[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP5307612B2 - 光デバイスウエーハの加工方法 - Google Patents

光デバイスウエーハの加工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5307612B2
JP5307612B2 JP2009102247A JP2009102247A JP5307612B2 JP 5307612 B2 JP5307612 B2 JP 5307612B2 JP 2009102247 A JP2009102247 A JP 2009102247A JP 2009102247 A JP2009102247 A JP 2009102247A JP 5307612 B2 JP5307612 B2 JP 5307612B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sapphire substrate
optical device
double
protective plate
sided adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009102247A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010251661A (ja
Inventor
啓一 梶山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2009102247A priority Critical patent/JP5307612B2/ja
Priority to CN201010156577.3A priority patent/CN101866881B/zh
Priority to US12/759,338 priority patent/US8268656B2/en
Publication of JP2010251661A publication Critical patent/JP2010251661A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5307612B2 publication Critical patent/JP5307612B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/083Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
    • B23K26/0853Devices involving movement of the workpiece in at least in two axial directions, e.g. in a plane
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/062Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
    • B23K26/0622Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/50Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
    • B23K26/53Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/01Manufacture or treatment
    • H10H20/011Manufacture or treatment of bodies, e.g. forming semiconductor layers
    • H10H20/018Bonding of wafers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/40Semiconductor devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • H01L2221/68336Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding involving stretching of the auxiliary support post dicing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

本発明は、サファイヤ基板の表面に格子状に形成されたストリートによって複数の領域が区画され、この区画された領域に窒化ガリウム系化合物半導体等光デバイスが積層された光デバイスウエーハを、ストリートに沿って個々の光デバイスに分割する光デバイスウエーハの加工方法に関する。
サファイヤ基板の表面に格子状に形成されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域に窒化ガリウム系化合物半導体等光デバイスが積層された光デバイスウエーハは、ストリートに沿って個々の発光ダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
近年、半導体ウエーハ等の板状の被加工物を分割する方法として、その被加工物に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を用い、分割すべき領域の内部に集光点を合わせてパルスレーザー光線を照射するレーザー加工方法も試みられている。このレーザー加工を用いたウエーハの分割方法は、ウエーハの一方の面側から内部に集光点を合わせてウエーハに対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハの内部にストリートに沿って変質層を連続的に形成し、この変質層が形成されることによって強度が低下したウエーハに外力を加えることにより、ウエーハを個々のデバイスに分割する。(例えば、特許文献1参照。)
特許第3408805号公報
上述した光デバイスウエーハは、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等光デバイスを積層した後には、実質的にサファイヤ基板は不要になるため、光デバイスウエーハを個々の光デバイスに分割する前にサファイヤ基板の裏面を研削して薄く形成する。しかるに、光デバイスウエーハを構成するサファイヤ基板の厚みを50μm以下と薄く研削すると、サファイヤ基板に割れが発生したり、個々の光デバイスに分割するためにダイシングテープに張り替える際にサファイヤ基板が破損するという問題がある。
