JP5519326B2 - フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 - Google Patents
フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5519326B2 JP5519326B2 JP2010040653A JP2010040653A JP5519326B2 JP 5519326 B2 JP5519326 B2 JP 5519326B2 JP 2010040653 A JP2010040653 A JP 2010040653A JP 2010040653 A JP2010040653 A JP 2010040653A JP 5519326 B2 JP5519326 B2 JP 5519326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transducer
- sub
- main
- filter
- upper electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004891 communication Methods 0.000 title claims description 31
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 30
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 30
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 30
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 73
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000005236 sound signal Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/0023—Networks for transforming balanced signals into unbalanced signals and vice versa, e.g. baluns, or networks having balanced input and output
- H03H9/0095—Networks for transforming balanced signals into unbalanced signals and vice versa, e.g. baluns, or networks having balanced input and output using bulk acoustic wave devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/583—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques comprising a plurality of piezoelectric layers acoustically coupled
- H03H9/585—Stacked Crystal Filters [SCF]
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/586—Means for mounting to a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
- H03H9/587—Air-gaps
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/703—Networks using bulk acoustic wave devices
- H03H9/706—Duplexers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
- H03H2003/021—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks the resonators or networks being of the air-gap type
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
〔1.フィルタの構成〕
図1A〜図1Cは、インピーダンス変換型バランスフィルタ(以下、バランスフィルタと称する)の図であり、本実施の形態を説明するための図である。図1Aは、バランスフィルタの平面図である。図1Bは、図1AにおけるA−A部の断面図である。図1Cは、図1Aに示すバランスフィルタの等価回路である。図1A〜図1Cに示すバランスフィルタの基本構造は、FBARの構造を有するトランスデューサと音響カプラー膜とを厚み方向に堆積したCoupled Resonator Filter(CRF)構造である。
Zin=Z1・Z2/(Z1+Z2) ・・・(式1)
となる。一方、出力側は、上部電極101cに出力端子111aが接続され、上部電極101dに出力端子111bが接続されている。したがって、出力端子111a及び111bから見れば、そのインピーダンス(Zout)は、個々の出力端子111a及び111bのインピーダンス(Z3、Z4)に対して、
Zout=Z3+Z4 ・・・(式2)
となる。例えば、上部電極101a〜101dの個々のインピーダンスがそれぞれ100Ωであれば、入力インピーダンスは上記式1に基づき50Ωとなり、出力インピーダンスは上記式2に基づき200Ωとなる。
図2Aは、実施例1にかかるインピーダンス変換型バランスフィルタの平面図である。図2Bは、図2AにおけるX−X部の断面図である、図2Cは、図2AにおけるY−Y部の断面図である。
図3は、実施例2にかかるバランスフィルタの平面図である。図3において、図2A〜図2Cに示すバランスフィルタの構成要素と同一の構成要素については、同一符号を付与して詳細な説明は省略する。
図4Aは、実施例3にかかるバランスフィルタの平面図である。図4Bは、図4AにおけるX−X部の断面図である。図4Cは、図4AにおけるY−Y部の断面図である。図4A〜図4Cにおいて、図2A〜図2Cに示すバランスフィルタの構成要素と同一の構成要素については、同一符号を付与して詳細な説明は省略する。
図5Aは、実施例4にかかるバランスフィルタの平面図である。図5Bは、図5AにおけるX−X部の断面図である。図5Cは、図5AにおけるY−Y部の断面図である。
図6A〜図6Gは、実施例1にかかるバランスフィルタの製造工程を示す断面図である。つまり、図6A〜図6Gは、キャビティ型FBARの構造を備えたバランスフィルタの製造工程を示す。
携帯電話端末、PHS(Personal Handy-phone System)端末、無線LANシステムなどの移動体通信(高周波無線通信)には、デュープレクサが搭載されている。デュープレクサは、通信電波などの送信機能及び受信機能を持ち、送信信号と受信信号の周波数が異なる無線装置において用いられる。
