JP5766657B2 - Silicone resin composition - Google Patents
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Description
本発明は、小さいエネルギーの放射線照射でも短時間で十分に硬化することができ、かつ優れた耐湿性を有する硬化物を与えるシリコーン樹脂組成物に関し、特に電気及び電子部品の保護用コーティング剤及び封止剤として好適なシリコーン樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a silicone resin composition that can be cured sufficiently in a short period of time even when irradiated with low energy radiation, and provides a cured product having excellent moisture resistance. The present invention relates to a silicone resin composition suitable as a stopper.
紫外線等の放射線を照射することによって硬化するオルガノポリシロキサン組成物は既に知られている。例えば、特許文献1には、ビニル官能性基含有オルガノポリシロキサンと光重合開始剤を含有する放射線硬化性光ファイバー用被覆剤が記載されている。しかしながら、該被覆剤で部品を被覆して液体で放置すると、装置内に被覆剤が流れだし、装置を汚染することがあった。 Organopolysiloxane compositions that cure by irradiation with radiation such as ultraviolet light are already known. For example, Patent Document 1 describes a radiation-curable optical fiber coating agent containing a vinyl functional group-containing organopolysiloxane and a photopolymerization initiator. However, when a part is coated with the coating agent and allowed to stand with a liquid, the coating agent may flow into the device and contaminate the device.
かかる欠点を改善した組成物として、特許文献2には、分子鎖の両末端に放射線官能性の(メタ)アクリロイル基を有する特定のオルガノポリシロキサン、光増感剤、テトラアルキルシラン又はその部分加水分解縮合物を含有してなるオルガノポリシロキサン組成物が記載されている。しかし、該組成物は、近年の高硬化速度に対する要求や、硬化時における放射線照射の低照度化の要求に対して十分に答えることのできるものではなかった。また、該オルガノポリシロキサン組成物は充分な耐湿性を有しておらず、湿度等の影響を受けやすい液晶電極、有機EL電極、プラズマディスプレイ電極の保護用コーティング材として使用するには不十分であった。 As a composition that has improved such drawbacks, Patent Document 2 discloses a specific organopolysiloxane having a radiation-functional (meth) acryloyl group at both ends of a molecular chain, a photosensitizer, a tetraalkylsilane, or a partial hydrolyzate thereof. An organopolysiloxane composition containing a decomposition condensate is described. However, the composition has not been able to adequately answer the recent demand for high curing speed and the demand for low illumination during irradiation. In addition, the organopolysiloxane composition does not have sufficient moisture resistance, and is insufficient for use as a coating material for protecting liquid crystal electrodes, organic EL electrodes, and plasma display electrodes that are easily affected by humidity and the like. there were.
特許文献3には、少量の放射線を短時間照射するだけで速やかに、かつ十分に硬化する組成物として、分子中に(メタ)アクリル基を有するオルガノシロキサンレジン及びアクリル基を有するフェニルエステル誘導体を含有する放射線硬化性組成物が記載されている。また、特許文献4には、水蒸気透過性の低いオルガノポリシロキサンとして、シクロアルキル基含有シリコーン樹脂組成物が記載されている。 In Patent Document 3, an organosiloxane resin having a (meth) acryl group and a phenyl ester derivative having an acrylic group are included in a molecule as a composition that can be cured quickly and sufficiently by simply irradiating a small amount of radiation for a short time. A radiation curable composition is described. Patent Document 4 describes a cycloalkyl group-containing silicone resin composition as an organopolysiloxane having low water vapor permeability.
しかし、特許文献3に記載の組成物は小さいエネルギーの放射線照射に対する硬化性が十分でなく、また、得られる硬化物の耐湿性も不十分である。また、特許文献4に記載のシリコーン樹脂組成物はヒドロシリル化で硬化するため、硬化に比較的高温(100〜150℃程度)を必要とする。その為、熱に弱い電子デバイスや樹脂筐体などには適用できない。 However, the composition described in Patent Document 3 does not have sufficient curability for irradiation with low energy radiation, and the resulting cured product has insufficient moisture resistance. Moreover, since the silicone resin composition of patent document 4 hardens | cures by hydrosilylation, a comparatively high temperature (about 100-150 degreeC) is required for hardening. Therefore, it cannot be applied to electronic devices or resin casings that are vulnerable to heat.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、小さいエネルギーの放射線を短時間照射した場合でも十分に硬化することができ、かつ、優れた耐湿性を有する硬化物を与えるシリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、基材及び電気・電子部品等の腐食が抑制され、信頼性に優れた装置、特には、電気装置及び電子装置を与えることを目的とする。尚、本発明において「放射線」とは、広義に全ての電磁波及び粒子線を意味し、電離放射線(電子線、X線、γ線、及び波長の短い紫外線等)及び非電離放射線(近紫外線、遠赤外線等)を包含する。 The present invention has been made in order to solve the above problems, and is a silicone resin that can be sufficiently cured even when irradiated with a small amount of radiation for a short time and that provides a cured product having excellent moisture resistance. An object is to provide a composition. Another object of the present invention is to provide a highly reliable device, in particular, an electric device and an electronic device, in which corrosion of a base material and electric / electronic parts is suppressed. In the present invention, “radiation” means all electromagnetic waves and particle beams in a broad sense, and includes ionizing radiation (electron beams, X-rays, γ rays, ultraviolet rays having a short wavelength, etc.) and non-ionizing radiations (near ultraviolet rays, Including far infrared rays).
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサンを含有するシリコーン樹脂組成物が、小さいエネルギーの放射線を照射した場合でも短時間で十分に硬化することができ、かつ、得られる硬化物は充分な耐湿性を有することを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a silicone resin composition containing an organopolysiloxane represented by the following general formula (1) is short even when irradiated with low energy radiation. It has been found that the cured product can be sufficiently cured in time and the obtained cured product has sufficient moisture resistance, and has led to the present invention.
