[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP5533497B2 - LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE Download PDF

Info

Publication number
JP5533497B2
JP5533497B2 JP2010215080A JP2010215080A JP5533497B2 JP 5533497 B2 JP5533497 B2 JP 5533497B2 JP 2010215080 A JP2010215080 A JP 2010215080A JP 2010215080 A JP2010215080 A JP 2010215080A JP 5533497 B2 JP5533497 B2 JP 5533497B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
light emitting
electron
light
anode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010215080A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012069857A (en
Inventor
徹司 藤田
英利 山本
幸也 白鳥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2010215080A priority Critical patent/JP5533497B2/en
Priority to CN201110263307.7A priority patent/CN102386341B/en
Priority to US13/226,070 priority patent/US8835943B2/en
Publication of JP2012069857A publication Critical patent/JP2012069857A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5533497B2 publication Critical patent/JP5533497B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、発光素子、発光装置、表示装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a light emitting element, a light emitting device, a display device, and an electronic apparatus.

有機エレクトロルミネッセンス素子(いわゆる有機EL素子)は、陽極と陰極との間に発光層として少なくとも1層の発光性有機層を介挿した構造を有する発光素子である。このような発光素子では、陰極と陽極との間に電界を印加することにより、発光層に陰極側から電子が注入されるとともに陽極側から正孔が注入され、発光層中で電子と正孔が再結合することにより励起子が生成し、この励起子が基底状態に戻る際に、そのエネルギー分が光として放出される。   An organic electroluminescence element (so-called organic EL element) is a light emitting element having a structure in which at least one light emitting organic layer is interposed as a light emitting layer between an anode and a cathode. In such a light emitting device, by applying an electric field between the cathode and the anode, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode side and holes are injected from the anode side, and electrons and holes are injected into the light emitting layer. Recombination generates excitons, and when the excitons return to the ground state, the energy is emitted as light.

このような発光素子では、一般に、正孔の注入性や輸送性を向上させるために、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層が設けられている(例えば、特許文献1参照)。
また、このような発光素子では、正孔輸送層のHOMO(最高被占軌道)およびLUMO(最低空軌道)の大きさを調整することにより、正孔輸送層で陰極側(発光層側)からの電子をブロックし、発光層内に電子および正孔を閉じ込め、発光効率の向上を図ることが行われている。
In such a light emitting device, in general, a hole injection layer and a hole transport layer are provided between the anode and the light emitting layer in order to improve the hole injection property and the transport property (for example, patents). Reference 1).
Further, in such a light emitting device, by adjusting the size of HOMO (maximum occupied orbit) and LUMO (lowest empty orbit) of the hole transport layer, the hole transport layer can be adjusted from the cathode side (light emitting layer side). It has been attempted to improve the light emission efficiency by blocking the electrons and confining the electrons and holes in the light emitting layer.

しかし、従来の発光素子においては、正孔輸送層が陰極側からの電子を十分にブロックすることができず、長期使用に伴い、正孔輸送層を通過した電子により正孔輸送層や正孔注入層が劣化するという問題があった。かかる問題は、電流密度が大きくなるほど、正孔輸送層の電子をブロックする機能(電子ブロック効果)がバンドベンディング効果により低下するため、顕著となる。
また、電子ブロック効果を高めるには、HOMOとLUMOとのエネルギーギャップが大きい材料を正孔輸送層に用いることが考えられるが、そのようなことは現実には難しい。
However, in the conventional light emitting device, the hole transport layer cannot sufficiently block electrons from the cathode side, and the electron that has passed through the hole transport layer due to long-term use causes the hole transport layer or hole to be blocked. There was a problem that the injection layer deteriorated. Such a problem becomes more prominent because the function of blocking electrons in the hole transport layer (electron blocking effect) decreases due to the band bending effect as the current density increases.
In order to enhance the electron blocking effect, it is conceivable to use a material having a large energy gap between HOMO and LUMO for the hole transport layer. However, this is difficult in practice.

特許第3654909号公報Japanese Patent No. 3654909

本発明の目的は、長寿命化を図ることができる発光素子、かかる発光素子を備えた発光装置、表示装置および電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a light-emitting element capable of extending the life, a light-emitting device including the light-emitting element, a display device, and an electronic apparatus.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の発光素子は、陽極と、
陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられ、前記陽極と前記陰極との間に通電することにより発光する発光層と、
前記陽極と前記発光層との間に前記発光層に接して設けられ、正孔輸送性を有する正孔輸送性材料と、電子トラップ性を有する電子トラップ性材料とを含んで構成された電子中和層とを有し、
前記電子中和層は、前記正孔輸送性材料として、下記式(2)で表わされる化合物を含み、前記電子トラップ性材料として、下記式(10)で表わされる化合物を含むものであることを特徴とする。

Figure 0005533497
Figure 0005533497
Such an object is achieved by the present invention described below.
The light emitting device of the present invention comprises an anode,
A cathode,
A light emitting layer that is provided between the anode and the cathode, and emits light when energized between the anode and the cathode;
An electron that is provided between the anode and the light emitting layer in contact with the light emitting layer and includes a hole transporting material having a hole transporting property and an electron trapping material having an electron trapping property. have a sum layer,
The electron neutralizing layer includes a compound represented by the following formula (2) as the hole transporting material, and a compound represented by the following formula (10) as the electron trapping material. To do.
Figure 0005533497
Figure 0005533497

このような本発明の発光素子によれば、電子中和層が発光層からの電子を中和(消滅)させることができる。これにより、電子中和層に対して陽極側に有機層(例えば正孔注入層、正孔輸送層)を設けた場合でも、その有機層が電子により劣化するのを防止することができる。そのため、高電流密度での電流で駆動する場合においても、発光素子の長寿命化を図ることができる。   According to such a light emitting device of the present invention, the electron neutralizing layer can neutralize (annihilate) electrons from the light emitting layer. Thereby, even when an organic layer (for example, a hole injection layer or a hole transport layer) is provided on the anode side with respect to the electron neutralization layer, the organic layer can be prevented from being deteriorated by electrons. Therefore, even when driving with a current having a high current density, the lifetime of the light emitting element can be extended.

本発明の発光素子では、前記陽極と前記電子中和層との間に設けられ、正孔輸送性を有する正孔輸送層を有することが好ましい。
これにより、陽極からの正孔を電子中和層へ効率的に輸送することができる。その結果、発光素子の発光効率を高めることができる。
本発明の発光素子では、前記陽極と前記正孔輸送層との間に設けられ、正孔注入性を有する正孔注入層を有することが好ましい。
これにより、陽極からの正孔注入性を向上させることができる。その結果、発光素子の発光効率を高めることができる。
In the light emitting device of the present invention, it is preferable to have a hole transport layer provided between the anode and the electron neutralization layer and having a hole transport property.
Thereby, holes from the anode can be efficiently transported to the electron neutralization layer. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element can be increased.
In the light emitting device of the present invention, it is preferable to have a hole injection layer provided between the anode and the hole transport layer and having a hole injection property.
Thereby, the hole injection property from an anode can be improved. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element can be increased.

本発明の発光素子では、前記電子中和層は、電子をブロックする機能を有することが好ましい。
これにより、電子中和層が発光層へ正孔を輸送しつつ発光層からの電子をブロックすることができる。そのため、発光層に効率的に電子および正孔を閉じ込め、発光効率を向上させることができる。
In the light emitting device of the present invention, the electron neutralizing layer preferably has a function of blocking electrons.
Thereby, the electron neutralization layer can block the electrons from the light emitting layer while transporting holes to the light emitting layer. Therefore, it is possible to efficiently confine electrons and holes in the light emitting layer and improve the light emission efficiency.

本発明の発光素子では、前記発光層は、ホスト材料としてテトラセン誘導体、ゲスト材料としてジインデノペリレン系誘導体を含むことが好ましい。
これにより、発光層を赤色に効率的に発光させることができる。
In the light emitting device of the present invention, the light emitting layer preferably contains a tetracene derivative as a host material and a diindenoperylene derivative as a guest material.
Thereby, a light emitting layer can be efficiently light-emitted red.

本発明の発光素子では、前記電子中和層中における前記電子トラップ性材料の含有量は、30wt%以上70wt%以下であることが好ましい。
これにより、発光素子の駆動電圧を抑えつつ、電子中和層の電子トラップ性を適度なものとすることができる。
本発明の発光素子では、前記電子中和層の平均厚さは、20nm以上60nm以下であることが好ましい。
これにより、発光素子の駆動電圧を抑えつつ、電子中和層の電子トラップ性を適度なものとすることができる。
In the light emitting device of the present invention, the content of the electron trapping material in the electron neutralizing layer is preferably 30 wt% or more and 70 wt% or less.
As a result, the electron trapping property of the electron neutralizing layer can be made moderate while suppressing the driving voltage of the light emitting element.
In the light emitting device of the present invention, the average thickness of the electron neutralizing layer is preferably 20 nm or more and 60 nm or less.
As a result, the electron trapping property of the electron neutralizing layer can be made moderate while suppressing the driving voltage of the light emitting element.

本発明の発光装置は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
このような発光装置は、長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。
本発明の表示装置は、本発明の発光装置を備えることを特徴とする。
このような表示装置は、長期に亘り高品位な画像を表示し得るとともに、信頼性に優れる。
本発明の電子機器は、本発明の表示装置を備えることを特徴とする。
このような電子機器は、信頼性に優れる。
The light-emitting device of the present invention includes the light-emitting element of the present invention.
Such a light-emitting device has a long-life light-emitting element, and thus has high reliability.
The display device of the present invention includes the light emitting device of the present invention.
Such a display device can display a high-quality image over a long period of time and has excellent reliability.
An electronic apparatus according to the present invention includes the display device according to the present invention.
Such an electronic device is excellent in reliability.

本発明の実施形態に係る発光素子を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the light emitting element which concerns on embodiment of this invention. 本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows embodiment of the display apparatus to which the display apparatus of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus of the present invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device of this invention is applied.

以下、本発明の発光素子、発光装置、表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る発光素子を模式的に示す断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
図1に示す発光素子(エレクトロルミネッセンス素子)1は、陽極3と正孔注入層4と正孔輸送層5と電子中和層(電子トラップ層)5Xと発光層6と電子輸送層7と電子注入層8と陰極9とがこの順に積層されてなるものである。すなわち、発光素子1では、陽極3と陰極9との間に、陽極3側から陰極9側へ正孔注入層4と正孔輸送層5と電子中和層5Xと発光層6と電子輸送層7と電子注入層8とがこの順で積層された積層体14が介挿されている。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a light-emitting element, a light-emitting device, a display device, and an electronic device of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device according to an embodiment of the present invention. In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 will be described as “upper” and the lower side as “lower”.
1 includes an anode 3, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, an electron neutralizing layer (electron trap layer) 5X, a light emitting layer 6, an electron transport layer 7, and electrons. The injection layer 8 and the cathode 9 are laminated in this order. That is, in the light emitting element 1, between the anode 3 and the cathode 9, from the anode 3 side to the cathode 9 side, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the electron neutralizing layer 5X, the light emitting layer 6, and the electron transport layer. 7 and the electron injection layer 8 are stacked in this order.

そして、発光素子1は、その全体が基板2上に設けられるとともに、封止部材10で封止されている。
このような発光素子1にあっては、陽極3および陰極9に駆動電圧が印加されることにより、発光層6に対し、それぞれ、陰極9側から電子が供給(注入)されるとともに、陽極3側から正孔が供給(注入)される。そして、発光層6では、正孔と電子とが再結合し、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン(励起子)が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出(発光)する。これにより、発光素子1は、発光する。
The entire light emitting element 1 is provided on the substrate 2 and is sealed with a sealing member 10.
In such a light emitting device 1, by applying a driving voltage to the anode 3 and the cathode 9, electrons are supplied (injected) from the cathode 9 side to the light emitting layer 6. Holes are supplied (injected) from the side. In the light emitting layer 6, holes and electrons are recombined, and excitons (excitons) are generated by the energy released upon the recombination, and energy (fluorescence or phosphorescence) is generated when the excitons return to the ground state. Is emitted (emitted). Thereby, the light emitting element 1 emits light.