また、光デバイスウエーハのストリートに沿ってレーザー光線を照射して変質層を形成し、変質層が形成されたストリートに沿って光デバイスウエーハを個々の光デバイスに分割すると、微細な破片が飛散して光デバイスの表面に付着して、光デバイスの品質を低下させるという問題もある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、光デバイスウエーハの厚みを薄く形成しても破損することがなく、光デバイスの表面に微細な破片が付着することなく個々の光デバイスに分割することができる光デバイスウエーハの加工方法を提供することである。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、サファイヤ基板の表面に格子状に形成された複数のストリートによって区画された複数の領域に光デバイスが形成されている光デバイスウエーハを、複数のストリートに沿って個々の光デバイスに分割する光デバイスウエーハの加工方法であって、
紫外線を遮断するシートの表裏面に紫外線を照射することにより粘着力が低下する粘着層が敷設された両面粘着テープを用いて、サファイヤ基板の表面に透明部材によって形成された剛性の高い保護プレートの表面を剥離可能に貼着する保護プレート貼着工程と、
該保護プレートが貼着されたサファイヤ基板の裏面を研削し、デバイスの仕上がり厚みに形成するサファイヤ基板研削工程と、
サファイヤ基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線をサファイヤ基板の裏面側から内部に集光点を合わせてストリートに沿って照射し、サファイヤ基板の内部にストリートに沿って変質層を形成する変質層形成工程と、
変質層形成工程が実施されたサファイヤ基板の裏面を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
ダイシングテープの表面に貼着されたサファイヤ基板の表面に貼着されている保護プレート側から保護プレートを通して両面粘着テープに紫外線を照射することにより両面粘着テープにおける保護プレート側の粘着層の粘着力を低下せしめ、両面粘着テープをサファイヤ基板側に残して保護プレートを剥離する保護プレート剥離工程と、
保護プレートが剥離され表面に両面粘着テープが残存した状態でダイシングテープに貼着されているサファイヤ基板に外力を付与し、サファイヤ基板を変質層が形成されたストリートに沿って破断し個々の光デバイスに分割するウエーハ分割工程と、を含む、
ことを特徴とする光デバイスウエーハの加工方法が提供される。
上記ウエーハ分割工程を実施した後に、ダイシングテープ側からダイシングテープおよびサファイヤ基板を通して両面粘着テープに紫外線を照射することにより両面粘着テープにおけるサファイヤ基板側の粘着層の粘着力を低下せしめて両面粘着テープを剥離する両面粘着テープ剥離工程と、ダイシングテープに貼着されている個々に分割された光デバイスをピックアップするピックアップ工程とを実施する。
本発明による光デバイスウエーハの加工方法においては、光デバイスウエーハを構成するサファイヤ基板の表面に両面粘着テープを介して剛性の高い保護プレートを貼着する保護プレート貼着工程を実施した後に、サファイヤ基板の裏面を研削してデバイスの仕上がり厚みに形成するサファイヤ基板研削工程を実施するので、サファイヤ基板の厚みを例えば50μm以下と極めて薄く形成しても、剛性の高い保護プレートが貼着されているので割れることはない。
また、サファイヤ基板研削工程を実施した後に変質層形成工程およびウエーハ支持工程を実施する際にも、薄く形成されたサファイヤ基板の表面には剛性の高い保護プレートが貼着されているので破損することはない。
更に、上記ウエーハ分割工程は、上記保護プレート剥離工程を実施することにより保護プレートが剥離されたサファイヤ基板の表面に両面粘着テープが残存した状態でダイシングテープに貼着されているサファイヤ基板に外力を付与し、サファイヤ基板を変質層が形成されたストリートに沿って破断し個々の光デバイスに分割するので、サファイヤ基板が変質層を破断起点としてストリートに沿って破断する際に微細な破片が飛散するが、この飛散した微細な破片はサファイヤ基板の表面に貼着されている両面粘着テープに付着して遮断され、光デバイスの表面に付着することはない。
本発明による光デバイスウエーハの加工方法よって分割される光デバイスウエーハの斜視図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法における保護プレート貼着工程の説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法におけるサファイヤ基板研削工程を示す説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法における変質層形成工程を実施するためのレーザー加工装置の要部を示す斜視図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法における変質層形成工程の説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法におけるウエーハ支持工程を示す説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法における保護プレート剥離工程を示す説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法におけるウエーハ分割工程を示す説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法における両面粘着テープ剥離工程を示す説明図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法におけるピックアップ工程を実施するためのピックアップ装置の斜視図。 本発明による光デバイスウエーハの加工方法におけるピックアップ工程の説明図。
以下、本発明による光デバイスウエーハの加工方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、本発明による光デバイスウエーハの加工方法によって分割される光デバイスウエーハ2が示されている。図1に示す光デバイスウエーハ2は、例えば厚さが300μmのサファイヤ基板20の表面20aに格子状に形成されたストリート21によって複数の領域が区画され、この区画された領域に複数の発光ダイオード等の光デバイス22が形成されている。
