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JP5752889B2 - 転写方法 - Google Patents

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  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
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Description

本発明は、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写方法に関する。
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型(モールド)を作製し、このモールドを被成型品に所定の圧力で押圧して、モールドに形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている(たとえば、非特許文献1参照)。ハードディスクやCD、DVDなど回転式の記憶装置では、最近、高密度のデータをディスクに形成するための記憶媒体(記録媒体)を成型する手段として、ナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。
ナノオーダーの微細な転写パターンを低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたナノインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とUVインプリント法とに分類される。
熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂(熱可塑性樹脂)が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂とをガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。
UVインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、紫外線硬化性樹脂に型を押し付けて紫外光を照射する。適当な時間、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き戻す。
図6は、特許文献1に記載された従来のUVインプリント法の手順を示す。図6に示すように、平板状の基板110の上面に未硬化の紫外線硬化樹脂120が所定の厚さで塗布されており、この紫外線硬化樹脂120に対してモールド130が対向している。モールド130は透明なシート状となっており、その下面131には、微細な転写パターン(図示せず)が形成されている。モールド130は下面131が基板110上の紫外線硬化樹脂120に対向するように配置される。
又、押圧部材としてローラ140が用いられる。ローラ140は、モールド130の上面132に対向するように配置され、図示しない押圧源に連結されることによりモールド130を所定の圧力Pで紫外線硬化樹脂120に押圧する。押圧時の圧力Pは、モールド130の下面131における微細パターンの中に紫外線硬化樹脂120が入り込むように設定されるものである。パターン転写に際しては、ローラ140は矢印Rで示す時計方向に回転可能となっている。
図6に示すように、基板110上の紫外線硬化樹脂120にモールド130の下面131を対向させると共にローラ140でモールド130の上面132を押圧した状態とし、この状態で圧力Pでモールド130を押圧しながらローラ140を矢印Mで示す方向に直線的に移動させる(図7参照)。この移動と共に、ローラ140も矢印R方向に回転させる。そして、ローラ140によって押圧されている紫外線硬化樹脂120の部位に、紫外線を照射して、上記部位における紫外線硬化樹脂120を硬化している。
なお、ローラ140を固定し、基板110、紫外線硬化樹脂120及びモールド130の積層体の全体をM方向との逆方向に直線的に移動させてもよい。
ローラ140のM方向の移動と共にローラ140の押圧力によりモールド130の下面131の微細なパターンに紫外線硬化樹脂120が入り込み、モールド130の転写パターンが紫外線硬化樹脂120の上面に転写される。これにより、紫外線硬化樹脂120の上面が転写パターン形成面150となる(図8参照)。
そして、硬化した紫外線硬化樹脂120とモールド130とを剥がして作業が終了する。なお、図8に示す状態で紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂120を一斉に硬化させる場合もある。
以上のナノインプリントにおいては、型に形成されている微細な転写パターンを紫外線硬化樹脂等の被成型品に転写するとき、被成型品に気泡が発生することを防止するために、型と被成型品とをカバーで覆って真空成型室内で転写を行う構成の転写装置が知られている(たとえば、特許文献2参照)。
特開2007−19451号公報 特開2006−318973号公報
Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
上述したUVインプリント法においては、転写パターンを高精度に転写させるためには、押圧部材であるローラ140の直線的な移動を高精度に制御する必要がある。図7は、ローラ140の直線的な移動が高精度になされない場合のローラ140の走行状態を示し、ローラ140がモールド130上で上下方向に蛇行しながら走行し、走行精度が悪いものとなっている。そして、このようにローラ140の走行精度が悪い場合には、モールド130の下側の紫外線硬化樹脂120に影響し、図8に示すように紫外線硬化樹脂120の膜厚が変動する等の悪影響を与える。
また、図7や図8に示す紫外線硬化樹脂120の膜厚変動の要因として、ローラ140の円筒度の誤差やローラ140の回転中心の芯ぶれを掲げることができる。ローラ140を高精度に移動させて紫外線硬化樹脂120の膜厚を一定なものにするためには、ローラ140を支持する軸受等の支持構造や、移動のためのガイドレール等の移動構造を高精度とする必要がある。また、紫外線硬化樹脂120の膜厚を一定なものにするためには、ローラ140の円筒度やローラ140の回転中心の芯ぶれを良好なものにする必要がある。
しかし、ナノレベルでのインプリントを行う転写装置においては、ローラ140やローラ140を移動させる機構を高精度に作製することが難しい問題がある。かかる問題は、ローラ140を固定し基板110を直線的に移動させる構造であっても、基板110の高精度な直線移動がなされない場合、同様に発生している。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ローラや基板の移動の移動精度等が悪い場合であっても、その精度を簡単に補償することができ、紫外線硬化樹脂の膜厚変動を抑制することが可能な転写方法を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、第1の基板上に設けられた第1の紫外線硬化樹脂に対してシート状の第1のモールドを対向させた後、ローラを前記第1のモールドに押圧して接触させた状態で前記ローラ又は前記第1の基板の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら前記ローラで押圧している前記第1の紫外線硬化樹脂の部分を硬化させることにより押圧部材移動面が形成されたダミー成形体を作製するダミー成形体作製段階と、第2の基板上に設けられた第2の紫外線硬化樹脂に対して微細な転写パターンが形成されたシート状の第2のモールドのパターン形成面を対向させた後、前記第2のモールドと反対側に前記押圧部材移動面が位置するように前記ダミー成形体を前記第2のモールド上に載置し、前記ローラを前記押圧部材移動面に押圧した状態で前記ローラ又は前記第2の基板の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させる期間中、前記ローラに対する前記ダミー成形体の位置を前記ダミー成形体作成段階での場合に一致させ、前記ローラを前記押圧部材移動面に対して相対的に移動させながら前記第2の紫外線硬化樹脂を硬化させて前記第2のモールドの転写パターンを前記第2の紫外線硬化樹脂に転写する転写段階と、を備えていることを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の転写方法であって、前記ダミー成形体は、前記第1の紫外線硬化樹脂であり、前記押圧部材移動面が前記第1の紫外線硬化樹脂に形成されていることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1記載の転写方法であって、前記ダミー成形体は、前記第1の紫外線硬化樹脂及び前記第1のモールドが一体化されたものであり、前記押圧部材移動面が前記第1のモールドに形成されていることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項1記載の転写方法であって、前記ダミー成形体は、前記第1の基板、前記第1の紫外線硬化樹脂及び前記第1のモールドが一体化されたものであり、前記押圧部材移動面が前記第1のモールドに形成されていることを特徴とする。
本発明によれば、押圧部材移動面が形成されたダミー成形体を用いて転写するため、ローラや基板の移動の移動精度等が悪い場合であっても、その精度を簡単に補償することができ、紫外線硬化樹脂の膜厚変動を抑制することができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態における成形体作製段階を示す正面図である。 成形体作製段階で作製されたダミー成形体を示す正面図である。 一実施形態における転写段階を示す正面図である。 本発明の別の実施形態における転写段階を示す正面図である。 本発明のさらに別に実施形態における転写段階を示す正面図である。 従来の転写方法を示す正面図である。 従来の転写方法におけるローラの走行精度を説明する正面図である。 従来の成形方法におけるローラの悪影響を示す正面図である。
