JP5480560B2 - Adhesive for joining electronic components - Google Patents
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Description
本発明は、結晶性が低く、速硬化性に優れたエピスルフィド化合物に関する。 The present invention relates to an episulfide compound having low crystallinity and excellent quick curability.
従来、半導体チップを用いて半導体製品を製造する場合、接着剤を用いて半導体チップを基板等に接着固定する工程(ダイボンディング工程)が行われる。
このようなダイボンディング工程において使用される接着剤として、例えば、特許文献1には、エポキシ樹脂、フェノールアラルキル樹脂、イミダゾール化合物等を含有するダイアタッチペーストが開示されている。特許文献1には、同文献に記載されたダイアタッチペーストは接着性、速硬化性、信頼性に優れており、特に短時間の硬化で高い接着信頼性が得られる旨が記載されている。特許文献1の実施例においては、200℃、30秒及び60秒で硬化させた際の接着強度が評価されている。
Conventionally, when a semiconductor product is manufactured using a semiconductor chip, a process (die bonding process) in which the semiconductor chip is bonded and fixed to a substrate or the like using an adhesive is performed.
As an adhesive used in such a die bonding step, for example, Patent Document 1 discloses a die attach paste containing an epoxy resin, a phenol aralkyl resin, an imidazole compound, and the like. Patent Document 1 describes that the die attach paste described in the same document is excellent in adhesiveness, fast curability, and reliability, and that high adhesion reliability can be obtained by curing in a short time. In the Example of patent document 1, the adhesive strength at the time of making it harden | cure at 200 degreeC, 30 second, and 60 second is evaluated.
近年、半導体パッケージの高集積化への要望が益々大きくなっており、半導体チップの多層積層化が進んでいる。そのため、特許文献1に記載されたダイアタッチペーストのように硬化に数十秒を要する接着剤を用いたのでは、一つの半導体パッケージを製造するのに要する時間が長時間化してしまうという問題が生じていた。また、多層積層化により、ごく僅かなチップのズレが積層体としては致命的な欠陥となりうるところ、硬化に時間がかかりすぎるとズレが発生しやすくなるという問題もあった。 In recent years, there has been an increasing demand for higher integration of semiconductor packages, and semiconductor chips have been stacked in multiple layers. For this reason, using an adhesive that requires several tens of seconds for curing, such as the die attach paste described in Patent Document 1, there is a problem that the time required to manufacture one semiconductor package becomes longer. It was happening. In addition, due to the multi-layer stacking, a slight chip shift can be a fatal defect as a stacked body, but there is also a problem that a shift is likely to occur if it takes too much time for curing.
半導体パッケージの製造時間の長時間化を解消するためには、例えば、硬化性化合物としてエピスルフィド化合物を使用することが検討されている。エピスルフィド化合物は、オキシラン環上の酸素原子を硫黄原子に置換したチイラン環を有する化合物であり、比較的硬化速度の速い硬化性化合物として知られている。
しかしながら、従来のエピスルフィド化合物の速硬化性は未だ充分とはいえず、半導体チップの多層積層化にも充分に対応することのできる速硬化性に優れた硬化性化合物が望まれている。また、従来のエピスルフィド化合物、特にベンゼン環を有するエピスルフィド化合物は結晶性が高く、このようなエピスルフィド化合物を配合した接着剤は時間の経過に伴って増粘し、塗工性が低下することも問題であった。
In order to eliminate the prolonged manufacturing time of the semiconductor package, for example, the use of an episulfide compound as a curable compound has been studied. An episulfide compound is a compound having a thiirane ring in which an oxygen atom on the oxirane ring is substituted with a sulfur atom, and is known as a curable compound having a relatively high curing rate.
However, the rapid curing properties of conventional episulfide compounds are not yet sufficient, and a curable compound having excellent rapid curing properties that can sufficiently cope with the multilayer lamination of semiconductor chips is desired. In addition, conventional episulfide compounds, especially episulfide compounds having a benzene ring, have high crystallinity. Adhesives containing such episulfide compounds increase in viscosity over time, resulting in a decrease in coatability. Met.
本発明は、結晶性が低く、速硬化性に優れたエピスルフィド化合物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an episulfide compound having low crystallinity and excellent quick curability.
本発明は、下記一般式(1)で表される構造を有するエピスルフィド化合物である。 The present invention is an episulfide compound having a structure represented by the following general formula (1).