その際、発光素子1では、電子中和層5Xが後に詳述するように正孔輸送性材料を含むので、電子中和層5Xが発光層6へ正孔を効率的に輸送するとともに発光層6からの電子をブロックすることができる。そのため、発光層6に効率的に電子および正孔を閉じ込めることができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
特に、発光素子1では、電子中和層5Xが電子トラップ性材料を含むので、電子中和層5Xが電子をブロックしきれなくても、電子中和層5Xが発光層6からの電子を中和(消滅)させることができる。これにより、電子中和層5Xに対して陽極3側に設けられた有機層(例えば正孔注入層4、正孔輸送層5)が電子により劣化するのを防止することができる。そのため、高電流密度での電流で駆動する場合においても、発光素子1の長寿命化を図ることができる。
In that case, in the light emitting element 1, since the electron neutralizing layer 5X includes a hole transporting material as will be described in detail later, the electron neutralizing layer 5X efficiently transports holes to the light emitting layer 6, and the light emitting layer. Electrons from 6 can be blocked. Therefore, electrons and holes can be efficiently confined in the light emitting layer 6. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1 can be increased.
In particular, in the light-emitting element 1, since the electron neutralizing layer 5X includes an electron trapping material, the electron neutralizing layer 5X is capable of absorbing electrons from the light emitting layer 6 even if the electron neutralizing layer 5X cannot block the electrons. It can be summed (disappeared). Thereby, it is possible to prevent the organic layers (for example, the hole injection layer 4 and the hole transport layer 5) provided on the anode 3 side with respect to the electron neutralization layer 5X from being deteriorated by electrons. Therefore, the life of the light-emitting element 1 can be extended even when driven with a current at a high current density.

基板2は、陽極3を支持するものである。本実施形態の発光素子1は、基板2側から光を取り出す構成(ボトムエミッション型)であるため、基板2および陽極3は、それぞれ、実質的に透明(無色透明、着色透明または半透明)とされている。
基板2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような基板2の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜30mm程度であるのが好ましく、0.1〜10mm程度であるのがより好ましい。
なお、発光素子1が基板2と反対側から光を取り出す構成(トップエミッション型)の場合、基板2には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。
The substrate 2 supports the anode 3. Since the light-emitting element 1 of the present embodiment is configured to extract light from the substrate 2 side (bottom emission type), the substrate 2 and the anode 3 are substantially transparent (colorless transparent, colored transparent, or translucent), respectively. Has been.
Examples of the constituent material of the substrate 2 include resin materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyarylate, quartz glass, and soda glass. Such glass materials can be used, and one or more of these can be used in combination.
Although the average thickness of such a board | substrate 2 is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.1-30 mm, and it is more preferable that it is about 0.1-10 mm.
In the case where the light emitting element 1 is configured to extract light from the side opposite to the substrate 2 (top emission type), the substrate 2 can be either a transparent substrate or an opaque substrate.

不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
また、このような発光素子1では、陽極3と陰極9との間の距離(すなわち積層体14の平均厚さ)は、150〜300nmであるのが好ましく、150〜250nmであるのがより好ましく、160〜200nmであるのがさらに好ましい。これにより、簡単かつ確実に、発光素子1の駆動電圧を実用的な範囲内にすることができる。
Examples of the opaque substrate include a substrate made of a ceramic material such as alumina, an oxide film (insulating film) formed on the surface of a metal substrate such as stainless steel, and a substrate made of a resin material. It is done.
In such a light-emitting element 1, the distance between the anode 3 and the cathode 9 (that is, the average thickness of the laminate 14) is preferably 150 to 300 nm, and more preferably 150 to 250 nm. 160 to 200 nm is more preferable. Thereby, the drive voltage of the light emitting element 1 can be set within a practical range easily and reliably.

以下、発光素子1を構成する各部を順次説明する。
[陽極]
陽極3は、後述する正孔注入層4を介して正孔輸送層5に正孔を注入する電極である。この陽極3の構成材料としては、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料を用いるのが好ましい。
Hereinafter, each part which comprises the light emitting element 1 is demonstrated sequentially.
[anode]
The anode 3 is an electrode that injects holes into the hole transport layer 5 through a hole injection layer 4 described later. As a constituent material of the anode 3, it is preferable to use a material having a large work function and excellent conductivity.

陽極3の構成材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、In、SnO、Sb含有SnO、Al含有ZnO等の酸化物、Au、Pt、Ag、Cuまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
特に、陽極3は、ITOで構成されているのが好ましい。ITOは、透明性を有するとともに、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料である。これにより、陽極3から正孔注入層4へ効率的に正孔を注入することができる。
Examples of the constituent material of the anode 3 include oxides such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), In 3 O 3 , SnO 2 , Sb-containing SnO 2 , and Al-containing ZnO, Au, Pt, Ag Cu, alloys containing these, and the like can be used, and one or more of these can be used in combination.
In particular, the anode 3 is preferably made of ITO. ITO is a material having transparency, a large work function, and excellent conductivity. Thereby, holes can be efficiently injected from the anode 3 into the hole injection layer 4.

また、陽極3の正孔注入層4側の面(図1にて上面)は、プラズマ処理が施されているのが好ましい。これにより、陽極3と正孔注入層4との接合面の化学的および機械的な安定性を高めることができる。その結果、陽極3から正孔注入層4への正孔注入性を向上させることができる。なお、かかるプラズマ処理については、後述する発光素子1の製造方法の説明において詳述する。
このような陽極3の平均厚さは、特に限定されないが、10〜200nm程度であるのが好ましく、50〜150nm程度であるのがより好ましい。
Further, the surface of the anode 3 on the hole injection layer 4 side (the upper surface in FIG. 1) is preferably subjected to plasma treatment. Thereby, the chemical and mechanical stability of the joint surface between the anode 3 and the hole injection layer 4 can be enhanced. As a result, the hole injection property from the anode 3 to the hole injection layer 4 can be improved. Such plasma treatment will be described in detail in the description of the method for manufacturing the light emitting element 1 described later.
The average thickness of the anode 3 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 nm, and more preferably about 50 to 150 nm.

[陰極]
一方、陰極9は、後述する電子注入層8を介して電子輸送層7に電子を注入する電極である。この陰極9の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。
陰極9の構成材料としては、例えば、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Al、Cs、Rbまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、複数層の積層体、複数種の混合層等として)用いることができる。
[cathode]
On the other hand, the cathode 9 is an electrode that injects electrons into the electron transport layer 7 through an electron injection layer 8 described later. As a constituent material of the cathode 9, it is preferable to use a material having a small work function.
Examples of the constituent material of the cathode 9 include Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, Yb, Ag, Cu, Al, Cs, Rb, and alloys containing these. These can be used alone or in combination of two or more thereof (for example, as a laminate of a plurality of layers, a mixed layer of a plurality of types, or the like).

特に、陰極9の構成材料として合金を用いる場合には、Ag、Al、Cu等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、MgAg、AlLi、CuLi等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極9の構成材料として用いることにより、陰極9の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような陰極9の平均厚さは、特に限定されないが、100〜10000nm程度であるのが好ましく、100〜500nm程度であるのがより好ましい。
なお、本実施形態の発光素子1は、ボトムエミッション型であるため、陰極9に、光透過性は、特に要求されない。
In particular, when an alloy is used as the constituent material of the cathode 9, it is preferable to use an alloy containing a stable metal element such as Ag, Al, or Cu, specifically, an alloy such as MgAg, AlLi, or CuLi. By using such an alloy as the constituent material of the cathode 9, the electron injection efficiency and stability of the cathode 9 can be improved.
Although the average thickness of such a cathode 9 is not specifically limited, It is preferable that it is about 100-10000 nm, and it is more preferable that it is about 100-500 nm.
In addition, since the light emitting element 1 of this embodiment is a bottom emission type, the light transmittance of the cathode 9 is not particularly required.

[正孔注入層]
正孔注入層4は、陽極3からの正孔注入効率を向上させる機能を有する(すなわち正孔注入性を有する)ものである。
このように陽極3と後述する正孔輸送層5との間に正孔注入層4を設けることにより、陽極3からの正孔性を向上させ、その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
[Hole injection layer]
The hole injection layer 4 has a function of improving the hole injection efficiency from the anode 3 (that is, has a hole injection property).
Thus, by providing the hole injection layer 4 between the anode 3 and the hole transport layer 5 described later, the hole property from the anode 3 is improved, and as a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1 is increased. Can do.

この正孔注入層4は、正孔注入性を有する材料(すなわち正孔注入性材料)を含んでいる。
この正孔注入層4に含まれる正孔注入材料としては、特に限定されないが、例えば、銅フタロシアニンや、4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、下記式(1)で表わされるN,N’−ビス−(4−ジフェニルアミノ−フェニル)−N, N’−ジフェニル−ビフェニル−4−4’−ジアミン等が挙げられる。
The hole injection layer 4 includes a material having a hole injection property (that is, a hole injection material).
Although it does not specifically limit as a hole injection material contained in this hole injection layer 4, For example, copper phthalocyanine, 4,4 ', 4''-tris (N, N-phenyl-3-methylphenylamino) Triphenylamine (m-MTDATA), N, N′-bis- (4-diphenylamino-phenyl) -N, N′-diphenyl-biphenyl-4-4′-diamine and the like represented by the following formula (1) Can be mentioned.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

中でも、正孔注入層4に含まれる正孔注入性材料としては、正孔注入性および正孔輸送性に優れるという観点から、アミン系材料を用いるのが好ましく、ジアミノベンゼン誘導体、ベンジジン誘導体(ベンジジン骨格を有する材料)、分子内に「ジアミノベンゼン」ユニットと「ベンジジン」ユニットとの両方を有するトリアミン系化合物、テトラアミン系化合物を用いるのがより好ましい。
このような正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、5〜90nm程度であるのが好ましく、10〜70nm程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層4は、陽極3および正孔輸送層5の構成材料によっては、省略してもよい。
Among them, as the hole injecting material contained in the hole injecting layer 4, it is preferable to use an amine-based material from the viewpoint of excellent hole injecting property and hole transporting property, and a diaminobenzene derivative, a benzidine derivative (benzidine) It is more preferable to use a triamine-based compound or a tetraamine-based compound having both a “diaminobenzene” unit and a “benzidine” unit in the molecule.
The average thickness of the hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 5 to 90 nm, and more preferably about 10 to 70 nm.
The hole injection layer 4 may be omitted depending on the constituent materials of the anode 3 and the hole transport layer 5.

(正孔輸送層)
正孔輸送層5は、陽極3から正孔注入層4を介して注入された正孔を電子中和層5Xまで輸送する機能を有する(すなわち正孔輸送性を有する)ものである。
このように陽極3と後述する電子中和層5Xとの間に正孔輸送層5が設けられていることにより、陽極3からの正孔を電子中和層5Xへ効率的に輸送することができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
(Hole transport layer)
The hole transport layer 5 has a function of transporting holes injected from the anode 3 through the hole injection layer 4 to the electron neutralization layer 5X (that is, has a hole transport property).
Thus, by providing the hole transport layer 5 between the anode 3 and the later-described electron neutralization layer 5X, holes from the anode 3 can be efficiently transported to the electron neutralization layer 5X. it can. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1 can be increased.

この正孔輸送層5は、正孔輸送性を有する材料(すなわち正孔輸送性材料)を含んで構成されている。
この正孔輸送層5に含まれる正孔輸送性材料には、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができ、例えば、下記式(2)で表わされる化合物、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(NPD)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)等のテトラアリールベンジジン誘導体、テトラアリールジアミノフルオレン化合物またはその誘導体(アミン系化合物)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hole transport layer 5 includes a material having a hole transport property (that is, a hole transport material).
As the hole transporting material contained in the hole transporting layer 5, various p-type high molecular materials and various p-type low molecular materials can be used alone or in combination. For example, the following formula (2) N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (NPD), N, N′-diphenyl-N, Examples include tetraarylbenzidine derivatives such as N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (TPD), tetraaryldiaminofluorene compounds, or derivatives thereof (amine compounds). Of these, one or two or more of these can be used in combination.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

中でも、正孔輸送層5に含まれる正孔輸送性材料としては、正孔注入性および正孔輸送性に優れるという観点から、アミン系材料であるのが好ましく、ベンジジン誘導体(ベンジジン骨格を有する材料)であるのがより好ましい。
このような正孔輸送層5の平均厚さは、特に限定されないが、5〜90nm程度であるのが好ましく、10〜70nm程度であるのがより好ましい。
Among them, the hole transport material contained in the hole transport layer 5 is preferably an amine-based material from the viewpoint of excellent hole injection property and hole transport property, and a benzidine derivative (a material having a benzidine skeleton). Is more preferable.
The average thickness of the hole transport layer 5 is not particularly limited, but is preferably about 5 to 90 nm, and more preferably about 10 to 70 nm.

