JP5574153B2 - 光カチオン重合性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 42
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 71
- -1 ether compound Chemical class 0.000 claims description 60
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 41
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 19
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- LJSLYKNKVQMIJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC=C(OCC)C2=C1 LJSLYKNKVQMIJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 7
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 7
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- FWWRTYBQQDXLDD-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=C(OC)C2=C1 FWWRTYBQQDXLDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethoxynaphthalene Natural products C1=CC=C2C(C)=CC=C(C)C2=C1 APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AHKDVDYNDXGFPP-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxynaphthalene Chemical compound C1=C(OC)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 AHKDVDYNDXGFPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UDQSUQGVJKUQSS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dipropoxynaphthalene Chemical compound C(CC)OC1=CC2=CC=C(C=C2C=C1)OCCC UDQSUQGVJKUQSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC=CC2=C1 APWZAIZNWQFZBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RHYLFJIYMVTKQO-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-1-yl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1OCC1CO1 RHYLFJIYMVTKQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- PLQJMPNNBLKOEF-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(OCC)C(OCC)=CC=C21 PLQJMPNNBLKOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHZACTONCWMCNR-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethoxynaphthalene Chemical compound COC1=C(OC)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 YHZACTONCWMCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxybutane Chemical compound CCC1CO1 RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCPSPHSQYIKGKO-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(2-methoxyethoxy)naphthalene Chemical compound COCCOC1=CC=C(C2=CC=CC=C12)OCCOC HCPSPHSQYIKGKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCKDHELOXQNAPK-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(2-phenoxyethoxy)naphthalene Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)CCOC1=CC=C(C2=CC=CC=C12)OCCOC1=CC=CC=C1 QCKDHELOXQNAPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKXGGMCMWNJILJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibutoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=CC=C(OCCCC)C2=C1 UKXGGMCMWNJILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGIRROCGBDJGQS-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethoxy-2-methoxynaphthalene Chemical compound CCOC1=CC(OC)=C(OCC)C2=CC=CC=C12 WGIRROCGBDJGQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWBXHASEDLXPHA-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethoxy-2-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC(C)=C(OCC)C2=C1 KWBXHASEDLXPHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFWZVAPTWLMLBM-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethoxy-2-phenoxynaphthalene