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JP5720791B2 - Inductor element and manufacturing method thereof - Google Patents

Inductor element and manufacturing method thereof Download PDF

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JP5720791B2 JP2013533541A JP2013533541A JP5720791B2 JP 5720791 B2 JP5720791 B2 JP 5720791B2 JP 2013533541 A JP2013533541 A JP 2013533541A JP 2013533541 A JP2013533541 A JP 2013533541A JP 5720791 B2 JP5720791 B2 JP 5720791B2
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Description

この発明は、複数のセラミックグリーンシートに導体パターンを形成して積層してなるインダクタ素子およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an inductor element formed by laminating a plurality of ceramic green sheets by forming a conductor pattern, and a method for manufacturing the inductor element.

従来、磁性体材料からなるセラミックグリーンシートに導体パターンを印刷し、積層してなるインダクタ素子が知られている(例えば特許文献1を参照)。   Conventionally, an inductor element in which a conductor pattern is printed and laminated on a ceramic green sheet made of a magnetic material is known (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に示したインダクタ素子では、セラミックグリーンシートの積層前にパンチ孔を開けておき、積層後にパンチ孔の側面にメッキ電極を形成することで、積層体の天面と底面を電気的に接続する側面電極を形成する手法が採用されている。   In the inductor element shown in Patent Document 1, punch holes are opened before the ceramic green sheets are laminated, and plating electrodes are formed on the side surfaces of the punch holes after lamination, thereby electrically connecting the top and bottom surfaces of the laminate. A method of forming side electrodes to be connected is employed.

特開平11−345713号公報JP-A-11-345713

しかし、特許文献1の製造方法では、マザー積層体の状態でパンチ孔の側面において、非常に狭いギャップ内でメッキを行う必要があり、メッキが難しい(例えば、電極どうしがつながってしまう等)という課題がある。   However, in the manufacturing method of Patent Document 1, it is necessary to perform plating within a very narrow gap on the side surface of the punch hole in the state of the mother laminated body, and it is difficult to plate (for example, electrodes are connected to each other). There are challenges.

一方で、積層体の天面と底面をビアホールで電気的に接続することは容易であるが、閉磁路となってしまうため、開磁路が求められるものである(例えばインダクタ素子をアンテナコイルとして用いる)場合に、電磁波の伝搬距離が短くなるという課題が発生する。   On the other hand, although it is easy to electrically connect the top surface and bottom surface of the laminated body with via holes, an open magnetic circuit is required because it becomes a closed magnetic circuit (for example, an inductor element is used as an antenna coil). In the case of use), there arises a problem that the propagation distance of the electromagnetic wave is shortened.

そこで、この発明は、ビアホールによる層間接続を行いながらも、開磁路を実現することができるインダクタ素子およびその製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an inductor element capable of realizing an open magnetic circuit while performing interlayer connection by via holes, and a manufacturing method thereof.

本発明のインダクタ素子は、熱膨張係数が相対的に高い材料からなる第1のセラミックグリーンシートが、熱膨張係数が相対的に低い材料からなる複数の第2のセラミックグリーンシートによって挟持されてなるセラミック積層体と、前記第1のセラミックグリーンシートを挟持する、一方の第2のセラミックグリーンシート上に形成された第1の導体パターンと、前記第1のセラミックグリーンシートを挟持する、他方の第2のセラミックグリーンシート上に形成された第2の導体パターンと、前記第1の導体パターンと前記第2の導体パターンとの電気的接続を行うビアホールと、を備えている。   In the inductor element of the present invention, a first ceramic green sheet made of a material having a relatively high thermal expansion coefficient is sandwiched between a plurality of second ceramic green sheets made of a material having a relatively low thermal expansion coefficient. A ceramic laminate, a first conductor pattern formed on one second ceramic green sheet sandwiching the first ceramic green sheet, and a second conductor sandwiching the first ceramic green sheet A second conductor pattern formed on the second ceramic green sheet, and a via hole for electrical connection between the first conductor pattern and the second conductor pattern.

