JP5380029B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Landscapes
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Description
防眩性フィルムは、表面散乱に加えて内部散乱性を有する防眩フィルムが知られている(例えば特許文献2参照)。
<1>
少なくとも、第1保護膜と、第1偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板を有する液晶セルと、第2偏光膜と、第2保護膜とをこの順序で有し、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第1保護膜または第2保護膜のいずれかに少なくとも凹凸表面を有する防眩層、及び該防眩層上に直接、厚さが50〜150nmで屈折率が防眩層の屈折率より低く、かつ屈折率が1.20〜1.46の低屈折率層を有し、
該防眩層の、
中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm<Ra<0.4μmであり、
凹凸の平均間隔(Sm)が200μm<Sm<600μmであり、
該凹凸の傾斜角θにおいて、0°<θ<0.5°の領域(θ(0.5))が40%〜98%を占め、
該防眩層が少なくとも1種の透光性粒子を含有し、該透光性粒子の平均粒径が前記防眩層の平均膜厚よりも0.01〜4.0μm大きく、該透光性粒子の添加量が前記防眩層の全固形分に対して0.01〜1質量%である、液晶表示装置。
<2>
前記透光性粒子の平均粒径が3μm〜15μmである<1>に記載の液晶表示装置。
<3>
前記光学補償領域が下記式(A)〜(D)のいずれかを満たす少なくとも1つの位相差領域を含む<1>または<2>に記載の液晶表示装置。
(A)100nm≦Re≦400nm、且つ−50nm≦Rth≦50nm
(B)60nm≦Re≦200nm、且つ30nm≦Rth≦100nm
(C)0nm≦Re≦20nm、且つ−400nm≦Rth≦−50nm
(D)30nm≦Re≦150nm、且つ100nm≦Rth≦400nm
(ここでReは面内のレターデーション、Rthは厚み方向のレターデーションである。)
<4>
前記式(A)〜(D)のいずれかを満たす第1位相差領域がセルロースエステルフィルムである<3>に記載の液晶表示装置。
<5>
前記光学補償領域が前記式(A)を満たす第1位相差領域を含み、該第1位相差領域の値Nzが0.45〜0.55である<3>または<4>に記載の液晶表示装置。
<6>
前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが60nm〜200nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが30nm〜100nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−300nm〜−100nmである<1>〜<4>のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
<7>
前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に直交している<6>に記載の液晶表示装置。
<8>
前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である<6>に記載の液晶表示装置。
<9>
前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが30nm〜150nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが100nm〜400nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−400nm〜−80nmであり、且つ第1偏光膜の吸収軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に垂直である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
<10>
前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に垂直である<9>に記載の液晶表示装置。
<11>
前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である<9>に記載の液晶表示装置。
<12>
前記第2位相差領域が、実質的に垂直配向した棒状液晶化合物を含有する位相差層を有する<6>〜11>のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
<13>
前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜の厚み方向のレターデーションRthが−50nm〜40nmである<1>〜<12>のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
<14>
前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜がセルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルムまたはアクリル系フィルムである<1〜<13>のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
なお、本発明は上記<1>〜<14>に関するものであるが、参考のためその他の事項(例えば下記1〜17に記載した事項等)についても記載した。
1.
少なくとも、第1保護膜と、第1偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板を有する液晶セルと、第2偏光膜と、第2保護膜とをこの順序で有し、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第1保護膜または第2保護膜のいずれかに少なくとも防眩層を有し、
該防眩層の、
中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm<Ra<0.4μmであり、
凹凸の平均間隔(Sm)が80μm<Sm<700μmであり、
該凹凸の傾斜角θにおいて、0°<θ<0.5°の領域(θ(0.5))が40%〜98%を占める、液晶表示装置。
2.
前記防眩層が少なくとも1種の透光性粒子を含有し、該透光性粒子の平均粒径が前記防眩層の平均膜厚よりも0.01〜4.0μm大きい上記1に記載の液晶表示装置。
3.
前記透光性粒子の添加量が、前記防眩層の全固形分に対して0.01〜1質量%である上記1または2に記載の液晶表示装置。
4.
前記透光性粒子の平均粒径が3μm〜15μmである上記1〜3のいずれかに記載の液晶表示装置。
5.
前記防眩層の表面に、前記防眩層の屈折率より屈折率が低い低屈折率層を有する上記1〜4のいずれかに記載の液晶表示装置。
6.
前記光学補償領域が下記式(A)〜(D)のいずれかを満たす少なくとも1つの位相差領域を含む上記1〜5のいずれかに記載の液晶表示装置。
(A)100nm≦Re≦400nm、且つ−50nm≦Rth≦50nm
(B)60nm≦Re≦200nm、且つ30nm≦Rth≦100nm
(C)0nm≦Re≦20nm、且つ−400nm≦Rth≦−50nm
(D)30nm≦Re≦150nm、且つ100nm≦Rth≦400nm
(ここでReは面内のレターデーション、Rthは厚み方向のレターデーションである。)
7.
前記式(A)〜(D)のいずれかを満たす第1位相差領域がセルロースエステルフィルムである上記6に記載の液晶表示装置。
8.
前記光学補償領域が前記式(A)を満たす第1位相差領域を含み、該第1位相差領域の値Nzが0.45〜0.55である上記6または7に記載の液晶表示装置。
9.
前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが60nm〜200nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが30nm〜100nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−300nm〜−100nmである上記1〜7のいずれかに記載の液晶表示装置。
10.
前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に直交している上記9に記載の液晶表示装置。
11.
前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である上記9に記載の液晶表示装置。
12.
前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが30nm〜150nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが100nm〜400nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−400nm〜−80nmであり、且つ第1偏光膜の吸収軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に垂直である上記1〜7のいずれかに記載の液晶表示装置。
13.
前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に垂直である上記12に記載の液晶表示装置。
14.
前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である上記12に記載の液晶表示装置。
15.
前記第2位相差領域が、実質的に垂直配向した棒状液晶化合物を含有する位相差層を有する上記9〜14のいずれかに記載の液晶表示装置。
16.
前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜の厚み方向のレターデーションRthが−50nm〜40nmである上記1〜15のいずれかに記載の液晶表示装置。
17.
