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JP5327053B2 - Film optical waveguide - Google Patents

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JP5327053B2 JP2009543775A JP2009543775A JP5327053B2 JP 5327053 B2 JP5327053 B2 JP 5327053B2 JP 2009543775 A JP2009543775 A JP 2009543775A JP 2009543775 A JP2009543775 A JP 2009543775A JP 5327053 B2 JP5327053 B2 JP 5327053B2
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Abstract

Disclosed is a film-shaped optical waveguide having excellent bending durability and transparency. Specifically disclosed is a film-shaped optical waveguide (1) comprising a lower cladding layer (15), a core portion (22), an intermediate cladding layer (36) and an upper cladding layer (33). The lower cladding layer (15) and the upper cladding layer (33) are made of a cured product of a photocurable resin composition which contains, when the solid content of the photocurable resin composition is taken as 100% by mass, 30-80% by mass of a urethane (meth)acrylate oligomer (A), 15-69% by mass of a reactive diluted monomer (B) and 0.1-10% by mass of a photopolymerization initiator (C). The intermediate cladding layer (36) is made of a cured product of a photocurable resin composition which contains, when the solid content of the photocurable resin composition is taken as 100% by mass, 5-80% by mass of a urethane (meth)acrylate oligomer (a), 1-40% by mass of a reactive diluted monomer (b), 0.1-10% by mass of a photopolymerization initiator (c) and 15-75% by mass of a vinyl polymer (d) having an ethylenically unsaturated group.

Description

本発明は、フィルム状光導波路に関する。 The present invention relates to a film-shaped optical waveguide.

マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路としては、石英系光導波路が代表的であった。しかし、石英系光導波路は、製造時に石英膜の堆積のために高温での長時間の処理が必要であるなど、製造時間が長いこと、光導波路のパターン形成には、光レジストを用いる工程と、危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれ、かつ、それらの工程に特殊な装置を必要とするなど、多数の複雑な工程及び特殊な装置を要すること、及び、歩留まりが低いこと等の問題がある。 これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている。 一例として、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリイミドを構成要素とするポリイミド系光導波路において、該ポリイミドが特定の構造式で表されるフッ素化ジアミン若しくはそれを含むジアミンからのポリイミド、又はその混合物であることを特徴とするポリイミド系光導波路が提案されている(特許文献1)。 このポリイミド系光導波路は、良好な伝送特性(低導波路損失)を有し、優れた耐熱性を有するものである。 また他の例として、(A)ウレタン結合を介在させて結合された、ラジカル重合性反応基を含む側鎖部分を有する構成単位と、重合性を有しない側鎖を有する構成単位とを含む共重合体、(B)分子内に1個以上のエチレン性不飽和基を有し、分子量が1,000未満であり、0.1MPaにおける沸点が130℃以上である化合物、及び(C)光ラジカル重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている(特許文献2)。 この感光性樹脂組成物によると、形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性の低下を抑えた光導波路を形成することができる。
特開平4−9807号公報 特開2006−146162号公報
In the multimedia era, optical waveguides are attracting attention as optical transmission media because of the demand for large capacity and high speed information processing in optical communication systems and computers. A typical example of a conventional optical waveguide is a silica-based optical waveguide. However, silica-based optical waveguides require a long process time at a high temperature for the deposition of a quartz film at the time of manufacture. Etching with a high-risk gas is included, and special processes are required for these processes. Many complicated processes and special apparatuses are required, and the yield is low. There are problems such as. In order to improve these problems, a liquid curable composition is used as a material for the core portion and the cladding layer for the purpose of improving productivity such as reduction in the number of steps of the optical waveguide, shortening of manufacturing time, and increase in yield. A polymer-based optical waveguide to be used has recently been proposed. As an example, in a polyimide-based optical waveguide whose component is a polyimide obtained from tetracarboxylic dianhydride and diamine, the polyimide is a fluorinated diamine represented by a specific structural formula or a polyimide from a diamine containing the same, or A polyimide optical waveguide characterized by being a mixture thereof has been proposed (Patent Document 1). This polyimide optical waveguide has good transmission characteristics (low waveguide loss) and has excellent heat resistance. As another example, (A) a copolymer containing a structural unit having a side chain portion containing a radically polymerizable reactive group bonded via a urethane bond and a structural unit having a side chain that is not polymerizable. A polymer, (B) a compound having one or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, a molecular weight of less than 1,000, and a boiling point of 130 ° C. or higher at 0.1 MPa, and (C) a photoradical A photosensitive resin composition for an optical waveguide containing a polymerization initiator has been proposed (Patent Document 2). According to this photosensitive resin composition, it is possible to form an optical waveguide having high shape accuracy and suppressing deterioration in transmission characteristics under high temperature and high humidity.
Japanese Patent Laid-Open No. 4-9807 JP 2006-146162 A

従来の光導波路では、フィルム状の硬化物(フィルム状光導波路)の状態で、繰り返し屈曲させると、破断やクラックを生じ、良好な伝送特性を維持できないという問題がある。 一方、フィルム状光導波路の下面に、発光素子等の他の部材を固着させる際に、フィルム状光導波路を上方から透視して位置合わせをすることから、フィルム状光導波路は、高い透明性を有することが望まれている。 そこで、本発明は、屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供することを目的とする。 The conventional optical waveguide has a problem that when it is repeatedly bent in the state of a film-like cured product (film-shaped optical waveguide), breakage or cracks occur, and good transmission characteristics cannot be maintained. On the other hand, when another member such as a light-emitting element is fixed to the lower surface of the film-shaped optical waveguide, the film-shaped optical waveguide is highly transparent because the film-shaped optical waveguide is seen through from above and aligned. It is desirable to have. Then, an object of this invention is to provide the film-form optical waveguide excellent in bending durability and transparency.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含み、前記下部クラッド層、中間クラッド層、及び上部クラッド層が、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるフィルム状光導波路によれば、本発明の上記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventor includes a lower cladding layer, a core portion, an intermediate cladding layer, and an upper cladding layer, and the lower cladding layer, the intermediate cladding layer, and the upper cladding layer. It has been found that the above-mentioned object of the present invention can be achieved according to a film-shaped optical waveguide comprising a cured product of a photo-curable resin composition having a specific component composition.

すなわち、本発明は以下の[1]〜[]を提供するものである。
[1] 下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、(A)(A−1)ポリオール化合物、(A−2)ポリイソシアネート化合物、及び(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを、成分(A)全量中に50質量%以上の配合割合で含むウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー30〜80質量%、(B)反応性希釈モノマー15〜69質量%、及び(C)光重合開始剤0.1〜10質量%、を含み、かつ、(E)エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマーを含まないか、または、10質量%以下の配合割合で含む、クラッド層用光硬化性樹脂組成物(ただし、成分(A)〜(C)、及び(E)の各配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%とした場合の値である。)の硬化物からなり、前記中間クラッド層が、(a)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー5〜80質量%、(b)反応性希釈モノマー1〜40質量%、(c)光重合開始剤0.1〜10質量%、及び(e)エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー15〜75質量%を含む中間層用光硬化性樹脂組成物(ただし、成分(a)〜(c)、及び(e)の各配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%とした場合の値である。)の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
] (A−1)ポリオール化合物が、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる1種以上である前記[]に記載のフィルム状光導波路。
That is, the present invention provides the following [1] to [ 2 ].
[1] A film-shaped optical waveguide including a lower cladding layer, a core portion, an intermediate cladding layer, and an upper cladding layer, wherein the lower cladding layer and the upper cladding layer are: (A) (A-1) polyol Compound (A-2) Polyisocyanate compound, and (A-3) Urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of hydroxyl group-containing (meth) acrylate, 50% by mass or more in the total amount of component (A) 30 to 80% by mass of urethane (meth) acrylate oligomer contained in a proportion , (B) 15 to 69% by mass of a reactive dilution monomer , and (C) 0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator , and ( E) A photocurable resin composition for a clad layer which does not contain a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group or contains a blending ratio of 10% by mass or less (however, the composition Each blending ratio of the components (A) to (C) and (E) is a value obtained when the total solid content of the photocurable resin composition for the clad layer is 100% by mass.) The intermediate clad layer comprises: (a) 5 to 80% by mass of urethane (meth) acrylate oligomer, (b) 1 to 40% by mass of reactive dilution monomer, and (c) 0.1 to 10% by mass of photopolymerization initiator. And (e) a photocurable resin composition for an intermediate layer containing 15 to 75% by mass of a vinyl-based polymer having an ethylenically unsaturated group (however, each of the components (a) to (c) and (e) The ratio is a value when the total amount of the solid content of the photocurable resin composition for the intermediate layer is 100% by mass.) A film-like optical waveguide comprising a cured product.
[ 2 ] (A-1) The film form according to [ 1 ], wherein the polyol compound is at least one selected from the group consisting of aliphatic polyether polyols, aromatic polyether polyols, polyester polyols, and polycarbonate polyols. Optical waveguide.

本発明のフィルム状光導波路は、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物からなる下部クラッド層、中間クラッド層及び上部クラッド層を備えているため、繰り返しの屈曲に対しても破断やクラックを生じることがなく、良好な伝送特性を維持することができる。 また、本発明のフィルム状光導波路は、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物からなるクラッド層が高い透明性を有するため、フィルム状光導波路と発光素子等の他の部材とを固着させる際に、フィルム状光導波路を透視して、容易かつ正確に位置合わせを行なうことができる。 The film-shaped optical waveguide of the present invention includes a lower clad layer, an intermediate clad layer, and an upper clad layer made of a photocurable resin composition having a specific component composition. And good transmission characteristics can be maintained. In addition, the film-shaped optical waveguide of the present invention has a highly transparent clad layer made of a photocurable resin composition having a specific component composition, so that the film-shaped optical waveguide and other members such as light-emitting elements are fixed to each other. In doing so, the film-like optical waveguide can be seen through, and alignment can be performed easily and accurately.

本発明のフィルム状光導波路は、下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含み、前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物(クラッド層用光硬化性樹脂組成物ともいう。)の硬化物からなり、かつ、前記中間クラッド層が、前記クラッド層用光硬化性樹脂組成物とは異なる、特定の成分組成を有する光硬化性樹脂組成物(中間層用光硬化性樹脂組成物ともいう。)の硬化物からなるものである。 まず、クラッド層用光硬化性樹脂組成物について説明する。 The film-shaped optical waveguide of the present invention includes a lower clad layer, a core portion, an intermediate clad layer, and an upper clad layer, and the lower clad layer and the upper clad layer have a specific component composition. It consists of hardened | cured material of a composition (it is also called the photocurable resin composition for clad layers), and the said intermediate | middle clad layer has a specific component composition different from the said photocurable resin composition for clad layers. It consists of the hardened | cured material of a photocurable resin composition (it is also called the photocurable resin composition for intermediate | middle layers). First, the photocurable resin composition for cladding layers will be described.

クラッド層用光硬化性樹脂組成物は、成分(A)〜(C)、及び必要に応じて配合される他の成分を含む。以下、各成分ごとに詳述する。
[成分(A)]
成分(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
成分(A)として用いられるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは(A−1)ポリオール化合物、(A−2)ポリイソシアネート化合物、及び(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させることにより製造される。
具体的には、以下の製法1〜製法4のいずれかの方法で製造される。
製法1:ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法2:ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
製法3:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法4:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させる方法。
The photocurable resin composition for clad layers contains components (A) to (C) and other components blended as necessary. Hereinafter, each component will be described in detail.
[Component (A)]
Component (A) is a urethane (meth) acrylate oligomer.
Urethane (meth) acrylate oligomer used as the component (A) is prepared by reacting (A-1) a polyol compound, (A-2) a polyisocyanate compound, and (A-3) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate Is done.
Specifically, it is produced by any one of the following production methods 1 to 4.
Production method 1: A method in which a polyol compound, a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged and reacted together.
Production method 2: A method in which a polyol compound and a polyisocyanate compound are reacted and then a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is reacted.
Production method 3: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, and then a polyol compound is reacted.
Production Method 4: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, then a polyol compound is reacted, and finally, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound is reacted again.

以下、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの製造に用いられる(A−1)ポリオール化合物、(A−2)ポリイソシアネート化合物、(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートについて詳しく説明する。[(A−1)ポリオール化合物] (A−1)ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。 脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも1種の化合物を開環(共)重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、1,2−ポリプロピレングリコール、1,3−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと1,2−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。 脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。 Hereinafter, the (A-1) polyol compound, (A-2) polyisocyanate compound, and (A-3) hydroxyl group-containing (meth) acrylate used for the production of the urethane (meth) acrylate oligomer will be described in detail. [(A-1) Polyol Compound] (A-1) Examples of the polyol compound include aliphatic polyether polyols, alicyclic polyether polyols, aromatic polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, and polycaprolactone polyols. It is done. Examples of the aliphatic polyether polyol include at least one selected from ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, substituted tetrahydrofuran, oxetane, substituted oxetane, tetrahydropyran, and oxeban. Examples thereof include those obtained by ring-opening (co) polymerizing a compound. Specific examples thereof include polyethylene glycol, 1,2-polypropylene glycol, 1,3-polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, polyisobutylene glycol, copolymer polyol of propylene oxide and tetrahydrofuran. Copolymer polyols of ethylene oxide and tetrahydrofuran, copolymer polyols of ethylene oxide and propylene oxide, copolymer polyols of tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, copolymer polyols of ethylene oxide and 1,2-butylene oxide, etc. Can be mentioned. Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A ethylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A propylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A butylene oxide addition diol, and hydrogenated bisphenol F ethylene oxide addition diol. And propylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, butylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, dimethylol compound of dicyclopentadiene, tricyclodecane dimethanol and the like.

脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニセーフDC1100、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800(以上、日本油脂社製);PPTG4000、PPTG2000、PPTG1000、PTG2000、PTG30
00、PTG650、PTGL2000、PTGL1000(以上、保土谷化学社製);EXENOL4020、EXENOL3020、EXENOL2020、EXENOL1020(以上、旭硝子社製);PBG3000、PBG2000、PBG1000、Z3001(以上、第一工業製薬社製);ACCLAIM 2200、3201、4200、6300、8200(以上、住化バイエルウレタン社製);NPML−2002、3002、4002、8002(以上、旭硝子社製)等が挙げられる。
Commercial products of aliphatic polyether polyol and alicyclic polyether polyol include Unisafe DC1100, Unisafe DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 (manufactured by NOF Corporation); PPTG4000, PPTG2000, PPTG1000, PTG2000, PTG30
00, PTG650, PTGL2000, PTGL1000 (above, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.); Examples include ACCLAIM 2200, 3201, 4200, 6300, 8200 (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.); NPML-2002, 3002, 4002, 8002 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).

芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニオールDA400、DA700、DA1000(以上、日本油脂社製)等が挙げられる。 ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸を反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールP−2030、P−1030、P−2010、P−5010、P−2050、F−2010、P−2011、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、クラレ社製)等が挙げられる。 Examples of the aromatic polyether polyol include bisphenol A ethylene oxide addition diol, bisphenol A propylene oxide addition diol, bisphenol A butylene oxide addition diol, bisphenol F ethylene oxide addition diol, bisphenol F propylene oxide addition diol, Examples include butylphenol addition diol of bisphenol F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthoquinone, and the like. Examples of commercially available aromatic polyether polyols include Uniol DA400, DA700, DA1000 (manufactured by NOF Corporation) and the like. Examples of the polyester polyol include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 3-methyl. Polyhydric alcohols such as -1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, Examples thereof include polyester polyols obtained by reacting polybasic acids such as sebacic acid. Commercially available products include Kurapol P-2030, P-1030, P-2010, P-5010, P-2050, F-2010, P-2011, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000 (above, Kuraray Co., Ltd.).

ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオールポリカーボネート、1,6−ヘキサンジオールと1,5−ペンタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、1,3−プロパンジオールと1,4−ブタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール等が挙げられる。市販品としてはPCDL T5652、G3452、G3450J(旭化成社製);DN−980、981、982、983(以上、日本ポリウレタン社製);クラレポリオールC−590、C1050、C−1090、C−2050、C−2090、C−3090、C−5090、C−1065N、C−2065N、C−1015N、C−2015N(以上、クラレ社製);PLACCEL−CD205、CD−983、CD220(以上、ダイセル化学工業社製);PC−8000(米国PPG社製)等が挙げられる。 ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、PLACCCEL205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業社製)等が挙げられる。 本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。 中でも、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールが好ましく、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールがより好ましい。 (A−1)ポリオール化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。 (A−1)ポリオール化合物は、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましく、ポリエステルポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールであることがより好ましい。 Examples of the polycarbonate polyol include 1,6-hexanediol polycarbonate, copolymerized polycarbonate diol of 1,6-hexanediol and 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol and 1,6-hexane. Examples thereof include a copolymer polycarbonate diol with hexanediol, a copolymer polycarbonate diol with 1,3-propanediol and 1,4-butanediol, and the like. Commercially available products include PCDL T5652, G3452, G3450J (Asahi Kasei Co., Ltd.); DN-980, 981, 982, 983 (Nippon Polyurethane Co., Ltd.); Kuraray polyol C-590, C1050, C-1090, C-2050, C-2090, C-3090, C-5090, C-1065N, C-2065N, C-1015N, C-2015N (above, manufactured by Kuraray); PLACEL-CD205, CD-983, CD220 (above, Daicel Chemical Industries) PC-8000 (manufactured by PPG, USA) and the like. As polycaprolactone polyol, ε-caprolactone, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol Polycaprolactone diol obtained by reacting with diols such as 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol. As a commercial item, PLACC CEL205,205AL, 212,212AL, 220,220AL (above, Daicel Chemical Industries Ltd. make) etc. are mentioned. Other polyol compounds that can be used in the present invention include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedi Examples include methanol, poly β-methyl-δ-valerolactone, hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, castor oil-modified polyol, polydimethylsiloxane-terminated diol compound, and polydimethylsiloxane carbitol-modified polyol. Among these, aliphatic polyether polyol, aromatic polyether polyol, polyester polyol, and polycarbonate polyol are preferable, and polyester polyol and polycarbonate polyol are more preferable. (A-1) A polyol compound may be used independently or may use 2 or more types together. (A-1) The polyol compound is preferably at least one selected from the group consisting of an aliphatic polyether polyol, an aromatic polyether polyol, a polyester polyol, and a polycarbonate polyol, and is a polyester polyol and / or a polycarbonate polyol. More preferably.

(A−1)ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは100〜15,000、さらに好ましくは1,000〜14,000、最も好ましくは1,500〜12,000である。(A−1)ポリオール化合物の数平均分子量が100未満であると、組成物を硬化させてなるクラッド層(下部クラッド層及び上部クラッド層)の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を得ることができない。一方、数平均分子量が15,000を超えると、組成物の粘度が上昇し、塗布性が悪化することがある。 (A-1) The number average molecular weight of the polyol compound is preferably 100 to 15,000, more preferably 1,000 to 14,000, and most preferably 1,500 to 12,000. (A-1) When the number average molecular weight of the polyol compound is less than 100, the Young's modulus at room temperature and low temperature of the clad layer (lower clad layer and upper clad layer) obtained by curing the composition is increased, and sufficient. A film-like optical waveguide having bending durability cannot be obtained. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 15,000, the viscosity of the composition increases, and the applicability may deteriorate.

[(A−2)ポリイソシアネート化合物] (A−2)ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。(A−2)ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。 [(A-2) Polyisocyanate Compound] (A-2) As the polyisocyanate compound, for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4 -Xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'- Dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) ), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-hexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, And polyisocyanate compounds such as hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and tetramethylxylylene diisocyanate. Of these, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and the like are preferable. (A-2) A polyisocyanate compound may be used independently or may use 2 or more types together.

[(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレート] (A−3)水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等は、好ましく用いられる。 (A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。 [(A-3) Hydroxyl group-containing (meth) acrylate] (A-3) Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) Acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethane di (meth) acrylate, pentaerythritol (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate. Furthermore, the compound obtained by addition reaction of glycidyl group containing compounds, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid is mentioned. Of these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like are preferably used. (A-3) The hydroxyl group-containing (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more.

(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレート1モルに対して、(A−1)ポリオール化合物0.5〜2モル、(A−2)ポリイソシアネート化合物1〜2.5モルである。 (A) The compounding ratio of each raw material which comprises a urethane (meth) acrylate oligomer is (A-1) polyol compound 0.5-2 with respect to 1 mol of (A-3) hydroxyl-containing (meth) acrylate, for example. Mol, (A-2) 1 to 2.5 mol of a polyisocyanate compound.

成分(A)としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
成分(A)は、屈曲耐久性の観点から、(A−1)ポリオール化合物と(A−2)ポリイソシアネート化合物と(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含む
成分(A)中の、(A−1)ポリオール化合物と(A−2)ポリイソシアネート化合物と(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの割合は、成分(A)を100質量%としたときに50質量%以上好ましくは60質量%以上である。
成分(A)の数平均分子量は、好ましくは100〜15,000、より好ましくは300〜12,000である。該値が100未満では、組成物の粘度が小さくなり過ぎて、塗布性が劣ることがある。一方、該値が15,000を超えると、粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。
クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、成分(A)の配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%として30〜80質量%好ましくは35〜75質量%、より好ましくは40〜70質量%である。上記配合割合が30質量%未満では、組成物を硬化させてなるクラッド層(下部クラッド層及び上部クラッド層)のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、上記配合割合が80質量%を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有するクラッド層を形成することが困難となる。
As a component (A), a urethane (meth) acrylate oligomer may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
Component (A) is urethane (A-1), a reaction product of a polyol compound, (A-2) a polyisocyanate compound, and (A-3) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, from the viewpoint of bending durability. meth) acrylate oligomer.
Ratio of urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of (A-1) polyol compound, (A-2) polyisocyanate compound and (A-3) hydroxyl group-containing (meth) acrylate in component (A) , when component (a) was 100 mass%, 50 mass% or more, preferably 60 mass% or more.
The number average molecular weight of the component (A) is preferably 100 to 15,000, more preferably 300 to 12,000. If the value is less than 100, the viscosity of the composition becomes too small, and the coatability may be inferior. On the other hand, when the value exceeds 15,000, the viscosity becomes high and handling becomes difficult.
Cladding layer photocurable resin composition, the mixing ratio of the component (A), as 100% by mass of the total amount of the solid content of the cladding layer photocurable resin composition, 30 to 80 wt%, preferably from 35 to It is 75 mass% , More preferably, it is 40-70 mass%. When the blending ratio is less than 30% by mass, the Young's modulus of the clad layer (lower clad layer and upper clad layer) obtained by curing the composition is increased, and a film-like optical waveguide having sufficient bending durability is formed. It becomes difficult. On the other hand, when the blending ratio exceeds 80% by mass, the viscosity of the composition increases, and it becomes difficult to form a clad layer having a uniform thickness.

[成分(B)] 成分(B)は、反応性希釈モノマーである。本明細書において、反応性希釈モノマーとは、光重合可能な他の反応性の成分に対して希釈剤として(粘度を低下させる)作用するモノマーをいう。 反応性希釈モノマーとしては、分子内にエチレン性不飽和基を1つ有するモノマー(以下、単官能モノマーともいう。)、及び分子内にエチレン性不飽和基を2つ以上有するモノマー(以下、多官能モノマーともいう。)が挙げられる。上記エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。 上記単官能モノマーとしては、例えば、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、3−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェノールエトキシ(メタ)アクリレート、フェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、p−クミルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、4−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノールアクリレート、2−メタクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 これらの中でも、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物、及び炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートが好ましい。ここで炭素数10以上の脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖および脂環式のいずれも含まれる。炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートの好適な例としては、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートが挙げられる。 単官能モノマーの市販品としてはACMO、DMAA(以上、興人社製);ニューフロンティアIBA(第一工業製薬社製);IBXA、IBXMA、ADMA(大阪有機化学社製);FA511A、FA512A、FA513A(以上、日立化成社製);ライトエステルM、E、BH、IB−X、HO−MS、HO−HH、L、PO、S、TD、ライトアクリレートL−A、S−A、EC−A、MTG−A、130A、PO−A、P−200A、NP−4EA、THF−A、IB−XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MPE、(以上、共栄社化学社製);アロニックス M150、M156、M5300、TO1315、TO1316(以上、東亞合成社製);FA544A、512M、512MT、513M(以上、日立化成社製)、NKエステル A−CMP−1E、A−LEN−10、M−450G、S、S−1800M、S−1800A、PHE−1G、NPA−8E、NPA−5P、NPA−10G、M−90G、LMA、LA、IB、CB−26、CB−23、CB−1、AMP−60G、AM−30G、A−SA、A−IB、702A(新中村化学工業社製)等が挙げられる。
[Component (B)] The component (B) is a reactive dilution monomer. In the present specification, the reactive diluent monomer refers to a monomer that acts as a diluent (reduces viscosity) to other reactive components capable of photopolymerization. Examples of the reactive dilution monomer include a monomer having one ethylenically unsaturated group in the molecule (hereinafter also referred to as a monofunctional monomer), and a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule (hereinafter referred to as multiple monomers). Also referred to as a functional monomer). Examples of the ethylenically unsaturated group include a (meth) acryloyl group and a vinyl group, and a (meth) acryloyl group is more preferable. Examples of the monofunctional monomer include acryloylmorpholine, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, diisopropylacrylamide, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl ( (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate , Diacetone acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam, 3-hydroxy Chlohexyl (meth) acrylate, 2-acryloylcyclohexyl succinic acid, phenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenol ethoxy (meth) acrylate, (meth) acrylate of alcohol which is an adduct of phenol ethylene oxide, p-cumylphenol (Meth) acrylate of alcohol which is an adduct of ethylene oxide, 4- (1-methyl-1-phenylethyl) phenoxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate of alcohol which is an adduct of ethylene oxide of nonylphenol, o-Phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, hydroxyethylated o-phenylphenol acrylate, 2-methacryloyloxyethylphthalic acid, methoxypolyethylene group Call (meth) acrylate, and the like. Among these, N-vinyl compounds such as acryloylmorpholine, dimethylacrylamide, N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, and monofunctional (meth) acrylates having an aliphatic hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms are preferable. Here, the aliphatic hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms includes straight chain, branched chain, and alicyclic groups. Preferable examples of the monofunctional (meth) acrylate having an aliphatic hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms include isobornyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate. Commercially available monofunctional monomers include ACMO, DMAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.); New Frontier IBA (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.); IBXA, IBXMA, ADMA (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.); FA511A, FA512A, FA513A (Above, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.); light ester M, E, BH, IB-X, HO-MS, HO-HH, L, PO, S, TD, light acrylate LA, SA, EC-A , MTG-A, 130A, PO-A, P-200A, NP-4EA, THF-A, IB-XA, HOA-MS, HOA-MPL, HOA-MPE (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); Aronix M150 , M156, M5300, TO1315, TO1316 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.); FA544A, 512M, 512MT, 513M (above, Hitachi Chemical) NK ester A-CMP-1E, A-LEN-10, M-450G, S, S-1800M, S-1800A, PHE-1G, NPA-8E, NPA-5P, NPA-10G, M- 90G, LMA, LA, IB, CB-26, CB-23, CB-1, AMP-60G, AM-30G, A-SA, A-IB, 702A (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記多官能モノマーのうち、分子内にエチレン性不飽和基を2つ有するモノマー(2官能性モノマー)としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス−4(2−ヒドロキシ−3−アクリロキシプロピルフェニル)プロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、9,9−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 中でも、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス−4(2−ヒドロキシ−3−アクリロキシプロピルフェニル)プロパン、9,9−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート等は特に好ましく用いられる。 Among the above polyfunctional monomers, monomers having two ethylenically unsaturated groups in the molecule (bifunctional monomer) include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) Acrylate, 2,2-bis-4 (2-hydroxy-3-acryloxypropylphenyl) propane, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 9,9-bis [4- (2-acryloxyethoxy) phenyl] Fluorene, ethylene oxide-added bisphenol A type (Meth) acrylate, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A type di (meth) acrylate, propylene oxide added bisphenol A type di (meth) acrylate, propylene oxide added tetrabromobisphenol A type di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether Bisphenol A-type epoxy di (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction with (meth) acrylic acid, tetrabromobisphenol A obtained by epoxy ring-opening reaction between tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Type epoxy di (meth) acrylate, bisphenol F type epoxy di (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction between bisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Rate, tetrabromobisphenol F diglycidyl ether with (meth) tetrabromobisphenol F type epoxy di obtained by an epoxy ring-opening reaction of acrylic acid (meth) acrylate. Among them, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis-4 (2-hydroxy-3-acryloxypropylphenyl) propane, 9-bis [4- (2-acryloxyethoxy) phenyl] fluorene, ethylene oxide-added bisphenol A type di (meth) acrylate, ethylene oxide added tetrabromobisphenol A type di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether and ( Bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A type epoxy di (meth) acrylate and the like obtained by epoxy ring-opening reaction with (meth) acrylic acid are particularly preferably used.

2官能モノマーの市販品としては、例えば、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業社製);アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成社製);NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4、A−BPEF(以上、新中村化学社製);ライトアクリレート1,6−HX−A、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学社製);KAYARADR−551、R−712(以上、日本化薬社製);BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬社製);リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子社製);ネオポールV779、ネオポールV779MA(日本ユピカ社製)等が挙げられる。 As a commercial item of a bifunctional monomer, for example, Biscote # 700, # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.); Aronix M-208, M-210 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.); , BPE-200, BPE-500, A-BPE-4, A-BPEF (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.); Light acrylate 1,6-HX-A, Light ester BP-4EA, BP-4PA, Epoxy ester 3002M, 3002A, 3000M, 3000A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); KAYARADR-551, R-712 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.); BPE-4, BPE-10, BR-42M (above, Daiichi Kogyo) Manufactured by Pharmaceutical Co., Ltd.); Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-15 9, SP-1563 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.); NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.

また、上記多官能モノマーのうち、エチレン性不飽和基を3個以上有するモノマー(3官能以上のモノマー)としては、例えば、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド(以下「EO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド(以下「PO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、EO変性トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、PO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、トリアクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。 中でも、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。 Among the polyfunctional monomers, examples of the monomer having three or more ethylenically unsaturated groups (trifunctional or higher monomer) include, for example, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone-modified tris. (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide (hereinafter referred to as “EO”) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide (hereinafter referred to as “PO”) .) Modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2,2,2-tris (meth) acryloyloxymethyl ethyl ester Phosphoric acid, 2,2,2-tris (meth) acryloyloxymethylethylsuccinic acid, EO-modified tris (acryloxy) isocyanurate, caprolactone-modified tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate, tris (acryloxy) isocyanurate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, PO-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, EO-modified dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, PO-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, tri methacryloyloxyethyl phosphate, and the like. Among these, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxy) isocyanurate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are preferable.

