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JP5782510B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路に関し、特に、ダイナミック回路を備えた半導体集積回路に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit including a dynamic circuit.

従来、半導体集積回路として、図15に示すような半導体記憶装置が知られている。この半導体記憶装置では、ワードドライバ600によって、複数のワード線WL<0>…WL<n>(nは1以上の整数)のうちいずれかが選択されて、選択されたワード線がアクティブになることでメモリセル610のデータがビット線BIT<0>,NBIT<0>に出力される。そして、ビット線BIT<0>,NBIT<0>に出力されたデータがセンスアンプ620で増幅され、出力信号DO<0>として外部に出力される。どのワード線が選択されるかは、アドレス信号Addressおよびロウデコーダ630の出力によって決定されるが、ロウデコーダ630の出力にノイズが生じると、ワード線が多重選択されるおそれがある。複数のワード線が選択されると、各ワード線に接続されているメモリセル610から出力されたデータが、ビット線上で衝突するため、半導体記憶装置が誤動作してしまう。   Conventionally, a semiconductor memory device as shown in FIG. 15 is known as a semiconductor integrated circuit. In this semiconductor memory device, one of a plurality of word lines WL <0>... WL <n> (n is an integer of 1 or more) is selected by the word driver 600, and the selected word line becomes active. As a result, the data in the memory cell 610 is output to the bit lines BIT <0> and NBIT <0>. The data output to the bit lines BIT <0> and NBIT <0> is amplified by the sense amplifier 620 and output to the outside as the output signal DO <0>. Which word line is selected is determined by the address signal Address and the output of the row decoder 630. If noise occurs in the output of the row decoder 630, there is a possibility that the word line is selected multiple times. When a plurality of word lines are selected, data output from the memory cells 610 connected to each word line collide with each other on the bit line, so that the semiconductor memory device malfunctions.

ロウデコーダには、出力の高速化のために、ダイナミック回路が用いられることが多いが、ダイナミック回路を用いると、出力にノイズが生じやすいという欠点がある。そこで、ロウデコーダの出力に生じるノイズを低減するために、ダイナミック回路を用いたロウデコーダにおいて、出力ノードの電圧を保持する保持回路を設けているものがある(例えば、特許文献1参照)。   In the row decoder, a dynamic circuit is often used for speeding up the output, but using the dynamic circuit has a drawback that noise tends to occur in the output. Therefore, in order to reduce noise generated in the output of the row decoder, there is a row decoder using a dynamic circuit provided with a holding circuit that holds the voltage of the output node (see, for example, Patent Document 1).

特開2003−318727号公報JP 2003-318727 A

近年、半導体記憶装置における技術動向の変化により、デコーダの出力に生じるノイズがある程度許容される半導体記憶装置が用いられつつある。例えば、図16に示すように、グローバルビット線GBL<0>,NGBL<0>と、バンク640内のローカルビット線LBL<0>,NLBL<0>とがバンク選択回路650を介して接続された階層ビット線構造の半導体記憶装置が知られている。   In recent years, due to changes in technological trends in semiconductor memory devices, semiconductor memory devices in which noise generated in the output of a decoder is allowed to some extent are being used. For example, as shown in FIG. 16, global bit lines GBL <0>, NGBL <0> and local bit lines LBL <0>, NLBL <0> in the bank 640 are connected via a bank selection circuit 650. A semiconductor memory device having a hierarchical bit line structure is known.

この半導体記憶装置は、バンクデコーダ660の出力に生じたノイズによって、選択ワード線WL_BNK0_<0>以外の非選択ワード線WL_BLK1_<0>がアクティブになっても、誤動作しないようになっている。非選択ワード線WL_BLK1_<0>がアクティブになっても、バンク選択信号BNK<1>にはノイズがのらないため、バンク選択回路650は動作せず、非選択バンクに接続されているローカルビット線LBL<0>,NLBL<0>が、グローバルビット線GBL<0>,NGBL<0>に接続されないからである。   This semiconductor memory device is configured not to malfunction even when an unselected word line WL_BLK1_ <0> other than the selected word line WL_BNK0_ <0> becomes active due to noise generated at the output of the bank decoder 660. Even when the non-selected word line WL_BLK1_ <0> becomes active, the bank selection signal BNK <1> is not affected by noise, so the bank selection circuit 650 does not operate and the local bit connected to the non-selected bank. This is because the lines LBL <0> and NLBL <0> are not connected to the global bit lines GBL <0> and NGBL <0>.

このような半導体記憶装置では、デコーダの出力ノイズがある程度許容されるものの、出力がエラーとなると誤動作する可能性がある。したがって、半導体記憶装置のデコーダに、上記特許文献1の半導体集積回路を用いることは有効であるように思える。ところが、特許文献1の技術を用いると、出力信号のノイズを低減することはできるが、出力信号が論理遷移するタイミングが遅くなったり、論理遷移するスピードが遅くなるといった、出力信号の高速化が妨げられる。これにより、半導体記憶装置において、メモリセルからのデータの読み出し速度が遅くなる等の問題が生じてしまう。   In such a semiconductor memory device, although output noise of the decoder is allowed to some extent, there is a possibility of malfunction if the output becomes an error. Therefore, it seems effective to use the semiconductor integrated circuit of Patent Document 1 for the decoder of the semiconductor memory device. However, using the technique of Patent Document 1, it is possible to reduce the noise of the output signal, but it is possible to increase the speed of the output signal such that the timing of the logic transition of the output signal is delayed or the speed of the logic transition is delayed. Be disturbed. As a result, problems such as a slow reading speed of data from the memory cell occur in the semiconductor memory device.

かかる点に鑑みて、本発明は、半導体集積回路において、出力信号のノイズをすばやく除去することができ、出力信号の高速化を実現することを課題とする。   In view of the above, it is an object of the present invention to quickly remove noise in an output signal and to increase the speed of the output signal in a semiconductor integrated circuit.

上記課題を解決するため本発明によって次のような解決手段を講じた。例えば、半導体集積回路は、複数の入力信号および第1のクロック信号を受けて、第1のダイナミックノードのレベルを制御する第1のダイナミック回路と、第2のダイナミックノードと第1の電源との間に設けられ、第1のダイナミックノードのレベルに応じて導通制御される第1のトランジスタと、第2のダイナミックノードと第1の電源との間に、第1のトランジスタと直列に設けられ、第2のクロック信号に応じて導通制御される第2のトランジスタと、第2のダイナミックノードのレベルに応じた論理値の出力信号を出力する第2のダイナミック回路とを備える。第1のダイナミック回路は、複数の入力信号が第1の状態であるときは、第1のダイナミックノードのレベルを、第1のトランジスタを導通させる第1のレベルに保つ一方、複数の入力信号が第1の状態以外の第2の状態であるときは、第1のダイナミックノードのレベルを、第1のクロック信号に応じて、第1のレベルと、第1のトランジスタを導通させない第2のレベルとに切り替える。第2のダイナミック回路は、第2のダイナミックノードと第2の電源との間に設けられ、複数の入力信号が第2の状態であり、かつ第1のダイナミックノードのレベルが第1のレベル以外であるとき、第2のダイナミックノードを第2の電源に接続することで、第2のダイナミックノードのレベルを補償する補償回路を有する。   In order to solve the above problems, the present invention has taken the following solutions. For example, the semiconductor integrated circuit includes a first dynamic circuit that receives a plurality of input signals and a first clock signal and controls a level of the first dynamic node, a second dynamic node, and a first power supply. A first transistor, which is provided between the first dynamic node and the conduction of which is controlled according to the level of the first dynamic node; and between the second dynamic node and the first power supply; A second transistor whose conduction is controlled in accordance with a second clock signal; and a second dynamic circuit that outputs an output signal having a logic value corresponding to a level of the second dynamic node. When the plurality of input signals are in the first state, the first dynamic circuit maintains the level of the first dynamic node at the first level for conducting the first transistor, while the plurality of input signals are In the second state other than the first state, the level of the first dynamic node is set to the first level in accordance with the first clock signal and the second level that does not cause the first transistor to conduct. Switch to. The second dynamic circuit is provided between the second dynamic node and the second power supply, the plurality of input signals are in the second state, and the level of the first dynamic node is other than the first level. The second dynamic node is connected to the second power source to compensate the level of the second dynamic node.

これによると、第1および第2のトランジスタが導通すると、第2のダイナミックノードは第1の電源に接続される。第1のトランジスタは、第1のダイナミックノードのレベルが第2のレベルであるときに非導通状態となる。また、補償回路は、複数の入力信号が第2の状態であり、第1のダイナミックノードのレベルが第1のレベル以外であるときに動作して、第2のダイナミックノードと第2の電源とを接続する。   According to this, when the first and second transistors are turned on, the second dynamic node is connected to the first power supply. The first transistor is turned off when the level of the first dynamic node is the second level. The compensation circuit operates when the plurality of input signals are in the second state and the level of the first dynamic node is other than the first level, and the second dynamic node, the second power source, Connect.

ここで、第2のダイナミックノードのレベルが、第2の電源で示されるレベルであり、第2のトランジスタが導通状態であるとする。この場合、複数の入力信号が第2の状態であれば、第1のダイナミックノードのレベルが第1のレベルから第2のレベルに完全に切り替わるまで、第1のトランジスタは導通しているため、第2のダイナミックノードは、第1の電源に接続される。したがって、第2のダイナミックノードのレベルは変化する。このとき、第1のダイナミックノードのレベルが第1および第2のレベルの間の状態にあるため、補償回路が動作して、第2のダイナミックノードのレベルが補償される。したがって、第2のダイナミックノードのレベルは、変化前の状態にすぐに戻る。つまり、第2のダイナミックノードのレベルが変化することによって生じるノイズは、短時間で除去されるため、出力信号がエラーとなることはない。   Here, it is assumed that the level of the second dynamic node is the level indicated by the second power supply, and the second transistor is in a conductive state. In this case, if the plurality of input signals are in the second state, the first transistor is conductive until the level of the first dynamic node is completely switched from the first level to the second level. The second dynamic node is connected to the first power source. Therefore, the level of the second dynamic node changes. At this time, since the level of the first dynamic node is in a state between the first and second levels, the compensation circuit operates to compensate the level of the second dynamic node. Therefore, the level of the second dynamic node immediately returns to the state before the change. In other words, noise generated by the change in the level of the second dynamic node is removed in a short time, so that the output signal does not cause an error.

