JP5500076B2 - ガラス基板積層装置及び積層ガラス基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板積層装置及び積層ガラス基板の製造方法に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くすることが望まれている。板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前又は形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板をエッチング処理し、必要に応じてさらに物理研磨して薄くする方法が行われる。

しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の製造ラインで処理することができないという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッチピットの発生という問題が生じる。

そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他の支持ガラス基板と貼り合わせて積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。

例えば特許文献１には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性及び非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。そして、このようなガラス積層体は、ロールやプレスを用いて圧着させたり、真空ラミネート法、真空プレス法を採用したりして製造できることが記載されている。

国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット

特許文献１に記載のガラス積層体を形成する場合、通常、真空積層プレス法、すなわち、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを樹脂層を介して仮積層した状態でプレス機にセットし、真空引きした後にプレスする方法を適用する。
しかし、プレスしても薄板ガラス基板と樹脂層との間の泡が残存し、抜けきれないという問題が生じる。特に薄板ガラス基板のサイズが大きいと顕著となる。

この対策としては、例えば、薄板ガラス基板を上側の加圧ユニットに吸着し、保持して、支持ガラス基板と薄板ガラス基板との間に隙間を保ち、その状態で両基板が存する空間を真空にし、その後両基板を接触させプレスする方法が考えられる。
しかしこの場合、真空吸着法によって薄板ガラス基板を加圧ユニットに吸着させて保持することはできない。そこで静電吸着法によって保持することとなるが、従来提案されている静電吸着法による基板保持方法は、面形状の静電吸着パットを用いてガラス基板を保持する方法であり、これら静電吸着素子のガラス基板面への接触が広範囲に及んでいた。そのため、当該ガラス基板面に傷等がつく可能性がある。当該ガラス基板面には後工程においてディスプレイのデバイスを形成するが、傷等が存在すると形成が困難である。

本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、薄板ガラス基板の表示デバイス形成面に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ存在しない積層ガラス基板を、簡易かつ経済的に製造することできる装置を提供することを目的とする。また、その装置を用いた積層ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
本発明は以下の（１）〜（１１）に関する。
（１）２枚のガラス基板を積層するガラス基板積層装置であって、上方のガラス基板を吸着支持すべく構成された上方基板支持ユニット、下方のガラス基板を載置支持すべく構成された下方基板支持ユニット、前記上方基板支持ユニットと前記下方基板支持ユニットとの間を含む空間を気密状態にすべく構成されたシールユニット、及び、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットで囲まれた前記空間内を減圧すべく構成された減圧ユニットを備え、前記上方基板支持ユニットが、その下面に下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）のうちのいずれかの形状の基板吸着ユニットを有する、ガラス基板積層装置。
（Ａ）矩形枠形状の基板吸着ユニット。
（Ｂ）矩形枠と、その矩形を構成する４辺のうちの対向する１組又は２組の辺の各々を結ぶ直線又は曲線とからなる形状の基板吸着ユニット。
（Ｃ）互いに交差する複数の直線又は曲線からなる形状の基板吸着ユニット。
（２）さらに、上方のガラス基板の上面に下方へ向かって圧縮空気を吹き付けるべく構成された圧縮空気供給ユニットを有する、上記（１）に記載のガラス基板積層装置。
（３）前記基板吸着ユニットの幅が２０ｍｍ以下である、上記（１）又は（２）に記載のガラス基板積層装置。
（４）前記基板吸着ユニットが、静電吸着素子又は粘着部材を有する、上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のガラス基板積層装置。
（５）前記静電吸着素子の電極保持用基材がポリイミド系フィルムである、上記（４）に記載のガラス基板積層装置。
（６）上記（１）〜（５）のいずれか１項に記載のガラス基板積層装置を用いて、薄板ガラス基板及び支持ガラス基板の２枚のガラス基板を積層する積層ガラス基板の製造方法であって、前記上方基板支持ユニットが有する前記基板吸着ユニットにより吸着された前記薄板ガラス基板と、前記下方基板支持ユニットの上に載置された、上面に樹脂層を有する前記支持ガラス基板とを対向させ、前記減圧ユニットにより、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットに囲まれた空間内を減圧し、その後、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させ、加圧することで２枚のガラス基板を前記樹脂層を介して積層する、積層ガラス基板の製造方法。
（７）前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させた後、前記圧縮空気供給ユニットによって、前記薄板ガラス基板の上面に下方へ向って圧縮空気を吹き付ける、上記（６）に記載の積層ガラス基板の製造方法。
（８）前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させた後、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットで囲まれた前記空間内もしくは加圧装置内にて０．１〜１ＭＰａの範囲で加圧処理する、（６）又は（７）に記載の積層ガラス基板の製造方法。
（９）前記薄板ガラス基板の上面面積をＳ₀、前記基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積をＳ₁とするとき、関係式０．０２≦Ｓ₁／Ｓ₀≦０．１を満足する、上記（６）〜（８）のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。
（１０）前記基板吸着ユニットが静電吸着素子を有し、前記薄板ガラス基板に対する前記静電吸着素子の吸着力が、印加電圧１ｋＶにおいて４０ｍＮ／ｃｍ²以上である、上記（６）〜（９）のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。
（１１）前記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂及びシリコーン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種からなる、上記（６）〜（１０）のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。