3官能モノマーの市販品としては、例えば、アロニックスM−315、M−325、M−327、TO−756、TO−1382(東亞合成社製)、NKエステルTM−4EL、CBX−O、CBX−1N、A−DPH−6H、A−9300、A−DPH、A−9300−1CL、TMPT、TMPT−9EO、ATM−4P、ATM−4E、ATM−35E、AD−TMP、A−TMPT、A−TMPT−3EO、A−TMPT−3PO、A−TMMT、A−TMM−3LMN(新中村化学工業社製)、ライトエステルTMP、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A、BA−134、TMP−3EO−A(共栄社化学製)、ビスコート295、360、3PA、400(大阪有機化学工業社製)、KAYARAD PET−30、DPHA(日本化薬社製)等が挙げられる。 Commercially available products of trifunctional monomers include, for example, Aronix M-315, M-325, M-327, TO-756, TO-1382 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester TM-4EL, CBX-O, CBX- 1N, A-DPH-6H, A-9300, A-DPH, A-9300-1CL, TMPT, TMPT-9EO, ATM-4P, ATM-4E, ATM-35E, AD-TMP, A-TMPT, A- TMPT-3EO, A-TMPT-3PO, A-TMMT, A-TMM-3LMN (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester TMP, light acrylate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE- 4A, DPE-6A, BA-134, TMP-3EO-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Biscoat 295, 360, 3PA, 400 (Osaka Organic) Manufactured by Manabu Kogyo Co.), KAYARAD PET-30, DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

成分(B)としては、上記単官能モノマー及び上記多官能モノマーのいずれかを単独で使用してもよいし、併用して用いることもできる。好ましくは、成分(B)は多官能モノマーを含む。 クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、成分(B)の配合割合は、クラッド層用光硬化性組成物の固形分の全量を100質量%として、15〜69質量%、好ましくは20〜66質量%、より好ましくは25〜60質量%である。上記配合割合が15質量%未満では、硬化物の耐湿熱性が低下し、フィルム状光導波路を高温高湿雰囲気中で使用した場合に、伝送特性、屈曲耐久性を良好に維持することが困難となる。一方、上記配合割合が、69質量%を超えると、組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的特性を有する硬化物(下部クラッド層、上部クラッド層)を形成することが困難となる。 As the component (B), any of the monofunctional monomer and the polyfunctional monomer may be used alone or in combination. Preferably, component (B) contains a polyfunctional monomer. In the photocurable resin composition for the cladding layer, the blending ratio of the component (B) is 15 to 69% by mass, preferably 20 to 66, based on 100% by mass of the total solid content of the photocurable composition for the cladding layer. It is 25 mass%, More preferably, it is 25-60 mass%. When the blending ratio is less than 15% by mass, the heat and moisture resistance of the cured product is lowered, and it is difficult to maintain good transmission characteristics and bending durability when the film-shaped optical waveguide is used in a high-temperature and high-humidity atmosphere. Become. On the other hand, when the blending ratio exceeds 69% by mass, the photocurability of the composition is lowered, and it becomes difficult to form a cured product (lower clad layer, upper clad layer) having sufficient mechanical properties. .

[成分(C)] 成分(C)は、成分(A)及び成分(B)を重合しうる活性種(ラジカル)を光によって発生することのできる光重合開始剤である。 ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びX線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。 光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。中でも1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等は、重合速度、溶液安定性の観点から好ましく用いられる。 [Component (C)] The component (C) is a photopolymerization initiator capable of generating an active species (radical) capable of polymerizing the component (A) and the component (B) by light. Here, light means ionizing radiation such as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, and X-rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3- Methyl acetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy 2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxan 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, And bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide. Among these, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like are preferably used from the viewpoints of polymerization rate and solution stability.

成分(C)の市販品としては、例えば、Irgacure184、369、379、651、500、819、907、784、2959、CGI−1700、−1750、−1850、CG24−61、Darocur 1116、1173(以上、チバ・スペシャリ
テイ・ケミカルズ社製);Lucirin TPO、LR8893、LR8970(以上、BASF社製);ユベクリルP36(UCB社製)等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 本発明においては、光重合開始剤と共に光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。光増感剤の市販品としては、例えば、ユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。
Examples of commercially available components (C) include Irgacure 184, 369, 379, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI-1700, -1750, -1850, CG24-61, Darocur 1116, 1173 (or above). Ciba Specialty Chemicals); Lucirin TPO, LR8883, LR8970 (above, manufactured by BASF); Ubekrill P36 (UCB), and the like. A radical photopolymerization initiator is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In the present invention, a photosensitizer can be used together with a photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid. Isoamyl etc. are mentioned. Examples of commercially available photosensitizers include Ubekryl P102, 103, 104, and 105 (above, manufactured by UCB).

クラッド層用光硬化性組成物中、成分(C)の配合割合は、クラッド層用光硬化性組成物の固形分の全量を100質量%として、0.1〜10質量%、好ましくは0.2〜7質量%、より好ましくは0.5〜5質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、十分な機械的特性を有する硬化物(下部クラッド層、上部クラッド層)を形成することが困難となることがある。また、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が、フィルム状光導波路の長期の特性に悪影響を及ぼす可能性がある。 In the photocurable composition for a clad layer, the blending ratio of the component (C) is 0.1 to 10% by mass, preferably 0.1%, based on 100% by mass of the total solid content of the photocurable composition for the clad layer. It is 2-7 mass%, More preferably, it is 0.5-5 mass%. When the blending ratio is less than 0.1% by mass, curing does not proceed sufficiently, and it may be difficult to form a cured product (lower cladding layer, upper cladding layer) having sufficient mechanical properties. Moreover, when the said mixture ratio exceeds 10 mass%, a photoinitiator may have a bad influence on the long-term characteristic of a film-form optical waveguide.

[任意成分] クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて有機溶媒(成分(D))を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有するクラッド層を形成することができる。 有機溶媒の種類は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜選択することができるが、大気圧下での沸点が50〜200℃の範囲内の値を有し、かつ、各構成成分を均一に溶解させるものが好ましい。 有機溶媒の好ましい例としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、及びケトン類が挙げられる。有機溶媒の好ましい化合物名としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、及びメタノールからなる群より選択される少なくとも1つの溶剤が挙げられる。 有機溶媒の配合量は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量100質量部に対し、好ましくは5〜500質量部、より好ましくは10〜300質量部、特に好ましくは20〜200質量部である。上記配合量が5質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が500質量部を超えると、十分な厚さを有する硬化物(下部クラッド層、上部クラッド層)を形成することが困難なことがある。 [Arbitrary component] An organic solvent (component (D)) can be mix | blended with the photocurable resin composition for clad layers as needed. By blending an organic solvent, an appropriate viscosity can be imparted and a clad layer having a uniform thickness can be formed. The type of the organic solvent can be appropriately selected within a range that does not impair the object and effect of the present invention, but has a boiling point in the range of 50 to 200 ° C. under atmospheric pressure, and each constituent component Those that dissolve uniformly are preferred. Preferable examples of the organic solvent include alcohols, ethers, esters, and ketones. As a preferable compound name of the organic solvent, at least one selected from the group consisting of propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, toluene, xylene, and methanol A solvent is mentioned. The blending amount of the organic solvent is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 10 to 300 parts by weight, and particularly preferably 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the photocurable resin composition for the clad layer. Part by mass. If the said compounding quantity is less than 5 mass parts, adjustment of the viscosity of a photocurable resin composition may become difficult. If the blending amount exceeds 500 parts by mass, it may be difficult to form a cured product (lower cladding layer, upper cladding layer) having a sufficient thickness.

また、クラッド層用光硬化性樹脂組成物は、エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー(成分(E))を実質的に含まないことが好ましい。
なお、成分(E)は、高重合体(ポリマー)であり、低重合体(オリゴマー)ではない。
クラッド層用光硬化性樹脂組成物中、エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマーの配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%として10質量%以下好ましくは5質量%以下、より好ましくは2質量%以下であり、特に好ましくは0質量%である。上記配合割合が10質量%を超えると、屈曲耐久性が低下する場合がある。
なお、エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマーとは、ビニル基含有単量体及び/又は(メタ)アクリロイル基含有単量体に由来する構造単位を含み、かつ、分子内にエチレン性不飽和基を1つ以上有するポリマーである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
このようなビニル系ポリマーの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等とを、溶媒中でラジカル重合用の触媒存在下でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、2−メタクリロキシエチルイソシアネートを付加させて得られたものが挙げられる。
Moreover, it is preferable that the photocurable resin composition for clad layers does not contain substantially the vinyl polymer (component (E)) which has an ethylenically unsaturated group.
In addition, a component (E) is a high polymer (polymer), and is not a low polymer (oligomer).
In the photocurable resin composition for the cladding layer, the blending ratio of the vinyl-based polymer having an ethylenically unsaturated group is 10% by mass or less , with the total solid content of the photocurable resin composition for the cladding layer being 100% by mass. The content is preferably 5% by mass or less , more preferably 2% by mass or less, and particularly preferably 0% by mass. If the blending ratio exceeds 10% by mass, the bending durability may be lowered.
The vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group includes a structural unit derived from a vinyl group-containing monomer and / or a (meth) acryloyl group-containing monomer, and has an ethylenically unsaturated group in the molecule. A polymer having one or more groups. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group and a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.
Specific examples of such vinyl polymers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, styrene, α-methyl What was obtained by radically polymerizing styrene and the like in the presence of a catalyst for radical polymerization in a solvent and then adding 2-methacryloxyethyl isocyanate to the hydroxyl group of the side chain of the obtained copolymer Is mentioned.

また、クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、前記成分以外に、必要に応じて本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、成分(A)〜(D)以外の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂(例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー)等を配合することができる。 In addition, in the photocurable resin composition for the cladding layer, in addition to the above-described components, for example, polymerization other than the components (A) to (D) is performed as long as the characteristics of the resin composition of the present invention are not impaired. A compound having a reactive reactive group or a polymer resin (for example, epoxy resin, acrylic resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polybutadiene resin, polychloroprene resin, polyether resin, polyester resin, styrene-butadiene block copolymer) Coal, petroleum resin, xylene resin, ketone resin, cellulose resin, fluorine-based polymer, silicone-based polymer) and the like can be blended.

さらにまた、クラッド層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。 クラッド層用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。 Furthermore, the photocurable resin composition for the clad layer includes various additives as necessary, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization prohibition. Agents, leveling agents, surfactants, colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, fillers, inorganic particles, anti-aging agents, wettability improvers, antistatic agents, and the like can be blended. In order to prepare the photocurable resin composition for a clad layer, the above-described components may be mixed and stirred according to a conventional method.

次に、中間層用光硬化性樹脂組成物について説明する。
中間層用光硬化性樹脂組成物は、(a)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、(b)反応性希釈モノマー、(c)光重合開始剤、(e)エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー、及び必要に応じて配合される他の任意成分を含む。
以下、各成分ごとに説明する。
Next, the photocurable resin composition for intermediate layers will be described.
The photocurable resin composition for the intermediate layer comprises (a) a urethane (meth) acrylate oligomer, (b) a reactive dilution monomer, (c) a photopolymerization initiator, and (e) a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group. , And other optional ingredients formulated as needed.
Hereinafter, each component will be described.

[成分(a)]
成分(a)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(A)と同様のものが挙げられる。なお、成分(a)のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、経済上及び製造管理上、成分(A)と同一のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを用いることが好ましい。
中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分(a)の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%として5〜80質量%好ましくは10〜75質量%、より好ましくは10〜70質量%である。上記配合割合が5質量%未満では、組成物を硬化させてなる中間クラッド層のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、該配合割合が80質量部を超えると、組成物の粘度が小さくなり、均一な厚みを有する硬化物(中間クラッド層)を形成することが困難となる。
[Component (a)]
Component (a) is a urethane (meth) acrylate oligomer.
As said urethane (meth) acrylate oligomer, the thing similar to the component (A) of the above-mentioned photocurable composition for clad layers is mentioned. In addition, as a urethane (meth) acrylate oligomer of a component (a), it is preferable to use the urethane (meth) acrylate oligomer same as a component (A) on economical and manufacturing control.
In the photocurable resin composition for intermediate layer, the blending ratio of component (a) is 5 to 80% by mass , preferably 10 to 100% by mass , based on the total solid content of the photocurable resin composition for intermediate layer. It is 75 mass% , More preferably, it is 10-70 mass%. If the blending ratio is less than 5% by mass, the Young's modulus of the intermediate clad layer obtained by curing the composition is increased, and it becomes difficult to form a film-shaped optical waveguide having sufficient bending durability. On the other hand, when the blending ratio exceeds 80 parts by mass, the viscosity of the composition becomes small, and it becomes difficult to form a cured product (intermediate cladding layer) having a uniform thickness.

[成分(b)]
成分(b)は、反応性希釈モノマーである。
上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(B)と同様のものが挙げられる。なお、成分(b)の反応性希釈モノマーとしては、経済上及び製造管理上、成分(B)と同一の反応性希釈モノマーを用いることが好ましい。
中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分(b)の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%として1〜40質量%好ましくは3〜30質量%、より好ましくは5〜25質量%である。成分(b)の配合割合を上記範囲内とすることにより、屈曲耐久性等をより優れたものとすることができる。成分(b)の配合割合が40質量%を超えると、組成物の粘度が小さくなり、均一な厚みを有する硬化物(中間クラッド層)を形成することが困難となる。
[Component (b)]
Component (b) is a reactive diluent monomer.
As said reactive dilution monomer, the thing similar to the component (B) of the above-mentioned photocurable composition for cladding layers is mentioned. In addition, as a reactive dilution monomer of a component (b), it is preferable to use the same reactive dilution monomer as a component (B) on economical and manufacturing control.
The intermediate layer photocurable resin composition, the mixing ratio of component (b), the total amount of the solid content of the intermediate layer photocurable resin composition as 100 wt%, 1 to 40 wt%, preferably 3 to 30% by mass, more preferably 5 to 25% by mass. Bending durability etc. can be made more excellent by making the mixture ratio of a component (b) into the said range. When the blending ratio of component (b) exceeds 40% by mass, the viscosity of the composition becomes small, and it becomes difficult to form a cured product (intermediate cladding layer) having a uniform thickness.

[成分(c)]
成分(c)は、光重合開始剤である。
上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(C)と同様のものが挙げられる。
中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分(c)の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%として0.1〜10質量%好ましくは0.2〜5質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
[Component (c)]
Component (c) is a photopolymerization initiator.
As said photoinitiator, the thing similar to the component (C) of the above-mentioned photocurable composition for clad layers is mentioned.
The intermediate layer photocurable resin composition, the mixing ratio of the component (c), the total amount of the solid content of the intermediate layer photocurable resin composition as 100 mass%, 0.1 to 10 mass%, preferably It is 0.2-5 mass%. When the blending ratio is less than 0.1% by mass, curing does not proceed sufficiently, and a problem may occur in the transmission characteristics of the optical waveguide. On the other hand, when the said mixture ratio exceeds 10 mass%, a photoinitiator may have a bad influence on a long-term transmission characteristic.

[成分(e)]
成分(e)は、エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマーである。
成分(e)(エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー)は、上記成分(a)、成分(b)と重合可能なものであり、該成分(e)を配合することにより、中間層用光硬化性樹脂組成物に適度な粘度を付与して塗布性を良好にすることができる。
なお、成分(e)は、高重合体(ポリマー)であり、低重合体(オリゴマー)ではない。
上記エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー(以下、単にビニル系ポリマーともいう。)は、ビニル基含有単量体及び/又は(メタ)アクリロイル基含有単量体に由来する構造単位を含み、かつ、分子内にエチレン性不飽和基を1つ以上有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
[Component (e)]
Component (e) is a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group.
Component (e) (vinyl-based polymer having an ethylenically unsaturated group) can be polymerized with component (a) and component (b), and by blending component (e), the intermediate layer Applicability can be improved by imparting an appropriate viscosity to the photocurable resin composition.
The component (e) is a high polymer (polymer) and not a low polymer (oligomer).
The vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group (hereinafter also simply referred to as a vinyl polymer ) includes a structural unit derived from a vinyl group-containing monomer and / or a (meth) acryloyl group-containing monomer, And it has one or more ethylenically unsaturated groups in a molecule | numerator. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group and a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.

上記ビニル系ポリマーの具体例としては、下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(2)で表される繰り返し単位とを含むポリマー(例えば、ランダム共重合体であるポリマー)が挙げられる。

Figure 0005327053
(式中、R及びRは各々独立して水素原子またはメチル基であり、Rは(メタ)アクリロイル基であり、Xは2価の有機基であり、Yは重合性を有しない有機基である。) Specific examples of the vinyl polymer include a polymer including a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2) (for example, a polymer that is a random copolymer). ).
Figure 0005327053
(Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a (meth) acryloyl group, X is a divalent organic group, and Y is not polymerizable. Organic group.)

一般式(1)で表される繰り返し単位の好適な例としては、下記の一般式(3)で表される繰り返し単位が挙げられる。

Figure 0005327053
(式中、Rは水素原子またはメチル基であり、Rは(メタ)アクリロイル基であり、W及びZは各々独立して単結合または2価の有機基である。) Preferable examples of the repeating unit represented by the general formula (1) include a repeating unit represented by the following general formula (3).
Figure 0005327053
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a (meth) acryloyl group, and W and Z are each independently a single bond or a divalent organic group.)

