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JP5464019B2 - Card, magnetic transfer sheet, and method of manufacturing magnetic transfer sheet - Google Patents

Card, magnetic transfer sheet, and method of manufacturing magnetic transfer sheet Download PDF

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JP5464019B2
JP5464019B2 JP2010087559A JP2010087559A JP5464019B2 JP 5464019 B2 JP5464019 B2 JP 5464019B2 JP 2010087559 A JP2010087559 A JP 2010087559A JP 2010087559 A JP2010087559 A JP 2010087559A JP 5464019 B2 JP5464019 B2 JP 5464019B2
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Description

本発明は、キャッシュカードやクレジットカード等の磁気テープ部を有するカードに係り、特には、これらカードに偽造防止効果を付与するための磁気転写シートの構造に関するものである。   The present invention relates to a card having a magnetic tape portion such as a cash card or a credit card, and more particularly to a structure of a magnetic transfer sheet for imparting a forgery preventing effect to these cards.

従来からカードや商品券等の有価証券類の偽造を防止するために、偽造が困難であり、かつ一瞥で真贋を判定可能なホログラムを初めとする光回折構造体を用いた偽造防止媒体が利用されてきた。近年では、パソコン部品や機器部品、スポーツ用品などの各種製品にも貼付され、真正品の証明と偽造防止対策として、広く利用されるようになってきている。   Conventionally, to prevent counterfeiting of securities such as cards and gift certificates, anti-counterfeiting media using light diffraction structures such as holograms that are difficult to counterfeit and that can be judged at a glance are used It has been. In recent years, it has been affixed to various products such as personal computer parts, equipment parts, and sporting goods, and has come to be widely used as a proof of authentic products and counterfeit prevention measures.

一方、磁気記録媒体として広く知られているものとして、クレジットカードやキャッシュカードなどのプラスチックカード等に使用されている磁気テープが挙げられる。これらカードも、改竄や偽造を防止する事が重要であり、前述したホログラムなどの光回折構造体が偽造防止策として貼付されてきた。   On the other hand, magnetic tapes that are widely used as magnetic recording media include magnetic tapes used for plastic cards such as credit cards and cash cards. In these cards, it is important to prevent tampering and counterfeiting, and the above-described optical diffractive structures such as holograms have been affixed to prevent counterfeiting.

しかしながら、これら磁気カードは形状が規格で決められており、限られたスペースの中で情報を表示する必要があり、用途や持ち主、有効期限などを表示しつつもカードとしての意匠性も必要とされている。それゆえ、偽造防止策であるホログラムを設けるにもスペース的に制約を受けてしまう。この問題を解決する手段として、磁気カードの磁気テープ部にホログラム等の光回折構造体を積層し一体とした磁気テープを用いたカードが知られている(例えば、特許文献1)。   However, the shape of these magnetic cards is determined by the standard, and it is necessary to display information in a limited space, and it is also necessary to design as a card while displaying the application, owner, expiration date, etc. Has been. Therefore, the provision of a hologram that is a forgery prevention measure is also limited in terms of space. As means for solving this problem, a card using a magnetic tape in which a light diffraction structure such as a hologram is laminated on a magnetic tape portion of a magnetic card is known (for example, Patent Document 1).

前述の光回折構造を有する媒体は、光の回折による色彩の変化を表現するために光の反射性の高い金属薄膜を用いた反射層を有している。この反射層は、金属であるがゆえに層全体が導電性を示す。そのため、カードが静電気を帯電した際に、この金属反射層を通じて、一瞬にしてカード全体の電荷を一点に放電するスパークを生じ、磁気データの読み取りや書き込みを不安定としたり、その装置を故障させるという問題が生じている。   The medium having the above-mentioned light diffraction structure has a reflective layer using a metal thin film having high light reflectivity in order to express a change in color due to light diffraction. Since the reflective layer is a metal, the entire layer exhibits conductivity. For this reason, when the card is charged with static electricity, a spark is generated through the metal reflection layer that instantly discharges the entire card to a single point. The problem has arisen.

近年では、反射性の金属薄膜層を部分的に設け、金属層の電気導電性を遮断し、これらの問題を解消する提案がなされている。代表的な手法としては
1)金属薄膜を海島状に設け、層全体では電気が導電しない状態とする、
2)金属微粒子を高分子樹脂に分散したインキを塗布し、反射層薄膜を設ける、
3)金属薄膜に印刷手法を用いてマスク層を設け、アルカリあるいは酸でエッチングして金属薄膜を部分的に設ける、等の手法が挙げられる(特許文献2)。
In recent years, proposals have been made to solve these problems by partially providing a reflective metal thin film layer to block the electrical conductivity of the metal layer. As a typical method, 1) a metal thin film is provided in a sea island shape, and electricity is not conducted in the entire layer.
2) Apply ink in which metal fine particles are dispersed in a polymer resin, and provide a reflective layer thin film.
3) A method of providing a mask layer on a metal thin film using a printing method, and partially providing the metal thin film by etching with an alkali or acid (Patent Document 2).