一般式(1)中、R1〜R10のうちの少なくとも1個は、チイラン環含有基を表し、チイラン環含有基以外のR1〜R10は、水素原子又はアルキル基を表し、これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
以下、本発明を詳述する。
In general formula (1), at least one of R 1 to R 10 represents a thiirane ring-containing group, and R 1 to R 10 other than the thiirane ring-containing group represent a hydrogen atom or an alkyl group, They may be the same or different.
The present invention is described in detail below.
本発明者らは、特定の構造を有するエピスルフィド化合物は、結晶性が低く、速硬化性に優れることを見出した。本発明者らは、該エピスルフィド化合物を配合した接着剤は、時間が経過しても増粘することがなく、速硬化性に優れることから電子部品の製造にかかる時間(タクトタイム)を著しく短縮できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventors have found that an episulfide compound having a specific structure has low crystallinity and is excellent in rapid curability. The present inventors have significantly shortened the time (tact time) required for the production of electronic components because the adhesive containing the episulfide compound does not thicken over time and is excellent in rapid curing. The present inventors have found that the present invention can be accomplished and have completed the present invention.
本発明のエピスルフィド化合物は、下記一般式(1)で表される構造を有する。 The episulfide compound of the present invention has a structure represented by the following general formula (1).
一般式(1)中、R1〜R10のうちの少なくとも1個は、チイラン環含有基を表し、チイラン環含有基以外のR1〜R10は、水素原子又はアルキル基を表し、これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In general formula (1), at least one of R 1 to R 10 represents a thiirane ring-containing group, and R 1 to R 10 other than the thiirane ring-containing group represent a hydrogen atom or an alkyl group, They may be the same or different.
上記一般式(1)中、R1〜R10のうちの少なくとも1個は、チイラン環含有基を表す。
上記チイラン環含有基は、分子中に少なくとも1個のチイラン環を有していれば特に限定されず、例えば、チイラン環に加えて、アルキル基又はアルキルエーテル基を有する官能基等が挙げられる。なかでも、下記式(A)で表される構造を有するチイラン環含有基が好ましい。
In the general formula (1), at least one of R 1 to R 10 represents a thiirane ring-containing group.
The thiirane ring-containing group is not particularly limited as long as it has at least one thiirane ring in the molecule, and examples thereof include a functional group having an alkyl group or an alkyl ether group in addition to the thiirane ring. Of these, a thiirane ring-containing group having a structure represented by the following formula (A) is preferable.
上記一般式(1)中、R1〜R10のうちの少なくとも1個がチイラン環含有基であればよいが、R1〜R10のうちの2個以上がチイラン環含有基であることが好ましい。R1〜R10のうちの2個以上がチイラン環含有基であることにより、エピスルフィド化合物を配合した接着剤を用いて電子部品等を接合する場合、速硬化性が向上するとともに、接続信頼性の高い接合体を得ることができる。 In the general formula (1), at least one of R 1 to R 10 may if thiirane ring-containing group, but it more than two of R 1 to R 10 is a thiirane ring-containing group preferable. When two or more of R 1 to R 10 are thiirane ring-containing groups, when joining electronic parts using an adhesive containing an episulfide compound, quick curability is improved and connection reliability is improved. Can be obtained.
上記一般式(1)中、上記チイラン環含有基以外のR1〜R10は、水素原子又はアルキル基を表す。
上記アルキル基は特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
In the general formula (1), R 1 to R 10 other than the thiirane ring-containing group represent a hydrogen atom or an alkyl group.
The alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.
本発明のエピスルフィド化合物は、下記式(1−1)で表される構造を有することが好ましい。下記式(1−1)で表される構造を有することにより、エピスルフィド化合物は、結晶性が低く、速硬化性に優れ、更に、このようなエピスルフィド化合物を配合した接着剤を用いて電子部品等を接合する場合、接続信頼性の高い接合体を得ることができる。 The episulfide compound of the present invention preferably has a structure represented by the following formula (1-1). By having the structure represented by the following formula (1-1), the episulfide compound has low crystallinity and excellent quick curability, and further, an electronic component using an adhesive containing such an episulfide compound. When joining, a joined body with high connection reliability can be obtained.
