JP5355991B2 - Pulse light source and pulse compression method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パルス光源およびパルス圧縮方法に関するものである。 The present invention relates to a pulse light source and a pulse compression method.
パルス光源は、加工等に代表される産業用途に用いられ、高出力や短パルス化が望まれる傾向がある。特に微細加工を行うためのレーザ加工機において用いられるパルス光源には、極力、ピーク値が高く、且つ、加工対象への熱影響を軽減する目的でパルス幅が狭いことが望まれる。 The pulsed light source is used for industrial applications typified by processing and the like, and there is a tendency that a high output and a short pulse are desired. In particular, a pulse light source used in a laser processing machine for performing fine processing is desired to have a high peak value as much as possible and to have a narrow pulse width for the purpose of reducing the thermal influence on the processing target.
パルス光発生の為の機構としてQスイッチやモードロックなどが気体レーザ光源や固体レーザ光源で提案されている(非特許文献1を参照)。また、半導体レーザを用いた利得スイッチング法も、より軽便な方法として注目される。利得スイッチングは、要するに半導体レーザの直接変調により実現されるので、モードロックのようにパルス間周期がレーザのハード的構造で制約されることが無く、また、Qスイッチのように音響光学スイッチのような大電力を消費する高価な部品を必要としない。 As a mechanism for generating pulsed light, a Q switch, a mode lock, and the like have been proposed for gas laser light sources and solid laser light sources (see Non-Patent Document 1). A gain switching method using a semiconductor laser is also attracting attention as a more convenient method. In short, since gain switching is realized by direct modulation of a semiconductor laser, the period between pulses is not restricted by the laser's hardware structure as in mode lock, and it does not occur as in an acousto-optic switch like a Q switch. It does not require expensive parts that consume large amounts of power.
但し、半導体レーザは、総じて気体レーザ光源や固体レーザ光源などの従来のレーザ光源と比較して、出力光パワーが低いので、通信や計測に使われるのが一般的で、従ってパルスピークパワーが要求されることはなかった(非特許文献1,2を参照)。
昨今、直接変調した半導体レーザと光増幅器(特に光ファイバ増幅器)とを組み合わせたMOPA(Master Oscillator Power Amplifier)構造を有するパルス光源が、レーザ加工など1kW以上のハイパワーを要する用途に使用されるケースも散見される(非特許文献3を参照)。こうしたケースでは、光ファイバ増幅部分の所要利得を少しでも軽減するために半導体レーザの出力光のパルスピークが高いことが望ましい。すなわち、変調電流の振幅が大きいことが望まれる。 Recently, a pulse light source with a MOPA (Master Oscillator Power Amplifier) structure that combines a directly modulated semiconductor laser and an optical amplifier (especially an optical fiber amplifier) is used for applications that require high power of 1 kW or more, such as laser processing. (See Non-Patent Document 3). In such a case, it is desirable that the pulse peak of the output light of the semiconductor laser is high in order to reduce the required gain of the optical fiber amplification part as much as possible. That is, it is desired that the amplitude of the modulation current is large.
しかし、数百mAの電流を変調することは容易ではなく、その立上り時間及び立下り時間は精々数ns程度が限界である(非特許文献3を参照)。その一方で、用途によっては1nsを下回るパルス幅の要求も存在し、例えばパルス幅がフェムト秒オーダーであることが必要とされる場合もある(非特許文献4を参照)。しかし、フェムト秒パルス光の発生のためにはCPA等の特殊な光増幅技術を使わねばならない上に、パルスエネルギーとしては小さいのでレーザ加工の際のスループットの低さなどが問題となる。 However, it is not easy to modulate a current of several hundred mA, and the rise time and the fall time are limited to about several ns (see Non-Patent Document 3). On the other hand, there is a request for a pulse width of less than 1 ns depending on the application, and for example, the pulse width may be required to be in the femtosecond order (see Non-Patent Document 4). However, in order to generate femtosecond pulsed light, a special optical amplification technique such as CPA must be used. Further, since the pulse energy is small, there is a problem of low throughput during laser processing.
以上のことから、発明者らは、現在のファイバレーザ技術では、簡易な方法で、パルス幅を、周波数軸上の幅を広くしない状態で、時間軸上の幅を小さくすることは、難しかったと考えている。 From the above, the inventors found that it was difficult to reduce the width on the time axis in a state where the width on the frequency axis was not widened by a simple method with the current fiber laser technology. thinking.
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、変調振幅が200mAを超えるような直接変調された半導体レーザを種光源として使用したMOPA構造のパルス光源であって、サブナノ秒のパルス幅を有するパルス光を容易に出力することができるパルス光源およびパルス圧縮方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and is a pulse light source having a MOPA structure using a directly modulated semiconductor laser having a modulation amplitude exceeding 200 mA as a seed light source. It is an object of the present invention to provide a pulse light source and a pulse compression method that can easily output pulsed light having a pulse width.