即ち、本発明は、
(A)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン
(式(1)中、R1は、互いに独立に、炭素数4〜8のシクロアルキル基であり、R2は−OXで示される基であり、Xは、互いに独立に、アクリル基又はメタクリル基を有する1価の有機基であり、R3は、互いに独立に、シクロアルキル基でない、置換もしくは非置換の、炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、Qは、互いに独立に、酸素原子又は炭素数1〜10のアルキレン基であり、a、b、cは、互いに独立に、0〜3の整数であり、但しケイ素原子ごとにa、b、cは夫々a+b+c=3を満たし、dは、互いに独立に、1または2の整数であり、eは、互いに独立に、0または1の整数であり、但しケイ素原子ごとにd、eは夫々d+e=2を満たし、nは0〜40の整数であり、R4は、互いに独立に、R 1 及びR3の選択肢の中から選ばれる基であり、上記式(1)におけるR 4 の少なくとも1がR 1 の選択肢の中から選ばれる基であり、R5は、互いに独立に、下記式(2)で表される基であり、
式(2)中、R1、R2、R3、R4、R5、Q、a、b、c、d、及びeは上記の通りであり、mは0〜15の整数であり、
但し、該オルガノポリシロキサンは1分子中に少なくとも1のR 2を有する)、及び
(B)光重合開始剤 (A)成分を硬化させる有効量
を含有する、シリコーン樹脂組成物及び該シリコーン樹脂組成物を硬化して得られる硬化物を備える装置を提供する。
That is, the present invention
(A) Organopolysiloxane represented by the following general formula (1)
(In the formula (1), R 1 are each independently a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms, R 2 is a group represented by -OX, X, independently of one another, acryl or methacryl R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that is not a cycloalkyl group and is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, and Q is independently of each other. , An oxygen atom or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a, b and c are each independently an integer of 0 to 3, provided that a, b and c are each a + b + c = 3 for each silicon atom. D is an integer of 1 or 2 independently of each other, e is an integer of 0 or 1 independently of each other, provided that d and e satisfy d + e = 2 for each silicon atom, and n is is an integer of 0 to 40, R 4, independently of one another, R 1 及 beauty R 3 Wherein at least one of R 4 in the above formula (1) is a group selected from the options of R 1 , and R 5 is independently selected from the following formula (2): A group represented by
In formula (2), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , Q, a, b, c, d, and e are as described above, m is an integer of 0 to 15,
However, the organopolysiloxane has at least one R 2 in one molecule), and (B) a photopolymerization initiator (A) a silicone resin composition and an silicone resin composition containing an effective amount for curing the component An apparatus including a cured product obtained by curing an object is provided.
本発明のシリコーン樹脂組成物であれば、小さいエネルギーの放射線を短時間照射した場合でも十分に硬化することができ、かつ得られる硬化物は充分な耐湿性を有することができる。その為、基材及び電気・電子部品等の腐食を抑制する効果を有する硬化被膜を形成することができ、信頼性に優れた装置、特には、電気装置及び電子装置を提供することができる。特に、本発明の組成物は、少ないエネルギー照射によって容易に硬化するので、紫外線等の放射線の影響を受けやすい液晶電極、有機EL電極、フラットパネルディスプレイ電極、及びプラズマディスプレイ電極等の保護用コーティング剤、並びに各種電気及び電子部品等の保護用コーティング剤又は封止剤として有用である。 The silicone resin composition of the present invention can be sufficiently cured even when irradiated with low energy radiation for a short time, and the obtained cured product can have sufficient moisture resistance. Therefore, a cured film having an effect of suppressing corrosion of the base material and the electric / electronic parts can be formed, and an apparatus having excellent reliability, in particular, an electric apparatus and an electronic apparatus can be provided. In particular, since the composition of the present invention is easily cured by irradiation with a small amount of energy, it is a protective coating agent for liquid crystal electrodes, organic EL electrodes, flat panel display electrodes, plasma display electrodes and the like that are easily affected by radiation such as ultraviolet rays. It is useful as a protective coating agent or sealant for various electric and electronic parts.
以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書中に記載の(メタ)アクリロイル、(メタ)アクリル、及び(メタ)アクリレートの語は、順に、アクリロイル及び/又はメタクリロイル、アクリル及び/又はメタクリル、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。また、「Me」はメチル基を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In addition, the term (meth) acryloyl, (meth) acryl, and (meth) acrylate described in this specification means acryloyl and / or methacryloyl, acrylic and / or methacryl, acrylate, and / or methacrylate in this order. . “Me” means a methyl group.
[(A)オルガノポリシロキサン]
(A)オルガノポリシロキサンは、下記一般式(1)で表され、1分子中に少なくとも1個、好ましくは1〜80個、より好ましくは2〜60個、更に好ましくは2〜20個のシクロアルキル基を有する。また該(A)オルガノポリシロキサンは、1分子中に少なくとも1個、好ましくは2〜20個、より好ましくは2〜10個の、アクリル基又はメタクリル基を有する1価の有機基を有する。
(A) The organopolysiloxane is represented by the following general formula (1), and has at least 1, preferably 1 to 80, more preferably 2 to 60, and still more preferably 2 to 20 cyclohexane per molecule. Has an alkyl group. The (A) organopolysiloxane has at least 1, preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10 monovalent organic groups having an acryl group or a methacryl group in one molecule.
上記式(1)において、R1は、互いに独立に、炭素数4〜8、好ましくは炭素数5〜6のシクロアルキル基であり、特に好ましくはシクロヘキシル基である。R3は、互いに独立に、シクロアルキル基でない、置換もしくは非置換の、炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基およびこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、シアノエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基、およびシアノエチル基などが挙げられる。中でも、R3はメチル基が好ましい。 In the above formula (1), R 1 is independently a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms, preferably 5 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a cyclohexyl group. R 3 independently of each other is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which is not a cycloalkyl group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Alkyl groups such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group; benzyl group, phenylethyl group , An aralkyl group such as a phenylpropyl group and a hydrogen atom bonded to a carbon atom of these groups partially or entirely substituted with a halogen atom, a cyano group, etc., such as a chloromethyl group, a cyanoethyl group, a trifluoropropyl group, etc. A halogen-substituted alkyl group, and a cyanoethyl group. Among them, R 3 is preferably a methyl group.