本発明のエピスルフィド化合物を製造する方法は特に限定されず、例えば、まず、目的とするエピスルフィド化合物のチイラン環の代わりにオキシラン環を有するエポキシ化合物を製造し、次いで、溶媒の存在下、得られたエポキシ化合物に対して硫化剤を反応させることによりオキシラン環をチイラン環に変換する方法が挙げられる。
本発明のエピスルフィド化合物を製造する方法であって、溶媒の存在下、エポキシ化合物に対して硫化剤を反応させることにより、前記エポキシ化合物のオキシラン環をチイラン環に変換するエピスルフィド化合物の製造方法もまた、本発明の1つである。
The method for producing the episulfide compound of the present invention is not particularly limited. For example, first, an epoxy compound having an oxirane ring instead of the thiirane ring of the target episulfide compound is produced, and then obtained in the presence of a solvent. A method of converting an oxirane ring into a thiirane ring by reacting an epoxy compound with a sulfurizing agent can be mentioned.
There is also provided a method for producing an episulfide compound of the present invention, wherein the oxirane ring of the epoxy compound is converted to a thiirane ring by reacting the epoxy compound with a sulfurizing agent in the presence of a solvent. This is one of the present inventions.
上記溶媒は特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、塩化メチレン、トルエン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の通常用いられる溶媒を用いることができる。 The solvent is not particularly limited, and for example, commonly used solvents such as methanol, ethanol, propanol, methylene chloride, toluene, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, dimethyl ketone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone can be used.
上記エポキシ化合物は、目的とするエピスルフィド化合物のチイラン環の代わりにオキシラン環を有するエポキシ化合物である。このようなエポキシ化合物に対して硫化剤を反応させることにより、エポキシ化合物のオキシラン環上の酸素原子を硫黄原子に置換することでオキシラン環をチイラン環に変換し、エピスルフィド化合物を製造することができる。
具体的には、例えば、上記式(1−1)で表される構造を有するエピスルフィド化合物を製造する場合には、上記エポキシ化合物は、下記式(1−2)で表される構造を有する。
The said epoxy compound is an epoxy compound which has an oxirane ring instead of the thiirane ring of the target episulfide compound. By reacting such an epoxy compound with a sulfurizing agent, the oxygen atom on the oxirane ring of the epoxy compound is replaced with a sulfur atom, whereby the oxirane ring can be converted to a thiirane ring to produce an episulfide compound. .
Specifically, for example, when producing an episulfide compound having a structure represented by the above formula (1-1), the epoxy compound has a structure represented by the following formula (1-2).
上記式(1−2)で表される構造を有するエポキシ化合物を製造する方法は特に限定されず、例えば、上記式(1−2)で表される構造中のグリシジルリーテルの代わりにヒドロキシル基を有する化合物に対して、エピクロロヒドリンを反応させることによりヒドロキシル基をグリシジルエーテル化する方法が挙げられる。
なお、上記式(1−2)で表される構造を有するエポキシ化合物が得られたことは、NMRを測定することにより確認することができる。
The method for producing the epoxy compound having the structure represented by the above formula (1-2) is not particularly limited. For example, a hydroxyl group is substituted for the glycidyl liter in the structure represented by the above formula (1-2). The method which makes a hydroxyl group glycidyl ether by making epichlorohydrin react with the compound which has is mentioned.
In addition, it can confirm that the epoxy compound which has a structure represented by the said Formula (1-2) was obtained by measuring NMR.
上記硫化剤は特に限定されず、例えば、チオシアン酸カリウム等のチオシアン酸塩類、チオ尿素等が挙げられる。
上記硫化剤の添加量は特に限定されないが、上記エポキシ化合物100重量部に対する好ましい下限が5重量部、好ましい上限が200重量部である。上記硫化剤の添加量が5重量部未満であると、酸素原子から硫黄原子への置換が充分に進行しないことがある。上記硫化剤の添加量が200重量部を超えると、得られたエピスルフィド化合物が自己重合することがある。
なお、上記エポキシ化合物のオキシラン環上の酸素原子が硫黄原子に置換されたことは、NMRを測定することにより確認することができる。
The sulfurizing agent is not particularly limited, and examples thereof include thiocyanates such as potassium thiocyanate, thiourea, and the like.