本発明に係るパルス光源は、(1) 直接変調されてパルス光を出力する半導体レーザと、(2) 半導体レーザから出力されるパルス光を入力して、その入力したパルス光の波長帯域のうちのパルス光のピーク波長より短波長側および長波長側の一方を他方より減衰させて、パルス光のチャーピング成分を選択的に出力する第1光フィルタと、(3) 第1光フィルタから出力されたパルス光を増幅して出力する光増幅器と、を備えることを特徴とする。このパルス光源では、MOPA構造とされていて、直接変調された半導体レーザから出力されたパルス光は、第1光フィルタにより当該波長帯域のうちの短波長側および長波長側の一方が他方より減衰された後、光増幅器により増幅されて出力される。 The pulsed light source according to the present invention includes (1) a semiconductor laser that is directly modulated and outputs pulsed light, and (2) pulsed light that is output from the semiconductor laser is input, out of the wavelength band of the input pulsed light A first optical filter for selectively outputting a chirped component of the pulsed light by attenuating one of the shorter wavelength side and the longer wavelength side of the peak wavelength of the pulsed light from the other, and (3) outputting from the first optical filter And an optical amplifier that amplifies and outputs the pulsed light. This pulse light source has a MOPA structure, and pulse light output from a directly modulated semiconductor laser attenuates one of the short wavelength side and long wavelength side of the wavelength band from the other by the first optical filter. Is amplified and output by an optical amplifier.
本発明に係るパルス光源では、第1光フィルタが入力パルス光の波長帯域のうちのパルス光のピーク波長より短波長側を長波長側より減衰させて出力するのが好適である。第1光フィルタの透過特性が可変であるのが好適である。第1光フィルタとともに光増幅器に含まれる光増幅媒質を挟むように配置された第2光フィルタを備えるのが好適である。第1光フィルタがバンドパスフィルタであるのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタのうち少なくとも一方がバンドパスフィルタであるのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタの双方がバンドパスフィルタであり、第2光フィルタの透過スペクトルの半値全幅が第1光フィルタの透過スペクトルの半値全幅よりも広いのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタの双方がバンドパスフィルタであり、第2光フィルタの中心波長がパルス光のピーク波長と第1光フィルタの透過スペクトルの中心波長の間に設定されているのが好適である。半導体レーザがファブリーペロ型のものであるのが好適である。半導体レーザの温度を調整する温度調整手段を備えるのが好適である。光増幅器から出力されるパルス光のパルス幅が1ns未満であるのが好適である。光増幅器から出力されるパルス光のピークパワーが1kW超であるのが好適である。繰り返し周波数が1MHzのときにパルス光のピークパワーが10kW超であるのが好適である。 In the pulse light source according to the present invention, it is preferable that the first optical filter attenuates and outputs the shorter wavelength side of the peak wavelength of the pulsed light in the wavelength band of the input pulsed light from the longer wavelength side. The transmission characteristic of the first optical filter is preferably variable. It is preferable to provide a second optical filter disposed so as to sandwich the optical amplification medium included in the optical amplifier together with the first optical filter. The first optical filter is preferably a band pass filter. It is preferable that at least one of the first optical filter and the second optical filter is a band pass filter. Preferably, both the first optical filter and the second optical filter are band pass filters, and the full width at half maximum of the transmission spectrum of the second optical filter is wider than the full width at half maximum of the transmission spectrum of the first optical filter. Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters, and the center wavelength of the second optical filter is set between the peak wavelength of the pulsed light and the center wavelength of the transmission spectrum of the first optical filter. Is preferred. The semiconductor laser is preferably a Fabry-Perot type. It is preferable to provide temperature adjusting means for adjusting the temperature of the semiconductor laser. It is preferable that the pulse width of the pulsed light output from the optical amplifier is less than 1 ns. The peak power of the pulsed light output from the optical amplifier is preferably over 1 kW. When the repetition frequency is 1 MHz, the peak power of the pulsed light is preferably more than 10 kW.
本発明に係るパルス圧縮方法は、(1) 直接変調されてパルス光を出力する半導体レーザと、(2) 半導体レーザから出力されるパルス光を入力して、その入力したパルス光の一部の波長域を透過する第1光フィルタと、(3) 第1光フィルタから出力されたパルス光を増幅して出力する光増幅器とを用いる。そして、本発明に係るパルス圧縮方法は、第1光フィルタの透過波長域と半導体レーザの出力スペクトルとの相対的な位置関係を調整することにより、半導体レーザ出力スペクトルのパルス光のピーク波長より短波長側および長波長側の何れか一方を他方より減衰させて、パルス光のチャーピング成分を第1光フィルタから選択的に出力することを特徴とする。 The pulse compression method according to the present invention includes (1) a semiconductor laser that directly modulates and outputs pulsed light, and (2) pulsed light output from the semiconductor laser is input, and part of the input pulsed light is input. A first optical filter that transmits the wavelength band and (3) an optical amplifier that amplifies and outputs the pulsed light output from the first optical filter are used. The pulse compression method according to the present invention is shorter than the peak wavelength of the pulsed light in the semiconductor laser output spectrum by adjusting the relative positional relationship between the transmission wavelength range of the first optical filter and the output spectrum of the semiconductor laser. One of the wavelength side and the long wavelength side is attenuated from the other, and the chirping component of the pulsed light is selectively output from the first optical filter .
