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JP5382322B2 - Hologram transfer foil - Google Patents

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JP5382322B2
JP5382322B2 JP2009092595A JP2009092595A JP5382322B2 JP 5382322 B2 JP5382322 B2 JP 5382322B2 JP 2009092595 A JP2009092595 A JP 2009092595A JP 2009092595 A JP2009092595 A JP 2009092595A JP 5382322 B2 JP5382322 B2 JP 5382322B2
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真治 田島
健治 植田
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Description

本発明はホログラム転写箔に係り、特に被転写体に所望のパターンでホログラムを転写するためのホログラム転写箔に関する。   The present invention relates to a hologram transfer foil, and more particularly to a hologram transfer foil for transferring a hologram in a desired pattern onto a transfer target.

ホログラムは、例えば、立体的画像の再生や光の干渉を利用した意匠用途、偽造が困難であることを利用した偽造防止用途、画像や情報の記録・再生媒体用途、光の回折、反射、散乱等を制御する光学素子用途等に利用されている光学物品である。   Holograms are, for example, three-dimensional image reproduction and design applications utilizing light interference, anti-counterfeiting applications utilizing the difficulty of forgery, image and information recording / reproduction medium applications, light diffraction, reflection, and scattering. It is an optical article that is used for optical element applications that control the above.

ホログラムには、レリーフホログラム、体積ホログラム等のホログラムがある。レリーフホログラムは、表面に微細な凹凸を形成することにより、画像、情報の記録、再生を行なうものである。また、体積ホログラムは、情報をホログラム層の厚み方向に、物体からの光の波面に相当する干渉縞を透過率変調、屈折率変調の形で層内に記録することで形成されるホログラムである。   Holograms include holograms such as relief holograms and volume holograms. Relief holograms record and reproduce images and information by forming fine irregularities on the surface. The volume hologram is a hologram formed by recording information in the layer in the thickness direction of the hologram layer and interference fringes corresponding to the wavefront of light from the object in the form of transmittance modulation and refractive index modulation. .

ここでいうホログラムとは、立体画像に限らず、一定の連続パターンあるいは不連続パターンを形成した光学素子、例えば、回折格子やモスアイと呼ばれる反射防止素子も含まれる。   The hologram here is not limited to a three-dimensional image, but also includes an optical element in which a constant continuous pattern or a discontinuous pattern is formed, for example, an antireflection element called a diffraction grating or a moth eye.

ホログラムの形成方法としては、物品からの反射光と参照光の干渉現象を利用して記録し形成する方法、対象物に関するデジタルデータから計算機により干渉縞データを作製する計算機ホログラムによる方法、回折格子等のパターンを電子線により描画する方法等が挙げられる。   Hologram formation methods include a method of recording and forming using the interference phenomenon between reflected light from an article and reference light, a method using a computer generated hologram to produce interference fringe data from a digital data related to an object, a diffraction grating, etc. And a method of drawing the pattern with an electron beam.

このようなホログラムを物品に付与する方法として、ホログラム転写箔を利用する方法がある。従来のホログラム転写箔、例えば、レリーフ型のホログラム転写箔は、基材フィルム上に剥離層を介してホログラム層となる樹脂層を形成し、この樹脂層にホログラムレリーフパターンを形成してホログラム層とし、ホログラムレリーフパターン上に反射層を設け、さらに、ヒートシール性の接着剤層を設けたような構成である。   As a method for applying such a hologram to an article, there is a method using a hologram transfer foil. A conventional hologram transfer foil, for example, a relief type hologram transfer foil, forms a resin layer to be a hologram layer through a release layer on a base film, and forms a hologram relief pattern on the resin layer to form a hologram layer. The reflection layer is provided on the hologram relief pattern, and a heat sealable adhesive layer is further provided.

また、体積型ホログラム転写箔の場合には、特許文献1又は特許文献2に記載されるとおり、基材フィルム上に体積型ホログラム形成材料を塗布した後、物体からの光の波面に相当する干渉縞が透過率変調、屈折率変調の形で該層内に記録されることで形成され、複製に際しても、体積ホログラム原版をホログラム形成層に密着させて露光現像することにより作製できる。   In the case of volume hologram transfer foil, as described in Patent Document 1 or Patent Document 2, after applying a volume hologram forming material on a base film, interference corresponding to the wavefront of light from an object The fringes are formed by recording in the layer in the form of transmittance modulation and refractive index modulation, and can also be produced by exposing and developing the volume hologram original plate in close contact with the hologram forming layer.

このようなレリーフ型のホログラム転写箔、あるいは体積型のホログラム転写箔は、被転写体への接着性が良好であり、かつ、所望のパターンで被転写体にホログラムを転写する際の箔切れ性が良好であることが要求される。また、被転写体もプラスチック、紙等の材質の違い、表面加工による表面特性の違いにより接着性に差がある。しかし、接着性の悪い被転写体に対して良好な接着性を得るため、接着剤層を厚くしたり、軟化温度の低い接着剤を使用すると、箔切れ性が低下するという問題があった。   Such relief-type hologram transfer foil or volume-type hologram transfer foil has good adhesion to the transfer target, and the foil breakage when transferring the hologram to the transfer target in a desired pattern Is required to be good. Further, the transfer target also has a difference in adhesion due to differences in materials such as plastic and paper, and surface characteristics due to surface processing. However, when the adhesive layer is thickened or an adhesive having a low softening temperature is used in order to obtain good adhesiveness to a transfer target having poor adhesiveness, there is a problem that the foil cutting property is lowered.

一方、転写箔の箔切れ性を向上させる手段として、接着剤層にシリカ等の無機フィラーを含有させることが知られており(特許文献3,4)、このような無機フィラーがホログラム転写箔に利用されていた。しかし、無機フィラーを含有させることにより転写時のヒートシール温度が高くなり、ホログラム層にダメージが生じ易くなるという問題があった。また、このような問題を解消するために、多孔質で表面がマット状である接着剤層を備えたホログラム転写箔が開発されている(特許文献5)。   On the other hand, it is known that an inorganic filler such as silica is contained in the adhesive layer as a means for improving the foil cutting property of the transfer foil (Patent Documents 3 and 4), and such an inorganic filler is added to the hologram transfer foil. It was used. However, when an inorganic filler is contained, there is a problem that the heat seal temperature at the time of transfer becomes high and the hologram layer is easily damaged. In order to solve such a problem, a hologram transfer foil provided with an adhesive layer having a porous surface and a mat-like surface has been developed (Patent Document 5).

特開2000−272295号公報JP 2000-272295 A 特開2002−79797号公報JP 2002-79797 A 特開平4−185498号公報JP-A-4-185498 特開平9−39391号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-39391 特許3140820号公報Japanese Patent No. 3140820

しかしながら、このような転写箔には、従来から、破れやすい弱いシート状の部材、特にパスポート等の弱い紙に転写し剥離する際に、紙切れを発生しないようにしなければならないと共に、箔持ちをある程度有しエッジがきれいに剪断されるものでなければならないという課題があった。   However, such a transfer foil has conventionally been required to prevent the occurrence of a piece of paper when it is transferred to a weak sheet-like member that is easily torn, particularly a weak paper such as a passport, and peeled off. There was a problem that the edge had to be sheared cleanly.

本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、弱いシート状の部材にも安定して転写できるホログラム転写箔を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a hologram transfer foil that can be stably transferred to a weak sheet-like member.