Although the addition amount of the said sulfurizing agent is not specifically limited, The preferable minimum with respect to 100 weight part of said epoxy compounds is 5 weight part, and a preferable upper limit is 200 weight part. When the addition amount of the sulfiding agent is less than 5 parts by weight, substitution from oxygen atoms to sulfur atoms may not sufficiently proceed. When the addition amount of the sulfiding agent exceeds 200 parts by weight, the obtained episulfide compound may self-polymerize.
In addition, it can confirm by measuring NMR that the oxygen atom on the oxirane ring of the said epoxy compound was substituted by the sulfur atom.
本発明のエピスルフィド化合物は、結晶性が低く、速硬化性に優れる。そのため、本発明のエピスルフィド化合物を配合した接着剤は、時間が経過しても増粘することがなく、良好な塗工性を維持し、また、速硬化性に優れ、電子部品の製造にかかる時間(タクトタイム)が著しく短縮する。 The episulfide compound of the present invention has low crystallinity and excellent quick curability. Therefore, the adhesive containing the episulfide compound of the present invention does not thicken over time, maintains good coatability, is excellent in fast curability, and is involved in the production of electronic components. Time (tact time) is significantly shortened.
更に、本発明のエピスルフィド化合物と、本発明のエピスルフィド化合物のチイラン環の一部又は全部が、チイラン環ではなく、チイラン環に比べると反応性の低いオキシラン環である化合物とを併用した場合には、これらの化合物の混合物は、優れた速硬化性を維持しながら、安定性にも優れる。
本発明のエピスルフィド化合物と、本発明のエピスルフィド化合物のチイラン環のうちの少なくとも1個がオキシラン環である化合物とを含有するエピスルフィド−エポキシ混合物であって、混合物中のチイラン環とオキシラン環との含有比が1:3〜3:1であるエピスルフィド−エポキシ混合物もまた、本発明の1つである。
Further, when the episulfide compound of the present invention and a compound in which a part or all of the thiirane ring of the episulfide compound of the present invention is not a thiirane ring and is an oxirane ring that is less reactive than a thiirane ring are used in combination. The mixture of these compounds is excellent in stability while maintaining excellent rapid curability.
An episulfide-epoxy mixture containing the episulfide compound of the present invention and a compound in which at least one of the thiirane rings of the episulfide compound of the present invention is an oxirane ring, comprising the thiirane ring and the oxirane ring in the mixture Episulfide-epoxy mixtures with a ratio of 1: 3 to 3: 1 are also one aspect of the present invention.
本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物は、本発明のエピスルフィド化合物に加えて、本発明のエピスルフィド化合物のチイラン環のうちの少なくとも1個がオキシラン環である化合物(以下、オキシラン環を有する化合物ともいう)を含有する。
上記オキシラン環を有する化合物は、本発明のエピスルフィド化合物のチイラン環のうちの少なくとも1個がオキシラン環である化合物であればよく、分子中にチイラン環とオキシラン環との両方を有していてもよく、オキシラン環のみを有していてもよい。なお、本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物は、上記オキシラン環を有する化合物として1種のみを含有してもよく、2種以上を含有してもよい。
In addition to the episulfide compound of the present invention, the episulfide-epoxy mixture of the present invention includes a compound in which at least one of the thiirane rings of the episulfide compound of the present invention is an oxirane ring (hereinafter also referred to as a compound having an oxirane ring). contains.
The compound having an oxirane ring may be a compound in which at least one of the thiirane rings of the episulfide compound of the present invention is an oxirane ring, and may have both a thiirane ring and an oxirane ring in the molecule. It may have only an oxirane ring. In addition, the episulfide-epoxy mixture of this invention may contain only 1 type as a compound which has the said oxirane ring, and may contain 2 or more types.
本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物においては、混合物中のチイラン環とオキシラン環との含有比が1:3〜3:1である。本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物におけるチイラン環の含有量がオキシラン環の含有量の1/3未満であると、エピスルフィド−エポキシ混合物の速硬化性が低下する。本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物におけるチイラン環の含有量がオキシラン環の含有量の3倍を超えると、エピスルフィド−エポキシ混合物の安定性が低下し、このようなエピスルフィド−エポキシ混合物を配合した接着剤は、貯蔵安定性が低下する。
なお、本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物におけるチイラン環とオキシラン環の含有比は、NMRを測定することにより確認することができる。
In the episulfide-epoxy mixture of the present invention, the content ratio of thiirane ring and oxirane ring in the mixture is 1: 3 to 3: 1. When the content of the thiirane ring in the episulfide-epoxy mixture of the present invention is less than 1/3 of the content of the oxirane ring, the rapid curability of the episulfide-epoxy mixture decreases. When the content of thiirane ring in the episulfide-epoxy mixture of the present invention exceeds 3 times the content of oxirane ring, the stability of the episulfide-epoxy mixture decreases, and an adhesive containing such an episulfide-epoxy mixture becomes , Storage stability decreases.