ここで、一般式(3)中のW(2価の有機基)の例としては、下記一般式(4)で表される構造や、フェニレン基等が挙げられる。

Figure 0005327053
(式中、Rはメチレンまたは炭素数2〜8のアルキレン基である。) 一般式(3)中のZ(2価の有機基)の例としては、−(CH2n−O−(式中、nは1〜8の整数である。)等が挙げられる。 Here, examples of W (divalent organic group) in the general formula (3) include a structure represented by the following general formula (4), a phenylene group, and the like.
Figure 0005327053
(In the formula, R 4 is methylene or an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms.) Examples of Z (divalent organic group) in formula (3) include — (CH 2 ) n —O—. (Wherein, n is an integer of 1 to 8).

一般式(2)中のYの例としては、下記一般式(5)で表される構造、フェニル基、環状アミド基、ピリジル基等が挙げられる。

Figure 0005327053
(式中、Rは炭素数1〜20の直鎖状、分岐状または環状の炭素鎖を有する基である。) Examples of Y in the general formula (2) include a structure represented by the following general formula (5), a phenyl group, a cyclic amide group, a pyridyl group, and the like.
Figure 0005327053
(In the formula, R 5 is a group having a linear, branched or cyclic carbon chain having 1 to 20 carbon atoms.)

上記ビニル系ポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは5,000〜100,000、より好ましくは8,000〜70,000、特に好ましくは10,000〜50,000である。該値が5,000未満では、組成物の粘度が小さくなり、所望の膜厚が得られなくなる等の欠点があり、該値が100,000を超えると、組成物の粘度が大きくなり、塗工性が悪くなる等の欠点がある。
上記ビニル系ポリマーの製造方法としては、例えば、(e−1)水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び(e−2)成分(一般式(2)に対応するラジカル重合性化合物)を、溶媒中でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、(e−3)(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネートを付加させる方法が挙げられる。
この方法で用いられる化合物(e−1)〜(e−3)について説明する。
The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the vinyl polymer is preferably 5,000 to 100,000, more preferably 8,000 to 70,000, and particularly preferably 10,000 to 50,000. If the value is less than 5,000, the composition has a low viscosity and a desired film thickness cannot be obtained. If the value exceeds 100,000, the composition has a high viscosity, which causes There are drawbacks such as poor workability.
Examples of the method for producing the vinyl polymer include (e-1) a radical polymerizable compound having a hydroxyl group and (e-2) component (radical polymerizable compound corresponding to the general formula (2)) in a solvent. And (e-3) an isocyanate having a (meth) acryloyl group is added to the side chain hydroxyl group of the obtained copolymer after radical polymerization.
The compounds (e-1) to (e-3) used in this method will be described.

化合物(e−1)(水酸基を有するラジカル重合性化合物)は、該化合物中の水酸基と化合物(e−3)中のイソシアネート基(−N=C=O)とを反応させて、ウレタン結合(−NH−COO−)及び化合物(e−3)に由来する(メタ)アクリロイル基を含む側鎖部分を有する構成単位を、成分(e)中に導入するために用いられる。
化合物(e−1)の例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
化合物(e−1)は、1種を単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
ビニル系ポリマー中の化合物(e−1)に由来する構造単位の含有率は、好ましくは3〜80質量%、より好ましくは7〜60質量%、特に好ましくは10〜40質量%である。
該含有率が3質量%未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が80質量%を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
Compound (e-1) (a radically polymerizable compound having a hydroxyl group) reacts with a hydroxyl group in the compound and an isocyanate group (—N═C═O) in compound (e-3) to form a urethane bond ( -NH-COO-) and a structural unit having a side chain portion containing a (meth) acryloyl group derived from the compound (e-3) is used to introduce into the component (e).
Examples of the compound (e-1) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl ( And (meth) acrylate.
A compound (e-1) is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the structural unit derived from the compound (e-1) in the vinyl polymer is preferably 3 to 80% by mass, more preferably 7 to 60% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass.
When the content is less than 3% by mass, curing tends to be insufficient. If the content exceeds 80% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index.

化合物(e−2)(一般式(2)の構造に対応する化合物)は、主として、不飽和基含有(メタ)アクリルポリマーの機械的特性や屈折率を適度にコントロールするために用いられる。 化合物(e−2)の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル類;ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と環状炭化水素化合物とのエステル類;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、4−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノキシエチルアクリレート、p−クミルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アリールエステル類;トリブロモフェノールエトキシ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等のハロゲン化(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類;1,3−ブタジエン、イソプレン、1,4−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物;酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等が挙げられる。 中でも、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、4−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノキシエチルアクリレート、α−メチルスチレン等が好ましく用いられる。 化合物(e−2)は、1種を単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いられる。 不飽和基含有(メタ)アクリルポリマー中の化合物(e−2)に由来する構造単位の含有率は、好ましくは15〜92質量%、より好ましくは25〜84質量%、特に好ましくは35〜78質量%である。 該含有率が15質量%未満であると、屈折率の調整が困難となる場合がある。該含有率が92質量%を超えると、硬化が不十分となりやすい。 The compound (e-2) (compound corresponding to the structure of the general formula (2)) is mainly used for appropriately controlling the mechanical properties and refractive index of the unsaturated group-containing (meth) acrylic polymer. Examples of the compound (e-2) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) ) (Meth) acrylic acid alkyl esters such as acrylate; esters of (meth) acrylic acid and cyclic hydrocarbon compounds such as dicyclopentanyl (meth) acrylate and cyclohexyl (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic such as benzyl (meth) acrylate, o-phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, 4- (1-methyl-1-phenylethyl) phenoxyethyl acrylate, p-cumylphenoxyethylene glycol (meth) acrylate Acid ants Esters; tribromophenol ethoxy (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoromethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoro Halogenated (meth) acrylic esters such as pentyl (meth) acrylate and perfluorooctylethyl (meth) acrylate; styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene Aromatic vinyls such as 1, conjugated diolefins such as 1,3-butadiene, isoprene and 1,4-dimethylbutadiene; nitrile group-containing polymerizable compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile; amide bonds such as acrylamide and methacrylamide Containing polymerizable compound And fatty acid vinyls such as vinyl acetate. Of these, dicyclopentanyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, styrene, 4- (1-methyl-1-phenylethyl) phenoxyethyl acrylate, α-methylstyrene and the like are preferable. Used. A compound (e-2) is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The content of the structural unit derived from the compound (e-2) in the unsaturated group-containing (meth) acrylic polymer is preferably 15 to 92% by mass, more preferably 25 to 84% by mass, and particularly preferably 35 to 78%. % By mass. If the content is less than 15% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index. If the content exceeds 92% by mass, curing tends to be insufficient.

化合物(e−3)((メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート)の例としては、2−メタクリロキシエチルイソシアネート、N−メタクリロイルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、2−アクリロキシエチルイソシアネート、N−アクリロイルイソシアネート、アクリロキシメチルイソシアネート等が挙げられる。
ビニル系ポリマー中の化合物(e−3)に由来する構造単位の含有率は、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは9〜60質量%、特に好ましくは12〜45質量%である。
該含有率が5質量%未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が80質量%を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
Examples of the compound (e-3) (isocyanate having a (meth) acryloyl group) include 2-methacryloxyethyl isocyanate, N-methacryloyl isocyanate, methacryloxymethyl isocyanate, 2-acryloxyethyl isocyanate, N-acryloyl isocyanate, Examples include acryloxymethyl isocyanate.
The content of the structural unit derived from the compound (e-3) in the vinyl polymer is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 9 to 60% by mass, and particularly preferably 12 to 45% by mass.
When the content is less than 5% by mass, curing tends to be insufficient. If the content exceeds 80% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index.

上記ビニル系ポリマーには、一般式(1)、(2)で表される構成単位以外の構成単位を含めることもできる。このような構成単位を導入するための化合物(以下、化合物(e−4)という。)の例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類;塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物等が挙げられる。ビニル系ポリマー中の化合物(e−4)に由来する構造単位の含有率は、好ましくは0〜20質量%、より好ましくは0〜10質量%である。
ビニル系ポリマーの製造過程において、化合物(e−3)の付加反応の際に、熱重合禁止剤、保存安定剤、硬化触媒等の各種添加剤を添加することができる。
熱重合禁止剤は、熱による重合反応を抑えるために配合される。熱重合禁止剤の例としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、tert−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル等が挙げられる。
保存安定剤の例としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ベンゾキノン、p−トルキノン、p−キシロキノン、フェニル−α−ナフチルアミン等が挙げられる。
硬化触媒の例としては、ジラウリル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジオクチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、二酢酸ジブチル錫、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等が挙げられる。
これらの各種添加剤の合計の配合量は、化合物(e−1)〜(e−3)の合計量100質量部に対して通常、10質量部以下、好ましくは5質量部以下である。
The vinyl-based polymer can include structural units other than the structural units represented by the general formulas (1) and (2). Examples of the compound for introducing such a structural unit (hereinafter referred to as compound (e-4)) include dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconate; vinyl chloride, chloride Examples include chlorine-containing polymerizable compounds such as vinylidene. The content of the structural unit derived from the compound (e-4) in the vinyl polymer is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass.
In the process of producing the vinyl polymer , various additives such as a thermal polymerization inhibitor, a storage stabilizer, and a curing catalyst can be added during the addition reaction of the compound (e-3).
The thermal polymerization inhibitor is blended in order to suppress a polymerization reaction due to heat. Examples of thermal polymerization inhibitors include pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methoxyphenol, amylquinone, amyloxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether and the like.
Examples of the storage stabilizer include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, benzoquinone, p-toluquinone, p-xyloquinone, phenyl-α-naphthylamine and the like.
Examples of the curing catalyst include dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioleate, dibutyltin diacetate, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium and the like.
The total amount of these various additives is usually 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the compounds (e-1) to (e-3).

上記ビニル系ポリマーの製造における、化合物(e−1)、及び、必要に応じて使用される化合物(e−2)、化合物(e−4)のラジカル重合に使用できる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類;エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル等のエステル類が挙げられる。
中でも、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類等が好ましい。
Examples of the solvent that can be used for radical polymerization of the compound (e-1), the compound (e-2), and the compound (e-4) used in the production of the vinyl polymer as described above include methanol, Alcohols such as ethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl Ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, pro Alkyl ethers of polyhydric alcohols such as lenglycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether; alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate Acetates; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, diacetone alcohol; ethyl acetate, butyl acetate, Ethyl lactate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 2-hydroxy Ethyl 2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy Examples include esters such as methyl propionate.
Of these, cyclic ethers, polyhydric alcohol alkyl ethers, polyhydric alcohol alkyl ether acetates, ketones, and esters are preferred.

上記ビニル系ポリマーのガラス転移温度は、20℃以上150℃以下であることが好ましい。この際、ガラス転移温度は、通常行われている示差走査熱量計(DSC)を用いた測定による値として定義される。該温度が20℃未満であると、硬化物(中間クラッド層)を形成することが困難となったり、あるいは、べたつきが生じてドライフィルムを積層する際の作業性が悪くなる等の不都合がある。逆に該温度が150℃を超えると、硬化物(中間クラッド層)が硬くなったり、脆さが生じたりして、屈曲耐久性が低下することがある。 The glass transition temperature of the vinyl polymer is preferably 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. At this time, the glass transition temperature is defined as a value obtained by measurement using a differential scanning calorimeter (DSC) which is usually performed. If the temperature is less than 20 ° C., it is difficult to form a cured product (intermediate cladding layer), or stickiness occurs, resulting in poor workability when laminating a dry film. . On the other hand, when the temperature exceeds 150 ° C., the cured product (intermediate clad layer) becomes hard or brittle, and the bending durability may decrease.

中間層用光硬化性樹脂組成物中、成分(e)の配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分を100質量%として、15〜75質量%、好ましくは20〜70質量%、特に好ましくは30〜70質量%である。上記配合割合が15質量%未満では、組成物の粘度が小さくなり、塗布性が劣ることがある。一方、上記配合割合が75質量%を超えると、硬化物(中間クラッド層)が硬くなったり、脆さが生じたりして、屈曲耐久性が低下することがある。 In the photocurable resin composition for intermediate layer, the blending ratio of component (e) is 15 to 75 mass%, preferably 20 to 70 mass%, where the solid content of the photocurable resin composition for intermediate layer is 100 mass%. %, Particularly preferably 30 to 70% by mass. If the said mixture ratio is less than 15 mass%, the viscosity of a composition may become small and applicability | paintability may be inferior. On the other hand, if the blending ratio exceeds 75% by mass, the cured product (intermediate clad layer) may become hard or brittle, and the bending durability may decrease.

[任意成分] 中間層用光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて有機溶媒(成分(d))を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有する中間クラッド層を形成することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(D)と同様のものが挙げられる。 有機溶媒の配合量は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分100質量部に対し、好ましくは5〜500質量部、より好ましくは10〜300質量部、特に好ましくは20〜200質量部である。上記配合量が5質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が500質量部を超えると、十分な厚さを有する中間クラッド層を形成することが困難なことがある。 [Optional Components] An organic solvent (component (d)) can be blended with the intermediate layer photocurable resin composition as necessary. By blending an organic solvent, an appropriate viscosity can be imparted and an intermediate cladding layer having a uniform thickness can be formed. As an organic solvent, the same thing as the component (D) of the above-mentioned photocurable composition for cladding layers is mentioned. The blending amount of the organic solvent is preferably 5 to 500 parts by mass, more preferably 10 to 300 parts by mass, and particularly preferably 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition for the intermediate layer. It is. If the said compounding quantity is less than 5 mass parts, adjustment of the viscosity of a photocurable resin composition may become difficult. If the blending amount exceeds 500 parts by mass, it may be difficult to form an intermediate cladding layer having a sufficient thickness.

また、中間層用光硬化性樹脂組成物には、上記成分(d)(有機溶媒)以外にも、必要に応じて、上記成分(a)、(b)、()以外の重合性反応基を有する化合物、高分子樹脂、各種添加剤等を配合することができる。上記高分子樹脂、添加剤の具体例としては、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の任意成分として例示されたものと同様のものが挙げられる。
中間層用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
In addition to the component (d) (organic solvent), the intermediate layer photocurable resin composition may have a polymerizable reaction other than the components (a), (b), and ( e ) as necessary. A compound having a group, a polymer resin, various additives, and the like can be blended. Specific examples of the polymer resin and the additive include those exemplified as the optional components of the above-described photocurable resin composition for a clad layer.
In order to prepare the photocurable resin composition for an intermediate layer, the above-described components may be mixed and stirred according to a conventional method.

次に、本発明のフィルム状光導波路のコア部分の形成に用いられる光硬化性樹脂組成物(以下、コア用光硬化性樹脂組成物ともいう。)について説明する。 コア用光硬化性樹脂組成物の好適な例としては、(イ)エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体、(ロ)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、(ハ)反応性希釈モノマー、及び(ニ)光重合開始剤を含む光硬化性組成物が挙げられる。 Next, the photocurable resin composition (hereinafter, also referred to as “core photocurable resin composition”) used for forming the core portion of the film-shaped optical waveguide of the present invention will be described. Suitable examples of the photocurable resin composition for the core include (a) a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group, (b) a urethane (meth) acrylate oligomer, (c) a reactive diluent monomer, and ( D) A photocurable composition containing a photopolymerization initiator.

[成分(イ)] 成分(
イ)は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体である。 上記エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体としては、上述の中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(e)と同様のものが挙げられる。
[Ingredient (I)] Ingredient (
A) is a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group. Examples of the vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group include those similar to the component (e) of the above-described intermediate layer photocurable resin composition.

[成分(ロ)] (ロ)成分は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。 上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(A)と同様のものが挙げられる。 コア用光硬化性樹脂組成物中、成分(ロ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは10〜100質量部、より好ましくは20〜80質量部、特に好ましくは35〜70質量部である。上記配合量が10質量部未満であると、光硬化性組成物層の硬化物(コア部分)について十分な屈曲抵抗性が得られないことがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、コア部分の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。 [Component (B)] The component (B) is a urethane (meth) acrylate oligomer. As said urethane (meth) acrylate oligomer, the thing similar to the component (A) of the above-mentioned photocurable resin composition for clad layers is mentioned. In the photocurable resin composition for the core, the amount of component (b) is preferably 10 to 100 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, particularly preferably 100 parts by weight of component (b). 35 to 70 parts by mass. When the blending amount is less than 10 parts by mass, sufficient bending resistance may not be obtained for the cured product (core portion) of the photocurable composition layer. On the other hand, when the said compounding quantity exceeds 100 mass parts, compatibility with a component (I) will worsen, film | membrane roughening may be produced on the surface of a core part, and sufficient transparency may not be obtained.