また、第1および第2のトランジスタが導通状態であり、第2のダイナミックノードと第1の電源とが接続されている場合には、補償回路は動作しない。この場合、第2のダイナミックノードには、第2の電源から電圧が供給されることがないため、第2のダイナミックノードのレベルが、第2の電源で示されるレベルから第1の電源で示されるレベルに切り替わる時間が短くて済む。つまり、出力信号の論理値が変化するタイミングが早くなるとともに、その変化を高速化することができる。   Further, when the first and second transistors are in a conductive state and the second dynamic node and the first power supply are connected, the compensation circuit does not operate. In this case, since the voltage is not supplied from the second power source to the second dynamic node, the level of the second dynamic node is indicated by the first power source from the level indicated by the second power source. It takes less time to switch to a higher level. That is, the timing at which the logical value of the output signal changes becomes earlier, and the speed of the change can be increased.

好ましくは、上記半導体集積回路は、第1のダイナミックノードと第2の電源との間に設けられ、第1のダイナミックノードのレベルが第1のレベルである場合に、第1のダイナミックノードのレベルを第1のレベルに保持する保持回路を備えている。   Preferably, the semiconductor integrated circuit is provided between the first dynamic node and the second power supply, and when the level of the first dynamic node is the first level, the level of the first dynamic node Is held at the first level.

これによると、第1のダイナミックノードにノイズ等が生じることによって、第1のダイナミックノードのレベルが、第1のレベルから微少に変化するのを抑制することができる。したがって、第1のトランジスタの導通状態を安定させることができるため、第2のダイナミックノードのレベルが、第2の電源によって示されるレベルから第1の電源によって示されるレベルになるまでの時間を短縮することができる。これにより、出力信号のさらなる高速化を図ることができる。   According to this, it is possible to suppress the level of the first dynamic node from slightly changing from the first level due to the occurrence of noise or the like in the first dynamic node. Therefore, since the conduction state of the first transistor can be stabilized, the time until the level of the second dynamic node changes from the level indicated by the second power supply to the level indicated by the first power supply is shortened. can do. As a result, the output signal can be further increased in speed.

本発明によると、出力信号のノイズをすばやく除去できるとともに、出力信号を高速化することができる。   According to the present invention, noise in the output signal can be quickly removed and the output signal can be speeded up.

図1は、第1の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. 図2は、第1の実施形態に係る半導体集積回路の動作を示すタイミングチャートである。FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態の半導体集積回路の比較例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a comparative example of the semiconductor integrated circuit of the first embodiment. 図4は、図3の半導体集積回路の動作を示すタイミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart showing the operation of the semiconductor integrated circuit of FIG. 図5は、図3の半導体集積回路の別の動作を示すタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart showing another operation of the semiconductor integrated circuit of FIG. 図6は、第1の実施形態に係る半導体集積回路の変形例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a modification of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. 図7は、第2の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. 図8は、第3の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. 図9は、第4の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. 図10は、第5の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. 図11は、第5の実施形態に係る半導体集積回路の変形例を示す回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing a modification of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. 図12は、第6の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. 図13は、第7の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the seventh embodiment. 図14は、第7の実施形態に係る半導体集積回路の変形例を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram showing a modification of the semiconductor integrated circuit according to the seventh embodiment. 図15は、一般的な半導体記憶装置の構成を示す回路図である。FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a general semiconductor memory device. 図16は、階層ビット線構造の半導体記憶装置の構成を示す回路図である。FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device having a hierarchical bit line structure.

<第1の実施形態>
図1は、第1の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図1の半導体集積回路は、例えばアドレスデコーダであり、入力される、複数のアドレス信号に応じて、所望の論理値の信号OUTを出力する。具体的に、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がすべてLOW(第1の状態)のときに、クロック信号CLKがLOWからHIGHに変化すると、出力信号OUTがLOWからHIGHに変化する。一方、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか一つでもHIGH(第2の状態)の場合は、出力信号OUTはLOWに保たれる。このアドレスデコーダは、第1のダイナミック回路10と、第1のトランジスタであるNMOSトランジスタTJ1と、第2のトランジスタであるNMOSトランジスタTD2と、第2のダイナミック回路20と、保持回路30と、インバータ40とを備えている。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment. The semiconductor integrated circuit of FIG. 1 is an address decoder, for example, and outputs a signal OUT having a desired logical value in response to a plurality of input address signals. Specifically, when the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are all LOW (first state) and the clock signal CLK changes from LOW to HIGH, the output signal OUT changes from LOW. Change to HIGH. On the other hand, if any one of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] is HIGH (second state), the output signal OUT is kept LOW. The address decoder includes a first dynamic circuit 10, an NMOS transistor TJ1 as a first transistor, an NMOS transistor TD2 as a second transistor, a second dynamic circuit 20, a holding circuit 30, and an inverter 40. And.

第1のダイナミック回路10は、第1のダイナミックノードML1をプリチャージする第1のプリチャージ回路100と、NMOS並列回路110と、NMOSトランジスタTD1とで構成することができる。   The first dynamic circuit 10 can be composed of a first precharge circuit 100 that precharges the first dynamic node ML1, an NMOS parallel circuit 110, and an NMOS transistor TD1.

第1のプリチャージ回路100は、第2の電源である電源電圧と、第1のダイナミックノードML1との間に接続され、クロック信号CLKに同期して導通制御されるPMOSトランジスタTPC1を有する。   The first precharge circuit 100 includes a PMOS transistor TPC1 that is connected between a power supply voltage that is a second power supply and the first dynamic node ML1 and that is conductively controlled in synchronization with the clock signal CLK.

NMOS並列回路110は、第1のダイナミックノードML1とNMOSトランジスタTD1との間に接続され、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]に応じて、それぞれ導通制御されるNMOSトランジスタTIN1,TIN2,TIN3を有している。   The NMOS parallel circuit 110 is connected between the first dynamic node ML1 and the NMOS transistor TD1, and is NMOS transistor whose conduction is controlled according to the address signals AD [0], AD [1], AD [2]. It has TIN1, TIN2, and TIN3.

NMOSトランジスタTD1は、NMOS並列回路110と第1の電源である接地電位との間に接続され、クロック信号CLKに同期して導通制御される。   The NMOS transistor TD1 is connected between the NMOS parallel circuit 110 and the ground potential which is the first power supply, and is conduction controlled in synchronization with the clock signal CLK.

以上のように、第1のダイナミック回路10において、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がすべてLOWであれば、第1のダイナミックノードML1のレベルはHIGH(第1のレベル)に維持される。一方、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHであるとき、第1のダイナミックノードML1は、クロック信号CLKがHIGHになれば、LOW(第2のレベル)になり、クロック信号CLKがLOWになれば、HIGHになる。   As described above, in the first dynamic circuit 10, when the address signals AD [0], AD [1], AD [2] are all LOW, the level of the first dynamic node ML1 is HIGH (first Level). On the other hand, when any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH, the first dynamic node ML1 is LOW (second output) when the clock signal CLK is HIGH. Level) and becomes HIGH when the clock signal CLK becomes LOW.

NMOSトランジスタTJ1,TD2は、第2のダイナミックノードML2と接地電位との間に、直列接続されている。NMOSトランジスタTJ1は、第1のダイナミックノードML1のレベルに応じて導通制御される。NMOSトランジスタTD2は、クロック信号CLKに同期して導通制御される。なお、NMOSトランジスタTJ1は、第2のダイナミックノードML2とNMOSトランジスタTD2との間に接続されていてもよい。   The NMOS transistors TJ1 and TD2 are connected in series between the second dynamic node ML2 and the ground potential. The NMOS transistor TJ1 is conductively controlled according to the level of the first dynamic node ML1. The NMOS transistor TD2 is conduction controlled in synchronization with the clock signal CLK. The NMOS transistor TJ1 may be connected between the second dynamic node ML2 and the NMOS transistor TD2.

第2のダイナミック回路20は、第2のダイナミックノードML2と補償回路200と第2のプリチャージ回路210とを有している。補償回路200は、電源電圧と第2のダイナミックノードML2との間に接続された、第3のトランジスタであるPMOSトランジスタTECUで構成することができる。PMOSトランジスタTECUは、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がNOR回路202によって論理演算された結果を受けて、導通制御される。つまり、PMOSトランジスタTECUは、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHのときに導通する。   The second dynamic circuit 20 includes a second dynamic node ML2, a compensation circuit 200, and a second precharge circuit 210. The compensation circuit 200 can be configured by a PMOS transistor TECU, which is a third transistor, connected between the power supply voltage and the second dynamic node ML2. The PMOS transistor TECU is subjected to conduction control in response to the result of logical operation of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] by the NOR circuit 202. That is, the PMOS transistor TECU is turned on when any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH.

第2のプリチャージ回路210は、第2のダイナミックノードML2をHIGHにプリチャージするものであり、例えば、電源電圧と第2のダイナミックノードML2との間に接続され、クロック信号CLKに同期して、導通制御されるPMOSトランジスタTPC2で構成される。   The second precharge circuit 210 precharges the second dynamic node ML2 to HIGH. For example, the second precharge circuit 210 is connected between the power supply voltage and the second dynamic node ML2, and is synchronized with the clock signal CLK. , A PMOS transistor TPC2 whose conduction is controlled.