上述した光デバイスウエーハ2をストリート21に沿って個々の光デバイス22に分割するには、先ず図2の(a)および(b)に示すように紫外線を遮断するシートの表裏面に紫外線を照射することにより粘着力が低下する粘着層が敷設された両面粘着テープ3を用いて、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面20aに透明部材によって形成された剛性の高い保護プレート4の表面4aを剥離可能に貼着する保護プレート貼着工程を実施する。保護プレート4は、ガラス板やアクリル樹脂板等の透明部材によって円盤状に形成され、その表面4aおよび裏面4bは平坦に形成されている。この保護部材4は、厚さが500μmに設定されている。
上述した保護プレート貼着工程を実施したならば、保護プレート4が貼着されたサファイヤ基板20の裏面20bを研削し、デバイスの仕上がり厚みに形成するサファイヤ基板研削工程を実施する。このサファイヤ基板研削工程は、図示の実施形態においては図3に示す研削装置を用いて実施する。図3に示す研削装置5は、被加工物を保持するチャックテーブル51と、該チャックテーブル51に保持された被加工物の被加工面を研削する研削手段52を具備している。チャックテーブル51は、上面に被加工物を吸引保持し図3において矢印Aで示す方向に回転せしめられる。研削手段52は、スピンドルハウジング521と、該スピンドルハウジング521に回転自在に支持され図示しない回転駆動機構によって回転せしめられる回転スピンドル522と、該回転スピンドル522の下端に装着されたマウンター523と、該マウンター523の下面に取り付けられた研削ホイール524とを具備している。この研削ホイール524は、円板状の基台525と、該基台525の下面に環状に装着された研削砥石526とからなっており、基台525がマウンター523の下面に締結ボルト527によって取り付けられている。
上述した研削装置5を用いてサファイヤ基板研削工程を実施するには、チャックテーブル51の上面(保持面)に上述した保護プレート貼着工程が実施された光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面20aに両面粘着テープ3を介して貼着された保護プレート4側を載置し、光デバイスウエーハ2を保護プレート4を介してチャックテーブ51上に吸引保持する。従って、チャックテーブル51上に保護プレート4を介し吸引保持された光デバイスウエーハ2はサファイヤ基板20の裏面20bが上側となる。このようにチャックテーブル51上に光デバイスウエーハ2を吸引保持したならば、チャックテーブル51を矢印Aで示す方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削手段52の研削ホイール524を矢印Bで示す方向に例えば6000rpmで回転せしめて光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の裏面20bに接触せしめ、研削ホイール524を所定の研削送り速度で下方に研削送りすることにより光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の裏面20bを研削し、その厚みを例えば50μmに形成する。
以上のようにして、サファイヤ基板研削工程が実施された光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20は厚みが50μmと極めて薄く形成されるが、表面に剛性の高い保護プレート4が貼着されているので割れることはない。
上述したサファイヤ基板研削工程を実施したならば、サファイヤ基板20に対して透過性を有する波長のレーザー光線をサファイヤ基板20の裏面20b側から内部に集光点を合わせてストリート21に沿って照射し、サファイヤ基板20の内部にストリート21に沿って変質層を形成する変質層形成工程を実施する。この変質層形成工程は、図4に示すレーザー加工装置を用いて実施する。図4に示すレーザー加工装置6は、被加工物を保持するチャックテーブル61と、該チャックテーブル61上に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段62と、チャックテーブル61上に保持された被加工物を撮像する撮像手段63を具備している。チャックテーブル61は、被加工物を吸引保持するように構成されており、図示しない移動機構によって図4において矢印Xで示す加工送り方向および矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられるようになっている。
上記レーザー光線照射手段62は、実質上水平に配置された円筒形状のケーシング621を含んでいる。ケーシング621内には図示しないYAGレーザー発振器或いはYVO4レーザー発振器からなるパルスレーザー光線発振器や繰り返し周波数設定手段を備えたパルスレーザー光線発振手段が配設されている。上記ケーシング621の先端部には、パルスレーザー光線発振手段から発振されたパルスレーザー光線を集光するための集光器622が装着されている。
上記レーザー光線照射手段62を構成するケーシング621の先端部に装着された撮像手段63は、図示の実施形態においては可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)の外に、被加工物に赤外線を照射する赤外線照明手段と、該赤外線照明手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と、該光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成されており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
上述したレーザー加工装置6を用いて変質層形成工程を実施するには、図4に示すようにレーザー加工装置6のチャックテーブル61上に光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面に両面粘着テープ3を介して貼着された保護プレート4側を載置する。そして、図示しない吸引手段によってチャックテーブル61上に光デバイスウエーハ2を保護プレート4を介して吸着保持する(ウエーハ保持工程)。従って、チャックテーブル61上に保護プレート4を介して吸引保持された光デバイスウエーハ2はサファイヤ基板20の裏面20bが上側となる。
