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JP5373657B2 - Component mounting apparatus and component mounting method - Google Patents

Component mounting apparatus and component mounting method Download PDF

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JP5373657B2 JP2010026544A JP2010026544A JP5373657B2 JP 5373657 B2 JP5373657 B2 JP 5373657B2 JP 2010026544 A JP2010026544 A JP 2010026544A JP 2010026544 A JP2010026544 A JP 2010026544A JP 5373657 B2 JP5373657 B2 JP 5373657B2
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  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a component-mounting apparatus that can measure the height of a substrate with a low-cost and space-saving configuration, and to provide a component mounting method. <P>SOLUTION: A substrate recognition camera 9 takes an image of a mark 30 based on light transmitting a half-mirror 100. Additionally, a laser light source 101 emits a laser beam L1 to the position of a substrate surface 3a, away from the image-taking position of the substrate recognition camera 9, in a direction perpendicular to the substrate surface 3a. Then, the light L2, which is the laser beam L1 reflected at an irradiated position 31, is guided by a prism 102 to the half-mirror 100 so as to be reflected by the half-mirror 100 and is guided to the substrate recognition camera 9, along the optical axis OA1 of the camera 9. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

この発明は、電子部品を基板に実装する部品実装装置および部品実装方法に関するものである。   The present invention relates to a component mounting apparatus and a component mounting method for mounting electronic components on a substrate.

従来から、部品吸着用の実装ヘッドを搭載した移動可能なヘッドユニットを駆動することにより、部品供給部から電子部品を吸着して実装作業位置に位置決めされた基板に実装する部品実装装置が知られている。この種の装置では、通常、ヘッドユニットに基板認識用のカメラが搭載されており、このカメラで基板上のマークを撮像し、基板の位置を事前に認識することにより部品の実装精度を確保するようにしている。このような部品実装装置において、基板に反りがあることなどにより基板の高さが変動すると、部品の実装位置が上下方向にずれるため、部品を好適に実装することが困難になる。そこで、例えば特許文献1に記載の装置では、ヘッドユニットにレーザ計測器を設置して、基板の高さを測定している。また、例えば特許文献2に記載の装置では、光放射装置により基板表面に対して斜め方向から光を照射して基板表面に明瞭な輪郭を有する形象を形成し、基板認識用のカメラにより上記形象を撮像することで、基板の高さを測定している。   2. Description of the Related Art Conventionally, a component mounting apparatus has been known in which an electronic component is sucked from a component supply unit and mounted on a substrate positioned at a mounting work position by driving a movable head unit mounted with a component suction mounting head. ing. In this type of device, a board recognition camera is usually mounted on the head unit. The camera captures marks on the board and recognizes the position of the board in advance to ensure component mounting accuracy. I am doing so. In such a component mounting apparatus, if the height of the substrate fluctuates due to warpage of the substrate or the like, the mounting position of the component shifts in the vertical direction, making it difficult to mount the component suitably. Therefore, for example, in the apparatus described in Patent Document 1, a laser measuring instrument is installed in the head unit to measure the height of the substrate. For example, in the apparatus described in Patent Document 2, a light emitting device irradiates light on the substrate surface from an oblique direction to form a figure having a clear outline on the substrate surface, and the above-mentioned figure is obtained by a substrate recognition camera. Is measured to measure the height of the substrate.

特許第3097262号公報(図1、図4)Japanese Patent No. 3097262 (FIGS. 1 and 4) 特開2003−298294号公報(図4、図11、図15)JP2003-298294A (FIGS. 4, 11, and 15)

しかしながら、上記特許文献1に記載の装置では、ヘッドユニットに高価なレーザ計測器を設置しているため、コストが増加してしまう。また、レーザ計測器の分だけヘッドユニットの質量および設置スペースが増大するとともに、ヘッドユニットを駆動するのに必要な駆動力も増大する。   However, in the apparatus described in Patent Document 1, an expensive laser measuring instrument is installed in the head unit, which increases the cost. In addition, the mass and installation space of the head unit are increased by the amount of the laser measuring instrument, and the driving force required to drive the head unit is also increased.

一方、上記特許文献2に記載の装置では、基板認識用のカメラを基板の高さ測定に共用しているため、コストや設置スペースの観点では、上記特許文献1のような問題は生じない。しかしながら、光放射装置により基板表面に対して斜め方向から光を照射しているため、以下のような問題が生じ得る。   On the other hand, in the apparatus described in Patent Document 2, since the camera for substrate recognition is shared for measuring the height of the substrate, the problem as in Patent Document 1 does not occur from the viewpoint of cost and installation space. However, since light is emitted from the oblique direction to the substrate surface by the light emitting device, the following problems may occur.

すなわち、特許文献2の図11から明らかなように、基板の反りなどにより基板の高さが変化すると、基板表面における光照射位置も変化してしまう。したがって、基板高さの測定位置近傍に穴や実装済みの部品などの凹凸が存在し、この凹凸に光照射位置が重なると、上記形象をカメラで鮮明に撮像できなくなるため、正確な高さ測定が困難となってしまう。   That is, as is clear from FIG. 11 of Patent Document 2, when the height of the substrate changes due to warpage of the substrate, the light irradiation position on the substrate surface also changes. Therefore, there are irregularities such as holes and mounted parts in the vicinity of the measurement position of the board height, and if the light irradiation position overlaps with this irregularity, the above figure cannot be captured clearly with the camera, so accurate height measurement Becomes difficult.

また、特許文献2の図15に示すように上記形象を斜め方向から撮像するように撮像部を設置し、かつ、光放射装置から基板表面に向けて垂直に光を照射する構成も考えられる。このような構成では、基板の高さが変化しても光照射位置は変化しないため、上記のような問題は回避できる。しかしながら、上記形象を斜め方向から撮像するように撮像部を設置しているため、この撮像部を基板認識用のカメラに共用することができなくなり、コストや設置スペースの増大につながってしまう。   Further, as shown in FIG. 15 of Patent Document 2, a configuration in which an imaging unit is installed so as to capture the above image from an oblique direction, and light is irradiated vertically from the light emitting device toward the substrate surface is also conceivable. In such a configuration, since the light irradiation position does not change even if the height of the substrate changes, the above problem can be avoided. However, since the imaging unit is installed so as to capture the above image from an oblique direction, this imaging unit cannot be shared with the substrate recognition camera, leading to an increase in cost and installation space.

この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板の高さを低コストかつ省スペースな構成で計測することができる部品実装装置および部品実装方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a component mounting apparatus and a component mounting method capable of measuring the height of a substrate with a low-cost and space-saving configuration.

この発明にかかる部品実装装置は、基板に対して相対的に移動可能な実装ヘッドにより部品を基板に実装する部品実装装置であって、上記目的を達成するため、基板表面上のマークを基板表面に垂直な方向から撮像する撮像部と、撮像部により撮像される基板表面の撮像位置から離れた、基板表面の位置に対して垂直に光を照射する光源と、光源から基板表面に光を照射したときに光の照射位置で反射される反射光を撮像部に案内して撮像部に受光させる導光部とを備え、撮像部による反射光の受光結果に基づき基板表面に垂直な方向における基板の高さを計測することを特徴としている。   A component mounting apparatus according to the present invention is a component mounting apparatus that mounts a component on a substrate by a mounting head that is movable relative to the substrate. In order to achieve the above object, a mark on the substrate surface is marked on the substrate surface. An imaging unit that captures an image from a direction perpendicular to the substrate, a light source that irradiates light perpendicularly to a position on the substrate surface that is distant from an imaging position on the substrate surface that is imaged by the imaging unit, and irradiates light on the substrate surface from the light source And a light guide unit that guides the reflected light reflected at the light irradiation position to the imaging unit and receives the reflected light by the imaging unit, and the substrate in a direction perpendicular to the substrate surface based on the reception result of the reflected light by the imaging unit It is characterized by measuring the height.

また、この発明にかかる部品実装方法は、基板に対して相対的に移動可能な実装ヘッドにより部品を基板に実装する部品実装方法であって、上記目的を達成するため、基板表面上のマークを基板表面に垂直な方向から撮像部により撮像する工程と、撮像部により撮像される基板表面の撮像位置から離れた、基板表面の位置に対して垂直に光を照射する工程と、基板表面に光を照射したときに基板表面で反射される反射光を撮像部に案内して撮像部により受光させる工程と、撮像部による反射光の受光結果に基づき基板表面に垂直な方向における基板の高さを計測する工程とを備えたことを特徴としている。   A component mounting method according to the present invention is a component mounting method in which a component is mounted on a substrate by a mounting head that is relatively movable with respect to the substrate. A step of imaging by the imaging unit from a direction perpendicular to the substrate surface, a step of irradiating light perpendicular to the position of the substrate surface away from the imaging position of the substrate surface imaged by the imaging unit, and light on the substrate surface The step of guiding the reflected light reflected by the substrate surface to the imaging unit when it is irradiated and receiving the reflected light by the imaging unit, and the height of the substrate in the direction perpendicular to the substrate surface based on the result of receiving the reflected light by the imaging unit And a measuring step.

