JP5688026B2 - 二重モードマスフロー確証及びマスフロー送給のシステム及び方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 238000012795 verification Methods 0.000 title claims description 14
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 title description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 97
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 36
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 15
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 claims description 13
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 8
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 claims description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 3
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002716 delivery method Methods 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Images
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/15—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters specially adapted for gas meters
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0647—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in series
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F11/00—Apparatus requiring external operation adapted at each repeated and identical operation to measure and separate a predetermined volume of fluid or fluent solid material from a supply or container, without regard to weight, and to deliver it
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F23/00—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
- G01F23/14—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measurement of pressure
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
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Description
図面は例示的な実施の形態を示す。図面はすべての実施の形態を示すものではない。これらに加えて又はこれらの代わりに、他の実施の形態を使用することができる。異なる図面に同じ符号がある場合、符号は同一又は類似の素子又は工程を示すことを意図するものである。
図1はマスフロー確証器100のブロック線図である。MFV100は試験中の装置(DUT)110からの流体の流れを受け取るように形状づけられた(既知の容積Vcを有する)囲われた容積即ち室130を含む。図示の実施の形態に示すDUT110は所望の流量の流体を送給するMFCである。MFCは典型的には、マスフローセンサと、制御弁と、制御及び信号処理電子機器とを含む自己充足型の装置であり、所望の流体流量を反復的に送給するために使用できる。DUT110の例は、これらに限定されないが、マスフローコントローラ(MFC)及びマスフロー比コントローラ(FRC)を含むことができる。
1. 上流側の弁120及び下流側の弁150を開く;
2. DUTのための流れ設定点を与える;
3. 室の圧力が定常状態になるまで待つ;
4. 流れ計算のために室のガス圧力及び室のガス温度の記録を開始する;
5. 室の圧力が上昇するように下流側の弁150を閉じる;
6. 流れ確証のための期間だけ待つ;
7. 下流側の弁150を開く;
8. 上数式(1)に基づき、確証された流れを計算し、報告する。
1. チャージ:
入口弁220を開いて、送給室230内へのガスの流れを許容し、目標圧力又は目標量のガスモルに室をチャージする。
2. 圧力が安定するまで待機。
3. 送給:
処理設備に接続された出口弁250を開き、送給されたガスの量を測定し、正確な量のガスが送給室230を去ったときに出口弁250を閉じる。
4. 上述の工程1、2、3が繰り返されるような次のサイクルに進む。
110、410 試験中の装置(DUT)
120、220、420 入口弁
130、230、430 室
150、250、450 出口弁
160、260、460 コントローラ
170、470 圧力センサ
180、280、480 温度センサ
200 マスフロー送給システム
270 圧力トランスデューサ
300 マスフロー送給方法
400 マスフロー確証及び送給システム
500 マスフロー確証及びマスフロー送給方法
Claims (16)
- 流体のマスフロー送給及び流体のマスフロー確証のためのシステムにおいて、
室と、
上記室内への流体の流れを制御するように構成された入口弁と、
上記室からの流体の流れを制御するように構成された出口弁と、
上記室内の圧力を測定するように構成された圧力センサと、
コントローラと、
を有し、
上記コントローラが、第1のモードにある場合に、装置の流体の流量の測定を確証するために、マスフロー確証器として、上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御するように構成され、
上記コントローラがさらに、第2のモードにあるときに、マスフロー供給システムとして、上記室から出力処理設備へ所望量の流体を送給するために上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御するように構成され、
上記コントローラが、上記第1のモードと上記第2のモードとの間の選択のためにユーザーの入力に応答することができ、これによって、上記コントローラが、上記第1のモードと上記第2のモードとの間のユーザーの選択を表示する入力信号を受け取り、受け取った入力信号に応答して上記第1モード及び上記第2モードのうちの選択されたモードで作動し、
上記コントローラが、上記第1のモードにある場合に、上記出口弁の閉鎖後の時間期間中の上記室内の流体の圧力の上昇率を測定し、測定した上昇率を使用して、上記装置からの流体の流量を計算するように構成され、
上記コントローラが、上記第2のモードにある場合に、時間期間中に上記室内へ流れる流体の質量を測定するように、次いで、上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御することにより、上記出力処理設備へ流体の所望の質量を送給するように、構成されていることを特徴とするシステム。 - 上記第1のモードと上記第2のモードとの間の選択を表示する入力信号を伝達するための入力装置をさらに有し、上記コントローラが上記入力装置を介して入力信号を受け取るように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 上記室内の流体の温度を測定するように構成された温度センサをさらに有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 上記装置がマスフローコントローラ及び流れ比コントローラのうちの少なくとも1つを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 流体の所望の質量が流体の所望のモル数であり、上記コントローラが、上記第2のモードにある場合に、上記圧力センサの圧力測定値及び温度センサの温度測定値を監視することにより、上記時間期間中に上記室内へ流れる流体のモル数を測定するように構成されていることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 上記コントローラがさらに、上記第2のモードにあるときに、上記室内へのガスの流入を許容するために上記入口弁を開き、上記圧力センサの圧力測定値及び上記温度センサの温度測定値を監視することにより、上記入口弁を通って上記室内へ流れるガスのモル数を測定し、ガスの所望のモル数が当該送給室に入ったときに、上記入口弁を閉じるように構成されていることを特徴とする請求項7に記載のシステム。
- 上記コントローラがさらに、上記第2のモードにあるときに、上記室から上記出力処理設備へ流体の質量を排出するために上記出口弁を開き、上記圧力センサの圧力測定値及び上記温度センサの温度測定値を監視することにより、上記出口弁を通って上記出力処理設備へ排出されるガスのモル数を測定し、排出されたガスの質量が所望のマスフロー設定点に等しくなったときに、上記出口弁を閉じるように構成されていることを特徴とする請求項8に記載のシステム。