R2は−OXで示される基であり、Xは、互いに独立に、アクリル基又はメタクリル基を有する1価の有機基である。このようなXとしては、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基を有する1価の有機基が挙げられ、炭素原子に結合する水素原子の一部が、1〜3個の(メタ)アクリロイルオキシ基で置換された、炭素数1〜10、好ましくは炭素数2〜6のアルキル基が挙げられる。 R 2 is a group represented by —OX, and X is a monovalent organic group having an acrylic group or a methacryl group independently of each other. Examples of such X include a monovalent organic group having a (meth) acryloyloxy group, and a part of hydrogen atoms bonded to carbon atoms are substituted with 1 to 3 (meth) acryloyloxy groups. And an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 6 carbon atoms.
上記Xとしては、例えば、以下に示す基が挙げられる。
中でも、下記に示す基が好ましい。
更に好ましくは、下記に示す基である。
上記式(1)において、Qは、互いに独立に、酸素原子又は炭素数1〜10のアルキレン基であり、好ましくは酸素原子又は炭素数2〜6のアルキレン基である。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、及びノニレン基等が挙げられる。 In the above formula (1), Q independently represents an oxygen atom or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an oxygen atom or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, and nonylene group.
上記式(1)において、 a、b、cは、互いに独立に、0〜3の整数であり、好ましくは、bは1〜3の整数、a、cは0〜2の整数であり、但しケイ素原子ごとにa、b、cは夫々a+b+c=3を満たす。特には、aが0であり、bが1であり、cが2であるのが好ましい。d、eは、互いに独立に、0〜2の整数であり、好ましくは、dは1または2の整数であり、eは0または1の整数であり、但しケイ素原子ごとにd、eは夫々d+e=2を満たす。nは0〜40の整数、好ましくは1〜30の整数、より好ましくは2〜10の整数である。尚、nは平均値であってよい。上記式(1)で示されるオルガノポリシロキサンは、1分子中に少なくとも1のR1及びR2を有する。 In the above formula (1), a, b and c are each independently an integer of 0 to 3, preferably b is an integer of 1 to 3, a and c are integers of 0 to 2, provided that For each silicon atom, a, b and c satisfy a + b + c = 3. In particular, it is preferable that a is 0, b is 1, and c is 2. d and e are each independently an integer of 0 to 2, preferably d is an integer of 1 or 2, e is an integer of 0 or 1, provided that d and e are each silicon atom. d + e = 2 is satisfied. n is an integer of 0 to 40, preferably an integer of 1 to 30, more preferably an integer of 2 to 10. Note that n may be an average value. The organopolysiloxane represented by the above formula (1) has at least one R 1 and R 2 in one molecule.
上記式(1)において、R4は、互いに独立に、R1、R2及びR3の選択肢の中から選ばれる基である。好ましくは、R4はR1及びR3の選択肢の中から選ばれる基であり、より好ましくはR4の少なくとも1がR1の選択肢の中から選ばれる基、即ち、シクロアルキル基である。R5は、互いに独立に、下記式(2)で表される基である。
上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンとしては、好ましくは、以下のオルガノポリシロキサンが挙げられる。
上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンは、例えば、下記一般式(3)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
R1 p(R3)q(H)rSiO(4―p―q―r/2) (3)
(式中、R1、R3は上記の通りであり、pは0<p≦1.4、好ましくは0<p≦1.0の数であり、qは0.6≦q≦2.5、好ましくは0.8≦q≦2.0の数であり、rは0.05≦r≦1.0、好ましくは0.09≦r≦0.8の数であり、ただしp+q+r=1.8〜3.0である。分子中SiH基の位置は特に制限されず、分子鎖の末端であっても途中であってもよい。)
と、下記一般式(4)で表される(メタ)アクリレート誘導体
R7 sR6 tSi(OX)4−s―t (4)
(式中、R6は炭素数2〜8のアルケニル基であり、Xは上記の通りであり、R7は上記R1及びR3の選択肢の中から選ばれる基であり、sは0〜2の整数であり、tは1〜3の整数であり、但し、s+tは1〜3である。)
とを、白金触媒存在下、ヒドロシリル化反応することで製造することができる。ヒドロシリル化反応は従来公知の方法に従えばよい。
The organopolysiloxane represented by the above formula (1) is, for example, an organohydrogenpolysiloxane represented by the following general formula (3) R 1 p (R 3 ) q (H) r SiO (4-pq -R / 2) (3)
(Wherein R 1 and R 3 are as described above, p is a number satisfying 0 <p ≦ 1.4, preferably 0 <p ≦ 1.0, and q is 0.6 ≦ q ≦ 2. 5, preferably 0.8 ≦ q ≦ 2.0, r is a number 0.05 ≦ r ≦ 1.0, preferably 0.09 ≦ r ≦ 0.8, provided that p + q + r = 1 The position of the SiH group in the molecule is not particularly limited and may be at the end of the molecular chain or in the middle.
And a (meth) acrylate derivative represented by the following general formula (4): R 7 s R 6 t Si (OX) 4- st (4)
(Wherein R 6 is an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, X is as described above, R 7 is a group selected from the options of R 1 and R 3 above, and s is 0 to 0 2 is an integer of 2 and t is an integer of 1 to 3, provided that s + t is 1 to 3.)
Can be produced by hydrosilylation reaction in the presence of a platinum catalyst. The hydrosilylation reaction may be performed according to a conventionally known method.