このように構成された発明(部品実装装置および部品実装方法)では、基板表面上のマークが撮像部により基板表面に垂直な方向から撮像されるため、撮像部によりマークを支障なく好適に認識することができる。また、撮像部により撮像される基板表面の撮像位置から離れた、基板表面の位置に対して垂直に光が照射され、基板表面で反射される反射光が撮像部に案内されて撮像部により受光され、撮像部による反射光の受光結果に基づき基板表面に垂直な方向における基板の高さが計測される。ここで、基板表面に対して垂直に光が照射されるため、基板の反りなどによって基板表面の高さが変化したとしても、基板表面において光が照射される位置は変化しない。したがって、基板表面に対して垂直な方向における基板の高さを精度良く計測することができる。また、撮像部をマーク認識と高さ計測に共用することができるため、装置の低コスト化および省スペース化を図ることが可能となっている。   In the invention configured as described above (component mounting apparatus and component mounting method), since the mark on the substrate surface is imaged from the direction perpendicular to the substrate surface by the imaging unit, the mark is suitably recognized by the imaging unit without hindrance. be able to. In addition, light is irradiated perpendicularly to the position on the substrate surface away from the imaging position on the substrate surface imaged by the imaging unit, and reflected light reflected on the substrate surface is guided to the imaging unit and received by the imaging unit. The height of the substrate in the direction perpendicular to the substrate surface is measured based on the result of receiving the reflected light by the imaging unit. Here, since light is irradiated perpendicularly to the substrate surface, even if the height of the substrate surface changes due to warpage of the substrate, the position where the light is irradiated on the substrate surface does not change. Therefore, the height of the substrate in the direction perpendicular to the substrate surface can be accurately measured. In addition, since the imaging unit can be shared for mark recognition and height measurement, it is possible to reduce the cost and space of the apparatus.

ここで、導光部は、反射ミラーなどの反射系光学部材を組み合わせて構成してもよいが、例えば照射位置から撮像部に反射光が進む第1光路上で、かつ撮像位置から出射する光が撮像部に進む第2光路から離れた位置に配置されたプリズムを有するように構成してもよい。さらに、プリズムは、第2光路に位置する媒質よりも大きな屈折率を有する媒質で構成され、かつ、プリズムの屈折率に起因する焦点距離の減少量が第1光路の幾何学的な光路長と第2光路の幾何学的な光路長との差に略一致するように、プリズムの屈折率および反射光がプリズム内を進む光路の幾何学的な光路長が設定されていることが望ましい。すなわち、照射位置は撮像位置から離れているため、第1光路と第2光路の幾何学的な光路長は異なる。しかしながら、上記のように設定されたプリズムを用いると、照射位置と撮像位置とに対するそれぞれの撮像部での光学的な焦点距離がほぼ等しくなる。したがって、例えば撮像位置にピントが合うように撮像部と撮像位置との距離を設定することにより、マークと反射光の両方とも好適に受光できるため、マーク認識と高さ計測との両方を精度良く実行することができる。つまり、例えば第1光路と第2光路の幾何学的な光路長が互いに異なり、撮像位置にピントが合うように撮像部と撮像位置との距離が設定されている場合、反射光を好適に受光するためには、照射位置にピントが合うように撮像部や導光部などの構成要素を移動させることが必要になる。しかし、上記構成によれば、そのような部材の移動が不要となっている。   Here, the light guide unit may be configured by combining a reflective optical member such as a reflection mirror. For example, the light emitted from the imaging position on the first optical path in which reflected light travels from the irradiation position to the imaging unit. May be configured to have a prism disposed at a position away from the second optical path going to the imaging unit. Further, the prism is made of a medium having a refractive index larger than that of the medium positioned in the second optical path, and the amount of reduction in the focal length due to the refractive index of the prism is equal to the geometric optical path length of the first optical path. It is desirable that the refractive index of the prism and the geometric optical path length of the optical path along which the reflected light travels in the prism are set so as to substantially match the difference from the geometric optical path length of the second optical path. That is, since the irradiation position is far from the imaging position, the geometric optical path lengths of the first optical path and the second optical path are different. However, when the prism set as described above is used, the optical focal lengths in the respective imaging units with respect to the irradiation position and the imaging position become substantially equal. Therefore, for example, by setting the distance between the imaging unit and the imaging position so that the imaging position is in focus, both the mark and the reflected light can be received appropriately, so both mark recognition and height measurement can be performed with high accuracy. Can be executed. That is, for example, when the geometric optical path lengths of the first optical path and the second optical path are different from each other and the distance between the imaging unit and the imaging position is set so that the imaging position is in focus, the reflected light is favorably received. In order to achieve this, it is necessary to move components such as the imaging unit and the light guide unit so that the irradiation position is in focus. However, according to the said structure, the movement of such a member becomes unnecessary.

また、導光部は、撮像部の光軸上に配置されたハーフミラーを有し、照射位置から出射される反射光を撮像部の光軸の軸外からハーフミラーに案内し、ハーフミラーを介して光軸に沿って撮像部に案内するように構成してもよい。この場合、撮像部は、ハーフミラーを介してマークを撮像する。この構成では、例えばハーフミラーを透過した光に基づきマークが撮像されるように、撮像部とハーフミラーとを配置する構成を採用することができる。このような構成の場合には、照射位置から出射される反射光を撮像部の光軸の軸外からハーフミラーに案内し、ハーフミラーで反射させて、撮像部に光軸に沿って案内するように構成すればよい。あるいはまた、例えばハーフミラーを反射した光に基づきマークが撮像されるように、撮像部とハーフミラーとを配置する構成を採用することもできる。このような構成の場合には、照射位置から出射される反射光を撮像部の光軸の軸外からハーフミラーに案内し、ハーフミラーで透過させて、撮像部に光軸に沿って案内するように構成すればよい。これらの構成によれば、導光部などを移動させることなく、撮像部によりマーク認識と高さ計測との両方を好適に行うことが可能になっている。つまり、ハーフミラーを備えない場合には、導光部を撮像部の光軸上に配置して、照射位置から出射される反射光を光軸に沿って撮像部に案内する構成が考えられる。しかしながら、その場合には、マークを撮像する際に導光部が干渉するため、撮像部の光軸から離れた位置に導光部を移動させる構成が必要になる。これに対して、ハーフミラーを備える上記構成によれば、導光部を移動させる構成は不要であるため、装置構成の簡素化を図ることが可能となっている。   The light guide unit has a half mirror arranged on the optical axis of the imaging unit, guides the reflected light emitted from the irradiation position to the half mirror from the axis outside the optical axis of the imaging unit, It may be configured to guide the imaging unit along the optical axis. In this case, the imaging unit images the mark via the half mirror. In this configuration, for example, a configuration in which the imaging unit and the half mirror are arranged so that the mark is captured based on the light transmitted through the half mirror can be employed. In such a configuration, the reflected light emitted from the irradiation position is guided to the half mirror from outside the optical axis of the imaging unit, reflected by the half mirror, and guided to the imaging unit along the optical axis. What is necessary is just to comprise. Alternatively, for example, a configuration in which the imaging unit and the half mirror are arranged so that the mark is imaged based on the light reflected from the half mirror can be employed. In such a configuration, the reflected light emitted from the irradiation position is guided to the half mirror from outside the optical axis of the imaging unit, transmitted through the half mirror, and guided to the imaging unit along the optical axis. What is necessary is just to comprise. According to these configurations, it is possible to suitably perform both mark recognition and height measurement by the imaging unit without moving the light guide unit and the like. That is, when a half mirror is not provided, a configuration in which the light guide unit is disposed on the optical axis of the imaging unit and the reflected light emitted from the irradiation position is guided to the imaging unit along the optical axis can be considered. However, in this case, since the light guide unit interferes when the mark is imaged, a configuration in which the light guide unit is moved to a position away from the optical axis of the imaging unit is necessary. On the other hand, according to the said structure provided with a half mirror, since the structure which moves a light guide part is unnecessary, it is possible to aim at simplification of an apparatus structure.