本発明にかかる一実施形態のホログラム転写箔は、基材フィルムと、ホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層と、前記基材フィルムと前記ホログラム層との間に設けられた剥離層と、前記ホログラム層に対して前記剥離層の反対側に設けられたヒートシール層と、を備え、前記ヒートシール層は、水系エチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンからなり、前記ヒートシール層の厚みより大きい粒径の第1の添加粒子を含むと共に、前記ヒートシール層の厚みより小さい粒径の第2の添加粒子及び第3の添加粒子を含み、前記第1の添加粒子は、前記ヒートシール層の両側からはみ出しており、前記第2の添加粒子は、前記ヒートシール層の一方に重合し、前記第3の添加粒子は、前記ヒートシール層の他方に重合することを特徴とする。 A hologram transfer foil according to an embodiment of the present invention includes a base film, a hologram layer on which a hologram relief pattern is formed, a release layer provided between the base film and the hologram layer, and the hologram A heat seal layer provided on the opposite side of the release layer with respect to the layer, the heat seal layer comprising a water-based ethylene-acrylic acid copolymer emulsion and having a particle size larger than the thickness of the heat seal layer And the second additive particles and the third additive particles having a particle diameter smaller than the thickness of the heat seal layer, the first additive particles from both sides of the heat seal layer. protruding and the second additive particles are polymerized in one of the heat seal layer, wherein the third additive particles is especially a polymerizing the other of the heat seal layer To.

また、前記添加粒子は、シリカからなることを特徴とする。   The additive particles are made of silica.

また、前記ヒートシール層は、ワックスを含むことを特徴とする。   In addition, the heat seal layer includes a wax.

また、前記ホログラム層は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなることを特徴とする。   The hologram layer is made of a resin having an ultraviolet curable crosslinked structure.

また、前記ホログラム層は、樹脂の架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含むことを特徴とする。   In addition, the hologram layer includes a cross-linking structure adjusting additive that adjusts the number of cross-links of the resin.

また、前記樹脂は、ポリウレタンアクリレートからなり、前記架橋構造調整添加剤は、オリゴマーからなることを特徴とする。   The resin is made of polyurethane acrylate, and the cross-linking structure adjusting additive is made of an oligomer.

また、前記ホログラム層は、ワックスを含むことを特徴とする。   The hologram layer includes a wax.

また、前記剥離層は、ワックスが分散したアクリル樹脂からなることを特徴とする。   The release layer is made of an acrylic resin in which wax is dispersed.

また、前記ホログラム層と前記ヒートシール層の間に、前記ホログラム層と屈折率の異なる透明蒸着層を有することを特徴とする。   In addition, a transparent vapor deposition layer having a refractive index different from that of the hologram layer is provided between the hologram layer and the heat seal layer.

また、前記基材フィルムにバックコート層を積層することを特徴とする。   In addition, a back coat layer is laminated on the base film.

本発明によれば、可能な限り低温で転写可能なヒートシール層を持ち、その低温温度の適用域が広いホログラム転写箔を提供することができる。また、転写の際に、剥離が軽いと共に、エッジの切れやすいホログラム転写箔を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a hologram transfer foil having a heat seal layer that can be transferred at as low a temperature as possible and having a wide application range of the low temperature. Further, it is possible to provide a hologram transfer foil that is lightly peeled and easily cut at the edge during transfer.

本実施形態のホログラム転写箔を示す図である。It is a figure which shows the hologram transfer foil of this embodiment. 本実施形態のヒートシール層を示す図である。It is a figure which shows the heat seal layer of this embodiment. 本実施形態のホログラム転写箔を用いた転写例を示す図である。It is a figure which shows the example of a transfer using the hologram transfer foil of this embodiment. 本実施形態のホログラム転写箔の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the hologram transfer foil of this embodiment.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本発明のホログラム転写箔の一実施形態を示す概略断面図である。図1において、ホログラム転写箔1は、基材フィルム2と、この基材フィルム2上に剥離層3を介して順次積層されたホログラム層4、透明蒸着層5、ヒートシール層6とを備えている。基材フィルム2の剥離層3の反対側には、シルクスクリーン印刷によるタイミングマーク8が印刷され、そのタイミングマーク8を覆うようにバックコート層7を有する。   FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the hologram transfer foil of the present invention. In FIG. 1, a hologram transfer foil 1 includes a base film 2, a hologram layer 4, a transparent vapor deposition layer 5, and a heat seal layer 6 that are sequentially laminated on the base film 2 via a release layer 3. Yes. A timing mark 8 by silk screen printing is printed on the opposite side of the release layer 3 of the base film 2, and a back coat layer 7 is provided so as to cover the timing mark 8.

まず、基材フィルム2について説明する。   First, the base film 2 will be described.

本発明のホログラム転写箔1を構成する基材フィルム2は、寸法安定性、耐熱性、強靭性等を有するものを使用することができ、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ナイロン(登録商標)、ポリノルボルネン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セロファン、ビニロン(登録商標)、アセテート、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリアミドイミド等の樹脂フィルム、コンデンサペーパー等の紙、これらの複合体等を使用することができる。基材フィルム2の厚みは、使用する材質を考慮して適宜設定することができ、例えば、6〜50μm程度の範囲で設定することができる。特に、16〜25μm程度の範囲が好ましい。   As the base film 2 constituting the hologram transfer foil 1 of the present invention, those having dimensional stability, heat resistance, toughness, etc. can be used. For example, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyacetic acid Vinyl, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polystyrene, polymethyl methacrylate, nylon (registered trademark), polynorbornene, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polyether ether ketone, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, poly Vinyl chloride, polypropylene, polycarbonate, cellophane, vinylon (registered trademark), acetate, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether Coalescence, a resin film such as a polyamide-imide, paper such as condenser paper, it is possible to use these complexes, and the like. The thickness of the base film 2 can be appropriately set in consideration of the material to be used, and can be set, for example, in the range of about 6 to 50 μm. In particular, the range of about 16 to 25 μm is preferable.

次に、剥離層3について説明する。   Next, the release layer 3 will be described.

本発明のホログラム転写箔1を構成する剥離層3は、被転写体に転写されて最表面に位置するものであり、転写時の剥離性、箔切れ性の向上、および、転写されたホログラム層の保護層の作用をなすものである。また、塩ビカバー等の使用を考慮して、硬質で耐可塑剤性のあるアクリル樹脂あるいはセルロース樹脂をベースにし、膜を切れやすくするため、無機微粒子や微粉末ポリエチレンワックスなどを分散させると好ましい。   The release layer 3 constituting the hologram transfer foil 1 of the present invention is transferred to the transfer target and located on the outermost surface, and improves the peelability during transfer, the foil breakability, and the transferred hologram layer. It functions as a protective layer. In consideration of the use of a vinyl chloride cover or the like, it is preferable to disperse inorganic fine particles, finely powdered polyethylene wax or the like based on a hard and plasticizer-resistant acrylic resin or cellulose resin to make the film easily cut.

このような剥離層3としては、例えば、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面活性剤、金属酸化物等の中、1種若しくは2種以上を混合したものが用いられる。   Examples of the release layer 3 include one or two of polymethacrylic ester resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, silicone resin, chlorinated rubber, casein, various surfactants, metal oxides, and the like. A mixture of the above is used.

特に、剥離層は基材フィルムと転写層との間の剥離力が1〜5g/インチ(90°剥離)になるように、その材質等を適宜選択して形成するのが好ましい。この剥離層はインキ化し、塗布等の公知の方法によって基材フィルムの表面に形成することができ、その厚みは剥離力、箔切れ等を考慮すると0.1〜4μmの範囲が好ましい。
また、剥離層3は、第1の剥離層と第2の剥離層とを組み合わせた積層構成とすることも可能である。
In particular, the release layer is preferably formed by appropriately selecting the material and the like so that the release force between the base film and the transfer layer is 1 to 5 g / inch (90 ° release). This release layer can be converted into an ink and formed on the surface of the substrate film by a known method such as coating, and the thickness is preferably in the range of 0.1 to 4 μm in consideration of the release force, foil breakage, and the like.
Moreover, the peeling layer 3 can also be made into the laminated structure which combined the 1st peeling layer and the 2nd peeling layer.