前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜がセルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルムまたはアクリル系フィルムである上記1〜16のいずれかに記載の液晶表示装置。
測定波長λnmの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
測定されるフィルムが1軸又は2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)は算出される。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH又はWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値とを基にKOBRA 21ADH又はWRが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式(I)及び式(II)よりRthを算出することもできる。
数式(I)
Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、Re(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、nxは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnx及びnyに直交する方向の屈折率を表し、dは膜厚を表す。
Rth(λ)は、前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH又はWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRが算出される。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学補償フィルムのカタログの値を使用することができる。
また、平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学補償フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:
セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRは、nx、ny、nzを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)が更に算出される。
本発明の液晶表示装置は、少なくとも、第1保護膜と、第1偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板を有する液晶セルと、第2偏光膜と、第2保護膜とがこの順序で有し、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第1保護膜または第2保護膜のいずれかに少なくとも防眩層を有し、
該防眩層の、
中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm<Ra<0.4μmであり、
凹凸の平均間隔(Sm)が80μm<Sm<700μmであり、
該凹凸の傾斜角θにおいて、0°<θ<0.5°の領域(θ(0.5))が40%〜98%を占める、液晶表示装置である。
また、本発明の防眩層をTNモードに適用しても、斜め方向の光漏れ低減効果は観察されなかった。従って、本発明は構造的に斜め方向の光漏れが改善されたIPSモードの液晶表示装置と光学補償と本発明の防眩層を組み合わせで初めて得られる効果であることが分かった。
〔防眩層の構成〕
本発明における防眩層は、透明支持体上に微粒子及びバインダーを含んでなる少なくとも一層の防眩層を有する。図1を参照に、本発明の防眩性フィルムについて説明する。
防眩性を付与する方法としては、特開平6−16851号記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開2000−206317号公報記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開2000−338310号公報記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開2000−275404号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開2000−275404号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開2005−195819号公報記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法、などが知られており、本発明のフィルムにおける防眩層を形成するにはこれら公知の方法を利用することができる。
また、防眩層は、バインダー形成材料、透光性粒子および溶媒を含有する防眩層形成用塗料を用いて形成されることが好ましい。
本発明の好ましい態様の1つとして、防眩層中に防眩性を付与するために少なくとも1種の前記透光性粒子を含有し、該透光性粒子の平均粒子径が防眩層の平均膜厚よりも0.01〜4.0μm大きいことが、防眩性を付与する点で好ましく、防眩性と膜表面の平坦部の割合を多くし、薄膜干渉層を均一に積層することを両立するためには0.5〜3.5μm大きいことがさらに好ましく、1.0〜3.0μm大きいことが最も好ましい。また、透光性粒子の平均粒子径が4μm以下の場合は、0.1〜2.5μm大きいことが好ましく、0.1〜2.0μm大きいことが最も好ましい。
防眩層の平均膜厚はフィルムの断面を電子顕微鏡で観察し、膜厚をランダムに30ヶ所測定した平均値から算出される。
この際、上記粒子は防眩層よりも少なくとも0.01〜4.0μm突出して防眩性を発現しているため平坦部が多くても防眩性が損なわれることがない。
また、凹凸平均間隔(Sm)は80μm<Sm<700μmであり、防眩性と膜表面の平坦部の割合を多くし、薄膜干渉層を均一に積層することを両立するためには凹凸の平均間隔(Sm)が150μm<Sm<700μmであることが好ましく、200μm<Sm<600μmであることが最も好ましい。
本発明の光学フィルムは表面に微細凹凸構造を有する。本発明において、傾斜角度θの分布は以下の方法で決定される。すなわち、面積が0.5乃至2平方マイクロメートルである三角形の頂点を透明フィルム基材面(支持体面)に仮定し、その点から鉛直上向きに伸ばした3つの垂線がフィルム表面と交わる3点によって形成される三角形の面の法線が、支持体面から鉛直上向きに伸ばした垂線となす角を表面の傾斜角度とし、基材上で250000平方マイクロメートル(0.25平方ミリメートル)以上の面積を該三角形に分割して測定した時の全測定点の傾斜角度分布を調べる。
光学フィルムの裏面、すなわち低屈折率層とは反対側をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態にして、該光学フィルムの表面を、分光光度計V−550(日本分光(株)製)の積分球に装着して、380〜780nmの波長領域において、反射率(積分反射率)を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出する。
光学フィルムの表面形状はJIS B−0601(1994)に基づいて、表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)、平均間隔(Sm)を小坂研究所(株)製サーフコーダーMODEL SE−3Fにより評価する。Smに関しては、測定の際の測定長は8mm、カットオフ値は0.8mmとした。
微粒子(透光性粒子)の種類については、前記の粒径及び後述する防眩層の内部ヘイズの値を満たすものであるのが好ましく、凸部は実質的に1個の微粒子によって形成されていることがより好ましいため、分散性の良好な微粒子を選定することが好ましい。
防眩層の粒子の添加量を上記範囲とすることで、平面部分を増やすことができ、広角度から入射し、防眩層の表面で屈折し、低角度に出射される光を低下させることができ、対角位斜め方向の光漏れを防止することができる。
本発明における防眩層のバインダーは、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者を含み、硬化して形成されることが好ましい。
防眩性フィルムの表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(「ミクロスライドガラス品番S9111」、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板と得られた防眩性フィルムを密着した状態でJIS−K7136に準じてヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズとして算出した。
本発明においては、前記の防眩層より外側、すなわち透明支持体より遠い側に低屈折率層を設けることができる。低屈折率層を有することで、防眩性フィルムに反射防止機能を付与し、さらには防眩性をより高めることができる。低屈折率層の屈折率は前記の防眩層の屈折率より低く設定することが好ましい。低屈折率層と防眩層との屈折率差が小さすぎる場合は反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。低屈折率層と防眩層との屈折率差は0.01以上0.30以下が好ましく、0.05以上0.20以下がより好ましい。
また、低屈折率層形成用組成物は後述するオルガノシラン化合物を含有することもできる。
含フッ素共重合体を主として構成する含フッ素ビニルモノマーとしては、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類{例えば「ビスコート6FM」(商品名)、大阪有機化学工業(株)や“R−2020”(商品名)、ダイキン工業(株)製等}、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