また、照射位置からハーフミラーに反射光が進む光路においてハーフミラーへの反射光の案内および遮断を切り替え自在なシャッター部と、シャッター部を駆動して反射光の案内と遮断を切り替えるシャッター駆動制御部とをさらに備えるように構成してもよい。この構成によれば、基板の高さを計測するときは、シャッター部を駆動してハーフミラーに反射光が案内されるようにシャッター部を切り替えることにより、ハーフミラーを介して反射光が撮像部に案内されることとなり、その結果、基板表面の高さ計測を好適に行うことが可能となる。一方、マークを撮像するときは、シャッター部を駆動してハーフミラーへの反射光の案内をシャッター部により遮断することにより、照射位置からハーフミラーに反射光が進む光路から迷光がハーフミラーに案内されて、その迷光がハーフミラーを介して撮像部に案内されるのを阻止することができ、その結果、マーク認識を精度良く行うことが可能となる。   In addition, a shutter unit that can switch between guiding and blocking the reflected light to the half mirror in the optical path where the reflected light travels from the irradiation position to the half mirror, and a shutter drive control unit that switches the guidance and blocking of the reflected light by driving the shutter unit May be further provided. According to this configuration, when measuring the height of the substrate, the reflected light is transmitted through the half mirror by driving the shutter unit and switching the shutter unit so that the reflected light is guided to the half mirror. As a result, the height measurement of the substrate surface can be suitably performed. On the other hand, when imaging the mark, stray light is guided to the half mirror from the optical path where the reflected light travels from the irradiation position to the half mirror by driving the shutter unit and blocking the guidance of the reflected light to the half mirror by the shutter unit. Thus, it is possible to prevent the stray light from being guided to the imaging unit via the half mirror, and as a result, it is possible to perform mark recognition with high accuracy.

本発明にかかる部品実装装置の一実施形態の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of one Embodiment of the component mounting apparatus concerning this invention. 図1に示す部品実装装置の部分側面図である。It is a partial side view of the component mounting apparatus shown in FIG. 図1に示す部品実装装置の主要な電気的構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the main electrical structures of the component mounting apparatus shown in FIG. 計測部の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of a measurement part. 計測部の要部を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the principal part of a measurement part. 各部から基板認識用カメラの受光部までの幾何学的な光路長を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the geometric optical path length from each part to the light-receiving part of the camera for board | substrate recognition. 計測部の変形形態を示す図である。It is a figure which shows the deformation | transformation form of a measurement part.

図1は本発明にかかる部品実装装置の一実施形態の概略構成を示す平面図である。また、図2は図1に示す部品実装装置の部分側面図である。また、図3は図1に示す部品実装装置の主要な電気的構成を示すブロック図である。なお、図1、図2及び後で説明する図面では、各図の方向関係を明確にするために、XYZ直角座標軸が示されている。   FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an embodiment of a component mounting apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a partial side view of the component mounting apparatus shown in FIG. FIG. 3 is a block diagram showing the main electrical configuration of the component mounting apparatus shown in FIG. In FIGS. 1 and 2 and the drawings described later, XYZ rectangular coordinate axes are shown in order to clarify the directional relationship between the drawings.

この部品実装装置1では、基台11上に基板搬送機構2が配置されており、基板3を所定の搬送方向Xに搬送可能となっている。より詳しくは、基板搬送機構2は、基台11上において基板3を図1の右側から左側へ搬送する一対のコンベア21、21を有している。そして、コンベア21、21は基板3を搬入し、所定の実装作業位置(同図に示す基板3の位置)で停止させ、図略の保持装置で基板3を固定し保持する。そして部品供給部4から供給される電子部品がヘッドユニット6に搭載された実装ヘッド61により基板3に移載される。そして、基板3に実装すべき部品の全部について実装処理が完了すると、基板搬送機構2は基板3を搬出する。なお、基台11上には、部品認識用カメラ7が配設されている。この部品認識用カメラ7は、照明部およびCCD(Charge Coupled Device)カメラなどから構成されており、ヘッドユニット6の各実装ヘッド61に保持された電子部品をその下側から撮像するようになっている。   In the component mounting apparatus 1, the board transport mechanism 2 is disposed on the base 11, and the board 3 can be transported in a predetermined transport direction X. More specifically, the substrate transport mechanism 2 has a pair of conveyors 21 and 21 that transport the substrate 3 from the right side to the left side of FIG. And the conveyors 21 and 21 carry in the board | substrate 3, make it stop in a predetermined mounting operation position (position of the board | substrate 3 shown to the same figure), and fix and hold | maintain the board | substrate 3 with a holding device not shown. Then, the electronic components supplied from the component supply unit 4 are transferred to the substrate 3 by the mounting head 61 mounted on the head unit 6. When the mounting process is completed for all the components to be mounted on the substrate 3, the substrate transport mechanism 2 unloads the substrate 3. A component recognition camera 7 is disposed on the base 11. The component recognition camera 7 includes an illumination unit, a CCD (Charge Coupled Device) camera, and the like, and picks up images of electronic components held by the mounting heads 61 of the head unit 6 from below. Yes.

このように構成された基板搬送機構2の前方側(+Y軸方向側)および後方側(−Y軸方向側)には、上記した部品供給部4が配置されている。これらの部品供給部4は多数のテープフィーダ41を備えている。また、各テープフィーダ41には、電子部品を収納・保持したテープを巻回したリール(図示省略)が配置されており、電子部品をヘッドユニット6に供給可能となっている。すなわち、各テープには、集積回路(IC)、トランジスタ、コンデンサ等の小片状のチップ電子部品が所定間隔おきに収納、保持されている。そして、テープフィーダ41がリールからテープをヘッドユニット6側に送り出すことによって該テープ内の電子部品が間欠的に繰り出され、その結果、ヘッドユニット6の実装ヘッド61による電子部品のピックアップが可能となる。   The component supply unit 4 described above is arranged on the front side (+ Y axis direction side) and the rear side (−Y axis direction side) of the substrate transport mechanism 2 configured as described above. These component supply units 4 include a number of tape feeders 41. Each tape feeder 41 is provided with a reel (not shown) around which a tape storing and holding electronic components is wound, so that the electronic components can be supplied to the head unit 6. In other words, each tape stores and holds small chip electronic components such as integrated circuits (ICs), transistors, and capacitors at predetermined intervals. Then, when the tape feeder 41 feeds the tape from the reel to the head unit 6 side, the electronic components in the tape are intermittently delivered, and as a result, the electronic components can be picked up by the mounting head 61 of the head unit 6. .

このヘッドユニット6は電子部品を実装ヘッド61により吸着保持したまま基板3に搬送するとともに、ユーザより指示された位置に移載するものである。そして、前方側でX軸方向に一列に配列された6個の実装ヘッド61Fと、後方側でX軸方向に一列に配列された6個の実装ヘッド61Rとの合計12個の実装ヘッド61を有している。すなわち、図1および図2に示すように、ヘッドユニット6では、鉛直方向Zに延設された実装ヘッド61Fが6本、X軸方向(基板搬送機構2による基板3の搬送方向)に等ピッチで列状に設けられている。また、実装ヘッド61Fに対して後方側(−Y軸方向側)にも、前列と同様に構成された後列が設けられている。つまり、鉛直方向Zに延設された実装ヘッド61Rが6本、X軸方向に等ピッチで列状に設けられている。   The head unit 6 conveys electronic components to the substrate 3 while being held by suction by the mounting head 61, and transfers the electronic components to a position designated by the user. Then, a total of twelve mounting heads 61 including six mounting heads 61F arranged in a line in the X-axis direction on the front side and six mounting heads 61R arranged in a line in the X-axis direction on the rear side are arranged. Have. That is, as shown in FIGS. 1 and 2, in the head unit 6, six mounting heads 61F extending in the vertical direction Z are arranged at an equal pitch in the X-axis direction (the direction in which the substrate 3 is transferred by the substrate transfer mechanism 2). It is provided in a row. Further, a rear row configured in the same manner as the front row is provided on the rear side (−Y-axis direction side) with respect to the mounting head 61F. That is, six mounting heads 61 </ b> R extending in the vertical direction Z are provided in a row at an equal pitch in the X-axis direction.

また、各実装ヘッド61の先端部には吸着ノズル62が装着されるとともに、各吸着ノズル62に対しては、図略の電動切替弁を介して負圧発生装置、正圧発生装置、及び大気のいずれかに連通可能とされており、制御装置8により負圧発生装置からの負圧吸着力を吸着ノズル62に与えることで、該吸着ノズル62の下方端部(先端部)が電子部品の上面を吸着して部品保持が可能となっている。逆に制御装置8により吸着ノズル62へ正圧発生装置からの正圧を供給すると、実装ヘッド61による電子部品の吸着保持が解除されるとともに、正圧により電子部品を瞬時に基板3に実装する。そして、電子部品の実装後、吸着ノズル62は大気開放とされる。このようにヘッドユニット6では制御装置8による負圧吸着力及び正圧供給の制御により電子部品の着脱が可能となっている。   In addition, a suction nozzle 62 is attached to the tip of each mounting head 61. A negative pressure generator, a positive pressure generator, and the atmosphere are connected to each suction nozzle 62 via an electric switching valve (not shown). The control device 8 applies a negative pressure suction force from the negative pressure generator to the suction nozzle 62 so that the lower end portion (tip portion) of the suction nozzle 62 is an electronic component. Parts can be held by adsorbing the upper surface. Conversely, when a positive pressure from the positive pressure generator is supplied to the suction nozzle 62 by the control device 8, the suction and holding of the electronic component by the mounting head 61 is released, and the electronic component is instantaneously mounted on the substrate 3 by the positive pressure. . Then, after the electronic component is mounted, the suction nozzle 62 is opened to the atmosphere. As described above, in the head unit 6, the electronic component can be attached and detached by controlling the negative pressure adsorption force and the positive pressure supply by the control device 8.