しかしながら、これらの手法に関しては以下の欠点が指摘される。
1)海島状の金属薄膜は、導電性が出ないように薄膜で設ける必要がある。それゆえ、光反射性が劣るとともに、その金属固有の色が出てしまい黒色にくすんだ画像となる。
2)金属粒子を分散したインキを用いた手法では、回折構造形成層と金属微粒子の間に高分子樹脂層が入りこむため、回折構造による画像の輝度感に劣る。また、金属粒子の形状が、そろっていないために、光を乱反射してしまい白く濁った画像になってしまう。
3)金属薄膜を部分的に設ける手法においては、印刷手法の限界がある。すなわち印刷法では大きな網点で印刷すると、反射層が分断されてしまい、回折構造の絵柄が分断されたように見えてしまう。一方、細かく印刷すればするほど、網点同士がつながり易くなるため、その占有面積(網点濃度)が小さくなってしまう。そのため、反射層部分が少なくな
り、回折構造の輝度感を損なう。
これらの中で3)の手法が最もくすみのない輝度感の高いものが得られるが、前述のように印刷手法を利用するため、その大きさと占有する面積(網点濃度)に限界がある。
However, the following drawbacks are pointed out with respect to these methods.
1) The sea-island-shaped metal thin film needs to be provided as a thin film so as not to have conductivity. Therefore, the light reflectivity is inferior, and the color unique to the metal appears, resulting in a blackish image.
2) In the method using the ink in which the metal particles are dispersed, the polymer resin layer enters between the diffraction structure forming layer and the metal fine particles, so that the image brightness due to the diffraction structure is inferior. Moreover, since the shape of the metal particles is not uniform, the light is irregularly reflected, resulting in a white and cloudy image.
3) There is a limit to the printing method in the method of partially providing the metal thin film. That is, when printing with a large halftone dot in the printing method, the reflective layer is divided, and the pattern of the diffractive structure appears to be divided. On the other hand, the more finely printed, the easier it is to connect halftone dots, and the occupied area (halftone dot density) becomes smaller. Therefore, the reflective layer portion is reduced, and the brightness of the diffractive structure is impaired.
Among these methods, the method 3) has the least dullness and high brightness. However, since the printing method is used as described above, the size and the area occupied (halftone dot density) are limited.

特開平6−167920号公報JP-A-6-167920 特開2008−15071号公報JP 2008-15071 A

本発明が解決しようとする課題は、静電気によるスパークを防止し、かつ従来の提案よりも輝度感の高い光回折構造を有するカード及び磁気転写シートとその製造方法を提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a card and a magnetic transfer sheet that have a light diffraction structure that prevents sparking due to static electricity and has a higher brightness than conventional proposals, and a method for manufacturing the same.

上記の課題を達成するための請求項1に記載の発明は、支持体上に、少なくとも磁気記録層と、その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する回折構造形成部と、保護層と、磁気記録層と第一の凹凸領域の間に光反射性金属薄膜と、を備えるカードであって、第二の凹凸領域のピッチと振幅とが第一の凹凸領域のピッチと振幅より大きく、第一の凹凸領域と光反射性金属薄膜が島状に形成されていることを特徴とするカードとしたものである。   The invention according to claim 1 for achieving the above-described object is characterized in that, on the support, at least a magnetic recording layer, and a diffractive structure forming portion having a first uneven region and a second uneven region on the surface, A card comprising a protective layer, a light-reflective metal thin film between the magnetic recording layer and the first concavo-convex region, wherein the pitch and amplitude of the second concavo-convex region are the pitch and amplitude of the first concavo-convex region. The card is characterized in that the first uneven region and the light-reflective metal thin film are formed in an island shape.

請求項2に記載の発明は、前記第一の凹凸領域のピッチに対する振幅の比が0.5以下で、前記第二の凹凸領域のピッチに対する振幅の比が0.8から2.0の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のカードとしたものである。   In the invention according to claim 2, the ratio of the amplitude to the pitch of the first uneven region is 0.5 or less, and the ratio of the amplitude to the pitch of the second uneven region is in the range of 0.8 to 2.0. The card according to claim 1, wherein the card is a card.

請求項3に記載の発明は、前記第一の凹凸領域と光反射性金属薄膜は、径が120μm以下で、ピッチが150μm以下の島状に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のカードとしたものである。   The invention according to claim 3 is characterized in that the first uneven region and the light reflective metal thin film are formed in an island shape having a diameter of 120 μm or less and a pitch of 150 μm or less. The card according to claim 2.

請求項4に記載の発明は、前記回折構造形成部における第の凹凸領域の占める割合が50%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のカードとしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the card according to any one of the first to third aspects, the proportion of the first uneven region in the diffractive structure forming portion is 50% or more. It is what.