本発明によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、薄板ガラス基板の表示デバイス形成面に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ存在しない積層ガラス基板を、簡易かつ経済的に製造することができる装置を提供することができる。また、その装置を用いた積層ガラス基板の製造方法を提供することができる。

図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の積層装置の好適実施例の断面図である。 図２は、本発明の積層装置の好適実施例の一部を平面図である。 図３（ａ）〜（ｃ）は、本発明の積層装置の好適実施例の静電吸着素子の平面図である。 図４は、比較例の静電吸着素子の平面図である。

本発明について詳細に説明する。
初めに本発明の積層装置について説明し、後に本発明の製造方法について説明する。

本発明の積層装置について説明する。
本発明の積層装置は、２枚のガラス基板を積層するガラス基板積層装置であって、上方のガラス基板を吸着支持すべく構成された上方基板支持ユニット、下方のガラス基板を載置支持すべく構成された下方基板支持ユニット、前記上方基板支持ユニットと前記下方基板支持ユニットとの間を含む空間を気密状態にすべく構成されたシールユニット、及び、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットで囲まれた前記空間内を減圧すべく構成された減圧ユニットを備え、前記上方基板支持ユニットが、その下面に特定の形状の基板吸着ユニットを有する、ガラス基板積層装置である。

本発明の積層装置の好適実施例を挙げ、図を用いて説明する。
図１、図２は、本発明の積層装置の好適実施例である積層装置１０を示す図である。図１（ａ）〜（ｃ）は断面図であり、図２は上方基板支持ユニットである上定盤１２のみ（薄板ガラス基板２４が吸着していない状態）を下側から見た図である。なお、図２では支柱１３及びシール１６との接続する部分については省略して記している。

図１において積層装置１０は、上方基板支持ユニットである上定盤１２と、下方基板支持ユニットである下定盤１４と、シールユニットであるシール１６とを備え、さらに図示しない減圧ユニットを備えている。
また、図１において、上定盤１２は薄板ガラス基板２４を吸着しており、下定盤１４は支持ガラス基板２０を固定している。支持ガラス基板２０は上面に樹脂層２２を有し、下面が下定盤１４と接触している。
なお、説明の便宜上、上定盤１２が吸着するガラス基板を「薄板ガラス基板２４」としているのであって、上定盤１２は「板厚が薄いガラス基板」でなくても吸着できる。

積層装置１０における下定盤１４について説明する。
下定盤１４はガラス基板を略水平な状態で保持できるステージであり、下定盤１４自体は略水平に設置されている。また、下定盤１４はその上面にガラス基板を固定することができる。下定盤１４と上定盤１２と近づけて２枚のガラス基板を圧着すると、ステージ上に載置したガラス基板に力が加わるが、この際にガラス基板が動かない程度に、下定盤１４はガラス基板を固定して保持することができる。
図１（ａ）〜（ｃ）は、下定盤１４の上面に樹脂層２２を有する支持ガラス基板２０が固定され保持されている状態を示している。

ここで、下定盤１４における支持ガラス基板２０と接触する面、すなわち支持ガラス基板２０が載置される下定盤１４の上面は、水平面ではなく、例えば梨地状の面であることが好ましい。
また、積層装置１０では、上定盤１２、下定盤１４及びシール１６とで囲まれた空間３０を減圧するために用いる減圧孔１４５が、下定盤１４に形成されている。

積層装置１０における上定盤１２について説明する。
上定盤１２は支柱１３によって支えられており、下定盤１４の上側に、下定盤１４と対向するように略水平に設置されている。また、上定盤１２は、支柱１３を介して、下定盤１４と対向した状態を保ったまま上下方向に移動することができる。図１（ｂ）は、図１（ａ）の状態から上定盤１２を下方向に移動させ、シール１６の下端が下定盤１４に付いた状態を示している。また、図１（ｃ）は、図１（ｂ）の状態から上定盤１２をさらに下方向に移動させ、薄板ガラス基板２４と支持ガラス基板２０とを樹脂層２２を介して密着させた状態を示している。
図１に示す実施形態では、上定盤１２のみが上下方向に移動して、薄板ガラス基板２４と支持ガラス基板２０とを樹脂層２２を介して密着させたが、本発明はこれに制限されず、下定盤１４のみが上下方向に移動して密着させても良いし、上定盤１２及び下定盤１４の両方が上下方向に移動して密着させても良い。

上定盤１２はその下面の一部に基板吸着ユニットである静電吸着素子１２１を有しており、図示しない装置によって静電吸着素子１２１に電圧を印加できる。印加すると静電気力によって、静電吸着素子１２１の下面にガラス基板（薄板ガラス基板２４）を吸着することができる。ここで、薄板ガラス基板２４を、下定盤１４の上面に載置された支持ガラス基板２０と略平行な状態を保ったまま、吸着することができる。
また、静電吸着素子１２１に吸着した薄板ガラス基板２４はたわむ場合があるので、図１に示すように、薄板ガラス基板２４の上面と上定盤１２の下面との間に、空間１２３が形成されていることが好ましい。空間１２３が存する場合、上定盤１２に、空間１２３と後述する空間３０とを繋ぐ通気孔１２５が形成されている必要がある。空間３０と同様に空間１２３内も減圧状態にすることができるからである。