そして、本発明のインダクタ素子は、前記ビアホールと前記セラミック積層体の端部との間の、前記第1のセラミックグリーンシートに、クラックが存在することを特徴とする。   The inductor element according to the present invention is characterized in that a crack exists in the first ceramic green sheet between the via hole and the end portion of the ceramic laminate.

このようなクラックは、セラミック積層体とコイル導体を一体焼成する工程において、第1のセラミックグリーンシート、第2のセラミックグリーンシート、およびビアホール導体の熱膨張係数の差によって発生する応力により生じる。つまり、熱膨張係数の高い材料を熱膨張係数の低い材料で挟みこむことで、焼成降温時の収縮差による圧縮応力でクラックを生じさせる。ビアホール導体が最も熱膨張係数が高く、当該ビアホール周囲に最もクラックが生じやすいため、ビアホール導体を端面に近い位置に形成しておけば、当該クラックが端面につながる。すると、第1のセラミックグリーンシートが磁性体材料を含むものである場合、このクラックにより磁性体の端面側を磁気的に無効とすることができ、実質的な開磁路を得ることができる。よって、ビアホールによる層間接続を行いながらも、開磁路を実現することができる。   Such a crack is caused by a stress generated by a difference in thermal expansion coefficient between the first ceramic green sheet, the second ceramic green sheet, and the via-hole conductor in the step of integrally firing the ceramic laminate and the coil conductor. That is, a material having a high coefficient of thermal expansion is sandwiched between materials having a low coefficient of thermal expansion, thereby generating a crack due to a compressive stress due to a shrinkage difference during firing and cooling. Since the via hole conductor has the highest thermal expansion coefficient and is most likely to crack around the via hole, if the via hole conductor is formed at a position close to the end face, the crack is connected to the end face. Then, when the first ceramic green sheet contains a magnetic material, the end face side of the magnetic material can be magnetically invalidated by this crack, and a substantially open magnetic path can be obtained. Therefore, an open magnetic circuit can be realized while performing interlayer connection by via holes.

実際には、第1のセラミックグリーンシートの熱膨張係数と第2のセラミックグリーンシート(非磁性体からなるもの)の熱膨張係数との差が、所定範囲内(例えば1〜2ppm/℃)であり、ビアホール導体が銀等の極端に熱膨張係数が高いものである(例えば第2のセラミックグリーンシートの熱膨張係数との差が10ppm/℃以上である)場合、ビアホール周囲にのみクラックが生じ、開磁路とすることができる。   Actually, the difference between the thermal expansion coefficient of the first ceramic green sheet and the thermal expansion coefficient of the second ceramic green sheet (made of a non-magnetic material) is within a predetermined range (for example, 1 to 2 ppm / ° C.). Yes, if the via-hole conductor has an extremely high thermal expansion coefficient such as silver (for example, the difference from the thermal expansion coefficient of the second ceramic green sheet is 10 ppm / ° C. or more), cracks occur only around the via hole. It can be an open magnetic path.

なお、インダクタ素子に樹脂を含浸させて、クラックによる強度低下を防ぐこともできる。   In addition, the inductor element can be impregnated with a resin to prevent a decrease in strength due to cracks.

この発明によれば、ビアホールによる層間接続を行いながらも、開磁路を実現することができる。   According to the present invention, an open magnetic circuit can be realized while performing interlayer connection by via holes.

インダクタ素子を模式的に表した分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view schematically showing an inductor element. インダクタ素子を模式的に表した断面図である。It is sectional drawing which represented the inductor element typically. 磁性体フェライト層13の上面図である。3 is a top view of a magnetic ferrite layer 13. FIG. 他の例に係るインダクタ素子を模式的に表した断面図である。It is sectional drawing which represented typically the inductor element which concerns on another example.