上記一般式(3)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は直鎖状又は分岐状構造のいずれであってもよい。例えば、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)シクロヘキシルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、1,3−ジメチル−1,3ジシクロヘキシルジシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖シクロヘキシルメチルポリシロキサン・メチルハイドロジェンポリシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・シクロヘキシルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン・シクロヘキシルメチルポリシロキサン・メチルハイドロジェンポリシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖シクロヘキシルメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジシクロヘキシルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・シクロヘキシルメチルポリシロキサン共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位と(CH3)2SiO2/2単位と(C6H11)SiO3/2単位とからなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位と(C6H11)SiO3/2単位とからなる共重合体、(CH3)(C6H11)HSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C6H11)HSiO3/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。 The molecular structure of the organohydrogenpolysiloxane represented by the general formula (3) may be either a linear structure or a branched structure. For example, tris (dimethylhydrogensiloxy) cyclohexylsilane, tris (dimethylhydrogensiloxy) phenylsilane, 1,3-dimethyl-1,3dicyclohexyldisiloxane, trimethylsiloxy group-blocked cyclohexylmethylpolysiloxane / methylhydrogenpolysiloxane at both ends Siloxane copolymer, trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / cyclohexyl hydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-capped dimethylpolysiloxane / cyclohexylmethylpolysiloxane / methylhydrogenpolysiloxane copolymer, both end dimethylhydro Jensiloxy group-blocked cyclohexylmethyl polysiloxane, both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked dicyclohexyl polysiloxane Sun, both terminals with dimethylhydrogensiloxy group dimethylsiloxane-cyclohexyl methylpolysiloxane copolymer, (CH 3) 2 HSiO 1/2 units and (CH 3) and 2 SiO 2/2 units (C 6 H 11) SiO A copolymer comprising 3/2 units, a copolymer comprising (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units and (C 6 H 11 ) SiO 3/2 units, (CH 3 ) (C 6 H 11 ) A copolymer comprising HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units, a copolymer comprising (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units, SiO 4/2 units and (C 6 H 11 ) HSiO 3/2 units. A polymer etc. are mentioned.
中でも、下記に示すオルガノハイドロジェンポリシロキサンが好ましい。
上記式(4)で表される(メタ)アクリレート誘導体としては下記のものが挙げられる。
該(メタ)アクリレート誘導体は従来公知の方法で製造すればよい。例えば、アルケニル基を有するクロロシランと、X−OHで表される(Xは上記の通り)、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を脱塩酸反応することで製造することができる。 The (meth) acrylate derivative may be produced by a conventionally known method. For example, it can be produced by dehydrochlorination of a chlorosilane having an alkenyl group and a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group represented by X—OH (X is as described above).
アルケニル基を有するクロロシランとしては下記のものが挙げられる。
上記式(4)で表される(メタ)アクリレート誘導体として特には下記のものが好ましい。
(A)オルガノポリシロキサンは(メタ)アクリル基を有する有機基を有しているので、紫外線、遠赤外線、電子線、X線、又はγ線等の放射線を照射することにより容易に重合して硬化することができる。(A)オルガノポリシロキサンは、1種を単独で使用しても2種以上を組み合わせて使用してもよい。 (A) Since the organopolysiloxane has an organic group having a (meth) acryl group, it is easily polymerized by irradiation with radiation such as ultraviolet rays, far infrared rays, electron beams, X rays, or γ rays. It can be cured. (A) Organopolysiloxane may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
[(B)光重合開始剤]
(B)光重合開始剤は、(メタ)アクリル基を有するオルガノポリシロキサンの光重合反応を進めるものであればよく、従来公知のものを使用することができる。例えば、ベンゾフェノン等のベンゾイル化合物(又は、フェニルケトン化合物)が好適に使用できる。中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等のカルボニル基のα−位の炭素原子上にヒドロキシ基を有するベンゾイル化合物(又はフェニルケトン化合物)が好ましい。他の光重合開始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビスアシルモノオルガノフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4,−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のオルガノホスフィンオキサイド化合物;イソブチルベンゾインエーテル等のベンゾインエーテル化合物;アセトフェノンジエチルケタール等のケタール化合物;チオキサントン系化合物;及びアセトフェノン系化合物等が使用できる。市販品としては、IRUGACURE(登録商標)シリーズ(BASF社製)、及びKAYACURE(登録商標)シリーズ(日本化薬株式会社製)を挙げることができる。上記(B)光重合開始剤は1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
[(B) Photopolymerization initiator]
(B) The photoinitiator should just advance the photopolymerization reaction of the organopolysiloxane which has a (meth) acryl group, A conventionally well-known thing can be used. For example, a benzoyl compound (or phenyl ketone compound) such as benzophenone can be suitably used. Among them, carbonyls such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, etc. A benzoyl compound (or phenyl ketone compound) having a hydroxy group on the α-position carbon atom of the group is preferred. Other photopolymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bisacyl monoorganophosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4, -trimethylpentylphos Organophosphine oxide compounds such as fin oxide; benzoin ether compounds such as isobutyl benzoin ether; ketal compounds such as acetophenone diethyl ketal; thioxanthone compounds; and acetophenone compounds can be used. Examples of commercially available products include IRUGACURE (registered trademark) series (BASF) and KAYACURE (registered trademark) series (Nippon Kayaku Co., Ltd.). The said (B) photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
(B)成分の量は、上記(A)成分を硬化させるのに有効な量であればよい。(A)成分を硬化させるのに有効な量とは、放射線照射により(A)成分が重合反応して硬化するのに有効な量である。特には、(A)成分100質量部に対して、0.1〜100質量部が好ましく、より好ましくは0.1〜10質量部、更に好ましくは0.5〜10質量部、最も好ましくは1.0〜5.0質量部である。 The amount of the component (B) may be an amount effective for curing the component (A). The amount effective to cure the component (A) is an amount effective to cure the component (A) by polymerization reaction upon irradiation. In particular, 0.1-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 0.1-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-10 mass parts, Most preferably, 1 0.0 to 5.0 parts by mass.
[その他の成分]
本発明のシリコーン樹脂組成物は、上記(A)成分及び(B)成分に加えて、本発明の目的及び効果を損なわない限度において他の成分を適宜配合することができる。例えば、硬化時における収縮率、及び、得られる硬化物の熱膨張係数、機械的強度、耐熱性、耐薬品性、難燃性、熱膨張係数、及びガス透過率等を調整する為の各種添加剤を配合してもよい。
[Other ingredients]
In addition to the above components (A) and (B), the silicone resin composition of the present invention can be appropriately mixed with other components as long as the objects and effects of the present invention are not impaired. For example, various additions for adjusting the shrinkage ratio during curing and the thermal expansion coefficient, mechanical strength, heat resistance, chemical resistance, flame resistance, thermal expansion coefficient, gas permeability, etc. of the resulting cured product An agent may be blended.