(A):グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
(B):カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー{例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等}の重合によって得られる構成単位、
(C):分子内に上記(A)、(B)の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記(A)、(B)の構成単位と反応させて得られる構成単位(例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位)が挙げられる。
a.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
b.水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
c.エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
d.カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
本発明では共重合体中の架橋性付与のための構成単位の導入量が10〜50モル%であることが好ましく、より好ましくは15〜45モル%の場合であり、特に好ましくは20〜40モル%の場合である。
次に本発明における低屈折率層に好ましく用いることのできる微粒子について説明する。
耐擦傷性の強化を図るためには、防眩性フィルム全層に無機粒子が含まれていることが好ましく、最も好ましくは、防眩性フィルム全層にシリカ粒子が含まれていることが好ましい。
[オルガノシラン化合物]
本発明の防眩性フィルムを構成する層のうちの少なくとも1層は、オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物の少なくとも1種の成分、いわゆるゾル成分(以降このように称する場合もある)を用いて形成されることが耐擦傷性の点で好ましい。特に、低屈折率層を有する防眩性フィルムにおいては、反射防止性能と耐擦傷性を両立させるために、低屈折率層にゾル成分を含有させることが特に好ましい。このゾル成分は、塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し、上記低屈折率層のバインダーの一部となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
一般式(1):(R11)m1−Si(X11)4-m1
(光重合開始剤)
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号公報等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ホウ酸塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
熱ラジカル開始剤としては、有機又は無機の過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
本発明の防眩層及び低屈折率層を構成するモノマー又はポリマーバインダーが単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。特に低屈折率層に含有させることが有効である。例えばポリマー本体に水酸基を含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
本発明のフィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線又は熱の照射によりラジカルや酸を発生する硬化触媒を使用することができる。
本発明の防眩性フィルムの一例として、加熱することで、含フッ素共重合体の水酸基と、この水酸基と架橋できる硬化剤との架橋反応で膜を硬化させることができる。この系では酸により硬化が促進されるため、硬化性樹脂組成物に、酸性物質を添加することが望ましいが、通常の酸を添加すると塗布液中でも架橋反応が進行してしまい、故障(ムラ、ハジキなど)の原因となる可能性もあり、従って、熱硬化系で保存安定性と硬化活性を両立するために、加熱により酸を発生する化合物を硬化触媒として添加することがより好ましい。
本発明の防眩性フィルムにおいて、前記低屈折率層は塗布により形成することができ、前記低屈折率層を形成する塗布液に、皮膜形成成分として、紫外線(UV)硬化、及び/又は熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂を少なくとも一種有していることが好ましい{紫外線(UV)硬化、及び/又は熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂として、好ましくは前述の含フッ素共重合体やオルガノシラン化合物等である}。
る架橋剤を含んでいることがなお好ましい。さらに加えて、前記低屈折率層中に、熱硬化を促進する硬化触媒を含んでいることがなおいっそう好ましい(重合開始剤、熱硬化できる架橋剤、及び熱硬化を促進する硬化触媒は、前述のものが好ましく使用できる)。
本発明の少なくとも1層の防眩層に、面状改良(ムラ防止)を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。さらに、本発明の低屈折率層に、同じく、ムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。
フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、さらに下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)の重合体、又は下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)及び下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位(重合単位)を含むアクリル樹脂、メタクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、“Polymer Handbook 2nd ed.”、J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975年)刊、第2章,P.1〜483記載のものを用いることができ、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等をあげることができる。
次に、シリコーン系レベリング剤について、説明する。
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
本発明の防眩性フィルムの低屈折率層の塗布液溶媒は、低屈折率層の乾燥ムラを抑えるため、沸点120℃以下の低沸点溶媒を、低屈折率層の塗布液溶媒全質量の50質量%〜100質量%、好ましくは70質量%〜100質量%、さらに90質量%〜100質量%含んでいることが好ましい。後述する本発明試料の低屈折率層の溶媒組成を上記のように変えることで、低屈折率層の面状評価にて、この効果が確認できた。具体的な塗布液溶媒としては、低屈折率層中の含フッ素ポリマーの溶解性がよい、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエンが代表例である。
防眩層には、塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
増粘させることにより、含有する粒子の沈降を抑えたり、ムラ防止の効果を期待できる。ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは0.05〜50cPであり、さらに好ましくは1〜50cPであり、最も好ましくは2〜50cPである。
高分子ポリマー増粘剤:
ポリアクリル酸エステル、
ポリメタクリル酸エステル、
ポリ酢酸ビニル、
ポリプロピオン酸ビニル、
ポリビニルブチレート、
ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、
ポリビニルアセタール、
ポリビニルプロパナール、
ポリビニルヘキサナール、
ポリビニルピロリドン、
セルロースアセテート、
セルロースプロピオネート、
セルロースアセテートブチレート。
また、これらの質量平均分子量としては10万〜100万のものが好ましい。
本発明の防眩性フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル{例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士フイルム(株)製“TAC−TD80U”,“TD80UF”など}、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂{「アートン」(商品名)、JSR(株)製}、非晶質ポリオレフィン{「ゼオネックス」(商品名)、日本ゼオン(株)製}、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルム及びその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745号、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。
本発明の防眩性フィルムの全光線透過率は、JIS K−7316に準じて測定される。全光線透過率は85%以上であることが正面コントラストの点で好ましい。更に好ましくは90%以上であり、特に好ましくは92%以上である。
本発明の防眩性フィルムには、導電性を付与するために、各種の導電性粒子を含む帯電防止層を設けることもできる。
