is.

板状キャリアとの貼り合わせ面とは反対側の銅箔マット(M)面の表面処理条件において、エポキシシラン(処理)及び粗化処理の具体的な条件は以下である。   In the surface treatment conditions of the copper foil mat (M) surface opposite to the bonding surface with the plate-like carrier, specific conditions for epoxysilane (treatment) and roughening treatment are as follows.

(エポキシシラン処理)
処理液:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.9体積%水溶液
pH5.0〜9.0
12時間常温で攪拌したもの
処理方法:スプレーコーターを用いて処理液を塗布後、100℃の空気中で5分間処理面を乾燥させる。
(Epoxysilane treatment)
Treatment liquid: 0.9 volume% aqueous solution of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
pH 5.0-9.0
Stirred at room temperature for 12 hours Treatment method: After applying the treatment liquid using a spray coater, the treated surface is dried in air at 100 ° C. for 5 minutes.

(粗化処理)
Cu濃度 20g/L(CuSO4として添加)
2SO4濃度 50〜100g/L
As濃度 0.01〜2.0g/L(亜ヒ酸として添加)
液温 40℃
電流密度 40〜100A/dm2
めっき時間 0.1〜30秒
(Roughening treatment)
Cu concentration 20 g / L (added as CuSO 4 )
H 2 SO 4 concentration 50-100g / L
As concentration 0.01-2.0 g / L (added as arsenous acid)
Liquid temperature 40 ℃
Current density 40-100A / dm 2
Plating time 0.1-30 seconds

表によれば、離型剤は、銅箔の表面にて処理しても、板状キャリア(プリプレグ)の表面に処理しても、その後の積層体の剥離強度、加熱後の剥離強度、剥離作業性において、同等の結果が得られたことがわかる。   According to the table, the release agent can be processed on the surface of the copper foil or the surface of the plate carrier (prepreg), and then the peel strength of the laminate, the peel strength after heating, the peel It can be seen that the same results were obtained in workability.

Figure 0005887420
Figure 0005887420

Figure 0005887420
Figure 0005887420

なお、実験例1では、板状キャリア(プリプレグ)と銅箔の積層に際して、板状キャリアとして厚み200μmのプリプレグを使用した。前記プリプレグおよび前記銅箔は、550mm角の正方形の各頂点から25mmの距離にある縁上の2点を結ぶ直線で切り落とした八角形形状とした。プリプレグと銅箔の位置関係は、銅箔の中心とプリプレグの中心位置を一致させ、銅箔の辺とプリプレグの辺が平行になるよう配置して積層した(図5の態様)。銅箔はプリプレグの両面に積層した。   In Experimental Example 1, a prepreg having a thickness of 200 μm was used as the plate carrier when the plate carrier (prepreg) and the copper foil were laminated. The prepreg and the copper foil had an octagonal shape cut off by a straight line connecting two points on the edge at a distance of 25 mm from each vertex of a 550 mm square. The positional relationship between the prepreg and the copper foil was such that the center of the copper foil and the center position of the prepreg were matched, and the sides of the copper foil and the side of the prepreg were arranged parallel to each other (the mode of FIG. 5). Copper foil was laminated on both sides of the prepreg.

また、実験例2〜10では、550mm角の正方形のプリプレグおよび銅箔の各頂点を曲率半径25mmの円弧形状に加工し、直線と円弧とで囲まれた形状とした以外は、実験例1と同様の条件にて、銅箔とプリプレグとを積層した(図3の態様)。銅箔はプリプレグの両面に積層した。   Moreover, in Experimental Examples 2 to 10, except that each vertex of a 550 mm square prepreg and copper foil was processed into an arc shape with a curvature radius of 25 mm, and a shape surrounded by a straight line and an arc was used. A copper foil and a prepreg were laminated under the same conditions (the embodiment of FIG. 3). Copper foil was laminated on both sides of the prepreg.

また、実験例11では、プリプレグおよび銅箔を、半径300mm円形状とした以外は、実験例1と同様の条件にて、銅箔とプリプレグとを積層した(図なし)。銅箔はプリプレグの両面に積層した。   In Experimental Example 11, the copper foil and the prepreg were laminated under the same conditions as in Experimental Example 1 except that the prepreg and the copper foil had a circular shape with a radius of 300 mm (not shown). Copper foil was laminated on both sides of the prepreg.

このようにして作製したキャリア付銅箔の、板状キャリアが露出している部分4か所に、直径1mmの孔を空け、後に続くビルドアップ工程時の位置決め用のガイドホールとした。   A hole having a diameter of 1 mm was formed in four portions of the copper foil with carrier thus produced where the plate-like carrier was exposed, and used as a guide hole for positioning in the subsequent build-up process.