該その他の成分としては、例えば、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、石英粉末、ガラス繊維、酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の無機質充填剤;ヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール等のラジカル重合禁止剤(ポットライフ延長剤)等を配合することができる。 Examples of the other components include inorganic fillers such as fumed silica, silica airgel, quartz powder, glass fiber, iron oxide, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate; hydroquinone, methoxyhydroquinone, 2,6-di- A radical polymerization inhibitor (pot life extending agent) such as tert-butyl-p-cresol can be blended.
シリコーン樹脂組成物の調製方法
本発明のシリコーン樹脂組成物は、上記(A)成分、(B)成分、及び、必要に応じてその他の成分を、必要により加熱処理を加えながら、攪拌及び混合等することにより得られる。攪拌等の操作に用いる装置は特に限定されないが、攪拌、加熱装置を備えたライカイ機、3本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。また、これら装置を適宜組み合わせてもよい。本発明のシリコーン樹脂組成物は放射線を照射されることにより速やかに硬化することができ、かつ、得られた硬化剤は優れた耐湿性を有する。
Preparation Method of Silicone Resin Composition The silicone resin composition of the present invention comprises the above component (A), component (B), and other components as necessary, stirring and mixing, etc. while subjecting to heat treatment as necessary. Can be obtained. Although the apparatus used for operations, such as stirring, is not specifically limited, A raikai machine provided with stirring and a heating apparatus, 3 rolls, a ball mill, a planetary mixer etc. can be used. Moreover, you may combine these apparatuses suitably. The silicone resin composition of the present invention can be quickly cured by irradiation with radiation, and the obtained curing agent has excellent moisture resistance.
本発明のシリコーン樹脂組成物に照射する放射線としては、紫外線、遠赤外線、電子線、X線、及びγ線等が使用できる。中でも、装置の手軽さ、扱いやすさ等の観点から、紫外線を使用することが好ましい。紫外線の光源としては、例えば、UVLEDランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアークランプ、及びキセノンランプ等が挙げられる。紫外線はピーク波長200〜450nm、特には320〜390nmを有する紫外線が好ましく、該紫外線の照射量は、例えば、本発明の組成物を1mmの厚みに成形したシートに対して、好ましくは50〜2,400mJ/cm2であり、より好ましくは50〜800mJ/cm2である。本発明のシリコーン樹脂組成物は100mJ/cm2よりも小さいエネルギーの紫外線を照射しても短時間で十分に硬化できる。 As the radiation applied to the silicone resin composition of the present invention, ultraviolet rays, far infrared rays, electron beams, X rays, γ rays and the like can be used. Among these, it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoints of ease of use and ease of handling of the apparatus. Examples of the ultraviolet light source include a UVLED lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, and a xenon lamp. The ultraviolet ray is preferably an ultraviolet ray having a peak wavelength of 200 to 450 nm, particularly 320 to 390 nm. The irradiation amount of the ultraviolet ray is preferably 50 to 2 with respect to, for example, a sheet obtained by molding the composition of the present invention to a thickness of 1 mm. , 400 mJ / cm 2 , more preferably 50-800 mJ / cm 2 . The silicone resin composition of the present invention can be sufficiently cured in a short time even when irradiated with ultraviolet rays having an energy smaller than 100 mJ / cm 2 .
本発明のシリコーン樹脂組成物は、1〜10mmの範囲にある厚さでの水蒸気透過率が20g/mm2day以下、好ましくは15g/m2・day以下、特に好ましくは10g/m2・day以下を有する硬化物を与える。上記水蒸気透過率は、JIS K 7129に準拠して測定した値である。該水蒸気透過率は少なければ少ないほど好ましい。水蒸気透過率が上記上限値超では、吸湿劣化条件において水蒸気が透過するため、例えば金属の上に硬化させた場合に金属界面を腐食させる。また、硬化物が膨潤するため、樹脂自身のクラックや樹脂界面での剥離が発生する。硬化物の水蒸気透過率が上記範囲内にあれば、基材等の防食効果に優れる被膜を形成することができる。 The silicone resin composition of the present invention has a water vapor transmission rate at a thickness in the range of 1 to 10 mm of 20 g / mm 2 day or less, preferably 15 g / m 2 · day or less, particularly preferably 10 g / m 2 · day. A cured product is provided having: The water vapor transmission rate is a value measured according to JIS K 7129. The smaller the water vapor transmission rate, the better. If the water vapor transmission rate exceeds the above upper limit value, water vapor permeates under moisture absorption deterioration conditions, and thus, for example, the metal interface is corroded when cured on metal. Further, since the cured product swells, cracks of the resin itself and peeling at the resin interface occur. If the water vapor transmission rate of the cured product is within the above range, a coating excellent in anticorrosive effect such as a substrate can be formed.
本発明のシリコーン樹脂組成物の硬化物は装置、特に電子装置や電気装置を封止する為に好適に使用することができる。上記の通り、本発明のシリコーン樹脂組成物の硬化物は優れた耐湿性を有するため、該硬化物で封止することにより基材及び電気・電子部品等の腐食を抑制する効果を有する硬化被膜を形成でき、信頼性に優れた装置を提供できる。特に、本発明のシリコーン樹脂組成物は小さいエネルギーの放射線を照射した場合でも短時間で十分に硬化できるため、紫外線等の放射線の影響を受けやすい液晶電極、有機EL電極、フラットパネルディスプレイ電極、及びプラズマディスプレイ電極等の保護用コーティング剤、並びに各種電気及び電子部品等の保護用コーティング剤又は封止剤として有用である。 The cured product of the silicone resin composition of the present invention can be suitably used for sealing devices, particularly electronic devices and electrical devices. As described above, since the cured product of the silicone resin composition of the present invention has excellent moisture resistance, the cured film has an effect of suppressing corrosion of the base material and electric / electronic parts by sealing with the cured product. And an apparatus with excellent reliability can be provided. In particular, since the silicone resin composition of the present invention can be sufficiently cured in a short time even when irradiated with low energy radiation, a liquid crystal electrode, an organic EL electrode, a flat panel display electrode, and It is useful as a protective coating agent for plasma display electrodes and the like, and as a protective coating agent or sealant for various electric and electronic parts.