鏡面反射率の測定は、分光光度計“V−550”[日本分光(株)製]にアダプター“ARV−474”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5゜の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均の鏡面反射率を算出した。積分反射率の測定は、分光光度計“V−550”[日本分光(株)製]にアダプター“ILV−471”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分反射率を測定し、450〜650nmの平均の積分反射率を算出した。
さらに、JIS K−5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
本発明の防眩性フィルムは、以下の方法で形成することができるが、これらに制限されるものではない。
塗布に用いる塗布液は塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には、絶対濾過精度0.1〜50μm、さらには絶対濾過精度0.1〜40μmであるフィルタが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、濾過圧力は1.5MPa以下、より好ましくは1.0MPa以下、更には0.2MPa以下で濾過することが好ましい。
本発明で使用する透明支持体は、塗布前に、ベース変形の矯正のための加熱処理、又は、塗工性改良や塗設層との接着性改良のための表面処理を施すことが好ましい。表面処理の具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平7−333433号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許第2681294号明細書、国際公開第2005/123274号パンフレット参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
本発明のフィルムは、透明支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶媒を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶媒を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては、特開2001−286817号公報、同2001−314798号公報、同2003−126768号公報、同2003−315505号公報、同2004−34002号公報などの記載技術が挙げられる。
本発明の防眩性フィルムは、溶媒の乾燥の後に、ウェブとして電離放射線及び/又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。本発明における電離放射線種は紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
本発明の防眩性フィルムを連続的に製造するためには、ロール状の透明支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する該支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
本発明の液晶表示装置の光学補償領域について説明する。
本発明の液晶表示装置は第1偏光膜と液晶セルの間に光学補償領域を有する。前記、光学補償領域は下記式(A)〜(D)のいずれかを満たす少なくとも1つの第1位相差領域を含むことが好ましい。
(A)100nm≦Re≦400nm、且つ−50nm≦Rth≦50nm
(B)60nm≦Re≦200nm、且つ30nm≦Rth≦100nm
(C)0nm≦Re≦20nm、且つ−400nm≦Rth≦−50nm
(D)30nm≦Re≦150nm、且つ100nm≦Rth≦400nm
(ここでReは面内のレターデーション、Rthは厚み方向のレターデーションである。)
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図5は、本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。図6及び図7は、本発明の液晶表示装置の第1の実施形態の模式図である。
図6に示す液晶表示装置は、偏光膜103、108と、第1位相差領域111と、液晶セル106からなる。偏光膜103、108は、それぞれ保護膜101と104及び107と110によって挟持されている。
本発明では保護膜101が第1保護膜であり、保護膜110が第2保護膜であり、第1保護膜と第2保護膜のいずれかに防眩層が塗設されている。第1保護膜101に防眩層が塗設されている場合は、第1保護膜101が視認側になり、第2保護膜110が背面側になる。また、第2保護膜110に防眩層が塗設されている場合は、第2保護膜110が視認側となり、第1保護膜101が背面側となる。
また、本発明に用いられる液晶セルはIPSモードに限定されることなく、黒表示時に液晶分子が前記一対の基板の表面に対して実質的に平行に配向する液晶表示装置であれば、いずれも好適に用いることができる。この例としては強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置、ECB型液晶表示装置がある。
本発明の図6または図7に示した第1の実施形態の液晶表示装置では、第1位相差領域は、(A)の条件を満たす。即ち、面内のレターデーションReが、100nm〜400nmであり、且つ厚み方向のレターデーションRthは−50nm〜50nmである。
斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第1位相差領域のReは、105nm〜250nmであるのがより好ましく、110nm〜190nmであるのがさらに好ましい。また、値Nzが0.45〜0.55であることが好ましく、0.48〜0.52であることがより好ましい。
以下、図面を用いて本発明、第2の実施形態のついて詳細に説明する。図8および図9は、本発明、第2の実施形態の液晶表示装置の模式図である。
図8に示す液晶表示装置は、偏光膜103及び108と、第1位相差領域111と、第2位相差領域113と、基板と、該基板に挟持される液晶層とを有する。液晶セルの構成及び液晶層の一画素領域中の液晶分子の配向状態については、上記本発明の液晶表示装置の、第1の実施形態と同様である。
偏光膜103および108は、それぞれ保護膜101と104及び107と110によって挟持されている。偏光膜103の吸収軸102と、偏光膜108の透過軸109は直交して配置されている。第1位相差領域111の遅相軸112は、偏光膜103の吸収軸に直交しており、黒表示時の液晶セルの遅相軸方向106に平行である。
図8に示す液晶表示装置では、偏光膜103が二枚の保護膜101と104に狭持された構成を示しているが、保護膜104はなくてもよい。また、偏光膜108も二枚の保護膜107と110に狭持されているが、液晶層108に近い側の保護膜107はなくてもよい。
第2の態様においても、第1保護膜101、第2保護膜110のうちのいずれかに防眩層が塗設されており、防眩層が塗設されている保護膜が視認側であり、もう一方の保護膜が背面側である。なお、第1保護膜101に防眩層が塗設されている場合は、第1位相差領域および第2位相差領域は、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されることになり、第2保護膜110に防眩層が塗設されている場合は、第1位相差領域および第2位相差領域は、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されることになる。
図9に示す態様では、第1の位相差領域111は、その遅相軸112が偏光膜103の、吸収軸と黒表示時の液晶セルの遅相軸106に平行になるように配置される。
本発明の第2の実施形態に含まれる第1位相差領域は(B)または、(D)の条件を満たす。
第1位相差領域が(B)の条件を満たす場合は、面内のレターデーションReが60nm〜200nm、且つ厚み方向のレターデーションRthは30nm〜100nmである。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第1位相差領域のReは、80nm〜180nmであるのがより好ましく、90nm〜160nmであるのがさらに好ましい。また、Nzは1.0〜2.5であることが好ましく、1.0〜2.0であるのがより好ましく、1.0〜1.8であるのがさらに好ましい。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より1〜300μm、就中10〜200μm、特に20〜150μmとされる。
上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をTgとするとき、好ましくはTg−30℃からTg+60℃の温度範囲、より好ましくはTg−10℃からTg+50℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは1.01〜2倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向(押出方向)であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことが出来る。
本発明の第2の実施形態の液晶表示装置が有する、第2位相差領域は(C)の条件を満たすことが好ましい。即ち、面内レターデーションReが0nm〜20nm、且つ厚み方向のレターデーションRthが−400nm〜−50nmであることが好ましい。前記第2位相差領域のRthのより好ましい範囲は、第1の位相差領域によって大きく変動する。第1に位相差領域が(B)の条件を満たす場合は、第2位相差領域のRthは、−300nm〜−100nmであるのがより好ましく、−270nm〜−120nmであるのがさらに好ましい。また、第1に位相差領域が(C)の条件を満たす場合は、第2位相差領域のRthは、−400nm〜−80nmであるのがより好ましく、−350nm〜−120nmであるのがさらに好ましい。
