JP5423363B2 - Organic electroluminescence element, display device and lighting device - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置に関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence element, a display device, and a lighting device.
従来、発光型の電子ディスプレイデバイスとして、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(以下、ELDという)がある。ELDの構成要素としては、無機エレクトロルミネッセンス素子や有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう)が挙げられる。 Conventionally, as a light-emitting electronic display device, there is an electroluminescence display (hereinafter referred to as ELD). Examples of the constituent elements of ELD include inorganic electroluminescent elements and organic electroluminescent elements (hereinafter also referred to as organic EL elements).
無機エレクトロルミネッセンス素子は平面型光源として使用されてきたが、発光素子を駆動させるためには交流の高電圧が必要である。 Inorganic electroluminescent elements have been used as planar light sources, but an alternating high voltage is required to drive the light emitting elements.
一方、有機EL素子は発光する化合物を含有する発光層を陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子及び正孔を注入して、再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・リン光)を利用して発光する素子であり、数V〜数十V程度の電圧で発光が可能であり、更に自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性等の観点から注目されている。 On the other hand, an organic EL device has a structure in which a light-emitting layer containing a light-emitting compound is sandwiched between a cathode and an anode, and excitons (excitons) are generated by injecting electrons and holes into the light-emitting layer and recombining them. The device emits light by utilizing the emission of light (fluorescence / phosphorescence) when the exciton is deactivated, and can emit light at a voltage of several volts to several tens of volts. Therefore, it has a wide viewing angle, high visibility, and since it is a thin-film type completely solid element, it has attracted attention from the viewpoints of space saving and portability.
しかしながら、今後の実用化に向けた有機EL素子においては、更に低消費電力で効率よく短波波長でも高輝度に発光する有機EL素子の開発が望まれている。 However, for organic EL elements for practical use in the future, development of organic EL elements that emit light with high luminance even at short wave wavelengths with low power consumption is desired.
波長の短波化に関してはこれまでフェニルピリジンにフッ素原子、トリフルオロメチル基、シアノ基等の電子吸引基を置換基として導入すること、配位子としてピコリン酸やピラザボール系の配位子を導入することが知られている。 Regarding wavelength shortening, introduction of electron-withdrawing groups such as fluorine atoms, trifluoromethyl groups, and cyano groups into phenylpyridine as substituents, and introduction of picolinic acid and pyrazabole-based ligands as ligands It is known.
しかしながら、これらの配位子では発光材料の発光波長が短波化して青色を達成し、高効率の素子を達成できる一方、素子の発光寿命は大幅に劣化するため、そのトレードオフの改善が求められていた。 However, with these ligands, the emission wavelength of the light-emitting material is shortened to achieve blue, and a high-efficiency device can be achieved. On the other hand, the light-emitting lifetime of the device is greatly deteriorated, so an improvement in the trade-off is required. It was.
配位子としてフェニルピラゾールを有する金属錯体は発光波長が短波な発光材料であることが開示されている(例えば、特許文献1、2参照)。さらに、フェニルピラゾールの5員環に6員環が縮合した部分構造を有する配位子から形成される金属錯体が開示されている(例えば、特許文献3、4参照。)。フェナンスリジン骨格を有する金属錯体についての開示がある(例えば、特許文献5、6参照)。
It is disclosed that a metal complex having phenylpyrazole as a ligand is a light emitting material having a short emission wavelength (for example, see
このように多くの発光材料がイリジウム錯体、白金錯体を中心に合成検討がなされているが、高発光効率、低駆動電圧であり、耐熱性、生保存性に優れ、なおかつ、長寿命である有機EL素子を提供するという観点からは、いまだに不十分であり、更なる解決方法が模索されている。 As described above, many light emitting materials have been studied focusing on iridium complexes and platinum complexes, but they have high luminous efficiency, low driving voltage, excellent heat resistance, raw storage stability, and long life. From the viewpoint of providing an EL element, it is still insufficient, and further solutions are being sought.
一方で、大面積化、低コスト化、高生産性に対する要求から、湿式法(ウエットプロセス等ともいう)に対する期待が大きく、真空プロセスでの成膜に比べて低温で成膜可能であるため、下層の有機層のダメージを低減でき、発光効率や素子寿命の改善の面からも大きな期待が寄せられている(例えば、特許文献7,8)。これらの文献の中では、イオン性の金属錯体を使用したウエット成膜が実現さている。しかしながら、青色リン光発光を利用する有機EL素子において、ウエット成膜を実現するためには、実用上の観点から、現在知られている発光材料では、溶剤に対する溶解性、溶液安定性、駆動電圧、素子寿命等の点で、まだ不十分であり、更なる改良技術が不可欠であることが判ってきた。 On the other hand, because of demands for large area, low cost, and high productivity, there is a great expectation for wet methods (also called wet processes, etc.), and film formation can be performed at a lower temperature than film formation by vacuum process. There is great expectation from the viewpoint of improving the light emission efficiency and the device lifetime because the damage of the lower organic layer can be reduced (for example, Patent Documents 7 and 8). In these documents, wet film formation using an ionic metal complex is realized. However, in order to realize wet film formation in an organic EL element using blue phosphorescence, from a practical point of view, currently known luminescent materials have solubility in solvents, solution stability, and driving voltage. It has been found that the device lifetime is still insufficient and further improvement techniques are indispensable.
本発明は係る課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、特異的に短波な発光が見られ、高い発光効率を示し、且つ発光寿命の長く、溶液安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an organic electroluminescence that exhibits specific short-wave emission, exhibits high emission efficiency, has a long emission lifetime, and has excellent solution stability. It is providing a luminescence element, an illuminating device, and a display apparatus.
特に、青色〜青緑色の短波な発光で、高い発光効率を示し、且つ駆動電圧が低く、発光寿命の長く、溶液安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することである。 In particular, it is to provide an organic electroluminescence device which exhibits high luminous efficiency with blue to blue-green short-wave light emission, low driving voltage, long light emission lifetime, and excellent solution stability.
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。 The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.
1.陽極と陰極の間に、複数の有機化合物層が挟持されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、該有機化合物層の少なくとも1層が下記一般式(1)で表される化合物、または、一般式(2)で表される化合物を少なくとも1つ含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 1. An organic electroluminescent device comprising a plurality of organic compound layers sandwiched between an anode and a cathode, wherein at least one of the organic compound layers is a compound represented by the following general formula (1), or a general formula An organic electroluminescence device comprising at least one compound represented by (2).
(式中、E2a、E2bは各々独立に置換基を有しても良い炭素原子、置換基を有しても良い窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表す。E2c、E2d、E2k、及びE2oは各々独立に炭素原子、または、窒素原子を表す。E2l〜E2nは各々独立に置換基を有しても良い炭素原子、または、窒素原子を表す。X11−L11−X12は二座の配位子を表し、X11、X12は各々独立に炭素原子、窒素原子、または、酸素原子を表す。L11はX11、X12と共に二座の配位子を形成する原子群を表す。R11、R12は各々独立に水素原子、または、置換基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。R21は置換基を表す。R22は酸素原子、または、置換基を表す。R21とR22は互いに結合して環を形成してもよい。m11は1、2、または、3の整数を表す。m21は0、1、または、2の整数を表す。Y1はカウンターアニオンを表し、n1は錯体分子全体の電荷を中和するように2、または、3の整数を表す。M1とX11、または、M1とX12の間の結合は共有結合、または、配位結合である。M1は元素周期表における8族〜10族の遷移金属元素を表す。)
2.陽極と陰極の間に、複数の有機化合物層が挟持されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、該有機化合物層の少なくとも1層が下記一般式(3)で表される化合物、または、一般式(4)で表される化合物を少なくとも1つ含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
( Wherein E 2a and E 2b each independently represents a carbon atom which may have a substituent, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom which may have a substituent. E 2c , E 2d and E 2k, and E 2o each independently a carbon atom or, represent a nitrogen atom .E 2l to E 2 n is may have independently a substituent carbon atoms or a .X 11 that represents a nitrogen atom - L 11 -X 12 represents a bidentate ligand, and X 11 and X 12 each independently represents a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom, and L 11 represents a bidentate coordination with X 11 and X 12. R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent and may be bonded to each other to form a ring, and R 21 represents a substituent. 22 is an oxygen atom or a substituted group .R 21 and R 22 are bonded to each other May form a ring .
2. An organic electroluminescent device comprising a plurality of organic compound layers sandwiched between an anode and a cathode, wherein at least one of the organic compound layers is a compound represented by the following general formula (3), or a general formula An organic electroluminescence device comprising at least one compound represented by (4).
(式中、E1a、E1bは各々独立に置換基を有しても良い炭素原子、置換基を有しても良い窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表す。E1c、E1d、E1e、E1j、E1k、及びE1oは各々独立に炭素原子、または、窒素原子を表す。E1f〜E1i及びE1l〜E1nは各々独立に置換基を有しても良い炭素原子、または、窒素原子を表す。E1a〜E1oとMに配位する二つの窒素原子で構成される骨格は合計で18π電子を有する。X1−L1−X2は二座の配位子を表し、X1、X2は各々独立に炭素原子、窒素原子、または、酸素原子を表す。L1はX1、X2と共に二座の配位子を形成する原子群を表す。m1は1、2、または、3の整数を表す。m2は0、1、または、2の整数を表す。Yはカウンターアニオンを表し、nは錯体分子全体の電荷を中和するように2、または、3の整数を表す。MとX1、または、MとX2の間の結合は共有結合、または、配位結合である。Mは元素周期表における8族〜10族の遷移金属元素を表す。)
3.前記一般式(3)で表される化合物が、下記一般式(5)で表される化合物、または、前記一般式(4)で表される化合物が、下記一般式(6)で表される化合物であることを特徴とする前記2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(In formula, E <1a> , E <1b> respectively independently represents the carbon atom which may have a substituent, the nitrogen atom which may have a substituent, an oxygen atom, or a sulfur atom. E < 1c >, E <1d> , E 1e , E 1j , E 1k , and E 1o each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and E 1f to E 1i and E 1l to E 1n each independently represent a carbon atom that may have a substituent. Or a nitrogen atom, a skeleton composed of two nitrogen atoms coordinated to E 1a to E 1o and M has a total of 18π electrons, and X 1 -L 1 -X 2 is a bidentate coordination. X 1 and X 2 each independently represents a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom, and L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with X 1 and X 2. Represents an integer of 1, 2, or 3. m2 represents an integer of 0, 1, or 2. Y Represents a counter anion and n represents an integer of 2 or 3 so as to neutralize the charge of the entire complex molecule, and the bond between M and X 1 , or M and X 2 is a covalent bond, or (It is a coordinate bond. M represents a group 8-10 transition metal element in the periodic table.)