In addition, the content ratio of the thiirane ring and the oxirane ring in the episulfide-epoxy mixture of the present invention can be confirmed by measuring NMR.
本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物は、上記式(1−1)で表される構造を有するエピスルフィド化合物と、上記式(1−2)で表される構造を有する化合物と、下記式(1−3)で表される構造を有する化合物と、下記式(1−4)で表される構造を有する化合物とを含有することが好ましい。これらの化合物を含有することにより、エピスルフィド−エポキシ混合物は、結晶性が低く、優れた速硬化性と安定性とを有し、更に、このようなエピスルフィド−エポキシ混合物を配合した接着剤を用いて電子部品等を接合する場合、接続信頼性の高い接合体を得ることができる。 The episulfide-epoxy mixture of the present invention includes an episulfide compound having a structure represented by the above formula (1-1), a compound having a structure represented by the above formula (1-2), and the following formula (1-3) ) And a compound having a structure represented by the following formula (1-4). By containing these compounds, the episulfide-epoxy mixture has low crystallinity, excellent quick curability and stability, and further, an adhesive containing such an episulfide-epoxy mixture is used. When joining electronic parts etc., a joined body with high connection reliability can be obtained.
本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物は、本発明のエピスルフィド化合物と同様に、結晶性が低く、速硬化性に優れる。そのため、本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物を配合した接着剤は、時間が経過しても増粘することがなく、良好な塗工性を維持し、また、速硬化性に優れ、電子部品の製造にかかる時間(タクトタイム)が著しく短縮する。更に、本発明のエピスルフィド−エポキシ混合物を配合した接着剤は、貯蔵安定性にも優れる。 Similar to the episulfide compound of the present invention, the episulfide-epoxy mixture of the present invention has low crystallinity and excellent rapid curability. Therefore, the adhesive containing the episulfide-epoxy mixture of the present invention does not thicken over time, maintains good coatability, has excellent fast curability, and produces electronic components. The time (tact time) required for remarkably shortens. Furthermore, the adhesive which mix | blended the episulfide-epoxy mixture of this invention is excellent also in storage stability.
本発明のエピスルフィド化合物及びエピスルフィド−エポキシ混合物の用途は特に限定されないが、半導体チップを基板又は他の半導体チップに接合する際に用いられる電子部品接合用接着剤に好適に適用することができる。また、本発明のエピスルフィド化合物及びエピスルフィド−エポキシ混合物は、接着剤中に含まれる導電性微粒子により半導体チップと基板又は他の半導体チップとを導電接続する異方導電性接着剤(ACP)にも好適に適用することができる。
本発明のエピスルフィド化合物又はエピスルフィド−エポキシ混合物を含有する電子部品接合用接着剤及び異方導電性接着剤もまた、本発明の1つである。
Although the use of the episulfide compound and the episulfide-epoxy mixture of the present invention is not particularly limited, it can be suitably applied to an electronic component bonding adhesive used when a semiconductor chip is bonded to a substrate or another semiconductor chip. The episulfide compound and episulfide-epoxy mixture of the present invention are also suitable for anisotropic conductive adhesives (ACP) for conductively connecting a semiconductor chip and a substrate or another semiconductor chip with conductive fine particles contained in the adhesive. Can be applied to.
An adhesive for bonding electronic parts and an anisotropic conductive adhesive containing the episulfide compound or episulfide-epoxy mixture of the present invention are also one aspect of the present invention.