このようにして作製したキャリア付銅箔の両側に、FR−4プリプレグ(南亜プラスティック社製)、銅箔(JX日鉱日石金属(株)製、JTC12μm(製品名))を順に重ね、3MPaの圧力で170℃・100分間ホットプレスを行い、4層銅張積層板を作製した。 FR-4 prepreg (manufactured by Nanya Plastic Co., Ltd.) and copper foil (manufactured by JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd., JTC 12 μm (product name)) are sequentially stacked on both sides of the copper foil with carrier thus produced. A four-layer copper-clad laminate was produced by hot pressing at 170 ° C. for 100 minutes at a pressure of 150 ° C.

次に、前記4層銅張積層板表面の銅箔とその下の絶縁層(硬化したプリプレグ)を貫通する直径100μmの孔をレーザー加工機を用いて空けた。続いて、前記孔の底部に露出したキャリア付き銅箔上の銅箔表面と、前記孔の側面、前記4層銅張積層板表面の銅箔上に無電解銅めっき、電気銅めっきにより銅めっきを行い、キャリア付銅箔上の銅箔と、4層銅張積層板表面の銅箔との間に電気的接続を形成した。次に、4層銅張積層板表面の銅箔の一部を塩化第二鉄系のエッチング液を用いてエッチングし、回路を形成した。このようにして、4層ビルドアップ基板を作製することができる。   Next, a 100 μm diameter hole penetrating the copper foil on the surface of the four-layer copper-clad laminate and the insulating layer (cured prepreg) thereunder was drilled using a laser processing machine. Subsequently, electroless copper plating on the copper foil surface on the copper foil with carrier exposed at the bottom of the hole, the side surface of the hole, and the copper foil on the surface of the four-layer copper-clad laminate, and copper plating by electrolytic copper plating The electrical connection was formed between the copper foil on the copper foil with a carrier and the copper foil on the surface of the four-layer copper-clad laminate. Next, a part of the copper foil on the surface of the four-layer copper-clad laminate was etched using a ferric chloride-based etchant to form a circuit. In this manner, a four-layer buildup substrate can be produced.

続いて、前記4層ビルドアップ基板を、前記キャリア付銅箔の銅箔上の位置で切断した後、前記キャリア付銅箔の板状キャリアと銅箔を剥離して分離することにより、2組の2層ビルドアップ配線板を得た。   Subsequently, after cutting the four-layer build-up substrate at a position on the copper foil of the carrier-attached copper foil, the plate-like carrier and the copper foil of the copper foil with carrier are separated and separated into two sets. A two-layer build-up wiring board was obtained.

<実験例13>
実験例1において、銅箔およびプリプレグの両方につき、550mm角の正方形の形状とした以外は、実験例1と同様の銅箔、離型剤およびプリプレグを用いて、キャリア付銅箔を作製し、実験例1と同様の手順にて2層ビルドアップ配線板を得た。
<Experimental example 13>
In Experimental Example 1, a copper foil with a carrier was prepared using the same copper foil, release agent and prepreg as in Experimental Example 1 except that both the copper foil and the prepreg had a 550 mm square shape. A two-layer build-up wiring board was obtained by the same procedure as in Experimental Example 1.

各実験例とも複数の4層ビルドアップ基板を作製し、それぞれについて、ビルドアップ基板製作工程におけるキャリア付銅箔を構成するプリプレグと銅箔との密着具合を目視にて確認したところ、実験例13のものがプリプレグと銅箔との界面で剥がれかかった状態のものが、実験例1〜11で得られたものよりも多かった。
また、実験例13と実験例1とを比較すると、実験例1の方がプリプレグと銅箔との界面で剥がれかかった状態の個数が少なかった。
また、実験例1と実験例2〜11とを比較すると、実験例2〜11の方がプリプレグと銅箔との界面で剥がれかかった状態の個数が少なかった。
In each experimental example, a plurality of four-layer build-up substrates were produced, and for each of the examples, when the adhesion between the prepreg and the copper foil constituting the carrier-added copper foil in the build-up substrate manufacturing process was visually confirmed, Experimental Example 13 There were more things in the state of being peeled off at the interface between the prepreg and the copper foil than those obtained in Experimental Examples 1-11.
In addition, when Experimental Example 13 and Experimental Example 1 were compared, Experimental Example 1 had a smaller number of states that were about to peel off at the interface between the prepreg and the copper foil.
Further, comparing Experimental Example 1 with Experimental Examples 2 to 11, Experimental Examples 2 to 11 had a smaller number of states that were about to peel off at the interface between the prepreg and the copper foil.