3. The compound represented by the general formula (3) is represented by the following general formula (5), or the compound represented by the general formula (4) is represented by the following general formula (6). 3. The organic electroluminescence device as described in 2 above, which is a compound.
(式中、E1a〜E1oは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるE1a〜E1oと同義である。E1a〜E1oとMに配位する二つの窒素原子で構成される骨格は合計で18π電子を有する。L1は2つの窒素原子と共に二座の配位子を形成する原子群を表す。Y及びMは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるY及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す。)
4.前記一般式(5)で表される化合物が、下記一般式(7)で表される化合物、または、前記一般式(6)で表される化合物が、下記一般式(8)で表される化合物であることを特徴とする前記3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(In formula, E < 1a > -E <1o> is synonymous with E < 1a > -E <1o> in the said General formula (3) or General formula (4), respectively. Two nitrogen atoms coordinated to E < 1a > -E <1o> and M are each. In total, 18 π electrons are included in the skeleton, and L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with two nitrogen atoms, and Y and M represent the above general formula (3) or the general formula, respectively. (It is synonymous with Y and M in (4). M1, m2 and n represent the same integers as m1, m2 and n in General Formula (3) or General Formula (4), respectively.)
4). The compound represented by the general formula (5) is represented by the following general formula (7), or the compound represented by the general formula (6) is represented by the following general formula (8). 4. The organic electroluminescence device as described in 3 above, which is a compound.
(式中、E1a〜E1jは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるE1a〜E1jと同義である。R51、R52、R53、R61、R62、及びR63はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。L1、Y及びMは、それぞれ前記一般式(5)又は一般式(6)におけるL1、Y及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す。)
5.前記一般式(7)で表される化合物が、下記一般式(9)で表される化合物であるか、前記一般式(8)で表される化合物が、下記一般式(10)で表される化合物、または、一般式(11)で表される化合物であることを特徴とする前記4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(Wherein, E 1a to E 1j are respectively the general formula (3) or the formula in (4) the same meaning as E 1a ~E 1j .R 51, R 52, R 53, R 61, R 62, And R 63 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and L 1 , Y and M are respectively synonymous with L 1 , Y and M in Formula (5) or Formula (6). , M2 and n represent the same integers as m1, m2 and n in the general formula (3) or the general formula (4), respectively.
5. The compound represented by the general formula (7) is a compound represented by the following general formula (9), or the compound represented by the general formula (8) is represented by the following general formula (10). 5. The organic electroluminescence device according to 4 above, which is a compound represented by formula (11) or a compound represented by the general formula (11).
(式中、E1a〜E1gは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるE1a〜E1gと同義である。R51、R52、R53、は、それぞれ前記一般式(7)におけるR51、R52、R53と同義であり、R61、R62、及びR63はそれぞれ前記一般式(8)におけるR61、R62、及びR63と同義である。R54、R55、R56、R57、R64及びR65は各々独立に水素原子、または置換基を表す。L1、Y及びMは、それぞれ前記一般式(5)又は一般式(6)におけるL1、Y及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す。)
6.前記m11が3、m12が0であることを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(In formula, E < 1a > -E < 1g > is synonymous with E < 1a > -E < 1g > in the said General formula (3) or General formula (4), respectively. R < 51 >, R < 52 >, R < 53 > is respectively said general formula. (7) have the same meanings as R 51, R 52, R 53 in, R 61, R 62, and R 63 has the same meaning as R 61, R 62, and R 63 in the general formula respectively (8) .R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 64 and R 65 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and L 1 , Y and M are each the above general formula (5) or general formula (6). And L 1 , Y and M in M. m1, m2 and n represent the same integers as m1, m2 and n in General Formula (3) or General Formula (4), respectively.
6). 2. The organic electroluminescence device according to 1 above, wherein m11 is 3 and m12 is 0.
7.前記M1がイリジウムであることを特徴とする前記1又は6に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 7). 7. The organic electroluminescence device according to 1 or 6, wherein M 1 is iridium.
8.前記m1が3、m2が0であることを特徴とする前記2〜5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 8). 6. The organic electroluminescence device according to any one of 2 to 5, wherein m1 is 3 and m2 is 0.
9.前記Mがイリジウムであることを特徴とする前記2〜5、8のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 9. 9. The organic electroluminescent element according to any one of 2 to 5 and 8, wherein M is iridium.
10.前記一般式(1)〜(11)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種が発光層に含有されることを特徴とする前記1〜9のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 10. 10. The organic electroluminescence device as described in any one of 1 to 9 above, wherein at least one selected from the compounds represented by the general formulas (1) to (11) is contained in a light emitting layer.
11.前記一般式(1)〜(11)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種を含有した層が湿式法(ウェットプロセス)により成膜、形成される工程を経て製造されたことを特徴とする前記1〜10のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 11. A layer containing at least one selected from the compounds represented by the general formulas (1) to (11) is manufactured through a step of forming and forming a layer by a wet method (wet process). 11. The organic electroluminescence device according to any one of 1 to 10 above.
12.白色に発光することを特徴とする前記1〜11のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 12 The organic electroluminescence device according to any one of 1 to 11, which emits white light.
13.前記1〜12のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。 13. An illumination device comprising the organic electroluminescence element according to any one of 1 to 12 above.
14.前記1〜12のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする表示装置。 14 A display device comprising the organic electroluminescence element according to any one of 1 to 12 above.
本発明により、特異的に短波な発光が見られ、高い発光効率を示し、且つ駆動電圧が低く、発光寿命の長く、溶液安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子、及び該素子を用いた照明装置、表示装置を提供することができた。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, an organic electroluminescence element that exhibits specific short-wave light emission, exhibits high light emission efficiency, has a low driving voltage, has a long light emission lifetime, and has excellent solution stability, and an illumination device using the element The display device could be provided.
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、前記1〜12のいずれか1項に規定される構成により、高い発光効率を示し、且つ、発光寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス素子、該素子を用いた照明装置及び表示装置を提供することができた。 In the organic electroluminescent element of the present invention, an organic electroluminescent element having a high light emission efficiency and having a long emission lifetime by the configuration defined in any one of 1 to 12 above, and an illumination device using the element And a display device could be provided.
以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。 Hereinafter, details of each component according to the present invention will be sequentially described.
本発明者等は、有機EL素子の発光層に用いる有機EL素子材料に着目、特に発光ドーパントとして用いる金属錯体化合物について種々検討した。 The present inventors paid attention to the organic EL element material used for the light emitting layer of the organic EL element, and examined various metal complex compounds used as a light emitting dopant.
イオン性の金属錯体は、りん光性の発光材料としてウェットプロセスの有機ELに応用できるという利点があり、種々のイオン性の金属錯体が用いられてきている。しかしながら、本発明者らが検討したところ、その分子構造を、発光波長が緑から赤よりも短波な領域に制御すると、有機EL素子の安定性が著しく低下し、駆動電圧も高くなる傾向にあることが分かった。 An ionic metal complex has an advantage that it can be applied to a wet process organic EL as a phosphorescent light-emitting material, and various ionic metal complexes have been used. However, as a result of investigations by the present inventors, when the molecular structure is controlled to a region where the emission wavelength is shorter than green to red, the stability of the organic EL element is remarkably lowered and the driving voltage tends to be increased. I understood that.
一方、本発明者らは、金属錯体の基本骨格に置換基を導入することで、波長のコントロールや寿命の改善を図るという、従来公知のアプローチではなく、縮合環のπ共役面を広げることが化合物の安定性を上げるという着目点の下に種々の錯体を検討してきた。その結果、幾つかの縮合環構造(例えば、イミダゾフェナンスリジンやピラゾロフェナンスリジン等)で寿命の改善傾向が見出されており、発光波長の短波化と、それを用いた長寿命の有機EL素子の開発に成功していた。しかしながら、これらの金属錯体のウェットプロセスへの展開は溶解性の低下により十分ではなかった。そこで、ウェットプロセスへの応用にあたり、イミダゾフェナンスリジンやピラゾロフェナンスリジン等の縮環構造から、本発明のように金属に配位結合する二つの箇所(例えば、二つの窒素原子)を有する配位子を分子設計し、種々のイオン性金属錯体を合成した。このような配位子を有するイオン性金属錯体は、イミダゾフェナンスリジンやピラゾロフェナンスリジン等を配位子とするオルトメタル錯体に比べて溶解性の改良がみられ、ウェットプロセスに適した材料を提供することが可能となった。さらに、従来のイオン性の金属錯体に比べて、高温時も含めた金属錯体の安定性も向上することが分かった。 On the other hand, the present inventors can introduce a substituent into the basic skeleton of the metal complex to expand the π-conjugated surface of the condensed ring, rather than the conventionally known approach of controlling the wavelength and improving the lifetime. Various complexes have been studied under the focus of increasing the stability of compounds. As a result, a tendency to improve the lifetime has been found in some condensed ring structures (for example, imidazophenanthridine, pyrazolophenanthridine, etc.). The organic EL element was successfully developed. However, the development of these metal complexes in a wet process has not been sufficient due to a decrease in solubility. Therefore, in application to a wet process, it has two sites (for example, two nitrogen atoms) that coordinately bond to a metal as in the present invention from a condensed ring structure such as imidazophenanthridine or pyrazolophenanthridine. The ligands were molecularly designed and various ionic metal complexes were synthesized. An ionic metal complex having such a ligand has improved solubility compared to an ortho metal complex having imidazophenanthridine or pyrazolophenanthridine as a ligand, and is suitable for a wet process. It became possible to provide materials. Furthermore, it was found that the stability of the metal complex including high temperature is improved as compared with the conventional ionic metal complex.
(元素周期表の8〜10族の遷移金属元素)
本発明に係る、一般式(1)から(11)のいずれかで表される構造を含む化合物(遷移金属錯体、金属錯体、金属錯体化合物ともいう)の形成に用いられる金属としては、元素周期表の8〜10族の遷移金属元素(単に遷移金属ともいう)が用いられるが、中でも、イリジウム、白金が好ましい遷移金属元素として挙げられる。
(Transition metal element of group 8-10 of the periodic table)
The metal used for forming the compound (also referred to as transition metal complex, metal complex, or metal complex compound) containing the structure represented by any one of the general formulas (1) to (11) according to the present invention is an element period. Although the transition metal element of the 8-10 group of a table | surface (it is only called a transition metal) is used, Iridium and platinum are mentioned as a preferable transition metal element especially.