図9は、本実施の形態にかかるデュープレクサを備えた通信モジュールの一例を示す。図9に示すように、デュープレクサ52は、受信フィルタ54と送信フィルタ55とを備えている。また、受信フィルタ54には、例えばバランス出力に対応した受信端子56が接続されている。また、送信フィルタ55は、パワーアンプ74を介して送信端子57に接続している。ここで、受信フィルタ54は、本実施の形態にかかるバランスフィルタを備えている。
図10は、本実施の形態にかかるデュープレクサ、または前述の通信モジュールを備えた通信装置の一例として、携帯電話端末のRFブロックを示す。また、図10に示す通信装置は、GSM(Global System for Mobile Communications)通信方式及びW−CDMA(Wideband Code Division Multiple Access)通信方式に対応した携帯電話端末の構成を示す。また、本実施の形態におけるGSM通信方式は、850MHz帯、950MHz帯、1.8GHz帯、1.9GHz帯に対応している。また、携帯電話端末は、図10に示す構成以外にマイクロホン、スピーカー、液晶ディスプレイなどを備えているが、本実施の形態における説明では不要であるため図示を省略した。ここで、デュープレクサ52における受信フィルタ54は、本実施の形態にかかるバランスフィルタを備えている。
本実施の形態によれば、アンバランス−バランス変換を行うフィルタをFBARで実現することにより、高Qのフィルタを実現することができる。
2、3、8 下部電極
9 基板
11 音響カプラー膜
12 第1の圧電膜
13 第2の圧電膜
Claims (7)
- 主端子に接続されている主トランスデューサと、
複数の副端子に接続されている副トランスデューサと、
前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとを機械的に結合する結合トランスデューサとを備え、
前記主トランスデューサ、前記副トランスデューサ、及び前記結合トランスデューサの各々は、上部電極と、前記上部電極の下方に配されている下部電極と、前記上部電極と前記下部電極とに挟まれている圧電膜とを備え、
前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとは、前記結合トランスデューサの前記上部電極上に配され、
前記主トランスデューサの前記下部電極、前記副トランスデューサの前記下部電極、及び前記結合トランスデューサの前記上部電極が接地されている、フィルタ。 - 前記主トランスデューサ及び前記副トランスデューサと前記結合トランスデューサとの間にカップリング層を有する、請求項1記載のフィルタ。
- 前記主トランスデューサの励振部の面積と前記副トランスデューサの励振部の面積とが異なる、請求項1記載のフィルタ。
- 主端子に接続されている主トランスデューサと、
複数の副端子にそれぞれ接続されている複数の副トランスデューサと、
前記主トランスデューサと前記複数の副トランスデューサとを機械的に結合するカップリング層とを備え、
前記主トランスデューサは、前記主端子に接続される電極と、前記電極に対して、圧電膜を挟むように設けられた別の電極とを備え、
前記別の電極が接地されている、フィルタ。 - 主フィルタと副フィルタとを備えているデュープレクサであって、
前記主フィルタ及び前記副フィルタのうち少なくともいずれか一方のフィルタは、主端子に接続されている主トランスデューサと、複数の副端子に接続されている副トランスデューサと、前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとを機械的に結合する結合トランスデューサとを備え、
前記主トランスデューサ、前記副トランスデューサ、及び前記結合トランスデューサの各々は、上部電極と、前記上部電極の下方に配されている下部電極と、前記上部電極と前記下部電極とに挟まれている圧電膜とを備え、
前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとは、前記結合トランスデューサの前記上部電極上に配され、
前記主トランスデューサの前記下部電極、前記副トランスデューサの前記下部電極、及び前記結合トランスデューサの前記上部電極が接地されている、デュープレクサ。 - 主フィルタと副フィルタとを備えている通信モジュールであって、
前記主フィルタ及び前記副フィルタのうち少なくともいずれか一方のフィルタは、主端子に接続されている主トランスデューサと、複数の副端子に接続されている副トランスデューサと、前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとを機械的に結合する結合トランスデューサとを備え、
前記主トランスデューサ、前記副トランスデューサ、及び前記結合トランスデューサの各々は、上部電極と、前記上部電極の下方に配されている下部電極と、前記上部電極と前記下部電極とに挟まれている圧電膜とを備え、
前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとは、前記結合トランスデューサの前記上部電極上に配され、
前記主トランスデューサの前記下部電極、前記副トランスデューサの前記下部電極、及び前記結合トランスデューサの前記上部電極が接地されている、通信モジュール。 - 主フィルタと副フィルタとを備えている通信装置であって、
前記主フィルタ及び前記副フィルタのうち少なくともいずれか一方のフィルタは、主端子に接続されている主トランスデューサと、複数の副端子に接続されている副トランスデューサと、前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとを機械的に結合する結合トランスデューサとを備え、
前記主トランスデューサ、前記副トランスデューサ、及び前記結合トランスデューサの各々は、上部電極と、前記上部電極の下方に配されている下部電極と、前記上部電極と前記下部電極とに挟まれている圧電膜とを備え、
前記主トランスデューサと前記副トランスデューサとは、前記結合トランスデューサの前記上部電極上に配され、
前記主トランスデューサの前記下部電極、前記副トランスデューサの前記下部電極、及び前記結合トランスデューサの前記上部電極が接地されている、通信装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040653A JP5519326B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 |
PCT/JP2011/053628 WO2011105314A1 (ja) | 2010-02-25 | 2011-02-21 | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 |
US13/590,897 US9236848B2 (en) | 2010-02-25 | 2012-08-21 | Filter, duplexer, communication module and communication device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010040653A JP5519326B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011176744A JP2011176744A (ja) | 2011-09-08 |