以下、実施例と比較例をあげて本発明を更に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。なお、以下において「%」は質量%を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is further demonstrated, this invention is not limited to the following Example. In the following, “%” means mass%.
[合成例1]
オルガノハイドロジェンポリシロキサン1の合成
2Lのセパラブルフラスコに、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン470.9g(2.5mоl)、及びアセトニトリル14.5gを加え、攪拌し、氷冷して内温10℃以下にした。次いで、該セパラブルフラスコに濃硫酸28.9gを滴下し、次いで水99gを滴下し、最後に(HSiMe2)2O 251.9g(1.9mоl)を加え、終夜攪拌した。廃酸分離を行い、水洗し、減圧留去を行い、下記構造を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン1を得た。該オルガノハイドロジェンポリシロキサンの水素ガス発生量は96.46ml/g(0.4306mоl/100g)であった。
Synthesis of organohydrogenpolysiloxane 1 To a 2 L separable flask was added 470.9 g (2.5 mol) of cyclohexylmethyldimethoxysilane and 14.5 g of acetonitrile, and the mixture was stirred and cooled to an internal temperature of 10 ° C. or lower. . Next, 28.9 g of concentrated sulfuric acid was added dropwise to the separable flask, then 99 g of water was added dropwise. Finally, 251.9 g (1.9 mol) of (HSiMe 2 ) 2 O was added and stirred overnight. Waste acid separation was carried out, followed by washing with water and distillation under reduced pressure to obtain organohydrogenpolysiloxane 1 having the following structure. The amount of hydrogen gas generated from the organohydrogenpolysiloxane was 96.46 ml / g (0.4306 mol / 100 g).
[合成例2]
オルガノハイドロジェンポリシロキサン2の合成
2Lのセパラブルフラスコに、シクロヘキシルトリメトキシシラン449.6g(2.2mоl)、及び(HSiMe2)2O 443.3g(3.3mоl)を加え、攪拌し、氷冷して内温10℃以下にした。次いで、該セパラブルフラスコに濃硫酸35.7gを滴下し、次いで水110.5gを滴下し、終夜攪拌した。廃酸分離を行い、水洗し、減圧留去を行い、下記構造を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン2を得た。該オルガノハイドロジェンポリシロキサンの水素ガス発生量は181.51ml/g(0.810mоl/100g)であった。
Synthesis of organohydrogenpolysiloxane 2 To a 2 L separable flask, 449.6 g (2.2 mol) of cyclohexyltrimethoxysilane and 443.3 g (3.3 mol) of (HSiMe 2 ) 2 O were added, stirred, and iced. The inside temperature was 10 ° C. or lower by cooling. Next, 35.7 g of concentrated sulfuric acid was added dropwise to the separable flask, then 110.5 g of water was added dropwise and stirred overnight. Waste acid separation was carried out, washed with water, and distilled off under reduced pressure to obtain organohydrogenpolysiloxane 2 having the following structure. The amount of hydrogen gas generated from the organohydrogenpolysiloxane was 181.51 ml / g (0.810 mol / 100 g).
[合成例3]
(メタ)アクリレート誘導体1の合成
1Lのセパラブルフラスコに、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業株式会社製、商品名:V#300)149.2g(0.5mоl)、トルエン49.7g、及びトリエチルアミン75.9g(0.75mоl)を加え、攪拌し、内温10℃以下まで氷冷した。次いで、該セパラブルフラスコにビニルジメチルクロロシラン90.5g(0.75モル)を滴下し、滴下終了後、2時間攪拌した。攪拌終了後、生成したトリエチルアミンの塩酸塩をろ過した。ろ液を水洗した後、減圧留去を行い、下記構造を有する(メタ)アクリレート誘導体1を得た。
Synthesis of (meth) acrylate derivative 1 In a 1 L separable flask, 149.2 g (0.5 mol) of pentaerythritol triacrylate (trade name: V # 300, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), 49.7 g of toluene, and 75.9 g (0.75 mol) of triethylamine was added, stirred, and ice-cooled to an internal temperature of 10 ° C. or lower. Next, 90.5 g (0.75 mol) of vinyldimethylchlorosilane was added dropwise to the separable flask, and the mixture was stirred for 2 hours after the completion of the addition. After the stirring, the produced triethylamine hydrochloride was filtered. The filtrate was washed with water and then distilled off under reduced pressure to obtain a (meth) acrylate derivative 1 having the following structure.
[合成例4]
(メタ)アクリレート誘導体2の合成
1Lのセパラブルフラスコに、2―ヒドロキシ―1―アクリロキシ―3―メタクリロキシプロパン(新中村化学工業株式会社製、商品名:NKエステル701A)114.1g(0.5mоl)、トルエン38g、及びトリエチルアミン75.9g(0.75mоl)を加え、攪拌し、内温10℃以下まで氷冷した。次いで、該セパラブルフラスコにビニルジメチルクロロシラン90.5g(0.75モル)を滴下し、滴下終了後、2時間攪拌した。攪拌終了後、生成したトリエチルアミンの塩酸塩をろ過した。ろ液を水洗した後、減圧留去を行い、下記構造を有する(メタ)アクリレート誘導体2を合成した。
Synthesis of (meth) acrylate derivative 2 In a 1 L separable flask, 114.1 g of 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacryloxypropane (trade name: NK ester 701A, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 5 mol), 38 g of toluene, and 75.9 g (0.75 mol) of triethylamine were added, stirred, and ice-cooled to an internal temperature of 10 ° C. or lower. Next, 90.5 g (0.75 mol) of vinyldimethylchlorosilane was added dropwise to the separable flask, and the mixture was stirred for 2 hours after the completion of the addition. After the stirring, the produced triethylamine hydrochloride was filtered. The filtrate was washed with water and then distilled off under reduced pressure to synthesize a (meth) acrylate derivative 2 having the following structure.