(本発明に係る遷移金属錯体の含有層)
本発明に係る一般式(1)から(11)のいずれかで表される遷移金属錯体化合物の含有層としては、電荷を輸送する層(電荷輸送層)であれば特に制限はないが、正孔輸送層または発光層、発光層または電子阻止層が好ましく、より好ましくは発光層または電子阻止層であり、特に好ましくは発光層である。
(Contained layer of transition metal complex according to the present invention)
The transition metal complex compound-containing layer represented by any one of the general formulas (1) to (11) according to the present invention is not particularly limited as long as it is a layer that transports charges (charge transport layer). A hole transport layer or a light emitting layer, a light emitting layer or an electron blocking layer is preferable, a light emitting layer or an electron blocking layer is more preferable, and a light emitting layer is particularly preferable.
また、発光層に含有する場合は、発光層中の発光ドーパントとして用いることにより、本発明の有機EL素子の外部取り出し量子効率の効率アップ(高輝度化)や発光寿命の長寿命化を達成することができる。尚、本発明の有機EL素子の構成層については、後に詳細に説明する。 Moreover, when it contains in a light emitting layer, by using as a light emission dopant in a light emitting layer, the efficiency improvement (high brightness) of the external extraction quantum efficiency of the organic EL element of this invention and the lifetime improvement of a light emission lifetime are achieved. be able to. The constituent layers of the organic EL element of the present invention will be described in detail later.
まず、本発明に係る一般式(1)〜(11)のいずれかで表される構造について説明する。 First, the structure represented by any one of the general formulas (1) to (11) according to the present invention will be described.
《一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造》
本発明に係る一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造について説明する。
<< Structure Represented by either General Formula (1) or (2) >>
The structure represented by either general formula (1) or (2) according to the present invention will be described.
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造において、E2a〜E2dと窒素原子により形成される環は、5員の芳香族複素環を表し、例えば、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、オキサトリアゾール環、イソオキサゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、イソチアゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。 In the structure represented by either general formula (1) or (2), the ring formed by E 2a to E 2d and a nitrogen atom represents a 5-membered aromatic heterocycle, such as an oxazole ring or thiazole. Ring, oxadiazole ring, oxatriazole ring, isoxazole ring, tetrazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, isothiazole ring, thiophene ring, furan ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, etc. .
上記の中でも、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環が好ましく、特に好ましいのは、ピラゾール環、イミダゾール環である。 Among these, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, and a thiazole ring are preferable, and a pyrazole ring and an imidazole ring are particularly preferable.
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造において、E2k〜E2oと窒素原子により形成される環は、6員の芳香族複素環を表す。 In the structure represented by either general formula (1) or (2), the ring formed by E 2k to E 2o and a nitrogen atom represents a 6-membered aromatic heterocycle.
E2k〜E2oにより形成される6員の芳香族複素環としては、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等が挙げられる。更に、後述する一般式(7)〜(8)で表される一般式のR51からR53、及びR61からR63で表される置換基を有していても良い。 Examples of the 6-membered aromatic heterocycle formed by E 2k to E 2o include a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine ring. May further have a substituent represented by R 63 from R 53, and R 61 from formula R 51 represented by the below general formula (7) - (8).
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造において、R11、R12、R21、R22が置換基を表す場合、その具体例は、後述する一般式(7)〜(8)で表される一般式のR51からR53、及びR61からR63で表される置換基を挙げることができる。 In the structure represented by either general formula (1) or (2), when R 11 , R 12 , R 21 , R 22 represent a substituent, specific examples thereof are represented by general formulas (7) to (7) described later. it is the general formula of R 51 of the formula (8) from R 53, and R 61 include a substituent represented by R 63.
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造において、X11−L11−X12表される2座の配位子の具体例としては、置換または無置換のフェニルピリジン、フェニルピラゾール、フェニルイミダゾール、フェニルトリアゾール、フェニルテトラゾール、ピラザボール、アセチルアセトン、ピコリン酸等が挙げられる。 In the structure represented by either the general formula (1) or (2), specific examples of the bidentate ligand represented by X 11 -L 11 -X 12 include substituted or unsubstituted phenylpyridine, Examples include phenylpyrazole, phenylimidazole, phenyltriazole, phenyltetrazole, pyrazabole, acetylacetone, and picolinic acid.
m11は1、2または3の整数を表し、m12は0、1または2の整数を表すが、m11+m12は2または3である。中でも、m12は0である場合が好ましい。 m11 represents an integer of 1, 2 or 3, m12 represents an integer of 0, 1 or 2, and m11 + m12 is 2 or 3. Especially, the case where m12 is 0 is preferable.
M1は元素周期表における8族〜10族の遷移金属元素を表すが、好ましくは、イリジウム、または、白金である。 M 1 represents a transition metal element of Group 8 to Group 10 in the periodic table, and is preferably iridium or platinum.
Y1はカウンターアニオンを表し、n1は2、または、3の整数を表す。カウンターアニオンとして、具体的には、ハロゲンイオン(塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)、パークロレートイオン、PF6 −、ボレートイオン(テトラフェニルボレートイオン、BF4 −等)、スルホン酸イオン(ポリスチレンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等)、カルボン酸イオン、CN−等が挙げられる。
Y 1 represents a counter anion, and
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される化合物(イオン性遷移金属錯体)を含有する有機化合物層は、一般式(1)又は(2)のいずれかで表される化合物のみからなる層であってもよく、該化合物をポリエチレンオキサイド、ポリエチレンスルホン酸、ポリカーボネート、ポリエステル等のポリマーバインダーに分散した層であってもよい。この層は複数種のイオン性遷移金属錯体を含有してもよく、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び/又は電子注入層として機能してよい。 The organic compound layer containing the compound (ionic transition metal complex) represented by either general formula (1) or (2) is only the compound represented by either general formula (1) or (2). Or a layer in which the compound is dispersed in a polymer binder such as polyethylene oxide, polyethylene sulfonic acid, polycarbonate, or polyester. This layer may contain a plurality of types of ionic transition metal complexes, and may function as a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer.
《一般式(3)又は(4)のいずれかで表される構造》
本発明に係る一般式(3)又は(4)のいずれかで表される構造について説明する。
<< Structure represented by General Formula (3) or (4) >>
The structure represented by either general formula (3) or (4) according to the present invention will be described.
一般式(1)又は(2)のいずれかで表される構造において、E1a〜E1dと窒素原子により形成される環は、5員の芳香族複素環を表し、例えば、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、オキサトリアゾール環、イソオキサゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、イソチアゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。 In the structure represented by either general formula (1) or (2), the ring formed by E 1a to E 1d and a nitrogen atom represents a 5-membered aromatic heterocycle, such as an oxazole ring or thiazole. Ring, oxadiazole ring, oxatriazole ring, isoxazole ring, tetrazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, isothiazole ring, thiophene ring, furan ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, etc. .
上記の中でも、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環が好ましく、特に好ましいのは、ピラゾール環、イミダゾール環である。 Among these, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, and a thiazole ring are preferable, and a pyrazole ring and an imidazole ring are particularly preferable.
一般式(3)又は(4)のいずれかで表される構造において、E1k〜E1oと窒素原子により形成される環は、6員の芳香族複素環を表す。 In the structure represented by either general formula (3) or (4), the ring formed by E 1k to E 1o and a nitrogen atom represents a 6-membered aromatic heterocycle.
E1k〜E1oにより形成される6員の芳香族複素環としては、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等が挙げられる。更に、後述する一般式(7)〜(8)で表される一般式のR51からR53、及びR61からR63で表される置換基を有していても良い。 Examples of the 6-membered aromatic heterocycle formed by E 1k to E 1o include a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine ring. May further have a substituent represented by R 63 from R 53, and R 61 from formula R 51 represented by the below general formula (7) - (8).
一般式(3)又は(4)のいずれかで表される構造において、E1e〜E1jにより形成される環は、6員の芳香族炭化水素環もしくは5員または6員の芳香族複素環を表す。 In the structure represented by either general formula (3) or (4), the ring formed by E 1e to E 1j is a 6-membered aromatic hydrocarbon ring or a 5-membered or 6-membered aromatic heterocyclic ring. Represents.
E1e〜E1jにより形成される6員の芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環が挙げられる。更に、後述する置換基を有していても良い。 Examples of the 6-membered aromatic hydrocarbon ring formed by E 1e to E 1j include a benzene ring. Furthermore, you may have the substituent mentioned later.
E1e〜E1jにより形成される5員または6員の芳香族複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等が挙げられる。尚、E1a〜E1oとMに配位する二つの窒素原子で構成される骨格は合計で18π電子を有する。 Examples of the 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle formed by E 1e to E 1j include a furan ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine ring. Etc. Note that a skeleton composed of two nitrogen atoms coordinated to E 1a to E 1o and M has a total of 18π electrons.
m1は1、2または3の整数を表し、m2は0、1または2の整数を表すが、m1+m2は2または3である。中でも、m2は0である場合が好ましい。 m1 represents an integer of 1, 2 or 3, m2 represents an integer of 0, 1 or 2, and m1 + m2 is 2 or 3. Especially, the case where m2 is 0 is preferable.
Mは元素周期表における8族〜10族の遷移金属元素を表すが、好ましくは、イリジウム、または、白金である。 M represents a transition metal element belonging to Groups 8 to 10 in the periodic table, and is preferably iridium or platinum.
Yはカウンターアニオンを表し、nは2、または、3の整数を表す。カウンターアニオンとして、具体的には、ハロゲンイオン(塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)、パークロレートイオン、PF6 −、ボレートイオン(テトラフェニルボレートイオン、BF4 −等)、スルホン酸イオン(ポリスチレンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等)、カルボン酸イオン、CN−等が挙げられる。 Y represents a counter anion, and n represents an integer of 2 or 3. Specific examples of counter anions include halogen ions (chlorine ions, bromine ions, iodine ions), perchlorate ions, PF 6 − , borate ions (tetraphenyl borate ions, BF 4 −, etc.), sulfonate ions (polystyrene sulfone). Acid ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, etc.), carboxylate ion, CN- and the like.
一般式(3)又は(4)のいずれかで表される化合物(イオン性遷移金属錯体)を含有する有機化合物層は、一般式(3)又は(4)のいずれかで表される化合物のみからなる層であってもよく、該化合物をポリエチレンオキサイド、ポリエチレンスルホン酸、ポリカーボネート、ポリエステル等のポリマーバインダーに分散した層であってもよい。この層は複数種のイオン性遷移金属錯体を含有してもよく、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び/又は電子注入層として機能してよい。 The organic compound layer containing the compound (ionic transition metal complex) represented by either general formula (3) or (4) is only the compound represented by either general formula (3) or (4). Or a layer in which the compound is dispersed in a polymer binder such as polyethylene oxide, polyethylene sulfonic acid, polycarbonate, or polyester. This layer may contain a plurality of types of ionic transition metal complexes, and may function as a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer.
《一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造》
本発明に係る一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造について説明する。
<< Structure represented by General Formula (5) or (6) >>
The structure represented by either general formula (5) or (6) according to the present invention will be described.