図1〜図3は、ナノインプリント(微細転写)を行うための本発明の一実施形態の転写方法を示し、図1は、ダミー成形体作製段階を示す正面図、図2は、ダミー成形体作製段階で作製されたダミー成形体6を示す正面図、図3は、転写段階を示す正面図である。
この実施形態の転写方法は、ダミー成形体作製段階と、転写段階とからなり、転写段階では、ダミー成形体作製段階で得たダミー成形体を用いて転写を行うものである。
ダミー成形体作製段階では、第1の基板1と、第1の紫外線硬化樹脂2と、第1のモールド3と、ローラ7とが用いられる。第1の基板1は平板状となっており、その上面に未硬化の第1の紫外線硬化樹脂2が所定の厚さで塗布される。未硬化の紫外線硬化樹脂2は、低粘性のゾルとなっており、薄膜程度の厚さとなるように第1の基板1に塗布される。
第1のモールド3は、紫外光が透過可能な透明なシート状となっており、第1の紫外線硬化樹脂2に下面が対向するように配置される。この第1のモールド3の上面には、ローラ7が接触するように配置される。
ローラ7は、第1のモールド3を第1の紫外線硬化樹脂2に押圧する押圧部材であり、所定の圧力で第1のモールド3を押圧して第1のモールド3と接触させる。ローラ7の圧力は、後述する転写段階での圧力とほぼ同等となるように調整される。ローラ7は、第1のモールド3を押圧しながら第1のモールド3の上面を移動するものであり、押圧しながらの移動によって第1のモールド3の下側の第1の紫外線硬化樹脂2に押圧部材移動面5が形成される。この場合、ローラ7は、時計方向に回転しながら移動する。なお、このようなダミー成形体作製段階においては、ローラ7は第1のモールド3を押圧することなく、或いは小さな押圧力で接触させてもよい。
この実施形態のダミー成形体作製段階においては、図1に示すように、第1の基板1上に塗布された薄膜状の第1の紫外線硬化樹脂2に対し、第1のモールド3の下面を対向させた状態とし、第1のモールド3の上面に接触して押圧するようにローラ7を配置する。そして、所定の圧力で第1のモールド3を押圧しながらローラ7を矢印Mで示す方向に移動させる。ローラ7の移動の際には、ローラ7は、転写装置自体の精度、転写装置の機械癖、その他の原因によって高精度な直線的な移動が難しく、これによりローラ7は上下方向に蛇行しながら第1のモールド3上面を走行する。従って、第1のモールド3の下側の第1の紫外線硬化樹脂2にこの蛇行が伝達され、第1の紫外線硬化樹脂2の上面に、ローラ7の走行精度に応じた凹凸が形成される。
かかるローラ7の移動の際には、第1のモールド3の上方から紫外光を照射する。照射された紫外光は透明な第1のモールド3を透過して第1の紫外線硬化樹脂2に達して硬化させる。この場合、紫外光の照射は、ローラ7の移動と同期して行うようになっている。すなわち、ローラ7で押圧している第1の紫外線硬化樹脂2の部位(図1の紙面に直交する方向に直線的に延びている部位)に、紫外線(図1の紙面に直交する方向に直線的に延びており、ローラ7とともに移動する紫外線の光線束)を照射して、上記押圧している部位の紫外線硬化樹脂2を硬化させるようになっている。この紫外線の照射によって、第1の紫外線硬化樹脂2が硬化する。この第1の紫外線硬化樹脂2の硬化により、第1の紫外線硬化樹脂2を母体としたダミー成形体6が作製される。
図2は、以上のダミー成形体作製段階で作製されたダミー成形体6を示し、第1紫外線硬化樹脂2における第1のモールド3に対向した上面には、押圧部材移動面5が形成される。ダミー成形体6の押圧部材移動面5は、ローラの走行精度等に応じた凹凸によって形成されており、このため、ダミー成形体6は膜厚の均一性が悪いものとなっているが、このような押圧部材移動面5を形成することにより、後述するように転写段階におけるローラの移動精度を補償することができる。なお、ダミー成形体6の下面は、平板状の第1の基板1に支持されていることから平面状となっている。かかるダミー成形体6を次の転写段階で用いることにより、ローラ7の走行精度のばらつきをキャンセルすることができ、第2の紫外線硬化樹脂12の均一な膜厚精度を確保することができる。
図3は、図1に続く転写段階を示す。転写段階では、第2の基板11と、第2の紫外線硬化樹脂12と、第2のモールド13と、ローラ7と、ダミー成形体6とが用いられる。
第2の基板11は平板状となっており、その上面に未硬化の第2の紫外線硬化樹脂12が所定の厚さで塗布される。未硬化の第2の紫外線硬化樹脂12は、低粘性のゾルとなっており、薄膜程度の厚さとなるように第1の基板11に塗布される。
第2のモールド13は、紫外光が透過可能な透明なシート状となっており、その下面14にはナノインプリントを行うための微細な転写パターン(図示せず)が形成されている。転写パターンは、多数の微細な凹凸で形成されており、その高さやピッチが可視光線の波長程度か若しくは可視光線の波長よりもわずかに大きいか、わずかに小さいパターンとなっている。第2のモールド13は、第の基板11上に塗布された第2の紫外線硬化樹脂12に下面14が対向するように配置される。第2のモールド13の上面15は平面となっており、ダミー成形体6が上面15に載置される。