(電子中和層)
電子中和層5Xは、陽極3と後述する発光層6との間に発光層6に接して設けられている。
そして、この電子中和層5Xは、正孔輸送層5から発光層6へ正孔を輸送する機能を有する。また、電子中和層5Xは、発光層6からの電子を捕獲する機能(すなわち電子トラップ性)を有する。
(Electronic neutralization layer)
The electron neutralizing layer 5X is provided in contact with the light emitting layer 6 between the anode 3 and a light emitting layer 6 described later.
The electron neutralizing layer 5 </ b> X has a function of transporting holes from the hole transport layer 5 to the light emitting layer 6. Further, the electron neutralizing layer 5X has a function of capturing electrons from the light emitting layer 6 (that is, electron trapping property).

このような電子中和層5Xは、正孔輸送性を有する正孔輸送性材料と、電子トラップ性を有する電子トラップ性材料とを含んで構成されている。
このような電子中和層5Xは、正孔輸送性材料を含むので、発光層6へ正孔を効率的に輸送するとともに発光層6からの電子をブロックすることができる。そのため、発光層6に効率的に電子および正孔を閉じ込めることができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
Such an electron neutralization layer 5X includes a hole transporting material having a hole transporting property and an electron trapping material having an electron trapping property.
Since such an electron neutralization layer 5X contains a hole transporting material, it can efficiently transport holes to the light emitting layer 6 and block electrons from the light emitting layer 6. Therefore, electrons and holes can be efficiently confined in the light emitting layer 6. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1 can be increased.

特に、電子中和層5Xは、電子トラップ性材料を含むので、発光層6からの電子をブロックしきれずに電子中和層5X内に侵入しても(注入されても)、その電子を中和(消滅)させることができる。これにより、電子中和層5Xに対して陽極3側に設けられた正孔注入層4や正孔輸送層5が電子により劣化するのを防止することができる。そのため、高電流密度での電流で駆動する場合においても、発光素子1の長寿命化を図ることができる。   In particular, since the electron neutralizing layer 5X contains an electron trapping material, even if electrons from the light emitting layer 6 cannot be blocked and enter the electron neutralizing layer 5X (injected), It can be summed (disappeared). Thereby, it is possible to prevent the hole injection layer 4 and the hole transport layer 5 provided on the anode 3 side with respect to the electron neutralization layer 5X from being deteriorated by electrons. Therefore, the life of the light-emitting element 1 can be extended even when driven with a current at a high current density.

電子中和層5Xに含まれる正孔輸送性材料としては、前述した正孔輸送層5に含まれる正孔輸送性材料と同様のものを用いることができる。すなわち、電子中和層5Xに含まれる正孔輸送性材料としては、例えば、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができ、例えば、前記式(2)で表わされる化合物、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(NPD)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)等のテトラアリールベンジジン誘導体、テトラアリールジアミノフルオレン化合物またはその誘導体(アミン系化合物)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   As the hole transport material contained in the electron neutralization layer 5X, the same material as the hole transport material contained in the hole transport layer 5 described above can be used. That is, as the hole transporting material contained in the electron neutralizing layer 5X, for example, various p-type high molecular materials and various p-type low molecular materials can be used alone or in combination. Compound represented by (2), N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (NPD), N, N′-diphenyl -N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) and other tetraarylbenzidine derivatives, tetraaryldiaminofluorene compounds or derivatives thereof (amine compounds) These can be used, and one or more of these can be used in combination.

中でも、電子中和層5Xに含まれる正孔輸送性材料としては、正孔注入性および正孔輸送性に優れるという観点から、アミン系材料であるのが好ましく、ベンジジン誘導体(ベンジジン骨格を有する材料)であるのがより好ましい。
また、電子中和層5Xに含まれる正孔輸送性材料は、正孔輸送層5に含まれる正孔輸送性材料と同じであっても異なっていてもよいが、発光素子1の発光効率を高める観点から、正孔輸送層5に含まれる正孔輸送性材料と同じであるのが好ましい。
Among these, the hole transporting material contained in the electron neutralizing layer 5X is preferably an amine material from the viewpoint of excellent hole injection and hole transporting properties, and a benzidine derivative (a material having a benzidine skeleton). Is more preferable.
Further, the hole transporting material contained in the electron neutralizing layer 5X may be the same as or different from the hole transporting material contained in the hole transporting layer 5, but the light emission efficiency of the light emitting device 1 is improved. From the viewpoint of enhancing, it is preferably the same as the hole transporting material contained in the hole transporting layer 5.

また、電子中和層5Xに含まれる正孔輸送性材料としては、発光層6からの電子をブロックし得るバンドギャップ(HOMO準位とLUMO準位とのエネルギー差)を有するものを用いるのが好ましい。すなわち、電子中和層5Xは、電子をブロックする機能を有するのが好ましい。
これにより、電子中和層5Xが発光層6へ正孔を輸送しつつ発光層6からの電子をブロックすることができる。そのため、発光層6に効率的に電子および正孔を閉じ込め、発光効率を向上させることができる。
Further, as the hole transporting material contained in the electron neutralizing layer 5X, a material having a band gap (energy difference between the HOMO level and the LUMO level) capable of blocking electrons from the light emitting layer 6 is used. preferable. That is, the electron neutralizing layer 5X preferably has a function of blocking electrons.
Thereby, the electron neutralization layer 5X can block electrons from the light emitting layer 6 while transporting holes to the light emitting layer 6. Therefore, it is possible to efficiently confine electrons and holes in the light emitting layer 6 and improve the light emission efficiency.

このように電子中和層5Xが電子をブロックする機能を有していても、高電流密度での駆動においては、電子中和層5Xが電子をブロックしきれず、その結果、電子中和層5Xに電子が侵入する(注入される)場合がある。このような場合においても、発光素子1では、電子中和層5Xが電子トラップ性材料を含んでいるので、電子中和層5Xでブロックしきれずに電子中和層5X内へ侵入した電子を中和(消滅)させることができる。そのため、かかる電子が正孔輸送層5や正孔注入層4へ到達するのが防止される。   Thus, even when the electron neutralizing layer 5X has a function of blocking electrons, the electron neutralizing layer 5X cannot block electrons in driving at a high current density, and as a result, the electron neutralizing layer 5X. In some cases, electrons enter (inject) into the. Even in such a case, in the light emitting element 1, since the electron neutralizing layer 5X includes an electron trapping material, electrons that have entered the electron neutralizing layer 5X without being blocked by the electron neutralizing layer 5X are It can be summed (disappeared). Therefore, such electrons are prevented from reaching the hole transport layer 5 and the hole injection layer 4.

なお、電子中和層5Xが比較的薄い場合には、電子中和層5X自体が電子ブロック性を有していなくてもよい。この場合、電子中和層5Xに対して陽極3側に隣接する層(本実施形態では正孔輸送層5)が電子ブロック性を有するように構成することで、発光層6側に効率的に電子および正孔を閉じ込めることができる。
また、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ材料は、電子を受け入れることが可能(すなわち還元されて安定)な材料である。
In addition, when the electron neutralization layer 5X is comparatively thin, the electron neutralization layer 5X itself may not have an electron block property. In this case, a layer adjacent to the anode 3 side with respect to the electron neutralization layer 5X (in this embodiment, the hole transport layer 5) is configured to have an electron blocking property, so that the light emitting layer 6 side can be efficiently disposed. Electrons and holes can be confined.
The electron trap material included in the electron neutralization layer 5X is a material that can accept electrons (that is, reduced and stable).

より具体的には、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料としては、例えば、後述する発光層6に含まれるホスト材料やゲスト材料(発光材料)、電子輸送層7に含まれる電子輸送性材料等と同様の材料を用いることができるが、電子および正孔に対する耐性に優れるとともに適度な電子トラップ性を有する(電子トラップ性が強すぎない)という観点から、発光層6に含まれるホスト材料と同様の材料を用いるのが好ましい。   More specifically, examples of the electron trapping material included in the electron neutralizing layer 5X include a host material and a guest material (light emitting material) included in the light emitting layer 6 described later, and an electron transport included in the electron transport layer 7. The same material as the light-emitting material can be used, but the host included in the light-emitting layer 6 is excellent in resistance to electrons and holes and has an appropriate electron trapping property (the electron trapping property is not too strong). It is preferable to use the same material as the material.

具体的には、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料としては、特に限定されないが、例えば、ジスチリルアリーレン誘導体、ナフタセン誘導体、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン等のアントラセン誘導体、5,12−ジフェニルナフタセン等のナフタセン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)等のキノリノラト系金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ルブレンおよびその誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Specifically, the electron trapping material contained in the electron neutralizing layer 5X is not particularly limited, and examples thereof include anthracene derivatives such as distyrylarylene derivatives, naphthacene derivatives, and 9,10-di (2-naphthyl) anthracene. Naphthacene derivatives such as 5,12-diphenylnaphthacene, perylene derivatives, distyrylbenzene derivatives, quinolinolato metal complexes such as tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ), oxadiazole derivatives, rubrene and derivatives thereof, Silole derivatives, dicarbazole derivatives, oligothiophene derivatives, benzopyran derivatives, triazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, quinoline derivatives, 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), etc. Among them, one of these can be used alone or two or more can be used in combination.

中でも、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料は、アセン系材料であるのが好ましい。
アセン系材料は、適度な電子トラップ性を有する。そのため、電子中和層5Xにおいて必要以上に電子が消費されるのを防止し、電子中和層5Xによる発光素子1の高駆動電圧化を抑制することができる。また、アセン系材料は、電子および正孔に対する耐性に優れる。そのため、電子中和層5Xの電子および正孔による劣化を防止し、発光素子1の長寿命化を図ることができる。さらに、アセン系材料は、それ自体発光しにくいので、電子中和層5Xが発光素子1の発光スペクトルに悪影響を及ぼすのを防止することもできる。
Among these, the electron trapping material contained in the electron neutralizing layer 5X is preferably an acene-based material.
The acene-based material has an appropriate electron trapping property. Therefore, it is possible to prevent the electrons from being consumed more than necessary in the electron neutralizing layer 5X, and to suppress the drive voltage of the light emitting element 1 from being increased by the electron neutralizing layer 5X. Acene-based materials are excellent in resistance to electrons and holes. Therefore, the deterioration of the electron neutralizing layer 5X due to electrons and holes can be prevented, and the life of the light emitting element 1 can be extended. Furthermore, since the acene-based material itself does not easily emit light, the electron neutralizing layer 5X can be prevented from adversely affecting the emission spectrum of the light-emitting element 1.

このようなアセン系材料は、アセン骨格を有し、かつ、前述したような効果を発揮するものであれば、特に限定されず、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体(テトラセン誘導体)、ペンタセン誘導体、ヘキサセン誘導体、ヘプタセン誘導体等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体を用いるのが好ましく、アントラセン誘導体(特に、モノ−アントラセンまたはビス−アントラセンを主骨格として有するもの)を用いるのがより好ましい。   Such an acene-based material is not particularly limited as long as it has an acene skeleton and exhibits the effects described above. For example, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, naphthacene derivatives (tetracene derivatives), pentacene Derivatives, hexacene derivatives, heptacene derivatives, etc., and one or more of these can be used in combination, but anthracene derivatives and naphthacene derivatives are preferred, and anthracene derivatives (especially mono-anthracene or It is more preferable to use those having bis-anthracene as the main skeleton.

このようなアセン系材料(特に、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体)は、適度な電子トラップ性を有するとともに、気相成膜法を用いて比較的簡単に高品位な膜質で成膜することができる。
また、電子中和層5Xが電子トラップ性材料としてアセン系材料を含む場合、電子中和層5Xは、正孔輸送性材料としてアミン系材料を含むのが好ましい。アミン系材料は、正孔輸送性に優れる。そのため、アミン系材料を含む電子中和層5Xは、陽極3からの正孔を発光層6へ速やかに輸送することができる。
Such acene-based materials (particularly, anthracene derivatives and naphthacene derivatives) have an appropriate electron trapping property and can be formed with a high quality film quality relatively easily by using a vapor phase film forming method.
When the electron neutralizing layer 5X includes an acene-based material as an electron trapping material, the electron neutralizing layer 5X preferably includes an amine-based material as a hole transporting material. The amine material is excellent in hole transportability. Therefore, the electron neutralizing layer 5 </ b> X containing an amine material can quickly transport holes from the anode 3 to the light emitting layer 6.