次に、ホログラム層4について説明する。   Next, the hologram layer 4 will be described.

本発明のホログラム転写箔1を構成するホログラム層4におけるホログラムとは、立体画像に限らず、一定の連続パターンあるいは不連続パターンを形成した光学素子、例えば、回折格子やモスアイと呼ばれる反射防止素子も含まれる。例えば、ホログラム層4は、レリーフ型のホログラム層とすることができる。   The hologram in the hologram layer 4 constituting the hologram transfer foil 1 of the present invention is not limited to a three-dimensional image, but also an optical element in which a constant continuous pattern or a discontinuous pattern is formed, for example, an antireflection element called a diffraction grating or a moth eye. included. For example, the hologram layer 4 can be a relief type hologram layer.

ホログラム層4は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなることが好ましい。また、その樹脂には、架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含むことが好ましい。   The hologram layer 4 is preferably made of an ultraviolet curable crosslinked resin. The resin preferably contains a cross-linking structure adjusting additive that adjusts the number of cross-links.

ホログラム層4がレリーフ型のホログラムの場合は、微細な凹凸パターンを形成するために、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を用いて形成され、厚みは0.1〜20μm、好ましくは0.5〜10μmの範囲で設定することができる。1〜2μm程度の範囲がさらに好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂の場合、1.7〜3.0μmが好ましい。この場合、下限を下回ると、放射線硬化の硬化疎外限界となり、上限を上回ると、転写時の切れ性が悪化してしまう恐れがある。   When the hologram layer 4 is a relief hologram, it is formed using a thermosetting resin, a thermoplastic resin, an ionizing radiation curable resin or the like in order to form a fine uneven pattern, and the thickness is 0.1 to 20 μm. Preferably, it can set in the range of 0.5-10 micrometers. A range of about 1 to 2 μm is more preferable. In particular, in the case of ionizing radiation curable resin, 1.7 to 3.0 μm is preferable. In this case, if it is below the lower limit, it becomes the curing alienation limit of radiation curing, and if it exceeds the upper limit, the cutting property at the time of transfer may be deteriorated.

熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、セルロース樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂等、有機成分とゾルゲル反応可能な金属アルコキシド基を含有した有機−無機ハイブリッド樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ナイロン(登録商標)、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独あるいは2種以上の組み合わせで使用することができ、また、各種イソシアネート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を配合してもよい。   Examples of thermosetting resins include unsaturated polyester resins, acrylic urethane resins, epoxy resins, urethane resins, epoxy-modified acrylic resins, epoxy-modified unsaturated polyester resins, alkyd resins, melamine resins, urea resins, phenol resins, and cellulose resins. Organic-inorganic hybrid resins containing metal alkoxide groups capable of sol-gel reaction with organic components, such as diallyl phthalate resin and polyacetal resin. Thermoplastic resins include acrylic resin, acrylamide resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyurethane, nylon (registered trademark), polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polycarbonate, silicone. Examples thereof include resins. These resins can be used alone or in combination of two or more kinds, and various isocyanate resins, metal soaps such as cobalt naphthenate and zinc naphthenate, peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, Thermal or ultraviolet curing agents such as benzophenone, acetophenone, anthraquinone, naphthoquinone, azobisisobutyronitrile, and diphenyl sulfide may be blended.

また、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。モノマーとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂が挙げられ、特に耐熱性や加工性の観点から、特開2000−63459号公報に記載されているようなウレタン変性アクリル樹脂が好ましく用いられる。   In addition, as the ionizing radiation curable resin, a monomer, oligomer, polymer, or the like having an ethylenically unsaturated bond can be used. Examples of the monomer include 1,6-hexanediol, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like. . Examples of the oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. Examples of the polymer include urethane-modified acrylic resins and epoxy-modified acrylic resins. From the viewpoints of heat resistance and processability, urethane-modified acrylic resins as described in JP-A No. 2000-63459 are preferably used.

また、ホログラム層4に使用する光硬化性樹脂として、特開昭61−98751号公報、特開昭63−23909号公報、特開昭63−23910号公報に記載されているような光硬化性樹脂を挙げることができる。   Further, as the photocurable resin used for the hologram layer 4, photocurable resins as described in JP-A-61-98751, JP-A-63-23909, and JP-A-63-23910 are disclosed. Resins can be mentioned.

また、レリーフホログラムの凹凸パターン形状を正確に形成するために、反応性をもたないアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーを添加することができる。   Moreover, in order to form the uneven | corrugated pattern shape of a relief hologram correctly, polymers, such as a non-reactive acrylic resin, polyester resin, a urethane resin, an epoxy resin, can be added.

また、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用することができる。   Moreover, when utilizing photocationic polymerization, an epoxy group-containing monomer, oligomer, polymer, oxetane skeleton-containing compound, and vinyl ethers can be used.

また、上記の電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型(ハイブリッド型)を選定することができる。   Further, when the ionizing radiation curable resin is cured by light such as ultraviolet rays, a photopolymerization initiator can be added. Depending on the resin, a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, or a combination thereof (hybrid type) can be selected.

光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。   Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether, anthraquinone compounds such as anthraquinone and methylanthraquinone, acetophenone, diethoxyacetophenone, benzophenone, hydroxyacetophenone, and 1-hydroxycyclohexyl. Examples include phenyl ketone compounds such as phenyl ketone, α-aminoacetophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethyl ketal, thioxanthone, acylphosphine oxide, Michler's ketone, and the like. be able to.

光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用することができる。   As a photocationic polymerization initiator when using a compound capable of photocationic polymerization, aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic phosphonium salts, mixed ligand metal salts, etc. should be used. Can do.

光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。   In the case of so-called hybrid type materials that use both radical photopolymerization and cationic photopolymerization, each polymerization initiator can be mixed and used, and a fragrance that has the function of initiating polymerization of both with a single initiator. Group iodonium salts, aromatic sulfonium salts, and the like can be used.

さらに、ホログラム層4には、ホログラムの凹凸パターンの形成を容易とするために、離型剤を添加することができる。離型剤としては、公知の離型剤や界面活性剤、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス、フッ素化合物、フッ素ポリマー、リン酸エステル、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等が挙げられる。   Furthermore, a release agent can be added to the hologram layer 4 in order to facilitate the formation of the concavo-convex pattern of the hologram. Examples of the release agent include known release agents and surfactants, for example, solid waxes such as polyethylene wax and amide wax, fluorine compounds, fluorine polymers, phosphate esters, silicone oils, and silicone resins.

また、レリーフの凹凸形状を正確なものとしたり、硬度、耐熱性を付与するために、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機酸化物微粒子や金属アルコキシド、金属アルコキシドオリゴマー等を添加することもできる。   Moreover, in order to make the uneven shape of the relief accurate, or to impart hardness and heat resistance, inorganic oxide fine particles such as silica, titania and alumina, metal alkoxide, metal alkoxide oligomer and the like can be added.

さらに、ホログラム層4には、重合防止剤、酸化防止剤、増感剤、紫外線吸収剤、安定化剤、可塑剤、消泡剤等を添加することができる。   Furthermore, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a sensitizer, an ultraviolet absorber, a stabilizer, a plasticizer, an antifoaming agent, and the like can be added to the hologram layer 4.