一方、面内レターデーションReは第1位相差領域が(B)(C)何れの条件を満たす場合も、0nm〜20nmであることが好ましく、0nm〜10nmであるのがさらに好ましく、0nm〜5nmであるのが特に好ましい。
本発明の第2位相差領域は、棒状液晶性化合物を含む組成物から形成してもよい。前記棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は1〜6個、好ましくは1〜3個である。
液晶性化合物を配向膜側で垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させることが重要である。具体的には、ポリマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させ、これにより液晶性化合物を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、フッ素原子及び炭素原子数が10以上の炭化水素基が有効である。フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子又は炭化水素基を導入することが好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を0.05〜80質量%の割合で含むことが好ましく、0.1〜70質量%の割合で含むことがより好ましく、0.5〜65質量%の割合で含むことがさらに好ましく、1〜60質量%の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基又はそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル基であってもよい)又はアルケニル基(シクロアルケニル基であってもよい)であることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、10〜100であることが好ましく、10〜60であることがさらに好ましく、10〜40であることが最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造又はポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。
通常、液晶性化合物は、空気界面側では傾斜して配向する性質を有するので、均一に垂直配向した状態を得るために、空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、空気界面側に偏在して、その排除体積効果や静電気的な効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を液晶塗布液に含有させて、位相差膜を形成するのが好ましい。
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることが出来る。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、偏光膜を保護する偏光膜用保護膜を有していてもよい。偏光膜用保護膜は、可視光領域に吸収が無く、光透過率が80%以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さいものが好ましい。具体的には、面内のReが0〜30nmが好ましく、0〜15nmがより好ましく、0〜5nmが最も好ましい。また、Rthは、40nm以下であることが好ましく、40nm〜−50nmであるのがより好ましく、20nm〜−20nmであるのがさらに好ましい。
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液)のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の質量平均分子量で、通常5,000〜500,000、好ましくは8,000〜200,000、より好ましくは10,000〜100,000の範囲であるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。
上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をTgとするとき、好ましくはTg−30℃からTg+60℃の温度範囲、より好ましくはTg−10℃からTg+50℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは1.01〜2倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向(押出方向)であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。
本発明では防眩性フィルムを、偏光膜の2枚の表面保護フィルムのうちの一方である。偏光板を作製する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
[偏光板の構成]
本発明では防眩性フィルムは、偏光膜とその両側に配置された保護フィルムとからなる偏光板の、その保護フィルムの一方又は両方に使用して、防眩性の偏光板とすることができる。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
一枚のガラス基板上に、図5に示す様に、隣接する電極間の距離が20μmとなるように電極(図5中202及び203)を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図5中に示す方向204に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔(ギャップ;d)を3.9μmとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性(Δn)が0.0769及び誘電率異方性(Δε)が正の4.5であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のd・Δnの値は300nmであった。
厚み55μmのポリカーボネート系樹脂を含有する高分子フィルム[(株)カネカ製 商品名「エルメック」(質量平均分子量=60,000、平均屈折率=1.53、Tg=136℃、Re[590]=1.0nm、Rth[590]=3.0nm)]の両側に、収縮性フィルム(厚み60μmのポリプロピレンを含有する二軸延伸フィルム[東レ(株)製 商品名「トレファンBO2570A」])をアクリル系粘着剤層(厚み15μm)を介して貼り合わせた。その後、ロール延伸機でフィルム長手方向を保持して、147℃の空気循環式オーブン内で1.26倍に延伸し、延伸後、上記収縮性フィルムを上記アクリル系粘着剤層と共に剥離して、第1位相差領域1に対応する光学補償フィルムAを作製した。この第1位相差領域1は、屈折率楕円体がnx>nz>nyの関係を示した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子径4μm、濾水時間35秒の濾紙(No.63、アドバンテック製)を5kg/cm2以下で用いて濾過した。
酢化度60.9%のセルロースアセテート
(重合度300、Mn/Mw=1.5) 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部
メタノール(第2溶媒) 54質量部
1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部
(鹸化)
上記で作製した第1位相差領域2に対応するセルロースアシレートフィルムを温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液をバーコーターにより、14ml/m2塗布し、110℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター((株)ノリタケカンパニー製)の下に10秒間滞留させた後、同じくバーコーターを用いて純水を3ml/m2塗布した。このときのフィルム温度は40℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返して後に、70℃の乾燥ゾーンに2秒滞留させて乾燥した。
水酸化カリウム 4.7質量部
水 15.7質量部
イソプロパノール 64.8質量部
プロピレングリコール 14.9質量部
C16H33O(CH2CH2O)10H(界面活性剤) 1.0質量部
上記作製した長尺状の第1位相差領域2に対応するセルロースアシレートフィルムの鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜塗布液を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。60℃の温風で60秒、さらに100℃の温風で120秒乾燥し、配向膜を形成した。
配向膜塗布液(A1)の組成
下記の変性ポリビニルアルコール 10質量部
水 371質量部
メタノール 119質量部
グルタルアルデヒド 0.5質量部
下記の棒状液晶性化合物(I) 100質量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー社製) 3質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 1質量部
下記のフッ素系ポリマー 0.4質量部
下記のピリジニウム塩 1質量部
メチルエチルケトン 172質量部
長尺のノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製:商品名Zeonoa:厚み60μm:光弾性係数3.10×10−12m2/N)を140℃で1.28倍に一軸延伸することによって、長尺の第1位相差領域3の延伸フィルムを作製した。