本発明に係るパルス圧縮方法では、第1光フィルタが入力パルス光の波長帯域のうちのパルス光のピーク波長より短波長側を長波長側より減衰させて出力するのが好適である。第1光フィルタの透過特性が可変であるのが好適である。第1光フィルタとともに光増幅器に含まれる光増幅媒質を挟むように第2光フィルタを配置するのが好適である。第1光フィルタがバンドパスフィルタであるのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタのうち少なくとも一方がバンドパスフィルタであるのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタの双方がバンドパスフィルタであり、第2光フィルタの透過スペクトルの半値全幅が第1光フィルタの透過スペクトルの半値全幅よりも広いのが好適である。半導体レーザがファブリーペロ型のものであるのが好適である。第1光フィルタおよび第2光フィルタの双方がバンドパスフィルタであり、第2光フィルタの中心波長がパルス光のピーク波長と第1光フィルタの透過スペクトルの中心波長の間に設定されているのが好適である。また、半導体レーザの温度を調整する温度調整手段を備えるのが好適である。 In the pulse compression method according to the present invention, it is preferable that the first optical filter attenuates the short wavelength side of the peak wavelength of the pulsed light in the wavelength band of the input pulsed light from the long wavelength side and outputs it. The transmission characteristic of the first optical filter is preferably variable. It is preferable to arrange the second optical filter so as to sandwich the optical amplification medium included in the optical amplifier together with the first optical filter. The first optical filter is preferably a band pass filter. It is preferable that at least one of the first optical filter and the second optical filter is a band pass filter. Preferably, both the first optical filter and the second optical filter are band pass filters, and the full width at half maximum of the transmission spectrum of the second optical filter is wider than the full width at half maximum of the transmission spectrum of the first optical filter. The semiconductor laser is preferably a Fabry-Perot type. Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters, and the center wavelength of the second optical filter is set between the peak wavelength of the pulsed light and the center wavelength of the transmission spectrum of the first optical filter. Is preferred. In addition, it is preferable to provide temperature adjusting means for adjusting the temperature of the semiconductor laser.
本発明に係るパルス光源は、変調振幅が200mAを超えるような直接変調された半導体レーザを種光源として使用したMOPA構造のパルス光源であって、サブナノ秒のパルス幅を有するパルス光を容易に出力することができる。 The pulse light source according to the present invention is a pulse light source having a MOPA structure using a directly modulated semiconductor laser having a modulation amplitude exceeding 200 mA as a seed light source, and easily outputs pulse light having a sub-nanosecond pulse width. can do.
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
図1は、本実施形態に係るパルス光源1の構成図である。この図に示されるパルス光源1は、種光源10、YbDF(Yb-Doped Fiber)20、バンドパスフィルタ30、YbDF40およびYbDF50等を備えていて、MOPA構造を有している。このパルス光源1は、レーザ加工に好適である波長1060nm付近のパルス光を出力する。
FIG. 1 is a configuration diagram of a
種光源10は、直接変調されてパルス光を出力する半導体レーザを含む。この半導体レーザは、ハイパワー化の観点から、また、誘導ブリユアン散乱(SBS)などの非線形効果を避ける観点から、ファブリーペロ型のものであるのが好適である。また、この半導体レーザは、増幅用光ファイバであるYbDF20,40,50が利得を有する波長1060nm付近のパルス光を出力する。YbDF20,40,50は、石英ガラスを主成分とする光ファイバのコアに活性物質としてYb元素が添加されたものであり、励起光波長と被増幅光波長とが互いに近くパワー変換効率的の点で有利であり、また、波長1060nm付近において高い利得を有する点で有利である。これらYbDF20,40,50は、3段の光ファイバ増幅器を構成している。
The
第1段のYbDF20は、励起光源22から出力されて光カプラ21を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF20は、種光源10から出力されて光アイソレータ23および光カプラ21を経たパルス光を入力し、このパルス光を増幅し、光アイソレータ24を経て該パルス光を出力させる。
The first-
バンドパスフィルタ30は、種光源10から出力され第1段のYbDF20により増幅されたパルス光を入力して、その入力したパルス光の波長帯域のうちのパルス光のピーク波長より短波長側および長波長側の一方を他方より減衰させて出力する。なお、バンドパスフィルタに替えてハイパスフィルタまたはローパスフィルタが用いられてもよいが、ハイパスフィルタは種光源スペクトルの長波長側しか切り出すことができず、ローパスフィルタは種光源スペクトルの短波長側しか切り出すことができない。バンドパスフィルタは両者の機能を併せ持つので好適である。
The