請求項5に記載の発明は、支持体上に、少なくとも剥離保護層、光回折構造部、磁気記録層、接着層を積層した磁気転写シートであって、該光回折構造部が、その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する回折構造形成部、光反射性金属薄膜層、マスク薄膜層を積層してなり、さらに、前記第一の凹凸領域が、島状に形成されており、その島の径が120μm以下で、かつ島の面積の合計が該光回折構造部全体の領域面積に対し50%以上を占めることを特徴とする磁気転写シートとしたものである。   The invention according to claim 5 is a magnetic transfer sheet in which at least a peeling protective layer, a light diffraction structure portion, a magnetic recording layer, and an adhesive layer are laminated on a support, and the light diffraction structure portion is formed on the surface thereof. A diffractive structure forming portion having a first uneven area and a second uneven area, a light-reflective metal thin film layer, and a mask thin film layer are laminated, and the first uneven area is formed in an island shape. The island has a diameter of 120 μm or less, and the total area of the islands occupies 50% or more of the total area of the optical diffraction structure portion.

請求項6に記載の発明は、支持体上に、少なくとも、剥離保護層を形成する工程、
その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する光回折構造形成層を形成する工程、蒸着法又はスパッタリング法にて光反射性金属薄膜を形成する工程、蒸着法、スパッタリング法あるいはCVD法にてマスク層を形成する工程、第二の凹凸領域に設けられた光反射性金属薄膜とマスク層とをエッチングにより選択的に除去する工程、
磁気記録層を形成する工程、接着層を形成する工程、とを有することを特徴とする請求項5に記載の磁気転写シートの製造方法としたものである。
The invention according to claim 6 is a step of forming at least a release protective layer on the support,
A step of forming a light diffraction structure forming layer having a first uneven region and a second uneven region on its surface, a step of forming a light reflective metal thin film by a vapor deposition method or a sputtering method, a vapor deposition method, a sputtering method, or a CVD method; A step of forming a mask layer by a method, a step of selectively removing the light-reflective metal thin film and the mask layer provided in the second uneven region by etching,
The method for producing a magnetic transfer sheet according to claim 5, comprising a step of forming a magnetic recording layer and a step of forming an adhesive layer.

本発明によれば、スパークの発生がなく、同時に印刷手法の限界以上に微細かつ占有する面積(網点濃度)の高い反射層が設けられたもので、従来構成よりも輝度感の高い光回折構造付き磁気転写シートを提供できる。   According to the present invention, there is provided a reflective layer that is free from sparks and is finer than the limit of the printing method and has a high occupied area (halftone dot density). A structured magnetic transfer sheet can be provided.

本発明の光回折構造付き磁気転写シートを用いて作製された磁気テープを有するカードの一実施の形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of the card | curd which has a magnetic tape produced using the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of this invention. 本発明の光回折構造付き磁気転写シートにおける光回折構造部の一実施例を示す平面拡大図である。It is a plane enlarged view which shows one Example of the light diffraction structure part in the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of this invention. 本発明の光回折構造付き磁気転写シートの一実施の形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of this invention. (a)〜(d)は本発明の光回折構造付き磁気転写シートの製造方法を説明する断面視の工程図である。(A)-(d) is process drawing of the cross-sectional view explaining the manufacturing method of the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of this invention.

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は本発明の光回折構造付き磁気転写シートを用いて作製された磁気テープを有するカードの一実施例でありであり、図2には図1のAで示した領域の拡大図を示したものである。図3には本発明の光回折構造付き磁気転写シートの一実施例の断面を示した図であり、図2のB−B‘の位置に相当する部位の断面視図である。また、図4(a)〜(d)は製造方法を説明する工程図であり、以降、これらの図を用いて説明する。   FIG. 1 shows an embodiment of a card having a magnetic tape manufactured using the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of the present invention, and FIG. 2 shows an enlarged view of the region indicated by A in FIG. It is a thing. FIG. 3 is a view showing a cross section of one embodiment of the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of the present invention, and is a cross-sectional view of a portion corresponding to the position B-B ′ in FIG. 2. FIGS. 4A to 4D are process diagrams for explaining the manufacturing method, and will be described below with reference to these drawings.

まず基本となる構成を説明する。
基本となる磁気転写シートの構成は、支持体31に支持体31から剥がれかつ光回折構造体の保護膜となる剥離保護層32および光回折構造を形成する光回折構造形成層33、光回折構造の画像を効果的に見せる光反射性の高い反射層34、アルカリおよび酸に対する耐性が高いマスク層35、磁気情報記録を行う磁気記録層36、カード基材に接着させるために設ける接着層37を積層してなる。カードは、上記の磁気転写シートを接着層37を介してカード基材に接着し、支持体31を剥離して剥離保護層32を表面とした構成となる。
以降、各層に関して詳細に説明する。
First, the basic configuration will be described.
The basic structure of the magnetic transfer sheet includes a peeling protective layer 32 that peels from the support 31 and serves as a protective film for the light diffraction structure, a light diffraction structure forming layer 33 that forms a light diffraction structure, and a light diffraction structure. A reflective layer 34 having a high light reflectivity for effectively displaying the image of FIG. 1, a mask layer 35 having a high resistance to alkalis and acids, a magnetic recording layer 36 for recording magnetic information, and an adhesive layer 37 provided for adhering to a card substrate. Laminated. The card has a configuration in which the magnetic transfer sheet is bonded to a card substrate through an adhesive layer 37, the support 31 is peeled off, and the peeling protective layer 32 is the surface.
Hereinafter, each layer will be described in detail.