第1位相差領域3の厚みは35μm、面内位相差Reは130nm、厚み方向の位相差Rthは65nmであった。従って、第1位相差領域3は(B)の条件を満たしている。
仮支持体として長尺状のポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ100μm)の一方の面に、前記光学補償フィルムB作成で使用した。配向膜塗布液(A1)を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。60℃の温風で60秒、さらに100℃の温風で120秒乾燥し、配向膜を形成した。
厚み110μmのセルロースエステルのフィルム〔カネカ製、商品名:KA、DSac(アセチル置換度)=0.04、DSpr(プロピオニル置換度)=2.76〕を、145℃で1.5倍に自由端延伸して厚み108μmの第1位相差4を得た。得られた第1位相差領域4の面内位相差Reは140nmであり、厚み方向の位相差は、Rthは75nmであった。従って、第1位相差領域4は(B)の条件を満たしている。
上記で作成した第1位相差領域4を前記第1位相差領域2と同様に鹸化、配向膜の形成を行った後に、前記棒状液晶化合物を含む塗布液(S1)を、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は20m/minとした。室温から80℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、80℃の乾燥ゾーンで90秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を60℃に保持して、UV照射により液晶化合物の配向を固定化し、第2位相差領域3を形成し、光学補償フィルムDを作成した。
(偏光板保護膜1)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Aを調製した。
<セルロースアセテート溶液A組成>
置換度2.86のセルロースアセテート 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部
メタノール(第2溶媒) 54質量部
1−ブタノール 11質量部
<添加剤溶液B−1組成>
メチレンクロライド 80質量部
メタノール 20質量部
下記光学的異方性低下剤 40質量部
自動複屈折率計(KOBRA−21ADH、王子計測機器(株)製)を用いて、Reの光入射角度依存性を測定し、光学特性を算出したところ、Reが1nm、Rthが6nmであることが確認できた。
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム(フジタックTD80UF、富士フイルム(株)製)に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜1にケン化処理を行い、そのセルロースアセテートフィルム側が偏光膜側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Aを作製した。
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアシレートフィルム(フジタックTD80UF、富士フイルム(株)製)に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両面に貼り付け偏光板Bを作製した。
〔各層塗布液の調製〕
[防眩層用塗布液の調製]
下記に示す各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して調製した。
“DPHA” 96.7質量部
“MX−1000” 0.3質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.7質量部
平均粒径3μmPMMA粒子 0.3質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.7質量部
平均粒径6μmPMMA粒子 0.3質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.7質量部
平均粒径12μmPMMA粒子 0.3質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.7質量部
平均粒径15μmPMMA粒子 0.3質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 97.0質量部
“MX−1000” 0.01質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.95質量部
“MX−1000” 0.05質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.9質量部
“MX−1000” 0.1質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 96.0質量部
“MX−1000” 1.0質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
“DPHA” 94.0質量部
“MX−1000” 3.0質量部
「イルガキュア184」 3.0質量部
メチルイソブチルケトン 60.0質量部
メチルエチルケトン 40.0質量部
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン187g(0.80mol)、メチルトリメトキシシラン27.2g(0.20mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a−2を120g得た。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1500であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は30%であった。
また1H−NMRの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構
造であった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは5%以下の残存率であった。
PET−30 50.0質量部
イルガキュア184 2.0質量部
架橋アクリル−スチレン粒子(30%) 14.5質量部
ゾル液a−2 9.5質量部
トルエン 38.5質量部
“DPHA”:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、屈折率1.52、日本化薬(株)製。
PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
「イルガキュア184」:光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製
“MX−1000”:ポリメチルメタクリレート微粒子、平均粒径10.0μm、綜研化学(株)製
平均粒径3μmPMMA粒子:上記MX−1000と同じ組成で平均粒径が3.0μmの粒子。
平均粒径6μmPMMA粒子:上記MX−1000と同じ組成で平均粒径が6.0μmの粒子。
平均粒径12μmPMMA粒子:上記MX−1000と同じ組成で平均粒径が12.0μmの粒子。
平均粒径15μmPMMA粒子:上記MX−1000と同じ組成で平均粒径が12.0μmの粒子。
“架橋アクリル−スチレン粒子”:平均粒径3.5μm、屈折率1.53
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン120質量部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン“KBM−5103”{信越化学工業(株)製}100質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3質量部を加え混合したのち、イオン交換水30質量部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1800であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100質量%であった。ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
中空シリカ微粒子ゾル(粒子サイズ約40〜50nm、シエル厚6〜8nm、屈折率1.31、固形分濃度20質量%、主溶媒イソプロピルアルコール、特開2002−79616号公報の調製例4に準じて粒子サイズを変更して作製)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“KBM−5103”{信越化学工業(株)製}30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート「ケロープEP−12」{ホープ製薬(株)製}1.5質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、中空シリカ分散液(A−1)を得た。得られた中空シリカ分散液の固形分濃度は18質量%、溶媒乾燥後の屈折率は1.31であった。
メチルエチルケトン100質量部に対して、特開2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体(P−3)(質量平均分子量約50000)44.0質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“DPHA”{日本化薬(株)製}6.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン“RMS−033”(Gelest社製)3.0質量部、「イルガキュア907」{チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}を3.0質量部加えて溶解した。その後に中空シリカ微粒子分散液(A−1)を195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、ゾル液a17.2質量部(固形分として5.0質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が10対90になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液(LL−1)を調製した。