本発明の電子部品接合用接着剤及び異方導電性接着剤は、速硬化性に優れ、具体的には、150〜200℃程度の加熱を1〜10秒行うことによって硬化を完了させられることから、タクトタイムを著しく短縮することができる。また、本発明の電子部品接合用接着剤及び異方導電性接着剤は比較的低温で硬化を完了させられることから、薄型電子部品の接着に用いる場合には、反りの発生を抑制する効果も発揮することができる。
更に、本発明の電子部品接合用接着剤は、接続用ハンダ合金の融点領域である240〜260℃程度の加熱を行う場合には5秒以内で硬化を完了させられることから、バンプを有する半導体チップのフリップチップ接続、貫通電極を有する半導体チップの積層等において用いられるNCPとしても好適に用いられる。
なお、本明細書中、硬化の完了とは、被着体同士が常温で0.1N/mm以上のシェア強度を持つことを意味する。
The electronic component bonding adhesive and anisotropic conductive adhesive of the present invention are excellent in rapid curing, and specifically, can be cured by heating at about 150 to 200 ° C. for 1 to 10 seconds. Therefore, the tact time can be remarkably shortened. In addition, since the adhesive for bonding electronic parts and the anisotropic conductive adhesive of the present invention can be cured at a relatively low temperature, when used for bonding thin electronic parts, there is also an effect of suppressing the occurrence of warpage. It can be demonstrated.
Furthermore, the adhesive for bonding electronic parts according to the present invention can complete the curing within 5 seconds when heating at about 240 to 260 ° C., which is the melting point region of the solder alloy for connection. It is also suitably used as an NCP used in flip chip connection of chips, lamination of semiconductor chips having through electrodes, and the like.
In the present specification, completion of curing means that adherends have a shear strength of 0.1 N / mm or more at room temperature.
本発明によれば、結晶性が低く、速硬化性に優れたエピスルフィド化合物を提供することができる。 According to the present invention, an episulfide compound having low crystallinity and excellent quick curability can be provided.
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(実施例1)
(エピスルフィド化合物Aの製造)
フラスコ内に、ベンゾフェノン型エポキシ(EP−3300S、アデカ社製、エポキシ当量=180g/eq.)を100g及びテトラヒドロフランを100g仕込み、室温にて攪拌してエポキシ化合物を溶解させた。溶解後、チオ尿素を60g及びメタノールを400g添加し、温度30〜35℃で、攪拌しながら5時間反応を行った。反応終了後、メチルイソブチルケトンを900g添加した後、純水250gで5回水洗した。水洗後、ロータリーエバポレーターにて減圧下、温度90℃でメチルイソブチルケトンを留去して、無色透明液体のエピスルフィド化合物Aを57g得た。NMR測定結果より得られたエピスルフィド化合物Aのチイラン環転換率は93%であった。
Example 1
(Production of Episulfide Compound A)
In a flask, 100 g of benzophenone type epoxy (EP-3300S, manufactured by Adeka Corporation, epoxy equivalent = 180 g / eq.) And 100 g of tetrahydrofuran were charged and stirred at room temperature to dissolve the epoxy compound. After dissolution, 60 g of thiourea and 400 g of methanol were added and reacted at a temperature of 30 to 35 ° C. with stirring for 5 hours. After completion of the reaction, 900 g of methyl isobutyl ketone was added, and then washed 5 times with 250 g of pure water. After washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off at 90 ° C. under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 57 g of colorless and transparent liquid episulfide compound A. The thiirane ring conversion rate of the episulfide compound A obtained from the NMR measurement result was 93%.
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Aを50重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を50重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Preparation of adhesive for electronic parts)
50 parts by weight of the obtained episulfide compound A, 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), And an imidazole curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(実施例2)
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Aを85重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を15重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Example 2)
(Preparation of adhesive for electronic parts)
85 parts by weight of the obtained episulfide compound A, 15 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), Imidazole-based curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(実施例3)
(エピスルフィド化合物Bの製造)
フラスコ内に、ベンゾフェノン型エポキシ(EP−3300S、アデカ社製、エポキシ当量=180g/eq.)を100g及びテトラヒドロフランを100g仕込み、室温にて攪拌してエポキシ化合物を溶解させた。溶解後、チオ尿素を60g及びメタノールを400g添加し、温度30〜35℃で、攪拌しながら3時間反応を行った。反応終了後、メチルイソブチルケトンを900g添加した後、純水250gで5回水洗した。水洗後、ロータリーエバポレーターにて減圧下、温度90℃でメチルイソブチルケトンを留去して、無色透明液体のエピスルフィド化合物Bを89g得た。NMR測定結果より得られたエピスルフィド化合物Bのチイラン環転換率は52%であった。
(Example 3)
(Production of episulfide compound B)
In a flask, 100 g of benzophenone type epoxy (EP-3300S, manufactured by Adeka Corporation, epoxy equivalent = 180 g / eq.) And 100 g of tetrahydrofuran were charged and stirred at room temperature to dissolve the epoxy compound. After dissolution, 60 g of thiourea and 400 g of methanol were added, and the reaction was performed at a temperature of 30 to 35 ° C. with stirring for 3 hours. After completion of the reaction, 900 g of methyl isobutyl ketone was added, and then washed 5 times with 250 g of pure water. After washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off at 90 ° C. under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 89 g of colorless and transparent liquid episulfide compound B. The thiirane ring conversion rate of the episulfide compound B obtained from the NMR measurement result was 52%.