静電吸着素子１２１における電極保持用基材は、ガラス基板を吸着できるものであれば制限されず、例えば従来公知のものを用いることができる。例えば有機フィルム系、セラミックス系を用いることができる。また、薄板ガラス基板２４と支持ガラス基板２０とを密着する際に静電吸着素子１２１に圧縮応力が加わるため、有機フィルム系が好ましく、ポリイミド系フィルムであることが好ましい。

また、静電吸着素子１２１の形状は限定され、例えば図２に示すような矩形枠状の形状のものである。このような矩形枠状の静電吸着素子１２１は、薄板ガラス基板２４における表示デバイス形成面（すなわち、樹脂層と密着しない方の主面）に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ形成しない。表示デバイスをガラス基板の表面に形成する際、通常、ガラス基板の最外殻部分には表示デバイスを形成しないからである。このような矩形枠状であると、薄板ガラス基板２４が大きなもの（例えば１０００ｍｍ×１０００ｍｍ、厚さ０．４ｍｍのガラス板）であっても、静電吸着素子によって吸着することができる。
なお、本発明の積層装置における上方基板支持ユニット及び下方基板支持ユニットは、このような大きさの２枚のガラス基板を積層することができる大きさであることが好ましい。

また、静電吸着素子１２１の幅（図２において「ｘ」で示した長さ）が２０ｍｍ以下であることが好ましく、１ｍｍ〜１５ｍｍであることがより好ましく、３ｍｍ〜８ｍｍであることがより好ましく、５ｍｍ程度であることがさらに好ましい。このような幅であると、静電吸着素子１２１が薄板ガラス基板２４を比較的容易に吸着することができる。また、このような幅であると、薄板ガラス基板から切出すことができるディスプレイ等の数が多くなるので好ましい。

また、静電吸着素子１２１の形状は、図２に示した矩形枠状の形状の他、例えば、図３（ａ）〜（ｃ）に示すような形状であってもよい。図３（ａ）は、矩形枠と、その矩形を構成する４辺のうちの対向する１組の辺の中央を結ぶ直線とからなる形状である。図３（ｂ）は、矩形枠と、その矩形を構成する４辺のうちの対向する２組の辺の各々の中央を結ぶ直線とからなる形状である。図３（ｃ）は互いに直交する２つの直線からなる形状である。
ここで、本発明の積層装置においては、静電吸着素子１２１の形状は、図３（ａ）における「１組の辺の中央を結ぶ直線」が「中央」でないものであってよく、また「直線」ではなく「曲線」のものであってもよい。また、図３（ｂ）、（ｃ）においても同様である。また、図３（ｃ）における「２つの直線」が３以上の直線であってもよく、「２つの直線が直交」ではなく、「２つの直線が交差」するものでもよい。薄板ガラス基板を切出して形成するディスプレイ等の形状が矩形の場合は、「曲線」であるよりも「直線」であることが好ましい。切出すことができるディスプレイ等の数が多くなるからである。ディスプレイ等の形状が矩形ではない場合は、「曲線」のほうが好ましい場合がある。

本発明の積層装置において基板吸着ユニットは、上記の静電吸着素子の他、粘着部材であってもよい。粘着部材として、具体的にはシリコーン樹脂製粘着材、アクリル樹脂製粘着材、ウレタン樹脂製粘着材、天然ゴム系粘着材等が挙げられる。

積層装置１０におけるシール１６について説明する。
シール１６は、上定盤１２及び下定盤１４の側面側に存在している。そして、上定盤１２と下定盤１４とシール１６とで、気密な空間３０を形成することができる。空間３０は上定盤１２と下定盤１４との間部分の空間を含む空間である。
積層装置１０ではシール１６の上端が上定盤１２に固定されており、上定盤１２を下定盤１４に近づけることで、シール１６の下端が下定盤１４に付き、気密な空間３０を形成することができる。図１（ａ）では空間３０は形成されていないが、図１（ａ）の状態から上定盤１２を下方向に移動させシール１６の下端が下定盤１４に付くと、図１（ｂ）に示すように空間３０が形成される。また、図１（ｂ）に示すように、上定盤１２の静電吸着素子１２１に吸着している薄板ガラス基板２４と樹脂層２２とが離れた状態を保ったまま、気密な空間３０を形成することができる。
図１（ｂ）に示すように、空間３０を形成した後、減圧孔１４５を介して減圧ユニットによって空間３０の内部を減圧することができる。空間３０の内部を減圧状態にすると、通気孔１２５を介して空間１２３の内部も同程度の減圧状態となる。

本発明の積層装置の好適実施例として、上記のような積層装置１０が挙げられる。

本発明の積層装置は、さらに、上方のガラス基板の上面に下方へ向かって圧縮空気を吹き付けるべく構成された圧縮空気供給ユニットを備えることが好ましい。
例えば、上記の図２に示した形状の基板吸着ユニットを有している積層装置１０において、上定盤１２が圧縮空気供給ユニットを有していると、例えば図１（ｃ）の状態において、上方から下方へ向って薄板ガラス基板２４の上面の重心付近へ圧縮空気を吹き付けることで、薄板ガラス基板２４と樹脂層２２とをより密着させることができるので好ましい。
上方基板支持ユニットが圧縮空気供給ユニット（図示しない）を複数有しており、上方のガラス基板の上面における複数箇所に圧縮空気を吹き付けることができると好ましい。