上述したようにウエーハ保持工程を実施したならば、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線をサファイヤ基板20の裏面20b側から内部に集光点を合わせてストリート21に沿って照射し、サファイヤ基板20の内部にストリート21に沿って変質層を形成する変質層形成工程を実施する。この変質層形成工程を実施するには、先ず光デバイスウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル61は、図示しない移動機構によって撮像手段63の直下に位置付けられる。そして、撮像手段63および図示しない制御手段によって光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20のレーザー加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段63および図示しない制御手段は、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の所定方向に形成されているストリート21と、このストリート21に沿ってレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段62の集光器622との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザー光線照射位置のアライメントを遂行する。また、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20に形成されている上記所定方向に対して直交する方向に延びるストリート21に対しても、同様にレーザー光線照射位置のアライメントが遂行される(アライメント工程)。このとき、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20のストリート21が形成されている表面20aは下側に位置しているが、撮像手段63が上述したように赤外線照明手段と赤外線を捕らえる光学系および赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成された撮像手段を備えているので、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の裏面20bから透かしてストリート21を撮像することができる。なお、サファイヤ基板は可視光を透過するので、必ずしも赤外線CCDを用いる必要はない。
以上のようにしてアライメント工程を実施したならば、図5の(a)で示すように光デバイスウエーハ2を保持したチャックテーブル61をレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段62の集光器622が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定のストリート21の一端(図5の(a)において左端)をレーザー光線照射手段62の集光器622の直下に位置付ける。そして、集光器622から光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20に対して透過性を有するパルスレーザー光線を照射しつつチャックテーブル61を図5の(a)において矢印X1で示す方向に所定の送り速度で移動せしめる。そして、図5の(b)で示すように所定のストリート21の他端(図5の(b)において右端)が集光器622の直下に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル61の移動を停止する。この変質層形成工程においては、パルスレーザー光線の集光点Pを光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の厚み方向の中間部に合わせる。この結果、集光点Pから上下に向けて変質層23が形成される。
上記変質層形成工程における加工条件は、例えば次のように設定されている。
光源 :LD励起QスイッチNd:YVO4パルスレーザー
波長 :1064nmのパルスレーザー
繰り返し周波数 :80kHz
平均出力 :2W
集光スポット径 :φ1μm
加工送り速度 :300mm/秒
以上のようにして、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の所定方向に延在する全てのストリート21に沿って上記変質層形成工程を実行したならば、チャックテーブル61を90度回動せしめて、上記所定方向に対して直交する方向に延びる各ストリート21に沿って上記変質層形成工程を実行する。
上述した変質層形成工程を実施したならば、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の裏面20bを環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程を実施する。即ち、図6の(a)および(b)に示すように環状のフレームFに装着されたダイシングテープTの表面に、上記変質層形成工程が実施された光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の裏面20bを貼着する。従って、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面に両面粘着テープ3を介して貼着されている保護プレート4の裏面4bが上側となる。このようにダイシングテープTの表面に貼着される光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20は極めて薄く形成されているが、表面に剛性の高い保護プレート4が貼着されているので、破損することなく上記ウエーハ支持工程を実施することができる。なお、ダイシングテープTは、紫外線を透過する樹脂シートの表面に粘着剤が敷設されて形成されている。
次に、ダイシングテープTに貼着されたサファイヤ基板20の表面20aに両面粘着テープ3を介して貼着されている保護プレート4側から該保護プレート4を通して両面粘着テープ3に紫外線を照射することにより両面粘着テープ3における保護プレート4側の粘着層の粘着力を低下せしめ、両面粘着テープ3をサファイヤ基板20側に残して保護プレート4を剥離する保護プレート剥離工程を実施する。即ち、図7の(a)に示すように紫外線照射器7によって光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面20aに両面粘着テープ3を介して貼着されている保護プレート4の裏面4b側から紫外線を照射する。紫外線照射器7から照射された紫外線は、ガラス板等の透明部材からなる保護プレート4を透過して両面粘着テープ3における保護プレート4側の粘着層に照射される。この結果、両面粘着テープ3における保護プレート4側の粘着層は上述したように紫外線が照射されると粘着力が低下する粘着剤によって形成されているので、粘着力が低下せしめられる。このとき、両面粘着テープ3は紫外線を遮断するシートによって形成されているので、サファイヤ基板20側の粘着層の粘着力が低下することはない。このように、両面粘着テープ3における保護プレート4側の粘着層の粘着力を低下せしめたならば、図7の(b)に示すように保護プレート4を剥離する。このとき、両面粘着テープ3における保護プレート4側の粘着層の粘着力が低下せしめられているので、保護プレート4は容易に剥離するが、両面粘着テープ3は光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面20aに貼着した状態で残される。