[成分(ハ)] 成分(ハ)は、反応性希釈モノマーである。 上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(B)と同様のものが挙げられる。 コア用光硬化性樹脂組成物中、成分(ハ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは5〜100質量部、より好ましくは10〜70質量部、特に好ましくは20〜50質量部である。上記配合量が5質量部未満であると、フィルム状光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、光硬化性樹脂組成物の硬化物(コア部分)の表面に膜荒れを生じることがある。 [Component (C)] The component (C) is a reactive dilution monomer. As said reactive dilution monomer, the thing similar to the component (B) of the above-mentioned photocurable composition for cladding layers is mentioned. In the photocurable resin composition for the core, the amount of the component (c) is preferably 5 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 70 parts by mass, particularly preferably 100 parts by mass of the component (b). 20 to 50 parts by mass. When the blending amount is less than 5 parts by mass, the accuracy of the target waveguide shape may be inferior when a film-like optical waveguide is formed. On the other hand, when the said compounding quantity exceeds 100 mass parts, compatibility with a component (I) will worsen and film | membrane roughening may be produced on the surface of the hardened | cured material (core part) of a photocurable resin composition.

[成分(ニ)] 成分(ニ)は、光重合開始剤である。 上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(C)と同様のものが挙げられる。 コア用光硬化性樹脂組成物中、成分(ニ)の配合割合は、コア用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.2〜5質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、フィルム状光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。 [Component (d)] The component (d) is a photopolymerization initiator. As said photoinitiator, the thing similar to the component (C) of the above-mentioned photocurable composition for clad layers is mentioned. In the photocurable resin composition for the core, the mixing ratio of the component (d) is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1%, based on 100% by mass of the total amount of the photocurable resin composition for the core. 2 to 5% by mass. If the blending ratio is less than 0.1% by mass, curing does not proceed sufficiently and a problem may occur in the transmission characteristics of the film-like optical waveguide. On the other hand, when the said mixture ratio exceeds 10 mass%, a photoinitiator may have a bad influence on a long-term transmission characteristic.

[任意成分] コア用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒(成分(ホ))を含有することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層用光硬化性組成物の成分(D)と同様のものが挙げられる。 コア用光硬化性樹脂組成物中、成分(ホ)(有機溶媒)の配合割合は、コア用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは15〜55質量%である。上記配合割合が5質量%未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。一方、上記配合割合が80質量%を超えると、十分な厚さを有するフィルム状光導波路等を形成することが困難なことがある。 [Optional Components] The core photocurable resin composition may contain an organic solvent (component (e)) as necessary. By blending an organic solvent, an appropriate viscosity can be imparted. As an organic solvent, the same thing as the component (D) of the above-mentioned photocurable composition for cladding layers is mentioned. In the photocurable resin composition for the core, the blending ratio of the component (e) (organic solvent) is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 100% by mass based on the total amount of the photocurable resin composition for the core. It is 10-60 mass%, Most preferably, it is 15-55 mass%. If the said mixture ratio is less than 5 mass%, adjustment of the viscosity of a photocurable resin composition may become difficult. On the other hand, if the blending ratio exceeds 80% by mass, it may be difficult to form a film-like optical waveguide having a sufficient thickness.

また、コア用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含むことができる。 コア用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。 In addition, the photocurable resin composition for the core includes various additives as necessary, for example, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, a coating surface improver, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent. Agents, surfactants, colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, fillers, inorganic particles, anti-aging agents, wettability improvers, antistatic agents and the like. In order to prepare the photocurable resin composition for the core, the above-described components may be mixed and stirred according to a conventional method.

次に、図面を参照しつつ、本発明のフィルム状光導波路及びその製造方法の一例を説明する。 図1は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。 図4は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。 Next, an example of the film-like optical waveguide of the present invention and the manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view schematically showing an example of the film-like optical waveguide of the present invention. FIG. 4 is a flowchart showing an example of the method for producing a film-shaped optical waveguide of the present invention.

[フィルム状光導波路の構造] 図1中、フィルム状光導波路1は、下部クラッド層15と、下部クラッド層15の上に形成されたコア部分22と、下部クラッド層15の上であってかつコア部分22の側方に、コア部分22と概同じ厚さを有するように形成された中間クラッド層36と、コア部分22及び中間クラッド層36の上に形成された上部クラッド層33とからなる光導波路本体と、該光導波路本体の上下面に設けられた支持フィルム2,3とを含む。 光導波路本体は、下部クラッド層15からなる下層と、コア部分22及び中間クラッド層36からなる中間層と、上部クラッド層33からなる上層の3層構造を有する。 下部クラッド層15は、支持フィルム2の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層15の上面には、特定の幅を有するコア部分22と、中間クラッド層36とが形成されている。コア部分22及び中間クラッド層36の上面には、上部クラッド層33が積層して形成されており、上部クラッド層33の上面には、支持フィルム3が設けられている。なお、コア部分22は、光導波路本体の外形を形成する下部クラッド層15、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33の中に埋設されている。中間クラッド層36は、下部クラッド層15の上面(ただし、コア部分22が形成された領域を除く)に積層して形成されており、コア部分22と概同じ高さを有するものである。 フィルム状光導波路における下部クラッド層15、コア部22、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33の厚さは、特に限定されないが、例えば、下部クラッド層15の厚さが1〜200μm、コア部分22の厚さが3〜200μm、中間クラッド層の厚さが3〜200μm、上部クラッド層33の厚さが1〜200μmとなるように定められる。コア部の幅は、特に限定されないが、例えば、1〜200μmである。 下部クラッド層15及び上部クラッド層33は、上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。中間クラッド層36は、上述の中間層用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。コア部分22は、上述のコア用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。 また、下部クラッド層15、コア部分22、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33のうち少なくとも1つは、後述するドライフィルムを用いて形成される。すなわち、これら各部の少なくとも1つは、ドライフィルム中の未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層を硬化させることにより形成される。特に好ましくは、少なくとも中間クラッド層36は、ドライフィルムを用いて形成される。 [Structure of Film Optical Waveguide] In FIG. 1, the film optical waveguide 1 includes a lower cladding layer 15, a core portion 22 formed on the lower cladding layer 15, the lower cladding layer 15, and An intermediate cladding layer 36 formed on the side of the core portion 22 so as to have substantially the same thickness as the core portion 22, and an upper cladding layer 33 formed on the core portion 22 and the intermediate cladding layer 36. It includes an optical waveguide body and support films 2 and 3 provided on the upper and lower surfaces of the optical waveguide body. The optical waveguide main body has a three-layer structure of a lower layer made of the lower cladding layer 15, an intermediate layer made of the core portion 22 and the intermediate cladding layer 36, and an upper layer made of the upper cladding layer 33. The lower clad layer 15 is formed by being laminated on the upper surface of the support film 2, and a core portion 22 having a specific width and an intermediate clad layer 36 are formed on the upper surface of the lower clad layer 15. . An upper cladding layer 33 is formed on the upper surfaces of the core portion 22 and the intermediate cladding layer 36, and the support film 3 is provided on the upper surface of the upper cladding layer 33. The core portion 22 is embedded in the lower cladding layer 15, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33 that form the outer shape of the optical waveguide body. The intermediate clad layer 36 is formed by being laminated on the upper surface of the lower clad layer 15 (excluding the region where the core portion 22 is formed), and has approximately the same height as the core portion 22. The thickness of the lower cladding layer 15, the core portion 22, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33 in the film-shaped optical waveguide is not particularly limited. For example, the thickness of the lower cladding layer 15 is 1 to 200 μm, and the core portion The thickness of 22 is determined to be 3 to 200 μm, the thickness of the intermediate cladding layer is 3 to 200 μm, and the thickness of the upper cladding layer 33 is 1 to 200 μm. Although the width | variety of a core part is not specifically limited, For example, it is 1-200 micrometers. The lower cladding layer 15 and the upper cladding layer 33 are made of a cured product of the above-described photocurable resin composition for a cladding layer. The intermediate cladding layer 36 is made of a cured product of the above-described intermediate layer photocurable resin composition. It is preferable that the core part 22 consists of hardened | cured material of the above-mentioned photocurable resin composition for cores. In addition, at least one of the lower cladding layer 15, the core portion 22, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33 is formed using a dry film described later. That is, at least one of these parts is formed by curing a layer made of an uncured photocurable resin composition in the dry film. Particularly preferably, at least the intermediate cladding layer 36 is formed using a dry film.

コア部分22の屈折率は、下部クラッド層15、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長400〜1,600nmの光に対して、コア部分22の屈折率が1.420〜1.650、下部クラッド層15、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33の屈折率が1.400〜1.648であり、かつ、コア部分22の屈折率が、3つのクラッド層14,33,36のいずれの屈折率よりも少なくとも0.1%大きな値であることが好ましい。 下部クラッド層15、中間クラッド層36、上部クラッド層33の各部とコア部分22との比屈折率差Δは、1%以上であることが好適である。比屈折率差Δは、下記式で表される。 Δ=(n−n)/n ここで、nはコア部分22の屈折率、nはクラッド層(下部クラッド層15、中間クラッド層36、上部クラッド層33)の屈折率である。 このようにすることによって、コア部22内に光を閉じ込めることができるために、良好な光導波路を作成することが可能となる。 The refractive index of the core portion 22 needs to be higher than any of the refractive indexes of the lower cladding layer 15, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33. For example, for light having a wavelength of 400 to 1,600 nm, the refractive index of the core portion 22 is 1.420 to 1.650, and the refractive indexes of the lower cladding layer 15, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33 are 1. It is preferable that the refractive index of the core portion 22 is 400 to 1.648 and at least 0.1% larger than the refractive index of any of the three cladding layers 14, 33, and 36. The relative refractive index difference Δ between each portion of the lower cladding layer 15, the intermediate cladding layer 36 and the upper cladding layer 33 and the core portion 22 is preferably 1% or more. The relative refractive index difference Δ is expressed by the following formula. Δ = (n 1 −n 2 ) / n 1 where n 1 is the refractive index of the core portion 22, and n 2 is the refractive index of the cladding layers (lower cladding layer 15, intermediate cladding layer 36, upper cladding layer 33). is there. By doing so, light can be confined in the core portion 22, so that a good optical waveguide can be created.

クラッド層(下部クラッド層15、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33)は、高い透明性を有する。具体的には、クラッド層は、10μmの厚みを有する場合に、405nmの波長の光に対して、80%以上、好ましくは90%以上の透過率を有する。 クラッド層が高い透明性を有することによって、フィルム状光導波路の下面に、面発光レーザ等の発光素子や、フォトダイオード等の受光素子を接合して、電気/光信号を変換するインターフェースを形成するときに、フィルム状光導波路を上方から透視して、発光素子や受光素子の位置と、フィルム状光導波路中のコア部分の位置とを正確に合わせることができる。 また、クラッド層が高い透明性を有することによって、光信号に使用される波長領域の光に対して高い透過率を発現することができ、発光素子からの光信号がクラッド層を通過してコア部分に到達する際の、光の損失、及び、コア部分からの光信号がクラッド層を通過して受光素子に到達する際の、光の損失を極めて小さくすることができる。 The clad layers (the lower clad layer 15, the intermediate clad layer 36, and the upper clad layer 33) have high transparency. Specifically, when the cladding layer has a thickness of 10 μm, it has a transmittance of 80% or more, preferably 90% or more, for light having a wavelength of 405 nm. Since the cladding layer has high transparency, a light emitting element such as a surface emitting laser or a light receiving element such as a photodiode is joined to the lower surface of the film-shaped optical waveguide to form an interface for converting an electrical / optical signal. Sometimes, the position of the light emitting element and the light receiving element can be accurately aligned with the position of the core portion in the film-shaped optical waveguide by seeing through the film-shaped optical waveguide from above. In addition, since the cladding layer has high transparency, it can exhibit high transmittance with respect to light in the wavelength region used for the optical signal, and the optical signal from the light emitting element passes through the cladding layer and passes through the core. The loss of light when reaching the portion and the loss of light when the optical signal from the core portion reaches the light receiving element through the cladding layer can be extremely reduced.

[ドライフィルム] 次に、本発明のフィルム状光導波路の製造に用いるドライフィルムについて説明する。 本明細書中、「ドライフィルム」は、少なくとも、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層(液状ではないもの;例えば、乾燥物等)と、該光硬化性樹脂組成物からなる層を支持するためのベースフィルムとを備えたものとして定義される。すなわち、上記ドライフィルムは、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層と、該層を支持するためのベースフィルムとを備えていればよく、(i)ベースフィルムと、光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体であってもよいし、あるいは、(ii)ベースフィルムと、光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層(硬化物層)と、光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体であってもよい。 上記ドライフィルムの具体例を以下に示す。 上記(i)のドライフィルムの例としては、(a)ベースフィルムと、下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、(b)ベースフィルムと、コア部用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、(c)ベースフィルムと、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、(d)ベースフィルムと、上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、が挙げられる。上記(ii)のドライフィルムの例としては、例えば、(e)ベースフィルムと、下部クラッド層(下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層)と、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、(f)ベースフィルムと、下部クラッド層(下部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層)と、コア部用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、(g)ベースフィルムと、上部クラッド層(上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層)と、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物からなる層(未硬化層)との積層体、が挙げられる。また、ドライフィルムとしては、(h)前記(a)〜(g)のいずれかの積層体において、未硬化の光硬化性樹脂組成物からなる層上に、カバーフィルムを積層させてなる積層体も用いることができる。 本発明のフィルム状光導波路の製造方法においては、上述のとおり、少なくとも中間クラッド層36が、ドライフィルムを用いて形成されることが好ましい。中間クラッド層は、上記(c)の積層体を用いて形成することもできるが、好ましくは上記(g)の積層体を用いて形成される。 [Dry Film] Next, a dry film used for producing the film-like optical waveguide of the present invention will be described. In the present specification, the “dry film” includes at least a layer made of an uncured photocurable resin composition (not liquid; for example, a dried product) and a layer made of the photocurable resin composition. And a base film for support. That is, the dry film only needs to include a layer made of an uncured photocurable resin composition and a base film for supporting the layer. (I) A base film and a photocurable resin composition It may be a laminate with a layer (uncured layer) made of a product, or (ii) a layer (cured product layer) made of a cured product of a base film, a photocurable resin composition, and photocured It may be a laminate with a layer (uncured layer) made of a conductive resin composition. Specific examples of the dry film are shown below. As an example of the dry film of (i) above, (a) a laminate of a base film and a layer (uncured layer) made of a photocurable resin composition for the lower cladding layer, (b) a base film, Laminated body with layer (uncured layer) made of photocurable resin composition for core, (c) base film, and layer (uncured layer) made of photocurable resin composition for intermediate cladding layer And (d) a laminate of a base film and a layer (uncured layer) made of a photocurable resin composition for the upper cladding layer. Examples of the dry film (ii) include, for example, (e) a base film, a lower cladding layer (a layer made of a cured product of a photocurable resin composition for the lower cladding layer), and an intermediate cladding layer Laminated body with layer (uncured layer) made of photocurable resin composition, (f) base film, lower clad layer (layer made of cured product of photocurable resin composition for lower clad layer), Laminated body with layer (uncured layer) made of photocurable resin composition for core part, (g) Base film and upper clad layer (made of cured product of photocurable resin composition for upper clad layer) Layer) and a laminate of a layer (uncured layer) made of a photocurable resin composition for the intermediate cladding layer. Moreover, as a dry film, (h) The laminated body which laminates | stacks a cover film on the layer which consists of an uncured photocurable resin composition in the laminated body in any one of said (a)-(g). Can also be used. In the method for producing a film-shaped optical waveguide of the present invention, as described above, it is preferable that at least the intermediate cladding layer 36 is formed using a dry film. The intermediate clad layer can be formed using the laminate of the above (c), but is preferably formed using the laminate of the above (g).