本発明の積層装置を構成する各部の材質、大きさ等は特に限定されず、例えば従来公知の真空プレス装置と同様であってよい。

次に、本発明の製造方法について説明する。
本発明の製造方法は、上記の本発明の積層装置を用いて、薄板ガラス基板及び支持ガラス基板の２枚のガラス基板を積層する積層ガラス基板の製造方法であって、前記上方基板支持ユニットが有する前記基板吸着ユニットにより吸着された前記薄板ガラス基板と、前記下方基板支持ユニットの上に載置された、上面に樹脂層を有する前記支持ガラス基板とを対向させ、前記減圧ユニットにより、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットに囲まれた空間内を減圧し、その後、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させ、加圧することで２枚のガラス基板を前記樹脂層を介して積層する、積層ガラス基板の製造方法である。

本発明の製造方法では、初めに上方基板支持ユニットが有する基板吸着ユニットに、薄板ガラス基板を吸着することが好ましい。吸着する方法は限定されないが、例えば好適実施例である積層装置１０を用いた場合であれば、初めに薄板ガラス基板２４を下定盤１４の上面に載置し、次に上定盤１２を下降させ、静電吸着素子１２１と薄板ガラス基板２４とを密着させ、静電吸着素子１２１を印加して薄板ガラス基板２４を吸着した後、上定盤１２を上昇させる方法が挙げられる。ここで薄板ガラス基板２４を載置した下定盤１４の表面の水平度及び平滑度が高いと、薄板ガラス基板２４と下上盤１４の表面とが密着してしまい、静電吸着素子１２１によって薄板ガラス基板２４を吸着した状態を保ったまま上定盤１２を上昇させることが困難となるので好ましくない。よって、下定盤１４の上面は梨地状であったり、上面の一部に溝を有するものであったりすることが好ましい。

また、静電吸着素子１２１の薄板ガラス基板２４に対する吸着力が、印加電圧１ｋＶにおいて４０ｍＮ／ｃｍ²以上であることが好ましい。吸着がより強固になるからである。
また、静電吸着素子の吸着能力は導体＞半導体＞＞絶縁体の順で能力が低下し、特に無アルカリガラスはソーダライムガラスに比べ更に吸着能力が低いが、上記のように吸着能力が印加電圧１ｋＶにおいて４０ｍＮ／ｃｍ²以上、好ましくは６０ｍＮ／ｃｍ²以上、さらに好ましくは８０ｍＮ／ｃｍ²以上であると、薄板ガラス基板２４が無アルカリガラスであっても上方基板支持ユニットによって容易に保持することができるので好ましい。
なお、薄板ガラス基板自体の性状、製造方法等は後述する。

本発明の製造方法では、好ましくは上記のようにして基板吸着ユニットに薄板ガラス基板を吸着した後に、下方基板支持ユニットの上に支持ガラス基板を載置する。ここで、予め支持ガラス基板の上面に樹脂層を形成しておき、載置の際は樹脂層が上側となるように支持ガラス基板を下方基板支持ユニットの上に載置する。そして、図１（ａ）に示すように、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを対向させる。
なお、樹脂層及び支持ガラス基板自体の性状、製造方法等は後述する。

本発明の製造方法では、上記のようにして薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを対向させた後に、上方基板支持ユニット、下方基板支持ユニット及びシールユニットによって気密な空間を形成する。例えば図１（ｂ）に示すように、上定盤１２を下降させてシール１６の下端を下定盤１４の上面に密着させることで、気密な空間３０を形成することができる。ここで気密な空間とは、外部から内部へ空気が入らない程度に密閉された空間を意味する。

次に、減圧ユニットにより、上方基板支持ユニット、下方基板支持ユニット及びシールユニットに囲まれた空間内を減圧する。例えば図１（ｂ）に示す状態において、減圧孔１４５を介して公知の減圧装置によって空間３０の内部を減圧する。ここで、通気孔１２５を介して空間１２３も減圧される。これにより、薄板ガラス基板２４は略水平状態を保つことができる。通気孔１２５が存在しないと空間１２３と空間３０との気圧差が生じるため、薄板ガラス基板２４が変形する可能性がある。

次に、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを接触させ、加圧する。例えば図１（ｃ）に示すように上定盤１２を下降させることで行うことができる。
ここで、薄板ガラス基板の上面面積をＳ₀、基板吸着ユニットと薄板ガラス基板との接触面積をＳ₁とするとき、関係式０．０２≦Ｓ₁／Ｓ₀≦０．１を満足することが好ましく、０．０２５≦Ｓ₁／Ｓ₀≦０．０８を満足することがより好ましく、０．０３≦Ｓ₁／Ｓ₀≦０．０６を満足することがさらに好ましい。このような範囲であると、基板吸着ユニットによって薄板ガラス基板を比較的容易に吸着することができ、また、薄板ガラス基板から切出すことができるディスプレイ等の数が多くなるからである。