[防眩層の塗設]
特開2003−211052号公報の図1に記載されたスロットダイコーターを用いて、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士フイルム(株)製}をロール形態で巻き出して、防眩層塗布液(HCL−1)〜(HCL−11)を、下記表1の乾燥膜厚になるように塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの「空冷メタルハライドランプ」{アイグラフィックス(株)製}を用いて、照射量130mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させた防眩性フィルム(AGF−1)〜(AGF−17)を作製し、巻き取った。
試料(AGF−2)〜(AGF−17)については、防眩層の上にさらに、低屈折率層用塗布液(LL−1)を、特開2003−211052号公報の図1に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚が90nmになるようにウエット塗布し、60℃で50秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度100ppmの雰囲気下で240W/cmの「空冷メタルハライドランプ」{アイグラフィックス(株)製}を用いて、照射量400mJ/cm2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取り、防眩性フィルム(AGF−2)〜(AGF−17)を作成した。
本文に記載の方法により算術平均粗さ(Ra)、凹凸の平均間隔(Sm)を評価した。Smに関しては、測定の際の測定長は8mm、カットオフ値は0.8mmとした。
本文に記載の方法により傾斜角θを測定し、そこから傾斜角度0〜0.5°の頻度を算出した。
電子顕微鏡“S−3400N”{(株)日立ハイテクノロジーズ製}を用い、作製された防眩性フィルムを5000倍の倍率で透過撮影する。撮影された粒子をランダムに100個選定し、100個の粒子直径の平均値を平均粒径とした。
電子顕微鏡“S−3400N”{(株)日立ハイテクノロジーズ製}を用い、作製された防眩性フィルムの断面を5000倍の倍率で撮影する。防眩層の膜厚をランダムに10点測定し、平均値を導出する。この作業を三視野について行い、その平均値を平均膜厚とした。
反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態にした。該反射防止フィルムの表面を、分光光度計V−550(日本分光(株)製)の積分球に装着して、380〜780nmの波長領域において、反射率(積分反射率)を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムAGF−2を鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に市販のセルロースアシレートフィルム(フジタックTD80UF、富士フイルム(株)製)に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板C2を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムAGF−1〜AGF−17を鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜1に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板D1〜D17を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムAGF−2を鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に前記で作成の光学補償フィルムBの第1位相差領域2のセルロースアシレートフィルム面に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板E2を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムAGF−2を鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に前記で作成の光学補償フィルムDの第1位相差領域4のセルロースアシレートフィルム面に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板F2を作製した。
(A)100nm≦Re≦400nm、且つ−50nm≦Rth≦50nm
偏光板D1の偏光板保護膜1側にアクリル系粘着剤を用いて、作製した第1位相差領域1を、偏光膜の吸収軸と第1位相差領域1の遅相軸が平行になるように貼り付けた。
続いて、このIPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板D1とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L1を作製した。
この構成は、図6に示した構成に対応し、第1保護膜側に防眩層が積層されている。
上記で作成の液晶表示装置L1に対し、視認側偏光板D1を偏光板D2〜D17に代えた以外は同様にして、液晶表示装置L2〜L17を作成した。
上記で作成の液晶表示装置L1に対し、視認側偏光板D1を偏光板Aに代えた以外は同様にして、液晶表示装置L18を作成した。
上記で作成の液晶表示装置L1に対し、視認側偏光板D1を偏光板C2に代え、背面側偏光板Aを偏光板Bに代えた以外は同様にして、液晶表示装置L19を作成した。
上記で作成の液晶表示装置L19に対し、視認側偏光板C2を偏光板C15(上記<偏光板C2の作製>において、AGF−2の替わりにAGF−15を用いたもの)に代えた以外は同様にして、液晶表示装置L19を作成した。
暗室内に設定されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせない状態で液晶セル1を電極を配設した基板がシャーカステン側になるように置き、液晶セルのラビング方向を基準として左方向に45度の方位で、且つ液晶セルの法線方向から60度の方向に1m離れたところに設置された輝度計(分光放射輝度計CS−1000:ミノルタ(株)製)で輝度1を測定した。
次いで、上記と同じシャーカステン上に偏光板を貼り合わせた各液晶表示装置を置き、上記と同様に輝度2を測定し、これを輝度1に対する100分率で表したものを斜め漏れ光とした。
明室内に設定されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせた状態の各液晶表示装置を、電極を配設した基板がシャーカステン側になるように置き、液晶セルの法線方向に1m離れたところに設置された輝度計(分光放射輝度計CS−1000:ミノルタ(株)製)で、輝度の比(白表示/黒表示)であるコントラスト比を測定した。
上記で作製した液晶表示装置の視認者側にむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を45度の角度から映し、−45度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○
蛍光灯はぼやけているが、輪郭は識別できる :△
蛍光灯がほとんどぼけない :×
表2に示した結果から以下のことが明らかである。
透光性粒子の平均粒径が防眩層の平均膜厚よりも、0.01〜4.0μm大きく、該透光性粒子が防眩層の全固形分に対して0.1〜1質量%である防眩層を搭載した本発明の液晶表示装置は斜め漏れ光が少なく、映り込みがなく、優れたものである。
(B)60nm≦Re≦200nm、且つ30nm≦Rth≦100nm
(C)0nm≦Re≦20nm、且つ−400nm≦Rth≦−50nm
(D)30nm≦Re≦150nm、且つ100nm≦Rth≦400nm
偏光板D2の偏光板保護膜1側にアクリル系粘着剤を用いて、第1位相差領域2と第2位相差領域1が積層された光学補償フィルムBを偏光膜の吸収軸と第1位相差領域2の遅相軸が直交するように、第1位相差領域2の面を貼り付けた。
続いて、このIPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板D2とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L21を作製した。液晶表示装置21の構成は、図8に示した構成に対応し、第1保護膜101に防眩層が積層されている。また、光学補償フィルムBの第1位相差領域2は(D)の条件を満たし、第2位相差領域1は(C)の条件を満たしている。
偏光板D2の偏光板保護膜1側にアクリル系粘着剤を用いて、第1位相差領域3と第2位相差領域2が積層された光学補償フィルムCを偏光膜の吸収軸と第1位相差領域3の遅相軸が直交するように、第1位相差領域3の面を貼り付けた。
これを、前記で作製したIPSモード液晶セル1の視認側に、偏光板の吸収軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように(即ち、第1位相差領域3の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように)、貼り付けた。