また、各実装ヘッド61はヘッドユニット6に対して図略のノズル昇降駆動機構により昇降(Z軸方向の移動)可能に、かつ図略のノズル回転駆動機構によりノズル中心軸回りに回転(図2のR方向の回転)可能となっている。これらの駆動機構のうちノズル昇降駆動機構は吸着もしくは装着を行う時の下降位置と、搬送や撮像を行う時の上昇位置との間で実装ヘッド61を昇降させるものである。一方、ノズル回転駆動機構は吸着ノズル62を必要に応じて回転させるための機構であり、回転駆動により電子部品を実装時における所定のR軸方向に位置させることが可能となっている。なお、これらの駆動機構については、それぞれサーボモータと所定の動力伝達機構で構成されている。   Each mounting head 61 can be moved up and down (moved in the Z-axis direction) with respect to the head unit 6 by a nozzle lifting / lowering drive mechanism (not shown) and rotated about the nozzle center axis by a nozzle rotation driving mechanism (not shown) (FIG. 2). In the R direction). Of these drive mechanisms, the nozzle raising / lowering drive mechanism raises and lowers the mounting head 61 between a lowered position when sucking or mounting and a raised position when carrying or imaging. On the other hand, the nozzle rotation driving mechanism is a mechanism for rotating the suction nozzle 62 as necessary, and the electronic component can be positioned in a predetermined R-axis direction during mounting by rotation driving. Each of these drive mechanisms is composed of a servo motor and a predetermined power transmission mechanism.

さらに、ヘッドユニット6は、これらの実装ヘッド61で吸着された電子部品を部品供給部4と基板3との間で搬送して基板3に実装するため、基台11の所定範囲にわたりX軸方向及びY軸方向(X軸及びZ軸方向と直交する方向)に移動可能となっている。すなわち、ヘッドユニット6は、X軸方向に延びる実装ヘッド支持部材63に対してX軸に沿って移動可能に支持されている。また、実装ヘッド支持部材63は、両端部がY軸方向の固定レール64に支持され、この固定レール64に沿ってY軸方向に移動可能になっている。そして、このヘッドユニット6は、X軸サーボモータ65によりボールねじ66を介してX軸方向に駆動され、実装ヘッド支持部材63はY軸サーボモータ67によりボールねじ68を介してY軸方向へ駆動される。このようにヘッドユニット6は実装ヘッド61に吸着された電子部品を部品供給部4から目的位置まで搬送可能となっている。   Further, the head unit 6 transports the electronic components sucked by these mounting heads 61 between the component supply unit 4 and the substrate 3 and mounts them on the substrate 3, so that the X-axis direction over a predetermined range of the base 11. And in the Y-axis direction (direction orthogonal to the X-axis and Z-axis directions). That is, the head unit 6 is supported so as to be movable along the X axis with respect to the mounting head support member 63 extending in the X axis direction. Further, both ends of the mounting head support member 63 are supported by a fixed rail 64 in the Y-axis direction, and are movable along the fixed rail 64 in the Y-axis direction. The head unit 6 is driven in the X-axis direction by the X-axis servomotor 65 via the ball screw 66, and the mounting head support member 63 is driven in the Y-axis direction by the Y-axis servomotor 67 via the ball screw 68. Is done. As described above, the head unit 6 can transport the electronic component sucked by the mounting head 61 from the component supply unit 4 to the target position.

そして、本実施形態では、さらに、基板3の表面の各種マーク(フィデューシャルマークやバッドマーク等)を撮像するとともに、基板3の高さを計測するために、基板認識用カメラ9を含む計測部10がヘッドユニット6に取り付けられている。以下、計測部10の構成及び動作について図3ないし図6を参照しつつ説明する。   In the present embodiment, in addition to imaging various marks (fiducial marks, bad marks, etc.) on the surface of the substrate 3, a measurement including the substrate recognition camera 9 is performed to measure the height of the substrate 3. The unit 10 is attached to the head unit 6. Hereinafter, the configuration and operation of the measurement unit 10 will be described with reference to FIGS. 3 to 6.

図4は計測部10の要部を示す斜視図である。また、図5は計測部10の要部を模式的に示す側面図である。また、図6は各部から基板認識用カメラの受光部までの幾何学的な光路長を説明するための図である。なお、便宜上、図4ではシャッター部の図示を省略している。基板認識用カメラ9は、実装作業位置に位置決めされた基板3の基板表面3aのマーク30を基板表面3aに垂直な方向Zから撮像するもので、例えばCCDからなる受光部91を有している。受光部91は、基板表面3aに対向して配置され、基板表面3aに垂直な方向(Z方向)の光を受光する。つまり、基板認識用カメラ9の光軸OA1が基板表面3aに対して垂直になるように基板認識用カメラ9が配置されている。   FIG. 4 is a perspective view showing a main part of the measuring unit 10. FIG. 5 is a side view schematically showing the main part of the measuring unit 10. FIG. 6 is a diagram for explaining the geometric optical path length from each part to the light receiving part of the substrate recognition camera. For convenience, the illustration of the shutter portion is omitted in FIG. The substrate recognition camera 9 captures an image of the mark 30 on the substrate surface 3a of the substrate 3 positioned at the mounting work position from a direction Z perpendicular to the substrate surface 3a, and has a light receiving portion 91 made of, for example, a CCD. . The light receiving unit 91 is disposed to face the substrate surface 3a and receives light in a direction (Z direction) perpendicular to the substrate surface 3a. That is, the substrate recognition camera 9 is arranged so that the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9 is perpendicular to the substrate surface 3a.

基板認識用カメラ9の下方(−Z方向側)には、後述するハーフミラー100が配設され、ハーフミラー100の下方(−Z方向側)には、基板3に対向して環状照明部92が配設されている。この環状照明部92は、中央に円形の貫通孔が穿設されたドーナツ盤形状の配線基板92a上に複数のLED(Light Emitting Diode)92bが環状に配置されて構成されている。ハーフミラー100の図4中、右側(−X方向)には、同軸照明部93が配設されている。この同軸照明部93は、配線基板93a上に複数のLED93bが2次元的に配置されて構成されている。なお、配線基板93aは透明なガラス板93cに取り付けられており、各LED93bから出射された光はガラス板93cを透過してハーフミラー100に進む。また、環状照明部92の下方(−Z方向側)には、例えば乳白色ガラスからなり、中央に円形の貫通孔が穿設された円板形状の拡散板94が配設されている。そして、ハーフミラー100により反射される同軸照明部93からの照明光と環状照明部92からの照明光とが拡散板94を透過して、基板表面3aが拡散照明されるようになっている。   A half mirror 100 described later is disposed below the substrate recognition camera 9 (−Z direction side), and an annular illumination unit 92 is opposed to the substrate 3 below the half mirror 100 (−Z direction side). Is arranged. The annular illumination unit 92 is configured by arranging a plurality of LEDs (Light Emitting Diodes) 92b in an annular shape on a donut board-shaped wiring board 92a having a circular through hole formed in the center. A coaxial illumination unit 93 is disposed on the right side (−X direction) of the half mirror 100 in FIG. 4. The coaxial illumination unit 93 is configured by two-dimensionally arranging a plurality of LEDs 93b on a wiring board 93a. The wiring board 93a is attached to a transparent glass plate 93c, and light emitted from each LED 93b passes through the glass plate 93c and proceeds to the half mirror 100. Further, below the annular illumination portion 92 (on the −Z direction side), a disc-shaped diffusion plate 94 made of, for example, milky white glass and having a circular through hole formed in the center is disposed. And the illumination light from the coaxial illumination part 93 reflected by the half mirror 100 and the illumination light from the annular illumination part 92 are transmitted through the diffusion plate 94, and the substrate surface 3a is diffusely illuminated.

ハーフミラー100は、基板認識用カメラ9の光軸OA1上に、該光軸OA1に対してミラー面がほぼ45度に傾斜するように配置されている。このような構成により、この実施形態では、基板認識用カメラ9は、環状照明部92および拡散板94の貫通孔を通り、ハーフミラー100を透過した光に基づきマーク30を撮像することとなる。このように、本実施形態では、基板認識用カメラ9が本発明の「撮像部」に相当する。   The half mirror 100 is arranged on the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9 so that the mirror surface is inclined at approximately 45 degrees with respect to the optical axis OA1. With this configuration, in this embodiment, the substrate recognition camera 9 images the mark 30 based on the light that has passed through the annular illumination unit 92 and the through-holes of the diffusion plate 94 and transmitted through the half mirror 100. Thus, in the present embodiment, the board recognition camera 9 corresponds to the “imaging unit” of the present invention.