また、この場合、電子中和層5Xは、アセン系材料およびアミン系材料を混合した混合材料で構成されているのが好ましい。これにより、電子中和層5Xの正孔輸送性および電子トラップ性のバランスを好適な範囲に比較的簡単に調整することができる。
また、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料としては、炭素元素および水素元素のみから構成されている炭化水素化合物(誘電体)を用いるのが好ましい。このような化合物は、水酸基、カルボキシル基等の極性基を有しないため、一般に、反応性に乏しく、化学的に比較的安定であり、キャリア(電子および正孔)に対する耐性に優れ、また、正孔輸送性材料との相互作用も少ない。このようなことから、発光素子1の特性を長期に亘り優れたものとすることができる。
In this case, the electron neutralizing layer 5X is preferably composed of a mixed material obtained by mixing an acene-based material and an amine-based material. Thereby, the balance of the hole transport property and the electron trap property of the electron neutralizing layer 5X can be adjusted to a suitable range relatively easily.
Further, as the electron trapping material contained in the electron neutralizing layer 5X, it is preferable to use a hydrocarbon compound (dielectric) composed only of carbon element and hydrogen element. Since such a compound does not have a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, it is generally poor in reactivity, relatively chemically stable, excellent in resistance to carriers (electrons and holes), and positive. There is little interaction with the hole transport material. For this reason, the characteristics of the light emitting element 1 can be improved over a long period of time.

また、電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料のガラス転移温度(Tg)は、できる限り高いのが好ましく、具体的には、80℃以上であるのが好ましく、100℃以上であるのがより好ましい。これにより、高電流密度での電流で駆動した場合において、発光素子1が高温になっても、発光素子1の熱による性能低下を防止することができる。
また、電子中和層5X中における電子トラップ性材料の含有量は、30wt%以上70wt%以下であるのが好ましく、40wt%以上60wt%以下であるのがより好ましく、50wt%以上60wt%以下であるのがさらに好ましい。これにより、発光素子1の駆動電圧を抑えつつ、電子中和層5Xの電子トラップ性を適度なものとすることができる。
The glass transition temperature (Tg) of the electron trapping material contained in the electron neutralizing layer 5X is preferably as high as possible, specifically, preferably 80 ° C. or higher, and 100 ° C. or higher. Is more preferable. Accordingly, when the light emitting device 1 is driven at a high current density, even if the light emitting device 1 reaches a high temperature, it is possible to prevent the performance of the light emitting device 1 from being deteriorated due to heat.
Further, the content of the electron trapping material in the electron neutralizing layer 5X is preferably 30 wt% or more and 70 wt% or less, more preferably 40 wt% or more and 60 wt% or less, and 50 wt% or more and 60 wt% or less. More preferably. Thereby, the electron trapping property of the electron neutralizing layer 5X can be made moderate while suppressing the driving voltage of the light emitting element 1.

これに対し、かかる含有量が前記下限値未満であると、電子中和層5Xの厚さや電子トラップ性材料の種類等によっては、電子中和層5Xの電子トラップ性が低下する傾向を示す。また、かかる含有量が少なすぎると、電子中和層5X中の電子トラップ性材料が励起されやすくなり、電子トラップ性材料自体が発光してしまい、発光素子1全体の発光スペクトルに悪影響を及ぼす場合がある。一方、かかる含有量が前記上限値を超えると、電子中和層5Xの厚さや電子トラップ性材料の種類等によっては、電子中和層5Xの電子トラップ性が強すぎて、発光素子1の駆動電圧が上昇する傾向を示す。   On the other hand, when the content is less than the lower limit, the electron trapping property of the electron neutralizing layer 5X tends to be lowered depending on the thickness of the electron neutralizing layer 5X, the type of the electron trapping material, or the like. Further, when the content is too small, the electron trapping material in the electron neutralizing layer 5X is easily excited, and the electron trapping material itself emits light, which adversely affects the emission spectrum of the entire light emitting element 1. There is. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, depending on the thickness of the electron neutralizing layer 5X, the type of the electron trapping material, and the like, the electron trapping property of the electron neutralizing layer 5X is too strong and the light emitting element 1 is driven. It shows a tendency for the voltage to rise.

電子中和層5Xの平均厚さは、20nm以上60nm以下であるのが好ましく、20nm以上50nm以下であるのがより好ましく、30nm以上50nm以下であるのがさらに好ましい。これにより、発光素子1の駆動電圧を抑えつつ、電子中和層5Xの電子トラップ性を適度なものとすることができる。また、発光素子1内に光の取出しを良好に行える光学的なギャップを容易に形成することができる。   The average thickness of the electron neutralizing layer 5X is preferably 20 nm or more and 60 nm or less, more preferably 20 nm or more and 50 nm or less, and further preferably 30 nm or more and 50 nm or less. Thereby, the electron trapping property of the electron neutralizing layer 5X can be made moderate while suppressing the driving voltage of the light emitting element 1. In addition, an optical gap capable of satisfactorily extracting light can be easily formed in the light emitting element 1.

これに対し、かかる平均厚さが前記下限値未満であると、電子中和層5Xの電子トラップ性材料の濃度や構成材料等によっては、電子中和層5Xの電子トラップ性が低下する傾向を示す。一方、かかる平均厚さが前記上限値を超えると、上記光学的なギャップの形成が難しくなり、また、発光素子1の駆動電圧が上昇する傾向を示す。
また、発光素子1内から光の取出しを考慮すると、陽極3と発光層6との間の距離(すなわち、本実施形態では正孔注入層4と正孔輸送層5と電子中和層5Xとの合計厚さ)が70nm以下であるのが好ましい。したがって、本実施形態では、陽極3と発光層6との間の距離が前記範囲内となるように、正孔注入層4や正孔輸送層5の厚さに応じて、電子中和層5Xの厚さが設定される。
On the other hand, when the average thickness is less than the lower limit, the electron trapping property of the electron neutralizing layer 5X tends to be lowered depending on the concentration of the electron trapping material of the electron neutralizing layer 5X, the constituent material, and the like. Show. On the other hand, when the average thickness exceeds the upper limit, it becomes difficult to form the optical gap, and the driving voltage of the light emitting element 1 tends to increase.
In consideration of light extraction from the light emitting element 1, the distance between the anode 3 and the light emitting layer 6 (that is, in the present embodiment, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the electron neutralizing layer 5X, Is preferably 70 nm or less. Therefore, in the present embodiment, the electron neutralization layer 5X is formed according to the thickness of the hole injection layer 4 or the hole transport layer 5 so that the distance between the anode 3 and the light emitting layer 6 is within the above range. Is set.

(発光層)
この発光層6は、前述した陽極3と陰極9との間に通電することにより、発光するものである。
このような発光層6は、発光材料を含んで構成されている。
このような発光材料としては、特に限定されず、各種蛍光材料、各種燐光材料を1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
(Light emitting layer)
The light emitting layer 6 emits light when energized between the anode 3 and the cathode 9 described above.
Such a light emitting layer 6 includes a light emitting material.
Such a light-emitting material is not particularly limited, and various fluorescent materials and various phosphorescent materials can be used singly or in combination of two or more.

赤色の蛍光を発する蛍光材料としては、特に限定されず、例えば、下記式(3)で表わされるテトラアリールジインデノペリレン誘導体等のペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、2−(1,1−ジメチルエチル)−6−(2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1,1,7,7−テトラメチル−1H,5H−ベンゾ(ij)キノリジン−9−イル)エテニル)−4H−ピラン−4H−イリデン)プロパンジニトリル(DCJTB)、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)等を挙げられる。   The fluorescent material that emits red fluorescence is not particularly limited, and examples thereof include perylene derivatives such as tetraaryldiindenoperylene derivatives represented by the following formula (3), europium complexes, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives. Porphyrin derivative, Nile red, 2- (1,1-dimethylethyl) -6- (2- (2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H, 5H-benzo (Ij) quinolizin-9-yl) ethenyl) -4H-pyran-4H-ylidene) propanedinitrile (DCJTB), 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H- Examples include pyran (DCM).

Figure 0005533497
Figure 0005533497

赤色の燐光を発する燐光材料としては、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも1つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものも挙げられる。より具体的には、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム(アセチルアセトネート)(btp2Ir(acac))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−12H,23H−ポルフィリン−白金(II)、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム、ビス(2−フェニルピリジン)イリジウム(アセチルアセトネート)が挙げられる。 The phosphorescent material that emits red phosphorescence is not particularly limited, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, palladium, and at least one of the ligands of these metal complexes is phenyl. Those having a pyridine skeleton, a bipyridyl skeleton, a porphyrin skeleton and the like are also included. More specifically, tris (1-phenylisoquinoline) iridium, bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl) pyridinate-N, C 3 ′] iridium (acetylacetonate) (btp2Ir ( acac)), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-12H, 23H-porphyrin-platinum (II), bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl ) Pyridinate-N, C 3 '] iridium, bis (2-phenylpyridine) iridium (acetylacetonate).

青色の蛍光を発する蛍光材料としては、特に限定されず、例えば、下記式(4)で表わされるジスチリルジアミン系化合物等のジスチリルアミン誘導体、モノスチリルジアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、4,4’−ビス(9−エチル−3−カルバゾビニレン)−1,1’−ビフェニル(BCzVBi)等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。   The fluorescent material that emits blue fluorescence is not particularly limited. For example, a distyrylamine derivative such as a distyryldiamine compound represented by the following formula (4), a monostyryldiamine derivative, a fluoranthene derivative, a pyrene derivative, perylene, and Perylene derivatives, anthracene derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, chrysene derivatives, phenanthrene derivatives, distyrylbenzene derivatives, tetraphenylbutadiene, 4,4′-bis (9-ethyl-3-carbazovinylene) -1 , 1′-biphenyl (BCzVBi) and the like, and one of these can be used alone or in combination of two or more.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

青色の燐光を発する燐光材料としては、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられる。より具体的には、ビス[4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C’]−ピコリネート−イリジウム、トリス[2−(2,4−ジフルオロフェニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム、ビス[2−(3,5−トリフルオロメチル)ピリジネート−N,C’]−ピコリネート−イリジウム、ビス(4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C’)イリジウム(アセチルアセトネート)が挙げられる。
緑色の蛍光を発する蛍光材料としては、特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、下記式(5)で表わされるキナクリドン誘導体等のキナクリドンおよびその誘導体、9,10−ビス[(9−エチル−3−カルバゾール)−ビニレニル]−アントラセン等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
The phosphorescent material that emits blue phosphorescence is not particularly limited, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. More specifically, bis [4,6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, tris [2- (2,4-difluorophenyl) pyridinate -N, C 2'] iridium , bis [2- (3,5-trifluoromethyl) pyridinate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, bis (4,6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2') iridium (acetylacetonate ).
The fluorescent material emitting green fluorescence is not particularly limited. For example, quinacridone such as coumarin derivatives, quinacridone derivatives represented by the following formula (5) and derivatives thereof, 9,10-bis [(9-ethyl-3- Carbazole) -vinylenyl] -anthracene and the like, and one of these may be used alone or two or more of them may be used in combination.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

緑色の燐光を発する燐光材料としては、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられる。中でも、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも1つが、フェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものが好ましい。より具体的には、ファク−トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy))、ビス(2−フェニルピリジネート−N,C’)イリジウム(アセチルアセトネート)、ファク−トリス[5−フルオロ−2−(5−トリフルオロメチル−2−ピリジン)フェニル−C,N]イリジウムが挙げられる。 The phosphorescent material that emits green phosphorescence is not particularly limited, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. Among these, at least one of the ligands of these metal complexes preferably has a phenylpyridine skeleton, a bipyridyl skeleton, a porphyrin skeleton, or the like. More specifically, fac-tris (2-phenylpyridine) iridium (Ir (ppy) 3 ), bis (2-phenylpyridinate-N, C 2 ′) iridium (acetylacetonate), fac-tris [ 5-fluoro-2- (5-trifluoromethyl-2-pyridine) phenyl-C, N] iridium.