一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造において、E1a〜E1oは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるE1a〜E1oと同義である。L1は2つの窒素原子と共に二座の配位子を形成する原子群を表す。Y及びMは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるY及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す。尚、E1a〜E1oとMに配位する二つの窒素原子で構成される骨格は合計で18π電子を有する。 In the structure represented by any one of formulas (5) or (6), E 1a to E 1o has the same meaning as E 1a to E 1o in each Formula (3) or (4). L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand with two nitrogen atoms. Y and M are synonymous with Y and M in the general formula (3) or (4), respectively. m1, m2, and n represent the same integer as m1, m2, and n in the general formula (3) or (4), respectively. Note that a skeleton composed of two nitrogen atoms coordinated to E 1a to E 1o and M has a total of 18π electrons.
本発明においては、一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造の中でも、一般式(5)で表される構造が好ましい。 In the present invention, among the structures represented by the general formula (5) or (6), the structure represented by the general formula (5) is preferable.
本発明においては、前記一般式(3)又は(4)のいずれかで表される構造の中でも、上記一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造が好ましい。 In the present invention, among the structures represented by either the general formula (3) or (4), the structure represented by any of the above general formulas (5) or (6) is preferable.
《一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造》
本発明に係る一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造について説明する。
<< Structure represented by General Formula (7) or (8) >>
The structure represented by either general formula (7) or (8) according to the present invention will be described.
一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造において、E1a〜E1jは、それぞれ前記一般式(3)又は一般式(4)におけるE1a〜E1jと同義である。L1、Y及びMは、それぞれ前記一般式(5)又は一般式(6)におけるL1、Y及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す。 In the structure represented by any one of formulas (7) or (8), E 1a to E 1j have the same meanings as E 1a to E 1j in each Formula (3) or general formula (4). L 1, Y and M have the same meanings as L 1, Y and M in each of the general formula (5) or the general formula (6). m1, m2, and n represent the same integer as m1, m2, and n in the general formula (3) or (4), respectively.
一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造において、R51、R52、R53、R61、R62、及びR63で各々表される置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素環基(芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等)、芳香族複素環基(例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基等)、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基またはヘテロアリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、ホスホノ基等が挙げられる。これらの置換基は上記の置換基によって更に置換されていてもよい。 In the structure represented by either general formula (7) or (8), the substituents represented by R 51 , R 52 , R 53 , R 61 , R 62 , and R 63 are each an alkyl group ( For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group) Cyclohexyl group etc.), alkenyl group (eg vinyl group, allyl group etc.), alkynyl group (eg ethynyl group, propargyl group etc.), aromatic hydrocarbon ring group (aromatic carbocyclic group, aryl group etc.) For example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group, azulenyl Acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group, etc.), aromatic heterocyclic group (for example, pyridyl group, pyrimidinyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, pyrazolyl group, Pyrazinyl group, triazolyl group (for example, 1,2,4-triazol-1-yl group, 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, isoxazolyl group , Isothiazolyl group, furazanyl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (carboline ring of the above carbolinyl group) One of the carbon atoms that make up Quinoxalinyl group, pyridazinyl group, triazinyl group, quinazolinyl group, phthalazinyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxy group (For example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (Eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclohexane) Acetylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxy group) Carbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group etc.), sulfamoyl group (eg aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylamino) Sulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group 2-pyridylaminosulfonyl group etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, Naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (eg, Methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, Mino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group) Propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.) Ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecyl group) Raid group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenyl) Sulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), aryl Sulfonyl group or heteroarylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (example For example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group), halogen atom (for example, Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto Group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), phosphono group and the like. These substituents may be further substituted with the above substituents.
これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、また、複数の置換基が存在する場合、各々の置換基は同一でも異なっていてもよく、お互いに連結して環を形成しても良い。 A plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring, and when a plurality of substituents are present, each substituent may be the same or different, and linked to each other to form a ring. May be formed.
中でも置換基としては、アルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が好ましい。 Among them, the substituent is preferably an alkyl group, an aromatic hydrocarbon ring group, or an aromatic heterocyclic group.
本発明においては、前記一般式(5)又は(6)のいずれかで表される構造の中でも、上記一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造が好ましい。 In the present invention, among the structures represented by the general formula (5) or (6), the structure represented by the general formula (7) or (8) is preferable.
《一般式(9)〜(11)のいずれかで表される構造》
本発明に係る一般式(9)〜(11)のいずれかで表される構造について説明する。
<< Structure Represented by any of General Formulas (9) to (11) >>
The structure represented by any one of the general formulas (9) to (11) according to the present invention will be described.
一般式(9)〜(11)のいずれかで表される構造において、E1a〜E1gは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるE1a〜E1gと同義である。R51、R52、R53は、それぞれ前記一般式(7)におけるR51、R52、R53と同義であり、R61、R62、及びR63はそれぞれ前記一般式(8)におけるR61、R62、及びR63と同義である。R54、R55、R56、R57、R64及びR65は各々独立に水素原子、または置換基を表す。L1、Y及びMは、それぞれ前記一般式(5)又は一般式(6)におけるL1、Y及びMと同義である。m1、m2及びnは、それぞれ前記一般式(3)又は(4)におけるm1、m2及びnと同じ整数を表す一般式(9)〜(11)のいずれかで表される構造において、R54、R55、R56、R57、R64及びR65で表される置換基は、上述した、R51からR53、及びR61からR63で述べた置換基を挙げることができる。 In the structure represented by any one of formulas (9) ~ (11), E 1a ~E 1g has the same meaning as E 1a to E 1 g of each of the general formula (3) or (4). R 51 , R 52 and R 53 are respectively synonymous with R 51 , R 52 and R 53 in the general formula (7), and R 61 , R 62 and R 63 are respectively R in the general formula (8). 61, R 62, and the same meaning as R 63. R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 64 and R 65 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. L 1, Y and M have the same meanings as L 1, Y and M in each of the general formula (5) or the general formula (6). In the structure represented by any one of the general formulas (9) to (11), each of m1, m2 and n represents the same integer as m1, m2 and n in the general formula (3) or (4), R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 64 and R 65 may be the substituents described above for R 51 to R 53 and R 61 to R 63 .
本発明においては、上記一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造の中でも、上記一般式(9)〜(11)のいずれかで表される構造が好ましく、上記一般式(9)で表される構造が最も好ましい。 In the present invention, among the structures represented by the general formulas (7) or (8), the structure represented by any one of the general formulas (9) to (11) is preferable. The structure represented by (9) is most preferable.
本発明の上記一般式(1)〜(11)においては、E1aからE1dのうち二つが窒素原子であり、かつ、二つが置基を有しても良い炭素原子であることが好ましい。好まし態様の一つは、E1a及びE1cが窒素原子であり、かつ、E1b及びE1dは二つが置換基を有しても良い炭素原子である。好まし態様の一つは、E1a及びE1dが窒素原子であり、かつ、E1b及びE1cは二つが置換基を有しても良い炭素原子である。 In the general formulas (1) to (11) of the present invention, it is preferable that two of E 1a to E 1d are nitrogen atoms and two are carbon atoms that may have a substituent. In one preferred embodiment, E 1a and E 1c are nitrogen atoms, and E 1b and E 1d are carbon atoms that may have two substituents. One preferred embodiment is that E 1a and E 1d are nitrogen atoms, and E 1b and E 1c are carbon atoms that may have two substituents.
好まし態様の一つは、E1b及びE1dが窒素原子であり、かつ、E1a及びE1cは二つが置換基を有しても良い炭素原子である。好まし態様の一つは、E1c及びE1dが窒素原子であり、かつ、E1a及びE1bは二つが置換基を有しても良い炭素原子である。最も好ましくは、E1a及びE1bが窒素原子であり、かつ、E1c及びE1dは二つが置換基を有しても良い炭素原子、または、E1b及びE1cが窒素原子であり、かつ、E1a及びE1dは二つが置換基を有しても良い炭素原子である。 In one preferred embodiment, E 1b and E 1d are nitrogen atoms, and E 1a and E 1c are carbon atoms that may have two substituents. In one preferred embodiment, E 1c and E 1d are nitrogen atoms, and E 1a and E 1b are carbon atoms that may have two substituents. Most preferably, E 1a and E 1b are nitrogen atoms, and E 1c and E 1d are two carbon atoms that may have a substituent, or E 1b and E 1c are nitrogen atoms, and , E 1a and E 1d are carbon atoms, two of which may have a substituent.
本発明の上記一般式(1)〜(11)においては、前記一般式(7)、または、一般式(8)において、E1aからE1dのうち1つが置換基を有しても良い窒素原子であることがより好ましい。 In the general formulas (1) to (11) of the present invention, in the general formula (7) or the general formula (8), one of E 1a to E 1d may have a substituent. More preferably it is an atom.
好まし態様の一つは、E1aが置換基を有しても良い窒素原子であり、E1b、E1c、E1dが置換基を有しても良い炭素原子である。好まし態様の一つは、E1bが置換基を有しても良い窒素原子であり、E1a、E1c、E1dが置換基を有しても良い炭素原子である。好まし態様の一つは、E1dが置換基を有しても良い窒素原子であり、E1a、E1b、E1cが置換基を有しても良い炭素原子である。最も好ましくは、E1cが置換基を有しても良い窒素原子であり、E1a、E1b、E1dが置換基を有しても良い炭素原子である。 In one preferred embodiment, E 1a is a nitrogen atom which may have a substituent, and E 1b , E 1c and E 1d are carbon atoms which may have a substituent. In one preferred embodiment, E 1b is a nitrogen atom which may have a substituent, and E 1a , E 1c and E 1d are carbon atoms which may have a substituent. In one preferred embodiment, E 1d is a nitrogen atom which may have a substituent, and E 1a , E 1b and E 1c are carbon atoms which may have a substituent. Most preferably, E 1c is a nitrogen atom which may have a substituent, and E 1a , E 1b and E 1d are carbon atoms which may have a substituent.
本発明の上記一般式(1)〜(11)において、E1a、E1b、E1l〜E1n、E1f〜E1iが置換基を有しても良い炭素原子、または、置換基を有しても良い窒素原子を表す場合、その置換基としては、一般式(7)又は(8)のいずれかで表される構造において、R51、R52、R53、R61、R62、及びR63で各々表される置換基と同義である。置換基として好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられる。 In the above general formulas (1) to (11) of the present invention, E 1a , E 1b , E 1l to E 1n , E 1f to E 1i have a carbon atom which may have a substituent or a substituent. In the structure represented by any one of the general formulas (7) and (8), R 51 , R 52 , R 53 , R 61 , R 62 , And R 63 has the same meaning as the substituent represented by each. Preferred examples of the substituent include an alkyl group, an aromatic hydrocarbon ring group, and an aromatic heterocyclic group.