保持回路30は、電源電圧と第1のダイナミックノードML1との間に直列接続された3つのPMOSトランジスタ306〜310で構成することができる。第5のトランジスタであるPMOSトランジスタ306,308,310は、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]に応じて、それぞれ導通制御される。PMOSトランジスタ306〜310はそれぞれ、直列接続されていればよい。また、第5のトランジスタを、1つのPMOSトランジスタで構成してもよい。この場合、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]を受けるNOR回路の出力を、そのPMOSトランジスタのゲートに入力すればよい。   The holding circuit 30 can be composed of three PMOS transistors 306 to 310 connected in series between the power supply voltage and the first dynamic node ML1. The PMOS transistors 306, 308, and 310, which are the fifth transistors, are conduction controlled in accordance with the address signals AD [0], AD [1], and AD [2], respectively. Each of the PMOS transistors 306 to 310 only needs to be connected in series. Further, the fifth transistor may be composed of one PMOS transistor. In this case, the output of the NOR circuit that receives the address signals AD [0], AD [1], AD [2] may be input to the gate of the PMOS transistor.

インバータ40は、第2のダイナミックノードML2のレベルを反転した論理値の出力信号OUTを出力する。   The inverter 40 outputs an output signal OUT having a logical value obtained by inverting the level of the second dynamic node ML2.

次に、図1に示すアドレスデコーダの動作について、図2を用いて説明する。時刻t0から時刻t2の期間において、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHであり、それ以外の期間では、これら全てがLOWであるとする。つまり、時刻t0から時刻t2の期間では、アドレスがミスしている状態であり、時刻t2以降では、アドレスがヒットしている状態である。   Next, the operation of the address decoder shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. It is assumed that any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH during the period from the time t0 to the time t2, and all of them are LOW during the other periods. That is, during the period from time t0 to time t2, the address is missed, and after time t2, the address is hit.

時刻t0以前において、NMOSトランジスタTIN1,TIN2,TIN3はすべて非導通状態である。時刻t0以前は、クロック信号CLKはLOWであるため、NMOSトランジスタトランジスタTD1,TD2は非導通状態、PMOSトランジスタTPC1,TPC2は導通状態となっている。したがって、第1および第2のダイナミックノードML1,ML2はそれぞれ、HIGHにプリチャージされている。これにより、出力信号OUTはLOWとなっている。また、第1のダイナミックノードML1がHIGHに保たれていることにより、NMOSトランジスタTJ1は導通状態になっている。   Prior to time t0, the NMOS transistors TIN1, TIN2, and TIN3 are all non-conductive. Before time t0, since the clock signal CLK is LOW, the NMOS transistor transistors TD1 and TD2 are in a non-conductive state, and the PMOS transistors TPC1 and TPC2 are in a conductive state. Accordingly, the first and second dynamic nodes ML1 and ML2 are precharged to HIGH, respectively. As a result, the output signal OUT is LOW. Further, since the first dynamic node ML1 is kept HIGH, the NMOS transistor TJ1 is in a conductive state.

時刻t0において、クロック信号CLKがHIGHになると、NMOSトランジスタTD1が導通状態となる。また、時刻t0では、NMOSトランジスタTIN1,TIN2,TIN3のいずれか1つが導通状態となる。したがって、第1のダイナミックノードML1はHIGHからLOWにディスチャージされる。これとほぼ同時に、NMOSトランジスタTD2が導通するため、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが開始される。これにより、第2のダイナミックノードML2の電荷が引き抜かれるため、そのレベルがLOWとなり、第2のダイナミックノードML2にノイズが発生する。結果として、出力信号OUTにノイズが現れることになる。   When the clock signal CLK becomes HIGH at time t0, the NMOS transistor TD1 becomes conductive. At time t0, any one of the NMOS transistors TIN1, TIN2, and TIN3 is turned on. Accordingly, the first dynamic node ML1 is discharged from HIGH to LOW. Almost at the same time, the NMOS transistor TD2 becomes conductive, so that the second dynamic node ML2 starts to be discharged. As a result, the charge of the second dynamic node ML2 is extracted, so that the level becomes LOW, and noise is generated in the second dynamic node ML2. As a result, noise appears in the output signal OUT.

第1のダイナミックノードML1のレベルがHIGHからLOWに変化すると、NMOSトランジスタTJ1が非導通状態となるため、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが停止する。また、時刻t0から時刻t2の期間では、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHであるため、補償回路200によって第2のダイナミックノードML2に電源電圧が供給される。これにより、第2のダイナミックノードML2のレベルが補償されてすぐにHIGHに戻るため、ノイズが短時間でなくなることになる。つまり、第2のダイナミックノードML2にノイズが発生しても、出力信号OUTがエラーとなることがない。   When the level of the first dynamic node ML1 changes from HIGH to LOW, the NMOS transistor TJ1 is turned off, and the discharge of the second dynamic node ML2 is stopped. Further, since any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH during the period from the time t0 to the time t2, the power supply voltage is applied to the second dynamic node ML2 by the compensation circuit 200. Is supplied. As a result, since the level of the second dynamic node ML2 is compensated and returns to HIGH immediately, noise is eliminated in a short time. That is, even if noise occurs in the second dynamic node ML2, the output signal OUT does not cause an error.

時刻t1で、クロック信号CLKがLOWになると、NMOSトランジスタTD1,TD2が非導通状態となるため、第1および第2のダイナミックノードML1,ML2のレベルはともにHIGHに維持される。   When the clock signal CLK becomes LOW at time t1, the NMOS transistors TD1 and TD2 are turned off, so that the levels of the first and second dynamic nodes ML1 and ML2 are both maintained high.

時刻t2で、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がすべてLOWになると、NMOSトランジスタTIN1,TIN2,TIN3の全てが非導通状態となる。そして、NMOSトランジスタTD2が導通状態となるため、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが開始される。このとき、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がすべてLOWであるため、補償回路200は動作しない。したがって、第2のダイナミックノードML2のディスチャージがスムーズに行われるため、そのレベルはすぐにLOWになる。つまり、出力信号OUTが論理遷移するタイミングおよび論理遷移の速度が早くなる。以降、アドレスがヒットしている間、第2のダイナミックノードML2および出力信号OUTは、クロック信号CLKに応じて論理遷移する。   When the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are all LOW at time t2, all of the NMOS transistors TIN1, TIN2, and TIN3 are turned off. Then, since the NMOS transistor TD2 becomes conductive, the discharge of the second dynamic node ML2 is started. At this time, since the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are all LOW, the compensation circuit 200 does not operate. Accordingly, since the second dynamic node ML2 is discharged smoothly, the level immediately becomes LOW. That is, the timing at which the output signal OUT undergoes a logic transition and the speed of the logic transition increase. Thereafter, while the address is hit, the second dynamic node ML2 and the output signal OUT logically transition according to the clock signal CLK.

図3は、図1の比較例であるアドレスデコーダの構成を示す回路図である。図1および図3における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。   FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of an address decoder which is a comparative example of FIG. The common reference numerals in FIG. 1 and FIG. 3 indicate the same components, and the description thereof is omitted.

図3において、NMOSトランジスタTKP1は、図1に示す保持回路30に相当する。また、図3の構成では、NMOSトランジスタTJ1とTD2との接続順が、図1の構成と逆になっている。さらに、図3の構成には、図1に示す補償回路200ではなく、第2のダイナミックノードML2のレベルを保持するための保持回路220が設けられている。この保持回路220は、特許文献1に開示されている構成に採用されている回路と同様であり、第2のダイナミックノードML2に生じるノイズの低減を目的としたものである。具体的に、保持回路220は、電源電圧と第2のダイナミックノードML2との間に接続され、インバータ40の出力に応じて導通制御されるPMOSトランジスタTKP2で構成される。これらの相違点についての、図1の構成によるメリットについては後述する。   In FIG. 3, the NMOS transistor TKP1 corresponds to the holding circuit 30 shown in FIG. In the configuration of FIG. 3, the connection order of the NMOS transistors TJ1 and TD2 is opposite to that of the configuration of FIG. Further, in the configuration of FIG. 3, a holding circuit 220 for holding the level of the second dynamic node ML2 is provided instead of the compensation circuit 200 shown in FIG. The holding circuit 220 is the same as the circuit employed in the configuration disclosed in Patent Document 1, and is intended to reduce noise generated in the second dynamic node ML2. Specifically, the holding circuit 220 includes a PMOS transistor TKP2 that is connected between the power supply voltage and the second dynamic node ML2 and that is controlled to be conductive according to the output of the inverter 40. The advantages of the configuration of FIG. 1 regarding these differences will be described later.

図3に示すアドレスデコーダでは、PMOSトランジスタTKP2のサイズを大きくすることで、第2のダイナミックノードML2に生じるノイズをより低減することができる。ここで、NMOSトランジスタTKP2のサイズを大きくした場合の動作について、図4を用いて説明する。なお、図4において、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]の状態およびクロック信号CLKが論理遷移するタイミングは、図2の場合と同様とする。   In the address decoder shown in FIG. 3, the noise generated in the second dynamic node ML2 can be further reduced by increasing the size of the PMOS transistor TKP2. Here, the operation when the size of the NMOS transistor TKP2 is increased will be described with reference to FIG. In FIG. 4, the states of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] and the timing at which the clock signal CLK logically transitions are the same as in FIG.

時刻t0まで、クロック信号CLKはLOWであるため、第1および第2のダイナミックノードML1,ML2はそれぞれ、HIGHにプリチャージされている。したがって、出力信号OUTはLOWとなっている。また、PMOSトランジスタTKP2およびNMOSトランジスタTJ1は、ともに導通状態になっている。   Since the clock signal CLK is LOW until time t0, the first and second dynamic nodes ML1 and ML2 are each precharged to HIGH. Therefore, the output signal OUT is LOW. Both the PMOS transistor TKP2 and the NMOS transistor TJ1 are in a conductive state.