黄色の蛍光を発する蛍光材料としては、例えば、ルブレン系材料等のナフタセン骨格を有する化合物であって、ナフタセンにアリール基(好ましくはフェニル基)が任意の位置で任意の数(好ましくは2〜6)置換された化合物、モノインデノペリレン誘導体等を用いることができる。
このような発光材料(蛍光材料や燐光材料)は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。2種以上の発光材料を組み合わせて用いる場合、発光層6は、含まれる発光材料が互い異なる複数の層(発光層)を積層した積層体の形態としてもよいし、複数種の発光材料を混合した混合材料で構成された層の形態としてもよい。なお、発光層6が複数の発光層で構成されている場合、発光層同士の間に発光に寄与しない層(中間層)が介在していてもよい。
The fluorescent material emitting yellow fluorescence is, for example, a compound having a naphthacene skeleton such as a rubrene-based material, in which an aryl group (preferably a phenyl group) has an arbitrary number (preferably 2 to 6) at an arbitrary position. ) Substituted compounds, monoindenoperylene derivatives and the like can be used.
Such light emitting materials (fluorescent materials and phosphorescent materials) can be used singly or in combination of two or more. When two or more kinds of light emitting materials are used in combination, the light emitting layer 6 may be in the form of a laminate in which a plurality of layers (light emitting layers) having different light emitting materials are laminated, or a mixture of plural kinds of light emitting materials. It is good also as a form of the layer comprised with the mixed material which did. In addition, when the light emitting layer 6 is comprised by the several light emitting layer, the layer (intermediate layer) which does not contribute to light emission may interpose between light emitting layers.

また、発光層6の構成材料としては、前述したような発光材料に加えて、この発光材料がゲスト材料(ドーパント)として添加(担持)されるホスト材料を用いてもよい。このホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを発光材料に移動(フェルスター移動またはデクスター移動)させて、発光材料を励起する機能を有する。このようなホスト材料は、例えば、ゲスト材料である発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。   As a constituent material of the light emitting layer 6, in addition to the light emitting material as described above, a host material to which this light emitting material is added (supported) as a guest material (dopant) may be used. This host material recombines holes and electrons to generate excitons and to transfer the exciton energy to the luminescent material (Felster movement or Dexter movement) to excite the luminescent material. Have. Such a host material can be used by, for example, doping a host material with a light-emitting material that is a guest material as a dopant.

このようなホスト材料としては、用いる発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、発光材料が蛍光材料を含む場合、例えば、ジスチリルアリーレン誘導体、下記式(7)で表わされる化合物等のナフタセン誘導体、下記式(6)で表わされる化合物、2−t−ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(TBADN)等のアントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの4量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ルブレンおよびその誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Such a host material is not particularly limited as long as it exhibits the functions described above for the light emitting material to be used. When the light emitting material includes a fluorescent material, for example, a distyrylarylene derivative, the following formula A naphthacene derivative such as a compound represented by (7), a compound represented by the following formula (6), an anthracene derivative such as 2-t-butyl-9,10-di (2-naphthyl) anthracene (TBADN), a perylene derivative, Distyrylbenzene derivatives, distyrylamine derivatives, quinolinolato metal complexes such as tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ), triarylamine derivatives such as tetramers of triphenylamine, oxadiazole derivatives, rubrene and Its derivatives, silole derivatives, dicarbazole derivatives, oligothiophene Derivatives, benzopyran derivatives, triazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, quinoline derivatives, 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), etc. Or in combination of two or more.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

Figure 0005533497
Figure 0005533497

特に、前述した電子中和層5Xに含まれる電子トラップ性材料がアセン系材料である場合、発光層6は、ホスト材料としてテトラセン誘導体(ナフタセン誘導体)を用いるとともに、ゲスト材料としてジインデノペリレン系誘導体を用いるのが好ましい。このようなテトラセン誘導体およびジインデノペリレン系誘導体を含む発光層6は、赤色の発光を効率的に行うことができる。   In particular, when the electron trapping material contained in the electron neutralizing layer 5X is an acene-based material, the light-emitting layer 6 uses a tetracene derivative (naphthacene derivative) as a host material and a diindenoperylene-based material as a guest material. Derivatives are preferably used. The light emitting layer 6 containing such a tetracene derivative and a diindenoperylene derivative can efficiently emit red light.

また、発光材料が燐光材料を含む場合、第1のホスト材料としては、例えば、3−フェニル−4−(1’−ナフチル)−5−フェニルカルバゾール、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)等のカルバゾール誘導体等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
発光層6がホスト材料を含む場合、発光層6中における発光材料の含有量(ドープ量)は、0.01〜10wt%であるのが好ましく、0.1〜5wt%であるのがより好ましい。発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
また、発光層6の平均厚さは、特に限定されないが、1〜60nm程度であるのが好ましく、3〜50nm程度であるのがより好ましい。
When the light-emitting material includes a phosphorescent material, examples of the first host material include 3-phenyl-4- (1′-naphthyl) -5-phenylcarbazole, 4,4′-N, N′-di (). Examples thereof include carbazole derivatives such as carbazole biphenyl (CBP), and one of these can be used alone or in combination of two or more.
When the light emitting layer 6 contains a host material, the content (doping amount) of the light emitting material in the light emitting layer 6 is preferably 0.01 to 10 wt%, more preferably 0.1 to 5 wt%. . Luminous efficiency can be optimized by setting the content of the light emitting material within such a range.
Moreover, although the average thickness of the light emitting layer 6 is not specifically limited, It is preferable that it is about 1-60 nm, and it is more preferable that it is about 3-50 nm.

(電子輸送層)
電子輸送層7は、陰極9から電子注入層8を介して注入された電子を発光層6に輸送する機能を有するものである。
電子輸送層7の構成材料(電子輸送材料)としては、例えば、下記式(8)で表わされるトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)等の8−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、下記式(9)で表わされる化合物等のアザインドリジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Electron transport layer)
The electron transport layer 7 has a function of transporting electrons injected from the cathode 9 through the electron injection layer 8 to the light emitting layer 6.
As a constituent material (electron transport material) of the electron transport layer 7, for example, 8-quinolinol or a derivative thereof such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) represented by the following formula (8) is used as a ligand. Quinoline derivatives such as organometallic complexes, azaindolizine derivatives such as compounds represented by the following formula (9), oxadiazole derivatives, perylene derivatives, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, nitro-substituted fluorene derivatives These can be used, and one or more of these can be used in combination.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

Figure 0005533497
Figure 0005533497

また、電子輸送層7は、前述したような電子輸送性材料のうち2種以上を組み合わせて用いる場合、2種以上の電子輸送性材料を混合した混合材料で構成されていてもよいし、異なる電子輸送性材料で構成された複数の層を積層して構成されていてもよい。
電子輸送層7を異なる電子輸送性材料で構成された複数の層を積層して構成する場合、陽極側の層(第1の電子輸送層)の構成材料としては、発光層6に電子を注入することができるものであればよいが、例えば、アントラセン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)等の8−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体等を用いるのが好ましく、また、陰極側の層(第2の電子輸送層)の構成材料としては、電子注入層8が電子を受け取るとともに第1の電子輸送層へ電子を注入することができるものであればよいが、例えば、上記式(9)で表わされる化合物等のアザインドリジン誘導体、ピリジン誘導体、フェナントリン誘導体等を用いるのが好ましい。
In addition, when the electron transport layer 7 is used in combination of two or more of the electron transport materials as described above, the electron transport layer 7 may be composed of a mixed material in which two or more electron transport materials are mixed, or different. You may be comprised by laminating | stacking the some layer comprised with the electron transport material.
When the electron transport layer 7 is formed by laminating a plurality of layers made of different electron transport materials, electrons are injected into the light emitting layer 6 as a constituent material of the anode side layer (first electron transport layer). For example, quinoline derivatives such as anthracene derivatives, organometallic complexes having 8-quinolinol or its derivatives such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) as a ligand, etc. In addition, as a constituent material of the cathode side layer (second electron transport layer), the electron injection layer 8 can receive electrons and inject electrons into the first electron transport layer. However, it is preferable to use, for example, an azaindolizine derivative such as a compound represented by the above formula (9), a pyridine derivative, a phenanthrin derivative, or the like.

また、前記第1の電子輸送層の平均厚さは、前記第2の電子輸送層の平均厚さよりも薄いのが好ましく、前記第2の電子輸送層の平均厚さに対して0.1倍以上0.4倍以下であるのがより好ましい。これにより、電子輸送層7の電子輸送性および電子注入性を優れたものとすることができる。
電子輸送層7の平均厚さは、特に限定されないが、0.5〜100nm程度であるのが好ましく、1〜50nm程度であるのがより好ましい。
The average thickness of the first electron transport layer is preferably thinner than the average thickness of the second electron transport layer, and is 0.1 times the average thickness of the second electron transport layer. More preferably, it is 0.4 times or less. Thereby, the electron transport property and the electron injection property of the electron transport layer 7 can be made excellent.
Although the average thickness of the electron carrying layer 7 is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.5-100 nm, and it is more preferable that it is about 1-50 nm.

(電子注入層)
電子注入層8は、陰極9からの電子注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層8の構成材料(電子注入材料)としては、例えば、各種の無機絶縁材料、各種の無機半導体材料が挙げられる。
このような無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物)、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層8を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。特にアルカリ金属化合物(アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物等)は仕事関数が非常に小さく、これを用いて電子注入層8を構成することにより、発光素子1は、高い輝度が得られるものとなる。
(Electron injection layer)
The electron injection layer 8 has a function of improving the electron injection efficiency from the cathode 9.
Examples of the constituent material (electron injection material) of the electron injection layer 8 include various inorganic insulating materials and various inorganic semiconductor materials.
Examples of such inorganic insulating materials include alkali metal chalcogenides (oxides, sulfides, selenides, tellurides), alkaline earth metal chalcogenides, alkali metal halides, and alkaline earth metal halides. Of these, one or two or more of these can be used in combination. By forming the electron injection layer 8 using these as main materials, the electron injection property can be further improved. In particular, alkali metal compounds (alkali metal chalcogenides, alkali metal halides, and the like) have a very low work function, and the light-emitting element 1 can be obtained with high luminance by forming the electron injection layer 8 using the work function. Become.

アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、LiO、LiO、NaS、NaSe、NaO等が挙げられる。
アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、MgO、CaSe等が挙げられる。
アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、CsF、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等が挙げられる。
アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF、BaF、SrF、MgF、BeF等が挙げられる。
Examples of the alkali metal chalcogenide include Li 2 O, LiO, Na 2 S, Na 2 Se, and NaO.
Examples of the alkaline earth metal chalcogenide include CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, and CaSe.
Examples of the alkali metal halide include CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, and NaCl.
Examples of the alkaline earth metal halide include CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , MgF 2 , and BeF 2 .

また、無機半導体材料としては、例えば、Li、Na、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Cd、Mg、Si、Ta、SbおよびZnのうちの少なくとも1つの元素を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
電子注入層8の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜1000nm程度であるのが好ましく、0.2〜100nm程度であるのがより好ましく、0.2〜50nm程度であるのがさらに好ましい。
In addition, as the inorganic semiconductor material, for example, an oxide including at least one element of Li, Na, Ba, Ca, Sr, Yb, Al, Ga, In, Cd, Mg, Si, Ta, Sb, and Zn , Nitrides, oxynitrides, and the like, and one or more of these can be used in combination.
The average thickness of the electron injection layer 8 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 1000 nm, more preferably about 0.2 to 100 nm, and about 0.2 to 50 nm. Further preferred.

(封止部材)
封止部材10は、陽極3、積層体14、および陰極9を覆うように設けられ、これらを気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。封止部材10を設けることにより、発光素子1の信頼性の向上や、変質・劣化の防止(耐久性向上)等の効果が得られる。
封止部材10の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiまたはこれらを含む合金、酸化シリコン、各種樹脂材料等を挙げることができる。なお、封止部材10の構成材料として導電性を有する材料を用いる場合には、短絡を防止するために、封止部材10と陽極3、積層体14および陰極9との間には、必要に応じて、絶縁膜を設けるのが好ましい。
(Sealing member)
The sealing member 10 is provided so as to cover the anode 3, the laminate 14, and the cathode 9, and has a function of hermetically sealing them and blocking oxygen and moisture. By providing the sealing member 10, effects such as improvement of the reliability of the light emitting element 1 and prevention of deterioration / deterioration (improvement of durability) can be obtained.
Examples of the constituent material of the sealing member 10 include Al, Au, Cr, Nb, Ta, Ti, alloys containing these, silicon oxide, various resin materials, and the like. In addition, when using the material which has electroconductivity as a constituent material of the sealing member 10, in order to prevent a short circuit, between the sealing member 10 and the anode 3, the laminated body 14, and the cathode 9 is required. Accordingly, an insulating film is preferably provided.