以下、本発明に係る前記一般式(1)〜(11)のいずれかで表される本発明の化合物(金属錯体、金属錯体化合物ともいう)、の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。ここでの具体例では、カウンターアニオンを示していないため、錯体分子全体の電荷は正になっている。下記各化合物には、前記Yの説明で具体的例を挙げたカウンターアニオンを錯体分子全体の電荷が中和するように適宜使用することができる。 Hereinafter, specific examples of the compound of the present invention represented by any one of the general formulas (1) to (11) according to the present invention (also referred to as a metal complex or a metal complex compound) will be shown. It is not limited. In the specific example here, the counter anion is not shown, so the charge of the entire complex molecule is positive. In each of the following compounds, the counter anion exemplified in the description of Y can be appropriately used so that the charge of the entire complex molecule is neutralized.
本発明の化合物のようなイオン性の金属錯体の例はPure Appl.Chem.,52,2717,(1980).等に記載されており、種々の公知の手法で合成することができる。例えば、配位子(化合物Aなど)、またはその解離体と遷移金属化合物(例えばK3IrCl6、イリジウムトリスアセチルアセトナト錯体)を溶媒(例えば、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、水などが挙げられる)の存在下、もしくは、溶媒非存在下、塩基の存在下(無機、有機の種々の塩基、例えば、ナトリウムメトキサイド、t−ブトキシカリウム、トリエチルアミン、炭酸カリウムなどが挙げられる)、もしくは、塩基非存在下、室温以下、もしくは加熱し(通常の加熱以外にもマイクロウェーブで加熱する手法も有効である)得ることができる。 Examples of ionic metal complexes such as the compounds of the present invention are described in Pure Appl. Chem. , 52, 2717, (1980). Etc., and can be synthesized by various known methods. For example, a ligand (compound A or the like), or a dissociated product thereof and a transition metal compound (eg, K 3 IrCl 6 , iridium trisacetylacetonate complex) are used as a solvent (eg, a halogen-based solvent, an alcohol-based solvent, an ether-based solvent, In the presence of water) or in the absence of a solvent, in the presence of a base (a variety of inorganic and organic bases such as sodium methoxide, t-butoxypotassium, triethylamine, potassium carbonate, etc.) Alternatively, it can be obtained in the absence of a base, at room temperature or below, or by heating (in addition to normal heating, a method of heating with a microwave is also effective).
以下に、本発明の化合物(1)の合成例を示す。 Below, the synthesis example of the compound (1) of this invention is shown.
化合物(1)の合成
K3IrCl60.5gと化合物Z0.75gを2−メトキシエタノール20ml、水5mlの混合溶媒中で8時間加熱し、析出した結晶を濾別することにより、本発明の化合物(1)0.3gを得た。
Synthesis of Compound (1) 0.5 g of K 3 IrCl 6 and 0.75 g of Compound Z were heated in a mixed solvent of 20 ml of 2-methoxyethanol and 5 ml of water for 8 hours, and the precipitated crystals were separated by filtration. 0.3 g of compound (1) was obtained.
《有機EL素子の構成層》
本発明の有機EL素子の構成層について説明する。本発明において、有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
<< Constituent layers of organic EL elements >>
The constituent layers of the organic EL element of the present invention will be described. In this invention, although the preferable specific example of the layer structure of an organic EL element is shown below, this invention is not limited to these.
(i)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
本発明の有機EL素子においては、青色発光層の発光極大波長は430nm〜480nmにあるものが好ましく、緑色発光層は発光極大波長が510nm〜550nm、赤色発光層は発光極大波長が600nm〜640nmの範囲にある単色発光層であることが好ましく、これらを用いた表示装置であることが好ましい。また、これらの少なくとも3層の発光層を積層して白色発光層としたものであってもよい。更に、発光層間には非発光性の中間層を有していてもよい。本発明の有機EL素子としては白色発光層であることが好ましく、これらを用いた照明装置であることが好ましい。
(I) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode (ii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (iii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron Transport layer / cathode (iv) Anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (v) Anode / anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / hole Blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode In the organic EL device of the present invention, the blue light emitting layer preferably has a light emission maximum wavelength of 430 nm to 480 nm, and the green light emitting layer has a light emission maximum wavelength of 510 nm to 550 nm, The red light emitting layer is preferably a monochromatic light emitting layer having a light emission maximum wavelength in the range of 600 nm to 640 nm, and is preferably a display device using these. Alternatively, a white light emitting layer may be formed by laminating at least three light emitting layers. Further, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers. The organic EL element of the present invention is preferably a white light emitting layer, and is preferably a lighting device using these.
本発明の有機EL素子を構成する各層について説明する。 Each layer which comprises the organic EL element of this invention is demonstrated.
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. May be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm〜5μmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは2nm〜200nmの範囲に調整され、特に好ましくは、10nm〜20nmの範囲である。 The total film thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the uniformity of the film, preventing unnecessary application of high voltage during light emission, and improving the stability of the emission color with respect to the drive current. It is preferable to adjust in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 nm to 200 nm, and particularly preferably in the range of 10 nm to 20 nm.
発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により成膜して形成することができる。 For the production of the light-emitting layer, a light-emitting dopant or a host compound, which will be described later, is formed by a known thinning method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, or an ink-jet method. it can.
本発明の有機EL素子の発光層には、発光ホスト化合物と、発光ドーパント(リン光ドーパント(リン光発光性ドーパントともいう)や蛍光ドーパント等)の少なくとも1種類とを含有することが好ましい。 The light emitting layer of the organic EL device of the present invention preferably contains a light emitting host compound and at least one kind of light emitting dopant (such as a phosphorescent dopant (also referred to as a phosphorescent dopant) or a fluorescent dopant).
(ホスト化合物(発光ホスト等ともいう))
本発明に用いられるホスト化合物について説明する。
(Host compound (also called luminescent host))
The host compound used in the present invention will be described.
ここで、本発明においてホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内でその層中での質量比が20%以上であり、且つ室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。 Here, the host compound in the present invention is a phosphorescent quantum yield of phosphorescence emission at a room temperature (25 ° C.) having a mass ratio of 20% or more in the compound contained in the light emitting layer. Is defined as a compound of less than 0.1. The phosphorescence quantum yield is preferably less than 0.01. Moreover, it is preferable that the mass ratio in the layer is 20% or more among the compounds contained in a light emitting layer.
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。 As the host compound, known host compounds may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. Moreover, it becomes possible to mix different light emission by using multiple types of light emission dopants mentioned later, and, thereby, arbitrary luminescent colors can be obtained.
また、本発明に用いられる発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。 The light emitting host used in the present invention may be a conventionally known low molecular compound or a high molecular compound having a repeating unit, and a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (deposition polymerization property). Light emitting host).
以下に、本発明に好ましく用いられるホスト化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of the host compound preferably used for this invention below is shown, this invention is not limited to these.
併用してもよい公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。 As a known host compound that may be used in combination, a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents the emission of light from being increased in wavelength, and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable.
公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。 Specific examples of known host compounds include compounds described in the following documents.
特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等。 JP-A-2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860, 2002-334787, 2002-15871, 2002-334788, 2002-43056, 2002-334789, 2002-75645, 2002-338579, 2002-105445 gazette, 2002-343568 gazette, 2002-141173 gazette, 2002-352957 gazette, 2002-203683 gazette, 2002-363227 gazette, 2002-231453 gazette, No. 003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060, No. 2002. -302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.
(発光ドーパント)
本発明に係る発光ドーパントについて説明する。
(Luminescent dopant)
The light emitting dopant according to the present invention will be described.
本発明に係る発光ドーパントとしては、蛍光ドーパント(蛍光性化合物ともいう)、リン光ドーパント(リン光発光体、リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう)を用いることができるが、より発光効率の高い有機EL素子を得る観点からは、本発明の有機EL素子の発光層や発光ユニットに使用される発光ドーパント(単に、発光材料ということもある)としては、上記のホスト化合物を含有すると同時に、リン光ドーパントを含有することが好ましい。 As the light-emitting dopant according to the present invention, a fluorescent dopant (also referred to as a fluorescent compound) or a phosphorescent dopant (also referred to as a phosphorescent emitter, a phosphorescent compound, a phosphorescent compound, or the like) can be used. From the viewpoint of obtaining an organic EL device with high luminous efficiency, the light emitting dopant used in the light emitting layer or the light emitting unit of the organic EL device of the present invention (sometimes simply referred to as a light emitting material) contains the above host compound. At the same time, it is preferable to contain a phosphorescent dopant.
(リン光ドーパント)
リン光ドーパントについて説明する。
(Phosphorescent dopant)
The phosphorescent dopant will be described.
本発明に係るリン光ドーパント、本発明に併用してもよいはリン光ドーパント、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。 The phosphorescent dopant according to the present invention, which may be used in combination with the present invention, is a phosphorescent dopant, preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound or osmium. Compounds, platinum compounds (platinum complex compounds), and rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.
本発明に係るリン光ドーパントとして用いられる化合物としては、上記の本発明に係る一般式(1)〜(9)のいずれかで表される構造のいずれかで表される構造を含む遷移金属錯体化合物が好ましい。 The compound used as the phosphorescent dopant according to the present invention includes a transition metal complex including a structure represented by any of the structures represented by any one of the general formulas (1) to (9) according to the present invention. Compounds are preferred.
また、以下に示すような従来公知の発光ドーパントを併用してもよい。 Moreover, you may use together a conventionally well-known light emission dopant as shown below.
(蛍光ドーパント(蛍光性化合物ともいう))
本発明では、以下に示すような従来公知の蛍光ドーパントを併用してもよい。蛍光ドーパント(蛍光性化合物)としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
(Fluorescent dopant (also called fluorescent compound))
In the present invention, conventionally known fluorescent dopants as shown below may be used in combination. Fluorescent dopants (fluorescent compounds) include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes Examples thereof include dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.
次に、本発明の有機EL素子の構成層として用いられる、注入層、阻止層、電子輸送層等について説明する。 Next, an injection layer, a blocking layer, an electron transport layer, and the like used as a constituent layer of the organic EL element of the present invention will be described.
《注入層:電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
<< Injection layer: electron injection layer, hole injection layer >>
The injection layer is provided as necessary, and there are an electron injection layer and a hole injection layer, and as described above, it exists between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer. May be.
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。 An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to reduce drive voltage and improve light emission luminance. “Organic EL element and its forefront of industrialization (issued by NTT Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166) in detail, and includes a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer).
陽極バッファー層(正孔注入層)は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。 The details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. As a specific example, copper phthalocyanine is used. Examples thereof include a phthalocyanine buffer layer represented by an oxide, an oxide buffer layer represented by vanadium oxide, an amorphous carbon buffer layer, and a polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.