支持体31として使用される樹脂は、厚みが安定しており、且つ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、本発明はこれに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等が耐熱性の高いフィルムとして知られており、同様の目的で使用することが可能である。また、他のフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾燥条件が許せば使用可能である。   The resin used as the support 31 is generally a polyethylene terephthalate resin film having a stable thickness and high heat resistance, but the present invention is not limited to this. As other materials, polyethylene naphthalate resin films, polyimide resin films and the like are known as films having high heat resistance, and can be used for the same purpose. In addition, other films such as polyethylene, polypropylene, heat-resistant vinyl chloride and the like can be used as long as coating conditions for the coating liquid, more specifically, drying conditions permit.

また、転写条件等により剥離保護層32の剥離が困難である場合には、支持体31側に別途従来既知の離形層を設けても良く、剥離が軽すぎる場合には同様に従来既知の易接着処理を行って剥離性を調整しても良い。また、転写性に影響が無い限りは、帯電防止処理やマット加工、エンボス処理等の加工も可能である。   In addition, when it is difficult to peel off the peeling protective layer 32 due to transfer conditions or the like, a conventionally known release layer may be provided on the support 31 side. Easy peel processing may be performed to adjust the peelability. Further, as long as the transferability is not affected, processing such as antistatic treatment, mat processing, and emboss processing is possible.

剥離保護層32は、支持体31と剥がれる層であり、更には剥離した後に光回折構造層33の上を覆うように設けられ、機械的損傷や携帯時の擦り等の外部損傷、生活物質(酒、水等)に対する耐性等外的要因による損傷を保護する役目を兼ね備えている。   The peeling protection layer 32 is a layer that peels off from the support 31 and is further provided so as to cover the optical diffraction structure layer 33 after peeling. It also serves to protect damage caused by external factors such as resistance to alcohol and water.

剥離保護層32として用いられる材料としては、熱硬化系、湿気硬化系、紫外線硬化系
、電子線硬化系樹脂等が挙げられ、耐摩擦性を付与する目的で滑剤を20重量部まで添加することも可能である。
Examples of the material used as the peeling protection layer 32 include thermosetting, moisture curing, ultraviolet curing, and electron beam curing resins, and a lubricant is added up to 20 parts by weight for the purpose of imparting friction resistance. Is also possible.

光回折構造形成層33は、光の回折による色彩を発現する層であり、50nm〜2000nmの凹凸パターンをプレス版にて成形可能なことが要求され、その主となる材料は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂が挙げられ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等の紫外線あるいは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。   The light diffractive structure forming layer 33 is a layer that expresses a color due to light diffraction, and is required to be able to form a concavo-convex pattern of 50 nm to 2000 nm with a press plate. The main materials thereof are thermoplastic resin, heat Examples include curable resins, ultraviolet ray or electron beam curable resins, such as thermoplastic resins such as acrylic resins, epoxy resins, cellulose resins, and vinyl resins, acrylic polyols and polyester polyols having reactive hydroxyl groups, and the like. Polyisocyanate added as a crosslinking agent, urethane resin, thermosetting resin such as melamine resin and phenolic resin, UV or electron beam curable resin such as epoxy (meth) acryl and urethane (meth) acrylate, alone Or these can be combined and used.

この光回折構造形成層33には図4(a)に示した第一の領域11と第二の領域12に示した少なくとも2種類以上の凹凸形状を形成する必要がある。詳細は後述するが、第二の領域12部分に設けられた反射層およびマスク層は後の工程で除去され、最終的には第一の領域11の光回折構造部分の反射層34およびマスク層35が残り、図1に示したように光回折構造体1として観察される。   It is necessary to form at least two types of uneven shapes shown in the first region 11 and the second region 12 shown in FIG. Although details will be described later, the reflective layer and the mask layer provided in the second region 12 portion are removed in a later step, and finally, the reflective layer 34 and the mask layer in the light diffraction structure portion of the first region 11 are used. 35 remains and is observed as the light diffraction structure 1 as shown in FIG.

本発明においては、従来の印刷法以上に、細かな形状かつ大きな占有面積で第一の領域11が設けられることが特徴であり、通常使用されるグラビア印刷法の限界である120μm以下の形状かつ占有率50%以上で設けられる。さらに好ましくは30μm以下の形状かつ占有率80%以上で設けることで、全面に反射層34を設けた場合とほぼ同じ輝度感を得ることができる。
尚、占有率は光回折構造領域(第一および第二の領域)の総面積に対する第一の領域の占有する比率を示すものである。
The present invention is characterized in that the first region 11 is provided with a finer shape and a larger occupied area than the conventional printing method, and has a shape of 120 μm or less, which is a limit of a gravure printing method that is usually used. It is provided at an occupation rate of 50% or more. More preferably, by providing a shape of 30 μm or less and an occupation ratio of 80% or more, it is possible to obtain almost the same luminance as when the reflective layer 34 is provided on the entire surface.
The occupation ratio indicates the ratio of the first region to the total area of the light diffraction structure region (first and second regions).