上述した保護プレート剥離工程を実施したならば、保護プレート4が剥離され表面に両面粘着テープ3が残存した状態でダイシングテープTに貼着されているサファイヤ基板20に外力を付与し、サファイヤ基板20を変質層が形成されたストリート21に沿って破断し個々の光デバイスに分割するウエーハ分割工程を実施する。このウエーハ分割工程は、図示の実施形態においては図8の(a)に示すウエーハ破断装置を用いて実施する。図8の(a)に示すウエーハ破断装置8は、保持テーブル81と、押圧ローラー82とからなっている。保持テーブル81は円柱状のテーブル本体811と、該テーブル本体811の上面に設けられた円形凹部811aに配設された柔軟なゴムシート等からなる弾性部材812とによって構成されている。このように構成された保持テーブル81上に両面粘着テープ3が残存した状態でダイシングテープTに貼着されている光デバイスウエーハ2を載置する。このとき、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20がダイシングテープTを介して弾性部材812上に載置され、ダイシングテープTが装着された環状のフレームFがテーブル本体811の外周部に形成された環状保持部811b上に載置される。そして、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20の表面20aに貼着されている両面粘着テープ3の上面を押圧ローラー82によって押圧しつつ転動することによって、図8の(b)に示すように光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20は変質層23が破断起点となってストリート21に沿って破断し、個々の光デバイス22に分割される。個々に分割された光デバイス22は、裏面がダイシングテープTに貼着されているので、バラバラにはならず光デバイスウエーハ2の形態が維持されている。上述したウエーハ分割工程においては、光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20が変質層23を破断起点としてストリート21に沿って破断する際に微細な破片が飛散するが、この飛散した微細な破片はサファイヤ基板20の表面20aに貼着されている両面粘着テープ3に付着して遮断され、光デバイス22の表面に付着することはない。
上述したウエーハ分割工程を実施したならば、ダイシングテープT側からダイシングテープTおよびサファイヤ基板20を通して両面粘着テープ3に紫外線を照射することにより両面粘着テープ3におけるサファイヤ基板20側の粘着層の粘着力を低下せしめて両面粘着テープ3を剥離する両面粘着テープ剥離工程を実施する。即ち、図9の(a)に示すように紫外線照射器7によって光デバイスウエーハ2を構成するサファイヤ基板20が貼着されているダイシングテープT側から紫外線を照射する。紫外線照射器7から照射された紫外線は、紫外線を透過する樹脂シートからなるダイシングテープTおよびサファイヤ基板20を透過して両面粘着テープ3におけるサファイヤ基板20側の粘着層に照射される。この結果、両面粘着テープ3におけるサファイヤ基板20側の粘着層は上述したように紫外線が照射されると粘着力が低下する粘着剤によって形成されているので、粘着力が低下せしめられる。このように、両面粘着テープ3におけるサファイヤ基板20側の粘着層の粘着力が低下したならば、図9の(b)に示すように両面粘着テープ3を剥離する。
上述した両面粘着テープ剥離工程を実施したならば、ダイシングテープTに貼着されている個々に分割された光デバイス22をピックアップするピックアップ工程を実施する。このピックアップ工程は、図10に示すピックアップ装置9を用いて実施する。図10に示すピックアップ装置9は、上記環状のフレームFを保持するフレーム保持手段91と、該フレーム保持手段91に保持された環状のフレームFに装着されたダイシングテープTを拡張するテープ拡張手段92を具備している。フレーム保持手段91は、環状のフレーム保持部材911と、該フレーム保持部材911の外周に配設された固定手段としての複数のクランプ912とからなっている。フレーム保持部材911の上面は環状のフレームFを載置する載置面911aを形成しており、この載置面911a上に環状のフレームFが載置される。そして、載置面911a上に載置された環状のフレームFは、クランプ912によってフレーム保持部材911に固定される。このように構成されたフレーム保持手段91は、テープ拡張手段92によって上下方向に進退可能に支持されている。
テープ拡張手段92は、上記環状のフレーム保持部材911の内側に配設される拡張ドラム921を具備している。この拡張ドラム921は、環状のフレーム6の内径より小さく該環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに貼着されている光デバイスウエーハ2(個々の光デバイス22に分割されている)の外径より大きい内径および外径を有している。また、拡張ドラム921は、下端に支持フランジ922を備えている。図示の実施形態におけるテープ拡張手段92は、上記環状のフレーム保持部材911を上下方向に進退可能な支持手段93を具備している。この支持手段93は、上記支持フランジ922上に配設された複数のエアシリンダ931からなっており、そのピストンロッド932が上記環状のフレーム保持部材911の下面に連結される。このように複数のエアシリンダ931からなる支持手段93は、環状のフレーム保持部材911を載置面911aが拡張ドラム921の上端と略同一高さとなる基準位置と、拡張ドラム921の上端より所定量下方の拡張位置の間を上下方向に移動せしめる。従って、複数のエアシリンダ931からなる支持手段93は、拡張ドラム921とフレーム保持部材911とを上下方向に相対移動する拡張移動手段として機能する。