時刻t0において、クロック信号CLKがHIGHになると、第1および第2のダイナミックノードML1,ML2がディスチャージされる。第1のダイナミックノードML1のレベルがLOWになるまで、第2のダイナミックノードML2のディスチャージは行われるが、PMOSトランジスタTKP2が導通しているため、第2のダイナミックノードML2の変化はわずかで済む。やがて、第1のダイナミックノードML1のレベルがLOWになり、NMOSトランジスタTJ1が非導通状態になると、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが停止して、そのレベルが元に戻る。このように、第2のダイナミックノードML2のレベルの変化が少なく、レベルの反転が起こらないため、出力信号OUTにはノイズが現れない。   When the clock signal CLK becomes HIGH at time t0, the first and second dynamic nodes ML1 and ML2 are discharged. The second dynamic node ML2 is discharged until the level of the first dynamic node ML1 becomes LOW. However, since the PMOS transistor TKP2 is conductive, the change of the second dynamic node ML2 is small. Eventually, when the level of the first dynamic node ML1 becomes LOW and the NMOS transistor TJ1 becomes non-conductive, the discharge of the second dynamic node ML2 is stopped and the level returns to the original level. Thus, since the level change of the second dynamic node ML2 is small and level inversion does not occur, no noise appears in the output signal OUT.

時刻t1で、クロック信号CLKがLOWになると、NMOSトランジスタTD1,TD2が非導通状態となるため、第1のダイナミックノードML1のレベルはHIGHになり、第2のダイナミックノードML2のレベルはHIGHのまま維持される。第2のダイナミックノードML2がHIGHであるため、保持回路220は動作を続ける。   When the clock signal CLK becomes LOW at time t1, the NMOS transistors TD1 and TD2 become non-conductive, so that the level of the first dynamic node ML1 becomes HIGH and the level of the second dynamic node ML2 remains HIGH. Maintained. Since the second dynamic node ML2 is HIGH, the holding circuit 220 continues to operate.

時刻t2で、NMOSトランジスタTIN1,TIN2,TIN3のすべてが非導通状態となるとともに、クロック信号CLKがHIGHになると、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが開始される。このとき、PMOSトランジスタTKP2が導通しているため、第2のダイナミックノードML2の電荷が引き抜かれるのに時間がかかる。つまり、図1の構成と比べて、出力信号OUTの論理遷移のタイミングおよび論理遷移の速度が遅くなる。したがって、図3に示すアドレスデコーダを、半導体記憶装置に適用すると、データの読み出し速度の低下等を招くことになる。   At time t2, the NMOS transistors TIN1, TIN2, and TIN3 are all turned off, and when the clock signal CLK becomes HIGH, the second dynamic node ML2 starts to be discharged. At this time, since the PMOS transistor TKP2 is conductive, it takes time for the charge of the second dynamic node ML2 to be extracted. That is, as compared with the configuration of FIG. 1, the timing of the logic transition of the output signal OUT and the speed of the logic transition are slow. Therefore, when the address decoder shown in FIG. 3 is applied to a semiconductor memory device, the data reading speed is reduced.

また、図3のアドレスデコーダにおいて、例えば低電圧動作を行う場合、PMOSトランジスタTKP2のサイズを大きくすると、時刻t2以降で、第2のダイナミックノードML2のレベルが反転せず、誤動作する可能性がある。   Further, in the address decoder of FIG. 3, for example, when performing a low voltage operation, if the size of the PMOS transistor TKP2 is increased, the level of the second dynamic node ML2 is not inverted after time t2 and may malfunction. .

このように、図3のアドレスデコーダでは、PMOSトランジスタTKP2のサイズを大きくした場合に問題が生じる。   As described above, the address decoder shown in FIG. 3 has a problem when the size of the PMOS transistor TKP2 is increased.

一方、図3に示すアドレスデコーダのPMOSトランジスタTKP2のサイズを小さくした場合の動作について、図5を用いて説明する。なお、図4および図5において、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]およびクロック信号CLKが論理遷移するタイミングは同じである。   On the other hand, the operation when the size of the PMOS transistor TKP2 of the address decoder shown in FIG. 3 is reduced will be described with reference to FIG. 4 and 5, the timing at which the address signals AD [0], AD [1], AD [2] and the clock signal CLK logically change is the same.

時刻t0において、クロック信号CLKがHIGHになると、第2のダイナミックノードML2のディスチャージが開始される。第2のダイナミックノードML2のレベルがHIGHである間、電源電圧がPMOSトランジスタTKP2を介して第2のダイナミックノードML2に供給されるが、PMOSトランジスタTKP2のサイズが小さいため、第2のダイナミックノードML2のレベルはすぐにLOWになる。第2のダイナミックノードML2のレベルがLOWになると、PMOSトランジスタTKP2が完全に非導通状態になるため、そのレベルをHIGHに戻すことができなくなる。つまり、本来、HIGHに維持すべき第2のダイナミックノードML2のレベルが、しばらくの間LOWになることで、出力信号OUTがHIGHのままとなり、エラーとなってしまう。   When the clock signal CLK becomes HIGH at time t0, discharging of the second dynamic node ML2 is started. While the level of the second dynamic node ML2 is HIGH, the power supply voltage is supplied to the second dynamic node ML2 via the PMOS transistor TKP2, but since the size of the PMOS transistor TKP2 is small, the second dynamic node ML2 Immediately becomes LOW. When the level of the second dynamic node ML2 becomes LOW, the PMOS transistor TKP2 is completely turned off, and the level cannot be returned to HIGH. In other words, the level of the second dynamic node ML2 that should originally be kept HIGH becomes LOW for a while, so that the output signal OUT remains HIGH and an error occurs.

時刻t2において、クロック信号CLKが再びHIGHになると、第2のダイナミックノードML2がディスチャージされる。このとき、PMOSトランジスタTKP2のサイズが小さく能力が低いため、第2のダイナミックノードML2のレベルは比較的早くLOWとなる。したがって、図4の場合と比べて出力信号OUTは比較的高速化される。   When the clock signal CLK becomes HIGH again at time t2, the second dynamic node ML2 is discharged. At this time, since the size of the PMOS transistor TKP2 is small and its capability is low, the level of the second dynamic node ML2 becomes LOW relatively quickly. Therefore, the output signal OUT is relatively speeded up as compared with the case of FIG.

このように、図3のアドレスデコーダにおいて、PMOSトランジスタTKP2のサイズを小さくした場合、出力信号OUTがエラーとなる問題がある。なお、図3において、第1のダイナミックノードML1の負荷容量が多い場合におけるタイミングチャートは、図5と同様となる。   As described above, in the address decoder of FIG. 3, when the size of the PMOS transistor TKP2 is reduced, there is a problem that the output signal OUT becomes an error. In FIG. 3, the timing chart when the load capacity of the first dynamic node ML1 is large is the same as FIG.

以上のように、特許文献1の技術を採用した図3のアドレスデコーダでは、ノイズを低減しようとすると出力信号OUTの高速化が妨げられる一方、出力信号OUTの高速化を図ると出力がエラーとなってしまうという問題があり、これらはトレードオフの関係にある。   As described above, in the address decoder of FIG. 3 that employs the technique of Patent Document 1, an attempt to reduce the noise hinders the speeding up of the output signal OUT, while an attempt to speed up the output signal OUT results in an error. There is a problem of becoming, and these are in a trade-off relationship.

これに対して、本実施形態に係るアドレスデコーダでは、上述したように、出力信号OUTにノイズが現れるものの、出力信号OUTはエラーとはならず、しかも、出力信号OUTを高速化することができる。つまり、本実施形態に係るアドレスデコーダは、上述したようなトレードオフの問題を解決できるため、特に、図16に示すような、ノイズケアフリーの半導体記憶装置に好適である。   In contrast, in the address decoder according to the present embodiment, as described above, although noise appears in the output signal OUT, the output signal OUT does not cause an error, and the output signal OUT can be speeded up. . That is, the address decoder according to this embodiment can solve the above-described trade-off problem, and is particularly suitable for a noise care-free semiconductor memory device as shown in FIG.

なお、図1に示すアドレスデコーダに、図3に示す保持回路220を設けてもよい。図3のアドレスデコーダでは、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHである場合に、第2のダイナミックノードML2のレベルがLOWとなった後、そのレベルをHIGHに戻すために保持回路220が必要である。しかし、図1のアドレスデコーダでは、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHのとき、補償回路200によって、第2のダイナミックノードML2のレベルが補償されるため、図3に示す保持回路220はなくてもよい。   Note that the address decoder shown in FIG. 1 may be provided with the holding circuit 220 shown in FIG. In the address decoder of FIG. 3, after any one of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] is HIGH, the level of the second dynamic node ML2 becomes LOW, A holding circuit 220 is required to return the level to HIGH. However, in the address decoder of FIG. 1, when any one of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] is HIGH, the level of the second dynamic node ML2 is compensated by the compensation circuit 200. Therefore, the holding circuit 220 illustrated in FIG. 3 may be omitted.

また、一般的には、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]として、半導体記憶装置に入力されるアドレス信号を、ラッチ回路によってラッチされた信号を用いるが、本実施形態のように、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]をそのまま使用してもよい。この場合、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]によって、出力信号OUTの立ち下がりエッジのタイミングを調整することができるため、出力信号OUTのパルス幅を調整することが可能である。   Generally, as the address signals AD [0], AD [1], and AD [2], an address signal input to the semiconductor memory device is a signal latched by a latch circuit. As described above, the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] may be used as they are. In this case, since the timing of the falling edge of the output signal OUT can be adjusted by the address signals AD [0], AD [1], and AD [2], the pulse width of the output signal OUT can be adjusted. It is.