計測部10は、さらに、レーザ光源101を備えている。このレーザ光源101は、基板認識用カメラ9による基板表面3aの撮像位置32から離れた基板表面3aの位置に対して垂直にレーザ光L1を照射するものである。このレーザ光L1が照射される基板表面3aの照射位置31は、基板3の平坦な領域に予め設定されており、1箇所でも複数箇所でもよい。レーザ光源101から出射されるレーザ光L1は、コリメートレンズ111によりコリメート光とされて基板表面3aを照射する。このように、本実施形態では、レーザ光源101が本発明の「光源」に相当する。   The measurement unit 10 further includes a laser light source 101. The laser light source 101 irradiates the laser beam L1 perpendicularly to the position of the substrate surface 3a away from the imaging position 32 of the substrate surface 3a by the substrate recognition camera 9. The irradiation position 31 of the substrate surface 3a irradiated with the laser light L1 is set in advance in a flat region of the substrate 3, and may be one place or a plurality of places. The laser light L1 emitted from the laser light source 101 is collimated by the collimating lens 111 and irradiates the substrate surface 3a. Thus, in this embodiment, the laser light source 101 corresponds to the “light source” of the present invention.

図5に示すように、レーザ光源101の右側(−X方向)にはプリズム102が配設されている。このプリズム102は、略四角柱状の下半部121と略三角柱状の上半部122とを一体化したものであり、レーザ光L1が照射される照射位置31を臨む入射面123を有している。そして、レーザ光源101からのレーザ光L1が照射位置31で反射された反射光L2が入射面123を介してプリズム102内に入射して直進する。このプリズム102内を直進する反射光L2は、上半部122の傾斜面124で全反射して、X軸方向に直交する端面125に案内され、この端面125を介してプリズム102からハーフミラー100に向けて出射する。そして、プリズム102から出射された反射光L2は、ハーフミラー100で反射されて基板認識用カメラ9の受光部91により受光される。つまり、プリズム102は、照射位置31から出射される反射光L2を基板認識用カメラ9の光軸OA1の軸外からハーフミラー100に案内している。このように、本実施形態では、ハーフミラー100およびプリズム102が本発明の「導光部」を構成している。   As shown in FIG. 5, a prism 102 is disposed on the right side (−X direction) of the laser light source 101. This prism 102 is formed by integrating a substantially quadrangular prism-shaped lower half 121 and a substantially triangular prism-shaped upper half 122, and has an incident surface 123 that faces the irradiation position 31 irradiated with the laser light L1. Yes. Then, the reflected light L2 obtained by reflecting the laser light L1 from the laser light source 101 at the irradiation position 31 enters the prism 102 via the incident surface 123 and goes straight. The reflected light L2 traveling straight in the prism 102 is totally reflected by the inclined surface 124 of the upper half 122 and guided to the end face 125 orthogonal to the X-axis direction. Exit toward The reflected light L2 emitted from the prism 102 is reflected by the half mirror 100 and received by the light receiving unit 91 of the substrate recognition camera 9. That is, the prism 102 guides the reflected light L2 emitted from the irradiation position 31 to the half mirror 100 from the off-axis of the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9. As described above, in the present embodiment, the half mirror 100 and the prism 102 constitute the “light guide unit” of the present invention.

シャッター部103は、この実施形態では例えば黒色に塗装された板状部材で、プリズム102の端面125からハーフミラー100に反射光L2が進む光路上の遮断位置(図5に二点鎖線で示す位置)と、当該光路から離れた離間位置(図5に実線で示す位置)との間で移動自在に構成されている。そして、駆動部131(図3)がシャッター部103を駆動することで、シャッター部103は上記遮断位置と離間位置の間を移動する。   In this embodiment, the shutter portion 103 is a plate-like member painted in black, for example, and is a blocking position (a position indicated by a two-dot chain line in FIG. 5) on the optical path where the reflected light L2 travels from the end face 125 of the prism 102 to the half mirror 100. ) And a separated position (a position indicated by a solid line in FIG. 5) apart from the optical path. Then, when the drive unit 131 (FIG. 3) drives the shutter unit 103, the shutter unit 103 moves between the blocking position and the separation position.

制御装置8(図3)は、計測部10の各部を制御するために駆動制御部84、画像処理部85、照明制御部86および光源制御部87を備えるとともに、部品実装装置1全体の動作を統括的にコントロールする主制御部81と、各種処理プログラムや各種データを記憶した記憶部82とを備え、バス83を介して互いに信号のやり取りが可能なように接続されている。そして、主制御部81は記憶部82に予め記憶されている処理プログラムにしたがって駆動制御部84、画像処理部85、照明制御部86および光源制御部87などを制御する。すなわち、マーク30を撮像するときは、駆動制御部84により駆動部131を制御して、シャッター部103を遮断位置(図5に二点鎖線で示す位置)に移動させるとともに、照明制御部86により環状照明部92および同軸照明部93を点灯させる。そして、環状照明部92および同軸照明部93により照明されたマーク30からの光がハーフミラー100を透過して受光部91により受光されたデータは画像処理部85に送られ、画像処理部85により画像処理が行われて、マーク30の画像を取得する。   The control device 8 (FIG. 3) includes a drive control unit 84, an image processing unit 85, an illumination control unit 86, and a light source control unit 87 for controlling each unit of the measurement unit 10, and the operation of the entire component mounting apparatus 1. A main control unit 81 that performs overall control and a storage unit 82 that stores various processing programs and various data are connected to each other via a bus 83 so that signals can be exchanged. The main control unit 81 controls the drive control unit 84, the image processing unit 85, the illumination control unit 86, the light source control unit 87, and the like according to a processing program stored in advance in the storage unit 82. That is, when the mark 30 is imaged, the drive control unit 84 controls the drive unit 131 to move the shutter unit 103 to the blocking position (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 5) and the illumination control unit 86. The annular illumination unit 92 and the coaxial illumination unit 93 are turned on. The data received from the mark 30 illuminated by the annular illumination unit 92 and the coaxial illumination unit 93 through the half mirror 100 and received by the light receiving unit 91 is sent to the image processing unit 85, and the image processing unit 85 Image processing is performed to acquire an image of the mark 30.

一方、Z方向における基板3の高さを計測するときは、駆動制御部84により駆動部131を制御して、シャッター部103を離間位置(図5に実線で示す位置)に移動させるとともに、光源制御部87によりレーザ光源101を点灯させて、レーザ光L1を出射させる。そして、照射位置31で反射され、プリズム102を透過した反射光L2がハーフミラー100により反射されて受光部91により受光されたデータが画像処理部85に送られる。そして、画像処理部85により例えば受光光量のピーク位置が求められ、そのピーク位置に基づき基板3の高さが求められる。すなわち、基板表面3aが基準高さH0(図5に実線で示す位置)にあるときの受光光量のピーク位置を基準位置P0として予め求めて記憶部82に記憶しておく。そして、基板3の反りなどにより基板3の高さが異なる値(図5に破線で示す位置)になると、受光光量のピーク位置P1が記憶部82に記憶されている基準位置P0からずれる。主制御部81は、このずれ量に基づき、基板表面3aの高さH1を求める。そして、主制御部81は、基板表面3aの高さH1の基準高さH0からの変化分を補正しながらヘッドユニット6の移動制御を行って、基板3への電子部品の実装を制御する。このように、本実施形態では、駆動制御部84および駆動部131が本発明の「シャッター駆動制御部」を構成している。   On the other hand, when measuring the height of the substrate 3 in the Z direction, the drive control unit 84 controls the drive unit 131 to move the shutter unit 103 to the separation position (the position indicated by the solid line in FIG. 5) and the light source. The control unit 87 turns on the laser light source 101 and emits the laser light L1. Then, the reflected light L 2 reflected at the irradiation position 31 and transmitted through the prism 102 is reflected by the half mirror 100 and received by the light receiving unit 91, and is sent to the image processing unit 85. Then, for example, the peak position of the amount of received light is obtained by the image processing unit 85, and the height of the substrate 3 is obtained based on the peak position. That is, the peak position of the received light amount when the substrate surface 3a is at the reference height H0 (position indicated by the solid line in FIG. 5) is obtained in advance as the reference position P0 and stored in the storage unit 82. When the height of the substrate 3 becomes a different value (position indicated by a broken line in FIG. 5) due to warpage of the substrate 3, the peak position P <b> 1 of the received light amount is shifted from the reference position P <b> 0 stored in the storage unit 82. The main control unit 81 obtains the height H1 of the substrate surface 3a based on the deviation amount. The main control unit 81 controls the movement of the head unit 6 while correcting the change from the reference height H0 of the height H1 of the substrate surface 3a to control the mounting of the electronic components on the substrate 3. Thus, in the present embodiment, the drive control unit 84 and the drive unit 131 constitute the “shutter drive control unit” of the present invention.