[フィルム状光導波路の製造方法] フィルム状光導波路1の製造方法は、中間クラッド層36及び上部クラッド層33形成用のドライフィルム30を用意する工程と、下部クラッド層15を形成する工程と、コア部分22を形成する工程と、ドライフィルム30を用いて中間クラッド層36及び上部クラッド層33を形成する工程と、を含む。 なお、フィルム状光導波路を構成する下部クラッド層15、コア部分22、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33の各部を形成するための組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物と称する。 [Manufacturing Method of Film Optical Waveguide] The manufacturing method of the film optical waveguide 1 includes a step of preparing a dry film 30 for forming the intermediate cladding layer 36 and the upper cladding layer 33, a step of forming the lower cladding layer 15, The step of forming the core portion 22 and the step of forming the intermediate cladding layer 36 and the upper cladding layer 33 using the dry film 30 are included. In addition, the composition for forming each part of the lower clad layer 15, the core portion 22, the intermediate clad layer 36, and the upper clad layer 33 constituting the film-shaped optical waveguide is respectively a lower layer composition and a core composition for convenience. These are referred to as the composition, the intermediate layer composition, and the upper layer composition.

(1)材料の調製 下層用組成物、コア用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物
の各々の成分組成は、下部クラッド層15、コア部分22、中間クラッド層36、及び上部クラッド層33の各部の屈折率の関係が、フィルム状光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような三種または四種の光硬化性組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える光硬化性組成物をコア用組成物とし、他の光硬化性組成物を下層用組成物、中間層用組成物、及び上層用組成物として用いる。なお、下層用組成物と上層用組成物は、同一の光硬化性組成物(上述のクラッド層用光硬化性樹脂組成物)であることが、経済上および製造管理上、好ましい。
(1) Preparation of material Each component composition of the lower layer composition, the core composition, the intermediate layer composition, and the upper layer composition is composed of the lower cladding layer 15, the core portion 22, the intermediate cladding layer 36, and the upper layer. The relationship of the refractive index of each part of the clad layer 33 is determined so as to satisfy the conditions required for the film-like optical waveguide. Specifically, three or four types of photocurable compositions are prepared so that the difference in refractive index is an appropriate magnitude, and among these, the photocurable composition that gives the cured film with the highest refractive index is the core. The other photocurable composition is used as the lower layer composition, the intermediate layer composition, and the upper layer composition. The lower layer composition and the upper layer composition are preferably the same photocurable composition (the above-described photocurable resin composition for the clad layer) in terms of economy and production management.

(2)中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムを用意する工程 ベースフィルム31と、上部クラッド層33(上層用組成物の硬化物からなる層)と、未硬化の中層用組成物からなる層34との積層体であるドライフィルム30を用意する工程である。 ベースフィルム31としては、可撓性を有しており、また光硬化性樹脂組成物の硬化に用いる光に対して高い透過性を有するものが好ましい。このようなベースフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。ベースフィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、10〜200μmである。このようなこのようなベースフィルムを用いることによって、後述する工程(5)において、ベースフィルム31の側から光を照射して未硬化の中層用組成物からなる層34の硬化を行うことができ、また、ベースフィルム31を、そのまま、フィルム状光導波路の支持フィルム3とすることができる。 なお、ドライフィルム30においては、必要に応じて、中層用組成物からなる層34の上面にカバーフィルム35を設けることができる。カバーフィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられる。カバーフィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、5〜100μmである。 (2) Step of preparing a dry film for forming an intermediate cladding layer and an upper cladding layer From a base film 31, an upper cladding layer 33 (a layer made of a cured product of an upper layer composition), and an uncured intermediate layer composition This is a step of preparing a dry film 30 that is a laminate with the layer 34. As base film 31, what has flexibility and has high permeability to light used for hardening of a photocurable resin composition is preferred. Examples of such a base film include a polyethylene terephthalate film and a polyethylene naphthalate film. Although the thickness of a base film is not specifically limited, For example, it is 10-200 micrometers. By using such a base film, the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition can be cured by irradiating light from the base film 31 side in the step (5) described later. Moreover, the base film 31 can be used as the support film 3 of a film-like optical waveguide as it is. In addition, in the dry film 30, the cover film 35 can be provided in the upper surface of the layer 34 which consists of a composition for middle layers as needed. Examples of the cover film include a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyethylene terephthalate film. Although the thickness of a cover film is not specifically limited, For example, it is 5-100 micrometers.

ドライフィルム30は、例えば、以下のようにして得られる。 まず、ベースフィルム31の上面に上層用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥またはプリベークして、上層用薄膜32を形成する(図3中の(a))。次いで、この上層用薄膜32に光を照射して硬化させ、硬化体である上部クラッド層33を形成する(図3中の(b))。次に、上部クラッド層33の上面に、中層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして溶剤を飛散させることにより、未硬化の中層用組成物からなる層34を形成させる(図3中の(c))。必要に応じて、未硬化の中層用組成物からなる層34の上面にカバーフィルム35を設けることにより、ドライフィルム30を得る(図3中の(d))。 光硬化性樹脂組成物(上層用組成物、中層用組成物)を塗布する方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、又はインクジェット法等が挙げられる。 The dry film 30 is obtained as follows, for example. First, the upper layer composition is applied to the upper surface of the base film 31, and dried or prebaked as necessary to form the upper layer thin film 32 ((a) in FIG. 3). Next, the upper thin film 32 is irradiated with light and cured to form an upper clad layer 33 which is a cured body ((b) in FIG. 3). Next, the intermediate layer composition is applied to the upper surface of the upper clad layer 33, and dried or prebaked to disperse the solvent, thereby forming a layer 34 of the uncured intermediate layer composition (in FIG. 3). (C)). As needed, the dry film 30 is obtained by providing the cover film 35 on the upper surface of the layer 34 which consists of a composition for uncured middle layers ((d) in FIG. 3). Examples of the method for applying the photocurable resin composition (upper layer composition, middle layer composition) include spin coating, dipping, spraying, bar coating, roll coating, curtain coating, gravure printing, Examples thereof include a silk screen method and an ink jet method.

上層用組成物を乾燥又はプリベークする際の温度は、例えば、50〜200℃である。 上部クラッド層を形成する際の光の照射量については、特に制限されるものでは無いが、波長200〜450nm、照度1〜500mW/cmの光を、照射量が10〜5,000mJ/cmとなるように照射して、露光することが好ましい。 照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。なお、上部クラッド層の形成においては、上層用薄膜32の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。 また、露光後に、上部クラッド層33の全面が十分硬化するように、さらに加熱処理(ポストベーク)を行うことが好ましい。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、加熱温度が、30〜300℃、好ましくは50〜200℃で、加熱時間が5分間〜72時間である。 The temperature at the time of drying or prebaking the composition for upper layers is 50-200 degreeC, for example. The amount of light irradiation when forming the upper cladding layer is not particularly limited, but light having a wavelength of 200 to 450 nm and an illuminance of 1 to 500 mW / cm 2 is irradiated in an amount of 10 to 5,000 mJ / cm 2. It is preferable to perform exposure by irradiating so as to be 2 . Visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, and γ rays can be used as the type of light to be irradiated, and ultraviolet rays are particularly preferable. As the light irradiation device, for example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an excimer lamp, or the like is preferably used. In forming the upper clad layer, it is preferable to irradiate the entire surface of the upper layer thin film 32 with light to cure the whole. Further, after the exposure, it is preferable to perform a heat treatment (post-bake) so that the entire surface of the upper clad layer 33 is sufficiently cured. This heating condition varies depending on the blending composition of the photocurable resin composition, the kind of additive, and the like, but usually the heating temperature is 30 to 300 ° C, preferably 50 to 200 ° C, and the heating time is 5 minutes to 72. It's time.

中層用組成物は、有機溶剤の飛散を目的として、乾燥又はプリベークされる。この際の温度条件は、好ましくは30〜150℃、より好ましくは50〜140℃である。 中層用組成物からなる層34において、乾燥後に残留する有機溶剤の量は、有機溶剤を飛散させた後の光硬化性樹脂組成物を100質量%として、20質量%以下であることが好ましい。 未硬化の中層用組成物からなる層34の厚さは、通常、1〜200μmである。なお、未硬化の中層用組成物からなる層34の厚さは、コア部分22の高さに対して、1〜1.2倍であることが好ましい。未硬化の中層用組成物からなる層34の厚さをコア部分22の高さの1〜1.2倍とすることにより、後述する工程(5)において、ドライフィルム30を用いて中間クラッド層36を形成する際の作業性を向上させることができ、また、最終的に得られるフィルム状光導波路の形状精度、伝送特性等を向上させることができる。 The intermediate layer composition is dried or prebaked for the purpose of scattering the organic solvent. The temperature condition at this time is preferably 30 to 150 ° C, more preferably 50 to 140 ° C. In the layer 34 composed of the composition for the middle layer, the amount of the organic solvent remaining after drying is preferably 20% by mass or less based on 100% by mass of the photocurable resin composition after the organic solvent is dispersed. The thickness of the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition is usually 1 to 200 μm. In addition, it is preferable that the thickness of the layer 34 which consists of a composition for uncured intermediate | middle layers is 1-1.2 times with respect to the height of the core part 22. FIG. By setting the thickness of the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition to 1 to 1.2 times the height of the core portion 22, the intermediate clad layer is formed using the dry film 30 in the step (5) described later. The workability at the time of forming 36 can be improved, and the shape accuracy and transmission characteristics of the finally obtained film-like optical waveguide can be improved.

(3)下部クラッド層の形成工程 支持フィルム2の上面に下部クラッド層15を形成する工程である。 具体的には、支持フィルム2の表面に下層用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥またはプリベークして、下層用薄膜14を形成する(図4中の(a))。次いで、この下層用薄膜14に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層15を形成する(図4中の(b))。なお、下部クラッド層15の形成においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。また、露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理(ポストベーク)を行うことが好ましい。 支持フィルム2としては、可撓性を有しており、また光硬化性樹脂組成物の硬化に用いる光に対して高い透過性を有するものが好ましい。このような支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。支持フィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば、10〜200μmである。 下部クラッド層の形成工程における、組成物の塗布方法、光の照射量、種類、および光(紫外線)の照射装置、プリベークやポストベークの条件等は、上述の工程(2)における上部クラッド層の形成の条件と同様である。 なお、下部クラッド層15は、ドライフィルムを用いて形成することもできる。この場合、予め準備したドライフィルム10(ベースフィルム11と、未硬化の下層用組成物からなる層13との積層体であるドライフィルム;図2の(b)参照)を用い、未硬化の下層用組成物からなる層13に光を照射して硬化させることによって、下部クラッド層15を形成する。ベースフィルム11は、そのままフィルム状光導波路の支持フィルム2とすることができる。 ドライフィルム10は、例えば、ベースフィルム11の上面に下層用組成物12を塗布し(図2中の(a))、乾燥又はプリベークすることにより有機溶剤を飛散させ、未硬化の下層用組成物からなる層13を形成することにより得られる(図2中の(b))。ドライフィルム10においては、必要に応じて、未硬化の下層用組成物からなる層13の上面にカバーフィルムを設けることができる(図示しない。) ベースフィルム、カバーフィルムとしては、上述の工程(2)のドライフィルム30におけるベースフィルム、カバーフィルムと同様のものが挙げられる。下層用組成物の塗布方法、乾燥又はプリベークの条件等は、上述の工程(2)における中間層用組成物についての条件と同様である。 未硬化の下層用組成物からなる層13は、下層用薄膜14と同様に、必要に応じて、乾燥又はプリベーク、露光後のポストベーク等を行うことができる。 (3) Forming process of lower clad layer In this process, the lower clad layer 15 is formed on the upper surface of the support film 2. Specifically, the lower layer composition is applied to the surface of the support film 2, and dried or prebaked as necessary to form the lower layer thin film 14 ((a) in FIG. 4). Next, the lower layer thin film 14 is irradiated with light and cured to form a lower cladding layer 15 which is a cured body ((b) in FIG. 4). In forming the lower cladding layer 15, it is preferable to irradiate the entire surface of the thin film with light and harden the whole. Moreover, it is preferable to further heat-treat (post-bake) so that the whole coating film may fully harden | cure after exposure. As the support film 2, a film having flexibility and high transparency to the light used for curing the photocurable resin composition is preferable. Examples of such a support film include polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate. Although the thickness of a support film is not specifically limited, For example, it is 10-200 micrometers. In the lower clad layer forming step, the composition coating method, light irradiation amount, type, light (ultraviolet) irradiation device, pre-bake and post-bake conditions, etc. The conditions are the same as the formation conditions. The lower clad layer 15 can also be formed using a dry film. In this case, an uncured lower layer was prepared using a dry film 10 (a dry film that is a laminate of a base film 11 and an uncured lower layer composition 13; see FIG. 2B). The lower clad layer 15 is formed by irradiating and curing the layer 13 made of the composition for use. The base film 11 can be used as the support film 2 of a film-like optical waveguide as it is. For example, the dry film 10 is formed by applying the lower layer composition 12 on the upper surface of the base film 11 ((a) in FIG. 2), and drying or prebaking to disperse the organic solvent, thereby uncured lower layer composition. It is obtained by forming a layer 13 made of ((b) in FIG. 2). In the dry film 10, a cover film can be provided on the upper surface of the layer 13 made of the uncured lower layer composition (not shown in the drawing) as necessary. And the same as the base film and cover film in the dry film 30). The application method of the lower layer composition, the conditions for drying or pre-baking, and the like are the same as the conditions for the intermediate layer composition in step (2) above. The layer 13 composed of the uncured lower layer composition can be subjected to drying or pre-baking, post-baking after exposure, and the like as required, similarly to the lower layer thin film 14.

(4)コア部分の形成工程 下部クラッド層15の表面に、コア部分22を形成する工程である。 具体的には、図4中の(c)に示すように、下部クラッド層15の表面にコア用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥又はプリベークさせてコア用薄膜21を形成する。その後、図4中の(d)に示すように、コア用薄膜21の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク4を介して光5の照射(露光)を行う。これにより、コア用薄膜21のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図4中の(e)に示すように、下部クラッド層15上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分22が形成される。 (4) Core Part Formation Step This is a step of forming the core part 22 on the surface of the lower cladding layer 15. Specifically, as shown in FIG. 4C, a core composition is applied to the surface of the lower cladding layer 15, and dried or prebaked as necessary to form the core thin film 21. Thereafter, as shown in FIG. 4D, irradiation (exposure) of light 5 is performed on the upper surface of the core thin film 21 according to a predetermined pattern, for example, through a photomask 4 having a predetermined line pattern. Do. As a result, only the portion irradiated with light in the core thin film 21 is cured, so that other uncured portions are developed and removed, as shown in FIG. On the lower cladding layer 15, a core portion 22 made of a patterned cured film is formed.

本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク4を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すa〜cの方法のいずれかを採用してもよい。a.液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。b.多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。c.レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら感光性樹脂組成物に照射する方法。 In this step, the method of irradiating light according to a predetermined pattern is not limited to the method using the photomask 4 composed of the light transmitting portion and the non-transmitting portion. For example, any of the following methods a to c May be adopted. a. A method using electro-optical means for forming a mask image composed of a light transmitting region and a light non-transmitting region in accordance with a predetermined pattern using the same principle as that of a liquid crystal display device. b. A method of irradiating light through an optical fiber corresponding to a predetermined pattern in the light guide member using a light guide member formed by bundling a large number of optical fibers. c. A method of irradiating a photosensitive resin composition while scanning a laser beam or convergent light obtained by a condensing optical system such as a lens or a mirror.