また、封止部材10は、平板状として、基板2と対向させ、これらの間を、例えば熱硬化性樹脂等のシール材で封止するようにしてもよい。
以上のように構成された発光素子1によれば、電子中和層5Xが正孔輸送性材料を含むので、電子中和層5Xが発光層6へ正孔を効率的に輸送するとともに発光層6からの電子をブロックすることができる。そのため、発光層6に効率的に電子および正孔を閉じ込めることができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
Further, the sealing member 10 may be formed in a flat plate shape so as to face the substrate 2 and be sealed with a sealing material such as a thermosetting resin.
According to the light-emitting element 1 configured as described above, since the electron neutralizing layer 5X includes a hole transporting material, the electron neutralizing layer 5X efficiently transports holes to the light emitting layer 6 and emits light. Electrons from 6 can be blocked. Therefore, electrons and holes can be efficiently confined in the light emitting layer 6. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1 can be increased.

特に、発光素子1では、電子中和層5Xが電子トラップ性材料を含むので、電子中和層5Xが電子をブロックしきれなくても、電子中和層5Xが発光層6からの電子を中和(消滅)させることができる。これにより、電子中和層5Xに対して陽極3側に設けられた有機層(例えば正孔注入層4、正孔輸送層5)が電子により劣化するのを防止することができる。そのため、高電流密度での電流で駆動する場合においても、発光素子1の長寿命化を図ることができる。
以上のような発光素子1は、例えば、次のようにして製造することができる。
In particular, in the light-emitting element 1, since the electron neutralizing layer 5X includes an electron trapping material, the electron neutralizing layer 5X is capable of absorbing electrons from the light emitting layer 6 even if the electron neutralizing layer 5X cannot block the electrons. It can be summed (disappeared). Thereby, it is possible to prevent the organic layers (for example, the hole injection layer 4 and the hole transport layer 5) provided on the anode 3 side with respect to the electron neutralization layer 5X from being deteriorated by electrons. Therefore, the life of the light-emitting element 1 can be extended even when driven with a current at a high current density.
The above light emitting element 1 can be manufactured as follows, for example.

[1] まず、基板2を用意し、この基板2上に陽極3を形成する。
陽極3は、例えば、プラズマCVD、熱CVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着等の乾式メッキ法、電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
[1] First, the substrate 2 is prepared, and the anode 3 is formed on the substrate 2.
The anode 3 is, for example, a chemical vapor deposition method (CVD) such as plasma CVD or thermal CVD, a dry plating method such as vacuum deposition, a wet plating method such as electrolytic plating, a thermal spraying method, a sol-gel method, a MOD method, or a metal foil. It can be formed by using, for example, bonding.

[2] 次に、陽極3上に正孔注入層4を形成する。
正孔注入層4は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
なお、正孔注入層4は、例えば、正孔注入材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料を、陽極3上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[2] Next, the hole injection layer 4 is formed on the anode 3.
The hole injection layer 4 is preferably formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the like.
For example, the hole injection layer 4 is dried (desolvent or desorbed) after supplying the hole injection layer forming material obtained by dissolving the hole injection material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the anode 3. It can also be formed by using a dispersion medium.

正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層4を比較的容易に形成することができる。
正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
As a method for supplying the hole injection layer forming material, for example, various coating methods such as a spin coating method, a roll coating method, and an ink jet printing method can be used. By using such a coating method, the hole injection layer 4 can be formed relatively easily.
Examples of the solvent or dispersion medium used for the preparation of the hole injection layer forming material include various inorganic solvents, various organic solvents, or mixed solvents containing these.

なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
また、本工程に先立って、陽極3の上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極3の上面を親液性を付与すること、陽極3の上面に付着する有機物を除去(洗浄)すること、陽極3の上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー100〜800W程度、酸素ガス流量50〜100mL/min程度、被処理部材(陽極3)の搬送速度0.5〜10mm/sec程度、基板2の温度70〜90℃程度とするのが好ましい。
The drying can be performed, for example, by standing in an atmospheric pressure or a reduced pressure atmosphere, heat treatment, or blowing an inert gas.
Prior to this step, the upper surface of the anode 3 may be subjected to oxygen plasma treatment. Thereby, it is possible to impart lyophilicity to the upper surface of the anode 3, remove (clean) organic substances adhering to the upper surface of the anode 3, adjust the work function near the upper surface of the anode 3, and the like. .
Here, the oxygen plasma treatment conditions include, for example, a plasma power of about 100 to 800 W, an oxygen gas flow rate of about 50 to 100 mL / min, a conveyance speed of the member to be treated (anode 3) of about 0.5 to 10 mm / sec, and a substrate. The temperature of 2 is preferably about 70 to 90 ° C.

[3] 次に、正孔注入層4上に正孔輸送層5を形成する。
正孔輸送層5は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
なお、正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔輸送層形成用材料を、正孔注入層4上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[3] Next, the hole transport layer 5 is formed on the hole injection layer 4.
The hole transport layer 5 is preferably formed by a vapor phase process using, for example, a CVD method, a dry plating method such as vacuum evaporation or sputtering.
By supplying a hole transport layer forming material obtained by dissolving a hole transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the hole injection layer 4 and then drying (desolving or dedispersing medium) Can also be formed.

[4] 次に、正孔輸送層5上に、電子中和層5Xを形成する。
電子中和層5Xは、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
なお、正孔輸送材料および電子トラップ性材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子中和層形成用材料を、正孔輸送層5上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[4] Next, the electron neutralization layer 5 </ b> X is formed on the hole transport layer 5.
The electron neutralizing layer 5X is preferably formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the like.
An electron neutralizing layer forming material obtained by dissolving a hole transporting material and an electron trapping material in a solvent or dispersing in a dispersion medium is supplied onto the hole transporting layer 5 and then dried (desolvent or dedispersed). It can also be formed by the medium.

[5] 次に、電子中和層5X上に、発光層6を形成する。
発光層6は、例えば、真空蒸着等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[6] 次に、発光層6上に、電子輸送層7を形成する。
電子輸送層7は、例えば、真空蒸着等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
なお、電子輸送層7は、例えば、電子輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子輸送層形成用材料を、発光層6上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[5] Next, the light emitting layer 6 is formed on the electron neutralizing layer 5X.
The light emitting layer 6 can be formed, for example, by a vapor phase process using a dry plating method such as vacuum deposition.
[6] Next, the electron transport layer 7 is formed on the light emitting layer 6.
The electron transport layer 7 is preferably formed, for example, by a vapor phase process using a dry plating method such as vacuum deposition.
For example, the electron transport layer 7 is dried (desolvent or dedispersion medium) after supplying an electron transport layer forming material obtained by dissolving an electron transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the light emitting layer 6. ).

[7] 次に、電子輸送層7上に、電子注入層8を形成する。
電子注入層8の構成材料として無機材料を用いる場合、電子注入層8は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセス、無機微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[8] 次に、電子注入層8上に、陰極9を形成する。
陰極9は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合、金属微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
以上のような工程を経て、発光素子1が得られる。
最後に、得られた発光素子1を覆うように封止部材10を被せ、基板2に接合する。
[7] Next, the electron injection layer 8 is formed on the electron transport layer 7.
In the case where an inorganic material is used as the constituent material of the electron injection layer 8, the electron injection layer 8 is formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the application and baking of inorganic fine particle ink. Etc. can be used.
[8] Next, the cathode 9 is formed on the electron injection layer 8.
The cathode 9 can be formed by using, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, bonding of metal foil, application and firing of metal fine particle ink, or the like.
The light emitting element 1 is obtained through the steps as described above.
Finally, the sealing member 10 is covered so as to cover the obtained light emitting element 1 and bonded to the substrate 2.

以上説明したような発光素子1は、それぞれ、例えば、電子写真方式を採用するプリンター、複写機、ファクシミリ装置等の露光用ヘッドの光源、センサー用の光源、照明、ピコプロジェクター(ハンディプロジェクター)用の光源、スキャナー用の光源、反射型液晶表示装置のフロントライト用の光源等の発光装置として使用することができる。このような発光装置は、長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。   The light emitting device 1 as described above is used for, for example, a light source for an exposure head, a light source for a sensor, an illumination, a pico projector (handy projector) for an electrophotographic printer, copying machine, facsimile machine or the like. It can be used as a light source such as a light source, a light source for a scanner, and a light source for a front light of a reflective liquid crystal display device. Such a light-emitting device has a long-life light-emitting element, and thus has high reliability.

また、複数の発光素子をマトリックス状に配置することにより、例えば、ディスプレイ装置(本発明の表示装置)を構成することができる。このような表示装置は、長期に亘り高品位な画像を表示し得るとともに、信頼性に優れる。
なお、ディスプレイ装置の駆動方式としては、特に限定されず、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリックス方式のいずれであってもよい。
また、本発明の発光素子、光源装置または表示装置を備える電子機器は、信頼性に優れる。
Further, by arranging a plurality of light emitting elements in a matrix, for example, a display device (display device of the present invention) can be configured. Such a display device can display a high-quality image over a long period of time and has excellent reliability.
The driving method of the display device is not particularly limited, and may be either an active matrix method or a passive matrix method.
In addition, an electronic device including the light emitting element, the light source device, or the display device of the present invention is excellent in reliability.

次に、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の一例について説明する。
図2は、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
図2に示すディスプレイ装置100は、基板21と、サブ画素100、100、100に対応して設けられた複数の発光素子1、1、1およびカラーフィルタ19、19、19と、各発光素子1、1、1をそれぞれ駆動するための複数の駆動用トランジスタ24とを有している。ここで、ディスプレイ装置100は、トップエミッション構造のディスプレイパネルである。
Next, an example of a display device to which the display device of the present invention is applied will be described.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a display device to which the display device of the present invention is applied.
The display device 100 shown in FIG. 2 includes a substrate 21 and a plurality of light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B and color filters 19 R , 19 G provided corresponding to the sub-pixels 100 R , 100 G , 100 B. , 19 B and a plurality of driving transistors 24 for driving the light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B , respectively. Here, the display device 100 is a display panel having a top emission structure.

基板21上には、複数の駆動用トランジスタ24が設けられ、これらの駆動用トランジスタ24を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層22が形成されている。
各駆動用トランジスタ24は、シリコンからなる半導体層241と、半導体層241上に形成されたゲート絶縁層242と、ゲート絶縁層242上に形成されたゲート電極243と、ソース電極244と、ドレイン電極245とを有している。
A plurality of driving transistors 24 are provided on the substrate 21, and a planarizing layer 22 made of an insulating material is formed so as to cover these driving transistors 24.
Each driving transistor 24 includes a semiconductor layer 241 made of silicon, a gate insulating layer 242 formed on the semiconductor layer 241, a gate electrode 243 formed on the gate insulating layer 242, a source electrode 244, and a drain electrode. H.245.

平坦化層上には、各駆動用トランジスタ24に対応して発光素子1、1、1が設けられている。
発光素子1は、平坦化層22上に、反射膜32、腐食防止膜33、陽極3、積層体(有機EL発光部)14、陰極13、陰極カバー34がこの順に積層されている。本実施形態では、各発光素子1、1、1の陽極3は、画素電極を構成し、各駆動用トランジスタ24のドレイン電極245に導電部(配線)27により電気的に接続されている。また、各発光素子1、1、1の陰極13は、共通電極とされている。
On the planarizing layer, light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B are provided corresponding to the driving transistors 24.
In the light emitting element 1 R , a reflective film 32, a corrosion preventing film 33, an anode 3, a laminate (organic EL light emitting unit) 14, a cathode 13, and a cathode cover 34 are laminated in this order on the planarizing layer 22. In this embodiment, the anode 3 of each light emitting element 1 R , 1 G , 1 B constitutes a pixel electrode, and is electrically connected to the drain electrode 245 of each driving transistor 24 by a conductive portion (wiring) 27. Yes. The cathodes 13 of the light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B are common electrodes.