[合成例5]
オルガノポリシロキサン1の合成
3Lのセパラブルフラスコに、合成例3で得た(メタ)アクリレート誘導体1を256.4g(1.0mоl)、トルエン128.2g、及び0.5%塩化白金酸トルエン溶液0.44gを加え、合成例1で得たオルガノハイドロジェンポリシロキサン1を897.7g(2.2mоl)滴下し、滴下終了後、80℃で3時間攪拌した。攪拌終了後、減圧留去を行い、下記構造を有するオルガノポリシロキサン1を得た。
Synthesis of organopolysiloxane 1 256.4 g (1.0 mol) of (meth) acrylate derivative 1 obtained in Synthesis Example 3, 128.2 g of toluene, and 0.5% toluene solution of chloroplatinic acid in a 3 L separable flask 0.44 g was added, and 897.7 g (2.2 mol) of organohydrogenpolysiloxane 1 obtained in Synthesis Example 1 was added dropwise. After completion of the addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours. After completion of the stirring, distillation under reduced pressure was performed to obtain organopolysiloxane 1 having the following structure.
[合成例6]
オルガノポリシロキサン2の合成
3Lのセパラブルフラスコに、合成例4で得た(メタ)アクリレート誘導体2を368.6g(1.0mоl)、トルエン184.3g、及び0.5%塩化白金酸トルエン溶液0.5gを加え、合成例1で得たオルガノハイドロジェンポリシロキサン1を897.7g(2.2mоl)滴下し、滴下終了後、80℃で3時間攪拌した。攪拌終了後、減圧留去を行い、下記構造を有するオルガノポリシロキサン2を得た。
Synthesis of organopolysiloxane 2 368.6 g (1.0 mol) of (meth) acrylate derivative 2 obtained in Synthesis Example 4, 184.3 g of toluene, and 0.5% toluene solution of chloroplatinic acid in a 3 L separable flask 0.57.7 g was added, 897.7 g (2.2 mol) of organohydrogenpolysiloxane 1 obtained in Synthesis Example 1 was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours. After completion of the stirring, distillation under reduced pressure was performed to obtain organopolysiloxane 2 having the following structure.
[合成例7]
オルガノポリシロキサン3の合成
3Lのセパラブルフラスコに、合成例4で得た(メタ)アクリレート誘導体2を368.6g(1.0mоl)、トルエン184.3g、及び0.5%塩化白金酸トルエン溶液0.5gを加え、合成例2で得たオルガノハイドロジェンポリシロキサン2を1183.4g(2.2mоl)滴下し、滴下終了後、80℃で3時間攪拌した。攪拌終了後、減圧留去を行い、下記構造を有するオルガノポリシロキサン3を得た。
Synthesis of organopolysiloxane 3 In a 3 L separable flask, 368.6 g (1.0 mol) of (meth) acrylate derivative 2 obtained in Synthesis Example 4, 184.3 g of toluene, and 0.5% toluene solution of chloroplatinate 0.53.4 g was added, and 1183.4 g (2.2 mol) of organohydrogenpolysiloxane 2 obtained in Synthesis Example 2 was added dropwise. After completion of the addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours. After completion of the stirring, distillation under reduced pressure was performed to obtain organopolysiloxane 3 having the following structure.
[実施例1〜5]
上記合成例5〜7で得られたオルガノポリシロキサン1〜3及び下記表1に示す(B)光重合開始剤を、表1に示す組成で混合してシリコーン樹脂組成物を調製した。
[Examples 1 to 5]
The organopolysiloxanes 1 to 3 obtained in Synthesis Examples 5 to 7 and (B) photopolymerization initiator shown in Table 1 below were mixed in the composition shown in Table 1 to prepare a silicone resin composition.
2)KAYACURE(登録商標)BMS:4−ベンゾイル−4’−メチルフェニルサルファイド、日本化薬株式会社製
2) KAYACURE (registered trademark) BMS: 4-benzoyl-4′-methylphenyl sulfide, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
[比較例1、2]
比較例1では、オルガノポリシロキサン1をウレタンアクリレート(UX−4101、日本化薬社製)に変更した他は、実施例1と同様にして組成物を調製した。比較例2では、オルガノポリシロキサン1を下記式(7)で表される、特開平11−302348に記載されているオルガノポリシロキサン4に変更した他は、実施例1と同様にして組成物を調製した。
In Comparative Example 1, a composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that organopolysiloxane 1 was changed to urethane acrylate (UX-4101, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). In Comparative Example 2, the composition was changed in the same manner as in Example 1 except that the organopolysiloxane 1 was changed to the organopolysiloxane 4 represented by the following formula (7) and described in JP-A-11-302348. Prepared.
各物性の評価方法を以下に示す。
・硬度
各硬化物の硬度をJIS K 6301に準拠し、スプリング式A型試験機を使用して測定した。
・水蒸気透過率
厚さ1mmを有する各硬化物の水蒸気透過率をJIS K 7129に準拠して測定した。
・表面タック性
各硬化物表面のタックの有無を目視で観察した。
The evaluation method of each physical property is shown below.
-Hardness The hardness of each cured product was measured using a spring type A tester in accordance with JIS K6301.
Water vapor transmission rate The water vapor transmission rate of each cured product having a thickness of 1 mm was measured in accordance with JIS K 7129.
-Surface tackiness The presence or absence of tackiness on the surface of each cured product was visually observed.