ここで、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを接触させた後に、圧縮空気供給ユニットによって、薄板ガラス基板の上面に下方へ向って圧縮空気を吹き付けることが好ましい。すなわち、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを加圧しながら、又は加圧した後に、圧縮空気供給ユニットによって、薄板ガラス基板の上面に下方へ向って圧縮空気を吹き付けることが好ましい。基板吸着ユニットによる薄板ガラス基板の吸着がより強固なるからである。
また、本発明の製造方法は、前記気密な空間３０を加圧状態にし、薄板ガラス基板２４と樹脂層２２との密着を促すことが好ましい。また、前記気密な空間３０を加圧状態にするのではなく、一旦積層装置１０から薄板ガラス基板２４と樹脂層２２とを密着させた積層ガラス基板を取り出し、別の加圧装置内に該積層ガラス基板を入れ、該加圧装置内を加圧することで薄板ガラス基板２４と樹脂層２２との密着を促しても良い。加える圧力は０．１〜１ＭＰａであることが好ましく、０．１〜０．６ＭＰａであることがより好ましい。加える圧力が０．１ＭＰａ未満であると密着を促す効果が充分に得られず好ましくない。また、加える圧力が１ＭＰａを超えると大型の加圧装置を新たに敷設する必要があり経済的ではない。

また、樹脂層の表面に薄板ガラス基板を密着させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。樹脂層と薄板ガラス基板との間に異物が混入しても、樹脂層が変形するので薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となるので好ましい。

このような本発明の製造方法によって、２枚のガラス基板を樹脂層を介して積層する積層ガラスを得ることができる。このような積層ガラスを、以下では「本発明の積層ガラス基板」ともいう。

本発明の積層ガラス基板について説明する。
本発明の積層ガラス基板において薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板とを積層させた状態に保持することができる。
また、本発明の積層ガラス基板は、本発明の製造方法によって製造されているので、薄板ガラス基板と樹脂層が固定された支持ガラス基板とを、泡の噛み込み無く積層されている。
また、本発明の積層ガラス基板は、薄板ガラス基板の表示デバイス形成面に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ存在しない。

本発明の積層ガラス基板における薄板ガラス基板について説明する。
薄板ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。薄板ガラス基板は、ＴＦＴアレイ用ガラス基板であることが好ましい。

薄板ガラス基板の厚さは０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
薄板ガラスの形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
薄板ガラスの大きさは限定されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることがより好ましい。

なお、薄板ガラスの厚さ及び大きさは、厚さはレーザーフォーカス変位計を用いて面内9点を測定した値の平均値を持って表し、大きさは鋼尺を用いて短辺・長辺をそれぞれ計測した値を意味するものとする。後述する支持ガラス基板の厚さ及び大きさについても同様とする。

このような厚さ及び大きさであっても、本発明の積層ガラス基板は薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。

薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に限定されず、製造する表示装置の種類により異なる。
また、薄板ガラス基板の熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が２００×１０^−７／℃以下であるものを用いることが好ましい。前記線膨張係数は、１００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０^−７／℃以下であることがさらに好ましい。その理由は熱収縮率が大きいと高精細な表示装置を作ることができないためである。
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。

薄板ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラスや無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。

本発明の積層ガラス基板における支持ガラス基板について説明する。
支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板を支持し、薄板ガラス基板の強度を補強する。

支持ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に限定されない。
支持ガラス基板の厚さは特に限定されないが、現行の製造ラインで処理できるような厚さであることが好ましい。例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．４ｍｍとする。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．３ｍｍとする。
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。

支持ガラス基板の形状は限定されないが、矩形であることが好ましい。
支持ガラス基板の大きさは限定されないが、前記薄板ガラス基板と同程度であることが好ましく、前記ガラス基板よりもやや大きい（縦方向又は横方向の各々が０．０５〜１０ｍｍ程度大きい）ことが好ましい。理由は、表示装置用パネル製造時の位置決めピン等のアライメント装置の接触から前記薄板ガラス基板の端部を保護しやすいこと、及び薄板ガラス基板と支持ガラス基板との剥離をより容易に行うことができるからである。
支持ガラス基板は線膨張係数が前記薄板ガラス基板と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本発明の積層ガラス基板を熱処理した際に、薄板ガラス基板又は支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。

薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は３００×１０^−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０^−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０^−７／℃以下であることがさらに好ましい。

支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。

本発明の積層ガラス基板における樹脂層について説明する。
本発明の積層ガラス基板において、樹脂層は前記支持ガラス基板の一方の主面（以下、支持ガラス基板における「第１主面」という。また、他方の主面を「第２主面」という場合がある。）に固定されている。そして、樹脂層は、前記薄板ガラス基板の一方の主面（以下、薄板ガラス基板における「第１主面」という。また、他方の主面を「第２主面」という場合がある。）と密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。

本発明の積層ガラス基板において、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いていないと考えられ、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いていると考えられる。

樹脂層の厚さは特に限定されない。１〜１００μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。
また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間及び材料を要するため経済的ではない。

ここで樹脂層の厚さは、レーザーフォーカス変位計を用いて面内９点を測定した値の平均値を意味するものとする。
なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。その場合、「樹脂層の厚さ」は全ての層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。

樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面に対する樹脂層の表面の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。

また、樹脂層は、ガラス転移点が室温（２５℃程度）よりも低い材料又はガラス転移点を有しない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。

また、樹脂層が耐熱性を有していることが好ましい。例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、樹脂層を有する積層ガラス基板を熱処理に供するからである。
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなるので好ましくない。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなるので好ましくない。

樹脂層を形成する樹脂の種類は特に限定されない。例えばアクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂及びシリコーン樹脂が挙げられる。二種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でもシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れかつ薄板ガラス基板に対する易剥離性に優れるためである。シリコーン樹脂層は例えば４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。また、シリコーン樹脂が支持ガラス基板表面のシラノール基と縮合反応するので、シリコーン樹脂層を支持ガラス基板の表面（第１主面）に固定し易いからである。