ここで、図6を参照して、照射位置31から基板認識用カメラ9の受光部91に反射光L2が進む第1光路の幾何学的な光路長と、基板認識用カメラ9による基板表面3aの撮像位置32(図6ではマーク30)から出射する光が基板認識用カメラ9の受光部91に進む第2光路の幾何学的な光路長とについて説明する。   Here, referring to FIG. 6, the geometrical optical path length of the first optical path in which the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 to the light receiving unit 91 of the substrate recognition camera 9, and the substrate surface 3 a by the substrate recognition camera 9. The geometrical optical path length of the second optical path in which the light emitted from the imaging position 32 (mark 30 in FIG. 6) proceeds to the light receiving unit 91 of the substrate recognition camera 9 will be described.

基板表面3aの照射位置31から受光部91に反射光L2が進む第1光路の幾何学的な光路長D1は、
D1=d+c+b
で表わされる。ここで、符号dは照射位置31からプリズム102の傾斜面124における全反射位置までの距離、符号cは上記全反射位置からハーフミラー100のミラー面までの距離、符号bはハーフミラー100の反射位置から受光部91までの距離をそれぞれ示している。一方、マーク30から出射する光が受光部91に進む第2光路の幾何学的な光路長D2は、
D2=a+b
で表わされる。ここで、符号aはマーク30からハーフミラー100のミラー面までの距離を示している。本実施形態では、図6から明らかなように、c+d>aであるので、D1>D2となる。したがって、単に幾何学的な光路長のみを考慮すると、例えばマーク30にピントが合うように基板認識用カメラ9を配置すると、照射位置31にはピントが合わなくなり、反射光L2を好適に受光することが困難となる。
The geometrical optical path length D1 of the first optical path in which the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 on the substrate surface 3a to the light receiving unit 91 is:
D1 = d + c + b
It is represented by Here, the symbol d is the distance from the irradiation position 31 to the total reflection position on the inclined surface 124 of the prism 102, the symbol c is the distance from the total reflection position to the mirror surface of the half mirror 100, and the symbol b is the reflection of the half mirror 100. The distance from the position to the light receiving unit 91 is shown. On the other hand, the geometrical optical path length D2 of the second optical path in which the light emitted from the mark 30 travels to the light receiving unit 91 is
D2 = a + b
It is represented by Here, the symbol a indicates the distance from the mark 30 to the mirror surface of the half mirror 100. In this embodiment, as apparent from FIG. 6, since c + d> a, D1> D2. Therefore, considering only the geometrical optical path length, for example, when the substrate recognition camera 9 is arranged so that the mark 30 is in focus, the irradiation position 31 is not in focus and the reflected light L2 is favorably received. It becomes difficult.

しかしながら、本実施形態では、本願発明者が以前に発明した技術(特開2009−4448号公報に記載の技術)を用いてマーク30の撮像と、反射光L2の受光とを好適に行うように構成している。すなわち、プリズム102を構成する媒質として、基板認識用カメラ9による基板表面3aの撮像位置32(本実施形態ではマーク30)から出射する光が基板認識用カメラ9の受光部91に進む第2光路の媒質(本実施形態では空気)の屈折率(約1)より大きな屈折率Nを有する媒質を採用する。このとき、プリズム102の屈折率Nに起因する焦点距離の減少量ΔDは、
ΔD=Dp(1−1/N)
で表わされる。ここで、プリズム102の屈折率Nは、N>1である。また、符号Dpは反射光L2がプリズム102内を進む光路の幾何学的な光路長で、図6に示すように、Dp=e+fになっている。そして、
D1−ΔD≒D2
となるように、プリズム102を構成する媒質(屈折率N)を選定するとともに、反射光L2がプリズム102内を進む光路の幾何学的な光路長Dpを設定する。これによって、マーク30にピントが合うように基板認識用カメラ9を配置すると、照射位置31にもピントが合うこととなり、基板認識用カメラ9やプリズム102などの部材を移動させることなく、マーク30の撮像および反射光L2の受光を好適に行うことが可能となっている。
However, in the present embodiment, the mark 30 and the reflected light L2 are preferably captured using the technique previously invented by the inventor of the present application (the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 2009-4448). It is composed. That is, as a medium constituting the prism 102, the second optical path in which light emitted from the imaging position 32 (the mark 30 in this embodiment) of the substrate surface 3a by the substrate recognition camera 9 travels to the light receiving unit 91 of the substrate recognition camera 9 is used. A medium having a refractive index N larger than the refractive index (about 1) of the medium (air in this embodiment) is employed. At this time, the reduction amount ΔD of the focal length due to the refractive index N of the prism 102 is
ΔD = Dp (1-1 / N)
It is represented by Here, the refractive index N of the prism 102 is N> 1. Reference sign Dp is the geometric optical path length of the optical path along which the reflected light L2 travels through the prism 102, and Dp = e + f as shown in FIG. And
D1−ΔD≈D2
The medium (refractive index N) constituting the prism 102 is selected so that the geometrical optical path length Dp of the optical path along which the reflected light L2 travels in the prism 102 is set. Accordingly, when the substrate recognition camera 9 is arranged so that the mark 30 is in focus, the irradiation position 31 is also in focus, and the mark 30 can be moved without moving the member such as the substrate recognition camera 9 or the prism 102. It is possible to suitably perform the imaging and the reception of the reflected light L2.

以上のように、本発明の実施形態によれば、基板表面3aのマーク30が基板認識用カメラ9により基板表面3aに垂直な方向から撮像されるため、基板認識用カメラ9によりマーク30を支障なく好適に認識することができる。   As described above, according to the embodiment of the present invention, the mark 30 on the substrate surface 3a is imaged by the substrate recognition camera 9 from the direction perpendicular to the substrate surface 3a. And can be suitably recognized.

また、本実施形態では、基板認識用カメラ9による基板表面3aの撮像位置32から離れた基板表面3aの位置、つまり照射位置31に対して垂直にレーザ光L1を照射するレーザ光源101を備え、そのレーザ光L1が照射されたときに基板表面3aの照射位置31で反射される反射光L2を基板認識用カメラ9に案内して基板認識用カメラ9により受光させ、その受光結果に基づき基板表面3aに垂直な方向Zにおける基板3の高さを計測している。このようにレーザ光源101は基板表面3aに対して垂直にレーザ光L1を照射しているため、基板3の反りなどによって基板表面3aの高さが変化したとしても、基板表面3aにおいてレーザ光L1が照射される照射位置31は変化しない。したがって、基板表面3aに垂直な方向Zにおける基板3の高さを精度良く計測することができる。   Further, in the present embodiment, the laser light source 101 that irradiates the laser light L1 perpendicularly to the position of the substrate surface 3a away from the imaging position 32 of the substrate surface 3a by the substrate recognition camera 9, that is, the irradiation position 31, When the laser beam L1 is irradiated, the reflected light L2 reflected at the irradiation position 31 on the substrate surface 3a is guided to the substrate recognition camera 9 and received by the substrate recognition camera 9, and the substrate surface is based on the light reception result. The height of the substrate 3 in the direction Z perpendicular to 3a is measured. As described above, since the laser light source 101 irradiates the laser beam L1 perpendicularly to the substrate surface 3a, even if the height of the substrate surface 3a changes due to the warp of the substrate 3, the laser beam L1 on the substrate surface 3a. The irradiation position 31 irradiated with is not changed. Therefore, the height of the substrate 3 in the direction Z perpendicular to the substrate surface 3a can be accurately measured.

また、本実施形態によれば、基板認識用カメラ9をマーク30の認識と基板表面3aの高さ計測に共用しているため、部品実装装置1の低コスト化および省スペース化を図ることが可能となっている。   Further, according to the present embodiment, since the board recognition camera 9 is shared for the recognition of the mark 30 and the height measurement of the board surface 3a, the component mounting apparatus 1 can be reduced in cost and space. It is possible.