ダミー成形体6は、平面となっている下面が第2のモールド13の上面に接触するように配置される。すなわち、ダミー成形体6は、押圧部材移動面5が第2のモールド13と反対側に位置するように第2のモールド13の上に載置される。なお、ダミー成形体6は、第2のモールド13の下面14に形成されている転写パターンを覆うような広さで第2のモールド13上に載置されるものである。
ダミー成形体6の上には、ローラ7が配置される。ローラ7は、上述したダミー成形体作製段階で用いたローラが使用される。すなわち、ダミー成形体作製段階及び転写段階では、同じ転写装置を用いるものである。また、ローラ7に対するダミー成形体6の位置(図3の紙面に直交する方向の位置と図3の左右方向の位置)は、上述したダミー成形体作製段階の場合と一致しているものとする。
ローラ7は、第2のモールド13の転写パターンを第2の紫外線硬化樹脂12に転写するために第2のモールド13を第2の紫外線硬化樹脂12に押圧する部材であり、ダミー成形体6を介して所定の圧力Pで第2のモールド13を押圧する。圧力Pは、第2のモールド13の転写パターン中に第2の紫外線硬化樹脂12が入り込むように設定される。パターン転写に際しては、ローラ7は矢印Rで示すように時計方向に回転する。
転写段階においては、図3に示すように、第2の基板11上に塗布された薄膜状の第2の紫外線硬化樹脂12に対し、第2のモールド13の下面14を対向させて載置する。そして、第2のモールド13の上面15に対してダミー成形体6を載置する。ダミー成形体6は、平面状の下面が第2のモールド13の上面に接触するように第2のモールド13に載置される。一方、ダミー成形体6の押圧部材移動面5は上面に位置し、ローラ7がこの押圧部材移動面5に対向する。
ダミー成形体6の押圧部材移動面5に対し、ローラ7が配置される。ローラ7は、移動始端でダミー成形体6と接触するように配置される。この移動始端からローラ7は矢印R方向に回転し、且つ所定の圧力Pでダミー成形体6を押圧しながら矢印Nで示す方向に押圧部材移動面5上を移動する。ダミー成形体6は膜厚の均一性が悪く、その押圧部材移動面5は、ローラ7の走行精度に応じた凹凸が形成されているため、押圧部材移動面5上をローラ7が移動することにより、ローラ7の走行精度のばらつきをキャンセルすることができる。これにより、ローラ7の移動精度を補償することができる。
次に、ダミー成形体6及び第2のモールド13の上方から紫外光を照射する。照射された紫外光は、共に透明なダミー成形体6及び第2のモールド13を透過して第2の紫外線硬化樹脂12に達し、第2の紫外線硬化樹脂12を硬化させる。この場合、ダミー成形体6を硬化させる場合と同様にして、ローラ7の移動と同期して光源を移動させて、紫外光を第2の紫外線硬化樹脂12に照射する。
この後、モールド13を硬化した第2の紫外線硬化樹脂12から剥離する。なお、モールド13を第2の紫外線硬化樹脂12が硬化した部位から随時剥離するようにしてもよい。すなわち、モールド13と硬化した紫外線硬化樹脂12との部分的な剥離を、紫外光の移動に伴って順に行ってもよい。
なお、第2の紫外線硬化樹脂12の全体への押圧が終了した後に、第2の紫外線硬化樹脂12の全体に紫外光を照射して第2の紫外線硬化樹脂12を硬化させてもよい。
このような実施形態では、ダミー成形体作製段階においてダミー成形体6に押圧部材移動面5を形成した後、転写段階ではダミー成形体6を第2のモールド13上に載置し、その押圧部材移動面5に沿ってローラ7を移動させるため、ローラ7の走行精度をキャンセルすることができ、ローラ7の走行精度を補償できる。これにより第2の紫外線硬化樹脂12を均一な膜厚精度とすることができる。
図4及び図5は、本発明の他の実施形態をそれぞれ示し、図1〜図3で示した実施形態と同一の部材には同一の符号を付して対応させてある。
図4に示す実施形態においては、ダミー成形体作製段階で用いた第1の紫外線硬化樹脂2及び第1のモールド3が一体化したものをダミー成形体6Aとして用いるものである。この実施形態のダミー成形体6Aにおいては、第1の紫外線硬化樹脂2の下面が平面状となっており、この平面状の下面を第2のモールド13の平面状の上面に接触させ、この接触状態でダミー成形体6Aの全体を第2のモールド13上に載置する。
ダミー成形体6Aにおいては、第1のモールド3における上面が凹凸状の押圧部材移動面8となっており、ローラ7はこの押圧部材移動面8に対して矢印N方向に移動しながらダミー成形体6Aを介して第2のモールド13を第2の紫外線硬化樹脂12に押圧する。このことにより、第2のモールド13の転写パターンを第2の紫外線硬化樹脂12に転写する。図4に示す実施形態においても、ダミー成形体6Aの押圧部材移動面8に対してローラ7を移動させるため、押圧部材移動面8がローラ7の走行精度をキャンセルすることができ、第2の紫外線硬化樹脂12を均一な膜厚精度とすることができる。