本実施形態では、ホログラム層4をマイクロエンボス加工して形成し、UV硬化を行う。また、剥離層3と同様に、無機微粒子や微粉末ポリエチレンワックスなどを分散させると好ましい。さらに、膜の切れを樹脂自体が持つため、オリゴマーを添加すると好ましい。また、ホログラム層は、転写時に、熱によるレリーフの消失や輝度の低下をしない程度で架橋密度を小さくした方が、膜が切れやすくなるため、光開始剤を使用すると好ましい。さらに、架橋密度を調整するため、UVの照射時間、照射強度、照射量、を適宜調整するとさらに好ましい。   In the present embodiment, the hologram layer 4 is formed by microembossing and UV curing is performed. Further, like the release layer 3, it is preferable to disperse inorganic fine particles, finely powdered polyethylene wax or the like. Furthermore, since the resin itself has a film break, it is preferable to add an oligomer. In addition, when the hologram layer is transferred, it is preferable to use a photoinitiator because it is easier to cut the film if the crosslink density is reduced to such an extent that the relief does not disappear due to heat or the luminance is not lowered. Furthermore, in order to adjust the crosslinking density, it is more preferable to appropriately adjust the UV irradiation time, irradiation intensity, and irradiation amount.

なお、ホログラム材料としては、特開2002−268523号公報、特開2000−272295号公報、特許3357013号公報、特許3357014号公報、特開2005−55473号公報、特開2001−329031号公報又は特開2005−115264号公報等に記載された材料を参考にするとよい。   In addition, as a hologram material, JP-A-2002-268523, JP-A-2000-272295, JP-A-3357013, JP-A-33557014, JP-A-2005-55473, JP-A-2001-329031 or special Reference may be made to the materials described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-115264.

次に、透明蒸着層5について説明する。   Next, the transparent vapor deposition layer 5 is demonstrated.

本発明のホログラム転写箔1を構成する透明蒸着層5は、ホログラム層4と組み合わされてホログラムを発現し、しかも下層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられる。 The transparent vapor-deposited layer 5 constituting the hologram transfer foil 1 of the present invention uses a hologram effect thin film that is combined with the hologram layer 4 to express a hologram and does not conceal the lower layer.

また、透明蒸着層5は、ホログラム効果を発現できる光透過性のものであれば、特に制限されない。例えば、ホログラム層4を構成する樹脂と屈折率が異なる透明材料を使用することができる。この場合、ホログラム効果薄膜の屈折率は、ホログラム層4の屈折率よりも大きくても、小さくてもよく、屈折率の差は0.1以上、好ましくは0.5以上である。また、透明蒸着層5の膜厚は、約50〜100nmが好ましい。   Moreover, the transparent vapor deposition layer 5 will not be restrict | limited especially if it is a light-transmitting thing which can express a hologram effect. For example, a transparent material having a refractive index different from that of the resin constituting the hologram layer 4 can be used. In this case, the refractive index of the hologram effect thin film may be larger or smaller than the refractive index of the hologram layer 4, and the difference in refractive index is 0.1 or more, preferably 0.5 or more. The film thickness of the transparent vapor deposition layer 5 is preferably about 50 to 100 nm.

なお、透明蒸着層5の材料に関しては、特公平5−87835号公報に記載された材料を参考にするとよい。   In addition, regarding the material of the transparent vapor deposition layer 5, it is good to refer to the material described in Japanese Patent Publication No. 5-87835.

次に、タイミングマーク8について説明する。   Next, the timing mark 8 will be described.

タイミングマーク8は、基材フィルム2に直接印刷される打ち出しのためのマークである。   The timing mark 8 is a mark for stamping that is directly printed on the base film 2.

次に、バックコート層7について説明する。   Next, the back coat layer 7 will be described.

バックコート層7は、タイミングマーク8をコートすると共に、後述するヒートシール層6に対してブロッキングするものである。例えば、帯電防止性のあるUVインキにすべり性を持たせるためマイクロシリカを分散させたものが好ましい。バックコート層7の膜厚は、約2μmが好ましい。   The back coat layer 7 coats the timing mark 8 and blocks the heat seal layer 6 described later. For example, it is preferable to disperse microsilica in order to provide slipperiness to an antistatic UV ink. The film thickness of the back coat layer 7 is preferably about 2 μm.

次に、ヒートシール層6について説明する。   Next, the heat seal layer 6 will be described.

本実施形態では、ヒートシール層6は、低温接着性をよくし、紙に接着しやすくするため、水系エチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンを用いるのが好ましい。   In the present embodiment, the heat seal layer 6 preferably uses a water-based ethylene-acrylic acid copolymer emulsion in order to improve low-temperature adhesion and facilitate adhesion to paper.

ヒートシール層6としては、熱可塑性樹脂を使用するのが好ましい。また、熱可塑性樹脂としては、従来からヒートシール剤として使用されている熱可塑性樹脂を使用することができる。例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンゴム等のゴム系、ポリメチル(メタ)アクリル酸、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリエチル(メタ)アクリレート、ポリプロピル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、ポリ(2−エチルヘキシル)(メタ)アクリレート等のアクリル樹脂系、ポリスチレン、アクリル−スチレン共重合体等のポリスチレン系、ポリイソブチルエーテル等のポリビニルエーテル系、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン系、その他、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリルアミド、ポリメチロールアクリルアミド、ポリエステル系、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、ポリエチレンオキシド等が使用できる。また、共重合体として、例えば、酢酸ビニル−ブチル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル−オクチル(メタ)アクリレート等の酢酸ビニルとアクリル樹脂の共重合体、塩化ビニル−ブチル(メタ)アクリレート、塩化ビニリデン−ブチル(メタ)アクリレート等の共重合体、エチレン−ブチル(メタ)アクリレート、エチレン−メチル(メタ)アクリレート等の共重合体等を使用することができる。また、これらの樹脂は2種以上を用いてもよい。軟化温度、密着性の観点から、エチレン−(メタ)アクリル酸、エチレン−メチル(メタ)アクリレート等の、オレフィン樹脂とアクリル樹脂の共重合体、または、オレフィン樹脂とアクリル樹脂のブレンド物が特に好ましい。   As the heat seal layer 6, it is preferable to use a thermoplastic resin. Moreover, as a thermoplastic resin, the thermoplastic resin conventionally used as a heat seal agent can be used. For example, rubber systems such as polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene, styrene-butadiene rubber, styrene-isoprene rubber, polymethyl (meth) acrylic acid, polymethyl (meth) acrylate, poly (meth) acrylic acid, polyethyl (meth) acrylate, Acrylic resin systems such as polypropyl (meth) acrylate, polybutyl (meth) acrylate, poly (2-ethylhexyl) (meth) acrylate, polystyrene systems such as polystyrene and acrylic-styrene copolymers, and polyvinyl ether systems such as polyisobutyl ether , Polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, etc., polyvinyl acetate, vinyl chloride-vinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyacrylamide, Li-methylolacrylamide, polyester, polyvinyl butyral, polyurethane, polycarbonate resins, silicone resins, acrylic - silicone resin, polyethylene oxide and the like can be used. Examples of the copolymer include copolymers of vinyl acetate and acrylic resin such as vinyl acetate-butyl (meth) acrylate and vinyl acetate-octyl (meth) acrylate, vinyl chloride-butyl (meth) acrylate, vinylidene chloride- Copolymers such as butyl (meth) acrylate, copolymers such as ethylene-butyl (meth) acrylate, ethylene-methyl (meth) acrylate, and the like can be used. Two or more of these resins may be used. From the viewpoint of softening temperature and adhesion, a copolymer of an olefin resin and an acrylic resin, such as ethylene- (meth) acrylic acid, ethylene-methyl (meth) acrylate, or a blend of an olefin resin and an acrylic resin is particularly preferable. .