また、本実施形態では、照射位置31から基板認識用カメラ9に反射光L2が進む第1光路上で、かつ基板認識用カメラ9による撮像位置32から出射する光が基板認識用カメラ9に進む第2光路から離れた位置にプリズム102を配置している。さらに、プリズム102を空気よりも大きな屈折率Nを有する媒質で構成し、しかも、プリズム102の屈折率Nに起因する焦点距離の減少量ΔDを、第1光路の幾何学的な光路長D1と第2光路の幾何学的な光路長D2との差に略一致するように、プリズム102の媒質(屈折率N)を選定するとともに、反射光L2がプリズム102内を進む光路の幾何学的な光路長Dpを設定している。このように設定すると、照射位置31と基板認識用カメラ9による撮像位置32とに対するそれぞれの基板認識用カメラ9での光学的な焦点距離がほぼ等しくなる。したがって、マーク30にピントが合うように基板認識用カメラ9を配置すると、照射位置31にもピントが合うこととなり、基板認識用カメラ9やプリズム102などの部材を移動させることなく、マーク30の撮像および反射光L2の受光を好適に行うことができる。   In the present embodiment, the light emitted from the imaging position 32 by the substrate recognition camera 9 travels to the substrate recognition camera 9 on the first optical path where the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 to the substrate recognition camera 9. The prism 102 is disposed at a position away from the second optical path. Further, the prism 102 is made of a medium having a refractive index N larger than that of air, and the reduction amount ΔD of the focal length due to the refractive index N of the prism 102 is set to the geometrical optical path length D1 of the first optical path. The medium (refractive index N) of the prism 102 is selected so as to substantially match the difference with the geometrical optical path length D2 of the second optical path, and the geometrical path of the optical path along which the reflected light L2 travels in the prism 102 is selected. An optical path length Dp is set. With this setting, the optical focal lengths of the substrate recognition cameras 9 with respect to the irradiation position 31 and the imaging position 32 of the substrate recognition camera 9 are substantially equal. Therefore, when the substrate recognition camera 9 is arranged so that the mark 30 is in focus, the irradiation position 31 is also in focus, and the member of the mark 30 is not moved without moving the substrate recognition camera 9 or the prism 102. Imaging and reflected light L2 can be received favorably.

また、本実施形態では、基板認識用カメラ9の光軸OA1上にハーフミラー100を配置し、照射位置31から出射される反射光L2を基板認識用カメラ9の光軸OA1の軸外からハーフミラー100に案内し、ハーフミラー100で反射させて光軸OA1に沿って基板認識用カメラ9に案内している。また、基板認識用カメラ9は、ハーフミラー100を透過した光に基づきマーク30を撮像している。したがって、プリズム102などを移動させることなく、基板認識用カメラ9によりマーク認識と高さ計測との両方を好適に行うことが可能になっている。つまり、ハーフミラーを備えない場合には、プリズムから反射光L2が出射する出射面を基板認識用カメラ9の光軸OA1上に配置して、反射光L2を光軸OA1に沿って基板認識用カメラ9に案内する構成が考えられる。しかしながら、その場合には、マーク30を撮像する際にプリズムが邪魔になるため、プリズムを基板認識用カメラ9の光軸OA1から離れた位置に移動させる構成が必要になる。これに対して、ハーフミラー100を備える本実施形態によれば、プリズム102を移動させる構成が不要であるため、装置構成の簡素化を図ることが可能となっている。   In the present embodiment, the half mirror 100 is disposed on the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9, and the reflected light L2 emitted from the irradiation position 31 is halfway from the off-axis of the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9. It is guided to the mirror 100, reflected by the half mirror 100, and guided to the substrate recognition camera 9 along the optical axis OA1. The substrate recognition camera 9 captures an image of the mark 30 based on the light transmitted through the half mirror 100. Therefore, it is possible to suitably perform both mark recognition and height measurement by the substrate recognition camera 9 without moving the prism 102 or the like. That is, when the half mirror is not provided, the exit surface from which the reflected light L2 is emitted from the prism is arranged on the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9, and the reflected light L2 is used for substrate recognition along the optical axis OA1. A configuration for guiding the camera 9 is conceivable. However, in this case, the prism becomes a hindrance when the mark 30 is imaged. Therefore, a configuration is required in which the prism is moved to a position away from the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9. On the other hand, according to this embodiment provided with the half mirror 100, since the structure which moves the prism 102 is unnecessary, it is possible to attain simplification of an apparatus structure.

また、本実施形態では、シャッター部103と駆動部131とを備え、照射位置31からハーフミラー100に反射光L2が進む光路においてハーフミラー100への反射光L2の案内および遮断を切り替えている。つまり、基板表面3aの高さを計測するときは、シャッター部103を離間位置に移動し、ハーフミラー100に反射光L2が案内されるようにしている。これによって、ハーフミラー100を介して反射光L2が基板認識用カメラ9に案内されて、基板表面3aの高さ計測を好適に行うことができる。一方、マーク30を撮像するときは、シャッター部103を遮断位置に移動することにより、照射位置31からハーフミラー100に反射光L2が進む光路から迷光がハーフミラー100に案内されて、その迷光がハーフミラー100を介して基板認識用カメラ9に案内されるのを阻止することができる。その結果、マーク30の認識を精度良く行うことが可能となっている。   Further, in the present embodiment, the shutter unit 103 and the drive unit 131 are provided, and guidance and blocking of the reflected light L2 to the half mirror 100 are switched in an optical path in which the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 to the half mirror 100. That is, when measuring the height of the substrate surface 3 a, the shutter unit 103 is moved to the separated position so that the reflected light L <b> 2 is guided to the half mirror 100. Thus, the reflected light L2 is guided to the substrate recognition camera 9 through the half mirror 100, and the height measurement of the substrate surface 3a can be suitably performed. On the other hand, when imaging the mark 30, the stray light is guided to the half mirror 100 from the optical path along which the reflected light L <b> 2 travels from the irradiation position 31 to the half mirror 100 by moving the shutter unit 103 to the blocking position. Guide to the substrate recognition camera 9 through the half mirror 100 can be prevented. As a result, the mark 30 can be recognized with high accuracy.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、単一のプリズム102を用いているが、これに限定されるものではなく、例えば上記した公開公報(特開2009−4448号公報)に記載されているように複数のプリズム群を用いるようにしてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the single prism 102 is used, but the present invention is not limited to this. For example, as described in the above-mentioned publication (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-4448), a plurality of prisms are used. A group may be used.

また、上記実施形態では、シャッター部103の遮断位置をプリズム102とハーフミラー100との間に設定しているが、これに限られず、照射位置31とプリズム102との間に設定するようにしてもよい。要は、照射位置31からハーフミラー100に反射光L2が進む光路上に遮断位置を設定して、ハーフミラー100を介して基板認識用カメラ9の光軸OA1に沿って基板認識用カメラ9に案内される迷光を遮断できるようにすればよい。   In the above embodiment, the blocking position of the shutter unit 103 is set between the prism 102 and the half mirror 100. However, the present invention is not limited to this, and is set between the irradiation position 31 and the prism 102. Also good. In short, a blocking position is set on the optical path along which the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 to the half mirror 100, and the substrate recognition camera 9 passes along the optical axis OA1 of the substrate recognition camera 9 via the half mirror 100. The guided stray light may be blocked.

また、上記実施形態では、機械的なシャッター部103を用いて遮断位置と離間位置との間で移動させているが、これに限られず、例えば光の透過および遮断を切替可能な液晶などの電子シャッターを照射位置31からハーフミラー100に反射光L2が進む光路上に配置して、反射光L2の案内および遮断を切り替えるようにしてもよい。あるいは、例えばハーフミラー100、環状照明部92および同軸照明部93の周囲を覆う円筒状のカバーを移動自在に設け、マーク30を撮像するときはカバーによりハーフミラー100などの周囲を覆い、基板高さを計測するときはカバーをハーフミラー100などの周囲から退避させるように構成してもよい。   In the above embodiment, the mechanical shutter unit 103 is used to move between the blocking position and the separation position. However, the present invention is not limited to this. For example, an electronic device such as a liquid crystal that can switch between transmission and blocking of light. A shutter may be arranged on the optical path where the reflected light L2 travels from the irradiation position 31 to the half mirror 100 to switch between guiding and blocking the reflected light L2. Alternatively, for example, a cylindrical cover that covers the periphery of the half mirror 100, the annular illumination unit 92, and the coaxial illumination unit 93 is movably provided, and when the mark 30 is imaged, the periphery of the half mirror 100 or the like is covered with the cover, When measuring the thickness, the cover may be retracted from the periphery of the half mirror 100 or the like.

また、上記実施形態では、プリズム102を用いて反射光L2をハーフミラー100に案内しているが、これに限られず、反射ミラーなどを用いてもよい。但し、上記実施形態のようにプリズム102を用いると、上記したように、マーク30にピントが合うように基板認識用カメラ9を配置すると、照射位置31にもピントが合うようにすることができるため、反射ミラーを用いる場合に比べて、上記実施形態の方が有利である。   Moreover, in the said embodiment, although the reflected light L2 is guided to the half mirror 100 using the prism 102, it is not restricted to this, A reflection mirror etc. may be used. However, when the prism 102 is used as in the above embodiment, as described above, when the substrate recognition camera 9 is arranged so that the mark 30 is in focus, the irradiation position 31 can also be in focus. For this reason, the above embodiment is more advantageous than the case of using a reflection mirror.