Chemical compound CCOC1=CC(OC2=CC=CC=C2)=C(OCC)C2=CC=CC=C12 KFWZVAPTWLMLBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJPJWPYRFJDRMH-UHFFFAOYSA-N 1,4-dipropoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCC)=CC=C(OCCC)C2=C1 JJPJWPYRFJDRMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZINAUYGXKCIPSP-UHFFFAOYSA-N 1-butoxy-4-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=CC=C(OC)C2=C1 ZINAUYGXKCIPSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIHHZGGMLVTAGQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,6-dimethoxynaphthalene Chemical compound ClC1=C(OC)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 ZIHHZGGMLVTAGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZWVUYCTDMQJH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-4-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC=C(OC)C2=C1 KTZWVUYCTDMQJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKDOUCYBKSQOTF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibutoxynaphthalene Chemical compound C1=C(OCCCC)C=CC2=CC(OCCCC)=CC=C21 RKDOUCYBKSQOTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFMWCTLRFTWBQO-UHFFFAOYSA-N 2,6-diethoxynaphthalene Chemical compound C1=C(OCC)C=CC2=CC(OCC)=CC=C21 SFMWCTLRFTWBQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1CO1 BBBUAWSVILPJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVLUBEJQNBBJCK-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methoxynaphthalen-1-yl)oxymethyl]oxirane Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1OCC1CO1 AVLUBEJQNBBJCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSOVVTOURMQUSM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-propylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1OCC1OC1 SSOVVTOURMQUSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUHCEVSAMMJHLV-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-2-yl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1C=C2)=CC=C1C=C2OCC1CO1 BUHCEVSAMMJHLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZMZUXLPBVJNR-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,4-diethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=CC(Cl)=C(OCC)C2=C1 ZNZMZUXLPBVJNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGABYXKKCLIRW-UHFFFAOYSA-N 2-decyloxirane Chemical compound CCCCCCCCCCC1CO1 MPGABYXKKCLIRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGYJSURPYAAOMM-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)OC=C PGYJSURPYAAOMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AAMHBRRZYSORSH-UHFFFAOYSA-N 2-octyloxirane Chemical compound CCCCCCCCC1CO1 AAMHBRRZYSORSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2-methylphenoxy)methyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(C)C=1OCC1(CC)COC1 LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003119 4-methyl-3-pentenyl group Chemical group [H]\C(=C(/C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FDWQGNULGGFFDP-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C=CC1CCCC2OC12 FDWQGNULGGFFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAKHDJPNOKXIED-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-5-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCC2OC12 CAKHDJPNOKXIED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRHJUURKPOCPC-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-5-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCCC2OC12 ISRHJUURKPOCPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CCCCC(=O)OC1CC2OC2CC1 IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 1
- OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
従って、実質的に酸素不存在下で、高圧水銀ランプを用いた光カチオン重合において、光カチオン重合開始剤として保存安定性に優れた芳香族スルホニウム塩に対し、十分な重合速度を得ることのできる光カチオン重合増感剤を用いた光カチオン重合させる光重合方法を提供することである。
発明者らは、光カチオン重合増感剤の構造と増感性能について鋭意検討したところ、光カチオン重合開始剤として芳香族スルホニウム塩を用い、実質的に酸素不存在下で高圧水銀ランプを使用した場合に、特定構造を有するナフタレンエーテル化合物を光カチオン重合増感剤として添加することにより、高い増感効果が得られることを見出し、本発明を完成した。
第1の発明では、酸素濃度が5000ppm以下の雰囲気で、波長が355〜375nm、308〜318nm、及び298〜308nmの紫外線を発するランプを光源として光照射することにより、(a)一般式(1)に示すナフタレン骨格を有するエーテル化合物である光カチオン重合増感剤(但し、当該光カチオン重合増感剤とチオキサントン化合物との併用は除く。)、(b)芳香族スルホニウム塩、及び(c)カチオン重合性化合物を含有してなる光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させる方法を提供する。
(一般式(1)において、nは2または3の整数を表し、R1 は炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X1及びY1は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。)
(一般式(2)において、R2及びR2’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X2及びY2は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。)
(一般式(3)において、R3及びR3’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X3及びY3は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。)
本発明の(a)光カチオン重合増感剤、(b)芳香族スルホニウム塩、及び(c)カチオン重合性化合物を含有してなる光カチオン重合性組成物を用い、酸素濃度が5000ppm以下という実質的に酸素不存在下、高圧水銀ランプによって速やかに重合する工業的に有用な光重合方法を与える。
本発明の光重合組成物は、(a)一般式(1)に示すナフタレン骨格を有するエーテル化合物である光カチオン重合増感剤(但し、当該光カチオン重合増感剤とチオキサントン化合物との併用は除く。)、(b)芳香族スルホニウム塩、及び(c)カチオン重合性化合物を含有してなる光カチオン重合性組成物である。
(光カチオン重合増感剤)
本発明における(a)光カチオン重合増感剤としては、一般式(1)に示すナフタレンエーテル化合物が用いられる。但し、当該光カチオン重合増感剤とチオキサントン化合物との併用は除く。
一般式(1)において、nは2または3の整数を表し、R1 は炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X1及びY1は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。
特に、一般式(2)で示すナフタレン−1,4−ジエーテル化合物及び一般式(3)で示されるナフタレン−2,6−ジエーテル化合物は合成が容易であることから好適に用いられる。
一般式(2)において、R2及びR2’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X2及びY2は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。
一般式(3)において、R3及びR3’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X3及びY3は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。
一般式(1)におけるR1、一般式(2)におけるR2、R2’、及び一般式(3)におけるR3、R3’におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、アミル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、アルコキシアルキル基としては、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−メトキシエトキシエチル基等が挙げられ、アリールオキシアルキル基としては、2−フェノキシエチル基等が挙げられる。
一般式(1)におけるX1、Y1、一般式(2)におけるX2、Y2、及び一般式(3)におけるX3、Y3におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子,臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、アミル基、2−エチルヘキシル基、4−メチルペンチル、4−メチル−3−ペンテニル基等が挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基,n−プロポキシ基,n−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、アリールオキシ基としては、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、o−トリルオキシ基、ナフチルオキシ等が挙げられる。
一般式(2)で示されるナフタレン−1,4−ジエーテル化合物としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、1,4−ジメトキシナフタレン、1,4−ジエトキシナフタレン、1,4−ジプロポキシナフタレン、1,4−ジブトキシナフタレン、1,4−ジグリシジルオキシナフタレン、1,4−ビス(2−メトキシエトキシ)ナフタレン、1,4−ビス(2−フェノキシエトキシ)ナフタレン、1−メトキシ−4−エトキシナフタレン、1−メトキシ−4−ブトキシナフタレン、1−メトキシ−4−グリシジルオキシナフタレン、2−メチル−1,4−ジエトキシナフタレン、2−クロロ−1,4−ジエトキシナフタレン、2−メトキシ−1,4−ジエトキシナフタレン、 2−フェノキシ−1,4−ジエトキシナフタレン等である。