本工程における現像処理の詳細は、次のとおりである。 現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部分を形成させるものである。 現像液としては、現像処理に用いる通常の有機溶媒、あるいは希アルカリ水溶液を用いることができる。コア用組成物として上述のコア形成用光硬化性樹脂組成物を用いると、環境安全面に優れた希アルカリ水溶液により現像処理することが可能となる。希アルカリ水溶液を調製するためのアルカリ化合物の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、N−メチルピロリドン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノナンなどを挙げることができる。 中でも、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、水酸化カリウム等は、好ましく用いられる。 アルカリ水溶液中のアルカリ化合物の濃度は、使用するアルカリ化合物の種類によっても異なるが、有機アルカリの場合は、好ましくは、0.05〜10質量%、より好ましくは0.1〜7質量%である。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を用いる場合、該濃度は、好ましくは0.5〜2.5質量%である。 なお、このような希アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒や界面活性剤などを適当量添加して、現像液として使用することも好ましい。 The details of the development processing in this step are as follows. The development process is carried out in accordance with a predetermined pattern, and for the thin film selectively cured, using the difference in solubility between the cured portion and the uncured portion, only the uncured portion is developed using a developer. The removal is performed. That is, after pattern exposure, the uncured portion is removed and the cured portion is left, resulting in the formation of the core portion. As the developer, an ordinary organic solvent used in the development process or a dilute alkaline aqueous solution can be used. When the above-mentioned core-forming photocurable resin composition is used as the core composition, it can be developed with a dilute alkaline aqueous solution excellent in environmental safety. Examples of alkali compounds for preparing dilute aqueous alkali solutions include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, di-n-propyl. Amine, triethylamine, methyldiethylamine, N-methylpyrrolidone, dimethylethanolamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0]- Examples include 7-undecene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonane. Of these, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), potassium hydroxide, and the like are preferably used. The concentration of the alkali compound in the aqueous alkali solution varies depending on the type of the alkali compound used, but in the case of an organic alkali, it is preferably 0.05 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 7% by mass. . For example, when tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is used, the concentration is preferably 0.5 to 2.5% by mass. In addition, it is also preferable to add an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like to such a dilute alkaline aqueous solution and use it as a developer.

また、現像時間は、通常30〜600秒間であり、また現像方法としては液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法を採用することができる。その後、流水洗浄を、例えば30〜90秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾させることによって表面上の水分を除去することにより、パターン状の硬化体が形成される。次いで、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置により、例えば30〜300℃の温度で5〜600分間ポストベーク処理することにより、十分に硬化したコア部22を形成することができる。 コア部分の形成工程における組成物の塗布方法、光の照射量、種類、および光(紫外線
)の照射装置等の条件は、上述の工程(2)における上部クラッド層の形成の条件と同様である。
The developing time is usually 30 to 600 seconds, and a known method such as a liquid piling method, a dipping method, or a shower developing method can be adopted as the developing method. Thereafter, washing with running water is performed for 30 to 90 seconds, for example, and the moisture on the surface is removed by air drying with compressed air, compressed nitrogen, or the like, thereby forming a patterned cured body. Next, a sufficiently hardened core portion 22 can be formed by post-baking for 5 to 600 minutes at a temperature of 30 to 300 ° C. with a heating device such as a hot plate or an oven. The conditions of the composition coating method, light irradiation amount, type, light (ultraviolet) irradiation device, etc. in the core portion forming step are the same as the conditions for forming the upper clad layer in the above step (2). .

なお、コア部分22は、ドライフィルムを用いて形成することができる。この場合、予め準備したドライフィルム(ベースフィルムと、未硬化のコア用組成物からなる層と、必要に応じてカバーフィルムとを含むドライフィルム)を用い、下部クラッド層15の上面に、カバーフィルムを剥離したドライフィルムを、未硬化のコア用組成物からなる層が対峙するように積層する。次いで、前記コア用組成物からなる層に対して、所定のパターンに従って光の照射を行い、未硬化の部分を現像処理して除去することにより、下部クラッド層15上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分22を形成する。 ベースフィルム、カバーフィルムとしては、上述の工程(2)のドライフィルム30におけるベースフィルム、カバーフィルムと同様のものが挙げられる。 未硬化のコア用組成物からなる層は、コア用薄膜21と同様に、必要に応じて、乾燥又はプリベーク、露光後のポストベーク等を行うことができる。 The core portion 22 can be formed using a dry film. In this case, a dry film (a dry film including a base film, a layer made of an uncured core composition, and a cover film as necessary) prepared in advance is used, and the cover film is formed on the upper surface of the lower clad layer 15. The dry film having been peeled off is laminated so that the layers made of the uncured core composition face each other. Next, the layer made of the core composition is irradiated with light according to a predetermined pattern, and the uncured portion is developed and removed, whereby a patterned cured film is formed on the lower cladding layer 15. A core portion 22 is formed. As a base film and a cover film, the thing similar to the base film in the dry film 30 of the above-mentioned process (2) and a cover film is mentioned. The layer made of the uncured core composition can be subjected to drying or pre-baking, post-baking after exposure, and the like as required, as with the core thin film 21.

(5)中間クラッド層及び上部クラッド層の形成工程 上述の工程(2)で用意したドライフィルム30(ベースフィルム31と、上部クラッド層33と、未硬化の中間層用組成物からなる層34との積層体)を用いて、中間クラッド層36及び上部クラッド層33を形成する工程である。 具体的には、下部クラッド層15及びコア部分22の上面に、ドライフィルム30を、未硬化の中間層用組成物からなる層34が対峙するように積層し(図4中の(f))、コア部分22と上部クラッド層33とが接触するように貼りあわせる(図4中の(g))。次いで、中間層用組成物からなる層34に光を照射することにより硬化させて中間クラッド層36とし(図4中の(h))、フィルム状光導波路1を得る。 ドライフィルム30がカバーフィルム35を有する場合には、カバーフィルム35を剥離してから、下部クラッド層15及びコア部分22の上面に、ドライフィルム30を積層する。また、ベースフィルム31は、そのまま剥離せずに、フィルム状光導波路1の支持フィルム3とすることができる。 (5) Step of forming intermediate clad layer and upper clad layer Dry film 30 (base film 31, upper clad layer 33, layer 34 made of uncured intermediate layer composition) prepared in step (2) above The intermediate clad layer 36 and the upper clad layer 33 are formed using the above laminate. Specifically, the dry film 30 is laminated on the upper surfaces of the lower clad layer 15 and the core portion 22 so that the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition faces ((f) in FIG. 4). Then, the core portion 22 and the upper clad layer 33 are bonded together so as to come into contact ((g) in FIG. 4). Next, the layer 34 made of the intermediate layer composition is cured by irradiating light to form an intermediate cladding layer 36 ((h) in FIG. 4), whereby the film-shaped optical waveguide 1 is obtained. When the dry film 30 has the cover film 35, the cover film 35 is peeled off, and then the dry film 30 is laminated on the upper surfaces of the lower cladding layer 15 and the core portion 22. Moreover, the base film 31 can be used as the support film 3 of the film-form optical waveguide 1 without peeling off as it is.

ドライフィルム30を、下部クラッド層15及びコア部分22の上面に積層、貼合をする際、未硬化の中間層用組成物からなる層34は、下部クラッド層15上からはみ出る可能性があるが、このはみ出た部分は除去する。 中間クラッド層36の形成における、光の照射量、種類、および光(紫外線)の照射装置、プリベークやポストベークの条件等は、上述の工程(2)における上部クラッド層の形成の条件と同様である。 上述のようにしてドライフィルム30を積層、貼合することにより、未硬化の中間層用組成物からなる層34は、硬化体であるコア部分22をスペーサーとして、下部クラッド層15及び上部クラッド層33の間に挟まれることとなる。この状態で中間層用組成物からなる層34を光照射して硬化させることにより、均一な厚みを有する中間クラッド層36を形成することができる。これにより、コア部分22の周囲のクラッド層(下部クラッド層15、中間クラッド層36、上部クラッド層33)の厚みを均一にすることができるため、コア部22を伝播する光の光学特性を良化することが可能となる。 なお、フィルム状光導波路は、支持フィルム2,3を剥離して用いることもできる。 When the dry film 30 is laminated and bonded to the upper surfaces of the lower cladding layer 15 and the core portion 22, the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition may protrude from the lower cladding layer 15. This protruding portion is removed. In the formation of the intermediate cladding layer 36, the light irradiation amount, type, light (ultraviolet) irradiation device, pre-bake and post-bake conditions, and the like are the same as those for the formation of the upper clad layer in the above step (2). is there. By laminating and laminating the dry film 30 as described above, the layer 34 made of the uncured intermediate layer composition has the core portion 22 that is a cured body as a spacer, and the lower clad layer 15 and the upper clad layer. 33. In this state, the intermediate clad layer 36 having a uniform thickness can be formed by curing the layer 34 made of the intermediate layer composition by light irradiation. As a result, the thickness of the cladding layers around the core portion 22 (the lower cladding layer 15, the intermediate cladding layer 36, and the upper cladding layer 33) can be made uniform, so that the optical characteristics of light propagating through the core portion 22 are good. Can be realized. The film-shaped optical waveguide can also be used with the support films 2 and 3 peeled off.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
[1.光硬化性樹脂組成物の各成分の用意]
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、反応性希釈モノマー、光重合開始剤、有機溶媒、エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー、他の添加材として、以下の材料を用意した。
[ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー;クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(A)、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(a)、コア用光硬化性樹脂組成物の成分(ロ)]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート16.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール74.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート8.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50℃で1時間反応させ、さらに65℃まで昇温し2時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、A−1を得た。
同様の方法にてA−2〜A−9を得た。
A−1〜A−9の製造に用いた原料名及び配合量を、表1に示す。
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[1. Preparation of each component of photocurable resin composition]
The following materials were prepared as urethane (meth) acrylate oligomers, reactive diluent monomers, photopolymerization initiators, organic solvents, vinyl polymers having an ethylenically unsaturated group, and other additives.
[Urethane (meth) acrylate oligomer; component (A) of photocurable resin composition for clad layer, component (a) of photocurable resin composition for intermediate layer, component of photocurable resin composition for core (b) ]]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, 16.6 parts by mass of isophorone diisocyanate, 74.7 parts by mass of polypropylene glycol having a number average molecular weight of 2,000, 0.01 parts by mass of 2,6-di-t-butyl-p-cresol Was cooled to 5 to 10 ° C. While stirring, 0.05 parts by mass of di-n-butyltin dilaurate was added and the mixture was stirred for 2 hours while adjusting the temperature to be kept at 30 ° C. or lower, and then the temperature was raised to 50 ° C. and further stirred for 2 hours. . Subsequently, 8.7 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (the total amount of 100 parts by mass above) was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was reacted at 50 ° C. for 1 hour, further heated to 65 ° C. and reacted for 2 hours. . The reaction was terminated when the residual isocyanate was 0.1% by mass or less, and A-1 was obtained.
A-2 to A-9 were obtained in the same manner.
Table 1 shows the raw material names and amounts used for the production of A-1 to A-9.

Figure 0005327053
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[反応性希釈モノマー;クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(B)、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(b)、コア用光硬化性樹脂組成物の成分(ハ)](1)N−ビニル−2−ピロリドン;ISP社製、V−PYROL(2)N−ビニルカプロラクタム;ISP社製、V−CAP(3)イソボルニルアクリレート;大阪有機化学工業社製、IBXA(4)ビスフェノールA EO付加物ジアクリレート;大阪有機化学工業社製、ビスコート700(5)2,2−ビス‐4(2‐ヒドロキシ‐3‐アクリロキシプロピルフェニル)プロパン;昭和高分子社製、VR−77(6)1,9−ノナンジオールジアクリレート;大阪有機化学工業社製、ビスコート260(7)9,9−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]フルオレン;新中村化学工業社製、NKエステル A−BPEF(8)1,6−ヘキサンジオールジアクリレート;共栄社化学社製、ライトアクリレート1,6−HX−A(9)EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート;大阪有機化学工業社製、ビスコート360(10)トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート;東亞合成社製、アロニックスM−315(11)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;日本化薬社製、KAYARAD DPHA[重合開始剤;クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(C)、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(c)、コア用光硬化性樹脂組成物の成分(ニ)](1)Irgacure369;2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製(2)Irgacure184;1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製[有機溶媒;クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(D)、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(d)、コア用光硬化性樹脂組成物の成分(ホ)](1)メトキシプロピルアセテート [Reactive dilution monomer; component (B) of photocurable resin composition for clad layer, component (b) of photocurable resin composition for intermediate layer, component (c) of photocurable resin composition for core] (1) N-vinyl-2-pyrrolidone; manufactured by ISP, V-PYROL (2) N-vinylcaprolactam; manufactured by ISP, V-CAP (3) isobornyl acrylate; manufactured by Osaka Organic Chemical Industry, IBXA ( 4) Bisphenol A EO adduct diacrylate; manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Biscoat 700 (5) 2,2-bis-4 (2-hydroxy-3-acryloxypropylphenyl) propane; manufactured by Showa Polymer Co., Ltd., VR -77 (6) 1,9-nonanediol diacrylate; manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 260 (7) 9,9-bis [4- (2-acryloxyethoxy) phenyl] full Len; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-BPEF (8) 1,6-hexanediol diacrylate; Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light acrylate 1,6-HX-A (9) EO-modified trimethylolpropane triacrylate Manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Biscoat 360 (10) Tris (acryloxy) isocyanurate; manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronics M-315 (11) dipentaerythritol hexaacrylate; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD DPHA [polymerization initiator The component (C) of the photocurable resin composition for the cladding layer, the component (c) of the photocurable resin composition for the intermediate layer, the component (d) of the photocurable resin composition for the core] (1) Irgacure 369; 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, Ciba Specialty Chemicals (2) Irgacure 184; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Ciba Specialty Chemicals [organic solvent; photocurable resin composition for clad layer (D), intermediate layer photocurable resin Component (d) of composition, component (e) of photocurable resin composition for core] (1) Methoxypropyl acetate

[エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー;クラッド層用光硬化性樹脂組成物の成分(E)、中間層用光硬化性樹脂組成物の成分(e)、コア用光硬化性樹脂組成物の成分(イ)]
調製例1
ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.5g、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン90gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20g、ジシクロペンタニルアクリレート25g、メチルメタクリレート40g、及びn−ブチルアクリレート15gを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.12g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、攪拌しながら2−メタクリロキシエチルイソシアネート23.7gを温度が60℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、60℃で5時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、目的とする共重合体E−1を得た。
[Vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group; component (E) of photocurable resin composition for clad layer, component (e) of photocurable resin composition for intermediate layer, photocurable resin composition for core Ingredients (I)]
Preparation Example 1
A flask equipped with a dry ice / methanol reflux was purged with nitrogen, and then 1.5 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator and 90 g of methyl isobutyl ketone as an organic solvent were charged and polymerized. Stir until the initiator is dissolved. Subsequently, 20 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 25 g of dicyclopentanyl acrylate, 40 g of methyl methacrylate, and 15 g of n-butyl acrylate were charged, and then gently stirring was started. Thereafter, the temperature of the solution was raised to 70 ° C., and polymerization was carried out at this temperature for 6 hours. Thereafter, 0.12 g of di-n-butyltin dilaurate and 0.05 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were charged into the obtained solution, and 23.7 g of 2-methacryloxyethyl isocyanate was stirred. Was added dropwise so that the temperature was kept at 60 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain a polymer solution having a methacryl group in the side chain. Thereafter, the reaction product was dropped into a large amount of hexane to solidify the reaction product. Further, it was redissolved in tetrahydrofuran having the same mass as the coagulated product and coagulated again with a large amount of hexane. After this re-dissolution / coagulation operation was carried out three times in total, the obtained coagulated product was vacuum-dried at 40 ° C. for 48 hours to obtain the desired copolymer E-1.

調製例2 ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3g、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン100gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20g、メタクリル酸10g、ジシクロペンタニルアクリレート10g、スチレン25g、及びn−ブチルアクリレート35gを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.13g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、攪拌しながら2−メタクリロキシエチルイソシアネート23.7gを温度が60℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、60℃で5時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、目的とする共重合体E−2を得た。 Preparation Example 2 A flask equipped with a dry ice / methanol reflux was purged with nitrogen, and then 3 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator and 100 g of methyl isobutyl ketone as an organic solvent were added. Stir until dissolved. Subsequently, 20 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 g of methacrylic acid, 10 g of dicyclopentanyl acrylate, 25 g of styrene, and 35 g of n-butyl acrylate were added, and stirring was started gently. Thereafter, the temperature of the solution was raised to 80 ° C., and polymerization was carried out at this temperature for 6 hours. Thereafter, 0.13 g of di-n-butyltin dilaurate and 0.05 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were charged into the obtained solution, and 23.7 g of 2-methacryloxyethyl isocyanate was stirred. Was added dropwise so that the temperature was kept at 60 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain a polymer solution having a methacryl group in the side chain. Thereafter, the reaction product was dropped into a large amount of hexane to solidify the reaction product. Further, it was redissolved in tetrahydrofuran having the same mass as the coagulated product and coagulated again with a large amount of hexane. After performing this re-dissolution-coagulation operation three times in total, the obtained coagulated product was vacuum-dried at 40 ° C. for 48 hours to obtain the desired copolymer E-2.