また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるので好ましい。

このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーン及び電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。

また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型及び無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化又は電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留し難いからである。

また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には市販されている商品名又は型番としてＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７及びＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。
また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。

支持ガラス基板の表面（第１主面）に樹脂層を形成する方法は特に限定されない。例えばフィルム状の樹脂を支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的にはフィルムの表面と高い接着力を付与するために支持ガラス基板の表面に表面改質処理（プライミング処理）を行い、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。例えば、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法（プライマー処理）や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的処理方法などが例示される。

また、例えば公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
例えば、無溶剤型の剥離紙用シリコーンを樹脂組成物として用いた場合、ダイコート法、スピンコート法又はスクリーン印刷法が好ましい。

また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ^２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。
例えば付加反応型シリコーンからなる樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤及び触媒を含む樹脂組成物を、上記のスクリーン印刷法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤及び架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記のような反応温度及び反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎたり反応温度が高すぎたりする場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり低分子量のシリコーン成分が生成して、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。

また、例えば樹脂層を剥離紙用シリコーンを用いて製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、本発明の積層装置を用いた本発明の製造方法によって、支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラス基板の表面と化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラス基板の表面と結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。

このような本発明の積層ガラス基板を用いて、支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
この支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層ガラス基板における前記薄板ガラス基板の第２主面に、さらに表示装置用部材を有するものである。
この支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層ガラス基板における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成することで得ることができる。本発明の製造方法によって得られた本発明の積層ガラス基板は、薄板ガラス基板の表示デバイス形成面に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ存在しないので、表示装置用部材を問題なく形成することができる。

表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面に有する発光層、保護層、アレイ、カラーフィルタ、液晶、ＩＴＯからなる透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層等、各種回路パターン等を意味する。
前記支持体付き表示装置用パネルは、本発明の積層ガラス基板の薄板ガラス基板の第２主面上にＴＦＴアレイ（以下、単に「アレイ」という。）が形成されたものであることが好ましい。
前記支持体付き表示装置用パネルには、例えば、アレイが薄板ガラス基板の第２主面に形成された支持体付き表示装置用パネルに、さらにカラーフィルタが形成された他のガラス基板（例えば０．３ｍｍ以上程度の厚さのガラス基板）が貼り合わされたものも含まれる。

また、このような支持体付き表示装置用パネルから、表示装置用パネルを得ることができる。支持体付き表示装置用パネルから、薄板ガラス基板と支持ガラス基板に固定されている樹脂層とを剥離して、表示装置用部材及び薄板ガラス基板を有する表示装置用パネルを得ることができる。

また、このような表示装置用パネルから表示装置を得ることができる。表示装置としてはＬＣＤ、ＯＬＥＤが挙げられる。ＬＣＤとしてはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型が挙げられる。
このような表示装置を形成する方法は特に限定されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば表示装置としてＴＦＴ−ＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とを貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチング及びレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程及び該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。

また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。

（実施例１）
初めに縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０^−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製、商品名「ＡＮ１００」）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。

次に樹脂層を形成するための樹脂として、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「８５００」）と、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン（荒川化学工業株式会社製、商品名「１２０３１」）とを用いた。そして、これを白金系触媒（荒川化学工業株式会社製、商品名「ＣＡＴ１２０７０」）と混合して混合物を調製し、縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさでスクリーン印刷機にて前記支持ガラス基板上に塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ^２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を形成した。ここで、ハイドロシリル基とビニル基のモル比は１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部添加した。

次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０^−７／℃の薄板ガラス基板（旭硝子株式会社製、商品名「ＡＮ１００」）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。

そして、真空ヒータープレス装置を用いて積層ガラス基板を製造した。具体的な方法を以下に示す。なお、ここで真空ヒータープレス装置は、図１、図２に示したものであり、ミカドテクノス社製、真空ヒータープレス装置（ＭＫＰ−２００ＴＶ−ＷＨ−ＳＴ）の「基板吸着ユニット」に相当する部分を、特定形状のものに変更したものである。

真空ヒータープレス装置を用いた具体的な積層ガラス基板の製造方法を、図１、図２を用いて説明する。
実施例１において用いた真空ヒータープレス装置（積層装置１０）における静電吸着素子（１２１）の形状は、図２に示す矩形枠状のものであり、幅（Ｘ）は５ｍｍである。そして枠の外形は、薄板ガラス基板の外形とほぼ一致する。また、この静電吸着素子（巴川製紙社製）は、ポリイミドフィルムベースのものであり、薄板ガラス基板への吸着性は、５０ｍＮ／ｃｍ²／１ｋＶである。なお、このとき薄板ガラス基板の上面面積Ｓ₀と基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積Ｓ₁の比、Ｓ₁／Ｓ₀の値は０．０３である。

このような真空ヒータープレス装置を用いて室内（常温下、常圧下）にて、次のように積層ガラス基板を製造した。初めに、下定盤（１４）の所定の位置に上記の薄板ガラス基板（２４）を第２主面が上向きとなるようにセットした。
次に、上記の静電吸着素子（１２１）が付いた上定盤（１２）を下降させ、静電吸着素子（１２１）が薄板ガラス基板（２４）の第２主面に接したところで下降を停止し、静電吸着素子（１２１）に２ｋＶの電圧をかけた。そして、静電吸着素子（１２１）と薄板ガラス基板（２４）を吸着させた。