図1は、本発明の実施形態に係るインダクタ素子を模式的に表した分解斜視図である。図2は、インダクタ素子を模式的に表した断面図である。インダクタ素子は、磁性体および非磁性体のセラミックグリーンシートが積層されてなるセラミック積層体を有する。   FIG. 1 is an exploded perspective view schematically showing an inductor element according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the inductor element. The inductor element has a ceramic laminated body in which magnetic and non-magnetic ceramic green sheets are laminated.

図1においては、焼成前の各セラミックグリーンシートの状態を示し、図2においては、積層、焼成後のセラミック積層体の状態を示す。また、図2の断面図は、紙面上側を積層型インダクタ素子の上面側とし、紙面下側を積層型インダクタ素子の下面側とする。   FIG. 1 shows the state of each ceramic green sheet before firing, and FIG. 2 shows the state of the ceramic laminate after lamination and firing. In the cross-sectional view of FIG. 2, the upper side of the paper is the upper surface side of the multilayer inductor element, and the lower side of the paper is the lower surface side of the multilayer inductor element.

積層型インダクタ素子は、最外層のうち上面側から下面側に向かって順に、非磁性体フェライト層11、非磁性体フェライト層12、磁性体フェライト層13、非磁性体フェライト層14、および非磁性体フェライト層15が配置されている。   The multilayer inductor element includes a nonmagnetic ferrite layer 11, a nonmagnetic ferrite layer 12, a magnetic ferrite layer 13, a nonmagnetic ferrite layer 14, and a nonmagnetic material in order from the upper surface side to the lower surface side of the outermost layer. A body ferrite layer 15 is disposed.

すなわち、セラミック積層体は、磁性体フェライト層13(本発明における第1のセラミックグリーンシート)を非磁性体フェライト層12(本発明における一方の第2のセラミックグリーンシート)および非磁性体フェライト層14(本発明における他方の第2のセラミックグリーンシート)で挟持されてなる。   That is, the ceramic laminate includes a magnetic ferrite layer 13 (first ceramic green sheet in the present invention), a nonmagnetic ferrite layer 12 (one second ceramic green sheet in the present invention), and a nonmagnetic ferrite layer 14. (The other second ceramic green sheet in the present invention).

セラミック積層体を構成する一部のセラミックグリーンシート上には、内部配線が形成されている。同図においては、磁性体フェライト層13上に導電性ペーストからなる導体パターン31(本発明における第1の導体パターン)が形成されている。また、非磁性体フェライト層14上に導電性ペーストからなる導体パターン32(本発明における第2の導体パターン)が形成されている。   Internal wiring is formed on part of the ceramic green sheets constituting the ceramic laminate. In the figure, a conductor pattern 31 (first conductor pattern in the present invention) made of a conductive paste is formed on a magnetic ferrite layer 13. Further, a conductor pattern 32 (second conductor pattern in the present invention) made of a conductive paste is formed on the nonmagnetic ferrite layer 14.

導体パターン31および導体パターン32は、ビアホール21により積層方向に電気的に接続される。ビアホール21は、各セラミックグリーンシートについて、所定位置にパンチ孔を開け、積層後に表面にめっきを施すことによって形成される。これにより、磁性体フェライト層13を挟んでらせん状に配線が施され、コイル導体を形成する。コイル導体の端部は、非磁性体フェライト層15に設けられたビアホール21により、最下面に露出する。この最下面に露出するコイル導体の端部を実装基板に実装し、コイル導体に給電することで、インダクタ素子は、コイルアンテナとして機能する。   The conductor pattern 31 and the conductor pattern 32 are electrically connected in the stacking direction by the via hole 21. The via hole 21 is formed by opening a punch hole at a predetermined position for each ceramic green sheet and plating the surface after lamination. As a result, the wiring is formed in a spiral shape with the magnetic ferrite layer 13 interposed therebetween to form a coil conductor. The end portion of the coil conductor is exposed to the lowermost surface by a via hole 21 provided in the nonmagnetic ferrite layer 15. The inductor element functions as a coil antenna by mounting the end portion of the coil conductor exposed on the lowermost surface on the mounting substrate and supplying power to the coil conductor.