また、第二の領域12は後の工程でその領域に積層した反射層34およびマスク層35が除去され易いように第一の領域11の形状よりも表面積がより大きく設ける必要がある。好ましくは第一の領域11の凹凸形状のピッチに対する深さの比が0.5以下であり、第二領域12のピッチ対する深さの比が0.8から2.0の範囲内で形成する。   Further, the second region 12 needs to have a larger surface area than the shape of the first region 11 so that the reflective layer 34 and the mask layer 35 laminated on the region in a later step can be easily removed. Preferably, the ratio of the depth of the first region 11 to the uneven pitch is 0.5 or less, and the ratio of the depth to the pitch of the second region 12 is in the range of 0.8 to 2.0. .

反射層34は、光回折構造形成層33に設けられた画像を効果的に認識させるための層であり、Al、Sn、Cr、Ni、Cu等の金属材料を、単独であるいは積層して使用でき、真空蒸着法、スパッタリング法等の薄膜形成手法にて30〜500nm程度の膜厚で図4(b)のように全面に設けられる。
ここで設定膜厚は第一の領域11に対応した部分での膜厚であり、表面積の大きな第二の領域12においては、第一の領域11よりも薄い膜厚となる。
The reflective layer 34 is a layer for effectively recognizing an image provided on the light diffraction structure forming layer 33, and a metal material such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu or the like is used alone or in a stacked manner. It can be provided on the entire surface as shown in FIG. 4B with a film thickness of about 30 to 500 nm by a thin film forming method such as vacuum deposition or sputtering.
Here, the set film thickness is a film thickness corresponding to the first region 11, and the second region 12 having a large surface area is thinner than the first region 11.

次いで、反射層34にマスク層35を形成する。マスク層は反射層で用いた材料よりも酸あるいはアルカリに耐性が高い材料が用いられ、具体的にはMgF、ZnS、ZnO、Sn、Ni、Ag、Au、MgO、TiO、MgO、SiO、Al等の無機物あるいは、分子量が1500以下の有機物を使用する。このような有機物としては、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート又は金属アルコキシドが挙げられ、これらの材料を真空蒸着法、スパッタリング法又はCVD法を用いて、0.3nmから100nmの範囲内で形成する(図4(c))。 Next, a mask layer 35 is formed on the reflective layer 34. The mask layer is made of a material that is more resistant to acid or alkali than the material used in the reflective layer, and specifically, MgF 2 , ZnS, ZnO, Sn, Ni, Ag, Au, MgO, TiO 2 , MgO, SiO 2 , inorganic substances such as Al 2 O 3 or organic substances having a molecular weight of 1500 or less are used. Examples of such organic substances include acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, and metal alkoxides, and these materials are formed within a range of 0.3 nm to 100 nm using a vacuum deposition method, a sputtering method, or a CVD method. (FIG. 4C).

つづいて、反射層34の材料を溶解可能なエッチング液に曝す。このエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液や塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用する。   Subsequently, the material of the reflective layer 34 is exposed to a dissolvable etching solution. As this etching solution, typically, an alkaline solution such as a sodium hydroxide solution, a sodium carbonate solution and a potassium hydroxide solution, or an acidic solution such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and acetic acid is used.

図4(c)に示すように、マスク層35のうち第一の領域11部分では連続膜を形成しているのに対し、第二の領域12では不連続膜を形成している。反射材料層34のうちマスク層35によって被覆されていない部分は、反射材料層34のうちマスク層35によって被覆された部分と比較して、エッチング液と接触し易いため、エッチングされ易くなっている。   As shown in FIG. 4C, a continuous film is formed in the first region 11 of the mask layer 35, whereas a discontinuous film is formed in the second region 12. The portion of the reflective material layer 34 that is not covered with the mask layer 35 is easier to be etched than the portion of the reflective material layer 34 that is covered with the mask layer 35 because it is more in contact with the etching solution. .

それゆえ、まずマスク層35を被覆していない反射材料層34がエッチングされ、時間が経つと、その部分からマスク層35を被覆されている部分へとエッチングが広がり、第二の領域12の反射層34がすべて除去される。一方、マスク層35が全面に被覆している第一の領域では、マスク層35が存在するためにエッチングが進まず残る。以上のようにエッチングが最適となるようにエッチング液濃度及び温度並びに処理時間等を調整することで図4(d)に示したように第一の領域11だけを残すことが可能である。   Therefore, the reflective material layer 34 that does not cover the mask layer 35 is first etched, and over time, the etching spreads from that portion to the portion that covers the mask layer 35, and the reflection of the second region 12. All of the layer 34 is removed. On the other hand, in the first region where the mask layer 35 covers the entire surface, the etching does not proceed because the mask layer 35 exists. As described above, it is possible to leave only the first region 11 as shown in FIG. 4D by adjusting the etching solution concentration, temperature, processing time, and the like so as to optimize the etching.