第2段のYbDF40は、励起光源42から出力されて光カプラ41を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF40は、バンドパスフィルタ30から出力されて光アイソレータ43および光カプラ41を経たパルス光を入力し、このパルス光を増幅し、光アイソレータ44を経て該パルス光を出力させる。第3段のYbDF50は、励起光源52〜55それぞれから出力されコンバイナ51を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF50は、第2段のYbDF40により増幅されたパルス光を入力して更に増幅し、エンドキャップ60を経て該パルス光を外部へ出力させる。
The
より好適な構成例は以下のとおりである。第1段のYbDF20は、コア励起方式で、励起波長975nmでパワー200mW一定の励起光が順方向に注入される。YbDF20として、波長975nmの非飽和吸収係数が240dB/mであるものが長さ5m使用される。YbDF20のコア径は6μmであり、NAは0.12程度である。第2段のYbDF40は、コア励起方式で、励起波長975nmでパワー200mW一定の励起光が順方向に注入される。YbDF40として、波長975nmの非飽和吸収係数が240dB/mであるものが長さ7m使用される。YbDF40のコア径は6μmであり、NAは0.12程度である。第3段のYbDF50は、クラッド励起方式で、励起波長975nmでパワー20W(5W級の励起LDを4個)が順方向に注入される。YbDF50として、コア部分の非飽和吸収係数が1200dB/mであるものが長さ5m使用される。YbDF50のコアは、直径が10μmであり、NAが0.06程度である。YbDF50の内クラッドは、直径が125μmであり、NAが0.46程度である。
A more preferable configuration example is as follows. The
図2は、半導体レーザに対する直接変調の際の変調電圧波形を示す図である。また、図3は、半導体レーザから出力されるパルス光の時間波形を示す図である。図2では、繰り返し周波数は100kHzに設定されている。図2に示される変調電圧波形の立上り時間及び立下り時間で変調できる最大の電流振幅は240mAである。この変調信号が与えられる半導体レーザから出力されるパルス光の時間波形では、図3に示されるように、オーバーシュートの半値幅は1ns未満であるが、その後に10nsを超えるパルス成分が存在するので、これがレーザ加工時には熱影響の原因となる。その一方で、変調信号の幅を1ns以下として240mAの電流振幅を維持することは困難である。 FIG. 2 is a diagram showing a modulation voltage waveform at the time of direct modulation with respect to the semiconductor laser. FIG. 3 is a diagram showing a time waveform of pulsed light output from the semiconductor laser. In FIG. 2, the repetition frequency is set to 100 kHz. The maximum current amplitude that can be modulated by the rise time and fall time of the modulation voltage waveform shown in FIG. 2 is 240 mA. In the time waveform of the pulsed light output from the semiconductor laser to which this modulation signal is applied, as shown in FIG. 3, the half-value width of the overshoot is less than 1 ns, but there are pulse components exceeding 10 ns thereafter. This causes thermal effects during laser processing. On the other hand, it is difficult to maintain a current amplitude of 240 mA by setting the width of the modulation signal to 1 ns or less.
仮に半導体レーザがDFB等の単一波長発振のものである場合、その光出力Pと光周波数変化Δν(所謂チャーピング)との間の関係は次式で与えられる。ここで、αは線幅増大係数であり、Γは活性層の閉じ込め係数であり、εは非線形利得係数であり、Vは活性層体積であり、hはプランク定数であり、νは種光源出力の光周波数である。 If the semiconductor laser is of a single wavelength oscillation such as DFB, the relationship between the optical output P and the optical frequency change Δν (so-called chirping) is given by the following equation. Where α is the line width enhancement factor, Γ is the active layer confinement factor, ε is the nonlinear gain coefficient, V is the active layer volume, h is the Planck constant, and ν is the seed light source output. Is the optical frequency.
図4は、半導体レーザから出力されるパルス光の時間波形およびチャーピングの時間変化を示す図である。上記(1)式から判るように、チャーピングΔνは光出力パワーPの時間微分に依存する。したがって、この図に示されるように、光出力パワーPの変化分が最も急峻なところで略最大のチャーピングが発生する。そして、光出力の最も顕著な変化は、立上りのオーバーシュートのときであるので、総じてチャーピングは、高周波数(すなわち短波長側)に生じて、ファブリーペロ型の半導体レーザであっても短波長側への裾引きの大きいスペクトル形状となる。 FIG. 4 is a diagram illustrating a temporal waveform of the pulsed light output from the semiconductor laser and a temporal change in chirping. As can be seen from the above equation (1), the chirping Δν depends on the time differentiation of the optical output power P. Therefore, as shown in this figure, the substantially maximum chirping occurs when the change in the optical output power P is the steepest. Since the most significant change in the optical output is at the time of overshoot at the rising edge, chirping generally occurs at a high frequency (that is, on the short wavelength side), and even with a Fabry-Perot type semiconductor laser, the short wavelength The spectrum shape has a large tailing to the side.