図2における発光素子1は、白色発光するものである。例えば、発光素子1の発光層は、赤色に発光する発光層と青色に発光する発光層と緑色に発光する発光層とが積層された積層体、あるいは、青色に発光する発光層と黄色に発光する発光層とが積層された積層体で構成されている。
なお、発光素子1、1の構成は、発光素子1の構成と同様である。また、図2では、図1と同様の構成に関しては、同一符号を付してある。また、反射膜32の構成(特性)は、光の波長に応じて、発光素子1、1、1間で異なっていてもよい。
The light-emitting element 1 R in FIG. 2 is a white light. For example, the light emitting layer of the light-emitting element 1 R is a laminate a light emitting layer are stacked emitting green light emitting layer emitting blue light emitting layer that emits red light, or a light-emitting layer and yellow emitting blue light It is composed of a laminate in which a light emitting layer that emits light is laminated.
The configurations of the light emitting elements 1 G and 1 B are the same as the configuration of the light emitting element 1 R. In FIG. 2, the same reference numerals are assigned to the same configurations as those in FIG. 1. Further, the configuration (characteristics) of the reflective film 32 may be different between the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B depending on the wavelength of light.

隣接する発光素子1、1、1同士の間には、隔壁31が設けられている。また、これらの発光素子1、1、1上には、これらを覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層35が形成されている。
カラーフィルタ19、19、19は、前述したエポキシ層35上に、発光素子1、1、1に対応して設けられている。
A partition wall 31 is provided between the adjacent light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B. An epoxy layer 35 made of an epoxy resin is formed on the light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B so as to cover them.
The color filters 19 R , 19 G , and 19 B are provided on the epoxy layer 35 described above corresponding to the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B.

カラーフィルタ19は、発光素子1からの白色光Wを赤色に変換するものである。また、カラーフィルタ19は、発光素子1からの白色光Wを緑色に変換するものである。また、カラーフィルタ19は、発光素子1からの白色光Wを青色に変換するものである。このようなカラーフィルタ19、19、19を発光素子1、1、1と組み合わせて用いることで、フルカラー画像を表示することができる。 The color filter 19 R is for converting the white light W from the light emitting element 1 R red. The color filter 19 G is for converting the white light W from the light emitting element 1 G to green. The color filter 19 B is for converting the white light W from the light emitting element 1 B to blue. By using such color filters 19 R , 19 G and 19 B in combination with the light emitting elements 1 R , 1 G and 1 B , a full color image can be displayed.

また、隣接するカラーフィルタ19、19、19同士の間には、遮光層36が形成されている。これにより、意図しないサブ画素100、100、100が発光するのを防止することができる。
そして、カラーフィルタ19、19、19および遮光層36上には、これらを覆うように封止基板20が設けられている。
以上説明したようなディスプレイ装置100は、単色表示であってもよく、各発光素子1、1、1に用いる発光材料を選択することにより、カラー表示も可能である。
A light shielding layer 36 is formed between the adjacent color filters 19 R , 19 G , and 19 B. Thereby, it is possible to prevent the unintended subpixels 100 R , 100 G , and 100 B from emitting light.
A sealing substrate 20 is provided on the color filters 19 R , 19 G , 19 B and the light shielding layer 36 so as to cover them.
The display device 100 as described above may be a monochrome display, and color display is also possible by selecting a light emitting material used for each light emitting element 1 R , 1 G , 1 B.

このようなディスプレイ装置100(本発明の表示装置)は、各種の電子機器に組み込むことができる。
図3は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ1100において、表示ユニット1106が備える表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
Such a display device 100 (the display device of the present invention) can be incorporated into various electronic devices.
FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display. The display unit 1106 is rotatable with respect to the main body 1104 via a hinge structure. It is supported by.
In the personal computer 1100, the display unit included in the display unit 1106 is configured by the display device 100 described above.

図4は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、表示部を備えている。
携帯電話機1200において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204 and a mouthpiece 1206, and a display unit.
In the cellular phone 1200, the display unit is configured by the display device 100 described above.

図5は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ1300において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
A display unit is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD, and functions as a finder that displays an object as an electronic image.
In the digital still camera 1300, the display unit is configured by the display device 100 described above.

ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A circuit board 1308 is installed inside the case. The circuit board 1308 is provided with a memory that can store (store) an imaging signal.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side of the case 1302 (on the back side in the illustrated configuration).
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308.

また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。   In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

なお、本発明の電子機器は、図3のパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、図4の携帯電話機、図5のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。   The electronic apparatus of the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, in addition to the personal computer (mobile personal computer) in FIG. 3, the mobile phone in FIG. 4, and the digital still camera in FIG. Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation system, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV Monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers and automatic ticket vending machines for financial institutions), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiographs, ultrasound diagnostic devices, internal Endoscope display device), fish finder, various measuring instruments, Vessels such (e.g., gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, various monitors, and a projection display such as a projector.

以上、本発明の発光素子、発光装置、表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、前述した実施形態では陽極と電子中和層との間に正孔注入層および正孔輸送層が介在する構成について説明したが、陽極と正孔注入層との間、正孔注入層と正孔輸送層との間、および、正孔輸送層と電子中和層との間に、それぞれ、少なくとも1つの他の層(例えば電子や正孔の注入性や輸送性を調整する層)が介在していてもよい。
The light emitting element, the light emitting device, the display device, and the electronic device of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited to these.
For example, in the above-described embodiment, the structure in which the hole injection layer and the hole transport layer are interposed between the anode and the electron neutralization layer has been described. Between the hole transport layer and between the hole transport layer and the electron neutralization layer, at least one other layer (for example, a layer for adjusting the injection and transport properties of electrons and holes) It may be interposed.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.発光素子の製造
(実施例1)
<1> まず、平均厚さ0.5mmの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ100nmのITO電極(陽極)を形成した。
そして、基板をアセトン、2−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理およびアルゴンプラズマ処理を施した。これらのプラズマ処理は、それぞれ、基板を70〜90℃に加温した状態で、プラズマパワー100W、ガス流量20sccm、処理時間5secで行った。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Production of light emitting device (Example 1)
<1> First, a transparent glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was prepared. Next, an ITO electrode (anode) having an average thickness of 100 nm was formed on the substrate by sputtering.
And after immersing a board | substrate in order of acetone and 2-propanol and ultrasonically cleaning, oxygen plasma treatment and argon plasma treatment were performed. Each of these plasma treatments was performed at a plasma power of 100 W, a gas flow rate of 20 sccm, and a treatment time of 5 seconds with the substrate heated to 70 to 90 ° C.

<2> 次に、ITO電極上に、前記式(1)で表わされるベンジジン誘導体(正孔注入性材料)を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ40nmの正孔注入層を形成した。
<3> 次に、正孔注入層上に、前記式(2)で表わされるベンジジン誘導体(正孔輸送性材料)を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ10nmの正孔輸送層を形成した。
<4> 次に、正孔輸送層上に、前記式(2)で表わされるベンジジン誘導体(正孔輸送性材料)と、下記式(10)で表わされるアントラセン誘導体(電子トラップ性材料)とを真空蒸着法により共蒸着させ、平均厚さ20nmの電子中和層を形成した。
ここで、電子中和層は、前記式(2)で表わされるベンジジン誘導体(正孔輸送性材料)と、下記式(10)で表わされるアントラセン誘導体(電子トラップ性材料)との混合材料で構成されていた。その混合比(重量比)は、(ベンジジン誘導体):(アントラセン誘導体)=50:50であった。
<2> Next, a benzidine derivative (hole injection material) represented by the formula (1) was deposited on the ITO electrode by a vacuum deposition method to form a hole injection layer having an average thickness of 40 nm.
<3> Next, a benzidine derivative (hole transporting material) represented by the above formula (2) was deposited on the hole injection layer by a vacuum deposition method to form a hole transport layer having an average thickness of 10 nm. .
<4> Next, on the hole transport layer, a benzidine derivative (hole transport material) represented by the above formula (2) and an anthracene derivative (electron trap material) represented by the following formula (10). Co-evaporation was performed by a vacuum deposition method to form an electron neutralization layer having an average thickness of 20 nm.
Here, the electron neutralizing layer is composed of a mixed material of a benzidine derivative (hole transporting material) represented by the above formula (2) and an anthracene derivative (electron trapping material) represented by the following formula (10). It had been. The mixing ratio (weight ratio) was (benzidine derivative) :( anthracene derivative) = 50: 50.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

<5> 次に、電子中和層上に、赤色発光層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ40nmの赤色発光層(発光層)を形成した。赤色発光層の構成材料としては、赤色発光材料(ゲスト材料)として前記式(3)で表わされるテトラアリールジインデノペリレン誘導体を用い、ホスト材料として前記式(7)で表わされるナフタセン誘導体を用いた。また、赤色発光層中の発光材料(ドーパント)の含有量(ドープ濃度)を1.0wt%とした。   <5> Next, the constituent material of the red light emitting layer was vapor-deposited on the electron neutralizing layer by a vacuum vapor deposition method to form a red light emitting layer (light emitting layer) having an average thickness of 40 nm. As a constituent material of the red light emitting layer, a tetraaryldiindenoperylene derivative represented by the above formula (3) is used as a red light emitting material (guest material), and a naphthacene derivative represented by the above formula (7) is used as a host material. It was. Further, the content (dope concentration) of the light emitting material (dopant) in the red light emitting layer was 1.0 wt%.

<6> 次に、赤色発光層上に、前記式(8)で表わされるトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ5nmの第1の電子輸送層を形成した。
<7> 次に、第1の電子輸送層上に、前記式(9)で表わされるアザインドリジン誘導体を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ25nmの第2の電子輸送層を形成した。
これにより、第1の電子輸送層および第2の電子輸送層が積層されてなる電子輸送層を得た。
<6> Next, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) represented by the above formula (8) is formed on the red light emitting layer by a vacuum deposition method, and the first electron transport having an average thickness of 5 nm is performed. A layer was formed.
<7> Next, an azaindolizine derivative represented by the formula (9) was formed on the first electron transport layer by a vacuum deposition method, thereby forming a second electron transport layer having an average thickness of 25 nm. .
Thereby, an electron transport layer in which the first electron transport layer and the second electron transport layer were laminated was obtained.

<8> 次に、電子輸送層の第2の電子輸送層上に、フッ化リチウム(LiF)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ1nmの電子注入層を形成した。
<9> 次に、電子注入層上に、Alを真空蒸着法により成膜した。これにより、Alで構成される平均厚さ150nmの陰極を形成した。
<10> 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー(封止部材)を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、発光素子を製造した。
<8> Next, on the second electron transport layer of the electron transport layer, lithium fluoride (LiF) was formed by a vacuum vapor deposition method to form an electron injection layer having an average thickness of 1 nm.
<9> Next, Al was formed into a film by the vacuum evaporation method on the electron injection layer. Thereby, a cathode having an average thickness of 150 nm made of Al was formed.
<10> Next, a glass protective cover (sealing member) was placed over the formed layers, and fixed and sealed with an epoxy resin.
The light emitting device was manufactured through the above steps.

(実施例2)
正孔注入層の平均厚さを30nmとし、電子中和層の平均厚さを30nmとした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(実施例3)
正孔注入層の平均厚さを10nmとし、電子中和層の平均厚さを50nmとした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 2)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the average thickness of the hole injection layer was 30 nm and the average thickness of the electron neutralizing layer was 30 nm.
(Example 3)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the average thickness of the hole injection layer was 10 nm and the average thickness of the electron neutralizing layer was 50 nm.

(実施例4)
正孔注入層の平均厚さを5nmとし、正孔輸送層の平均厚さを5nmとし、電子中和層の平均厚さを60nmとした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(実施例5)
正孔注入層の平均厚さを10nmとし、電子中和層の平均厚さを50nmとするとともに、電子中和層におけるベンジジン誘導体およびアントラセン誘導体の混合比(重量比)を、(ベンジジン誘導体):(アントラセン誘導体)=70:30とした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
Example 4
The light emitting device is the same as Example 1 except that the average thickness of the hole injection layer is 5 nm, the average thickness of the hole transport layer is 5 nm, and the average thickness of the electron neutralizing layer is 60 nm. Manufactured.
(Example 5)
The average thickness of the hole injection layer is 10 nm, the average thickness of the electron neutralization layer is 50 nm, and the mixing ratio (weight ratio) of the benzidine derivative and the anthracene derivative in the electron neutralization layer is (benzidine derivative): (Anthracene derivative) = A light emitting device was produced in the same manner as in Example 1 except that 70:30.