ビアホール21は、セラミックグリーンシートの端面に露出しない位置で、かつ、できるだけ端面に近い位置に形成されている。ただし、プロセスのばらつきを考慮しても端面に露出しない程度の位置とする。   The via hole 21 is formed at a position not exposed to the end face of the ceramic green sheet and as close to the end face as possible. However, the position is set such that it is not exposed to the end face even if process variations are taken into consideration.

なお、図1の例では、導体パターン31は、磁性体フェライト層13の上面に形成される例を示しているが、非磁性体フェライト層12の下面に形成されていてもよい。また、導体パターン32は、非磁性体フェライト層14の上面ではなく、磁性体フェライト層13の上面に形成されていてもよい。また、図4に示すように、非磁性体フェライト層12の上面および非磁性体フェライト層14の下面にも導体パターンを形成してビアホールで接続し、並列線路とすることで、コイル導体の直流抵抗成分を下げるようにしてもよい。   In the example of FIG. 1, the conductor pattern 31 is formed on the upper surface of the magnetic ferrite layer 13, but may be formed on the lower surface of the nonmagnetic ferrite layer 12. The conductor pattern 32 may be formed not on the top surface of the nonmagnetic ferrite layer 14 but on the top surface of the magnetic ferrite layer 13. Further, as shown in FIG. 4, a conductor pattern is formed on the upper surface of the nonmagnetic ferrite layer 12 and the lower surface of the nonmagnetic ferrite layer 14 and connected by via holes to form a parallel line, so that a direct current of the coil conductor is obtained. The resistance component may be lowered.

ここで、本実施形態における非磁性体フェライト層11、非磁性体フェライト層12、非磁性体フェライト層14、および非磁性体フェライト層15は、磁性体フェライト層13よりも熱収縮率が低くなっている。そのため、相対的に熱収縮率の高い磁性体フェライト層13を、相対的に熱収縮率の低い非磁性体フェライト層12、および非磁性体フェライト層14で挟みこむことで、焼成により素子全体を圧縮して強度を向上させることができる。   Here, the non-magnetic ferrite layer 11, the non-magnetic ferrite layer 12, the non-magnetic ferrite layer 14, and the non-magnetic ferrite layer 15 in this embodiment have a lower thermal contraction rate than the magnetic ferrite layer 13. ing. Therefore, by sandwiching the magnetic ferrite layer 13 having a relatively high heat shrinkage rate between the nonmagnetic ferrite layer 12 and the nonmagnetic ferrite layer 14 having a relatively low heat shrinkage rate, the entire element is obtained by firing. The strength can be improved by compression.

さらに、本実施形態におけるインダクタ素子は、非磁性体フェライト層11、非磁性体フェライト層12、非磁性体フェライト層14、および非磁性体フェライト層15の熱膨張係数と、磁性体フェライト層13の熱膨張係数との差を所定範囲内(例えば1〜2ppm/℃)とし、ビアホール21の導体(銀)は、極端に熱膨張係数を高くする(例えば磁性体フェライト層13よりも10ppm/℃以上高い熱膨張係数を有する)ことで、図2に示すように、焼成時にビアホール21の周囲にのみクラックを生じさせる。   Further, the inductor element according to the present embodiment includes the thermal expansion coefficients of the nonmagnetic ferrite layer 11, the nonmagnetic ferrite layer 12, the nonmagnetic ferrite layer 14, and the nonmagnetic ferrite layer 15, and the magnetic ferrite layer 13. The difference from the thermal expansion coefficient is within a predetermined range (for example, 1-2 ppm / ° C.), and the conductor (silver) of the via hole 21 has an extremely high thermal expansion coefficient (for example, 10 ppm / ° C. or more than the magnetic ferrite layer 13). By having a high thermal expansion coefficient, cracks are generated only around the via hole 21 during firing, as shown in FIG.