ここで、図1に示されるパルス光源1に含まれるバンドパスフィルタ30の中心波長を、敢えて種光源10の出力光スペクトルの最大強度波長から短波長側または長波長側にシフトさせると、図4に示されるチャーピング成分だけを切り出すことができ、図3に示されるオーバーシュート後の10nsを超えるパルスを除去することができる。ただし、この方法は、当然、種光源10のパルス出力の殆どの成分をバンドパスフィルタ30により遮断することにもなるので、これを補うため光増幅部としてYbDF20,40,50が設けられている。これらYbDF20,40,50を含む光ファイバ増幅部は利得が潤沢で数10dBの利得をも発揮することができる。
Here, when the center wavelength of the
図5は、本実施形態に係るパルス光源1から出力されるパルス光の時間波形を示す図である。ここでは、バンドパスフィルタ20として透過波長帯域が可変であるのものを用いて、その透過波長帯域を調整した。同図で、時間波形A1は、バンドパスフィルタ20の透過波長帯域をできるだけ長波長側にして且つパルスピークの最大化を図ったときのものである。時間波形A2は、バンドパスフィルタ20の透過波長帯域をできるだけ短波長側にして且つパルスピークの最大化を図ったときのものである。また、時間波形A3は、バンドパスフィルタ20の透過波長帯域をできるだけ種光源10の出力スペクトルに重畳させたときのものである。
FIG. 5 is a diagram illustrating a time waveform of the pulsed light output from the pulsed
この図に示されるように、光ファイバ増幅部であるYbDF20,40,50の効果により、パルスピークは寧ろ増大する。但し、あまりにバンドパスフィルタ30の中心波長を種光源スペクトルに対して大きくずらし過ぎると、バンドパスフィルタ30を光が透過しなくなるのは勿論である。図5中の時間波形A1,A2は、パルスピークが最大となるように、長波長側または短波長側にバンドパスフィルタ30の透過波長帯域の中心波長を調整したときの結果である。そして、バンドパスフィルタ30の透過波長帯域の中心波長を、種光源スペクトルの長波長側に一致させたときの方が、短波長側に一致させたときと比較して、パルスピークが1割程高く、且つ、パルスの立下りが急峻で、レーザ加工の際の熱影響が抑圧できることが期待される。
As shown in this figure, the pulse peak rather increases due to the effect of the
尚、半導体レーザの過渡応答特性はサンプル毎にバラツキが大きいが、オーバーシュートを全く生じない半導体レーザを種光源10に用いた場合でも、図6に示すような結果が得られ、やはり、バンドパルフィルタ30の中心波長を種光源スペクトルの長波長側に一致させた方が好適な結果が得られた。図6は、オーバーシュートを全く生じない半導体レーザを種光源10に用いた場合にパルス光源1から出力されるパルス光の時間波形を示す図である。同図で、時間波形B1は、バンドパスフィルタ20の透過波長帯域をできるだけ長波長側にして且つパルスピークの最大化を図ったときのものである。時間波形B2〜B6は、時間波形B1の場合に対してバンドパスフィルタ20の透過波長帯域を次第に短波長側にシフトさせたときのものである。この図から判るように、バンドパルフィルタ30の中心波長を種光源スペクトルの長波長側に一致させた方が好適な結果が得られた。
Although the transient response characteristics of the semiconductor laser vary widely from sample to sample, even when a semiconductor laser that does not cause overshoot at all is used as the
上記では、種光源スペクトルとバンドパスフィルタ30の透過スペクトルとの相対的位置関係の調整に、バンドパスフィルタ30の透過スペクトルを可変とする方式を述べたが、種光源10の温度を調整しても、ほぼ同等の効果が期待できる。バンドパルフィルタ30の調整が誘電体多層膜の角度調整など機構的調整を必要とするのに対し、種光源10の温度調整は、電子制御のみで行えるので再現性や制御性の点で優れている。
In the above description, the method of changing the transmission spectrum of the
以上のように、本実施形態に係るパルス光源1は、変調振幅が200mAを超えるような直接変調された半導体レーザを種光源として使用したMOPA構造のパルス光源であって、サブナノ秒のパルス幅を有するパルス光を容易に出力することができる。特に、本実施形態に係るパルス光源1は、ピークパワーが1kW超であるパルス光を出力することができ、また、パルス幅が1ns未満であるパルス光を出力することができるので、レーザ加工用途に好適である。また、本実施形態に係るパルス光源1は、種光源10に含まれる半導体レーザを直接変調するので、モードロックと比較し変調の自由度が高い。
As described above, the
ところで、図1に示された構成のパルス光源1では、種光源10としてファブリーペロ型の半導体レーザが用いられた。短パルス化の為には、図7(a),(b)に示されるように、種光源10の後段に設けられるバンドパスフィルタ30の中心波長は、図中のプロットC2またはC3の状態になるように調整されて、パルスの半値全幅が約5nsから0.5nsまで圧縮され得る。
Incidentally, in the
同図(a)は、種光源10の後段に設けられるバンドパスフィルタ30の中心波長を調整することで種光源10の出力パルスを変形した場合のパルス波形を示す。同図(b)は、その場合のスペクトルを示す。また、同図(c)は、同図(a)の一部を拡大して示す。図中のプロットC1は、バンドパスフィルタがない場合を示す。プロットC2〜C7は、バンドパスフィルタの中心波長を長波長側から徐々に短波長側にした場合を示す。
FIG. 4A shows a pulse waveform when the output pulse of the
なお、プロットC2,C3のようにバンドパスフィルタ30の中心波長を種光源10のスペクトルの中心波長から大幅にデチューニングさせると、その下流のYbDFで発生するASEが増大する。このようなASE成分を抑圧する為には、図8に示されるように、種光源の下流に接続される光増幅器の内部に複数のバンドパスフィルタが挿入されることが望ましい。
If the center wavelength of the band-
図8は、他の実施形態に係るパルス光源2の構成図である。この図に示されるパルス光源2は、種光源10、YbDF110、バンドパスフィルタ120、YbDF130、バンドパスフィルタ140、YbDF150およびYbDF160等を備えていて、MOPA構造を有している。このパルス光源2は、レーザ加工に好適である波長1060nm付近のパルス光を出力する。
FIG. 8 is a configuration diagram of a pulse
YbDF110,130,150,160は、種光源10から出力される波長1060nm付近のパルス光を増幅するもので、ガラスからなる光ファイバのコアに活性物質としてYb元素が添加されたものである。YbDF110,130,150,160は、励起光波長と被増幅光波長とが互いに近くパワー変換効率的の点で有利であり、また、波長1060nm付近において高い利得を有する点で有利である。これらYbDF110,130,150,160は、4段の光ファイバ増幅器を構成している。