一般式(3)で示されるナフタレン−2,6−ジエーテル化合物としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、2,6−ジメトキシナフタレン、2,6−ジエトキシナフタレン、2,6−ジプロポキシナフタレン、2,6−ジブトキシナフタレン、2,6−ジグリシジルオキシナフタレン、2−メトキシ−6−エトキシナフタレン、1−メチル−2,6−ジメトキシナフタレン,1−クロロ−2,6−ジメトキシナフタレン、1−メトキシ−2,6−ジメトキシナフタレン等である。
上記ナフタレン化合部のうち特に好ましいものは、1,4−ジメトキシナフタレン、1,4−ジエトキシナフタレン、2,6−ジメトキシナフタレンまたは2,6−ジプロポキシナフタレンである。
(芳香族スルホニウム塩)
光カチオン重合開始剤として使用する芳香族スルホニウム塩としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわちS,S,S’,S’−テトラフェニル−S,S’−(4、4’−チオジフェニル)ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェート(DOW社製UVI6992)、ジフェニル−4−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリ−p−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。この中でも、特にS,S,S’,S’−テトラフェニル−S,S’−(4、4’−チオジフェニル)ジスルホニウムビスヘキサフルオロフォスフェートを用いることが好ましい。
(カチオン重合性化合物)
本発明に使用することができるカチオン重合性化合物としてはエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物が挙げられる。エポキシ化合物として一般的なものは脂環式エポキシ化合物、エポキシ変性シリコーン、芳香族グリシジル化合物である。脂環式エポキシ化合物としては3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(DOW製UVR6105、UVR6110)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられ、この中でも、特に3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを用いることが好ましい。芳香族グリシジル化合物としては2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンが挙げられる。ビニルエーテル化合物としてはメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。
(光カチオン重合性組成物)
光カチオン重合性組成物の組成としては、カチオン重合性化合物の100重量部に対し、光カチオン重合開始剤である芳香族スルホニウム塩を0.1〜10重量部、好ましくは1〜5重量部の範囲で使用する。カチオン重合性化合物に対する芳香族スルホニウム塩の使用量が少なすぎると、光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させたとき、重合速度が遅くなり、一方、芳香族スルホニウム塩の使用量が多すぎると光カチオン重合性組成物を光重合させたときに得られる光重合物の物性が低下するおそれがあるため好ましくない。
光カチオン重合増感剤は、芳香族スルホニウム塩の1重量部に対し、0.2〜5重量部、好ましくは0.5〜1重量部の範囲で使用する。光カチオン重合増感剤が少なすぎると、増感効果が発現し難くなる場合があり、一方、多すぎると光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させたとき、重合物の物性が低下するおそれがあるため好ましくない。
本発明の光カチオン重合性組成物には、必要に応じてエポキシ系希釈剤、オキセタン系希釈剤、ビニルエーテル系希釈剤を含有しても良い。
本発明で用いられるエポキシ系希釈剤の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。オキセタン系希釈剤の例としては、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン等が挙げられる。ビニルエーテル系希釈剤の例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。
(重合方法)
当該光カチオン重合性組成物の重合はフィルム状で行うことも出来るし、塊状に硬化させることも可能である。フィルム状に重合させる場合は、当該光カチオン重合性組成物を液状にし、たとえばポリエステルフィルムなどの基材上に、たとえばバーコーターなどを用いて光カチオン重合性組成物を塗布したのちに、紫外線などの光線を照射して重合させる。
(基材)
フィルム状に重合させる場合に用いられる基材としてはフィルム、紙、アルミ箔、金属等が主に用いられるが特に限定されない。基材としてのフィルムに用いられる素材としてはポリエステル、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリビニルアルコール(PVA)等が用いられる。具体的には例えばポリエステルフィルム(東レ株式会社製ルミラー、ルミラーは東レ株式会社の登録商標)を用いることが出来る。当該ポリエステルフィルムの膜厚は通常100μ未満の膜厚のものを使用する。ポリエステルフィルムの膜厚を調整するために使用するバーコーターは特に指定しないが、膜厚が1μ以上100μ未満に調整できるバーコーターを使用する。
(光源)
このようにして調製した塗布膜に紫外線などの光線を照射することにより重合させることができる。用いられる光源としては、波長が355〜375nm、308〜318nm及び298〜308nmの紫外線を含む光源を使用することが好ましい。具体的には水銀ランプ、LED、マイクロ波励起方式UVランプ(例えばフュージョン株式会社製のHバルブ、Dバルブ、Vバルブ)、太陽光等が挙げられ、好適なランプとしては、点灯中の水銀蒸気圧が1kPa〜10000kPaの水銀ランプが挙げられ、より好ましくは点灯中の水銀蒸気圧が100kPa〜1000kPaの水銀ランプいわゆる高圧水銀ランプが挙げられる。水銀ランプにおいては水銀の他に金属ハライドのような他化合物を添加してもよい。金属ハライドを添加したいわゆるメタルハライドランプも好適に用いることができる。
(雰囲気)
本発明の光カチオン重合性組成物は、当該光カチオン重合性組成物の表面を開放した系でも表面を空気と遮断した系でも重合させることができる。例えば、フィルム状で重合させるときに、本発明の光カチオン重合性組成物を基材に塗布し、塗布面を開放したまま、紫外線などの光線を照射して重合させることもできれば、本発明の光カチオン重合性組成物を酸素不透過性基材に塗布し、その表面に酸素不透過性基材貼合した状態で紫外線などの光線を照射して重合させることもできる。