また、本実施形態では、補償回路200によって、出力信号OUTに生じるノイズはグリッジ程度で済むことから、NMOSトランジスタTD2のゲート幅を大きくしてもよく、その閾値電圧を下げてもよい。これらにより、NMOSトランジスタTD2の動作電流を増やすことができるため、出力信号OUTをさらに高速化することができる。   Further, in the present embodiment, the noise generated in the output signal OUT by the compensation circuit 200 may be about glitch, so the gate width of the NMOS transistor TD2 may be increased and the threshold voltage may be lowered. As a result, the operating current of the NMOS transistor TD2 can be increased, so that the output signal OUT can be further increased in speed.

また、補償回路200によって、第2のダイナミックノードML2のレベルが確実に補償されるため、NMOSトランジスタTD2が導通するのに先立ち、あらかじめ第2のダイナミックノードML2をある程度降圧させて動作させることが可能となる。これにより、第2のダイナミックノードML2から引き抜くべき電荷量が減るため、出力信号OUTのさらなる高速化を実現できる。また、PMOSトランジスタTPC2に低い電源電圧を接続し、第2のダイナミックノードML2を、あらかじめ低い電圧にプリチャージすることで、第2のダイナミックノードML2の充放電に係る電荷量が減るため、低消費電力化を実現することが可能である。   Further, since the level of the second dynamic node ML2 is reliably compensated by the compensation circuit 200, it is possible to operate the second dynamic node ML2 by reducing the voltage to some extent before the NMOS transistor TD2 becomes conductive. It becomes. As a result, the amount of charge to be extracted from the second dynamic node ML2 is reduced, so that the output signal OUT can be further increased in speed. Further, by connecting a low power supply voltage to the PMOS transistor TPC2 and precharging the second dynamic node ML2 to a low voltage in advance, the amount of charge related to charging / discharging of the second dynamic node ML2 is reduced. Electricity can be realized.

また、図1において、NMOSトランジスタTD1,TD2に入力されるクロック信号CLK、およびPMOSトランジスタTPC1,TPC2に入力されるクロック信号CLKは、必ずしも同一の信号である必要はない。例えば、異なるクロック生成回路等から出力された信号でもよい。   In FIG. 1, the clock signal CLK input to the NMOS transistors TD1 and TD2 and the clock signal CLK input to the PMOS transistors TPC1 and TPC2 are not necessarily the same signal. For example, it may be a signal output from a different clock generation circuit or the like.

図3に示す構成では、保持回路であるPMOSトランジスタTKP1が第2のダイナミックノードML2に接続されているが、図1に示す構成では、保持回路30は、第2のダイナミックノードML2に接続されていない。したがって、図1に示す構成では、図3に示す構成よりも、第2のダイナミックノードML2の負荷容量を低減することができる。そのため、第2のダイナミックノードML2のレベルのHIGHからLOWへの論理遷移をさらに高速化することができる。   In the configuration shown in FIG. 3, the PMOS transistor TKP1 that is a holding circuit is connected to the second dynamic node ML2, but in the configuration shown in FIG. 1, the holding circuit 30 is connected to the second dynamic node ML2. Absent. Therefore, in the configuration shown in FIG. 1, the load capacity of the second dynamic node ML2 can be reduced as compared with the configuration shown in FIG. Therefore, the logic transition from HIGH to LOW at the level of the second dynamic node ML2 can be further accelerated.

また、図3に示す構成では、PMOSトランジスタTKP1は、第2のダイナミックノードML2のノイズの影響を受けやすいため、第2のダイナミックノードML2に生じるノイズによっては誤動作するおそれがある。第2のダイナミックノードML2にノイズが生じると、PMOSトランジスタTKP1がオンするおそれがあり、本来LOWに維持すべき第1のダイナミックノードML1のレベルが、HIGHになる可能性がある。これに対して、図1の構成では、保持回路30は、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]によって導通制御されるため、第2のダイナミックノードML2のノイズの影響を受けることがない。したがって、図1の構成によれば、上述したような誤動作の可能性が低くなる。すなわち、出力信号OUTの信頼性を向上させることができる。   In the configuration shown in FIG. 3, the PMOS transistor TKP1 is susceptible to the noise of the second dynamic node ML2, and may malfunction due to the noise generated at the second dynamic node ML2. If noise occurs in the second dynamic node ML2, the PMOS transistor TKP1 may be turned on, and the level of the first dynamic node ML1 that should be originally kept low may become HIGH. On the other hand, in the configuration of FIG. 1, the holding circuit 30 is conduction controlled by the address signals AD [0], AD [1], and AD [2], so that the influence of noise of the second dynamic node ML2 is affected. I will not receive it. Therefore, according to the configuration of FIG. 1, the possibility of malfunction as described above is reduced. That is, the reliability of the output signal OUT can be improved.

また、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]がすべてLOWであり、第1のダイナミックノードML1をHIGHに保つ必要がある場合に、図1に示す構成では、図3に示す構成に比べて、第1のダイナミックノードML1に生じる、カップリングなどによるノイズを防止できる。したがって、NMOSトランジスタTJ1のゲートを、安定してHIGHに保つことができるため、第2のダイナミックノードML2のレベルをHIGKからLOWにすばやく変化させることができる。   Further, when the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are all LOW and the first dynamic node ML1 needs to be kept HIGH, the configuration shown in FIG. Compared to the configuration shown, noise due to coupling or the like occurring in the first dynamic node ML1 can be prevented. Therefore, since the gate of the NMOS transistor TJ1 can be stably kept at HIGH, the level of the second dynamic node ML2 can be quickly changed from HIGH to LOW.

また、図1に示す構成では、クロック信号CLKによって導通制御されるNMOSトランジスタTD2を、図3に示すNMOSトランジスタTD2よりも第2のダイナミックノードML2に近づけて配置している。これにより、クロック信号CLKがLOWからHIGHになったときに、第2のダイナミックノードML2のレベルをすみやかに変化させることができるため、出力信号OUTの高速化を図ることができる。   In the configuration shown in FIG. 1, the NMOS transistor TD2 whose conduction is controlled by the clock signal CLK is arranged closer to the second dynamic node ML2 than the NMOS transistor TD2 shown in FIG. As a result, when the clock signal CLK changes from LOW to HIGH, the level of the second dynamic node ML2 can be changed quickly, so that the output signal OUT can be speeded up.

また、図3の構成では、第1のダイナミックノードML1の負荷容量が大きい場合、NMOSトランジスタTD2が導通状態となったときに、LOWになるべき第1のダイナミックノードML1のレベルがLOWになりにくくなる。この場合、第2のダイナミックノードML2に大きなノイズが発生して、保持回路220のPMOSトランジスタTKP2が完全に非導通状態となって誤動作してしまう。つまり、出力信号OUTがエラーとなってしまう。   In the configuration of FIG. 3, when the load capacity of the first dynamic node ML1 is large, the level of the first dynamic node ML1 that should be LOW is unlikely to become LOW when the NMOS transistor TD2 becomes conductive. Become. In this case, a large noise is generated in the second dynamic node ML2, and the PMOS transistor TKP2 of the holding circuit 220 is completely turned off and malfunctions. That is, the output signal OUT becomes an error.

これに対して、図1の構成では、第2のダイナミックノードML2に大きいノイズが発生した場合でも、図2に示すように、すぐにノイズが除去される。したがって、第1のダイナミックノードML1に多くの論理回路を組み込むことが可能となるため、回路規模の縮小や、論理段数の削減を図ることができる。これにより、アドレスデコーダの小面積化、動作の高速化、および低消費電力化を同時に実現できる。   On the other hand, in the configuration of FIG. 1, even when a large noise occurs in the second dynamic node ML2, the noise is immediately removed as shown in FIG. Therefore, since many logic circuits can be incorporated in the first dynamic node ML1, the circuit scale can be reduced and the number of logic stages can be reduced. As a result, it is possible to simultaneously reduce the area of the address decoder, increase the operation speed, and reduce the power consumption.

また、図3に示す構成では、保持回路220は、第2のダイナミックノードML2のレベルがHIGHである間、つまり、図4における時刻t0から時刻t2まで期間、および時刻t2以降の一部の期間において動作する。一方、図1に示す構成では、補償回路200は、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHであるとき動作する。つまり、図1に示す補償回路200は、図2における時刻t0から時刻t2の期間において、第1のダイナミックノードML1のレベルがHIGH以外であるときに動作するため、NMOSトランジスタTD2とNMOSトランジスタTJ1とを経由して、接地電位と電源電圧との間に流れる電流パスが存在しないため、低消費電力化を図ることができる。   In the configuration shown in FIG. 3, the holding circuit 220 is configured so that the level of the second dynamic node ML2 is HIGH, that is, a period from time t0 to time t2 in FIG. 4 and a part of time after time t2. Works on. On the other hand, in the configuration shown in FIG. 1, the compensation circuit 200 operates when any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH. That is, the compensation circuit 200 shown in FIG. 1 operates when the level of the first dynamic node ML1 is other than HIGH during the period from the time t0 to the time t2 in FIG. 2, and thus the NMOS transistor TD2 and the NMOS transistor TJ1 Since there is no current path that flows between the ground potential and the power supply voltage via, power consumption can be reduced.

また、図1の構成では、図3に示す保持回路220がなく、NMOSトランジスタTD2およびNMOSトランジスタTJ1が導通状態になるとき、電源電圧と第2のダイナミックノードML2とを接続するトランジスタが存在しないため、低電圧動作時において誤動作することがない。また、低電圧動作時において、より低い電圧での動作が可能となる。   Further, in the configuration of FIG. 1, there is no holding circuit 220 shown in FIG. 3, and when the NMOS transistor TD2 and the NMOS transistor TJ1 are in a conductive state, there is no transistor that connects the power supply voltage and the second dynamic node ML2. There is no malfunction during low voltage operation. Further, it is possible to operate at a lower voltage during the low voltage operation.