第1段のYbDF110は、励起光源112から出力されて光カプラ113および光カプラ111を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF110は、種光源10から出力されて光アイソレータ114および光カプラ111を経たパルス光を入力し、このパルス光を増幅し、光アイソレータ115を経て該パルス光を出力する。
The first-
バンドパスフィルタ120は、第1段のYbDF110により増幅されて光アイソレータ115を経たパルス光を入力して、その入力したパルス光の波長帯域のうちの短波長側および長波長側の一方を他方より減衰させて出力する。
The
第2段のYbDF130は、励起光源112から出力されて光カプラ113および光カプラ131を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF130は、バンドパスフィルタ120から出力されて光アイソレータ131を経たパルス光を入力し、このパルス光を増幅し、該パルス光を出力する。
The
バンドパスフィルタ140は、第2段のYbDF130により増幅されたパルス光を入力して、その入力したパルス光の波長帯域のうちの短波長側および長波長側の一方を他方より減衰させて出力する。
The
第3段のYbDF150は、励起光源152から出力されて光カプラ151を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF150は、バンドパスフィルタ140から出力されて光アイソレータ153を経たパルス光を入力し、このパルス光を増幅し、該パルス光を出力する。
The
第4段のYbDF160は、励起光源162〜166それぞれから出力されコンバイナ161を経た励起光が順方向に供給される。そして、YbDF160は、第3段のYbDF150により増幅されて光アイソレータ167およびコンバイナ161を経たパルス光を入力して更に増幅し、エンドキャップ60を経て該パルス光を外部へ出力させる。
The
より好適な構成例は以下のとおりである。第1段のYbDF110は、単一クラッドAl共添加石英系YbDFであり、Al濃度が5wt%であり、コア径が10μmであり、クラッド径が125μmであり、915nm帯励起光非飽和吸収が70dB/mであり、975nm帯励起光非飽和吸収ピークが240dB/mであり、長さが7mである。第2段のYbDF130は、単一クラッドAl共添加石英系YbDFであり、Al濃度が5wt%であり、コア径が10μmであり、クラッド径が125μmであり、915nm帯励起光非飽和吸収が70dB/mであり、975nm帯励起光非飽和吸収ピークが240dB/mであり、長さが7mである。
A more preferable configuration example is as follows. The first stage YbDF110 is a single clad Al co-doped silica-based YbDF, the Al concentration is 5 wt%, the core diameter is 10 μm, the clad diameter is 125 μm, and the 915 nm band excitation light unsaturated absorption is 70 dB. / M, the excitation light unsaturated absorption peak at 975 nm band is 240 dB / m, and the length is 7 m. The
第3段のYbDF150は、二重クラッドリン酸塩ガラス系YbDFであり、P濃度が26.4wt%であり、Al濃度が0.8wt%であり、コア径が10μmであり、第一クラッド径が125μm程度であり、第一クラッドの断面が8角形であり、915nm帯励起光非飽和吸収が1.8dB/mであり、長さが3mである。第4段のYbDF160は、二重クラッドAl共添加石英系YbDFであり、Al濃度が5wt%であり、コア径が10μmであり、クラッド径が125μmであり、915nm帯励起光非飽和吸収が80dB/mであり、長さが3.5mである。 The third stage YbDF150 is a double clad phosphate glass-based YbDF, the P concentration is 26.4 wt%, the Al concentration is 0.8 wt%, the core diameter is 10 μm, and the first cladding diameter is Is about 125 μm, the cross section of the first cladding is octagonal, the 915 nm band excitation light unsaturated absorption is 1.8 dB / m, and the length is 3 m. The fourth stage YbDF160 is a double clad Al co-doped silica-based YbDF, the Al concentration is 5 wt%, the core diameter is 10 μm, the clad diameter is 125 μm, and the 915 nm band excitation light unsaturated absorption is 80 dB. / M and a length of 3.5 m.
YbDF110,130,150,160に供給される励起光の波長は何れも0.975μm帯である。YbDF110に供給される励起光は、パワーが200mWであって、単一モードである。YbDF130に供給される励起光は、パワーが200mWであって、単一モードである。YbDF150に供給される励起光は、パワーが2Wであって、マルチモードである。また、YbDF160に供給される励起光は、パワーが14Wであって、マルチモードである。
The wavelengths of the excitation light supplied to the
バンドパスフィルタ120,140それぞれの透過スペクトルの半値全幅は3nmである。図9および図10は、本実施形態に係るパルス光源2におけるバンドパスフィルタ120,140によるASE除去の様子を模式的に示す図である。
The full width at half maximum of the transmission spectrum of each of the
図9に示されるように、バンドパスフィルタ120の透過スペクトル(図中のD1)の中心波長が種光源10の出力光のスペクトル(図中のD2)のピーク波長に略一致している場合には、バンドパスフィルタ120から出力される光(図中のD3)のパワーを高く保つことができ、これの後段にあるYbDF130から出力される光(図中のD4)に含まれるASE成分と比較したS/N比を高く保つことができる。
As shown in FIG. 9, when the center wavelength of the transmission spectrum (D1 in the figure) of the
これに対して、図10に示されるように、バンドパスフィルタ120の透過スペクトル(図中のE1)の中心波長が種光源10の出力光のスペクトル(図中のE2)のピーク波長から大きくずれている場合には、バンドパスフィルタ120から出力される光(図中のE3)のパワーが入力時に対して大きく減衰することになり、これの後段にあるYbDF130から出力される光(図中のE4)に含まれるASE成分と比較したS/N比が大幅に劣化する。これを回避する為に、その下流に更にバンドパスフィルタ140を挿入することで、バンドパスフィルタ120から出力される光(図中のE5)のS/N比を改善することができる。なお、このとき、バンドパスフィルタ140の中心波長は、バンドパスフィルタ120の中心波長より、種光源10出力スペクトルのピーク波長に近く設定することが望ましい。