10 積層金型
11 キャリア付金属箔
11a 金属箔
11b 離型剤からなる層あるいは離型材
11c 板状キャリア
12 プリプレグ
13 内層コア
14 ページ
15 ブック
16 ビルドアップ層
20 キャリア付金属箔
21 板状キャリア
22 金属箔
30 キャリア付金属箔
31 板状キャリア
32 金属箔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laminated metal mold 11 Metal foil with carrier 11a Metal foil 11b Mold release agent or release material 11c Plate carrier 12 Prepreg 13 Inner core core 14 Page 15 Book 16 Build-up layer 20 Metal foil with carrier 21 Plate carrier 22 Metal Foil 30 Metal foil 31 with carrier Plate carrier 32 Metal foil

Claims (75)

樹脂製の板状キャリアと、該キャリアの少なくとも一方の面に、剥離可能に密着させた金属箔からなるキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状であるキャリア付金属箔。
A metal foil with a carrier made of a resin-made plate-like carrier and a metal foil that is peelably adhered to at least one surface of the carrier,
A metal foil with a carrier having a shape in which the metal foil and the plate-like carrier have the same shape and have no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when seen in a plan view.
請求項1に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、直線と曲線とで囲まれた形状であるキャリア付金属箔。
The metal foil with a carrier according to claim 1,
The metal foil with a carrier which is the shape where the said metal foil and the said plate-shaped carrier were the same shape when it planarly viewed, and were enclosed by the straight line and the curve.
請求項2に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、曲線が円弧または楕円弧であるキャリア付金属箔。
A metal foil with a carrier according to claim 2,
A metal foil with a carrier, wherein the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in plan, and the curve is an arc or an elliptical arc.
請求項1に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、すべての内角が90度より大きい角度の多角形状であるキャリア付金属箔。
The metal foil with a carrier according to claim 1,
A metal foil with a carrier, wherein the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in a plan view, and all the internal angles are polygonal shapes having an angle larger than 90 degrees.
請求項4に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、すべての内角が90度より大きく、かつ180度より小さい角度の凸多角形状であるキャリア付金属箔。
The metal foil with a carrier according to claim 4,
The metal foil with a carrier which is a convex polygonal shape in which the metal foil and the plate-like carrier have the same shape when viewed in a plane, and all inner angles are larger than 90 degrees and smaller than 180 degrees.
請求項1に記載のキャリア付金属箔であって、
平面視したときに、前記金属箔と前記板状キャリアとが同一の形状であり、かつ、曲線のみで囲まれた形状であるキャリア付金属箔。
The metal foil with a carrier according to claim 1,
The metal foil with a carrier which is the shape where the said metal foil and the said plate-shaped carrier were the same shape when it planarly viewed, and were only enclosed by the curve.
板状キャリアと金属箔の剥離強度が10gf/cm以上200gf/cm以下である請求項1〜6のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 6, wherein the peel strength between the plate-like carrier and the metal foil is 10 gf / cm or more and 200 gf / cm or less. 樹脂製の板状キャリアが熱硬化性樹脂を含む請求項1〜7のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 7, wherein the resinous plate-like carrier contains a thermosetting resin. 樹脂製の板状キャリアがプリプレグである請求項1〜7のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The resin-made plate-shaped carrier is a prepreg, and the metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 7. 前記板状キャリアは、120〜320℃のガラス転移温度Tgを有する請求項8または9に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to claim 8 or 9, wherein the plate-like carrier has a glass transition temperature Tg of 120 to 320 ° C. 前記金属箔の前記キャリアと接する側表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下である請求項1〜10のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 10, wherein a ten-point average roughness (Rz jis) of a side surface in contact with the carrier of the metal foil is 3.5 µm or less. 前記金属箔の前記キャリアと接しない側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、0.4μm以上10.0μm以下である請求項1〜11のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal with a carrier according to any one of claims 1 to 11, wherein a ten-point average roughness (Rz jis) of a surface of the metal foil not contacting the carrier is 0.4 µm or more and 10.0 µm or less. Foil. 前記金属箔の厚みが、1μm以上400μm以下である請求項1〜12のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The thickness of the said metal foil is 1 micrometer or more and 400 micrometers or less, Metal foil with a carrier as described in any one of Claims 1-12. 前記板状キャリアの厚みが5μm以上1000μm以下である請求項1〜13のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The thickness of the said plate-shaped carrier is 5 micrometers or more and 1000 micrometers or less, Metal foil with a carrier as described in any one of Claims 1-13. 平面視したときに、切断して除去する領域において、直径0.01mm〜10mm程度の孔を1〜10箇所程度設けられた請求項1〜14のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 14, wherein about 1 to 10 holes having a diameter of about 0.01 mm to 10 mm are provided in a region to be cut and removed when viewed in a plan view. 板状キャリアと金属箔とを、離型剤を用いて貼り合わせてなる請求項1〜15のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 15, wherein the plate-like carrier and the metal foil are bonded together using a release agent. 前記離型剤が、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて用いてなる請求項16に記載のキャリア付金属箔。
The release agent has the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