なお、図6に示すように、第2のダイナミックノードML2に、第2のプリチャージ回路210の代わりに、ラッチ回路230を接続してもよい。これにより、ラッチ回路230によって、第2のダイナミックノードML2のレベルを保持することができる。したがって、保持されたレベルを用いることで、第2のダイナミックノードML2のレベルを戻すためのリセット動作が不要となるため、低消費電力化を図ることができる。   As shown in FIG. 6, a latch circuit 230 may be connected to the second dynamic node ML2 instead of the second precharge circuit 210. Thus, the level of the second dynamic node ML2 can be held by the latch circuit 230. Therefore, by using the held level, a reset operation for returning the level of the second dynamic node ML2 becomes unnecessary, so that power consumption can be reduced.

<第2の実施形態>
図7は、第2の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図1および図7における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図1および図7の相違点は、図1の保持回路30の代わりに、保持回路30Aを設け、この保持回路30Aの導通制御を、補償回路200への入力信号によって行っている点である。
<Second Embodiment>
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment. The common reference numerals in FIG. 1 and FIG. 7 indicate the same components, and thus the description thereof is omitted. The difference between FIG. 1 and FIG. 7 is that a holding circuit 30A is provided instead of the holding circuit 30 of FIG. 1, and the conduction control of the holding circuit 30A is performed by an input signal to the compensation circuit 200.

具体的に、保持回路30Aは、第5のトランジスタであるPMOSトランジスタTECU2と、NOT回路302Aとで構成することができる。PMOSトランジスタTECU2は、電源電圧と第1のダイナミックノードML1との間に接続されている。   Specifically, the holding circuit 30A can be configured by a PMOS transistor TECUC2 as a fifth transistor and a NOT circuit 302A. The PMOS transistor TECUC2 is connected between the power supply voltage and the first dynamic node ML1.

PMOSトランジスタTECU2は、PMOSトランジスタTECUへの入力信号が、NOT回路302Aによって反転された信号を受けて、導通制御される。したがって、PMOSトランジスタTECU2は、PMOSトランジスタTEUCが非導通状態のときに導通する。   The PMOS transistor TECU2 is subjected to conduction control in response to a signal obtained by inverting the input signal to the PMOS transistor TECU by the NOT circuit 302A. Therefore, the PMOS transistor TECU2 is turned on when the PMOS transistor TEUC is in a non-conductive state.

以上、本実施形態においても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態によると、図1の構成に比べて、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]の負荷容量を低減することができる。   As described above, also in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Furthermore, according to the present embodiment, the load capacity of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] can be reduced as compared with the configuration of FIG.

<第3の実施形態>
図8は、第3の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図1および図8における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図8に示す構成では、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のうちの1つを、リセット信号RESETに変更し、第2のプリチャージ回路210を省略している点が図1の構成と異なる。なお、図8において、図1に示す保持回路30を簡略化して記載している。
<Third Embodiment>
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment. The common reference numerals in FIGS. 1 and 8 indicate the same components, and thus the description thereof is omitted. In the configuration shown in FIG. 8, one of the address signals AD [0], AD [1], AD [2] is changed to the reset signal RESET, and the second precharge circuit 210 is omitted. Is different from the configuration of FIG. In FIG. 8, the holding circuit 30 shown in FIG. 1 is shown in a simplified manner.

PMOSトランジスタTECUは、リセット信号RESETがアクティブであるときに導通する。リセット信号RESETは、第2のダイナミックノードML2のレベルを、初期値であるHIGHにすべきタイミングでアクティブとなる。   The PMOS transistor TECU conducts when the reset signal RESET is active. The reset signal RESET becomes active at a timing at which the level of the second dynamic node ML2 should be set to the initial value HIGH.

以上、本実施形態によると、第2のダイナミックノードML2の負荷容量が減るため、第2のダイナミックノードML2から引き抜くべき電荷量が減少する。したがって、出力信号OUTの高速化、および半導体集積回路の低消費電力化を実現することができる。また、図1に示す第2のプリチャージ回路210を省略したことにより、半導体集積回路の小面積化を実現することができる。また、第2のプリチャージ回路210がないため、クロック信号CLKの負荷容量を削減することができ、さらなる低消費電力化を実現することができる。   As described above, according to the present embodiment, since the load capacity of the second dynamic node ML2 is reduced, the amount of charge to be extracted from the second dynamic node ML2 is reduced. Therefore, the output signal OUT can be speeded up and the power consumption of the semiconductor integrated circuit can be reduced. Further, since the second precharge circuit 210 shown in FIG. 1 is omitted, the area of the semiconductor integrated circuit can be reduced. Further, since the second precharge circuit 210 is not provided, the load capacity of the clock signal CLK can be reduced, and further reduction in power consumption can be realized.

<第4の実施形態>
図9は、第4の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図1および図9における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図9では、補償回路200Aの回路構成が図1の補償回路200と異なる。なお、図9において、図1に示す保持回路30を簡略化して記載している。
<Fourth Embodiment>
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment. The common reference numerals in FIG. 1 and FIG. In FIG. 9, the circuit configuration of the compensation circuit 200A is different from that of the compensation circuit 200 of FIG. In FIG. 9, the holding circuit 30 shown in FIG. 1 is shown in a simplified manner.

補償回路200Aは、第3のトランジスタである、並列接続されたPMOSトランジスタTECU1,TEUC2,TECU3を有している。   The compensation circuit 200A includes PMOS transistors TECUC1, TEUC2, and TECU3 connected in parallel, which are third transistors.

PMOSトランジスタTECU1は、アドレス信号AD[2]の反転信号であるNAD[2]をゲートに受けて導通制御される。PMOSトランジスタTECU2は、アドレス信号AD[1]の反転信号であるNAD[1]をゲートに受けて導通制御される。PMOSトランジスタTECU3は、アドレス信号AD[0]の反転信号であるNAD[0]をゲートに受けて導通制御される。なお、反転信号NAD[0],NAD[1],NAD[2]として、別のアドレスデコーダに入力されるアドレス信号を用いればよい。   The PMOS transistor TECU1 is subjected to conduction control by receiving NAD [2], which is an inverted signal of the address signal AD [2], at its gate. The PMOS transistor TECUC2 receives NAD [1], which is an inverted signal of the address signal AD [1], at its gate and is controlled for conduction. The PMOS transistor TECU3 receives NAD [0], which is an inverted signal of the address signal AD [0], at its gate and is controlled for conduction. Note that an address signal input to another address decoder may be used as the inverted signals NAD [0], NAD [1], and NAD [2].

これにより、反転信号NAD[0],NAD[1],NAD[2]を、新たに生成する必要がなくなる。したがって、補償回路200Aにおいて、反転信号NAD[0],NAD[1],NAD[2]を用いることよる回路面積のオーバーヘッドは発生しない。   This eliminates the need to newly generate the inverted signals NAD [0], NAD [1], and NAD [2]. Therefore, in the compensation circuit 200A, the overhead of the circuit area due to using the inverted signals NAD [0], NAD [1], and NAD [2] does not occur.

また、図9に示す補償回路200Aでは、図1に示す補償回路200におけるNOR回路202が不要となるため、補償回路200Aの回路面積を小さくすることができる。   Further, in the compensation circuit 200A shown in FIG. 9, the NOR circuit 202 in the compensation circuit 200 shown in FIG. 1 is not necessary, so that the circuit area of the compensation circuit 200A can be reduced.

なお、図9に示す補償回路200Aにおいて、PMOSトランジスタTECU1,TEUC2,TECU3を、第4のトランジスタであるPMOSトランジスタTECDと、NOT回路204を介して第2のダイナミックノードML2に接続することで、ダイナミックノードML2の負荷容量の低減を図ることができる。   In the compensation circuit 200A shown in FIG. 9, the PMOS transistors TECU1, TEUC2, and TECU3 are connected to the second dynamic node ML2 via the PMOS transistor TECD that is the fourth transistor and the NOT circuit 204, thereby dynamically The load capacity of the node ML2 can be reduced.

また、第3のトランジスタを、1つのPMOSトランジスタで構成してもよい。この場合、反転信号NAD[0],NAD[1],NAD[2]を受けるOR回路の出力を、そのPMOSトランジスタのゲートに入力すればよい。   Further, the third transistor may be composed of one PMOS transistor. In this case, the output of the OR circuit that receives the inverted signals NAD [0], NAD [1], and NAD [2] may be input to the gate of the PMOS transistor.

<第5の実施形態>
図10は、第5の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図1および図10における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図10では、補償回路200Bの回路構成が図1の補償回路200と異なる。なお、図10において、図1に示す保持回路30を簡略化して記載している。
<Fifth Embodiment>
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment. The common reference numerals in FIG. 1 and FIG. In FIG. 10, the circuit configuration of the compensation circuit 200B is different from that of the compensation circuit 200 of FIG. In FIG. 10, the holding circuit 30 shown in FIG. 1 is shown in a simplified manner.

補償回路200Bは、電源電圧と第2のダイナミックノードML2との間に接続されたPMOSトランジスタTEC1(第3のトランジスタ)を有している。PMOSトランジスタTEC1のゲートには、第1のダイナミックノードML1が接続されている。したがって、PMOSトランジスタTEC1は、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれか1つがHIGHのとき、つまり、第1のダイナミックノードML1がLOWであるときに導通する。   The compensation circuit 200B includes a PMOS transistor TEC1 (third transistor) connected between the power supply voltage and the second dynamic node ML2. The first dynamic node ML1 is connected to the gate of the PMOS transistor TEC1. Therefore, the PMOS transistor TEC1 becomes conductive when any one of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] is HIGH, that is, when the first dynamic node ML1 is LOW.