陰極バッファー層(電子注入層)は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1nm〜5μmの範囲が好ましい。 The details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by lithium, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, oxide buffer layer typified by aluminum oxide, etc. . The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 5 μm although it depends on the material.
《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
The blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film as described above. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。 The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. The probability of recombination of electrons and holes can be improved by blocking.
また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることができる。 Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer concerning this invention as needed.
本発明の有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。 The hole blocking layer of the organic EL device of the present invention is preferably provided adjacent to the light emitting layer.
正孔阻止層には、前述のホスト化合物として挙げたカルバゾール誘導体、カルボリン誘導体、ジアザカルバゾール誘導体(カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭素原子のいずれかひとつが窒素原子で置き換わったものを示す)を含有することが好ましい。 The hole blocking layer contains the carbazole derivative, carboline derivative, or diazacarbazole derivative (shown in which any one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carboline derivative is replaced by a nitrogen atom). It is preferable to contain.
また、本発明においては、複数の発光色の異なる複数の発光層を有する場合、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。更には、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の50質量%以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対しそのイオン化ポテンシャルが0.3eV以上大きいことが好ましい。 In the present invention, when a plurality of light emitting layers having different light emission colors are provided, the light emitting layer having the shortest wavelength of light emission is preferably closest to the anode among all the light emitting layers. In this case, it is preferable to additionally provide a hole blocking layer between the shortest wave layer and the light emitting layer next to the anode next to the anode. Furthermore, it is preferable that 50% by mass or more of the compound contained in the hole blocking layer provided at the position has an ionization potential of 0.3 eV or more larger than the host compound of the shortest wave emitting layer.
イオン化ポテンシャルは化合物のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることができる。 The ionization potential is defined by the energy required to emit an electron at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of the compound to the vacuum level, and can be obtained by the following method, for example.
(1)米国Gaussian社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるGaussian03(Gaussian03、Revision D.02,M.J.Frisch,et al,Gaussian,Inc.,Pittsburgh PA,2004.)を用い、キーワードとしてB3LYP/6−31G*を用いて構造最適化を行うことにより算出した値(eV単位換算値)の小数点第2位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。 (1) Using Gaussian 03 (Gaussian 03, Revision D.02, MJ Frisch, et al, Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2004.), a molecular orbital calculation software manufactured by Gaussian, USA, as a keyword. The ionization potential can be obtained as a value obtained by rounding off the second decimal place of the value (eV unit converted value) calculated by performing structural optimization using / 6-31G *. This calculation value is effective because the correlation between the calculation value obtained by this method and the experimental value is high.
(2)イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Model AC−1」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。 (2) The ionization potential can also be obtained by a method of directly measuring by photoelectron spectroscopy. For example, a method known as ultraviolet photoelectron spectroscopy can be suitably used by using a low energy electron spectrometer “Model AC-1” manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。 On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material that has a function of transporting holes and has an extremely small ability to transport electrons, and transports electrons while transporting holes. By blocking, the recombination probability of electrons and holes can be improved.
また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては、好ましくは3nm〜100nmであり、更に好ましくは5nm〜30nmである。 Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed. The film thickness of the hole blocking layer and the electron transport layer according to the present invention is preferably 3 nm to 100 nm, and more preferably 5 nm to 30 nm.
《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。 The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。 The above-mentioned materials can be used as the hole transport material, but it is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.
芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、更には米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。 Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and also two of those described in US Pat. No. 5,061,569. Having a condensed aromatic ring in the molecule, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-3086 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 8 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。 Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.
また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)に記載されているような、所謂p型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることからこれらの材料を用いることが好ましい。 JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. A so-called p-type hole transport material as described in a book (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139) can also be used. In the present invention, these materials are preferably used because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.
正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。 The hole transport layer can be formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. it can. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5 nm-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
また、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報の各公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。 Alternatively, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
本発明においては、このようなp性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a hole transport layer having such a high p property because a device with lower power consumption can be produced.
《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。 Conventionally, in the case of a single electron transport layer and a plurality of layers, an electron transport material (also serving as a hole blocking material) used for an electron transport layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side is injected from the cathode. As long as it has a function of transferring electrons to the light-emitting layer, any material can be selected and used from among conventionally known compounds. For example, nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives Thiopyrandioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives and the like.
更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。 Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.
また8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。 Also, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum, Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), etc., and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Cu , Ca, Sn, Ga, or Pb can also be used as an electron transport material.
その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。 In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transporting material. In addition, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and an inorganic semiconductor such as n-type-Si, n-type-SiC, etc. as in the case of the hole injection layer and hole transport layer Can also be used as an electron transporting material.
電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。 The electron transport layer can be formed by thinning the electron transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5 nm-200 nm. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
また、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。 Further, an electron transport layer having a high n property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
本発明においては、このようなn性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。 In the present invention, it is preferable to use an electron transport layer having such a high n property because an element with lower power consumption can be manufactured.
《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。
"anode"
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO.
また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。 Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) capable of forming a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method. A pattern may be formed through a mask having a desired shape at the time of vapor deposition or sputtering of the electrode material.
あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。 Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film-forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used. When light emission is extracted from the anode, it is desirable that the transmittance be greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 200 nm.
《陰極》
一方、陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
"cathode"
On the other hand, as the cathode, a material having a low work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Magnesium / aluminum mixtures, magnesium / indium mixtures, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, lithium / aluminum mixtures, aluminum and the like are preferred.
陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。 The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as a cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 nm to 200 nm. In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the light emission luminance is improved, which is convenient.
また、陰極に上記金属を1nm〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。 Moreover, after producing the said metal by the film thickness of 1 nm-20 nm to a cathode, the transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the electroconductive transparent material quoted by description of the anode on it, By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.
《支持基板》
本発明の有機EL素子に用いることのできる支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等とも言う)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
《Support substrate》
As a support substrate (hereinafter also referred to as a substrate, substrate, substrate, support, etc.) that can be used in the organic EL device of the present invention, there is no particular limitation on the type of glass, plastic, etc., and it is transparent. May be opaque. When extracting light from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent. Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of giving flexibility to the organic EL element.
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート(TAC)、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)あるいはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。 Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), Cellulose esters such as cellulose acetate phthalate (TAC) and cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones Cycloolefin resins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Can be mentioned.
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が0.01g/(m2・24h)以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10−3ml/(m2・24h・atm)以下、水蒸気透過度が、10−5g/(m2・24h)以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。 On the surface of the resin film, an inorganic film, an organic film, or a hybrid film of both may be formed. Water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C.) measured by a method according to JIS K 7129-1992. , Relative humidity (90 ± 2)% RH) is preferably 0.01 g / (m 2 · 24 h) or less, and further, oxygen measured by a method according to JIS K 7126-1987. A high barrier film having a permeability of 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · atm) or less and a water vapor permeability of 10 −5 g / (m 2 · 24 h) or less is preferable.
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。 As a material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing entry of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and organic material layers. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。 The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma weight A combination method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, and the like can be used, but an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.
不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。 Examples of the opaque support substrate include metal plates such as aluminum and stainless steel, films, opaque resin substrates, and ceramic substrates.
本発明の有機EL素子の発光の室温における外部取り出し効率は、1%以上であることが好ましく、より好ましくは5%以上である。 The external extraction efficiency at room temperature of light emission of the organic EL device of the present invention is preferably 1% or more, more preferably 5% or more.
ここに、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。 Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons sent to the organic EL element × 100.
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機EL素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機EL素子の発光のλmaxは480nm以下が好ましい。 In addition, a hue improvement filter such as a color filter may be used in combination, or a color conversion filter that converts the emission color from the organic EL element into multiple colors using a phosphor. In the case of using a color conversion filter, the λmax of light emission of the organic EL element is preferably 480 nm or less.
《封止》
本発明に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
<Sealing>
As a sealing means used for this invention, the method of adhere | attaching a sealing member, an electrode, and a support substrate with an adhesive agent can be mentioned, for example.
封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも平板状でもよい。また透明性、電気絶縁性は特に問わない。 As a sealing member, it should just be arrange | positioned so that the display area | region of an organic EL element may be covered, and concave plate shape or flat plate shape may be sufficient. Further, transparency and electrical insulation are not particularly limited.
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。 Specific examples include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.
本発明においては、素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。 In the present invention, a polymer film and a metal film can be preferably used because the element can be thinned.
更には、ポリマーフィルムは、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m2・24h・atm)以下、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が、1×10−3g/(m2・24h)以下のものであることが好ましい。 Furthermore, the polymer film has an oxygen permeability of 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · atm) or less measured by a method according to JIS K 7126-1987, and a method according to JIS K 7129-1992. It is preferable that the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C., relative humidity (90 ± 2)% RH) measured in (1) is 1 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less.
封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。 For processing the sealing member into a concave shape, sandblasting, chemical etching, or the like is used.
接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。 Specific examples of the adhesive include photocuring and thermosetting adhesives having reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture curing adhesives such as 2-cyanoacrylates. be able to. Moreover, heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.
なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。 In addition, since an organic EL element may deteriorate by heat processing, what can be adhesive-hardened from room temperature to 80 degreeC is preferable. A desiccant may be dispersed in the adhesive.
封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。 Application | coating of the adhesive agent to a sealing part may use commercially available dispenser, and may print like screen printing.
また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。 In addition, it is also preferable that the electrode and the organic layer are coated on the outside of the electrode facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween, and an inorganic or organic layer is formed in contact with the support substrate to form a sealing film. . In this case, the material for forming the film may be any material that has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like may be used. it can. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials. The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster-ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.
封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。 In the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicon oil can be injected in the gas phase and liquid phase. preferable. A vacuum is also possible. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。 Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide) and sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate). Etc.), metal halides (eg calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide etc.), perchloric acids (eg perchloric acid) Barium, magnesium perchlorate, and the like), and anhydrous salts are preferably used in sulfates, metal halides, and perchloric acids.
《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜、あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。特に封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量且つ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
《Protective film, protective plate》
In order to increase the mechanical strength of the element, a protective film or a protective plate may be provided on the outer side of the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween or on the sealing film. In particular, when the sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, and thus it is preferable to provide such a protective film and a protective plate. As a material that can be used for this, the same glass plate, polymer plate / film, metal plate / film, and the like used for the sealing can be used, but the polymer film is light and thin. Is preferably used.
《光取り出し》
有機EL素子は空気よりも屈折率の高い(屈折率が1.7〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として光が素子側面方向に逃げるためである。
《Light extraction》
The organic EL element emits light inside a layer having a refractive index higher than that of air (refractive index is about 1.7 to 2.1) and can extract only about 15% to 20% of the light generated in the light emitting layer. It is generally said. This is because light incident on the interface (interface between the transparent substrate and air) at an angle θ greater than the critical angle causes total reflection and cannot be taken out of the device, or between the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate. This is because the light is totally reflected between the light and the light is guided through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes in the direction of the element side surface.