なお、本発明ではヒートシール層6に、箔切れ性を向上させるために、公知のフィラー、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、コロイド状微粒子等を添加してもよい。但し、これらの微粒子は、通常、転写時の熱で軟化することはないため、低温シール性の観点から、ヒートシール層6中の含有量を10重量%以下とすることが好ましい。   In the present invention, a known filler such as silica fine particles, alumina fine particles, colloidal fine particles and the like may be added to the heat seal layer 6 in order to improve the foil breakability. However, since these fine particles are not usually softened by heat during transfer, the content in the heat seal layer 6 is preferably 10% by weight or less from the viewpoint of low-temperature sealability.

また、図2に示すように、塗布厚より第1の添加粒子6aの径を大きくすることで、第1の添加粒子6aの一部を膜からはみ出させることが好ましい。例えば、ヒートシール層6の膜厚を5〜6μmとし、それ以上の粒径を持つ第1の添加粒子6aを一部配合することが好ましい。また、図2に示すように、ヒートシール層6に一方の面から熱を与えると、ヒートシール層6の膜厚より小さい粒径を持つシリカ等からなる第2の添加粒子6bは、熱とは反対の方向に重合し、ワックス等からなる第3の添加粒子6cは、熱の方向に重合する。このように熱を与えることにより、ヒートシール層6を切れやすい構造とすることができる。   In addition, as shown in FIG. 2, it is preferable that a part of the first additive particles 6a protrude from the film by making the diameter of the first additive particles 6a larger than the coating thickness. For example, it is preferable that the thickness of the heat seal layer 6 is 5 to 6 μm, and a part of the first additive particles 6a having a particle size larger than that is blended. As shown in FIG. 2, when heat is applied to the heat seal layer 6 from one surface, the second additive particles 6b made of silica or the like having a particle size smaller than the film thickness of the heat seal layer 6 Is polymerized in the opposite direction, and the third additive particles 6c made of wax or the like are polymerized in the direction of heat. By applying heat in this way, the heat seal layer 6 can be easily cut.

なお、ヒートシール層6の材料に関しては、特許第3140820号公報、特開平4−185498号公報、特開平9−39391号公報、に記載された材料を参考にするとよい。   In addition, regarding the material of the heat seal layer 6, it is preferable to refer to the materials described in Japanese Patent No. 3140820, Japanese Patent Laid-Open No. 4-185498, and Japanese Patent Laid-Open No. 9-39391.

本発明のホログラム転写箔の転写は、加熱、加圧することにより行なうことができ、転写装置としては、熱スタンプ型、ロール型等の転写方式を使用することができる。また、本発明のホログラム転写箔の被転写体としては、例えば、紙、合成紙、プラスチック、金属等のフィルムやシート、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。プラスチックとしては、例えば、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を挙げることができる。また、ホログラムが具備する意匠性を利用する目的で、包装紙や包装用フィルム、プレミアムカード、雑誌や書籍等を被転写体としてもよい。また、ホログラムが偽造困難である点を利用して、高い偽造防止性が要求される真正性証明用媒体、例えば、銀行等の預貯金カード、通帳、クレジットカード、身分証明書、受験票、パスポート、紙幣、商品券、株券、乗車券、航空券、交通機関や公衆電話等のプリペイドカード等を被転写体としてもよい。あるいは、高級腕時計、貴金属、宝飾品、いわゆるブランド品と言われる世界的に著名な高級商品で、偽造の対象となり易い物品や、それに付属するタグ、音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、ゲームソフト等が記録された記録媒体、それらのケース等の物品も被転写体として挙げることができる。また、ホログラム層には、必要に応じて情報を記録することも可能である。   The hologram transfer foil of the present invention can be transferred by heating and pressurizing, and a transfer system such as a heat stamp type or a roll type can be used as the transfer device. Examples of the transfer object of the hologram transfer foil of the present invention include paper, synthetic paper, plastic and metal films and sheets, plastic plates, glass plates, and the like. Examples of the plastic include a vinyl chloride resin, an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, and a polycarbonate resin. In addition, for the purpose of utilizing the design property of the hologram, a wrapping paper, a packaging film, a premium card, a magazine, a book, or the like may be used as a transfer target. Also, utilizing the fact that holograms are difficult to counterfeit, a medium for authenticity that requires high anti-counterfeiting properties, such as bank savings cards, passbooks, credit cards, identification cards, examination cards, passports, Bills, gift certificates, stock certificates, boarding tickets, air tickets, prepaid cards such as transportation and public telephones, and the like may be used as the transfer target. Or luxury watches, precious metals, jewelry, world-renowned luxury products that are said to be so-called brand goods, and products that are subject to counterfeiting, tags attached to them, music software, video software, computer software, game software, etc. Articles such as recording media on which these are recorded and cases thereof can also be cited as the transfer target. In addition, information can be recorded on the hologram layer as necessary.

さらに、本発明のホログラム転写箔の被転写体として、光学的機能を備えたり、反射光を制御する光学素子、例えば、反射板、反射防止板、偏光板、導光板等のように、ディスプレイや計器類、携帯電話等の表示窓の内部あるいは表面に設置する部材を挙げることができる。   Further, as a transfer object of the hologram transfer foil of the present invention, an optical element having an optical function or controlling reflected light, such as a reflection plate, an antireflection plate, a polarizing plate, a light guide plate, etc. Examples thereof include members installed inside or on the surface of display windows of instruments, mobile phones and the like.

本発明のホログラム転写箔の転写は、被転写体の一部への転写、全面への転写、いずれであってもよく、また、一部への転写の場合、複雑な模様や文字等の転写型を用いて転写してもよい。   The transfer of the hologram transfer foil of the present invention may be either a transfer to a part of the transfer target or a transfer to the entire surface. In the case of transfer to a part, transfer of a complicated pattern or characters, etc. Transfer may be performed using a mold.

図3は、上述の本発明のホログラム転写箔1を用いた転写例を示す図である。図3に示されるように、被転写体11上に本発明のホログラム転写箔1をヒートシール層6が接するように載置し、所望のパターンの熱スタンプ21により基材フィルム2側から熱圧着してヒートシールを行い、その後、基材フィルム2側を剥離する。この剥離に際して、ヒートシール層6に含有される微粒子により、ヒートシールされた部位と他の部位との境界で良好な箔切れが生じて、熱スタンプ21で押圧された領域の剥離層3、ホログラム層4、透明蒸着層5、ヒートシール層6が被転写体11に転写される。また、熱スタンプ21で押圧された領域では、微粒子も軟化してシール性を発現するので、ヒートシール層6の接着性が極めて高いものとなる。   FIG. 3 is a diagram showing a transfer example using the above-described hologram transfer foil 1 of the present invention. As shown in FIG. 3, the hologram transfer foil 1 of the present invention is placed on the transfer target 11 so that the heat seal layer 6 is in contact therewith, and thermocompression bonding is performed from the base film 2 side by a heat stamp 21 having a desired pattern. Then, heat sealing is performed, and then the base film 2 side is peeled off. At the time of peeling, the fine particles contained in the heat seal layer 6 cause a good foil breakage at the boundary between the heat-sealed part and other parts, and the peeling layer 3 in the area pressed by the heat stamp 21, hologram The layer 4, the transparent vapor deposition layer 5, and the heat seal layer 6 are transferred to the transfer target 11. Moreover, in the area | region pressed with the heat stamp 21, since microparticles | fine-particles also soften and express sealing property, the adhesiveness of the heat seal layer 6 will become a very high thing.