The metal foil with a carrier of Claim 16 which uses the silane compound shown to these, its hydrolysis product, and the condensate of this hydrolysis product individually or in combination.
前記離型剤が、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を用いてなる請求項16に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to claim 16, wherein the release agent is a compound having two or less mercapto groups in the molecule. 前記離型剤が、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて用いてなる請求項16に記載のキャリア付金属箔。
The release agent has the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
The metal foil with a carrier according to claim 16, wherein the aluminate compound, titanate compound, zirconate compound, hydrolysis products thereof, and condensates of the hydrolysis products are used alone or in combination.
板状キャリアと金属箔とを、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を用いて貼り合わせてなる請求項1〜15のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   Claims obtained by laminating a plate-like carrier and a metal foil using a resin coating film composed of silicone and any one or a plurality of resins selected from epoxy resins, melamine resins and fluororesins. Item 16. A metal foil with a carrier according to any one of Items 1 to 15. 220℃で3時間、6時間または9時間のうちの少なくとも一つの加熱後における、金属箔と板状キャリアとの剥離強度が、10gf/cm以上200gf/cm以下である請求項1〜20のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   21. The peel strength between the metal foil and the plate-like carrier after heating at 220 ° C. for 3 hours, 6 hours, or 9 hours is 10 gf / cm or more and 200 gf / cm or less. A metal foil with a carrier according to claim 1. 前記金属箔が、銅箔である請求項1〜21のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 21, wherein the metal foil is a copper foil. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
When viewed from above, the following formula is applied to the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
The metal foil for coreless multilayer printed wiring boards which has the silane compound shown in 1 above, its hydrolysis product, and the condensate of this hydrolysis product individually or in combination.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。   A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan . 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。
When viewed from above, the following formula is applied to the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board having the aluminate compound, titanate compound, zirconate compound, hydrolyzed products thereof, and condensates of the hydrolyzed products alone or in combination.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有するコアレス多層プリント配線板用金属箔。   Any one selected from silicone, epoxy resin, melamine resin, and fluororesin on the surface of the metal foil having an angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan or A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board having a resin coating composed of a plurality of resins. 前記金属箔の請求項23〜26のいずれか一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面に対して、当該化合物または樹脂塗膜を作用させる前に、クロメート処理をすることを特徴とするコアレス多層プリント配線板用金属箔。   Chromate treatment is performed on the surface of the metal foil on the side on which the compound or resin coating film according to any one of claims 23 to 26 is applied before the compound or resin coating film is applied. A metal foil for coreless multilayer printed wiring boards. 請求項23〜27のいずれか一項に記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔であって、
前記金属箔の請求項23〜26のいずれか一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下であるコアレス多層プリント配線板用金属箔。
A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board according to any one of claims 23 to 27,
27. A coreless multilayer printed wiring in which the metal foil has a ten-point average roughness (Rz jis) of 3.5 μm or less on the surface on which the compound or resin coating film is applied. Metal foil for plates.
請求項23〜28のいずれか一項に記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔であって、
前記金属箔の請求項23〜26のいずれか一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させない側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、0.4μm以上10.0μm以下であるコアレス多層プリント配線板用金属箔。
A metal foil for a coreless multilayer printed wiring board according to any one of claims 23 to 28,
27. The ten-point average roughness (Rz jis) of the surface of the metal foil on the side on which the compound or resin coating film according to any one of claims 23 to 26 does not act is 0.4 μm or more and 10.0 μm or less. Metal foil for coreless multilayer printed wiring boards.
前記金属箔が、銅箔である請求項23〜29の何れか一項に記載のコアレス多層プリント配線板用金属箔。   The metal foil for a coreless multilayer printed wiring board according to any one of claims 23 to 29, wherein the metal foil is a copper foil. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
When viewed from above, the following formula is applied to the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
A metal foil having a silane compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product alone or in combination, wherein the resin plate carrier is adhered to the surface in a peelable manner. Metal foil used in