続いて、このIPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Aとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L22を作製した。液晶表示装置22の構成は、図8に示した構成に対応し、第1保護膜101に防眩層が積層されている。また、光学補償フィルムBの第1位相差領域3は(B)の条件を満たし、第2位相差領域2は(C)の条件を満たしている。
偏光板D2の偏光板保護膜1側にアクリル系粘着剤を用いて、第1位相差領域4と第2位相差領域3が積層された光学補償フィルムDを偏光膜の吸収軸と第1位相差領域4の遅相軸が直交するように、第1位相差領域4の面を貼り付けた。
これを、前記で作製したIPSモード液晶セル1の視認側に、偏光板の吸収軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように(即ち、第1位相差領域4の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように)、貼り付けた。
続いて、IPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Aとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L23を作製した。液晶表示装置23の構成は、図8に示した構成に対応し、第1保護膜101に防眩層が積層されている。また、光学補償フィルムDの第1位相差領域4は(B)の条件を満たし、第2位相差領域3は(C)の条件を満たしている。
IPSモード液晶セル1の視認側に偏光板E2を第2位相差領域1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板E2の吸収軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交するように貼り付けた。
続いて、IPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板E2とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L24を作製した。液晶表示装置24の構成は、図8に示した構成に対し第1偏光膜セル側保護膜104がない構成である。第1保護膜101に防眩層が積層されている。また、光学補償フィルムBの第1位相差領域2は(B)の条件を満たし、第2位相差領域1は(C)の条件を満たしている。
IPSモード液晶セル1の視認側に偏光板F2を第2位相差領域3側が液晶セル側になるように、且つ偏光板F2の吸収軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交するように貼り付けた。
続いて、IPSモード液晶セル1の背面側に偏光板Aを偏光板保護膜1側が液晶セル側になるように、且つ偏光板F2とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置L25を作製した。液晶表示装置22の構成は、図8に示した構成に対し第1偏光膜セル側保護膜104がない構成である。第1保護膜101に防眩層が積層されている。また、光学補償フィルムBの第1位相差領域4は(B)の条件を満たし、第2位相差領域3は(C)の条件を満たしている。
光学補償領域が(B)、(C)、(D)の少なくともいずれかを満たす場合も、(A)を持たす場合と同様に 透光性粒子の平均粒径が防眩層の平均膜厚よりも、0.01〜3.0μm大きく、該透光性粒子が防眩層の全固形分に対して0.1〜1質量%である防眩層を搭載した本発明の液晶表示装置は斜め漏れ光が少なく、明室コントラストが高く、映り込みがなく、白茶け感もなく、優れたものである。
また、第1位相差領域にセルロースエステルフィルムを用い、偏光板保護膜を除いた構成(L24、L25)は、偏光板保護膜を使用した構成に対し、斜め漏れ光が少なく、明室コントランスが高く、良好である。
(2):防眩層
(5):低屈折率層
11:透明支持体
21:平滑層
22:防眩層
23:防眩層
51:低屈折率層
101:第1保護膜(第1偏光膜外側保護膜)
102:第1偏光膜吸収軸方向
103:第1偏光膜
104:第1偏光膜セル側保護膜
105:黒表示時の液晶セルの遅相軸方向
106:液晶セル
107:第2偏光膜セル側保護膜
108:第2偏光膜
109:第2偏光膜吸収軸方向
110:第2保護膜(第2偏光膜外側保護膜)
111:第1位相差領域
112:第1位相差領域の遅相軸方向
113:第2位相差領域
201:液晶素子画素領域
202:画素電極
203:表示電極
204:ラビング方向
205a、205b:黒表示時の液晶化合物のダイレクター
206a、206b:白表示時の液晶化合物のダイレクター
Claims (14)
- 少なくとも、第1保護膜と、第1偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板を有する液晶セルと、第2偏光膜と、第2保護膜とをこの順序で有し、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第1保護膜または第2保護膜のいずれかに少なくとも凹凸表面を有する防眩層、及び該防眩層上に直接、厚さが50〜150nmで屈折率が防眩層の屈折率より低く、かつ屈折率が1.20〜1.46の低屈折率層を有し、
該防眩層の、
中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm<Ra<0.4μmであり、
凹凸の平均間隔(Sm)が200μm<Sm<600μmであり、
該凹凸の傾斜角θにおいて、0°<θ<0.5°の領域(θ(0.5))が40%〜98%を占め、
該防眩層が少なくとも1種の透光性粒子を含有し、該透光性粒子の平均粒径が前記防眩層の平均膜厚よりも0.01〜4.0μm大きく、該透光性粒子の添加量が前記防眩層の全固形分に対して0.01〜1質量%である、液晶表示装置。 - 前記透光性粒子の平均粒径が3μm〜15μmである請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記光学補償領域が下記式(A)〜(D)のいずれかを満たす少なくとも1つの位相差領域を含む請求項1または2に記載の液晶表示装置。
(A)100nm≦Re≦400nm、且つ−50nm≦Rth≦50nm
(B)60nm≦Re≦200nm、且つ30nm≦Rth≦100nm
(C)0nm≦Re≦20nm、且つ−400nm≦Rth≦−50nm
(D)30nm≦Re≦150nm、且つ100nm≦Rth≦400nm
(ここでReは面内のレターデーション、Rthは厚み方向のレターデーションである。) - 前記式(A)〜(D)のいずれかを満たす第1位相差領域がセルロースエステルフィルムである請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記光学補償領域が前記式(A)を満たす第1位相差領域を含み、該第1位相差領域の値Nzが0.45〜0.55である請求項3または4に記載の液晶表示装置。
- 前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが60nm〜200nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが30nm〜100nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−300nm〜−100nmである請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - 前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に直交している請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記光学補償領域が第1位相差領域と第2位相差領域を含み、
該第1位相差領域の面内のレターデーションReが30nm〜150nmであり、
該第1位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが100nm〜400nmであり、
該第2位相差領域の面内のレターデーションReが0nm〜20nmであり、
該第2位相差領域の厚み方向のレターデーションRthが−400nm〜−80nmであり、且つ第1偏光膜の吸収軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に垂直である請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - 前記第1偏光膜、前記第1位相差領域、前記第2位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に垂直である請求項9に記載の液晶表示装置。
- 前記第1偏光膜、前記第2位相差領域、前記第1位相差領域及び前記液晶セルを、この順序で有し、且つ前記第1位相差領域の遅相軸が、前記第1偏光膜の吸収軸に実質的に平行である請求項9に記載の液晶表示装置。
- 前記第2位相差領域が、実質的に垂直配向した棒状液晶化合物を含有する位相差層を有する請求項6〜11のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜の厚み方向のレターデーションRthが−50nm〜40nmである請求項1〜12のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第2の偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜がセルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルムまたはアクリル系フィルムである請求項1〜13のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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