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(米国特許第4,774,435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(特開昭63−314795号公報)、素子の側面等に反射面を形成する方法(特開平1−220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(特開昭62−172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(特開2001−202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11−283751号公報)等がある。 As a method for improving the light extraction efficiency, for example, a method of forming irregularities on the surface of the transparent substrate to prevent total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (US Pat. No. 4,774,435), A method of improving efficiency by providing a light collecting property to a substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 63-314795), a method of forming a reflective surface on a side surface of an element (Japanese Patent Laid-Open No. 1-220394), and light emission from a substrate A method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the bodies (Japanese Patent Laid-Open No. 62-172691), a flat having a lower refractive index between the substrate and the light emitter than the substrate A method of introducing a layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-202827), a method of forming a diffraction grating between any one of a substrate, a transparent electrode layer and a light emitting layer (including between the substrate and the outside) (Japanese Patent Laid-Open No. 11-283951) Gazette).
本発明においては、これらの方法を本発明の有機EL素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。 In the present invention, these methods can be used in combination with the organic EL device of the present invention. However, a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or a substrate, transparent A method of forming a diffraction grating between any layers of the electrode layer and the light emitting layer (including between the substrate and the outside) can be suitably used.
本発明はこれらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。 In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or durability.
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど外部への取り出し効率が高くなる。 When a medium having a low refractive index is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light extracted from the transparent electrode has a higher extraction efficiency to the outside as the refractive index of the medium is lower.
低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。また、更に1.35以下であることが好ましい。 Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Further, it is preferably 1.35 or less.
また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。 The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.
全反射を起こす界面もしくはいずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は回折格子が1次の回折や2次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。 The method of introducing a diffraction grating into an interface or any medium that causes total reflection is characterized by a high effect of improving light extraction efficiency. This method uses the property that the diffraction grating can change the direction of light to a specific direction different from refraction by so-called Bragg diffraction such as first-order diffraction and second-order diffraction. Light that cannot be emitted due to total internal reflection between layers is diffracted by introducing a diffraction grating in any layer or medium (in a transparent substrate or transparent electrode), and the light is removed. I want to take it out.
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。 The introduced diffraction grating desirably has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. Therefore, the light extraction efficiency does not increase so much.
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。 However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased.
回折格子を導入する位置としては前述の通り、いずれかの層間もしくは媒質中(透明基板内や透明電極内)でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。 As described above, the position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated.
このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。 At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium.
回折格子の配列は正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、2次元的に配列が繰り返されることが好ましい。 The arrangement of the diffraction grating is preferably two-dimensionally repeated, such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.
《集光シート》
本発明の有機EL素子は基板の光取り出し側に、例えば、マイクロレンズアレイ状の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
<Condenser sheet>
The organic EL device of the present invention is processed on the light extraction side of the substrate so as to provide, for example, a microlens array structure, or combined with a so-called condensing sheet, for example, with respect to a specific direction, for example, the device light emitting surface. By condensing in the front direction, the luminance in a specific direction can be increased.
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10μm〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。 As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are two-dimensionally arranged on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 μm to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.
集光シートとしては、例えば、液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして、例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)等を用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば、基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。 As the condensing sheet, for example, a sheet that is put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a brightness enhancement film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Limited can be used. As the shape of the prism sheet, for example, the base material may be formed by forming a △ -shaped stripe having a vertex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or the vertex angle is rounded and the pitch is changed randomly. Other shapes may be used.
また、発光素子からの光放射角を制御するために、光拡散板・フィルムを集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)等を用いることができる。 Moreover, in order to control the light emission angle from a light emitting element, you may use together a light diffusing plate and a film with a condensing sheet. For example, a diffusion film (light-up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.
《有機EL素子の作製方法》
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極からなる有機EL素子の作製法を説明する。
<< Method for producing organic EL element >>
As an example of the method for producing the organic EL device of the present invention, a method for producing an organic EL device comprising an anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode will be described.
まず適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10nm〜200nmの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ陽極を作製する。 First, a desired electrode material, for example, a thin film made of an anode material is formed on a suitable substrate so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably 10 nm to 200 nm, to form an anode.
次に、この上に有機EL素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等の有機化合物薄膜を形成させる。 Next, organic compound thin films such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, and an electron transport layer, which are organic EL element materials, are formed thereon.
これら各層の形成方法としては、前記の如く蒸着法、ウェットプロセス(スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法)等があるが、均質な膜が得られやすく、且つピンホールが生成しにくい等の点から、本発明においてはスピンコート法、インクジェット法、印刷法等の塗布法による成膜が好ましい。 As a method for forming each of these layers, there are a vapor deposition method, a wet process (spin coating method, casting method, ink jet method, printing method) and the like as described above, but it is easy to obtain a homogeneous film and it is difficult to generate pinholes. In view of the above, film formation by a coating method such as a spin coating method, an ink jet method, or a printing method is preferable in the present invention.
本発明に係る有機EL材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、DMF、DMSO等の有機溶媒を用いることができる。また分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。 Examples of the liquid medium for dissolving or dispersing the organic EL material according to the present invention include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, fatty acid esters such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene, toluene, xylene, and mesitylene. Aromatic hydrocarbons such as cyclohexylbenzene, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, decalin, and dodecane, and organic solvents such as DMF and DMSO can be used. Moreover, as a dispersion method, it can disperse | distribute by dispersion methods, such as an ultrasonic wave, high shear force dispersion | distribution, and media dispersion | distribution.
これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは、50nm〜200nmの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機EL素子が得られる。 After these layers are formed, a thin film made of a cathode material is formed thereon by 1 μm or less, preferably by a method such as vapor deposition or sputtering so that the film thickness is in the range of 50 nm to 200 nm. By providing, a desired organic EL element can be obtained.
また作製順序を逆にして、陰極、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には陽極を+、陰極を−の極性として電圧2〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。 Further, it is also possible to reverse the production order and produce the cathode, the electron transport layer, the hole blocking layer, the light emitting layer, the hole transport layer, the hole injection layer, and the anode in this order. When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 to 40 V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.
《用途》
本発明の有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置(家庭用照明、車内照明)、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
<Application>
The organic EL element of the present invention can be used as a display device, a display, and various light emission sources. For example, lighting devices (home lighting, interior lighting), clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources of optical storage media, light sources of electrophotographic copying machines, light sources of optical communication processors, light Although the light source of a sensor etc. are mentioned, It is not limited to this, Especially, it can use effectively for the use as a backlight of a liquid crystal display device, and a light source for illumination.
本発明の有機EL素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。 In the organic EL element of the present invention, patterning may be performed by a metal mask, an ink jet printing method, or the like as needed during film formation. In the case of patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire layer of the element may be patterned. In the fabrication of the element, a conventionally known method is used. Can do.
本発明の有機EL素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図4.16において、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
The light emission color of the organic EL device of the present invention and the compound according to the present invention is shown in FIG. 4.16 on
また、本発明の有機EL素子が白色素子の場合には、白色とは、2度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、1000cd/m2でのCIE1931表色系における色度がX=0.33±0.07、Y=0.33±0.1の領域内にあることを言う。 When the organic EL element of the present invention is a white element, white means that the chromaticity in the CIE1931 color system at 1000 cd / m 2 is X when the 2 ° viewing angle front luminance is measured by the above method. = 0.33 ± 0.07 and Y = 0.33 ± 0.1.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。また、実施例において用いられる化合物の構造を下記に示す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. Moreover, the structure of the compound used in an Example is shown below.
実施例1
《有機EL素子1−1の作製》
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm製膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
Example 1
<< Production of Organic EL Element 1-1 >>
After patterning on a substrate (NA-45 manufactured by NH Techno Glass Co., Ltd.) formed by depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide) on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate as an anode, this ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
この透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液を3000rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。 On this transparent support substrate, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) to 70% with pure water at 3000 rpm for 30 seconds. After the film formation by spin coating, the film was dried at 200 ° C. for 1 hour to provide a first hole transport layer having a thickness of 30 nm.
この基板を窒素雰囲気下に移し、第1正孔輸送層上に、50mgの化合物Aを10mlのトルエンに溶解した溶液を1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜した。180秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行った後、60℃で1時間真空乾燥し第2正孔輸送層とした。 This substrate was transferred to a nitrogen atmosphere, and a solution of 50 mg of compound A dissolved in 10 ml of toluene was formed on the first hole transport layer by spin coating at 1000 rpm for 30 seconds. After irradiating with ultraviolet light for 180 seconds to carry out photopolymerization / crosslinking, vacuum drying was performed at 60 ° C. for 1 hour to form a second hole transport layer.
次に、H−1(60mg)、比較1(3.0mg)をアセトニトリル6mlに溶解した溶液を、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法で製膜し、発光層を設けた。 Next, a solution obtained by dissolving H-1 (60 mg) and Comparative 1 (3.0 mg) in 6 ml of acetonitrile was formed by spin coating under conditions of 1000 rpm and 30 seconds to provide a light emitting layer.
続いて、この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにBAlqを200mg入れ、真空蒸着装置に取り付けた。真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、BAlqの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で発光層上に蒸着して、更に膜厚40nmの電子輸送層を設けた。 Subsequently, this substrate was fixed to a substrate holder of a vacuum deposition apparatus, 200 mg of BAlq was put into a molybdenum resistance heating boat, and attached to the vacuum deposition apparatus. After reducing the pressure of the vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing BAlq is heated by heating, evaporated onto the light emitting layer at a deposition rate of 0.1 nm / second, and further an electron having a thickness of 40 nm. A transport layer was provided.
尚、蒸着時の基板温度は室温であった。 In addition, the substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.
引き続き、フッ化リチウム0.5nm及びアルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成し、白色発光有機EL素子を作製した。 Then, 0.5 nm of lithium fluoride and 110 nm of aluminum were vapor-deposited, the cathode was formed, and the white light emitting organic EL element was produced.
《有機EL素子1−2〜1−40の作製》
有機EL素子1−1の作製において、発光層のドーパント化合物とホスト化合物の組み合わせを表1に記載の組み合わせに変更した以外は同様にして、有機EL素子1−2〜1−40を作製した。
<< Production of Organic EL Elements 1-2 to 1-40 >>
In the production of the organic EL element 1-1, organic EL elements 1-2 to 1-40 were produced in the same manner except that the combination of the dopant compound and the host compound in the light emitting layer was changed to the combination shown in Table 1.