このクラックは、上述のように、熱膨張係数の高い材料である磁性体フェライト層13を、熱膨張係数の低い材料である非磁性体フェライト層12および非磁性体フェライト層14で挟みこむことで、焼成降温時の収縮差による圧縮応力で生じさせる。   As described above, this crack is caused by sandwiching the magnetic ferrite layer 13 which is a material having a high thermal expansion coefficient between the nonmagnetic ferrite layer 12 and the nonmagnetic ferrite layer 14 which are materials having a low thermal expansion coefficient. It is generated by the compressive stress due to the shrinkage difference at the time of firing and cooling.

図3は、磁性体フェライト層13の上面図である。図3に示すように、ビアホール21の導体(銀)が最も熱膨張係数が高いため、当該ビアホール21の周囲に最もクラックが生じやすい。そのため、図3に示すように、ビアホール21を磁性体フェライト層13の端面に近い位置に形成しておけば、ビアホール21と磁性体フェライト層13の端面とを接続するようなクラック51が生じる。   FIG. 3 is a top view of the magnetic ferrite layer 13. As shown in FIG. 3, since the conductor (silver) of the via hole 21 has the highest thermal expansion coefficient, cracks are most likely to occur around the via hole 21. Therefore, as shown in FIG. 3, if the via hole 21 is formed at a position close to the end face of the magnetic ferrite layer 13, a crack 51 that connects the via hole 21 and the end face of the magnetic ferrite layer 13 is generated.

すると、このクラック51により、磁性体フェライト層13の端面側を磁気的に無効とすることができ、実質的な開磁路を得ることができる。   Then, the crack 51 can make the end face side of the magnetic ferrite layer 13 magnetically invalid, and a substantial open magnetic path can be obtained.

ただし、降温速度があまりにも遅い場合、導体パターン31、導体パターン32およびビアホール21における銀が拡散し、メッキが異常析出する場合もあるため、ある程度の降温速度を確保する(例えば−7℃/min以上とする)。   However, when the temperature lowering rate is too slow, silver in the conductor pattern 31, the conductor pattern 32, and the via hole 21 may diffuse and the plating may be abnormally deposited. Therefore, a certain temperature lowering rate is ensured (for example, -7 ° C / min). And above).

なお、本実施形態では、磁性体フェライト層として、鉄、ニッケル、亜鉛、および銅を含むフェライトを用い、非磁性体フェライト層として、鉄、亜鉛、および銅を含むフェライトを用い、導体パターン31、導体パターン32、およびビアホール21を含む内部配線として銀材料を用いる例を示している。これらの材料を異なるものとした場合、あるいは配合比率を異なるものとした場合、磁性体フェライト層、非磁性体フェライト層、および内部配線の熱膨張係数の差は、上記ビアホール21と磁性体フェライト層13の端面とを接続するクラック51が生じる範囲内に、都度設定する。また、磁性体フェライト層および非磁性体フェライト層の厚みを変更した場合にも、磁性体フェライト層、非磁性体フェライト層、および内部配線の熱膨張係数の差は、上記ビアホール21と磁性体フェライト層13の端面とを接続するクラック51が生じる範囲内に、都度設定する。   In the present embodiment, a ferrite containing iron, nickel, zinc, and copper is used as the magnetic ferrite layer, and a ferrite containing iron, zinc, and copper is used as the nonmagnetic ferrite layer. An example in which a silver material is used as the internal wiring including the conductor pattern 32 and the via hole 21 is shown. When these materials are different or when the blending ratio is different, the difference in thermal expansion coefficient between the magnetic ferrite layer, the nonmagnetic ferrite layer, and the internal wiring is that the via hole 21 and the magnetic ferrite layer are different. It is set each time within a range where cracks 51 connecting the 13 end faces are generated. Even when the thicknesses of the magnetic ferrite layer and the nonmagnetic ferrite layer are changed, the difference in thermal expansion coefficient between the magnetic ferrite layer, the nonmagnetic ferrite layer, and the internal wiring is different from that of the via hole 21 and the magnetic ferrite. It is set each time within a range where a crack 51 connecting the end face of the layer 13 is generated.