次に、本発明のホログラム転写箔の製造方法について、図1に示したホログラム転写箔1を例として説明する。図4は、ホログラム転写箔の製造方法を示す図である。   Next, the method for producing a hologram transfer foil of the present invention will be described using the hologram transfer foil 1 shown in FIG. 1 as an example. FIG. 4 is a diagram showing a method for manufacturing a hologram transfer foil.

本発明の製造方法は、基材フィルム2上に剥離層3を形成し、この剥離層3上にホログラム層4となる樹脂層を形成し、この樹脂層にホログラムレリーフパターンを形成してホログラム層4とする工程と、このホログラム層4のホログラムレリーフパターン上に透明蒸着層5を設ける工程と、透明蒸着層5上にヒートシール層6を設ける工程と、を有している。なお、ホログラム層4のホログラムレリーフパターン上に透明蒸着層5を設ける工程の前に、基材フィルム2にタイミングマーク8をシルクスクリーン印刷し、その上にバックコート層7を形成する工程を行うと好ましい。   In the production method of the present invention, a release layer 3 is formed on a base film 2, a resin layer to be a hologram layer 4 is formed on the release layer 3, and a hologram relief pattern is formed on the resin layer to form a hologram layer 4, a step of providing the transparent vapor deposition layer 5 on the hologram relief pattern of the hologram layer 4, and a step of providing the heat seal layer 6 on the transparent vapor deposition layer 5. In addition, before the process of providing the transparent vapor deposition layer 5 on the hologram relief pattern of the hologram layer 4, when performing the process of silkscreen printing the timing mark 8 on the base film 2 and forming the backcoat layer 7 thereon. preferable.

基材フィルム2上への剥離層3の形成は、上述の剥離層3に使用する材料を、必要に応じてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1−ブタノール等の溶剤と混合して塗布液とする。この塗布液を公知の塗布方法、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、カーテンコート法、フローコート法、リップコート法、ドクターブレードコート法、コンマコート法、ダイコート法、スピンコート法等により基材フィルム2上に塗布して剥離層3を形成することができる。尚、塗布後は、必要に応じて、例えば、50〜180℃で乾燥して溶剤を揮散させ、必要に応じて、再度乾燥を行なって、剥離層3を形成することができる。   The formation of the release layer 3 on the base film 2 is performed by using the material used for the release layer 3 as necessary with acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, methanol, ethanol, isopropanol, A coating solution is prepared by mixing with a solvent such as 1-butanol. The coating liquid is formed by a known coating method, for example, gravure coating method, roll coating method, curtain coating method, flow coating method, lip coating method, doctor blade coating method, comma coating method, die coating method, spin coating method, etc. The release layer 3 can be formed by coating on the film 2. In addition, after application | coating, if necessary, it dries at 50-180 degreeC, for example, volatilizes a solvent, and if necessary, it can dry again and the peeling layer 3 can be formed.

また、ホログラム層4の形成は、まず、上述のホログラム層4に使用する材料を、必要に応じてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1−ブタノール等の溶剤と混合して塗布液とする。この塗布液を公知の塗布方法、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、カーテンコート法、フローコート法、リップコート法、ドクターブレードコート法、コンマコート法、ダイコート法、スピンコート法等により剥離層3上に塗布して樹脂層を形成する。尚、塗布後は、必要に応じて、例えば、50〜180℃で乾燥して溶剤を揮散させ、必要に応じて、再度乾燥を行なって、樹脂層を形成することができる。   In addition, the hologram layer 4 is formed by first using the material used for the hologram layer 4 as necessary with acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, methanol, ethanol, isopropanol, 1-butanol. A coating solution is prepared by mixing with a solvent such as the above. This coating solution is peeled off by a known coating method such as gravure coating method, roll coating method, curtain coating method, flow coating method, lip coating method, doctor blade coating method, comma coating method, die coating method, spin coating method, etc. 3 is applied to form a resin layer. In addition, after application | coating, as needed, it can dry at 50-180 degreeC, for example, and a solvent is volatilized, If necessary, it can dry again and a resin layer can be formed.

レリーフ型のホログラム層4の形成では、レーザー光や電子線を用いて作製したホログラムまたは回折格子を原版とし、この原版を未硬化状態の樹脂層に密着させ、その状態で樹脂層を、紫外線、電子線のような電離放射線や、熱により硬化させてホログラム層4を形成する。あるいは、上記の原版を母型とし、電鋳法により作製したニッケルスタンパー、熱可塑性樹脂を利用して熱プレスすることにより凹凸パターンを複製したスタンパー、熱硬化性樹脂あるいは光硬化性樹脂組成物を凹凸パターンに流し込み硬化させることにより作製した樹脂製スタンパー等を、未硬化状態の樹脂層に密着させ、その状態で樹脂層を、紫外線、電子線のような電離放射線や、熱により硬化させてホログラム層4を形成する。   In the formation of the relief-type hologram layer 4, a hologram or diffraction grating produced using a laser beam or an electron beam is used as an original, and this original is brought into close contact with an uncured resin layer. The hologram layer 4 is formed by curing with ionizing radiation such as an electron beam or heat. Alternatively, a nickel stamper produced by electroforming using the above master as a mother mold, a stamper, a thermosetting resin, or a photocurable resin composition that has a concavo-convex pattern replicated by hot pressing using a thermoplastic resin. A resin stamper made by pouring into a concavo-convex pattern and curing is adhered to an uncured resin layer, and in that state, the resin layer is cured by ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or by heat. Layer 4 is formed.

また、常温での固体の樹脂層を形成した後、この未硬化状態の樹脂層にホログラム原版あるいは原版から作製したスタンパーを密着(必要に応じて加熱密着)させ、原版あるいはスタンパーを剥離した後、紫外線、電子線、熱等により樹脂層を硬化させてホログラム層4としてもよい。   In addition, after forming a solid resin layer at room temperature, the stamper prepared from the hologram master or the master is in close contact with the uncured resin layer (heat-adhered as necessary), and after peeling the master or stamper, The resin layer may be cured by ultraviolet rays, electron beams, heat, or the like to form the hologram layer 4.

また、屈折率変調の促進、重合反応の完結のために、干渉露光後、紫外線による全面露光や加熱等の処理を適宜行なうことができる。   Further, in order to promote the refractive index modulation and complete the polymerization reaction, after the interference exposure, it is possible to appropriately perform a process such as full exposure with ultraviolet rays or heating.

ここで、基材フィルム2にタイミングマーク8をシルクスクリーン印刷し、その上にバックコート層7を形成する工程を行う。   Here, the process of silkscreen printing the timing mark 8 on the base film 2 and forming the backcoat layer 7 thereon is performed.

レリーフ型のホログラム層4のレリーフパターン上に透明蒸着層5を設ける工程では、真空蒸着、スパッタリング、反応性スパッタリング、イオンプレーティング、電気めっき、コーティング等の公知の方法を用いることができる。   In the step of providing the transparent vapor deposition layer 5 on the relief pattern of the relief hologram layer 4, known methods such as vacuum vapor deposition, sputtering, reactive sputtering, ion plating, electroplating, and coating can be used.

透明蒸着層5上にヒートシール層6を設ける工程では、ヒートシール性を有する熱可塑性樹脂、中空樹脂粒子、水およびアルコールを含有する塗布液(エマルジョン状態のものが好ましい)を透明蒸着層5上に塗布し、乾燥を行い、必要に応じて、再度乾燥することによりヒートシール層6を形成する。使用する熱可塑性樹脂、微粒子は上述の材料を使用することができる。   In the step of providing the heat seal layer 6 on the transparent vapor-deposited layer 5, a coating solution (preferably in an emulsion state) containing a heat-sealable thermoplastic resin, hollow resin particles, water and alcohol is applied on the transparent vapor-deposited layer 5. The heat seal layer 6 is formed by drying and drying again if necessary. The above-mentioned materials can be used for the thermoplastic resin and fine particles used.