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。   A metal foil having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on the surface of the metal foil having an angle (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan, Metal foil used for applications in which a resin-made plate-like carrier is peeled and adhered. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。
When viewed from above, the following formula is applied to the surface of the metal foil having a shape having no corner (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A metal foil having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, a condensate of the hydrolysis product, or a combination of a plurality of the hydrolysis products. Metal foil used for applications in which the carrier is peelably adhered.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である金属箔の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する金属箔であって、当該表面にて樹脂製の板状キャリアを剥離可能に密着させる用途に用いられる金属箔。   Any one selected from silicone, epoxy resin, melamine resin, and fluororesin on the surface of the metal foil having an angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when viewed in plan or A metal foil having a resin coating film composed of a plurality of resins, the metal foil being used in such a manner that a plate-like carrier made of resin is detachably attached to the surface. 請求項31〜34のいずれか一項に記載の金属箔であって、
前記金属箔の請求項28〜33のいずれかに一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面に対して、当該化合物または樹脂塗膜を作用させる前に、クロメート処理をすることを特徴とする金属箔。
The metal foil according to any one of claims 31 to 34,
A chromate treatment is performed on the surface of the metal foil on the side on which the compound or resin coating film according to any one of claims 28 to 33 is applied before the compound or resin coating film is applied. Metal foil characterized by.
請求項31〜35のいずれか一項に記載の金属箔であって、
前記金属箔の請求項28〜33のいずれかに一項に記載の化合物または樹脂塗膜を作用させる側の表面の十点平均粗さ(Rz jis)が、3.5μm以下である金属箔。
The metal foil according to any one of claims 31 to 35,
A metal foil having a ten-point average roughness (Rz jis) of 3.5 μm or less on a surface on which the compound or resin coating film according to any one of claims 28 to 33 is applied.
前記金属箔が、銅箔である請求項31〜36の何れか一項に記載のプリント配線板用金属箔。   The said metal foil is a copper foil, The metal foil for printed wiring boards as described in any one of Claims 31-36. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリア。
On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
A plate-like carrier having a silane compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product alone or in combination.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する板状キャリア。   A plate having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on at least one surface of a resin-made plate-like carrier having an angle (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan Carrier. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリア。
On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A plate carrier having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, and a condensate of the hydrolysis product, either alone or in combination.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する板状キャリア。   Select from silicone, epoxy resin, melamine resin, and fluororesin on at least one surface of a resinous plate-like carrier that has an inner angle of 90 degrees or less (vertex) when viewed in plan A plate-like carrier having a resin coating film composed of any one or a plurality of resins. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、R3及びR4はそれぞれ独立にハロゲン原子、またはアルコキシ基、またはアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基である。)
に示すシラン化合物、その加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by R 3 and R 4 are each independently a halogen atom, an alkoxy group, or a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group Or any one of these hydrocarbon groups in which one or more hydrogen atoms are replaced by halogen atoms.)
Is a plate-like carrier having a silane compound, a hydrolysis product thereof, or a condensate of the hydrolysis product alone or in combination, and is used for the purpose of releasably adhering a metal foil on the surface. Plate carrier.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、分子内に2つ以下のメルカプト基を有する化合物を有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。   A plate having a compound having two or less mercapto groups in the molecule on at least one surface of a resin-made plate-like carrier having an angle (vertex) having an inner angle of 90 degrees or less when viewed in plan A plate-like carrier that is used for the purpose of releasably attaching a metal foil on the surface. 平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、次式:
Figure 0005887420
(式中、R1はアルコキシ基またはハロゲン原子であり、R2はアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基よりなる群から選択される炭化水素基であるか、一つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたこれら何れかの炭化水素基であり、MはAl、Ti、Zrのうちいずれか一つ、nは0または1または2、mは1以上Mの価数以下の整数であり、R1の少なくとも一つはアルコキシ基である。なお、m+nはMの価数すなわちAlの場合3、Ti、Zrの場合4である)
に示すアルミネート化合物、チタネート化合物、ジルコネート化合物、これらの加水分解生成物、該加水分解生成物の縮合体を単独で又は複数組み合わせて有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。
On at least one surface of a resinous plate-like carrier having a shape having no internal angle (vertex) having an internal angle of 90 degrees or less when seen in a plan view, the following formula:
Figure 0005887420