以上の構造により、インダクタ素子は、ビアホールによる層間接続を行いながらも、開磁路を実現することができる。インダクタ素子は、ビアホールによる層間接続であるため、メッキ時に電極同士がつながってしまう恐れはなく、生産性が向上する。また、インダクタ素子をアンテナコイルとして用いた場合、閉磁路である場合よりも、伝搬距離を長くすることができる。   With the above structure, the inductor element can realize an open magnetic circuit while performing interlayer connection by via holes. Since the inductor element is an interlayer connection by via holes, there is no fear that the electrodes are connected at the time of plating, and the productivity is improved. Further, when the inductor element is used as an antenna coil, the propagation distance can be made longer than when the inductor element is a closed magnetic circuit.

次に、インダクタ素子の製造工程について説明する。インダクタ素子は、以下の工程により製造される。   Next, the manufacturing process of the inductor element will be described. The inductor element is manufactured by the following process.

まず、磁性体フェライト層または非磁性体層フェライト層となるべきセラミックグリーンシート上に、それぞれ銀等が含まれる合金(導電性ペースト)が塗布され、導体パターン31および導体パターン32等の内部配線が形成される。   First, an alloy (conductive paste) containing silver or the like is applied on a ceramic green sheet to be a magnetic ferrite layer or a nonmagnetic ferrite layer, and internal wiring such as the conductor pattern 31 and the conductor pattern 32 is formed. It is formed.

そして、各セラミックグリーンシートについて、ビアホール21となる箇所にパンチ孔を開ける。なお、導体パターン31および導体パターン32の形成は、ビアホール21となるパンチ孔を開けた後であってもよい。   And about each ceramic green sheet, a punch hole is opened in the location used as the via hole 21. FIG. The conductor pattern 31 and the conductor pattern 32 may be formed after a punch hole to be the via hole 21 is formed.

次に、各セラミックグリーンシートが積層される。すなわち、上面側から順に、非磁性体フェライト層11、非磁性体フェライト層12、磁性体フェライト層13、非磁性体フェライト層14、および非磁性体フェライト層15それぞれ積層され、仮圧着が行われる。これにより、焼成前のマザー積層体が形成される。   Next, each ceramic green sheet is laminated. That is, the nonmagnetic ferrite layer 11, the nonmagnetic ferrite layer 12, the magnetic ferrite layer 13, the nonmagnetic ferrite layer 14, and the nonmagnetic ferrite layer 15 are laminated in this order from the upper surface side, and provisional pressure bonding is performed. . Thereby, the mother laminated body before baking is formed.

そして、マザー積層体のビアホール21表面にめっきが施される。めっき処理は、例えばマザー積層体をめっき液に浸漬させ、揺動させることによって行われる。   Then, the surface of the via hole 21 of the mother laminate is plated. The plating process is performed, for example, by immersing the mother laminate in a plating solution and swinging it.

最後に、焼成がなされる。これにより、焼成されたマザー積層体が得られる。この焼成時に、熱膨張係数の差によって磁性体フェライト層13のうち、ビアホール21の周囲にクラックが生じる。   Finally, firing is performed. Thereby, the fired mother laminated body is obtained. During this firing, cracks occur around the via hole 21 in the magnetic ferrite layer 13 due to the difference in thermal expansion coefficient.

なお、焼成後に、マザー積層体に樹脂を含浸させてもよい。この場合、クラックによる強度低下を防ぐことができる。   Note that the mother laminate may be impregnated with resin after firing. In this case, strength reduction due to cracks can be prevented.

なお、ビアホール21のパンチ孔の形状は、円形状に限らず、矩形や半円形等、他の形状であってもよい。   In addition, the shape of the punch hole of the via hole 21 is not limited to the circular shape, and may be another shape such as a rectangle or a semicircle.