磁気記録層36は、γ−酸化鉄、マグネタイト、コバルト被着γFe、バリウムフェライト、2酸化クロム、鉄系メタル磁性粉などの磁性粉をバインダー中に分散して作製した磁性塗料を、コーティング法にて5〜20μm形成する。磁性塗料には、必要に応じて界面活性剤、可塑剤、ワックス、カーボンブラックやフィラー類を添加することもできる。 The magnetic recording layer 36 is a magnetic paint prepared by dispersing magnetic powder such as γ-iron oxide, magnetite, cobalt-coated γFe 2 O 2 , barium ferrite, chromium oxide, iron-based metal magnetic powder in a binder, 5 to 20 μm is formed by a coating method. Surfactants, plasticizers, waxes, carbon black and fillers can be added to the magnetic coating as necessary.

次に接着層37であるが、様々な被転写材(例えば、紙・プラスチック)に接した状態で熱および圧力を与えられることにより、被転写材に接着する機能を有する熱可塑性樹脂等の感熱性接着材料が使用され、定法のコーティング法によって1〜10μm程度形成される。   Next, the adhesive layer 37 is a heat sensitive material such as a thermoplastic resin having a function of adhering to the material to be transferred by being applied with heat and pressure in contact with various materials to be transferred (for example, paper / plastic). An adhesive material is used, and is formed to have a thickness of about 1 to 10 μm by a conventional coating method.

本発明を、具体的な実施例をあげて詳細に説明する。   The present invention will be described in detail with specific examples.

<実施例1>
まず、図3に示した本発明の光回折構造付き磁気転写シートを作製した。
厚み25μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムから成る支持体31に以下の手順にて、各層を設けた。
1)剥離保護層32をグラビア法にて1μm塗布。
2)光回折構造成型層32をグラビア法にて2μm塗布。
3)光回折構造である第一の領域11および第二の領域12の凹凸形状を面付けしたニッケル製のプレス版を用いて、ロールエンボス法にて成型加工した。
尚、プレス版は第一の領域での凹凸パターンのピッチを500nm、深さ100nm、第二の領域ではピッチ300nm、深さ300nmの凹凸形状で設けた。また、図2のように第一の領域を直径120μm円で10μm間隔(第二の領域部分)にて配置したものを用いた。
4)反射層34を真空蒸着法にて50nmのアルミニウムの金属薄膜を全面に形成。
5)マスク層35を真空蒸着法にて20nmのMgF2の薄膜を形成。
6)0.1Nアルカリ水溶液に浸漬し、第二の領域12の反射層が除去され、第一の領域11の反射層が残る状態(図7)となる時間で引き上げ、水で洗浄した。
7)磁気記録層36をマイクログラビア法にて8μm塗布。
8)感熱接着剤をグラビア法にて全面に2μm塗布し接着層37とした。
<Example 1>
First, the magnetic transfer sheet with a light diffraction structure of the present invention shown in FIG. 3 was produced.
Each layer was provided on a support 31 made of a transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 25 μm by the following procedure.
1) The peeling protective layer 32 is applied by 1 μm by a gravure method.
2) 2 μm of light diffraction structure molding layer 32 is applied by gravure method.
3) Using a press plate made of nickel on which the concave and convex shapes of the first region 11 and the second region 12 which are light diffractive structures were imprinted, it was molded by a roll embossing method.
The press plate was provided with a concavo-convex shape having a concavo-convex pattern pitch of 500 nm and a depth of 100 nm in the first region, and a pitch of 300 nm and a depth of 300 nm in the second region. In addition, as shown in FIG. 2, a first region having a diameter of 120 μm and an interval of 10 μm (second region portion) was used.
4) A 50 nm aluminum metal thin film is formed on the entire surface of the reflective layer 34 by vacuum deposition.
5) A 20 nm MgF2 thin film is formed as the mask layer 35 by vacuum deposition.
6) It was immersed in a 0.1N aqueous alkali solution, the reflective layer in the second region 12 was removed, and the reflective layer in the first region 11 was left in a state (FIG. 7), and was washed with water.
7) 8 μm of magnetic recording layer 36 is applied by microgravure method.
8) 2 μm of heat-sensitive adhesive was applied to the entire surface by a gravure method to form an adhesive layer 37.

以下には、用いた材料の組成を示した。   The composition of the materials used is shown below.