一般的に、高圧水銀ランプを光源とした光カチオン重合で光カチオン重合開始剤として芳香族スルホニウム塩を用いた場合、窒素雰囲気下に比べ空気中の方が重合速度はすこし速くなる。そして、その系に従来のフェノール系光カチオン重合増感剤を入れると空気中では増感効果を示し更に重合速度が速くなるが、窒素雰囲気下、例えば酸素濃度が5000ppm(0.5体積%)というような条件下では増感効果を示さなくなることが分かった。本発明の光カチオン重合性組成物は、このような酸素濃度が5000ppm以下の条件下における重合反応においても空気中と同様に重合速度が速いのが特徴である。
光カチオン重合性組成物表面開放系の例としては、塗膜として使用に供する用途すなわち塗料、コーティング、インキ等を挙げることができる。具体的には自動車用塗料、木工コーティング、PVC床コーティング、窯業壁コーティング、建材用コーティング、樹脂ハードコート、メタライズベースコート
、フィルムコーティング 、液晶ディスプレイ(LCD)用コーティング、プラズマディスプレイ(PDP)用コーティング、光ディスク用コーティング 、金属コーティング、光ファィバーコーティング、印刷インキ、平版インキ
、金属缶インキ 、スクリーン印刷インキ、インクジェットインキ、グラビアニス 等が挙げられる。また、レジスト、ディスプレイ、封止剤、歯科材料、光造型材料等の分野でもこのような使用態様が用いられる。
光カチオン重合性組成物表面遮断系の例としては、接着剤、粘着剤、粘接着剤、シーリング剤等を挙げることができる。さらに、「電子部品用感光性材料の最新動向III−半導体・電子基板・ディスプレー分野の開発状況―」(住ベリサーチ社、2006年7月)、「UV・EB硬化技術の最新動向」(ラドテック研究所、2006年3月)、「光応用技術・材料事典」(山岡亜夫編、2006年4月)、「光硬化技術」(技術情報協会、2000年3月)、「光硬化性材料−製造技術と応用展開−」(東レリサーチセンター、2007年9月)等に例示されている用途に適宜用いることができる。
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。実施例中の「部」は全て重量部を示す。
重合状態の判定は、タックフリーテスト(指触テスト)に基づいて行った。すなわち、光照射により重合するとフィルム表面のラジカル重合性組成物のタック(べたつき)が取れるので、フィルム表面を指で触り、タック(表面のべたつき)がなくなった時間を「タック・フリー・タイム」(硬化時間)とした。
(実施例1)
カチオン重合性化合物として脂環式エポキシ化合物(DOW社製UVR6105)を100部、光カチオン重合開始剤として芳香族スルホニウム塩(DOW社製UVI6992)を3部、光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレン0.8部を混合し、光カチオン重合性組成物を調製した。該組成物をポリエステルフィルム(東レ株式会社製ルミラー)の上にバーコーターを用いて膜厚が12μmになるように塗布した。ついで、窒素雰囲気下(酸素濃度は5000ppm:0.5体積%)、表面から高圧水銀ランプを用いて光照射した。照射光の波長365nmにおける照射強度は3mW/cm2である。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は35秒であった。
(実施例2)
光カチオン重合増感剤として、1,4−ジエトキシナフタレンに代えて1,4−ジメトキシナフタレンを用いた以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は40秒であった。
光カチオン重合増感剤として、1,4−ジエトキシナフタレンに代えて1,4−ジグリシジルオキシナフタレンを用いた以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は45秒であった。
(実施例4)
光カチオン重合増感剤として、1,4−ジエトキシナフタレンに代えて2,6−ジメトキシナフタレンを用いた以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は40秒であった。
(実施例5)
光カチオン重合増感剤として、1,4−ジエトキシナフタレンに代えて2,6−ジプロポキシナフタレンを用いた以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は45秒であった。
(実施例6)
カチオン重合性化合物として脂環式エポキシ化合物(DOW社製UVR6105)を100部、光カチオン重合開始剤として芳香族スルホニウム塩(DOW社製UVI6992)を3部、光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレン0.8部を混合し、光カチオン重合性組成物を調製した。該組成物をポリエステルフィルム(東レ株式会社製ルミラー)の上にバーコーターを用いて膜厚が12μmになるように塗布した。ついで、空気雰囲気下(酸素濃度21体積%)表面から高圧水銀ランプを用いて光照射した。照射光の波長365nmにおける照射強度は3mW/cm2である。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は28秒であった。
(比較例1)
光カチオン重合増感剤の1,4−ジエトキシナフタレンを使用しないこと以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は65秒であった。
(比較例2)
光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレンに代えて9,10−ジブトキシアントラセンを用いる以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は75秒であった。
(比較例3)
光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレンに代えて2,4−ジエチルチオキサントンを用いる以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は70秒であった。
(比較例4)
光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレンに代えて4−メトキシ−1−フェノールを用いる以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は65秒であった。
(比較例5)
光カチオン重合増感剤として1,4−ジエトキシナフタレンに代えて1−エトキシナフタレンを用いる以外は実施施例1と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は80秒であった。
(比較例6)
カチオン重合性化合物として脂環式エポキシ化合物(DOW社製UVR6105)を100部、光カチオン重合開始剤として芳香族スルホニウム塩(DOW社製UVI6992)を3部、光カチオン重合増感剤として4−メトキシ−1−フェノール0.8部を混合し、光カチオン重合性組成物を調製した。該組成物をポリエステルフィルム(東レ株式会社製ルミラー)の上にバーコーターを用いて膜厚が12μmになるように塗布した。ついで、空気雰囲気下、表面から高圧水銀ランプを用いて光照射した。照射光の波長365nmにおける照射強度は3mW/cm2である。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は39秒であった。