JP5519326B2 true JP5519326B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=44506722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010040653A Active JP5519326B2 (ja) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9236848B2 (ja) |
JP (1) | JP5519326B2 (ja) |
WO (1) | WO2011105314A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10333494B2 (en) | 2014-12-24 | 2019-06-25 | Qorvo Us, Inc. | Simplified acoustic RF resonator parallel capacitance compensation |
US10581156B2 (en) | 2016-05-04 | 2020-03-03 | Qorvo Us, Inc. | Compensation circuit to mitigate antenna-to-antenna coupling |
US10581403B2 (en) | 2016-07-11 | 2020-03-03 | Qorvo Us, Inc. | Device having a titanium-alloyed surface |
US11050412B2 (en) * | 2016-09-09 | 2021-06-29 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter using acoustic coupling |
US10367470B2 (en) | 2016-10-19 | 2019-07-30 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level-packaged BAW devices with surface mount connection structures |
US11165413B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator structure |
US11165412B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Zero-output coupled resonator filter and related radio frequency filter circuit |
US10873318B2 (en) | 2017-06-08 | 2020-12-22 | Qorvo Us, Inc. | Filter circuits having acoustic wave resonators in a transversal configuration |
US10361676B2 (en) * | 2017-09-29 | 2019-07-23 | Qorvo Us, Inc. | Baw filter structure with internal electrostatic shielding |
US11152913B2 (en) | 2018-03-28 | 2021-10-19 | Qorvo Us, Inc. | Bulk acoustic wave (BAW) resonator |
US11146247B2 (en) | 2019-07-25 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Stacked crystal filter structures |
US11757430B2 (en) | 2020-01-07 | 2023-09-12 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter circuit for noise suppression outside resonance frequency |
US11146246B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Phase shift structures for acoustic resonators |
US11146245B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Mode suppression in acoustic resonators |
US11632097B2 (en) | 2020-11-04 | 2023-04-18 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator filter device |
US11575363B2 (en) | 2021-01-19 | 2023-02-07 | Qorvo Us, Inc. | Hybrid bulk acoustic wave filter |
US12170515B2 (en) | 2022-01-31 | 2024-12-17 | Qorvo Us, Inc. | Reversed semilattice filter |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10147075A1 (de) * | 2001-09-25 | 2003-04-30 | Infineon Technologies Ag | Piezoelektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6720844B1 (en) * | 2001-11-16 | 2004-04-13 | Tfr Technologies, Inc. | Coupled resonator bulk acoustic wave filter |
US6670866B2 (en) * | 2002-01-09 | 2003-12-30 | Nokia Corporation | Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers |
DE10256937B4 (de) * | 2002-12-05 | 2018-02-01 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit unsymmetrisch/symmetrischer Beschaltung |
EP1667323A1 (en) | 2003-09-19 | 2006-06-07 | Sony Corporation | Micro electric machine system resonator, drive method thereof, manufacturing method thereof, and frequency filter |
JP4254445B2 (ja) | 2003-09-19 | 2009-04-15 | ソニー株式会社 | マイクロ電気機械システムの共振器およびその駆動方法 |
JP2005130068A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Tdk Corp | 圧電共振器の製造方法 |