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Bを50重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を50重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Preparation of adhesive for electronic parts)
50 parts by weight of the obtained episulfide compound B, 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), And an imidazole-based curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(実施例4)
(エピスルフィド化合物Cの製造)
フラスコ内に、ベンゾフェノン型エポキシ(EP−3300S、アデカ社製、エポキシ当量=180g/eq.)を100g及びテトラヒドロフランを100g仕込み、室温にて攪拌してエポキシ化合物を溶解させた。溶解後、チオ尿素を20g及びメタノールを400g添加し、温度30〜35℃で、攪拌しながら3時間反応を行った。反応終了後、メチルイソブチルケトンを900g添加した後、純水250gで5回水洗した。水洗後、ロータリーエバポレーターにて減圧下、温度90℃でメチルイソブチルケトンを留去して、無色透明液体のエピスルフィド化合物Cを92g得た。NMR測定結果より得られたエピスルフィド化合物Cのチイラン環転換率は21%であった。
Example 4
(Production of episulfide compound C)
In a flask, 100 g of benzophenone type epoxy (EP-3300S, manufactured by Adeka Corporation, epoxy equivalent = 180 g / eq.) And 100 g of tetrahydrofuran were charged and stirred at room temperature to dissolve the epoxy compound. After dissolution, 20 g of thiourea and 400 g of methanol were added, and the reaction was performed at a temperature of 30 to 35 ° C. with stirring for 3 hours. After completion of the reaction, 900 g of methyl isobutyl ketone was added, and then washed 5 times with 250 g of pure water. After washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off at 90 ° C. under reduced pressure on a rotary evaporator to obtain 92 g of episulfide compound C as a colorless transparent liquid. The thiirane ring conversion rate of the episulfide compound C obtained from the NMR measurement result was 21%.
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Cを90重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を10重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Preparation of adhesive for electronic parts)
90 parts by weight of the obtained episulfide compound C, 10 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), And an imidazole curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(実施例5)
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Cを50重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を50重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Example 5)
(Preparation of adhesive for electronic parts)
50 parts by weight of the obtained episulfide compound C, 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), And an imidazole curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(比較例1)
(エピスルフィド化合物Dの製造)
フラスコ内に、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を100g及びテトラヒドロフランを100g仕込み、室温にて攪拌してエポキシ化合物を溶解させた。溶解後、チオ尿素を60g及びメタノールを400g添加し、温度30〜35℃で、攪拌しながら5時間反応を行った。反応終了後、メチルイソブチルケトンを900g添加した後、純水250gで5回水洗した。水洗後、ロータリーエバポレーターにて減圧下、温度90℃でメチルイソブチルケトンを留去して、無色透明液体のエピスルフィド化合物Dを85g得た。NMR測定結果より得られたエピスルフィド化合物Dのチイラン環転換率は92%であった。
(Comparative Example 1)
(Production of episulfide compound D)
In a flask, 100 g of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent = 185 g / eq.) And 100 g of tetrahydrofuran were charged, and stirred at room temperature to dissolve the epoxy compound. After dissolution, 60 g of thiourea and 400 g of methanol were added and reacted at a temperature of 30 to 35 ° C. with stirring for 5 hours. After completion of the reaction, 900 g of methyl isobutyl ketone was added, and then washed 5 times with 250 g of pure water. After washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off at 90 ° C. under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 85 g of episulfide compound D as a colorless transparent liquid. The thiirane ring conversion rate of the episulfide compound D obtained from the NMR measurement result was 92%.