以上のように構成されたテープ拡張装置9を用いて実施するピックアップ工程について図11を参照して説明する。即ち、光デバイスウエーハ2(個々の光デバイス22に分割されている)の裏面20bが貼着されているダイシングテープTが装着された環状のフレームFを、図11の(a)に示すようにフレーム保持手段91を構成するフレーム保持部材911の載置面911a上に載置し、クランプ912によってフレーム保持部材911に固定する。このとき、フレーム保持部材911は図11の(a)に示す基準位置に位置付けられている。次に、テープ拡張手段92を構成する支持手段93としての複数のエアシリンダ931を作動して、環状のフレーム保持部材911を図11の(b)に示す拡張位置に下降せしめる。従って、フレーム保持部材911の載置面911a上に固定されている環状のフレームFも下降するため、図11の(b)に示すように環状のフレーム6に装着されたダイシングテープTは拡張ドラム921の上端縁に接して拡張せしめられる。この結果、ダイシングテープTに貼着されている光デバイス22間が広がり、隙間Sが拡大される。次に、図11の(c)に示すようにピックアップ機構94を作動しピックアップコレット941によって所定位置に位置付けられた光デバイス22を吸着し、ダイシングテープTから剥離してピックアップし、図示しないトレーに搬送する。上述したピックアップ工程においては、上述したように光デバイス22間の隙間Sが広げられているので、隣接する光デバイス22と接触することなく容易にピックアップすることができる。
2:光デバイスウエーハ
3:両面粘着テープ
4:保護プレート
5:研削装置
51:研削装置のチャックテーブル
52:研削手段
524:研削ホイール
6:レーザー加工装置
61:レーザー加工装置のチャックテーブル
62:レーザー光線照射手段
622:集光器
7:紫外線照射器
8:ウエーハ破断装置
81:ウエーハ破断装置の保持テーブル
82:押圧ローラー
9:ピックアップ装置
91:フレーム保持手段
92:テープ拡張手段
94:ピックアップコレット
F:環状のフレーム
T:ダイシングテープ

Claims (2)

  1. サファイヤ基板の表面に格子状に形成された複数のストリートによって区画された複数の領域に光デバイスが形成されている光デバイスウエーハを、複数のストリートに沿って個々の光デバイスに分割する光デバイスウエーハの加工方法であって、
    紫外線を遮断するシートの表裏面に紫外線を照射することにより粘着力が低下する粘着層が敷設された両面粘着テープを用いて、サファイヤ基板の表面に透明部材によって形成された剛性の高い保護プレートの表面を剥離可能に貼着する保護プレート貼着工程と、
    該保護プレートが貼着されたサファイヤ基板の裏面を研削し、デバイスの仕上がり厚みに形成するサファイヤ基板研削工程と、
    サファイヤ基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線をサファイヤ基板の裏面側から内部に集光点を合わせてストリートに沿って照射し、サファイヤ基板の内部にストリートに沿って変質層を形成する変質層形成工程と、
    変質層形成工程が実施されたサファイヤ基板の裏面を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
    ダイシングテープの表面に貼着されたサファイヤ基板の表面に貼着されている保護プレート側から保護プレートを通して両面粘着テープに紫外線を照射することにより両面粘着テープにおける保護プレート側の粘着層の粘着力を低下せしめ、両面粘着テープをサファイヤ基板側に残して保護プレートを剥離する保護プレート剥離工程と、
    保護プレートが剥離され表面に両面粘着テープが残存した状態でダイシングテープに貼着されているサファイヤ基板に外力を付与し、サファイヤ基板を変質層が形成されたストリートに沿って破断し個々の光デバイスに分割するウエーハ分割工程と、を含む、
    ことを特徴とする光デバイスウエーハの加工方法。
  2. 該ウエーハ分割工程を実施した後に、ダイシングテープ側からダイシングテープおよびサファイヤ基板を通して両面粘着テープに紫外線を照射することにより両面粘着テープにおけるサファイヤ基板側の粘着層の粘着力を低下せしめて両面粘着テープを剥離する両面粘着テープ剥離工程と、ダイシングテープに貼着されている個々に分割された光デバイスをピップアップするピックアップ工程とを実施する、請求項1記載の光デバイスウエーハの加工方法。
JP2009102247A 2009-04-20 2009-04-20 光デバイスウエーハの加工方法 Active JP5307612B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009102247A JP5307612B2 (ja) 2009-04-20 2009-04-20 光デバイスウエーハの加工方法
CN201010156577.3A CN101866881B (zh) 2009-04-20 2010-04-07 光器件晶片的加工方法
US12/759,338 US8268656B2 (en) 2009-04-20 2010-04-13 Optical device wafer processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009102247A JP5307612B2 (ja) 2009-04-20 2009-04-20 光デバイスウエーハの加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010251661A JP2010251661A (ja) 2010-11-04
JP5307612B2 true JP5307612B2 (ja) 2013-10-02

Family

ID=42958529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009102247A Active JP5307612B2 (ja) 2009-04-20 2009-04-20 光デバイスウエーハの加工方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8268656B2 (ja)
JP (1) JP5307612B2 (ja)
CN (1) CN101866881B (ja)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5733954B2 (ja) * 2010-11-15 2015-06-10 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの分割方法
US8809120B2 (en) * 2011-02-17 2014-08-19 Infineon Technologies Ag Method of dicing a wafer
KR101304282B1 (ko) * 2011-05-31 2013-09-11 코스텍시스템(주) 임시 본딩된 디바이스 웨이퍼의 디본딩 방법
JP5833362B2 (ja) * 2011-07-05 2015-12-16 株式会社ディスコ サファイア基板の加工方法
JP5964580B2 (ja) * 2011-12-26 2016-08-03 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