[剥離保護層塗料]
アクリル樹脂 15部
ポリエチレンWAX 1部
メチルエチルケトン 50部
トルエン 34部
[Peeling protective coating]
Acrylic resin 15 parts Polyethylene WAX 1 part Methyl ethyl ketone 50 parts Toluene 34 parts

[光回折構造成型層塗料]
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 15部
ウレタン樹脂 10部
メチルエチルケトン 50部
トルエン 25部
[Light diffraction structure molding layer paint]
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 15 parts Urethane resin 10 parts Methyl ethyl ketone 50 parts Toluene 25 parts

[磁気記録層塗料]
γFe2O3磁性粉 30部
塩酢ビ共重合体 3部
ポリウレタンエラストマー 20部
メチルエチルケトン 15部
トルエン 15部
[Magnetic recording layer paint]
γFe2O3 magnetic powder 30 parts Vinyl acetate copolymer 3 parts Polyurethane elastomer 20 parts Methyl ethyl ketone 15 parts Toluene 15 parts

[接着層塗料]
ポリエステル樹脂 20部
酢酸エチル 60部
酢酸ブチル 20部
[Adhesive layer paint]
Polyester resin 20 parts Ethyl acetate 60 parts Butyl acetate 20 parts

(比較例)
比較例として実施例の材料を用いてグラビア印刷法を利用し、部分的に反射層34を有する光回折構造付き磁気転写シートを作製した。
1)剥離保護層32をグラビア法にて1μm塗布。
2)光回折構造成型層32をグラビア法にて2μm塗布。
3)光回折構造である第一の領域同一形状の凹凸パターンを全面に成型した。
4)反射層34を真空蒸着法にて50nmのアルミニウムの金属薄膜を全面に形成。
5)耐エッチング用のマスク層としてグラビア法にて1μm形成した。
検討したパターンを下記に示した。
6)0.1Nアルカリ水溶液に浸漬し、マスク層のない部分のアルミニウムを溶解した。7)磁気記録層36をマイクログラビア法にて8μm塗布。
8)感熱接着剤をグラビア法にて全面に塗布。
(Comparative example)
As a comparative example, a gravure printing method was used using the material of the example, and a magnetic transfer sheet with a light diffraction structure partially having a reflective layer 34 was produced.
1) The peeling protective layer 32 is applied by 1 μm by a gravure method.
2) 2 μm of light diffraction structure molding layer 32 is applied by gravure method.
3) The first region having the same structure as the light diffraction structure was molded on the entire surface.
4) A 50 nm aluminum metal thin film is formed on the entire surface of the reflective layer 34 by vacuum deposition.
5) As a mask layer for etching resistance, 1 μm was formed by a gravure method.
The examined patterns are shown below.
6) It was immersed in a 0.1N aqueous alkali solution to dissolve aluminum in a portion without a mask layer. 7) 8 μm of magnetic recording layer 36 is applied by microgravure method.
8) Apply heat sensitive adhesive to the whole surface by gravure method.

[マスクパターン]
(1)直径120μm円でピッチ130μm
(2)直径120μm円でピッチ150μm
(3)直径120μm円でピッチ170μm。
[Mask pattern]
(1) 120 μm diameter circle with a pitch of 130 μm
(2) Diameter of 120 μm and pitch of 150 μm
(3) A diameter of 120 μm and a pitch of 170 μm.

[マスク層インキ組成物]
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体 20部
沈降性硫酸バリウム(比重5.5) 10部
メチルエチルケトン 40部
トルエン 30部
[Mask layer ink composition]
Vinyl chloride vinyl acetate copolymer 20 parts Precipitated barium sulfate (specific gravity 5.5) 10 parts Methyl ethyl ketone 40 parts Toluene 30 parts

以上の手法にて得られた転写シートを用いて、加熱押圧にて基材となる塩化ビニル製カードに接着させ、PETフィルムを剥がし、図1のように部分的に本発明の光回折構造付き磁気転写シートを用いて磁気記録層を形成したカードを作製した。   Using the transfer sheet obtained by the above method, it is bonded to a card made of vinyl chloride as a base material by heating and pressing, and the PET film is peeled off, and partially with the light diffraction structure of the present invention as shown in FIG. A card having a magnetic recording layer formed thereon using a magnetic transfer sheet was produced.

以上の得られたカードの評価結果表1に示した。
評価としては外観観察による輝度感と静電気によってスパークを生じるか否かの確認を行った。
The evaluation results of the obtained card are shown in Table 1.
As an evaluation, it was confirmed whether or not a spark was generated due to luminance and static electricity by appearance observation.

Figure 0005464019
Figure 0005464019

表より、比較例(1)および(2)ではスパークを生じてしまう。これらを拡大し観察すると、120μmであるはずのパターンが塗料のレべリングために部分的につながっており、反射層が通電する構造となっていた。一方、比較例(3)においてはスパークが観察されなかったが、反射層の面積が小さく輝度感の低いものであった。これらに対し、本発明の実施例では十分に大きな占有面積でかつ細かな間隔で反射層領域を制御可能であるため、スパークを生じず、かつ輝度感の高い光回折構造体が得られた。   From the table, sparks are produced in Comparative Examples (1) and (2). When these were magnified and observed, the pattern that should be 120 μm was partially connected to level the paint, and the reflective layer was energized. On the other hand, in the comparative example (3), no spark was observed, but the area of the reflective layer was small and the luminance was low. On the other hand, in the example of the present invention, since the reflective layer region can be controlled with a sufficiently large occupied area and with a fine interval, a light diffraction structure with high brightness and no spark is obtained.