11,12,14,15…非磁性体フェライト層
13…磁性体フェライト層
21…ビアホール
31,32…導体パターン
51…クラック
11, 12, 14, 15 ... non-magnetic ferrite layer 13 ... magnetic ferrite layer 21 ... via hole 31, 32 ... conductor pattern 51 ... crack

Claims (4)

熱膨張係数が相対的に高い材料からなる第1のセラミックグリーンシートが、熱膨張係数が相対的に低い材料からなる複数の第2のセラミックグリーンシートによって挟持されてなるセラミック積層体と、
前記第1のセラミックグリーンシートを挟持する一方の第2のセラミックグリーンシートと、前記第1のセラミックグリーンシートと、の間に形成された第1の導体パターンと、
前記第1のセラミックグリーンシートを挟持する他方の第2のセラミックグリーンシートと、前記第1のセラミックグリーンシートと、の間に形成された第2の導体パターンと、
前記第1の導体パターンと前記第2の導体パターンとの電気的接続を行うビアホールと、
を備えたインダクタ素子であって、
前記ビアホールと前記セラミック積層体の端部との間の、前記第1のセラミックグリーンシートに、クラックが存在し、
前記第1のセラミックグリーンシートが磁性体を含み、
前記第2のセラミックグリーンシートが非磁性体からなり、
前記ビアホールは、銀を主成分とする導電性ペーストからなり、
前記第2のセラミックグリーンシートの熱膨張係数と、前記第1のセラミックグリーンシートの熱膨張係数との差は、1〜2ppm/℃の範囲内であり、
前記ビアホールは、前記第1のセラミックグリーンシートよりも10ppm/℃以上高い熱膨張係数を有することを特徴とするインダクタ素子。
A ceramic laminate in which a first ceramic green sheet made of a material having a relatively high thermal expansion coefficient is sandwiched between a plurality of second ceramic green sheets made of a material having a relatively low thermal expansion coefficient;
A first conductor pattern formed between one second ceramic green sheet sandwiching the first ceramic green sheet and the first ceramic green sheet;
A second conductor pattern formed between the other second ceramic green sheet sandwiching the first ceramic green sheet and the first ceramic green sheet;
Via holes for electrical connection between the first conductor pattern and the second conductor pattern;
An inductor element comprising
There is a crack in the first ceramic green sheet between the via hole and the end of the ceramic laminate ,
The first ceramic green sheet includes a magnetic material;
The second ceramic green sheet is made of a non-magnetic material;
The via hole is made of a conductive paste mainly composed of silver,
The difference between the thermal expansion coefficient of the second ceramic green sheet and the thermal expansion coefficient of the first ceramic green sheet is in the range of 1 to 2 ppm / ° C.
The inductor element , wherein the via hole has a thermal expansion coefficient higher than that of the first ceramic green sheet by 10 ppm / ° C. or more .
前記第1の導体パターンおよび前記第2の導体パターンは、銀を主成分とする導電性ペーストからなることを特徴とする請求項1に記載のインダクタ素子。  The inductor element according to claim 1, wherein the first conductor pattern and the second conductor pattern are made of a conductive paste mainly composed of silver. 前記インダクタ素子は、樹脂が含浸されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインダクタ素子。 The inductor element, an inductor element according to claim 1 or claim 2, characterized in that the resin is impregnated. 請求項1ないし請求項のいずれかに記載のインダクタ素子の製造方法であって、
前記セラミック積層体を焼成する工程において、前記第1のセラミックグリーンシートの熱膨張係数と、前記第2のセラミックグリーンシートの熱膨張係数との差を、1〜2ppm/℃の範囲内とし、前記ビアホールの熱膨張係数を前記第1のセラミックグリーンシートよりも10ppm/℃以上高くすることによって、前記クラックを生じさせることを特徴とするインダクタ素子の製造方法。
A method for manufacturing an inductor element according to any one of claims 1 to 3 ,
In the step of firing the ceramic laminate , a difference between a thermal expansion coefficient of the first ceramic green sheet and a thermal expansion coefficient of the second ceramic green sheet is set within a range of 1 to 2 ppm / ° C, A method for manufacturing an inductor element, wherein the crack is generated by increasing a thermal expansion coefficient of a via hole by 10 ppm / ° C. or more higher than that of the first ceramic green sheet .
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