次に、より具体的な実施例を示して本発明を更に詳しく説明する。   Next, the present invention will be described in more detail by showing more specific examples.

実施例1について説明する。   Example 1 will be described.

まず、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート原反(東レ(株)製 ルミラー25T60C)の基材フィルム2の片面に、平均粒径3μm程度のPE−waxを重量比4%含むアクリル樹脂((株)昭和インク工業所製 48wx6−H0)で、剥離層3(膜厚約1μm)を形成する。   First, an acrylic resin (Showa Co., Ltd.) containing PE-wax with an average particle diameter of about 3 μm on one side of a base film 2 of a polyethylene terephthalate raw material (Lumirror 25T60C manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 25 μm. The release layer 3 (film thickness of about 1 μm) is formed using 48wx6-H0 manufactured by Ink Industries.

[基材フィルム]
・ポリエチレンテレフタレートフィルム(以下「PETフィルム」という。)
(東レ(株)製 ルミラー25T60C)
[剥離層]
・アクリル樹脂(PE−waxを含む)
((株)昭和インク工業所製 48wx6−H0)
[Base film]
Polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”)
(Lumilar 25T60C manufactured by Toray Industries, Inc.)
[Peeling layer]
・ Acrylic resin (including PE-wax)
(48wx6-H0 manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd.)

次に、この剥離層3上に以下の組成を有する光硬化性樹脂により、ホログラム層形成用の樹脂層(膜厚約2μm)を形成する。
[ホログラム層]
・光硬化性樹脂(ザ・インクテック(株)製 MHX405)
ポリウレタンアクリレート … 重量比34%
光重合開始剤 … 重量比 1%
溶剤(離型性シリコーン) … 重量比65%
Next, a resin layer (film thickness of about 2 μm) for forming a hologram layer is formed on the release layer 3 with a photocurable resin having the following composition.
[Hologram layer]
・ Photo curable resin (MHX405, manufactured by The Inktec Co., Ltd.)
Polyurethane acrylate 34% by weight
Photopolymerization initiator: 1% by weight
Solvent (Releasable silicone): 65% by weight

次いで、ホログラム複製を下記のように行なってホログラム層4を形成する。まず、レーザー光を用いてホログラム原版を作製し、このホログラム原版を、連続複製装置のエンボスローラーに装着する。次いで、ホログラム層ベースを、連続複製装置の給紙側に設置し、エンボスローラーに20m/分の速度で供給して、プレス圧1×105Pa、ロール温度140℃で圧着して、凹凸パターンを樹脂層に形成した。引き続き、高圧水銀灯より発生した紫外線を通常の1/2の照射量で照射して樹脂層を硬化させ、レリーフを形成してホログラム層4とする。 Next, hologram replication is performed as follows to form the hologram layer 4. First, a hologram master is produced using laser light, and this hologram master is mounted on an embossing roller of a continuous replication device. Next, the hologram layer base is installed on the paper feeding side of the continuous replication device, supplied to the embossing roller at a speed of 20 m / min, and pressed at a press pressure of 1 × 10 5 Pa and a roll temperature of 140 ° C. Was formed in the resin layer. Subsequently, the resin layer is cured by irradiating ultraviolet rays generated from a high-pressure mercury lamp with a normal irradiation amount of ½, and a relief is formed to form the hologram layer 4.

次に、上記のホログラム層4上に真空蒸着法により透明蒸着層5を形成する。透明蒸着層5は、ホログラム層4の屈折率と異なる屈折率を有する。本実施例では、ホログラム層の屈折率1.4に対し、透明蒸着層5の屈折率を1.8〜2.3とする。   Next, the transparent vapor deposition layer 5 is formed on the hologram layer 4 by a vacuum vapor deposition method. The transparent vapor deposition layer 5 has a refractive index different from that of the hologram layer 4. In this embodiment, the refractive index of the transparent vapor deposition layer 5 is set to 1.8 to 2.3 with respect to the refractive index of 1.4 of the hologram layer.

[透明蒸着層]
・ZnS及びTiO2
[Transparent deposition layer]
ZnS and TiO2

次に、基材フィルム2にタイミングマーク8をシルクスクリーン印刷する。   Next, the timing mark 8 is silk-screen printed on the base film 2.

[タイミングマーク]
・墨シルクインキ
((株)セイコーアドバンス製 JETE1墨)
[Timing mark]
-Black silk ink (JETE 1 black, manufactured by Seiko Advance Co., Ltd.)

次に、基材フィルム2及びにタイミングマーク8の上にバックコート層7を形成する。   Next, the back coat layer 7 is formed on the base film 2 and the timing mark 8.

[バックコート層]
・UVインキ(重量比1%でシリカ剤を含む)
((株)昭和インク工業所製 UVAS)
[Back coat layer]
・ UV ink (silica agent is included at 1% by weight)
(UVAS manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd.)

次いで、透明蒸着層5上に下記組成のヒートシール層6(膜厚約5μm)を形成する。   Next, a heat seal layer 6 (film thickness of about 5 μm) having the following composition is formed on the transparent vapor deposition layer 5.

[ヒートシール層]
(株)昭和インク工業所製 THDHS-S(46)15
・水系エチレン−アクリル酸共重合体エマルジョン … 重量比85%
・シリカ剤 … 重量比15%
・PE−wax … 重量比0.1%
[Heat seal layer]
THDHS-S (46) 15 manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd.
・ Water-based ethylene-acrylic acid copolymer emulsion: 85% by weight
・ Silica agent: 15% by weight
・ PE-wax: 0.1% by weight

実施例2について説明する。実施例2は、実施例1のホログラム層に代えて以下の組成を有する樹脂層を形成する。   Example 2 will be described. In Example 2, instead of the hologram layer of Example 1, a resin layer having the following composition is formed.

[ホログラム層]
・光硬化性樹脂(ザ・インクテック(株)製 MHX405)
ポリウレタンアクリレート … 重量比34%
光重合開始剤 … 重量比2%
溶剤(離型性シリコーン) … 重量比60%
・PE−wax((株)昭和インク工業所製 スリップ剤B)
… 重量比2%
・オリゴマー/官能基数2、分子量3000
(日本合成化学工業(株) 紫光6630) … 重量比2%
[Hologram layer]
・ Photo curable resin (MHX405, manufactured by The Inktec Co., Ltd.)
Polyurethane acrylate 34% by weight
Photopolymerization initiator: 2% by weight
Solvent (Releasable silicone): 60% by weight
・ PE-wax (Slip agent B manufactured by Showa Ink Industries, Ltd.)
... 2% by weight
・ Oligomer / functional group number 2, molecular weight 3000
(Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Shiko 6630) ... 2% by weight

実施例3について説明する。実施例3は、実施例1の剥離層のアクリル樹脂に代えて以下の組成を有するセルロース樹脂を用いて樹脂層を形成する。
[剥離層]
・セルロース樹脂(PE−waxを重量比20%含む)
((株)昭和インク工業所製 CAPB20)
Example 3 will be described. In Example 3, a resin layer is formed using a cellulose resin having the following composition instead of the acrylic resin of the release layer of Example 1.
[Peeling layer]
・ Cellulose resin (including 20% by weight of PE-wax)
(CAPB20 manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd.)