実施例1〜5及び比較例1、2の各組成物を、深さ1mm、幅120mm、長さ170mmの金型に流し込み、メタルハライド水銀灯2灯を備えるコンベア炉内(照度:40W/cm2)で2秒間、波長200nm〜450nmを有する紫外線を照射し(エネルギー量:200mJ/cm2)、硬化物を得た。紫外線照射量は、コンベアの速度及び高さを調整して、照度計で200mJ/cm2になるように調整した。該硬化物の硬度、水蒸気透過率、及び表面タック性を上記各方法に従い測定した。結果を表2に示す。 Each composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was poured into a mold having a depth of 1 mm, a width of 120 mm, and a length of 170 mm, and in a conveyor furnace provided with two metal halide mercury lamps (illuminance: 40 W / cm 2 ). Then, ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm to 450 nm were irradiated for 2 seconds (energy amount: 200 mJ / cm 2 ) to obtain a cured product. The ultraviolet irradiation amount was adjusted to 200 mJ / cm 2 with an illuminometer by adjusting the speed and height of the conveyor. The hardness, water vapor transmission rate, and surface tackiness of the cured product were measured according to the above methods. The results are shown in Table 2.
低いエネルギー照射での硬化
実施例1〜5及び比較例1、2の各組成物を、深さ1mm、幅120mm、長さ170mmの金型に流し込み、メタルハライド水銀灯2灯を備えるコンベア炉内(照度:40W/cm2)で2秒間、波長200〜450nmを有する紫外線を照射し(エネルギー量:50mJ/cm2)、硬化物を得た。紫外線照射量は、コンベアの速度、高さを調整して、照度計で50mJ/cm2になるように調整した。該硬化物の硬度、水蒸気透過率、及び表面タック性を上記各方法に従い測定した。結果を表3に示す。
Curing with low energy irradiation Each composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was poured into a mold having a depth of 1 mm, a width of 120 mm, and a length of 170 mm, in a conveyor furnace equipped with two metal halide mercury lamps (illuminance : 40W / cm 2) at 2 seconds, irradiated with ultraviolet rays having a wavelength 200 to 450 nm (energy: 50 mJ / cm 2), to obtain a cured product. The ultraviolet irradiation amount was adjusted to 50 mJ / cm 2 with an illuminometer by adjusting the speed and height of the conveyor. The hardness, water vapor transmission rate, and surface tackiness of the cured product were measured according to the above methods. The results are shown in Table 3.
表2に示される通り、本発明のシリコーン樹脂組成物は、水蒸気透過性に優れた硬化物を提供する。また、表3に示される通り、本発明のシリコーン樹脂組成物は、放射線の照射エネルギーが小さい場合であっても短時間で十分に硬化することができ、かつ、水蒸気透過性に優れた硬化物を提供することができる。 As shown in Table 2, the silicone resin composition of the present invention provides a cured product excellent in water vapor permeability. In addition, as shown in Table 3, the silicone resin composition of the present invention can be cured sufficiently in a short time even when the irradiation energy of radiation is small, and is a cured product excellent in water vapor permeability. Can be provided.
本発明のシリコーン樹脂組成物は、装置、特に電気装置及び電子装置の封止剤又は被覆剤として好適に使用することができる。特に、小さいエネルギーの放射線を照射した場合であっても短時間で十分に硬化できるため、紫外線等の放射線の影響を受けやすい液晶電極、有機EL電極、フラットパネルディスプレイ電極、及びプラズマディスプレイ電極等の保護用コーティング剤として、並びに各種電気及び電子部品の保護用コーティング剤として極めて有用である。 The silicone resin composition of the present invention can be suitably used as a sealant or coating agent for devices, particularly electrical devices and electronic devices. In particular, even when irradiated with low-energy radiation, it can be cured sufficiently in a short time, so liquid crystal electrodes, organic EL electrodes, flat panel display electrodes, plasma display electrodes, etc. that are easily affected by radiation such as ultraviolet rays It is extremely useful as a protective coating agent and as a protective coating agent for various electric and electronic parts.
Claims (8)
(式(1)中、R1は、互いに独立に、炭素数4〜8のシクロアルキル基であり、R2は−OXで示される基であり、Xは、互いに独立に、アクリル基又はメタクリル基を有する1価の有機基であり、R3は、互いに独立に、シクロアルキル基でない、置換もしくは非置換の、炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、Qは、互いに独立に、酸素原子又は炭素数1〜10のアルキレン基であり、a、b、cは、互いに独立に、0〜3の整数であり、但しケイ素原子ごとにa、b、cは夫々a+b+c=3を満たし、dは、互いに独立に、1または2の整数であり、eは、互いに独立に、0または1の整数であり、但しケイ素原子ごとにd、eは夫々d+e=2を満たし、nは0〜40の整数であり、R4は、互いに独立に、R 1 及びR3の選択肢の中から選ばれる基であり、上記式(1)におけるR 4 の少なくとも1がR 1 の選択肢の中から選ばれる基であり、R5は、互いに独立に、下記式(2)で表される基であり、
式(2)中、R1、R2、R3、R4、R5、Q、a、b、c、d、及びeは上記の通りであり、mは0〜15の整数であり、
但し、該オルガノポリシロキサンは1分子中に少なくとも1のR 2を有する)、及び
(B)光重合開始剤 (A)成分を硬化させる有効量
を含有する、シリコーン樹脂組成物。 (A) Organopolysiloxane represented by the following general formula (1)
(In the formula (1), R 1 are each independently a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms, R 2 is a group represented by -OX, X, independently of one another, acryl or methacryl R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that is not a cycloalkyl group and is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, and Q is independently of each other. , An oxygen atom or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a, b and c are each independently an integer of 0 to 3, provided that a, b and c are each a + b + c = 3 for each silicon atom. D is an integer of 1 or 2 independently of each other, e is an integer of 0 or 1 independently of each other, provided that d and e satisfy d + e = 2 for each silicon atom, and n is is an integer of 0 to 40, R 4 independently of one another, R 1 及 beauty R 3 Wherein at least one of R 4 in the above formula (1) is a group selected from the options of R 1 , and R 5 is independently selected from the following formula (2): A group represented by
In formula (2), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , Q, a, b, c, d, and e are as described above, m is an integer of 0 to 15,
However, the organopolysiloxane has at least one R 2 in one molecule), and (B) a photopolymerization initiator (A) a silicone resin composition containing an effective amount for curing the component.
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