Wherein R 1 is an alkoxy group or a halogen atom, and R 2 is a hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group and an aryl group, or one or more hydrogen atoms are halogen atoms Any one of these hydrocarbon groups substituted by: M is any one of Al, Ti, Zr, n is 0 or 1 or 2, m is an integer from 1 to M valence, At least one of R1 is an alkoxy group, where m + n is the valence of M, that is, 3 for Al and 4 for Ti and Zr)
A plate-like carrier having an aluminate compound, a titanate compound, a zirconate compound, a hydrolysis product thereof, or a condensate of the hydrolysis product as shown in FIG. A plate-like carrier used for close contact.
平面視したときに、90度以下の内角を有する角(頂点)がない形状である樹脂製の板状キャリアの少なくとも一方の表面に、シリコーンと、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂およびフッ素樹脂から選択されるいずれか1つまたは複数の樹脂とで構成される樹脂塗膜を有する板状キャリアであって、当該表面にて金属箔を剥離可能に密着させる用途に用いられる板状キャリア。   Select from silicone, epoxy resin, melamine resin, and fluororesin on at least one surface of a resinous plate-like carrier that has an inner angle of 90 degrees or less (vertex) when viewed in plan A plate-shaped carrier having a resin coating film composed of any one or a plurality of resins, and used for the purpose of releasably attaching a metal foil on the surface. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔側に対して、樹脂を積層し、次いで樹脂又は金属箔を1回以上繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法。   A multilayer including laminating a resin on at least one metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, and then laminating the resin or the metal foil repeatedly one or more times. A method for producing a metal-clad laminate. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面金属張積層板、請求項1〜22のいずれかに記載のキャリア付き金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔を1回以上繰り返して積層することを含む多層金属張積層板の製造方法。   A resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, and then a resin, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, and the carrier according to any one of claims 1 to 22. A method for producing a multilayer metal-clad laminate comprising attaching a metal foil, a laminate in which a metal foil is laminated on the surface of a resin, or laminating a metal foil repeatedly one or more times. 請求項46または47に記載の多層金属張積層板の製造方法において、前記キャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断する工程を含む多層金属張積層板の製造方法。   48. The method for producing a multilayer metal-clad laminate according to claim 46 or 47, wherein cutting is performed on a laminate surface of a plate-like carrier and a metal foil in the metal foil with a carrier or a laminate surface of a resin and a metal foil in the laminate. The manufacturing method of the multilayer metal-clad laminated board including the process to do. 請求項46または47に記載の製造方法において、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔を剥離して分離する工程を更に含む多層金属張積層板の製造方法。   48. The method for producing a multilayer metal-clad laminate according to claim 46 or 47, further comprising a step of peeling and separating the plate-like carrier of the metal foil with carrier and the metal foil. 請求項48に記載の製造方法において、前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体における樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程を更に含む多層金属張積層板の製造方法。   49. In the manufacturing method according to claim 48, the step of separating and separating the plate-like carrier and metal foil of the metal foil with carrier after cutting or the resin and metal foil in the laminate after cutting are separated. A method for producing a multilayer metal-clad laminate, further comprising a step of separating. 請求項49または50に記載の製造方法において、剥離して分離した金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を含む多層金属張積層板の製造方法。   51. The method of manufacturing a multilayer metal-clad laminate according to claim 49 or 50, comprising a step of removing a part or all of the separated and separated metal foil by etching. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔と、当該キャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔の面側に設けられた樹脂と、当該樹脂にさらに設けられた樹脂又は金属層を1層以上有する層とを含む多層金属張積層板。 A metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, a resin provided on a surface side of at least one metal foil of the metal foil with a carrier, and a resin or a metal further provided on the resin A multilayer metal-clad laminate including a layer having one or more layers . 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に、ビルドアップ配線層を一層以上形成する工程を含むビルドアップ基板の製造方法。   The manufacturing method of a buildup board | substrate including the process of forming one or more buildup wiring layers in the metal foil side of the metal foil with a carrier as described in any one of Claims 1-22. ビルドアップ配線層はサブトラクティブ法又フルアディティブ法又はセミアディティブ法の少なくとも一つを用いて形成される請求項53に記載のビルドアップ基板の製造方法。   54. The buildup board manufacturing method according to claim 53, wherein the buildup wiring layer is formed using at least one of a subtractive method, a full additive method, and a semi-additive method. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔の金属箔側に樹脂を積層し、次いで樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、請求項1〜22のいずれかに記載のキャリア付き金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔を1回以上繰り返して積層することを含むビルドアップ基板の製造方法。   