以上、本実施形態によると、補償回路200Bをより簡単な構成とすることができるため、半導体集積回路の回路面積をさらに小さくすることができる。   As described above, according to the present embodiment, the compensation circuit 200B can have a simpler configuration, so that the circuit area of the semiconductor integrated circuit can be further reduced.

ここで、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のいずれもがLOWであり、NMOS並列回路110が非導通状態であっても、リーク電流などによって第1のダイナミックノードML1の電荷が抜ける可能性がある。本実施形態において、第1のダイナミックノードML1の電荷が抜けて、そのレベルがLOWになると、PMOSトランジスタTEC1がオンしてしまうおそれがある。ところが、保持回路30を設けているため、第1のダイナミックノードML1のレベルをHIGHに維持することができ、PMOSトランジスタTEC1が誤ってオンするような誤動作を防止することができる。   Here, even if the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are all LOW and the NMOS parallel circuit 110 is in a non-conducting state, the first dynamic node ML1 is caused by a leakage current or the like. There is a possibility that the electric charge will be lost. In the present embodiment, when the charge of the first dynamic node ML1 is lost and the level becomes LOW, the PMOS transistor TEC1 may be turned on. However, since the holding circuit 30 is provided, the level of the first dynamic node ML1 can be maintained high, and a malfunction in which the PMOS transistor TEC1 is erroneously turned on can be prevented.

なお、上述した各実施形態において、NMOSトランジスタTD2とNMOSトランジスタTJ1の接続順を入れ替えてもよい。   In each of the above-described embodiments, the connection order of the NMOS transistor TD2 and the NMOS transistor TJ1 may be switched.

例えば、図11に示すように、NMOSトランジスタTJ1を、第2のダイナミックノードML2とNMOSトランジスタTD2との間に接続してもよい。   For example, as shown in FIG. 11, the NMOS transistor TJ1 may be connected between the second dynamic node ML2 and the NMOS transistor TD2.

<第6の実施形態>
図12は、第6の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図10および図12における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図12では、保持回路30Bの回路構成が、上述した各実施形態の保持回路30と異なる。
<Sixth Embodiment>
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment. The common reference numerals in FIG. 10 and FIG. 12 indicate the same components, and thus the description thereof is omitted. In FIG. 12, the circuit configuration of the holding circuit 30B is different from the holding circuit 30 of each embodiment described above.

具体的に、保持回路30Bは、電源電圧と第1のダイナミックノードML1との間に接続されたPMOSトランジスタTKP1で構成することができる。PMOSトランジスタTKP1は、第2のダイナミックノードML2のレベルに応じて導通制御され、第2のダイナミックノードML2のレベルがLOWのときに導通する。   Specifically, the holding circuit 30B can be configured by a PMOS transistor TKP1 connected between the power supply voltage and the first dynamic node ML1. The PMOS transistor TKP1 is conductively controlled according to the level of the second dynamic node ML2, and is conductive when the level of the second dynamic node ML2 is LOW.

以上、本実施形態によると、保持回路30Bをより簡単な構成とすることができるため、半導体集積回路の回路面積をさらに小さくすることができる。なお、本実施形態において、NMOSトランジスタTJ1とNMOSトランジスタTD2との接続順を入れ替えてもよい。   As described above, according to the present embodiment, since the holding circuit 30B can have a simpler configuration, the circuit area of the semiconductor integrated circuit can be further reduced. In the present embodiment, the connection order of the NMOS transistor TJ1 and the NMOS transistor TD2 may be switched.

<第7の実施形態>
図13は、第7の実施形態に係る半導体集積回路の構成を示す回路図である。図12および図13における共通の符号は、同一の構成要素を示すため、その説明を省略する。図13に示す半導体集積回路は、例えばアドレス信号を比較するコンパレータである。なお、図13において、補償回路200Bを簡略化して記載している。
<Seventh Embodiment>
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to the seventh embodiment. The common reference numerals in FIG. 12 and FIG. 13 indicate the same components, and thus the description thereof is omitted. The semiconductor integrated circuit shown in FIG. 13 is a comparator that compares address signals, for example. In FIG. 13, the compensation circuit 200B is shown in a simplified manner.

図13に示すコンパレータには、アドレス信号AD_A[0]とAD_B[0],AD_A[1]とAD_B[1],AD_A[2]とAD_B[2]とがそれぞれ、EOR回路42で論理演算された結果が入力される。   In the comparator shown in FIG. 13, the address signals AD_A [0] and AD_B [0], AD_A [1] and AD_B [1], AD_A [2] and AD_B [2] are logically operated by the EOR circuit 42, respectively. Result is input.

一般的なコンパレータには、図13に示す補償回路200Bが設けられていないため、コンパレータの比較結果である出力信号OUTのノイズを抑制する必要がある。そのため、従来、NMOSトランジスタTD2に相当する回路を起動するタイミングにマージンを設けている。したがって、一般的なコンパレータでは、出力信号OUTの高速化が困難である。   Since a general comparator is not provided with the compensation circuit 200B shown in FIG. 13, it is necessary to suppress noise of the output signal OUT as a comparison result of the comparator. Therefore, conventionally, a margin is provided at the timing of starting the circuit corresponding to the NMOS transistor TD2. Therefore, it is difficult to increase the speed of the output signal OUT with a general comparator.

これに対して、図13に示すコンパレータでは、第2のダイナミックノードML2に、比較結果の誤りが発生した場合や、ノイズが発生した場合でも、速やかに、誤りの訂正やノイズを除去することができる。したがって、比較結果の信頼性が向上するとともに、上述した余分なマージンを設ける必要がなくなるため、出力信号OUTの高速化を実現することができる。   On the other hand, in the comparator shown in FIG. 13, even when an error in the comparison result occurs or noise occurs in the second dynamic node ML2, error correction and noise can be quickly removed. it can. Therefore, the reliability of the comparison result is improved, and it is not necessary to provide the above-described extra margin, so that the output signal OUT can be speeded up.

なお、コンパレータを、図14に示すような構成としてもよい。図14は、図13に示すコンパレータの変形例である。図14において、NMOS並列回路110Aおよび論理回路42Aは、図13示す、NMOS並列回路110およびEOR回路42と等価である。   The comparator may be configured as shown in FIG. FIG. 14 is a modification of the comparator shown in FIG. In FIG. 14, the NMOS parallel circuit 110A and the logic circuit 42A are equivalent to the NMOS parallel circuit 110 and the EOR circuit 42 shown in FIG.

図14に示すコンパレータによると、図13の構成に比べて、回路の部品点数を削減できるため、回路面積の縮小化を図ることができる。   According to the comparator shown in FIG. 14, the number of parts of the circuit can be reduced as compared with the configuration of FIG. 13, so that the circuit area can be reduced.

以上、上記各実施形態について、アドレスデコーダとコンパレータを例に挙げて説明したが、本発明は、上述した以外にも様々な構成が可能であり、様々な回路への応用が可能である。また、本実施形態において、NMOSトランジスタTJ1とNMOSトランジスタTD2との接続順を入れ替えてもよい。   The above embodiments have been described by taking the address decoder and the comparator as examples. However, the present invention can have various configurations other than those described above, and can be applied to various circuits. In this embodiment, the connection order of the NMOS transistor TJ1 and the NMOS transistor TD2 may be switched.

なお、上記各実施形態において、保持回路30,30A,30Bを省略してもよい。また、第1の電源を接地電位、第2の電源を電源電圧として説明したが、これらを逆にしてもよい。また、アドレス信号AD[0],AD[1],AD[2]のすべてがLOWのときを第2の状態、いずれか1つがHIGHのときを第1の状態としてもよい。また、第1のダイナミックノードML1のレベルが、HIGHのときを第2のレベル、LOWのときを第1のレベルとしてもよい。さらに、第2のダイナミックノードML2のレベルを、各実施形態で説明したレベルと逆論理にしてもよい。これらの場合、各実施形態に係る半導体集積回路の各構成要素が、上述した動作と逆論理で動作するようにすればよい。   In each of the above embodiments, the holding circuits 30, 30A, and 30B may be omitted. Further, although the first power supply has been described as the ground potential and the second power supply as the power supply voltage, these may be reversed. Further, the second state may be set when all of the address signals AD [0], AD [1], and AD [2] are LOW, and the first state may be set when any one of them is HIGH. The first dynamic node ML1 may be set to the second level when the level is HIGH and the first level when the level is LOW. Further, the level of the second dynamic node ML2 may be made to have an inverse logic to the level described in each embodiment. In these cases, each component of the semiconductor integrated circuit according to each embodiment may be operated in the reverse logic to the operation described above.

また、各実施形態に係る半導体集積回路の各構成要素を、等価な回路に置き換えてもよい。例えば、NMOSトランジスタTJ1を、PMOSトランジスタと、そのPMOSトランジスタのゲートに接続されるNOT回路とに置き換えてもよい。   In addition, each component of the semiconductor integrated circuit according to each embodiment may be replaced with an equivalent circuit. For example, the NMOS transistor TJ1 may be replaced with a PMOS transistor and a NOT circuit connected to the gate of the PMOS transistor.

また、上記各実施形態に係る半導体集積回路は、図16に示す半導体記憶装置に好適であるが、図15に示すような半導体記憶装置に適用してもよい。   The semiconductor integrated circuit according to each of the above embodiments is suitable for the semiconductor memory device shown in FIG. 16, but may be applied to the semiconductor memory device as shown in FIG.

本発明に係る半導体集積回路では、出力信号からすばやくノイズを除去できるとともに、出力信号の高速化が可能であるため、半導体記憶装置等に有用である。   The semiconductor integrated circuit according to the present invention is useful for semiconductor memory devices and the like because noise can be quickly removed from the output signal and the output signal can be speeded up.