《有機EL素子の評価》
得られた有機EL素子1−1〜1−40を評価するに際しては、作製後の各有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを上記陰極上に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止して、図3、図4に示すような照明装置を形成して評価した。
<< Evaluation of organic EL elements >>
When evaluating the obtained organic EL elements 1-1 to 1-40, the non-light-emitting surface of each organic EL element after production was covered with a glass case, and a glass substrate having a thickness of 300 μm was used as a sealing substrate. An epoxy photo-curing adhesive (Lux Track LC0629B manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is applied as a sealant around the periphery, and this is placed on the cathode so as to be in close contact with the transparent support substrate and irradiated with UV light from the glass substrate side. Then, it was cured and sealed, and an illumination device as shown in FIGS. 3 and 4 was formed and evaluated.
図3は照明装置の概略図を示し、有機EL素子101はガラスカバー102で覆われている(尚、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った)。
FIG. 3 is a schematic diagram of the lighting device, and the
図4は照明装置の断面図を示し、105は陰極、106は有機EL層、107は透明電極付きガラス基板を示す。尚、ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the lighting device, 105 is a cathode, 106 is an organic EL layer, and 107 is a glass substrate with a transparent electrode. The
(外部取り出し量子効率)
有機EL素子を室温(約23〜25℃)、2.5mA/cm2の定電流条件下による点灯を行い、点灯開始直後の発光輝度(L)[cd/m2]を測定することにより、外部取り出し量子効率(η)を算出した。
(External quantum efficiency)
By lighting the organic EL element under a constant current condition of room temperature (about 23 to 25 ° C.) and 2.5 mA / cm 2 , and measuring the light emission luminance (L) [cd / m 2 ] immediately after the start of lighting, The external extraction quantum efficiency (η) was calculated.
ここで、発光輝度の測定はCS−1000(コニカミノルタセンシング製)を用いた。外部取り出し量子効率は有機EL素子1−1を100とする相対値で表した。 Here, CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) was used for measurement of light emission luminance. The external extraction quantum efficiency was expressed as a relative value with the organic EL element 1-1 as 100.
(半減寿命)
下記に示す測定法に従って、半減寿命の評価を行った。
(Half life)
The half-life was evaluated according to the measurement method shown below.
各有機EL素子を初期輝度1000cd/m2を与える電流で定電流駆動して、初期輝度の1/2(500cd/m2)になる時間を求め、これを半減寿命の尺度とした。
Each organic EL device driven with a constant current at a current giving an
尚、半減寿命は比較の有機EL素子1−1を100としたときの相対値で表示した。 The half-life was expressed as a relative value when the comparative organic EL element 1-1 was set to 100.
(駆動電圧)
駆動電圧とは、2.5mA/cm2で駆動した時の電圧で、比較の有機EL素子1−1の駆動電圧(V)からの差を求めた。
(Drive voltage)
The drive voltage is a voltage when driven at 2.5 mA / cm 2 , and the difference from the drive voltage (V) of the comparative organic EL element 1-1 was obtained.
駆動電圧(V)=有機EL素子1−1の駆動電圧(V)−本発明の有機EL素子の駆動電圧(V)
(発光層の塗布溶液の停滞安定性(溶液安定性))
有機EL素子1−1の作製において、発光層の形成に用いた塗布溶液(H−1(60mg)と比較1(3.0mg)の混合物をブタノール12mlに溶解した溶液)を室温にて1時間放置した後、析出の有無を確認した。
○:目視で析出なし
△:目視で析出かすかにある
×:目視で明らかに析出あり
Drive voltage (V) = Drive voltage (V) of the organic EL element 1-1−Drive voltage (V) of the organic EL element of the present invention
(Stillness stability of the light emitting layer coating solution (solution stability))
In the production of the organic EL device 1-1, the coating solution used for forming the light emitting layer (a solution obtained by dissolving a mixture of H-1 (60 mg) and Comparative 1 (3.0 mg) in 12 ml of butanol) at room temperature for 1 hour. After standing, the presence or absence of precipitation was confirmed.
○: There is no visual observation Δ: There is faint precipitation by visual observation ×: There is a clear visual observation
表1から、比較の素子に比べて、本発明の有機EL素子は、外部取り出し量子効率が高く、且つ、駆動電圧も低いことが明らかである。また、発光層の塗布溶液の停滞安定性も改善されることが分かった。 From Table 1, it is clear that the organic EL device of the present invention has a high external extraction quantum efficiency and a low driving voltage as compared with the comparative device. It was also found that the stagnation stability of the light emitting layer coating solution was also improved.
実施例2
《フルカラー表示装置の作製》
(青色発光素子の作製)
実施例1の有機EL素子1−8を青色発光素子として用いた。
Example 2
<Production of full-color display device>
(Production of blue light emitting element)
The organic EL element 1-8 of Example 1 was used as a blue light emitting element.
(緑色発光素子の作製)
実施例1の有機EL素子1−1において、比較1をIr−1に変更した以外は同様にして、緑色発光素子を作製し、これを緑色発光素子として用いた。
(Production of green light emitting element)
In the organic EL element 1-1 of Example 1, a green light emitting element was produced in the same manner except that the
(赤色発光素子の作製)
実施例1の有機EL素子1−1において、比較1をIr−9に変更した以外は同様にして、赤色発光素子を作製し、これを赤色発光素子として用いた。
(Production of red light emitting element)
In the organic EL device 1-1 of Example 1, a red light emitting device was produced in the same manner except that the
上記で作製した赤色、緑色、青色発光有機EL素子を同一基板上に並置し、図1に記載のような形態を有するアクティブマトリクス方式フルカラー表示装置を作製した。図2には、作製した前記表示装置の表示部Aの模式図のみを示した。 The red, green, and blue light-emitting organic EL elements produced above were juxtaposed on the same substrate to produce an active matrix type full-color display device having a configuration as shown in FIG. In FIG. 2, only the schematic diagram of the display part A of the produced display device is shown.
即ち、同一基板上に複数の走査線5及びデータ線6を含む配線部と並置した複数の画素3(発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素等)とを有し、配線部の走査線5及び複数のデータ線6はそれぞれ導電材料からなり、走査線5とデータ線6は格子状に直交して、直交する位置で画素3に接続している(詳細は図示せず)。
That is, a plurality of pixels 3 (light emission color is a red region pixel, a green region pixel, a blue region pixel, etc.) juxtaposed with a wiring portion including a plurality of
前記複数画素3は、それぞれの発光色に対応した有機EL素子、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタと駆動トランジスタそれぞれが設けられたアクティブマトリクス方式で駆動されており、走査線5から走査信号が印加されるとデータ線6から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。このように赤、緑、青の画素を適宜、並置することによって、フルカラー表示装置を作製した。
The plurality of
このフルカラー表示装置は駆動することにより、輝度が高く、高耐久性を有し、且つ鮮明なフルカラー動画表示が得られることが分かった。 It has been found that when this full-color display device is driven, a high-brightness, high durability, and clear full-color moving image display can be obtained.
実施例3
《白色発光素子及び白色照明装置の作製−2》
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm製膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
Example 3
<< Production of White Light Emitting Element and White Lighting Device-2 >>
After patterning on a substrate (NA-45 manufactured by NH Techno Glass Co., Ltd.) formed by depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide) on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate as an anode, this ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
この透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液を3000rpm、30秒でスピンコート法により製膜した後、200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。 On this transparent support substrate, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) to 70% with pure water at 3000 rpm for 30 seconds. After the film formation by spin coating, the film was dried at 200 ° C. for 1 hour to provide a first hole transport layer having a thickness of 30 nm.
この基板を窒素雰囲気下に移し、第1正孔輸送層上に、50mgの化合物Aを10mlのトルエンに溶解した溶液を1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜した。180秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行った後、60℃で1時間真空乾燥し第2正孔輸送層とした。 This substrate was transferred to a nitrogen atmosphere, and a solution of 50 mg of compound A dissolved in 10 ml of toluene was formed on the first hole transport layer by spin coating at 1000 rpm for 30 seconds. After irradiating with ultraviolet light for 180 seconds to carry out photopolymerization / crosslinking, vacuum drying was performed at 60 ° C. for 1 hour to form a second hole transport layer.
次に、化合物B(60mg)、Ir−14(3.0mg)、本発明の化合物55(3.0mg)をアセトニトリル6mlに溶解した溶液を用い、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜した。15秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行わせ、さらに真空中150℃で1時間加熱を行い、発光層とした。 Next, a solution obtained by dissolving Compound B (60 mg), Ir-14 (3.0 mg), and Compound 55 (3.0 mg) of the present invention in 6 ml of acetonitrile was spin-coated at 1000 rpm for 30 seconds. A film was formed. Irradiated with ultraviolet light for 15 seconds to cause photopolymerization / crosslinking, and further heated in vacuum at 150 ° C. for 1 hour to obtain a light emitting layer.
更に、化合物C(20mg)をブタノール6mlに溶解した溶液を用い、1000rpm、30秒の条件下、スピンコート法により製膜した。15秒間紫外光を照射し、光重合・架橋を行わせ、さらに真空中80℃で1時間加熱を行い、正孔阻止層とした。 Further, using a solution obtained by dissolving Compound C (20 mg) in 6 ml of butanol, a film was formed by spin coating under conditions of 1000 rpm and 30 seconds. Ultraviolet light was irradiated for 15 seconds, photopolymerization / crosslinking was performed, and further heating was performed in vacuum at 80 ° C. for 1 hour to form a hole blocking layer.
続いて、この基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートにAlq3を200mg入れ、真空蒸着装置に取り付けた。真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、Alq3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して、更に膜厚40nmの電子輸送層を設けた。 Subsequently, this substrate was fixed to a substrate holder of a vacuum vapor deposition apparatus, and 200 mg of Alq 3 was put into a molybdenum resistance heating boat and attached to the vacuum vapor deposition apparatus. After depressurizing the vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, energizing and heating the heating boat containing Alq 3 , depositing on the hole blocking layer at a deposition rate of 0.1 nm / second, An electron transport layer having a thickness of 40 nm was provided.
なお、蒸着時の基板温度は室温であった。 In addition, the substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.
引き続き、フッ化リチウム0.5nm及びアルミニウム110nmを蒸着して陰極を形成し、白色発光有機EL素子を作製した。 Then, 0.5 nm of lithium fluoride and 110 nm of aluminum were vapor-deposited, the cathode was formed, and the white light emitting organic EL element was produced.
この素子に通電したところほぼ白色の光が得られ、照明装置として使用出来ることが判った。 When this element was energized, almost white light was obtained, and it was found that it could be used as a lighting device.
1 ディスプレイ
3 画素
5 走査線
6 データ線
A 表示部
B 制御部
101 有機EL素子
107 透明電極付きガラス基板
106 有機EL層
105 陰極
102 ガラスカバー
108 窒素ガス
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