次に、電圧を印加したまま上定盤（１２）を２０ｍｍ上昇させた。そして、樹脂層（２２）を有する支持ガラス基板（２０）を、樹脂層（２２）が上側となるように、所定の位置にセットした。

次に、再び上定盤（１２）を下降させ、樹脂層（２２）と薄板ガラス基板（２４）の第１主面の間隔が３ｍｍの状態で止めた。この状態ではシール（１６）の下端が下定盤（１４）の上面に付いており、上下の定盤間は気密な空間（３０）となっていた。
そして、空間（３０）の内部を−１００ｋＰａまで真空に引いた。

次に、薄板ガラス基板（２４）と静電吸着素子（１２１）とが接触するまで、上定盤（１２）を下降させた。この状態では、薄板ガラス基板（２４）の第２主面には静電吸着素子（１２１）のみが接していた。また、薄板ガラス基板（２４）の第２主面には、静電吸着素子（１２１）から、３００ｋＮ／ｍ²の圧力がかかっていた。この状態を１０秒保持した後、印加電圧を切って真空を破壊し、上定盤（１２）を上昇させ、得られた積層ガラス基板（「積層ガラス基板１」とする。）を取り出した。

積層ガラス基板１において、薄板ガラス基板（２４）及び支持ガラス基板（２０）は、シリコーン樹脂層（２２）を介して気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。

また、積層ガラス基板１において、薄板ガラス基板（２４）を支持ガラス基板（２０）から剥離し、暗室にて高輝度ランプを照射して薄板ガラス基板（２４）の第２主面を観察したところ、外周部５ｍｍ以外の面内は傷・汚れ等が全くない良好な表面状態であることが確認された。

（比較例１）
実施例１で用いた図２の形状の静電吸着素子（１２１）の代わりに、図４に示す形状のものを用いたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、積層ガラス基板（「積層ガラス基板０１」）を得た。なお、このとき薄板ガラス基板の上面面積Ｓ₀と基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積Ｓ₁の比、Ｓ₁／Ｓ₀の値は０．９７であった。
比較例１で用いた静電吸着素子は、図４に示すように、縦２９５ｍｍ、横３５５ｍｍの矩形の静電吸着素子を４つ取り付けたものであった。各々の間隔は全て５ｍｍとした。この静電吸着素子（巴川製紙社製）は、ポリイミドフィルムベースのものであり、無アルカリガラスへの吸着性は、１０ｍＮ／ｃｍ²／１ｋＶであった。

積層ガラス基板０１において、薄板ガラス基板及び支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層を介して気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。

しかしながら、積層ガラス基板０１において、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から剥離し、暗室にて高輝度ランプを照射して薄板ガラス基板の第２主面を観察したところ、面内に薄い擦り傷様の傷が確認された。

（比較例２）
実施例１で用いた図２の形状の静電吸着素子（１２１）の幅を５ｍｍから３ｍｍに細くしたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、積層ガラス基板０２の作製を試みた。このとき薄板ガラス基板の上面面積Ｓ₀と基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積Ｓ₁の比、Ｓ₁／Ｓ₀の値は０．０１８であった。
初めに上定盤（１２）を下降させ、静電吸着素子（１２１）が薄板ガラス基板（２４）の第２主面に接したところで下降を停止し、静電吸着素子（１２１）に２ｋＶの電圧をかけた。そして、静電吸着素子（１２１）と薄板ガラス基板（２４）を吸着させた。次に、電圧を印加したまま上定盤（１２）を２０ｍｍ上昇させたところ、吸着力が足りず、薄板ガラス基板（２４）が落下してしまい、積層工程をそれ以上進行させることができなかった。

（比較例３）
実施例１で用いた図２の形状の静電吸着素子（１２１）の幅を５ｍｍから２０ｍｍに太くしたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、積層ガラス基板０３を得た。このとき薄板ガラス基板の上面面積Ｓ₀と基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積Ｓ₁の比、Ｓ₁／Ｓ₀の値は０．１２であった。

（実施例２）
実施例２では、実施例１で得た積層ガラス基板１を用いてＬＣＤを製造する。
積層ガラス基板１を２枚準備して、それぞれ、積層ガラス基板の端部から１０ｍｍ内部に入った領域にデバイスを形成する。１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。アレイが形成された積層ガラス基板と、カラーフィルタが形成された積層ガラス基板とをシール材を介して貼り合わせた後、片面ずつ各積層体の端部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。

続いて、ケミカルエッチング処理によりそれぞれの薄板ガラス基板の厚さを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後の薄板ガラス基板の表面には光学的に問題となるようなエッチピットの発生はみられない。

その後、薄板ガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程及び注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。

(比較例４)
比較例４では、比較例３で得た積層ガラス基板０３を用いてＬＣＤを製造する。
積層ガラス基板０３を２枚準備して、それぞれ、積層ガラス基板の端部から２５ｍｍ内部に入った領域にデバイスを形成する。この後の方法は実施例２と同じ方法で液晶セルを作製するが、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍのセルは１３２個しか作製できず、実施例２で作製された１６８個に比べ、同じサイズの基板から作製できるＬＣＤの効率が２０ポイント以上低下する。