(電子部品用接着剤の調製)
得られたエピスルフィド化合物Dを50重量部と、ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を50重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Preparation of adhesive for electronic parts)
50 parts by weight of the obtained episulfide compound D, 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent = 185 g / eq.), And an imidazole curing agent (TEP-2E4MZ, 8 parts by weight of Nippon Soda Co., Ltd.) was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(比較例2)
(電子部品用接着剤の調製)
ビスフェノールA型エポキシ(YL−980、ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量=185g/eq.)を100重量部と、イミダゾール系硬化剤(TEP−2E4MZ、日本曹達社製)を8重量部とを、ホモディスパーを用いて攪拌混合し、電子部品接合用接着剤を調製した。
(Comparative Example 2)
(Preparation of adhesive for electronic parts)
100 parts by weight of bisphenol A type epoxy (YL-980, manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent = 185 g / eq.) And 8 parts by weight of imidazole-based curing agent (TEP-2E4MZ, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) The mixture was stirred and mixed using a homodisper to prepare an adhesive for joining electronic components.
(評価)
実施例、比較例で得られた電子部品接合用接着剤について、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
(1)粘度上昇率
電子部品接合用接着剤について、23℃において、E型粘度計(商品名VISCOMETER TV−22、TOKI SANGYO CO.LTD社製、使用ローターφ15mm)を用いて初期粘度η0(Pa・s)及び調製後48時間経過時の粘度ηt(Pa・s)を測定した。そして、ηt/η0の値を粘度上昇率として評価した。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the adhesive agent for electronic component joining obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Table 1.
(1) For the viscosity increase the electronic component bonding adhesive, at 23 ° C., E-type viscometer (trade name VISCOMETER TV-22, TOKI SANGYO CO.LTD Co., using rotor 15 mm) initial viscosity using eta 0 ( Pa · s) and viscosity η t (Pa · s) after 48 hours from the preparation were measured. The value of η t / η 0 was evaluated as the rate of increase in viscosity.
(2)ゲル化時間の測定
電子部品接合用接着剤約0.1mLをホットプレート上に滴下し、予め150℃及び200℃の各温度に設定したホットプレート上で温めておいたガラスを上から押しつけた。そのガラスが外れなくなるまでの時間をゲル化時間として測定した。
(2) Measurement of gelation time About 0.1 mL of adhesive for bonding electronic parts is dropped on a hot plate, and the glass that has been heated on the hot plate set to 150 ° C. and 200 ° C. in advance is heated from above. Pressed. The time until the glass did not come off was measured as the gel time.
(3)200℃、5秒での硬化特性
10mm×10mm、厚さ80μmの半導体チップと、20mm×20mm、厚さ170μmの基板(大昌電子社製)との間に電子部品接合用接着剤を10μmの厚みに塗布した。澁谷工業社製フリップチップボンダーを使用し、ボンディング時の接着剤温度が200℃になるように設定し、5秒間加熱ボンディングして硬化可能かどうかを観察した。このとき、ステージ温度は80℃、ツール温度は220℃に設定し、コレットとしてはSiNのコレットを使用した。
硬化が完了した場合を「○」、硬化が未完了の場合を「×」として評価した。なお、この評価において、「硬化が完了」とはシェア強度が0.1N/mm以上であることを意味し、「硬化が未完了」とはシェア強度が0.1N/mm未満であることを意味する。
(3) Curing characteristics at 200 ° C. for 5 seconds 10 mm × 10 mm, 80 μm thick semiconductor chip and 20 mm × 20 mm, 170 μm thick substrate (manufactured by Daisho Electronics Co., Ltd.) It was applied to a thickness of 10 μm. Using a flip chip bonder manufactured by Sugaya Kogyo Co., Ltd., the adhesive temperature during bonding was set to 200 ° C., and it was observed whether it could be cured by heating bonding for 5 seconds. At this time, the stage temperature was set to 80 ° C., the tool temperature was set to 220 ° C., and a collet of SiN was used as the collet.
The case where the curing was completed was evaluated as “◯”, and the case where the curing was not completed was evaluated as “x”. In this evaluation, “curing is complete” means that the shear strength is 0.1 N / mm or more, and “hardening is not complete” means that the shear strength is less than 0.1 N / mm. means.
本発明によれば、結晶性が低く、速硬化性に優れたエピスルフィド化合物を提供することができる。 According to the present invention, an episulfide compound having low crystallinity and excellent quick curability can be provided.
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