10 第1のダイナミック回路
30,30A,30B 保持回路
20 第2のダイナミック回路
200,200A,200B 補償回路
230 ラッチ回路
TJ1 第1のトランジスタ
TD2 第2のトランジスタ
TEC1,TECU 第3のトランジスタ
TECU1,TECU2,TECU3 第3のトランジスタ
TECD 第4のトランジスタ
TKP1,TECU2 第5のトランジスタ
306,308,310 第5のトランジスタ
ML1 第1のダイナミックノード
ML2 第2のダイナミックノード
CLK 第1のクロック信号,第2のクロック信号
OUT 出力信号
AD[0],AD[1],AD[2],AD_A[0],AD_B[0],AD_A[1],AD_B[1],AD_A[2],AD_B[2] アドレス信号(複数の入力信号)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st dynamic circuit 30,30A, 30B Holding circuit 20 2nd dynamic circuit 200,200A, 200B Compensation circuit 230 Latch circuit TJ1 1st transistor TD2 2nd transistor TEC1, TECU 3rd transistor TECU1, TECU2, TECU3 3rd transistor TECD 4th transistor TKP1, TECU2 5th transistor 306, 308, 310 5th transistor ML1 1st dynamic node ML2 2nd dynamic node CLK 1st clock signal, 2nd clock signal OUT output signals AD [0], AD [1], AD [2], AD_A [0], AD_B [0], AD_A [1], AD_B [1], AD_A [2], AD_B [2] Address signal ( Multiple input signals )

Claims (15)

複数の入力信号および第1のクロック信号を受けて、第1のダイナミックノードのレベルを制御する第1のダイナミック回路と、
第2のダイナミックノードと第1の電源との間に設けられ、前記第1のダイナミックノードのレベルに応じて導通制御される第1のトランジスタと、
前記第2のダイナミックノードと前記第1の電源との間に、前記第1のトランジスタと直列に設けられ、第2のクロック信号に応じて導通制御される第2のトランジスタと、
前記第2のダイナミックノードのレベルに応じた論理値の出力信号を出力する第2のダイナミック回路とを備え、
前記第1のダイナミック回路は、
前記複数の入力信号が第1の状態であるときは、前記第1のダイナミックノードのレベルを、前記第1のトランジスタを導通させる第1のレベルに保つ一方、前記複数の入力信号が前記第1の状態以外の第2の状態であるときは、前記第1のダイナミックノードのレベルを、前記第1のクロック信号に応じて、前記第1のレベルと、前記第1のトランジスタを導通させない第2のレベルとに切り替えるものであり、
前記第2のダイナミック回路は、
前記第2のダイナミックノードと第2の電源との間に設けられ、前記複数の入力信号が前記第2の状態であり、かつ前記第1のダイナミックノードのレベルが前記第1のレベル以外であるとき、前記第2のダイナミックノードを前記第2の電源に接続することで、前記第2のダイナミックノードのレベルを補償する補償回路を有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
A first dynamic circuit that receives a plurality of input signals and a first clock signal and controls a level of the first dynamic node;
A first transistor provided between a second dynamic node and a first power supply, the conduction of which is controlled according to the level of the first dynamic node;
A second transistor provided in series with the first transistor between the second dynamic node and the first power supply, the conduction of which is controlled according to a second clock signal;
A second dynamic circuit that outputs an output signal having a logical value corresponding to the level of the second dynamic node;
The first dynamic circuit includes:
When the plurality of input signals are in the first state, the level of the first dynamic node is maintained at a first level for conducting the first transistor, while the plurality of input signals are in the first state. When the second state other than the first state is established, the first dynamic node is set to a level at which the first transistor is not conducted with the first level in accordance with the first clock signal. To switch to the level of
The second dynamic circuit includes:
Provided between the second dynamic node and a second power supply, the plurality of input signals are in the second state, and the level of the first dynamic node is other than the first level A semiconductor integrated circuit comprising: a compensation circuit for compensating a level of the second dynamic node by connecting the second dynamic node to the second power source.
請求項1の半導体集積回路において、
前記補償回路は、
前記第2のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記複数の入力信号の状態に応じて導通制御され、前記複数の入力信号が前記第2の状態であるときに導通する第3のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The compensation circuit includes:
Provided between the second dynamic node and the second power supply, and controlled to conduct according to the state of the plurality of input signals, and conducts when the plurality of input signals are in the second state. A semiconductor integrated circuit including a third transistor.
請求項1の半導体集積回路において、
前記補償回路は、前記第2のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記第1のダイナミックノードのレベルに応じて導通制御され、前記第1のダイナミックノードが前記第2のレベルであるときに導通する第3のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The compensation circuit is provided between the second dynamic node and the second power supply, and conduction control is performed according to a level of the first dynamic node, and the first dynamic node is the second dynamic node. A semiconductor integrated circuit comprising a third transistor that conducts when the level is reached.
請求項1の半導体集積回路において、
前記補償回路は、
前記第2のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記複数の入力信号の反転信号の状態に応じて導通制御され、前記反転信号が、前記複数の入力信号が前記第2の状態であるときの状態のとき、導通する第3のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The compensation circuit includes:
Provided between the second dynamic node and the second power supply, and controlled to conduct according to the state of the inverted signal of the plurality of input signals, the inverted signal being the second input signal being the second input signal. A semiconductor integrated circuit comprising: a third transistor that is conductive when in the state.
請求項4の半導体集積回路において、
前記補償回路は、
前記第2のダイナミックノードと前記第2の電源との間に、前記第3のトランジスタと直列に設けられ、前記第1のクロック信号に応じて導通制御され、前記第1のクロック信号が、前記第1のダイナミックノードのレベルが前記第2のレベルになるときの状態であるとき、導通する第4のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 4.
The compensation circuit includes:
Between the second dynamic node and the second power supply, it is provided in series with the third transistor, and conduction control is performed according to the first clock signal, and the first clock signal is A semiconductor integrated circuit, comprising: a fourth transistor that conducts when the level of the first dynamic node is the second level.
請求項2の半導体集積回路において、
前記第1のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記第3のトランジスタのゲートへの入力信号に応じて導通制御され、前記第3のトランジスタが非導通状態であるとき、導通する第5のトランジスタを有する保持回路を備えている
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 2.
Provided between the first dynamic node and the second power supply, controlled in conduction according to an input signal to the gate of the third transistor, and when the third transistor is non-conductive, A semiconductor integrated circuit comprising a holding circuit having a fifth transistor which is conductive.
請求項2の半導体集積回路において、
前記複数の入力信号には、前記第2のダイナミックノードのレベルを、初期レベルに戻すためのリセット信号が含まれており、
前記第3のトランジスタは、前記リセット信号がアクティブであるとき、導通する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 2.
The plurality of input signals include a reset signal for returning the level of the second dynamic node to an initial level,
The semiconductor integrated circuit, wherein the third transistor is turned on when the reset signal is active.
請求項1の半導体集積回路において、
前記第1のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記第1のダイナミックノードのレベルが前記第1のレベルである場合に、前記第1のダイナミックノードのレベルを前記第1のレベルに保持する保持回路を備えている
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The level of the first dynamic node is set between the first dynamic node and the second power source, and the level of the first dynamic node is set to the first level when the level of the first dynamic node is the first level. A semiconductor integrated circuit comprising a holding circuit for holding at a level of 1.
請求項8の半導体集積回路において、
前記保持回路は、前記第1のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記第2のダイナミックノードのレベルに応じて導通制御され、前記第2のダイナミックノードが前記第1の電源に接続されているとき、導通する第5のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 8.
The holding circuit is provided between the first dynamic node and the second power supply, and is conductively controlled according to a level of the second dynamic node, and the second dynamic node is the first dynamic node. A semiconductor integrated circuit including a fifth transistor which is conductive when connected to a power source.
請求項8の半導体集積回路において、
前記保持回路は、
前記第1のダイナミックノードと前記第2の電源との間に設けられ、前記複数の入力信号の状態に応じて導通制御され、前記複数の入力信号が前記第1の状態であるときに導通する第5のトランジスタを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 8.
The holding circuit is
Provided between the first dynamic node and the second power supply, and controlled to conduct according to the state of the plurality of input signals, and conducts when the plurality of input signals are in the first state. A semiconductor integrated circuit including a fifth transistor.
請求項1の半導体集積回路において、
前記第2のトランジスタは、前記第2のダイナミックノードと前記第1のトランジスタとの間に接続されている
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The semiconductor integrated circuit, wherein the second transistor is connected between the second dynamic node and the first transistor.
請求項1の半導体集積回路において、
前記第2のダイナミックノードのレベルをラッチするラッチ回路を備えている
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
A semiconductor integrated circuit comprising a latch circuit for latching the level of the second dynamic node.
請求項1の半導体集積回路において、
前記第1および第2のクロック信号は、同一の信号である
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the first and second clock signals are the same signal.
請求項1の半導体集積回路は、アドレスデコーダであり、
前記複数の入力信号はそれぞれ、アドレス信号である
ことを特徴とする半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit according to claim 1 is an address decoder,
The semiconductor integrated circuit, wherein each of the plurality of input signals is an address signal.
請求項1の半導体集積回路は、コンパレータである
ことを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is a comparator.
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US6002292A (en) * 1998-03-13 1999-12-14 International Business Machines Corporation Method and apparatus to control noise in a dynamic circuit
JP2003318727A (en) 2002-04-18 2003-11-07 Toshiba Corp Semiconductor logic operation circuit
US6873188B2 (en) * 2002-09-12 2005-03-29 International Business Machines Corporation Limited switch dynamic logic selector circuits
US7034576B2 (en) * 2003-06-27 2006-04-25 Sun Microsystems, Inc. Pulsed dynamic keeper gating
US7429880B2 (en) * 2003-08-11 2008-09-30 Amar Pal Singh Rana Reduced glitch dynamic logic circuit and method of synthesis for complementary oxide semiconductor (CMOS) and strained/unstrained silicon-on-insulator (SOI)
JP2007096907A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor integrated circuit
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