On the other hand, as shown in FIG. 10, the center wavelength of the transmission spectrum (E1 in the figure) of the
図8に示されるパルス光源2において、上記のような具体的な構成として、種光源10を出力パワー20dBmで連続発振させた場合、エンドキャップ60から出力されるパルス光のパワーは10.7Wである。図7中のプロットC2のように、バンドパスフィルタ120の中心波長を種光源10の出力スペクトルのピーク波長から長波長側にシフトしている場合、2段目YbDF130への入力光の時間平均入力パワーは低下し、2段目YbDF130の内部から出力されるASEは上昇する。その結果、2段目YbDF130の直後において、被増幅光出力パワーに対するASEパワーの比率(以下、便宜的にS/N比と呼ぶ)が低下する。
In the
2段目YbDF130の後段にバンドパスフィルタ140が設けられていることにより、また、3段目のYbDF150としてASE帯域が狭いリン酸塩ガラス系YbDFが用いられていることにより、図11および図12に示されるようにS/N比が改善され得る。
Since the
図11は、YdDF150またはYbDF160を用いたASE光源3の構成を示す図である。このASE光源3は、6個の励起光源213〜218それぞれから7Wの励起光を出力させ、コンバイナ211を経てこれらの励起光をYbDF210へ供給するものである。YbDF210として、YdDF150(8m)またはYbDF160(10)が用いられる。コンバイナ211は、6本のマルチモードファイバよりなる励起光入力ポートと、1本の単一モードファイバよりなる被増幅光入力ポートと、1本の二重クラッドファイバよりなる出力ポートとを有する。アイソレータ219は、波長1060nmにおける光の逆流を低減する。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of an ASE
図12は、YdDF150またはYbDF160を用いたASE光源3の出力光のスペクトルを示す図である。この図には、ASE光源3への入力光パワーをゼロとして、YbDF150をYbDF210として用いた場合のスペクトルがプロットF1で示され、また、YbDF160をYbDF210として用いた場合のスペクトルがプロットF2で示されている。この図に示されるように、3段目のYbDF150としてリン酸塩ガラス系YbDFが用いられていることにより、S/N比が改善され得る。
FIG. 12 is a diagram showing a spectrum of output light from the ASE
図13は、本実施形態に係るパルス光源2の出力パルス光のパルス波形を示す図である。同図では、繰り返し周波数は、100kHz、166.7kHz、200kHz、312.5kHz、500kHz、1MHzおよび2.5MHzの各値とされている。図14は、本実施形態に係るパルス光源2の出力パルス光の繰り返し周波数とパルスピークとの関係を示す図である。なお、パルス波形の測定に際しては、パルス光源2の出力端にあるエンドキャップ60の後に減衰量65dB程度の空間アッテネータを挿入し、エンドキャップ60からの出力光をソーラボ製光電変換モジュール(SIR5−FC型)で受光し、その光電変換モジュールからの電気出力波形を横河電機製オシロスコープ(DL9240)で観測した。
FIG. 13 is a diagram illustrating a pulse waveform of the output pulse light of the
これらの図に示されるとおり、出力パルス光の繰り返し周波数が1MHzでもパルスピークは10kW以上を実現することができ、また、出力パルス光の繰り返し周波数が100kHzでは56kWのパルスピークを実現することができた。なお、第3段YbDF150としてのリン酸塩ガラス系YbDFは、第4段YbDF160と比べて、励起効率(特定の励起パワーで得られる被増幅光出力の比率)が劣る。そこで、図8に示される構成において最終段のYbDF160としてAl共添加石英系YbDFが用いられている。
As shown in these figures, a pulse peak of 10 kW or more can be realized even when the repetition frequency of the output pulse light is 1 MHz, and a pulse peak of 56 kW can be realized when the repetition frequency of the output pulse light is 100 kHz. It was. It should be noted that the phosphate glass system YbDF as the
バンドパスフィルタ140の中心波長は、バンドパスフィルタ120の中心波長より種光源10の出力スペクトルのピーク波長に近く設定することが望ましい。また、バンドパスフィルタ120,140それぞれの透過スペクトル半値全幅を等しく3nmとしたが、総じてバンドパスフィルタ120透過後の被増幅光のスペクトルは、種光源10の出力のピーク波長とバンドパスフィルタ120の中心波長とが互いにずれている結果、バンドパスフィルタ120本来の透過スペクトルより広帯域になるので、バンドパスフィルタ140の透過スペクトルの半値全幅はバンドパスフィルタ120の透過スペクトルの半値全幅より広いことが望ましい。
The center wavelength of the
但し、その広がり方は、図7(b)のプロットC2に見られるとおり、精々元々のバンドパスフィルタの透過スペクトルの半値全幅が3nmのものが、透過後のスペクトルの半値全幅では4nmになるという程度のものである。したがって、バンドパスフィルタ140の透過スペクトルの半値全幅は、バンドパスフィルタ120の透過スペクトルの精々1.5倍程度が望ましい。
However, as shown in the plot C2 in FIG. 7B, the full width at half maximum of the transmission band of the original bandpass filter is 3 nm, and the full width at half maximum of the spectrum after transmission is 4 nm. It is about. Therefore, the full width at half maximum of the transmission spectrum of the
また、バンドパスフィルタは必ずしも2段である必要はなく、3段以上であってもよい。また、バンドパスフィルタである必要は必ずしもなく、短波長側透過フィルタ(SWPF)や長波長側透過フィルタ(LWPF)を組み合わせて使用してもよい。 Further, the band-pass filter does not necessarily have two stages, and may have three or more stages. Further, the band-pass filter is not necessarily required, and a short wavelength side transmission filter (SWPF) or a long wavelength side transmission filter (LWPF) may be used in combination.