A resin is laminated on the metal foil side of the metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, and then a resin, a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, The manufacturing method of the buildup board | substrate including repeating the metal foil with a carrier in any one, the laminated body which laminated | stacked metal foil on the surface of resin, or repeating metal foil once or more. 請求項55に記載のビルドアップ基板の製造方法において、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、キャリア付き金属箔の金属箔、キャリア付き金属箔の板状キャリア、積層体の金属箔、積層体の板状キャリア、金属箔、又は樹脂に穴を開け、当該穴の側面および底面に導通めっきをする工程を更に含むビルドアップ基板の製造方法。   56. The method for manufacturing a build-up board according to claim 55, wherein the single-sided or double-sided wiring board, the single-sided or double-sided metal-clad laminate, the metal foil of the metal foil with carrier, the plate carrier of the metal foil with carrier, the metal foil of the laminate The manufacturing method of the buildup board | substrate which further includes the process of drilling a hole in the plate-shaped carrier of a laminated body, metal foil, or resin, and carrying out conductive plating to the side surface and bottom face of the said hole. 請求項55または56に記載のビルドアップ基板の製造方法において、前記片面あるいは両面配線基板を構成する金属箔、片面あるいは両面金属張積層板を構成する金属箔、及びキャリア付き金属箔を構成する金属箔、積層体を構成する金属箔、および金属箔の少なくとも一つに配線を形成する工程を1回以上行うことを更に含むビルドアップ基板の製造方法。   57. The method for manufacturing a buildup board according to claim 55 or 56, wherein the metal foil constituting the single-sided or double-sided wiring board, the metal foil constituting the single-sided or double-sided metal-clad laminate, and the metal constituting the metal foil with carrier The manufacturing method of the buildup board | substrate which further includes performing the process of forming wiring in at least one of foil, the metal foil which comprises a laminated body, and metal foil once or more. 配線形成された表面の上に、片面に金属箔を密着させた請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔のキャリア側、または樹脂の片面に金属箔を積層した積層体の樹脂側を接触させて積層する工程を更に含む請求項55〜57のいずれか一項に記載のビルドアップ基板の製造方法。   The laminated body which laminated | stacked metal foil on the carrier side of the metal foil with a carrier as described in any one of Claims 1-22, or metal single side | surface on which the metal foil was made to closely_contact | adhere on the surface in which wiring was formed. The manufacturing method of the buildup board | substrate as described in any one of Claims 55-57 further including the process of contacting and laminating | stacking the resin side. 配線形成された表面の上に、樹脂を積層し、当該樹脂に両面に金属箔を密着させた請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔、または樹脂の両面に金属箔を積層した積層体を接触させて積層する工程を更に含む請求項55〜57いずれか一項に記載のビルドアップ基板の製造方法。   The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, wherein the resin is laminated on the surface on which the wiring is formed, and the metal foil is adhered to both surfaces of the resin, or the metal foil on both surfaces of the resin. The manufacturing method of the buildup board | substrate as described in any one of Claims 55-57 which further includes the process of contacting and laminating | stacking the laminated body which laminated | stacked. 前記樹脂の少なくとも一つがプリプレグであることを特徴とする請求項55〜59のいずれか一項に記載のビルドアップ基板の製造方法。   60. The method for manufacturing a buildup substrate according to any one of claims 55 to 59, wherein at least one of the resins is a prepreg. 請求項53〜60のいずれか一項に記載の方法で得られたビルドアップ基板に対して、前記キャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断する工程を含むビルドアップ配線板の製造方法。   A laminate surface of a plate-like carrier and a metal foil in the metal foil with a carrier or a resin and a metal foil in the laminate with respect to the build-up substrate obtained by the method according to any one of claims 53 to 60. The manufacturing method of the buildup wiring board including the process cut | disconnected in the laminated surface. 請求項53〜60のいずれか一項に記載の方法で得られたビルドアップ基板に対して、前記キャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔を剥離して分離する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。   A build-up wiring further comprising a step of peeling and separating the plate-like carrier of the metal foil with carrier and the metal foil from the build-up substrate obtained by the method according to any one of claims 53 to 60. A manufacturing method of a board. 請求項61に記載の製造方法において前記切断後のキャリア付金属箔の板状キャリアと金属箔とを剥離して分離する工程または前記切断後の積層体における樹脂と金属箔とを剥離して分離する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。   62. The manufacturing method according to claim 61, wherein the plate-like carrier of the metal foil with a carrier after cutting and the metal foil are separated and separated, or the resin and the metal foil in the laminate after the cutting are separated and separated. The manufacturing method of the buildup wiring board which further includes the process to do. 請求項62または63に記載のビルドアップ配線板の製造方法において、板状キャリアと密着していた金属箔の一部または全部をエッチングにより除去する工程を更に含むビルドアップ配線板の製造方法。   64. The method for manufacturing a buildup wiring board according to claim 62 or 63, further comprising a step of removing a part or all of the metal foil that has been in close contact with the plate carrier by etching. 請求項61〜64のいずれか一項に記載の方法によりビルドアップ配線板を製造する工程を含むプリント回路板の製造方法。   A method for producing a printed circuit board, comprising a step of producing a build-up wiring board by the method according to any one of claims 61 to 64. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔と、当該キャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔の面側に設けられた樹脂と、樹脂、片面あるいは両面金属張積層板、請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔、樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔から選択される層を1層以上有する層とを含む多層金属張積層板。A metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, a resin provided on a surface side of at least one metal foil of the metal foil with a carrier, a resin, a single-sided or double-sided metal-clad laminate, A multilayer metal comprising the metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, a laminate in which a metal foil is laminated on the surface of a resin, or a layer having one or more layers selected from the metal foil. Tension laminate. 請求項52または66に記載の多層金属張積層板であって、前記キャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断されている多層金属張積層板。The multilayer metal-clad laminate according to claim 52 or 66, wherein the laminate is cut at a laminated surface of a plate-like carrier and a metal foil in the metal foil with a carrier or a laminated surface of a resin and a metal foil in the laminated body. Multi-layer metal-clad laminate. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔と、当該キャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔の面側に設けられた、ビルドアップ配線層を一層以上有する層とを含むビルドアップ基板。23. A metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, and a layer having at least one build-up wiring layer provided on the surface side of at least one metal foil of the metal foil with a carrier. Build-up board. 請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔と、当該キャリア付き金属箔の少なくとも一つの金属箔の面側に設けられた樹脂と、樹脂、片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付き金属箔、または樹脂の表面に金属箔を積層させた積層体、または金属箔から選択される層を1層以上有する層とを含むビルドアップ基板。A metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, a resin provided on a surface side of at least one metal foil of the metal foil with a carrier, a resin, a single-sided or double-sided wiring board, a single-sided or One or more layers selected from a double-sided metal-clad laminate, a metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, or a laminate in which a metal foil is laminated on the surface of a resin, or a metal foil. A build-up substrate comprising: a layer having; 請求項69に記載のビルドアップ基板において、前記片面あるいは両面配線基板、片面あるいは両面金属張積層板、キャリア付き金属箔の金属箔、キャリア付き金属箔の板状キャリア、積層体の金属箔、積層体の板状キャリア、金属箔、又は樹脂に開けられた穴の側面および底面に導通めっきを有するビルドアップ基板。70. The build-up board according to claim 69, wherein the single-sided or double-sided wiring board, single-sided or double-sided metal-clad laminate, metal foil with carrier, metal foil with carrier, plate-like carrier with laminate, laminate metal foil, laminate A build-up substrate having conductive plating on the side and bottom surfaces of holes formed in a plate carrier, metal foil, or resin. 請求項69または70に記載のビルドアップ基板において、前記片面あるいは両面配線基板を構成する金属箔、片面あるいは両面金属張積層板を構成する金属箔、及びキャリア付き金属箔を構成する金属箔、積層体を構成する金属箔、および金属箔の少なくとも一つを材料とした配線を有する層を一層以上有するビルドアップ基板。71. The build-up board according to claim 69 or 70, wherein the metal foil constituting the single-sided or double-sided wiring board, the metal foil constituting the single-sided or double-sided metal-clad laminate, and the metal foil constituting the metal foil with carrier, laminated A build-up substrate having one or more layers having a metal foil constituting the body and a wiring made of at least one of the metal foils. 形成された配線の表面に積層される板状キャリアを備え、および当該板状キャリアを備える面とは異なる面に金属箔を密着させた請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔、または形成された配線の表面に積層される樹脂を備え、および当該樹脂を備える面とは異なる面に金属箔を積層した積層体を、さらに備える請求項69〜71のいずれか一項に記載のビルドアップ基板。23. With a carrier according to any one of claims 1 to 22, comprising a plate-like carrier laminated on the surface of the formed wiring, and a metal foil in close contact with a surface different from the surface comprising the plate-like carrier. The metal foil or a laminate that includes a resin laminated on the surface of the formed wiring, and further includes a laminate in which the metal foil is laminated on a surface different from a surface that includes the resin. Build-up board as described in 形成された配線の表面に設けられた樹脂、および当該樹脂の表面にさらに設けられた、両面に金属箔を密着させた請求項1〜22のいずれか一項に記載のキャリア付金属箔、または樹脂の両面に金属箔を積層した積層体を備える請求項69〜71のいずれか一項に記載のビルドアップ基板。The metal foil with a carrier according to any one of claims 1 to 22, wherein a metal foil is adhered to both surfaces of the resin provided on the surface of the formed wiring, and further provided on the surface of the resin, or The buildup substrate according to any one of claims 69 to 71, comprising a laminate in which metal foil is laminated on both surfaces of the resin. 前記樹脂の少なくとも一つがプリプレグである請求項69〜73のいずれか一項に記載のビルドアップ基板。74. The buildup substrate according to any one of claims 69 to 73, wherein at least one of the resins is a prepreg. 請求項69〜74のいずれか一項に記載のビルドアップ基板において、前記ビルドアップ基板のキャリア付金属箔における板状キャリアと金属箔との積層面または前記積層体における樹脂と金属箔との積層面にて切断されているビルドアップ配線板。The buildup substrate according to any one of claims 69 to 74, wherein a laminate surface of a plate-like carrier and a metal foil in a metal foil with a carrier of the buildup substrate or a laminate of a resin and a metal foil in the laminate. Build-up wiring board cut at the surface.
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