また、上記実施形態では、光源としてレーザ光源101を用いているが、これに限られず、例えばLEDや蛍光灯などでもよい。つまり、光源から出射される光が基板表面3aを照射する照射位置31を基板認識用カメラ9が認識できるものであればよい。また、光源から出射される光により照射位置31に形成されるスポットの形状も、円形、長方形、三角形など、照射位置31を基板認識用カメラ9が認識できるものであれば、どのような形状でもよい。また、上記実施形態ではコリメートレンズ111を用いているが、照射位置31を基板認識用カメラ9が認識できるのであれば、コリメートレンズ111を用いなくてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the laser light source 101 is used as a light source, it is not restricted to this, For example, LED, a fluorescent lamp, etc. may be sufficient. That is, any substrate recognition camera 9 may be used as long as it can recognize the irradiation position 31 where the light emitted from the light source irradiates the substrate surface 3a. The shape of the spot formed at the irradiation position 31 by the light emitted from the light source may be any shape as long as the substrate recognition camera 9 can recognize the irradiation position 31 such as a circle, a rectangle, or a triangle. Good. In the above embodiment, the collimator lens 111 is used. However, if the substrate recognition camera 9 can recognize the irradiation position 31, the collimator lens 111 may not be used.

また、上記実施形態では、照射位置31から出射される反射光L2をハーフミラー100で反射させて光軸OA1に沿って基板認識用カメラ9に案内しており、基板認識用カメラ9は、ハーフミラー100を透過した光に基づきマーク30を撮像しているが、これに限られず、例えば図7に示すように構成してもよい。すなわち、図7では、基板認識用カメラ9をハーフミラー100の右側(−X方向)に配置し、同軸照明部93をハーフミラー100の上方に配置している。この形態によれば、照射位置31から出射される反射光L2は、ハーフミラー100を透過して光軸OA1に沿って基板認識用カメラ9に案内される。また、基板認識用カメラ9は、ハーフミラー100を反射した光に基づきマーク30を撮像する。図7に示すような形態でも、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。   In the above-described embodiment, the reflected light L2 emitted from the irradiation position 31 is reflected by the half mirror 100 and guided to the substrate recognition camera 9 along the optical axis OA1. Although the mark 30 is imaged based on the light transmitted through the mirror 100, the present invention is not limited to this. For example, the mark 30 may be configured as shown in FIG. That is, in FIG. 7, the substrate recognition camera 9 is disposed on the right side (−X direction) of the half mirror 100, and the coaxial illumination unit 93 is disposed above the half mirror 100. According to this embodiment, the reflected light L2 emitted from the irradiation position 31 passes through the half mirror 100 and is guided to the substrate recognition camera 9 along the optical axis OA1. Further, the substrate recognition camera 9 images the mark 30 based on the light reflected from the half mirror 100. Even in the form as shown in FIG. 7, it is possible to obtain the same effects as those in the above embodiment.

1…部品実装装置
3…基板
3a…基板表面
30…マーク
31…照射位置
8…制御装置
84…駆動制御部(シャッター駆動制御部)
9…基板認識用カメラ(撮像部)
91…基板認識用カメラの受光部(撮像部)
100…ハーフミラー(導光部)
101…レーザ光源(光源)
102…プリズム(導光部)
103…シャッター部
131…駆動部(シャッター駆動制御部)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Component mounting apparatus 3 ... Board | substrate 3a ... Board | substrate surface 30 ... Mark 31 ... Irradiation position 8 ... Control apparatus 84 ... Drive control part (shutter drive control part)
9 ... Camera for substrate recognition (imaging part)
91. Light receiving part (imaging part) of substrate recognition camera
100: Half mirror (light guide part)
101: Laser light source (light source)
102 ... Prism (light guide)
103: Shutter unit 131: Drive unit (shutter drive control unit)

Claims (5)

基板に対して相対的に移動可能な実装ヘッドにより部品を前記基板に実装する部品実装装置において、
基板表面上のマークを前記基板表面に垂直な方向から撮像する撮像部と、
前記撮像部により撮像される前記基板表面の撮像位置から離れた、前記基板表面の位置に対して垂直に光を照射する光源と、
前記光源から前記基板表面に光を照射したときに前記光の照射位置で反射される反射光を前記撮像部に案内して前記撮像部に受光させる導光部とを備え、
前記撮像部による前記反射光の受光結果に基づき前記基板表面に垂直な方向における前記基板の高さを計測することを特徴とする部品実装装置。
In a component mounting apparatus for mounting a component on the substrate by a mounting head movable relative to the substrate,
An imaging unit for imaging a mark on the substrate surface from a direction perpendicular to the substrate surface;
A light source that irradiates light perpendicular to the position of the substrate surface away from the imaging position of the substrate surface imaged by the imaging unit;
A light guide unit that guides the reflected light reflected at the light irradiation position to the imaging unit when the surface of the substrate is irradiated with light from the light source, and causes the imaging unit to receive the reflected light.
A component mounting apparatus that measures the height of the substrate in a direction perpendicular to the substrate surface based on a result of receiving the reflected light by the imaging unit.
前記導光部は、前記照射位置から前記撮像部に前記反射光が進む第1光路上で、かつ前記撮像位置から出射する光が前記撮像部に進む第2光路から離れた位置に配置されたプリズムを有しており、
前記プリズムは、前記第2光路に位置する媒質よりも大きな屈折率を有する媒質で構成され、かつ、前記プリズムの屈折率に起因する焦点距離の減少量が前記第1光路の幾何学的な光路長と前記第2光路の幾何学的な光路長との差に略一致するように、前記プリズムの屈折率および前記反射光が前記プリズム内を進む光路の幾何学的な光路長が設定されている請求項1に記載の部品実装装置。
The light guide unit is disposed on a first optical path where the reflected light travels from the irradiation position to the imaging unit and away from a second optical path where light emitted from the imaging position proceeds to the imaging unit Has a prism,
The prism is formed of a medium having a refractive index larger than that of the medium positioned in the second optical path, and the amount of reduction in focal length due to the refractive index of the prism is a geometric optical path of the first optical path. The refractive index of the prism and the geometric optical path length of the optical path through which the reflected light travels in the prism are set so as to substantially match the difference between the length and the geometric optical path length of the second optical path. The component mounting apparatus according to claim 1.
前記導光部は、前記撮像部の光軸上に配置されたハーフミラーを有し、前記照射位置から出射される前記反射光を前記撮像部の前記光軸の軸外から前記ハーフミラーに案内し、前記ハーフミラーを介して前記光軸に沿って前記撮像部に案内し、
前記撮像部は、前記ハーフミラーを介して前記マークを撮像する請求項1または2に記載の部品実装装置。
The light guide unit includes a half mirror disposed on the optical axis of the imaging unit, and guides the reflected light emitted from the irradiation position to the half mirror from outside the optical axis of the imaging unit. And guided to the imaging unit along the optical axis through the half mirror,
The component mounting apparatus according to claim 1, wherein the imaging unit images the mark through the half mirror.
前記照射位置から前記ハーフミラーに前記反射光が進む光路において前記ハーフミラーへの前記反射光の案内および遮断を切り替え自在なシャッター部と、
前記シャッター部を駆動して前記反射光の案内と遮断を切り替えるシャッター駆動制御部と
をさらに備える請求項3に記載の部品実装装置。
A shutter part capable of switching between guiding and blocking the reflected light to the half mirror in an optical path along which the reflected light travels from the irradiation position to the half mirror;
The component mounting apparatus according to claim 3, further comprising: a shutter drive control unit that drives the shutter unit to switch between guiding and blocking the reflected light.
基板に対して相対的に移動可能な実装ヘッドにより部品を前記基板に実装する部品実装方法において、
基板表面上のマークを前記基板表面に垂直な方向から撮像部により撮像する工程と、
前記撮像部により撮像される前記基板表面の撮像位置から離れた、前記基板表面の位置に対して垂直に光を照射する工程と、
前記基板表面に光を照射したときに前記基板表面で反射される反射光を前記撮像部に案内して前記撮像部により受光させる工程と、
前記撮像部による前記反射光の受光結果に基づき前記基板表面に垂直な方向における前記基板の高さを計測する工程と
を備えたことを特徴とする部品実装方法。
In a component mounting method for mounting a component on the substrate by a mounting head movable relative to the substrate,
Imaging a mark on the substrate surface by an imaging unit from a direction perpendicular to the substrate surface;
Irradiating light perpendicularly to the position of the substrate surface away from the imaging position of the substrate surface imaged by the imaging unit;
Guiding the reflected light reflected by the substrate surface when the substrate surface is irradiated with light to the imaging unit and receiving the reflected light by the imaging unit;
And a step of measuring the height of the substrate in a direction perpendicular to the surface of the substrate based on a result of receiving the reflected light by the imaging unit.
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