調製例3 ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3g、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン100gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20g、メタクリル酸10g、スチレン20g、4−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノキシエチルアクリレート40g、及びn−ブチルアクリレート10gを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.13g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、攪拌しながら2−メタクリロキシエチルイソシアネート23.7gを温度が60℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、60℃で5時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、目的とする共重合体E−3を得た。 共重合体E−1〜E−3の製造に用いた前記の原料名及び配合量を、表2に示す。 Preparation Example 3 After replacing the flask equipped with a dry ice / methanol reflux with nitrogen, 3 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator and 100 g of methyl isobutyl ketone as an organic solvent were added. Stir until dissolved. Subsequently, 20 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 g of methacrylic acid, 20 g of styrene, 40 g of 4- (1-methyl-1-phenylethyl) phenoxyethyl acrylate, and 10 g of n-butyl acrylate were added, and then gently stirred. It was. Thereafter, the temperature of the solution was raised to 80 ° C., and polymerization was carried out at this temperature for 6 hours. Thereafter, 0.13 g of di-n-butyltin dilaurate and 0.05 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were charged into the obtained solution, and 23.7 g of 2-methacryloxyethyl isocyanate was stirred. Was added dropwise so that the temperature was kept at 60 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain a polymer solution having a methacryl group in the side chain. Thereafter, the reaction product was dropped into a large amount of hexane to solidify the reaction product. Further, it was redissolved in tetrahydrofuran having the same mass as the coagulated product and coagulated again with a large amount of hexane. After this re-dissolution / coagulation operation was performed three times in total, the obtained coagulated product was vacuum-dried at 40 ° C. for 48 hours to obtain the desired copolymer E-3. Table 2 shows the raw material names and blending amounts used for the production of the copolymers E-1 to E-3.

Figure 0005327053
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表3に示す配合割合で、上述の成分を均一に混合して、下部クラッド層、上部クラッド層、中間クラッド層用の光硬化性樹脂組成物J−1〜J−13、コア用の光硬化性樹脂組成物K−1〜K−2を得た。 In the blending ratio shown in Table 3, the above-mentioned components are uniformly mixed, and photocurable resin compositions J-1 to J-13 for the lower clad layer, upper clad layer, and intermediate clad layer, and photocured for the core. Resin compositions K-1 to K-2 were obtained.

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[2.フィルム状光導波路の形成][実施例1](1)中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムの用意 まず、光硬化性樹脂組成物J−1をポリエチレンテレフタレート(PET)製のベースフィルムの上面に、スピンコータで塗布し、光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cmの紫外線を100秒間照射して、光硬化させ、厚さ10μmの上部クラッド層を形成した。続いて、上部クラッド層の上面に、光硬化性樹脂組成物J−11をスピンコータで塗布した後、ホットプレートを用いて100℃、10分間の条件でプリベークして未硬化の光硬化性樹脂組成物J−11からなる層を形成することにより、ベースフィルムと、上部クラッド層(光硬化性樹脂組成物J−1の硬化物)と、未硬化の光硬化性樹脂組成物J−11からなる層とが積層してなるドライフィルムを得た。(2)下部クラッド層の形成 まず、光硬化性樹脂組成物J−1を、ポリエチレンテレフタレート(PET)製の支持フィルム(厚さ100μm)の上面にスピンコータで塗布し、光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を100秒間照射して、光硬化させ、厚さ10μmの下部クラッド層を形成した。(3)コア部分の形成 次に、コア用の光硬化性樹脂組成物K−2を、下部クラッド層上にスピンコータで塗布し、100℃、10分間の条件でプリベークして、塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、幅50μmのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長365nm、照度20mW/cmの紫外線を75秒間照射して、光硬化させた。そして、硬化させた塗膜を有する基板をアセトンからなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶解させた。その後、150℃、1時間の条件で、ポストベークをすることにより、幅50μmのライン状パターンを有するコア部分(厚さ50μm)を形成した。(4)中間クラッド層及び上部クラッド層の形成 続いて、下部クラッド層及びコア部分の上面に、上記ドライフィルムを、未硬化の光硬化性樹脂組成物J−11からなる層が対峙するよう積層し、コア部分とドライフィルム中の上部クラッド層とが接触するよう貼り合せた。その後、未硬化の光硬化性樹脂組成物J−11からなる層に対し、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を100秒間照射して硬化させ、厚さ50μmの中間クラッド層を形成し、支持フィルム、下部クラッド層、コア部分、中間クラッド層、上部クラッド層、及び支持フィルムからなる積層体を得た。(5)基板の剥離 上記(1)〜(4)の工程で形成した硬化物を、支持フィルムから剥離し、下部クラッド層、コア部、及び中間クラッド、上部クラッド層をこの順に積層してなるフィルム状光導波路を得た。 [2. Formation of Film Optical Waveguide] [Example 1] (1) Preparation of Dry Film for Forming Intermediate Cladding Layer and Upper Cladding Layer First, a photocurable resin composition J-1 is made of polyethylene terephthalate (PET) base film. A coating film made of the photocurable resin composition J-1 was formed on the upper surface of the film by a spin coater. Next, the coating film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm and an illuminance of 20 mW / cm 2 for 100 seconds to be photocured to form an upper cladding layer having a thickness of 10 μm. Subsequently, after the photocurable resin composition J-11 is applied to the upper surface of the upper clad layer with a spin coater, it is pre-baked using a hot plate at 100 ° C. for 10 minutes to obtain an uncured photocurable resin composition. By forming a layer made of the product J-11, it consists of a base film, an upper clad layer (a cured product of the photocurable resin composition J-1), and an uncured photocurable resin composition J-11. A dry film obtained by laminating layers was obtained. (2) Formation of lower clad layer First, the photocurable resin composition J-1 was applied to the upper surface of a polyethylene terephthalate (PET) support film (thickness: 100 μm) with a spin coater, and the photocurable resin composition J A coating consisting of -1 was formed. Next, the coating film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm and an illuminance of 20 mW / cm 2 for 100 seconds to be photocured to form a lower cladding layer having a thickness of 10 μm. (3) Formation of core part Next, the photocurable resin composition K-2 for the core is applied onto the lower clad layer with a spin coater, and prebaked at 100 ° C. for 10 minutes to form a coating film. did. Subsequently, the coating film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm and an illuminance of 20 mW / cm 2 for 75 seconds through a photomask having a line pattern having a width of 50 μm to be photocured. And the board | substrate which has the hardened coating film was immersed in the developing solution which consists of acetone, and the unexposed part of the coating film was dissolved. Then, the core part (thickness 50 micrometers) which has a line-shaped pattern 50 micrometers in width was formed by postbaking on 150 degreeC and the conditions for 1 hour. (4) Formation of Intermediate Cladding Layer and Upper Cladding Layer Subsequently, the dry film is laminated on the upper surfaces of the lower cladding layer and the core portion so that the layer made of the uncured photocurable resin composition J-11 faces each other. Then, the core portion and the upper clad layer in the dry film were bonded together. Thereafter, the layer made of the uncured photocurable resin composition J-11 is cured by irradiating with an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm and an illuminance of 20 mW / cm 2 for 100 seconds to form an intermediate cladding layer having a thickness of 50 μm. A laminate comprising a support film, a lower clad layer, a core portion, an intermediate clad layer, an upper clad layer, and a support film was obtained. (5) Peeling of the substrate The cured product formed in the steps (1) to (4) above is peeled off from the support film, and the lower cladding layer, the core portion, the intermediate cladding, and the upper cladding layer are laminated in this order. A film-like optical waveguide was obtained.

[実施例2〜8、比較例1〜4] クラッド層(下部クラッド層、上部クラッド層、中間クラッド層)を形成するための光硬化性樹脂組成物、及び、コア部分を形成するための光硬化性樹脂組成物を表4のように変えたこと以外は、実施例1と同様にしてフィルム状光導波路を形成した。 [Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 4] A photocurable resin composition for forming a clad layer (a lower clad layer, an upper clad layer, and an intermediate clad layer) and light for forming a core portion A film-shaped optical waveguide was formed in the same manner as in Example 1 except that the curable resin composition was changed as shown in Table 4.

[フィルム状光導波路の評価] フィルム状光導波路(実施例1〜8、比較例1〜4)を次のようにして評価した。[1.屈曲耐久性] 作製したフィルム状光導波路(幅5mm、長さ10cm、厚み70μm)に対して、温度23℃、湿度50%の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、温度23℃、湿度50%の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、屈曲角度±135°、屈曲速度100回/分、荷重100gで、屈曲半径を1mmとした。なお、屈曲回数は、はじめの0度の位置(フィルム状光導波路が水平の状態)から、+135度の位置へ屈曲し、さらに再度0度の位置を経由して−135度の位置へ屈曲した後、0度の位置へ戻ってくる動作を1回とする。フィルム状光導波路に破断が生じるまでの回数を測定し、屈曲回数が10万回を超えても破断やクラックが発生しない場合を「○」、屈曲回数が10万回以内で破断やクラックが発生する場合を「×」とした。[2.導波路損失] 作製したフィルム状光導波路について、波長850nmの光を一端から入射させた。そして、他端から出射する光量を測定することにより、単位長さ当たりの導波路損失をカットバック法により求めた。導波路損失が0.5dB/cm以下の場合を「○」とし、0.5dB/cmを超える場合を「×」とした。以上の結果を表4に示す。 [Evaluation of Film Optical Waveguide] Film optical waveguides (Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4) were evaluated as follows. [1. Bending durability] A bending test was performed on the produced film-shaped optical waveguide (width 5 mm, length 10 cm, thickness 70 μm) in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%. The test conditions were a bending test in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%. The test conditions were a bending angle of ± 135 °, a bending speed of 100 times / minute, a load of 100 g, and a bending radius of 1 mm. The number of bendings was bent from the initial 0 degree position (the film-shaped optical waveguide was in a horizontal state) to a +135 degree position, and then bent again to a -135 degree position via the 0 degree position. Thereafter, the operation of returning to the 0 degree position is defined as one time. Measure the number of times until the film-shaped optical waveguide breaks, “○” if no break or crack occurs even if the number of bending exceeds 100,000, and break or crack occurs when the number of bending is less than 100,000 The case where it does is made "x". [2. Waveguide loss] With respect to the produced film-shaped optical waveguide, light having a wavelength of 850 nm was incident from one end. Then, by measuring the amount of light emitted from the other end, the waveguide loss per unit length was determined by the cutback method. A case where the waveguide loss was 0.5 dB / cm or less was rated as “◯”, and a case where the waveguide loss exceeded 0.5 dB / cm was rated as “x”. The results are shown in Table 4.

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表4から、本発明のフィルム状光導波路(実施例1〜8)は、屈曲耐久性に優れることがわかる。一方、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含まない光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層、上部クラッド層、及び中間クラッド層の材料として用いた比較例1では、屈曲耐久性が劣ることがわかる。また、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと反応性希釈モノマーのいずれか1つまたは両方の配合量が本発明の範囲外である光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層、上部クラッド層、及び中間クラッド層の材料として用いた比較例2〜4では、屈曲耐久性が劣ることがわかる。 Table 4 shows that the film-form optical waveguide (Examples 1-8) of this invention is excellent in bending durability. On the other hand, in the comparative example 1 which used the photocurable resin composition which does not contain a urethane (meth) acrylate oligomer as a material of a lower clad layer, an upper clad layer, and an intermediate | middle clad layer, it turns out that bending durability is inferior. Further, a photocurable resin composition in which the blending amount of any one or both of the urethane (meth) acrylate oligomer and the reactive dilution monomer is outside the scope of the present invention is applied to the lower cladding layer, the upper cladding layer, and the intermediate cladding layer. In Comparative Examples 2 to 4 used as the material, it can be seen that the bending durability is inferior.

本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the film-form optical waveguide of this invention. 下部クラッド層形成用のドライフィルムの製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the dry film for lower clad layer formation. 中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルムの製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the dry film for intermediate | middle clad layers and upper clad layers formation. 本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the film-form optical waveguide of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルム状光導波路 2 支持フィルム 3 支持フィルム 4 フォトマスク 5 光 10 下部クラッド層形成用のドライフィルム 11 ベースフィルム 12 下層用組成物 13 未硬化の下層用組成物からなる層 14 下層用薄膜 15 下部クラッド層 21 コア用薄膜 22 コア部分 30 中間クラッド層及び上部クラッド層形成用のドライフィルム 31 ベースフィルム 32 上層用薄膜 33 上部クラッド層 34 未硬化の中間層用組成物からなる層 35 カバーフィルム 36 中間クラッド層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film-form optical waveguide 2 Support film 3 Support film 4 Photomask 5 Light 10 Dry film for lower clad layer formation 11 Base film 12 Lower layer composition 13 Layer which consists of uncured lower layer composition 14 Lower layer thin film 15 Lower Cladding layer 21 Thin film for core 22 Core portion 30 Dry film for forming intermediate clad layer and upper clad layer 31 Base film 32 Thin film for upper layer 33 Upper clad layer 34 Layer made of uncured intermediate layer composition 35 Cover film 36 Middle Cladding layer

Claims (2)

下部クラッド層と、コア部分と、中間クラッド層と、上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、
前記下部クラッド層及び上部クラッド層が、(A)(A−1)ポリオール化合物、(A−2)ポリイソシアネート化合物、及び(A−3)水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを、成分(A)全量中に50質量%以上の配合割合で含むウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー30〜80質量%、(B)反応性希釈モノマー15〜69質量%、及び(C)光重合開始剤0.1〜10質量%、を含み、かつ、(E)エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマーを含まないか、または、10質量%以下の配合割合で含む、クラッド層用光硬化性樹脂組成物(ただし、成分(A)〜(C)、及び(E)の各配合割合は、クラッド層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%とした場合の値である。)の硬化物からなり、
前記中間クラッド層が、(a)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー5〜80質量%、(b)反応性希釈モノマー1〜40質量%、(c)光重合開始剤0.1〜10質量%、及び(e)エチレン性不飽和基を有するビニル系ポリマー15〜75質量%を含む中間層用光硬化性樹脂組成物(ただし、成分(a)〜(c)、及び(e)の各配合割合は、中間層用光硬化性樹脂組成物の固形分の全量を100質量%とした場合の値である。)の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
A film-shaped optical waveguide including a lower cladding layer, a core portion, an intermediate cladding layer, and an upper cladding layer,
The lower clad layer and the upper clad layer are urethane (A) (A-1) reaction product of (A-1) polyol compound, (A-2) polyisocyanate compound, and (A-3) hydroxyl group-containing (meth) acrylate. 30 to 80% by mass of urethane (meth) acrylate oligomer containing a meth) acrylate oligomer in the total amount of component (A) at a blending ratio of 50% by mass or more , (B) 15 to 69% by mass of reactive dilution monomer , and (C Cladding layer containing 0.1) -10% by weight of a photopolymerization initiator and not containing (E) a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group, or containing 10% by weight or less. Photocurable resin composition (however, each compounding ratio of components (A) to (C) and (E) is 100% by mass of the total solid content of the photocurable resin composition for cladding layers) Is a value if.) Consists of a cured product,
The intermediate clad layer comprises: (a) urethane (meth) acrylate oligomer 5 to 80% by mass, (b) reactive dilution monomer 1 to 40% by mass, (c) photopolymerization initiator 0.1 to 10% by mass, and (E) A photocurable resin composition for an intermediate layer containing 15 to 75% by mass of a vinyl polymer having an ethylenically unsaturated group (however, the blending ratio of each of the components (a) to (c) and (e) is A film-shaped optical waveguide comprising a cured product of a solid content of the photocurable resin composition for intermediate layer of 100% by mass) .
(A−1)ポリオール化合物が、脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールからなる群より選ばれる1種以上である請求項に記載のフィルム状光導波路。 (A-1) The film-form optical waveguide according to claim 1 , wherein the polyol compound is at least one selected from the group consisting of aliphatic polyether polyols, aromatic polyether polyols, polyester polyols, and polycarbonate polyols.
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