(比較例7)
光カチオン重合増感剤として4−メトキシ−1−フェノールに代えて1−エトキシナフタレンを用いる以外は比較例6と同様にして試験した。光照射開始からべたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は50秒であった。
表1に示す略称は以下の通りである。
脂環式エポキシ化合物:DOW社製UVR6105
芳香族スルホニウム塩:DOW社製UVI6992
14DEN:1,4−ジエトキシナフタレン
14DMN:1,4−ジメトキシナフタレン
14DGN:1,4−ジグリシジルオキシナフタレン
26DMN:2,6−ジメトキシナフタレン
26DPN:2,6−ジプロポキシナフタレン
DBA:9,10−ジブトキシアントラセン
24TXN:2,4−ジエチルチオキサントン
4MPH:4−メトキシ−1−フェノール
1EN:1−エトキシナフタレン
Claims (3)
- 酸素濃度が5000ppm以下の雰囲気で、波長が355〜375nm、308〜318nm、及び298〜308nmの紫外線を発するランプを光源として光照射することにより、(a)一般式(1)に示すナフタレン骨格を有するエーテル化合物である光カチオン重合増感剤(但し、当該光カチオン重合増感剤とチオキサントン化合物との併用は除く。)、(b)芳香族スルホニウム塩、及び(c)カチオン重合性化合物を含有してなる光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させる方法。
(一般式(1)において、nは2または3の整数を表し、R1は炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X1及びY1は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。) - (a)光カチオン重合増感剤成分が、一般式(2)に示すナフタレン−1,4−ジエーテル化合物であることを特徴とする請求項1記載の光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させる方法。
(一般式(2)において、R2及びR2’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X2及びY2は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。) - (a)光カチオン重合増感剤成分が、一般式(3)に示すナフタレン−2,6−ジエーテル化合物であることを特徴とする請求項1記載の光カチオン重合性組成物を光カチオン重合させる方法。
(一般式(3)において、R3及びR3’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアルコキシアルキル基、炭素数1以上10未満の炭素数を有するアリールオキシアルキル基を表し、X3及びY3は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010006763A JP5574153B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 光カチオン重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010006763A JP5574153B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 光カチオン重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011144277A JP2011144277A (ja) | 2011-07-28 |
JP5574153B2 true JP5574153B2 (ja) | 2014-08-20 |
Family
ID=44459418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010006763A Active JP5574153B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 光カチオン重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5574153B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5534175B2 (ja) * | 2010-02-04 | 2014-06-25 | 川崎化成工業株式会社 | 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物 |
US8872137B2 (en) * | 2011-09-15 | 2014-10-28 | Phoseon Technology, Inc. | Dual elliptical reflector with a co-located foci for curing optical fibers |
JP6476757B2 (ja) * | 2014-10-31 | 2019-03-06 | 川崎化成工業株式会社 | 光増感剤組成物及び光重合性組成物 |
JP6931456B2 (ja) * | 2017-04-03 | 2021-09-08 | 川崎化成工業株式会社 | 2−ハロアルコキシ−6−置換オキシナフタレン化合物及び2−ハロアルコキシ−6−置換オキシナフタレン化合物を含有する光重合増感剤 |
CN115707681B (zh) * | 2021-08-20 | 2024-02-02 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 萘系增感剂、其制备方法以及光固化组合物和光固化产品 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0713057B2 (ja) * | 1987-08-12 | 1995-02-15 | 和光純薬工業株式会社 | 新規なスルホニウム塩 |
JP5422872B2 (ja) * | 2005-01-06 | 2014-02-19 | 川崎化成工業株式会社 | 光硬化性組成物の硬化方法 |
JP2007126612A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | 光増感剤、光感応性酸発生剤及び光硬化性組成物 |
-
2010
- 2010-01-15 JP JP2010006763A patent/JP5574153B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011144277A (ja) | 2011-07-28 |
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