US10052848B2 (en) 2012-03-06 2018-08-21 Apple Inc. Sapphire laminates
JP2014011242A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Nitto Denko Corp Ledの製造方法
US9221289B2 (en) 2012-07-27 2015-12-29 Apple Inc. Sapphire window
JP5995599B2 (ja) * 2012-08-06 2016-09-21 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP5995597B2 (ja) * 2012-08-06 2016-09-21 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6121116B2 (ja) * 2012-08-10 2017-04-26 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
US9040389B2 (en) 2012-10-09 2015-05-26 Infineon Technologies Ag Singulation processes
JP6067348B2 (ja) * 2012-11-26 2017-01-25 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
US9232672B2 (en) 2013-01-10 2016-01-05 Apple Inc. Ceramic insert control mechanism
JP6078376B2 (ja) * 2013-02-22 2017-02-08 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6429872B2 (ja) 2013-07-22 2018-11-28 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 基板ウェハ上に形成された発光デバイスを分離する方法
US9632537B2 (en) 2013-09-23 2017-04-25 Apple Inc. Electronic component embedded in ceramic material
US9678540B2 (en) 2013-09-23 2017-06-13 Apple Inc. Electronic component embedded in ceramic material
US9154678B2 (en) 2013-12-11 2015-10-06 Apple Inc. Cover glass arrangement for an electronic device
US9225056B2 (en) 2014-02-12 2015-12-29 Apple Inc. Antenna on sapphire structure
JP6344971B2 (ja) * 2014-05-16 2018-06-20 株式会社ディスコ サポートプレート、サポートプレートの形成方法及びウェーハの加工方法
JP6360411B2 (ja) * 2014-10-09 2018-07-18 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6407056B2 (ja) * 2015-02-20 2018-10-17 株式会社ディスコ 分割装置と分割方法
US10406634B2 (en) 2015-07-01 2019-09-10 Apple Inc. Enhancing strength in laser cutting of ceramic components
KR20170016547A (ko) * 2015-08-03 2017-02-14 삼성전자주식회사 척 테이블 및 그를 포함하는 기판 제조 장치
JP6245239B2 (ja) * 2015-09-11 2017-12-13 日亜化学工業株式会社 半導体レーザ素子の製造方法
JP2017103405A (ja) * 2015-12-04 2017-06-08 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6625926B2 (ja) * 2016-04-13 2019-12-25 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
US10535572B2 (en) * 2016-04-15 2020-01-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Device arrangement structure assembly and test method
JP6633447B2 (ja) * 2016-04-27 2020-01-22 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6633446B2 (ja) 2016-04-27 2020-01-22 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6821245B2 (ja) * 2016-10-11 2021-01-27 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP6758508B2 (ja) * 2017-08-10 2020-09-23 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法及び基板処理システム
JP7041341B2 (ja) * 2017-09-29 2022-03-24 日亜化学工業株式会社 発光素子の製造方法
CN109728142B (zh) * 2017-10-31 2021-02-02 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管晶粒的制造方法
KR102037967B1 (ko) * 2018-05-30 2019-10-29 세메스 주식회사 다이 본딩 방법
US11430677B2 (en) * 2018-10-30 2022-08-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer taping apparatus and method
CN111545922B (zh) * 2020-04-08 2022-07-12 山东天岳先进科技股份有限公司 一种碳化硅晶体的加工方法