次に、実施例4について説明する。基材フィルム及び剥離層については実施例1と同様のものを使用する。   Next, Example 4 will be described. About a base film and a peeling layer, the thing similar to Example 1 is used.

次に、体積型ホログラム形成用光硬化性樹脂組成物溶液を、50μmのPETフィルム(東レ(株)製 ルミラー25T60C)に乾燥後膜厚が3g/m2 となるようにグラビアコートで塗工し、さらに塗工面に50μmのPETフィルムをラミネートして、体積型ホログラム形成用フィルムを作成する。   Next, the photocurable resin composition solution for volume hologram formation was applied to a 50 μm PET film (Lumirror 25T60C manufactured by Toray Industries, Inc.) with a gravure coat so that the film thickness after drying was 3 g / m 2. Furthermore, a 50 μm PET film is laminated on the coated surface to prepare a volume hologram forming film.

体積型ホログラム形成用フィルムの一方の側のPETフィルムを剥離し、予め用意された体積型ホログラム原版に、コーティングされた光硬化性樹脂組成物面をラミネートする。そこで、ホログラム形成用フィルム側から、波長が514nmのアルゴンレーザー光を入射して体積型ホログラムを得る。   The PET film on one side of the volume hologram forming film is peeled off, and the coated photocurable resin composition surface is laminated on a volume hologram master prepared in advance. Therefore, an argon laser beam having a wavelength of 514 nm is incident from the hologram forming film side to obtain a volume hologram.

[ホログラム層]
・体積型ホログラム形成用光硬化性樹脂組成物 60重量部
・メチルエチルケトン(MEK) 25重量部
・トルエン 15重量部
[Hologram layer]
・ 60 parts by weight of photocurable resin composition for volume hologram formation ・ 25 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK) ・ 15 parts by weight of toluene

次に、剥離層3上に、作成した体積型ホログラムを原版から剥離してラミネートし、PETフィルム/剥離層/体積型ホログラム層/PETフィルムの構成を得、さらに加熱、紫外線照射で処理した。   Next, the volume hologram produced was peeled off from the original and laminated on the release layer 3 to obtain a configuration of PET film / release layer / volume hologram layer / PET film, and further processed by heating and ultraviolet irradiation.

上記構成により、体積型ホログラム層4に接しているPETフィルムを剥離し、該体積型ホログラム層上に感熱性接着剤(実施例1のヒートシール層を使用)に重量分立で6%のシリカ微粒子を含む溶液を、グラビアコートで乾燥後2g/m2となるように塗工し、PET/剥離層/体積型ホログラム層/感熱接着剤層からなる、体積型ホログラム転写箔を得る。 With the above-described configuration, the PET film in contact with the volume hologram layer 4 is peeled off, and a 6% silica fine particle is separated from the volume hologram layer by a weight-sensitive adhesive (using the heat seal layer of Example 1). The solution containing is coated with a gravure coat so as to be 2 g / m 2 after drying to obtain a volume hologram transfer foil comprising PET / peeling layer / volume hologram layer / heat-sensitive adhesive layer.

実施例1〜実施例4で作成されたホログラム箔を、120℃で、ホログラム転写機(セキュリティーフォイリング社:マイクロポイズPRO)にて紙に転写したところ、箔切れよく良好に転写された。   When the hologram foils produced in Examples 1 to 4 were transferred to paper at 120 ° C. with a hologram transfer machine (Security Foiling Co., Ltd .: Micropoise PRO), the foils were transferred well with good foil breakage.

以上、本発明のホログラム転写箔を実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施形態に限定されず種々の変形が可能である。   As mentioned above, although the hologram transfer foil of this invention has been demonstrated based on embodiment, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation is possible.

1…ホログラム転写箔
2…基材フィルム
3…剥離層
4…ホログラム層
5…透明蒸着層
6…ヒートシール層
7…バックコート層
8…タイミングマーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hologram transfer foil 2 ... Base film 3 ... Release layer 4 ... Hologram layer 5 ... Transparent vapor deposition layer 6 ... Heat seal layer 7 ... Backcoat layer 8 ... Timing mark

Claims (10)

基材フィルムと、
ホログラムレリ−フパターンを形成したホログラム層と、
前記基材フィルムと前記ホログラム層との間に設けられた剥離層と、
前記ホログラム層に対して前記剥離層の反対側に設けられたヒートシール層と、
を備え、
前記ヒートシール層は、
水系エチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンからなり、
前記ヒートシール層の厚みより大きい粒径の第1の添加粒子を含むと共に、
前記ヒートシール層の厚みより小さい粒径の第2の添加粒子及び第3の添加粒子を含み、
前記第1の添加粒子は、前記ヒートシール層の両側からはみ出しており、
前記第2の添加粒子は、前記ヒートシール層の一方に重合し、
前記第3の添加粒子は、前記ヒートシール層の他方に重合する
ことを特徴とするホログラム転写箔。
A base film;
A hologram layer formed with a hologram relief pattern;
A release layer provided between the base film and the hologram layer;
A heat seal layer provided on the opposite side of the release layer with respect to the hologram layer;
With
The heat seal layer is
It consists of an aqueous ethylene-acrylic acid copolymer emulsion,
Including first additive particles having a particle size larger than the thickness of the heat seal layer ,
The second additive particles and the third additive particles having a particle size smaller than the thickness of the heat seal layer,
The first additive particles protrude from both sides of the heat seal layer,
The second additive particles are polymerized to one of the heat seal layers,
The hologram transfer foil, wherein the third additive particles are polymerized to the other of the heat seal layers .
前記添加粒子は、シリカからなる
ことを特徴とする請求項に記載のホログラム転写箔。
The hologram transfer foil according to claim 1 , wherein the additive particles are made of silica.
前記ヒートシール層は、ワックスを含む
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のホログラム転写箔。
The heat seal layer, hologram transfer foil according to claim 1 or claim 2, characterized in that it comprises a wax.
前記ホログラム層は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のホログラム転写箔。
The hologram transfer foil according to any one of claims 1 to 3 , wherein the hologram layer is made of a resin having an ultraviolet curable crosslinking structure.
前記ホログラム層は、樹脂の架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含む
ことを特徴とする請求項に記載のホログラム転写箔。
The hologram transfer foil according to claim 4 , wherein the hologram layer includes a crosslinking structure adjusting additive that adjusts the number of crosslinks of the resin.
前記樹脂は、ポリウレタンアクリレートからなり、
前記架橋構造調整添加剤は、オリゴマーからなる
ことを特徴とする請求項に記載のホログラム転写箔。
The resin is made of polyurethane acrylate,
The hologram transfer foil according to claim 5 , wherein the crosslinking structure adjusting additive comprises an oligomer.
前記ホログラム層は、ワックスを含む
ことを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載のホログラム転写箔。
The hologram layer is a hologram transfer foil according to any one of claims 4 to 6, characterized in that it comprises a wax.
前記剥離層は、ワックスが分散したアクリル樹脂からなる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のホログラム転写箔。
The release layer, a hologram transfer foil according to any one of claims 1 to 7, characterized in that it consists of acrylic resin wax are dispersed.
前記ホログラム層と前記ヒートシール層の間に、前記ホログラム層と屈折率の異なる透明蒸着層を有する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のホログラム転写箔。
Hologram transfer foil according to any one of claims 1 to 8, characterized in that during the heat-sealing layer and the hologram layer has a different transparent vapor deposited layer having a refractive index as the hologram layer.
前記基材フィルムにバックコート層を積層する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のホログラム転写箔。
Hologram transfer foil according to any one of claims 1 to 9, characterized in that laminating a back coat layer on the base film.
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