- ガスの所望のモル数がユーザーにより特定されることを特徴とする請求項8に記載のシステム。
- 上記コントローラがさらに、複数の送給サイクルの各々中に、上記室内にガスの所望のモル数を導入し、次いで、上記室から上記出力処理設備へガスの所望モル数を送給するように、上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御する行為を繰り返すように構成されていることを特徴とする請求項8に記載のシステム。
- マスフローの確証又はマスフローの送給のいずれかを実行する流体のマスフロー送給及び流体のマスフロー確証のためのシステムを履行するための方法において、
コントローラが、第1のモードと第2のモードとの間の選択を表示するユーザーからの入力信号を受け取る工程と、
上記入力信号がユーザーの上記第1のモードの選択を表示する場合に、上記コントローラが、装置の流体の流量の測定を確証するように入口弁及び出口弁の開閉を制御する工程と、
上記入力信号がユーザーの上記第2のモードの選択を表示する場合に、上記コントローラが、室から出力処理設備へ所望量の流体を送給するように上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御する工程と、
を有し、
上記装置の流体の流量の測定を確証するように上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御する上記工程が、
上記装置から上記室内へ流体を流れさせる工程と、
上記出口弁が閉じているときに上記室内の流体の圧力の上昇率を測定し、測定した圧力の上昇率を使用して流体の流量を計算する工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 上記室から上記出力処理設備へ所望量の流体を送給するように上記入口弁及び上記出口弁の開閉を制御する上記工程が、
上記室内への流体の流入を許容するために上記入口弁を開く工程と、
上記入口弁を通って上記室内へ流入する流体の量を測定する工程と、
所望量の流体が上記室内に入ったときに上記入口弁を閉じる工程と、
上記室内の上記流体の圧力及び温度が安定するまでの期間を待機する工程と、
上記室から流体の質量を排出するために上記出口弁を開く工程と、
上記出口弁を通して上記室から上記出力処理設備へ排出される流体の量を測定する工程と、
排出された上記流体の質量が流体の所望の質量設定点に等しくなったときに、上記出口弁を閉じる工程と、
を有することを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 上記室内へ流れる流体の量を測定し、上記室から上記出力処理設備へ排出される流体の量を測定する上記工程が、圧力センサの圧力測定値及び温度センサの温度測定値を監視することにより、上記室に対して出入りする流体のモル数を測定する工程を有し、流体の所望の量が流体の所望のモル数であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- ガスの所望のモル数が、所望のマスフロー設定点に基づき、コントローラにより計算されることを特徴とする請求項8に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/273,234 | 2008-11-18 | ||
US12/273,234 US7891228B2 (en) | 2008-11-18 | 2008-11-18 | Dual-mode mass flow verification and mass flow delivery system and method |
PCT/US2009/064948 WO2010059696A1 (en) | 2008-11-18 | 2009-11-18 | Dual-mode mass flow verification and mass flow delivery system and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012509528A JP2012509528A (ja) | 2012-04-19 |
JP5688026B2 true JP5688026B2 (ja) | 2015-03-25 |
Family
ID=41582160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011536615A Active JP5688026B2 (ja) | 2008-11-18 | 2009-11-18 | 二重モードマスフロー確証及びマスフロー送給のシステム及び方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7891228B2 (ja) |
JP (1) | JP5688026B2 (ja) |
KR (1) | KR101316075B1 (ja) |
CN (1) | CN102301208B (ja) |
DE (1) | DE112009003602B4 (ja) |
GB (1) | GB2477247B (ja) |
TW (1) | TWI472721B (ja) |
WO (1) | WO2010059696A1 (ja) |
Families Citing this family (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2455728A (en) * | 2007-12-18 | 2009-06-24 | Weston Aerospace Ltd | Air temperature sensing on aircraft |
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US8997686B2 (en) | 2010-09-29 | 2015-04-07 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
US10126760B2 (en) | 2011-02-25 | 2018-11-13 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
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---|---|---|---|---|
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CN101978132B (zh) * | 2008-01-18 | 2015-04-29 | 关键系统公司 | 对气体流动控制器进行现场测试的方法和设备 |
-
2008
- 2008-11-18 US US12/273,234 patent/US7891228B2/en active Active
-
2009
- 2009-11-18 TW TW98139115A patent/TWI472721B/zh active
- 2009-11-18 GB GB1107926.6A patent/GB2477247B/en active Active
- 2009-11-18 WO PCT/US2009/064948 patent/WO2010059696A1/en active Application Filing
- 2009-11-18 JP JP2011536615A patent/JP5688026B2/ja active Active
- 2009-11-18 KR KR1020117013859A patent/KR101316075B1/ko active IP Right Grant
- 2009-11-18 CN CN200980154214.1A patent/CN102301208B/zh active Active
- 2009-11-18 DE DE112009003602.3T patent/DE112009003602B4/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI472721B (zh) | 2015-02-11 |
KR101316075B1 (ko) | 2013-10-10 |
TW201037283A (en) | 2010-10-16 |
JP2012509528A (ja) | 2012-04-19 |
GB2477247B (en) | 2017-04-19 |
DE112009003602B4 (de) | 2016-03-31 |
WO2010059696A1 (en) | 2010-05-27 |
KR20110082087A (ko) | 2011-07-15 |
US20100125424A1 (en) | 2010-05-20 |
CN102301208A (zh) | 2011-12-28 |
US7891228B2 (en) | 2011-02-22 |
CN102301208B (zh) | 2014-06-18 |
GB201107926D0 (en) | 2011-06-22 |
GB2477247A (en) | 2011-07-27 |
DE112009003602T5 (de) | 2012-11-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131004 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140502 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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