（実施例３）
実施例３では、実施例１で得た積層ガラス基板１と、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子株式会社製、商品名「ＡＮ−１００」）とを用いてＬＣＤを製造する。
積層ガラス基板１を準備して、積層ガラス基板１の端部から１０ｍｍ内部に入った領域を、カラーフィルタ形成工程に供して、積層ガラス基板１の薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。一方、無アルカリガラス基板はアレイ形成工程に供して一方の主面上にアレイを形成する。

カラーフィルタが形成された積層ガラス基板１と、アレイが形成された無アルカリガラス基板とをシール材を介して貼り合わせた後、積層ガラス基板１側の端部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板表面には強度低下につながるような傷はみられない。

続いて、支持ガラス基板を分離したものを縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルにレーザーカッタ又はスクライブ−ブレイク法を用いて分断する。その後、液晶注入工程及び注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。

（実施例４）
実施例４では、実施例１で得た積層ガラス基板１を用いてＯＬＥＤを製造する。
積層ガラス基板１の端部から１０ｍｍ内部に入った領域に対して、透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程に供して、積層ガラス基板１の薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成する。次に積層体の端部に圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、支持ガラス基板を分離する。分離後の薄板ガラス基板の表面には強度低下につながるような傷はみられない。

続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタ又はスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上の問題は生じない。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２００８年１０月２３日出願の日本特許出願２００８−２７３０８１に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

本発明によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッチピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、薄板ガラス基板の表示デバイス形成面に、当該表示デバイスの形成を阻害するような傷、汚れ等がほぼ存在しない積層ガラス基板を、簡易かつ経済的に製造することできる装置を提供することができる。また、その装置を用いた積層ガラス基板の製造方法を提供することができる。

１０ 積層装置
１２ 上定盤
１２１ 静電吸着素子
１２３ 空間
１２５ 通気孔
１３ 支柱
１４ 下定盤
１４５ 減圧孔
１６ シール
２０ 支持ガラス基板
２２ 樹脂層
２４ 薄板ガラス基板
３０ 空間
ｘ 静電吸着素子の幅

Claims (11)

1. ２枚のガラス基板を積層するガラス基板積層装置であって、
   上方のガラス基板を吸着支持すべく構成された上方基板支持ユニット、
   下方のガラス基板を載置支持すべく構成された下方基板支持ユニット、
   前記上方基板支持ユニットと前記下方基板支持ユニットとの間を含む空間を気密状態にすべく構成されたシールユニット、及び、
   前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットで囲まれた前記空間内を減圧すべく構成された減圧ユニットを備え、
   前記上方基板支持ユニットが、その下面に下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）のうちのいずれかの形状の基板吸着ユニットを有する、ガラス基板積層装置。
   （Ａ）矩形枠形状の基板吸着ユニット。
   （Ｂ）矩形枠と、その矩形を構成する４辺のうちの対向する１組又は２組の辺の各々を結ぶ直線又は曲線とからなる形状の基板吸着ユニット。
   （Ｃ）互いに交差する複数の直線又は曲線からなる形状の基板吸着ユニット。
2. さらに、上方のガラス基板の上面に下方へ向かって圧縮空気を吹き付けるべく構成された圧縮空気供給ユニットを有する、請求項１に記載のガラス基板積層装置。
3. 前記基板吸着ユニットの幅が２０ｍｍ以下である、請求項１又は２に記載のガラス基板積層装置。
4. 前記基板吸着ユニットが、静電吸着素子又は粘着部材を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス基板積層装置。
5. 前記静電吸着素子の電極保持用基材がポリイミド系フィルムである、請求項４に記載のガラス基板積層装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス基板積層装置を用いて、薄板ガラス基板及び支持ガラス基板の２枚のガラス基板を積層する積層ガラス基板の製造方法であって、
   前記上方基板支持ユニットが有する前記基板吸着ユニットにより吸着された前記薄板ガラス基板と、前記下方基板支持ユニットの上に載置された、上面に樹脂層を有する前記支持ガラス基板とを対向させ、
   前記減圧ユニットにより、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットに囲まれた空間内を減圧し、
   その後、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させ、加圧することで２枚のガラス基板を前記樹脂層を介して積層する、積層ガラス基板の製造方法。
7. 前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させた後、前記圧縮空気供給ユニットによって、前記薄板ガラス基板の上面に下方へ向って圧縮空気を吹き付ける、請求項６に記載の積層ガラス基板の製造方法。
8. 前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを接触させた後、前記上方基板支持ユニット、前記下方基板支持ユニット及び前記シールユニットで囲まれた前記空間内もしくは別の加圧装置内にて０．１〜１ＭＰａの範囲で加圧処理する、請求項６又は７に記載の積層ガラス基板の製造方法。
9. 前記薄板ガラス基板の上面面積をＳ₀、前記基板吸着ユニットと前記薄板ガラス基板との接触面積をＳ₁とするとき、関係式０．０２≦Ｓ₁／Ｓ₀≦０．１を満足する、請求項６〜８のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。
10. 前記基板吸着ユニットが静電吸着素子を有し、前記薄板ガラス基板に対する前記静電吸着素子の吸着力が、印加電圧１ｋＶにおいて４０ｍＮ／ｃｍ²以上である、請求項６〜９のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。
11. 前記樹脂層が、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂及びシリコーン系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種からなる、請求項６〜１０のいずれか１項に記載の積層ガラス基板の製造方法。

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