(実施例6)
正孔注入層の平均厚さを10nmとし、電子中和層の平均厚さを50nmとするとともに、電子中和層におけるベンジジン誘導体およびアントラセン誘導体の混合比(重量比)を、(ベンジジン誘導体):(アントラセン誘導体)=40:60とした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 6)
The average thickness of the hole injection layer is 10 nm, the average thickness of the electron neutralization layer is 50 nm, and the mixing ratio (weight ratio) of the benzidine derivative and the anthracene derivative in the electron neutralization layer is (benzidine derivative): (Anthracene derivative) = A light emitting device was produced in the same manner as in Example 1 except that 40:60.

(実施例7)
正孔注入層の平均厚さを10nmとし、電子中和層の平均厚さを50nmとするとともに、電子中和層におけるベンジジン誘導体およびアントラセン誘導体の混合比(重量比)を、(ベンジジン誘導体):(アントラセン誘導体)=20:80とした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 7)
The average thickness of the hole injection layer is 10 nm, the average thickness of the electron neutralization layer is 50 nm, and the mixing ratio (weight ratio) of the benzidine derivative and the anthracene derivative in the electron neutralization layer is (benzidine derivative): (Anthracene derivative) = A light emitting device was produced in the same manner as in Example 1 except that the ratio was 20:80.

(参考例)
正孔注入層の平均厚さを50nmとし、電子中和層の平均厚さを10nmとした以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(比較例)
正孔注入層の平均厚さを60nmとするとともに、電子中和層を省略した以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Reference example)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the average thickness of the hole injection layer was 50 nm and the average thickness of the electron neutralizing layer was 10 nm.
(Comparative example)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the average thickness of the hole injection layer was 60 nm and the electron neutralization layer was omitted.

2.評価
2−1.発光寿命の評価
参考例、各実施例および比較例について、初期の輝度が60000cd/mとなるような電流密度で直流電源を用いて発光素子に定電流を流しつづけ、その間、輝度計を用いて輝度を測定し、その輝度が初期の輝度の90%となる時間(LT90)を測定した。そして、比較例におけるLT90の時間を1.00として規格化し、参考例、比較例および各実施例のLT90の時間を相対的に評価した。
2. Evaluation 2-1. Evaluation of Luminous Life For Reference Examples, Examples and Comparative Examples, a constant current was continuously supplied to the light emitting element using a DC power source at a current density such that the initial luminance was 60000 cd / m 2 , while a luminance meter was used. The luminance was measured, and the time (LT90) during which the luminance was 90% of the initial luminance was measured. And the time of LT90 in a comparative example was normalized as 1.00, and the time of LT90 of a reference example, a comparative example, and each Example was relatively evaluated.

2−2.発光効率の評価
参考例、各実施例および比較例について、輝度計を用いて輝度を測定しながら、初期の輝度が60000cd/mとなるように、直流電源を用いて発光素子に電流を流し、そのときの電流を測定した。また、このときの発光素子に印加された駆動電圧も同様にして測定した。
2-2. Evaluation of luminous efficiency For the reference example, each example and comparative example, a current was passed through the light emitting element using a DC power source so that the initial luminance was 60000 cd / m 2 while measuring the luminance using a luminance meter. The current at that time was measured. Further, the driving voltage applied to the light emitting element at this time was measured in the same manner.

2−3.発光バランスの評価
参考例、各実施例および比較例について、輝度計を用いて輝度を測定しながら、初期の輝度が60000cd/mとなるように、直流電源を用いて発光素子に電流を流し、そのときの色度を色度計を用いて測定した。
上記の評価結果を表1に示す。
2-3. Evaluation of light emission balance For reference examples, examples, and comparative examples, a current was passed through the light emitting element using a DC power supply so that the initial luminance was 60000 cd / m 2 while measuring the luminance using a luminance meter. The chromaticity at that time was measured using a chromaticity meter.
The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0005533497
Figure 0005533497

表1から明らかなように、各実施例の発光素子は、参考例および比較例の発光素子に比し、長い寿命を有することが分かる。   As can be seen from Table 1, the light emitting elements of the respective examples have a longer lifetime than the light emitting elements of the reference example and the comparative example.

1、1、1、1……発光素子 2……基板 3……陽極 4……正孔注入層 5……正孔輸送層 5X……電子中和層 6……発光層 7……電子輸送層 8……電子注入層 9……陰極 10……封止部材 13……陰極 14……積層体 19、19、19……カラーフィルタ 100……ディスプレイ装置 100、100、100……サブ画素 20……封止基板 21……基板 22……平坦化層 24……駆動用トランジスタ 241……半導体層 242……ゲート絶縁層 243……ゲート電極 244……ソース電極 245……ドレイン電極 27……配線 31……隔壁 32……反射膜 33……腐食防止膜 34……陰極カバー 35……エポキシ層 36……遮光層 1100……パーソナルコンピュータ 1102……キーボード 1104……本体部 1106……表示ユニット 1200……携帯電話機 1202……操作ボタン 1204……受話口 1206……送話口 1300……ディジタルスチルカメラ 1302……ケース(ボディー) 1304……受光ユニット 1306……シャッタボタン 1308……回路基板 1312……ビデオ信号出力端子 1314……データ通信用の入出力端子 1430……テレビモニタ 1440……パーソナルコンピュータ 1,1 R, 1 B, 1 G ...... emitting element 2 ...... substrate 3 ...... anode 4 ...... hole injection layer 5 ...... hole transport layer 5X ...... electron neutralization layer 6 ...... emitting layer 7 ... ... Electron transport layer 8 ... Electron injection layer 9 ... Cathode 10 ... Sealing member 13 ... Cathode 14 ... Laminate 19 B , 19 G , 19 R ... Color filter 100 ... Display device 100 R , 100 G , 100 B ...... Subpixel 20 ...... Sealing substrate 21 ...... Substrate 22 ...... Flattened layer 24 ...... Driving transistor 241 ...... Semiconductor layer 242 ...... Gate insulating layer 243 ...... Gate electrode 244 ...... Source Electrode 245 ... Drain electrode 27 ... Wiring 31 ... Partition 32 ... Reflective film 33 ... Corrosion prevention film 34 ... Cathode cover 35 ... Epoxy layer 36 ... Shading layer 1100 ... Personal computer 1102 ... Key 1104 …… Main body 1106 …… Display unit 1200 …… Cellular phone 1202 …… Operation buttons 1204 …… Earpiece 1206 …… Speaker 1300 …… Digital still camera 1302 …… Case (body) 1304 …… Light reception Unit 1306 ... Shutter button 1308 ... Circuit board 1312 ... Video signal output terminal 1314 ... Input / output terminal for data communication 1430 ... TV monitor 1440 ... Personal computer

Claims (10)

陽極と、
陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられ、前記陽極と前記陰極との間に通電することにより発光する発光層と、
前記陽極と前記発光層との間に前記発光層に接して設けられ、正孔輸送性を有する正孔輸送性材料と、電子トラップ性を有する電子トラップ性材料とを含んで構成された電子中和層とを有し、
前記電子中和層は、前記正孔輸送性材料として、下記式(2)で表わされる化合物を含み、前記電子トラップ性材料として、下記式(10)で表わされる化合物を含むものであることを特徴とする発光素子。
Figure 0005533497
Figure 0005533497
The anode,
A cathode,
A light emitting layer that is provided between the anode and the cathode, and emits light when energized between the anode and the cathode;
An electron that is provided between the anode and the light emitting layer in contact with the light emitting layer and includes a hole transporting material having a hole transporting property and an electron trapping material having an electron trapping property. have a sum layer,
The electron neutralizing layer includes a compound represented by the following formula (2) as the hole transporting material, and a compound represented by the following formula (10) as the electron trapping material. Light emitting element.
Figure 0005533497
Figure 0005533497
前記陽極と前記電子中和層との間に設けられ、正孔輸送性を有する正孔輸送層を有する請求項1に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, further comprising a hole transporting layer provided between the anode and the electron neutralizing layer and having a hole transporting property. 前記陽極と前記正孔輸送層との間に設けられ、正孔注入性を有する正孔注入層を有する請求項2に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 2, further comprising a hole injection layer provided between the anode and the hole transport layer and having a hole injection property. 前記電子中和層は、電子をブロックする機能を有する請求項1ないし3のいずれかに記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, wherein the electron neutralizing layer has a function of blocking electrons. 前記発光層は、ホスト材料としてテトラセン誘導体、ゲスト材料としてジインデノペリレン系誘導体を含む請求項1ないし4のいずれかに記載の発光素子。 The light emitting element according to any one of claims 1 to 4, wherein the light emitting layer includes a tetracene derivative as a host material and a diindenoperylene derivative as a guest material. 前記電子中和層中における前記電子トラップ性材料の含有量は、30wt%以上70wt%以下である請求項1ないしのいずれかに記載の発光素子。 The content of the electron-trapping material in the electron neutralization layer, light-emitting device according to any one of claims 1 to 5 or less 30 wt% or more 70 wt%. 前記電子中和層の平均厚さは、20nm以上60nm以下である請求項1ないしのいずれかに記載の発光素子。 The light emitting device according to any one of claims 1 to 6 , wherein an average thickness of the electron neutralizing layer is 20 nm or more and 60 nm or less. 請求項1ないしのいずれかに記載の発光素子を備えることを特徴とする発光装置。 The light emitting device characterized in that it comprises a device as claimed in any of claims 1 to 7. 請求項に記載の発光装置を備えることを特徴とする表示装置。 A display device comprising the light-emitting device according to claim 8 . 請求項に記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the display device according to claim 9 .
JP2010215080A 2010-09-06 2010-09-27 LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE Active JP5533497B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010215080A JP5533497B2 (en) 2010-09-27 2010-09-27 LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
CN201110263307.7A CN102386341B (en) 2010-09-06 2011-09-02 Light-emitting component, light-emitting device, display unit and electronic equipment
US13/226,070 US8835943B2 (en) 2010-09-06 2011-09-06 Light-emitting element, light-emitting device, display device, and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010215080A JP5533497B2 (en) 2010-09-27 2010-09-27 LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012069857A JP2012069857A (en) 2012-04-05
JP5533497B2 true JP5533497B2 (en) 2014-06-25

Family

ID=46166723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010215080A Active JP5533497B2 (en) 2010-09-06 2010-09-27 LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5533497B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101952706B1 (en) * 2012-07-24 2019-02-28 삼성디스플레이 주식회사 Organic light-emitting device and organic light-emitting display apparatus including the same
JP6083193B2 (en) 2012-11-02 2017-02-22 ソニー株式会社 Image output device, operation method of image output device, electronic circuit, electronic device, and program

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3332491B2 (en) * 1993-08-27 2002-10-07 三洋電機株式会社 Organic EL device
US6565996B2 (en) * 2001-06-06 2003-05-20 Eastman Kodak Company Organic light-emitting device having a color-neutral dopant in a hole-transport layer and/or in an electron-transport layer
JP5104136B2 (en) * 2007-09-04 2012-12-19 セイコーエプソン株式会社 LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5104152B2 (en) * 2007-09-19 2012-12-19 セイコーエプソン株式会社 Organic EL device and electronic device
JP2009295305A (en) * 2008-06-02 2009-12-17 Seiko Epson Corp Light-emitting element, display device, and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012069857A (en) 2012-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4967952B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5728930B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5402134B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5141618B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5573127B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5077055B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5772085B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5229026B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5573102B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
US8835943B2 (en) Light-emitting element, light-emitting device, display device, and electronic apparatus
JP2012038523A (en) Light-emitting element, light-emitting device, display device and electronic device
JP2012186392A (en) Light-emitting element, light-emitting device, display device, and electronic apparatus
US8835911B2 (en) Light emitting element, light emitting device, display, and electronic device
JP2009295305A (en) Light-emitting element, display device, and electronic apparatus
JP5672077B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5434159B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2009289596A (en) Method of manufacturing light-emitting device, and light-emitting device, display device, and electronic equipment
JP5533497B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5601100B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5098871B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2012059419A (en) Light-emitting element, display device and electronic device
JP5605125B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5304910B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP5229022B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2009238737A (en) Light-emitting element, light-emitting device, and electronic unit

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130405

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131030

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131105

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131211

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140401

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5533497

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140414

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350