1,2…パルス光源、10…種光源、20…YbDF、21…光カプラ、22…励起光源、23,24…光アイソレータ、30…バンドパスフィルタ、40…YbDF、41…光カプラ、42…励起光源、43,44…光アイソレータ、50…YbDF、51…コンバイナ、52〜55…励起光源、60…エンドキャップ、110…YbDF、111…光カプラ、112…励起光源、113…光カプラ、114,115…光アイソレータ、120…バンドパスフィルタ、130…YbDF、131…光カプラ、140…バンドパスフィルタ、150…YbDF、151…光カプラ、152…励起光源、153…光カプラ、160…YbDF、161…コンバイナ、162〜166…励起光源、167…光アイソレータ。
DESCRIPTION OF
Claims (23)
前記半導体レーザから出力されるパルス光を入力して、その入力したパルス光の波長帯域のうちの前記パルス光のピーク波長より短波長側および長波長側の一方を他方より減衰させて、前記パルス光のチャーピング成分を選択的に出力する第1光フィルタと、
前記第1光フィルタから出力されたパルス光を増幅して出力する光増幅器と
を備えることを特徴とするパルス光源。 A semiconductor laser that is directly modulated and outputs pulsed light;
The pulsed light output from the semiconductor laser is input, one of the shorter wavelength side and the longer wavelength side than the peak wavelength of the pulsed light in the wavelength band of the input pulsed light is attenuated from the other, and the pulse A first optical filter that selectively outputs a chirping component of light;
An optical amplifier that amplifies and outputs the pulsed light output from the first optical filter.
ことを特徴とする請求項1記載のパルス光源。 The pulse light source according to claim 1, further comprising a second optical filter disposed so as to sandwich an optical amplification medium included in the optical amplifier together with the first optical filter.
前記第2光フィルタの透過スペクトルの半値全幅が前記第1光フィルタの透過スペクトルの半値全幅よりも広い
ことを特徴とする請求項4記載のパルス光源。 Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters,
The pulse light source according to claim 4, wherein the full width at half maximum of the transmission spectrum of the second optical filter is wider than the full width at half maximum of the transmission spectrum of the first optical filter.
前記第2光フィルタの中心波長が前記パルス光のピーク波長と前記第1光フィルタの透過スペクトルの中心波長の間に設定されていることを特徴とする請求項4記載のパルス光源。 Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters,
5. The pulse light source according to claim 4, wherein a center wavelength of the second optical filter is set between a peak wavelength of the pulsed light and a center wavelength of a transmission spectrum of the first optical filter.
前記半導体レーザから出力されるパルス光を入力して、その入力したパルス光の一部の波長域を透過する第1光フィルタと、
前記第1光フィルタから出力されたパルス光を増幅して出力する光増幅器と
を用い、
前記第1光フィルタの透過波長域と前記半導体レーザの出力スペクトルとの相対的な位置関係を調整することにより、前記半導体レーザ出力スペクトルの前記パルス光のピーク波長より短波長側および長波長側の何れか一方を他方より減衰させて、前記パルス光のチャーピング成分を前記第1光フィルタから選択的に出力することを特徴とするパルス圧縮方法。 A semiconductor laser that is directly modulated and outputs pulsed light;
A first optical filter that receives pulsed light output from the semiconductor laser and transmits a part of the wavelength range of the input pulsed light;
Using an optical amplifier that amplifies and outputs the pulsed light output from the first optical filter,
By adjusting the relative positional relationship between the transmission wavelength region of the first optical filter and the output spectrum of the semiconductor laser, the shorter wavelength side and the longer wavelength side of the peak wavelength of the pulsed light of the semiconductor laser output spectrum A pulse compression method characterized in that either one is attenuated from the other and the chirping component of the pulsed light is selectively output from the first optical filter .
ことを特徴とする請求項14記載のパルス圧縮方法。 The pulse compression method according to claim 14, wherein a second optical filter is disposed so as to sandwich an optical amplification medium included in the optical amplifier together with the first optical filter.
前記第2光フィルタの透過スペクトルの半値全幅が前記第1光フィルタの透過スペクトルの半値全幅よりも広い
ことを特徴とする請求項17記載のパルス圧縮方法。 Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters,
The pulse compression method according to claim 17, wherein the full width at half maximum of the transmission spectrum of the second optical filter is wider than the full width at half maximum of the transmission spectrum of the first optical filter.
前記第2光フィルタの中心波長が前記パルス光のピーク波長と前記第1光フィルタの透過スペクトルの中心波長の間に設定されていることを特徴とする請求項17記載のパルス圧縮方法。 Both the first optical filter and the second optical filter are bandpass filters,
The pulse compression method according to claim 17, wherein a center wavelength of the second optical filter is set between a peak wavelength of the pulsed light and a center wavelength of a transmission spectrum of the first optical filter.
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