US11581202B2 (en) 2020-05-15 2023-02-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate debonding apparatus
JP2022116631A (ja) * 2021-01-29 2022-08-10 株式会社ディスコ チップの製造方法及びテープ貼着装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3408805B2 (ja) 2000-09-13 2003-05-19 浜松ホトニクス株式会社 切断起点領域形成方法及び加工対象物切断方法
CN100355032C (zh) * 2002-03-12 2007-12-12 浜松光子学株式会社 基板的分割方法
JP4398686B2 (ja) * 2003-09-11 2010-01-13 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP4584607B2 (ja) * 2004-03-16 2010-11-24 浜松ホトニクス株式会社 加工対象物切断方法
JP4753628B2 (ja) * 2004-06-11 2011-08-24 昭和電工株式会社 化合物半導体素子ウェハーの製造方法
US7608523B2 (en) * 2005-08-26 2009-10-27 Disco Corporation Wafer processing method and adhesive tape used in the wafer processing method
JP4767711B2 (ja) * 2006-02-16 2011-09-07 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
JP2010500764A (ja) * 2006-08-07 2010-01-07 セミ−フォトニクス カンパニー リミテッド 複数の半導体ダイを分離する方法
JP2008042110A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP4903523B2 (ja) * 2006-09-25 2012-03-28 株式会社ディスコ ウエーハのレーザー加工方法
JP2008182015A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの研削方法
JP5179068B2 (ja) * 2007-02-14 2013-04-10 昭和電工株式会社 化合物半導体素子の製造方法
JP2008283025A (ja) * 2007-05-11 2008-11-20 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP2011129765A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Showa Denko Kk 半導体発光素子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20100267219A1 (en) 2010-10-21
CN101866881B (zh) 2014-03-19
JP2010251661A (ja) 2010-11-04
CN101866881A (zh) 2010-10-20
US8268656B2 (en) 2012-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5307612B2 (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP5595716B2 (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP4769560B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP6305853B2 (ja) ウエーハの加工方法
CN101604659B (zh) 光器件晶片的分割方法
JP5495876B2 (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP5231136B2 (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP2008294191A (ja) ウエーハの分割方法
TWI618132B (zh) Optical component wafer processing method
JP2010045117A (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP4777761B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP2011091293A (ja) ウエーハの加工方法
JP2009200140A (ja) 半導体チップの製造方法
JP2007242787A (ja) ウエーハの分割方法
JP2007305687A (ja) ウエーハの分割方法および分割装置
JP2008042110A (ja) ウエーハの分割方法
KR20170049397A (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP2014192339A (ja) ウエーハの加工方法
JP2006108273A (ja) ウエーハの分割方法および分割装置
JP5623807B2 (ja) 光デバイスウエーハの分割方法
JP2006040988A (ja) ウエーハの分割方法および分割装置
JP2011151070A (ja) ウエーハの加工方法
JP2008311404A (ja) ウエーハの加工方法
JP2006202933A (ja) ウエーハの分割方法
JP4833657B2 (ja) ウエーハの分割方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120323

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130604

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130627

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5307612

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250