本発明の光回折構造付き磁気転写シートは、キャシュカード、クレジットカード、通帳等の磁気情報記録媒体に利用可能であり、静電気による不具合を防止した光回折構造を付与することができる。   The magnetic transfer sheet with a light diffractive structure of the present invention can be used for magnetic information recording media such as a cash card, a credit card, a passbook, etc., and can be provided with a light diffractive structure that prevents problems caused by static electricity.

1 光回折構造付き磁気テープとカード
11 第一の凹凸領域
12 第二の凹凸領域
31 支持体
32 剥離保護層
33 光回折構造形成層
34 反射層
35 マスク層
36 磁気記録層
37 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic tape and card | curd with a light diffraction structure 11 1st uneven | corrugated area | region 12 2nd uneven | corrugated area | region 31 Support body 32 Peeling protective layer 33 Light diffraction structure formation layer 34 Reflective layer
35 Mask layer 36 Magnetic recording layer 37 Adhesive layer

Claims (6)

支持体上に、少なくとも磁気記録層と、
その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する回折構造形成部と、
保護層と、
磁気記録層と第一の凹凸領域の間に光反射性金属薄膜と、を備えるカードであって、
第二の凹凸領域のピッチと振幅とが第一の凹凸領域のピッチと振幅より大きく、
第一の凹凸領域と光反射性金属薄膜が島状に形成されていることを特徴とするカード。
On the support, at least a magnetic recording layer,
A diffractive structure forming portion having a first uneven region and a second uneven region on the surface;
A protective layer;
A card comprising a light-reflective metal thin film between the magnetic recording layer and the first uneven region,
The pitch and amplitude of the second uneven area are larger than the pitch and amplitude of the first uneven area,
A card, wherein the first uneven region and the light-reflective metal thin film are formed in an island shape.
前記第一の凹凸領域のピッチに対する振幅の比が0.5以下で、前記第二の凹凸領域のピッチに対する振幅の比が0.8から2.0の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のカード。   The ratio of the amplitude with respect to the pitch of the first uneven area is 0.5 or less, and the ratio of the amplitude with respect to the pitch of the second uneven area is in the range of 0.8 to 2.0. 1. The card according to 1. 前記第一の凹凸領域と光反射性金属薄膜は、径が120μm以下で、ピッチが150μm以下の島状に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のカード。   3. The card according to claim 1, wherein the first uneven region and the light reflective metal thin film are formed in an island shape having a diameter of 120 μm or less and a pitch of 150 μm or less. 前記回折構造形成部における第の凹凸領域の占める割合が50%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のカード。 The card according to any one of claims 1 to 3, wherein a ratio of the first uneven region in the diffraction structure forming portion is 50% or more. 支持体上に、少なくとも剥離保護層、光回折構造部、磁気記録層、接着層を積層した磁気転写シートであって、該光回折構造部が、その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する回折構造形成部、光反射性金属薄膜層、マスク薄膜層を積層してなり、さらに、前記第一の凹凸領域および光反射性金属薄膜層が、島状に形成されており、その島の径が120μm以下で、かつ島の面積の合計が該光回折構造部全体の面積に対し50%以上を占有することを特徴とする磁気転写シート。   A magnetic transfer sheet in which at least a peeling protective layer, a light diffraction structure, a magnetic recording layer, and an adhesive layer are laminated on a support, the light diffraction structure having a first uneven region and a second on the surface. A diffractive structure forming part having a concavo-convex region, a light reflective metal thin film layer, a mask thin film layer are laminated, and the first concavo-convex region and the light reflective metal thin film layer are formed in an island shape, A magnetic transfer sheet characterized in that the diameter of the island is 120 μm or less and the total area of the island occupies 50% or more of the total area of the light diffraction structure. 支持体上に、少なくとも、
剥離保護層を形成する工程、
その表面に第一の凹凸領域と第二の凹凸領域を有する光回折構造形成層を形成する工程、
蒸着法又はスパッタリング法にて光反射性金属薄膜を形成する工程、
蒸着法、スパッタリング法あるいはCVD法にてマスク層を形成する工程、
第二の凹凸領域に設けられた光反射性金属薄膜とマスク層とをエッチングにより選択的に
除去する工程、
磁気記録層を形成する工程、
接着層を形成する工程、とを有することを特徴とする請求項5に記載の磁気転写シートの
製造方法。
On the support, at least,
Forming a release protective layer;
Forming an optical diffraction structure forming layer having a first uneven region and a second uneven region on the surface;
Forming a light reflective metal thin film by vapor deposition or sputtering;
A step of forming a mask layer by vapor deposition, sputtering or CVD,
A step of selectively removing the light-reflective metal thin film and the mask layer provided in the second uneven region by etching;
Forming a magnetic recording layer;
The method for producing a magnetic transfer sheet according to claim 5, further comprising a step of forming an adhesive layer.
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