図5に示す実施形態においては、ダミー成形体作製段階で用いた第1の基板1、第1の紫外線硬化樹脂2及び第1のモールド3が一体化したものをダミー成形体6Bとして用いるものである。ダミー成形体6Bにおいては、第1の基板1の下面が平面状となっており、この平面状の下面を第2のモールド13の平面状の上面に接触させ、この接触状態でダミー成形体6Bの全体を第2のモールド13上に載置する。ダミー成形体6Bにおいては、第1のモールド3における上面が凹凸状の押圧部材移動面9となっており、ローラ7はこの押圧部材移動面9に対して矢印N方向に移動しながらダミー成形体6Bを介して第2のモールド13を第2の紫外線硬化樹脂12に押圧する。このことにより、第2のモールド13の転写パターンを第2の紫外線硬化樹脂12に転写する。図5に示す実施形態においても、ダミー成形体6Bの押圧部材移動面9に対してローラ7を移動させるため、押圧部材移動面9によってローラ7の走行精度をキャンセルすることができ、第2の紫外線硬化樹脂12を均一な膜厚精度とすることができる。
以上の実施形態では、ダミー成形体作製段階及び転写段階においてローラ7が第1の基板1及び第2の基板11に対して移動しているが、ローラ7を固定し、第1の基板1及び第2の基板11をローラ7に対して移動させてもよい。これに限らず、ローラ7、第1の基板1、第2の基板11を同時に移動させてもよい。さらに、成形体作製段階においては、第2のモールド13と同様に微細な転写パターンを下面に形成した第1のモールド3を用いてもよい。
1 第1の基板
2 第1の紫外線硬化樹脂
3 第1のモールド
5、8、9 押圧部材移動面
6、6A、6B ダミー成形体
7 ローラ
11 第2の基板
12 第2の紫外線硬化樹脂
13 第2のモールド

Claims (4)

  1. 第1の基板上に設けられた第1の紫外線硬化樹脂に対してシート状の第1のモールドを対向させた後、ローラを前記第1のモールドに押圧して接触させた状態で前記ローラ又は前記第1の基板の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら前記ローラで押圧している前記第1の紫外線硬化樹脂の部分を硬化させることにより押圧部材移動面が形成されたダミー成形体を作製するダミー成形体作製段階と、
    第2の基板上に設けられた第2の紫外線硬化樹脂に対して微細な転写パターンが形成されたシート状の第2のモールドのパターン形成面を対向させた後、前記第2のモールドと反対側に前記押圧部材移動面が位置するように前記ダミー成形体を前記第2のモールド上に載置し、前記ローラを前記押圧部材移動面に押圧した状態で前記ローラ又は前記第2の基板の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させる期間中、前記ローラに対する前記ダミー成形体の位置を前記ダミー成形体作成段階での場合に一致させ、前記ローラを前記押圧部材移動面に対して相対的に移動させながら前記第2の紫外線硬化樹脂を硬化させて前記第2のモールドの転写パターンを前記第2の紫外線硬化樹脂に転写する転写段階と、を備えていることを特徴とする転写方法。
  2. 請求項1記載の転写方法であって、
    前記ダミー成形体は、前記第1の紫外線硬化樹脂であり、前記押圧部材移動面が前記第1の紫外線硬化樹脂に形成されていることを特徴とする転写方法。
  3. 請求項1記載の転写方法であって、
    前記ダミー成形体は、前記第1の紫外線硬化樹脂及び前記第1のモールドが一体化されたものであり、前記押圧部材移動面が前記第1のモールドに形成されていることを特徴とする転写方法。
  4. 請求項1記載の転写方法であって、
    前記ダミー成形体は、前記第1の基板、前記第1の紫外線硬化樹脂及び前記第1のモールドが一体化されたものであり、前記押圧部材移動面が前記第1のモールドに形成されていることを特徴とする転写方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107414407A (zh) * 2017-07-26 2017-12-01 世义贸易股份有限公司 铜雕塑门板制造方法
JP7121653B2 (ja) * 2018-12-28 2022-08-18 キヤノン株式会社 膜形成装置および物品製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09106585A (ja) * 1995-10-06 1997-04-22 Sony Corp 光学記録媒体の製造方法
JP4789039B2 (ja) * 2005-06-10 2011-10-05 独立行政法人産業技術総合研究所 ナノインプリント装置
JP2007180315A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Toshiba Mach Co Ltd 転写装置
JP5383110B2 (ja) * 2008-07-25 2014-01-08 株式会社東芝 インプリント装置
JP5117318B2 (ja) * 2008-08-07 2013-01-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ ナノインプリント用スタンパ及び該スタンパを使用する微細構造転写装置

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