US7019605B2 (en) | 2003-10-30 | 2006-03-28 | Larson Iii John D | Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth |
US6946928B2 (en) * | 2003-10-30 | 2005-09-20 | Agilent Technologies, Inc. | Thin-film acoustically-coupled transformer |
JP2005260484A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tdk Corp | 圧電共振器およびそれを備えた電子部品 |
US6963257B2 (en) * | 2004-03-19 | 2005-11-08 | Nokia Corporation | Coupled BAW resonator based duplexers |
US7436269B2 (en) * | 2005-04-18 | 2008-10-14 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically coupled resonators and method of making the same |
JP4772866B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-09-14 | エヌエックスピー ビー ヴィ | バルク音波共振器装置 |
JP2008283425A (ja) | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Tdk Corp | 縦結合多重モード共振子型弾性表面波フィルタ |
US7786826B2 (en) * | 2007-10-12 | 2010-08-31 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Apparatus with acoustically coupled BAW resonators and a method for matching impedances |
FR2927743B1 (fr) * | 2008-02-15 | 2011-06-03 | St Microelectronics Sa | Circuit de filtrage comportant des resonateurs acoustiques couples |
CN102273073B (zh) * | 2009-01-09 | 2014-01-01 | 太阳诱电株式会社 | 滤波元件、分波器以及电子装置 |
-
2010
- 2010-02-25 JP JP2010040653A patent/JP5519326B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-21 WO PCT/JP2011/053628 patent/WO2011105314A1/ja active Application Filing
-
2012
- 2012-08-21 US US13/590,897 patent/US9236848B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120313725A1 (en) | 2012-12-13 |
JP2011176744A (ja) | 2011-09-08 |
WO2011105314A1 (ja) | 2011-09-01 |
US9236848B2 (en) | 2016-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5519326B2 (ja) | フィルタ、デュープレクサ、通信モジュール、通信装置 | |
JP5147932B2 (ja) | 圧電薄膜共振器、フィルタ、通信モジュール、および通信装置 | |
JP4625260B2 (ja) | 薄膜バルク共振子の製造方法 | |
JP5229969B2 (ja) | デュープレクサ、通信モジュール、および通信装置 | |
JP4523637B2 (ja) | 結合baw共振器をベースとする送受切換器 | |
JP5229945B2 (ja) | フィルタ、デュープレクサ、および通信装置 | |
US7952257B2 (en) | Piezoelectric thin-film resonator | |
JP5226409B2 (ja) | 共振デバイス、通信モジュール、通信装置、共振デバイスの製造方法 | |
US9197189B2 (en) | Acoustic wave device | |
CN101199115A (zh) | 多模薄膜弹性波谐振器滤波器 | |
JP5322597B2 (ja) | 共振子、フィルタ、デュープレクサおよび電子装置 | |
US20080116993A1 (en) | Piezoelectric Filter, and Duplexer and Communications Apparatus Using the Same | |
JP2008172713A (ja) | 圧電薄膜共振器および圧電薄膜共振器フィルタおよびその製造方法 | |
JP4836748B2 (ja) | バルク音響波共振子及びフィルタ装置並びに通信装置 | |
JP2006180304A (ja) | 圧電バルク共振子およびその製造方法、圧電バルク共振子を用いたフィルタ、それを用いた半導体集積回路装置、並びにそれを用いた高周波モジュール | |
US8228138B2 (en) | Filter element, duplexer and electronic device having piezoelectric thin-film resonators stacked vertically | |
US7446455B2 (en) | Thin film elastic wave resonator | |
JP2008079294A (ja) | 薄膜弾性波共振器およびその製造方法 | |
KR20100041846A (ko) | 필터, 그것을 이용한 듀플렉서 및 그 듀플렉서를 이용한 통신기 | |
JP2005260484A (ja) | 圧電共振器およびそれを備えた電子部品 | |
JP4798496B2 (ja) | 薄膜圧電デバイス及びその製造方法 | |
JP2000138552A (ja) | 弾性表面波装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131025 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140210 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140327 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140403 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5519326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |