JP5343133B2 - Undercoating layer that improves topcoat functionality - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 222
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 202
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 153
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 66
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 95
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 52
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 41
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 9
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 31
- 239000012799 electrically-conductive coating Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 53
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 31
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 20
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 17
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 16
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- HJYACKPVJCHPFH-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propan-2-yloxy)alumane Chemical compound C[Al+]C.CC(C)[O-] HJYACKPVJCHPFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical class [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N phosphoryl Chemical class [P]=O LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
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- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
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- C03C2217/00—Coatings on glass
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
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Abstract
Description
本出願は、全て2008年11月19日に出願された、米国特許出願第12/273617号、米国特許出願第12/273623号、及び米国特許出願第12/273641号の優先権を主張し、これらの3つの出願の全ては、それらの全体が参照として本明細書に組み込まれる。 This application claims the priority of U.S. Patent Application No. 12/273617, U.S. Patent Application No. 12/273623, and U.S. Patent Application No. 12/2733641, all filed on November 19, 2008, All of these three applications are hereby incorporated by reference in their entirety.
本発明は、広くは、コーティングされた物品(coated article)に、特に、機能性トップコート及び少なくとも1つのアンダーコーティング層を有する、多層コーティングされた物品に関する。 The present invention relates generally to coated articles, particularly multilayer coated articles having a functional topcoat and at least one undercoating layer.
多層コーティングを有する物品は、様々な用途に用いられる。1つの例は、薄膜(thin film)太陽電池の分野である。典型的な太陽電池は、透明な導電膜(第1電極)を有する基板、例えばガラス板を含む。光電変換材料を有する半導体膜は透明導電膜上に堆積される。電池は、透明導電膜(第2電極)を有する別の基板を含む。電解質が2つの電極の間に封入され得る。半導体膜に吸着された光電変換材料が照射された時、照射によって発生する電子が、半導体膜を通して、透明導電膜の1つの中へ移動する。例えば、電子は第1電極を通り、電気リード線を通り、別の電極へ移動できる。太陽電池では、光電変換効率にとって、電子が、できるだけ速く第1導電膜を通って別の電極へ移動することが重要である。すなわち、透明導電膜の表面抵抗が低ければ、望ましい。電子が速く移動しなければ、電子と光電変換材料との再結合(通常、「反向電流」又は「逆電流」と呼ばれる)が起こり得る。最大量の太陽放射が光電変換材料に進むことを許すように、導電膜が非常に透明であれば、やはり望ましい。したがって、透明導電膜を通る電子の流れを増大させる、太陽電池のためのコーティングされた物品を提供することは望ましいことであり得る。すなわち、低い表面抵抗を有する透明導電膜。 Articles having a multilayer coating are used in a variety of applications. One example is in the field of thin film solar cells. A typical solar cell includes a substrate having a transparent conductive film (first electrode), for example, a glass plate. A semiconductor film having a photoelectric conversion material is deposited on the transparent conductive film. The battery includes another substrate having a transparent conductive film (second electrode). An electrolyte can be encapsulated between the two electrodes. When the photoelectric conversion material adsorbed on the semiconductor film is irradiated, electrons generated by the irradiation move through the semiconductor film into one of the transparent conductive films. For example, electrons can travel through the first electrode, through the electrical lead, and to another electrode. In a solar cell, it is important for photoelectric conversion efficiency that electrons move to another electrode through the first conductive film as quickly as possible. That is, it is desirable if the surface resistance of the transparent conductive film is low. If the electrons do not move fast, recombination between the electrons and the photoelectric conversion material (usually referred to as “reverse current” or “reverse current”) can occur. It is also desirable if the conductive film is very transparent so as to allow the maximum amount of solar radiation to travel to the photoelectric conversion material. Accordingly, it may be desirable to provide a coated article for a solar cell that increases the flow of electrons through the transparent conductive film. That is, a transparent conductive film having a low surface resistance.
コーティングされた物品を利用する分野の別の例は、光触媒物品の分野である。セルフクリーニング性を有するコーティングされた物品を得るために、光触媒コーティング、例えばチタニアを、基板上に付けることが知られている。特定の電磁放射、例えば紫外線に曝すことで、光触媒コーティングは、有機汚染物質とコーティング表面で相互作用して、有機汚染物質を劣化させる、又は分解する。しかし、通常の光触媒物品は、比較的大きな可視光反射率を有し、その結果、いくつかの建築用途における使用には、不適切であり得る。さらに、通常の光触媒コーティングは、下にあるガラス基板から光触媒コーティングへと拡散するナトリウムイオンによって引き起こされる「ナトリウムイオン被毒」と通常呼ばれるものを通じて劣化され得る。さらに、通常の光触媒コーティングは、コーティングされた物品の美的外観を損ねるイリデセンス(iridescence)効果を示す傾向がある。 Another example of a field that utilizes coated articles is the field of photocatalytic articles. In order to obtain coated articles with self-cleaning properties, it is known to apply a photocatalytic coating, such as titania, on the substrate. Upon exposure to certain electromagnetic radiation, such as ultraviolet light, the photocatalytic coating interacts with the organic contaminant at the coating surface to degrade or decompose the organic contaminant. However, conventional photocatalytic articles have a relatively large visible light reflectivity and as a result may be unsuitable for use in some architectural applications. Furthermore, conventional photocatalytic coatings can be degraded through what is commonly referred to as “sodium ion poisoning” caused by sodium ions diffusing from the underlying glass substrate to the photocatalytic coating. In addition, conventional photocatalytic coatings tend to exhibit irrideence effects that detract from the aesthetic appearance of the coated article.
したがって、基板と機能性トップコート(例えば、これらに限らないが、導電性光起電力透明導電性コーティング又は光触媒コーティング)との間に位置し、ナトリウムイオンの拡散のバリアとしての役目を果たすだけでなく、コーティングされた物品の性能もまた向上させる、アンダーコーティング層を有するコーティングされた物品を提供することは望ましいことであろう。例えば、性能は、コーティングされた物品の反射率を減少させること、及び/又は、物品に色の抑制をもたらすこと、及び/又は、トップコートの機能を高めることによって、向上され得る。例えば、光起電力用途では、アンダーコーティング層は、電子の流れを増加させるために、トップコート(例えば、透明導電層)の表面抵抗を低下させ得る。光触媒用途では、アンダーコーティング層は、光触媒コーティングの光触媒活性を増大させ得る。 Therefore, it sits between the substrate and a functional topcoat (eg, but not limited to a conductive photovoltaic transparent conductive coating or photocatalytic coating) and only serves as a barrier for sodium ion diffusion. It would be desirable to provide a coated article having an undercoating layer that also improves the performance of the coated article. For example, performance can be improved by reducing the reflectance of the coated article and / or providing color suppression to the article and / or enhancing the functionality of the topcoat. For example, in photovoltaic applications, the undercoating layer can reduce the surface resistance of the topcoat (eg, transparent conductive layer) to increase electron flow. In photocatalytic applications, the undercoating layer can increase the photocatalytic activity of the photocatalytic coating.
コーティングされた物品は、基板、及び基板の少なくとも一部に上に形成された第1コーティングを含む。第1コーティングは、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含む。機能性コーティングは第1コーティングの少なくとも一部の上に形成される。非限定的な一実施形態において、第1コーティングは、Ti及びSiの酸化物を少なくとも含む。別の非限定的な実施形態において、第1コーティングはTi、Si及びPの酸化物を少なくとも含む。さらに別の非限定的な実施形態において、第1コーティングは、Ti、Si及びAlの酸化物を少なくとも含む。別の実施形態は、これらの材料の2つ以上の何らかの組合せを含み得る。機能性コーティングの例には、これらに限らないが、光活性コーティング(例えば、光触媒コーティング及び/又は光親水性コーティング)、並びに導電性コーティングが含まれる。機能性コーティングは、前記成分の何らかの組合せを有する第1コーティングの上に付けることができる。 The coated article includes a substrate and a first coating formed on at least a portion of the substrate. The first coating includes at least two oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr. A functional coating is formed on at least a portion of the first coating. In one non-limiting embodiment, the first coating includes at least Ti and Si oxides. In another non-limiting embodiment, the first coating comprises at least Ti, Si and P oxides. In yet another non-limiting embodiment, the first coating includes at least oxides of Ti, Si and Al. Another embodiment may include any combination of two or more of these materials. Examples of functional coatings include, but are not limited to, photoactive coatings (eg, photocatalytic coatings and / or photohydrophilic coatings), and conductive coatings. The functional coating can be applied over the first coating having any combination of the components.
別のコーティングされた物品は、ガラス基板、及び基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングを含む。第1コーティングは、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含む。機能性コーティングが第1コーティングの少なくとも一部の上に形成される。機能性コーティングは、チタニア、及びフッ素ドーピング酸化スズから選択される。 Another coated article includes a glass substrate and a first coating formed on at least a portion of the substrate. The first coating includes at least two oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr. A functional coating is formed on at least a portion of the first coating. The functional coating is selected from titania and fluorine doped tin oxide.
コーティングされた物品の製造方法は、ガラス基板を準備するステップ;CVDにより、ガラス基板に第1コーティング組成物を向けることによって、ガラス基板の少なくとも一部の上に第1コーティングを形成するステップであって、第1コーティング組成物が、シリカ前駆体、チタニア前駆体、並びに、P、Al、及びZrの少なくとも1種を有する少なくとも1種の促進剤材料を含むシリカ促進剤(silica accelerant)を含むステップ;及びCVDにより、ガラス基板に第2コーティング組成物を向けることによって、第1コーティングの少なくとも一部の上に機能性コーティングを形成するステップであって、第2コーティング組成物が、フッ素がドーピングされた酸化スズの前駆体組成物又はチタニア前駆体組成物を含むステップを含む。 The method of manufacturing a coated article includes the steps of providing a glass substrate; forming a first coating on at least a portion of the glass substrate by directing the first coating composition to the glass substrate by CVD. The first coating composition includes a silica accelerator comprising a silica precursor, a titania precursor, and at least one accelerator material having at least one of P, Al, and Zr. Forming a functional coating on at least a portion of the first coating by directing the second coating composition to the glass substrate by CVD, wherein the second coating composition is doped with fluorine. Tin oxide precursor composition or titania precursor assembly Comprising the step of including things.
さらなるコーティングされた物品は、基板、及び基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングを含む。第1コーティングは、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含む、酸化物の混合物を含む。導電性コーティングが、第1コーティングの少なくとも一部の上に形成される。導電性コーティングは、Zn、Fe、Mn、Al、Ce、Sn、Sb、Hf、Zr、Ni、Zn、Bi、Ti、Co、Cr、Si若しくはIn、又はこれらの材料の2種以上の合金の1種又は複数の酸化物を含む。 The further coated article includes a substrate and a first coating formed on at least a portion of the substrate. The first coating includes a mixture of oxides including at least two oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr. A conductive coating is formed on at least a portion of the first coating. The conductive coating is made of Zn, Fe, Mn, Al, Ce, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn, Bi, Ti, Co, Cr, Si or In, or an alloy of two or more of these materials. Contains one or more oxides.
導電性コーティングの表面抵抗を低下させる方法は、基板を準備するステップ;基板の少なくとも一部の上に第1コーティングを形成するステップであって、第1コーティングが、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含むステップ;及び第1コーティングの少なくとも一部の上に導電性コーティングを形成するステップを含む。 A method for reducing the surface resistance of a conductive coating includes: providing a substrate; forming a first coating on at least a portion of the substrate, wherein the first coating comprises P, Si, Ti, Al, and Including at least two oxides of Zr; and forming a conductive coating on at least a portion of the first coating.
コーティングされた物品のヘーズを低下させる方法及び/又は可視光透過率を増加させる方法は、基板を準備するステップ;基板の少なくとも一部の上に第1コーティングを形成するステップであって、第1コーティングが、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含むステップ;及び第1コーティングの少なくとも一部の上に機能性コーティングを形成するステップを含む。 A method for reducing haze and / or increasing visible light transmission of a coated article comprises: providing a substrate; forming a first coating on at least a portion of the substrate, the first coating comprising: The coating includes at least two oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr; and forming a functional coating on at least a portion of the first coating.
さらなるコーティングされた物品は、基板、及び基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングを含む。第1コーティングは、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含む、酸化物の混合物を含む。光活性コーティングが、第1コーティングの少なくとも一部の上に形成される。 The further coated article includes a substrate and a first coating formed on at least a portion of the substrate. The first coating includes a mixture of oxides including at least two oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr. A photoactive coating is formed on at least a portion of the first coating.
光活性物品は、ガラス基板、及び基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングを含む。第1コーティングは、シリカ、チタニア及びアルミナの混合物を含む。チタニアを含む光活性機能性コーティングが、第1コーティングの少なくとも一部の上に形成される。 The photoactive article includes a glass substrate and a first coating formed on at least a portion of the substrate. The first coating comprises a mixture of silica, titania and alumina. A photoactive functional coating comprising titania is formed on at least a portion of the first coating.
光活性コーティングの光触媒活性を向上させる方法は、基板を準備するステップ;基板の少なくとも一部の上に第1コーティングを形成するステップであって、第1コーティングが、P、Si、Ti、Al及びZrの少なくとも2種の酸化物を含むステップ;及び第1コーティングの少なくとも一部の上に光活性コーティングを形成するステップを含む。 A method for improving the photocatalytic activity of a photoactive coating comprises: providing a substrate; forming a first coating on at least a portion of the substrate, wherein the first coating comprises P, Si, Ti, Al, and Including at least two oxides of Zr; and forming a photoactive coating on at least a portion of the first coating.
光活性物品の製造方法は、ガラス基板を準備するステップ;CVDにより、ガラス基板に第1コーティング組成物を向けることによって、ガラス基板の少なくとも一部上に第1コーティングを形成するステップであって、第1コーティング組成物が、テトラエチルオルトシリケート、チタンイソプロポキシド、及びジメチルアルミニウムイソプロポキシドを含むステップ;及びCVDにより、ガラス基板に第2コーティング組成物を向けることによって、第1コーティングの少なくとも一部の上に光活性コーティングを形成するステップであって、光活性コーティングがチタニアを含むステップを含む。 The method for producing a photoactive article includes the steps of providing a glass substrate; forming a first coating on at least a portion of the glass substrate by directing the first coating composition to the glass substrate by CVD; At least a portion of the first coating by directing the second coating composition to the glass substrate by CVD, and wherein the first coating composition comprises tetraethylorthosilicate, titanium isopropoxide, and dimethylaluminum isopropoxide; Forming a photoactive coating thereon, wherein the photoactive coating comprises titania.
本発明の完全な理解は、添付図に関連させて考慮された時に、以下の説明から得られるであろう。 A full understanding of the invention will be gained from the following description, when considered in conjunction with the accompanying drawings.
本明細書で用いられる場合、空間又は方向の用語、例えば、「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上」、「下」などは、それが図に示されているように、本発明に関係付けられる。しかし、本発明は、様々な代わりとなる配向を取ることができ、そのため、このような用語は限定と見なされるべきではないことが理解されるべきである。さらに、本文書において用いられる場合、明細書及び特許請求の範囲において用いられる、寸法、物理的特性、加工パラメータ、成分の量、反応条件などを表す全ての数値は、全ての場合において、用語「約」によって修飾されていると理解されるべきである。したがって、特に断らなければ、以下の明細書及び特許請求の範囲に記載される数値は、本発明によって獲得されようとしている望みの特性に応じて変わり得る。少なくとも、また、特許請求の範囲に対する均等論の適用を制限する試みとしてではなく、各数値は、報告された有効数字を考慮に入れて、また通常の丸めの技法を適用することによって、少なくとも解釈されるべきである。さらに、本明細書において開示されている全ての範囲は、それらの範囲の始めと終わりの値、及びそれらの一部である全ての任意の下位範囲(subrange)を包含すると理解されるべきである。例えば、「1から10」と言われる範囲は、最小値の1と最大値の10との間の(また、これらの境界値を含む)全ての任意の下位範囲、すなわち、最小値1又はこれを超える値で始まり、最大値10又はこれ未満で終わる全ての下位範囲、例えば、1から3.3、4.7から7.5、5.5から10などを含むと見なされるべきである。さらに、本明細書で用いられる場合、用語「上に形成される」、「上に堆積(蒸着)される」、又は「上に備えられる」は、表面上に、形成される、堆積(蒸着)される、又は備えられるが、必ずしも表面に直接接触してはいないことを意味する。例えば、基板の「上に形成される」コーティング層は、形成されるコーティング層と基板との間に位置する、同じ又は異なる組成の1つ又は複数の他のコーティング層又は膜の存在を排除しない。本明細書で用いられる場合、用語「ポリマー」又は「ポリマーの」は、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー、及びターポリマー、例えば、2種以上のモノマー又はポリマーから生成されるポリマーを含む。用語「可視領域」又は「可視光」は、380nmから760nmの範囲の波長を有する電磁放射を表す。用語「赤外領域」又は「赤外線」は、760nmを超え100,000nmまでの範囲の波長を有する電磁放射を表す。用語「紫外領域」又は「紫外線」は、300nmから380nm未満までの範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。用語「マイクロ波領域」又は「マイクロ波」は、300メガヘルツから300ギガヘルツの範囲の振動数を有する電磁放射を表す。さらに、本明細書に参照された全ての文書、例えば、これらに限らないが、発行された特許及び特許出願は、それらの全体が「参照として組み込まれる」と見なされるべきである。以下の説明において、屈折率の値は、550ナノメートル(nm)の基準波長でのものである。用語「膜」は、望みの、又は選択された組成を有するコーティングの部分を表す。「層」は、1つ又は複数の「膜」を含む。「コーティング」又は「コーティングスタック(coating stack)」は、1つ又は複数の「層」を含む。 As used herein, space or direction terms, such as “left”, “right”, “inside”, “outside”, “upper”, “lower”, etc., are shown in the figures. As such, it is relevant to the present invention. However, it is to be understood that the present invention can take a variety of alternative orientations, and thus such terms should not be considered limiting. Furthermore, as used in this document, all numerical values used in the specification and claims, such as dimensions, physical properties, processing parameters, component amounts, reaction conditions, etc., are in all cases the term “ It should be understood that it is modified by “about”. Accordingly, unless stated otherwise, the numerical values set forth in the following specification and claims may vary depending on the desired properties sought to be obtained by the present invention. At least, and not as an attempt to limit the applicability of the doctrine of equivalents to the claims, each number is at least interpreted by taking into account the reported significant figures and applying normal rounding techniques. It should be. Moreover, all ranges disclosed herein are to be understood to encompass the beginning and ending values of those ranges and any and all subranges that are part of them. . For example, a range referred to as “1 to 10” is any sub-range between the minimum value of 1 and the maximum value of 10 (and includes these boundary values), ie a minimum value of 1 or All subranges beginning with a value greater than and ending with a maximum value of 10 or less should be considered to include, for example, 1 to 3.3, 4.7 to 7.5, 5.5 to 10, and the like. Further, as used herein, the terms “formed on”, “deposited on (evaporated)”, or “provided on” form a deposited (evaporated) on a surface. ) Or provided, but not necessarily in direct contact with the surface. For example, a coating layer “formed on” a substrate does not exclude the presence of one or more other coating layers or films of the same or different composition located between the formed coating layer and the substrate. . As used herein, the term “polymer” or “polymeric” includes oligomers, homopolymers, copolymers, and terpolymers, eg, polymers produced from two or more monomers or polymers. The term “visible region” or “visible light” refers to electromagnetic radiation having a wavelength in the range of 380 nm to 760 nm. The term “infrared region” or “infrared” refers to electromagnetic radiation having a wavelength in the range of greater than 760 nm to 100,000 nm. The term “ultraviolet region” or “ultraviolet light” means electromagnetic energy having a wavelength in the range of 300 nm to less than 380 nm. The term “microwave region” or “microwave” refers to electromagnetic radiation having a frequency in the range of 300 megahertz to 300 gigahertz. Moreover, all documents referred to herein, such as, but not limited to, issued patents and patent applications, are to be considered “incorporated by reference” in their entirety. In the following description, the refractive index value is at a reference wavelength of 550 nanometers (nm). The term “membrane” refers to the portion of the coating having the desired or selected composition. A “layer” includes one or more “membranes”. A “coating” or “coating stack” includes one or more “layers”.
本発明の特徴を含む、コーティングされた物品10が、図1に例示されている。物品10は、少なくとも1つの主表面を有する基板12を含む。本発明の第1コーティング(アンダーコーティング層)14は、主表面の少なくとも一部の上に形成される。第2コーティング(機能性コーティング)16は、第1コーティング14の少なくとも一部の上に形成される。これから特定の例示的実施形態が説明されるが、これらの実施形態に含まれる、本発明の1つ又は複数の特徴は、他の実施形態の1つ又は複数の実施形態と組み合わせることができること、及び本発明は、下に記載される特定の例示的実施形態に限定されないことが理解されるべきである。
A
本発明の広い実施において、基板12には、望みのどのような特性を有する望みのどのような材料も含まれる。例えば、基板12は、可視光に対して透明、透光性、又は不透明であり得る。「透明」によって、0%を超え100%までの可視光透過率を有することを意味する。代わりに、基板12は、透光性又は不透明であり得る。「透光性」によって、電磁エネルギー(例えば、可視光)を透過させるが、このエネルギーを拡散させるので、見るものの反対側の物体は明瞭に見ることができないことを意味する。「不透明」によって、0%の可視光透過率を有することを意味する。適切な材料の例には、これらに限らないが、プラスチック基板(例えば、アクリルポリマー、例えば、ポリアクリレート;ポリアルキルメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレートなど;ポリウレタン;ポリカーボネート;ポリアルキルテレフタレート、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど;ポリシロキサン含有ポリマー;又はこれらを製造するための任意のモノマーのコポリマー、或いはこれらの混合物);金属基板、例えば、これらに限らないが、亜鉛メッキ鋼(galvanized steel)、ステンレス鋼、及びアルミニウム;セラミック基板;タイル基板;ガラス基板;或いは上の任意の混合体又は組合せが含まれる。例えば、基板には、通常のソーダ石灰ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、又は鉛ガラスが含まれ得る。ガラスは透明ガラスであり得る。「透明ガラス」によって、薄く着色していない又は着色していないガラスを意味する。代わりに、ガラスは薄く着色された、又は違ったふうに着色されたガラスであり得る。ガラスは、アニーリングされた、又は熱処理されたガラスであり得る。本明細書で用いられる場合、用語「熱処理された」は、強化された(tempered)、又は少なくとも部分的に強化されたことを意味する。ガラスは、どのようなタイプのものでもよく、例えば、通常のフロートガラスであってよく、任意の光学的性質を、例えば、可視透過率、紫外透過率、赤外透過率、及び/又は全太陽エネルギー透過率の任意の値を有するどのような組成のものであってもよい。「フロートガラス」によって、溶融ガラスが、溶融金属浴上に乗せられ、制御して冷却されてフロートガラスリボンを生成する通常のフロート法によって形成されたガラスを意味する。本発明に対する限定ではないが、基板に適するガラスの例は、米国特許第4746347号、米国特許第4792536号、米国特許第5030593号、米国特許第5030594号、米国特許第5240886号、米国特許第5385872号、及び米国特許第5393593号に記載されている。本発明の実施に使用され得るガラスの非限定的例には、Solargreen(登録商標)、Solextra(登録商標)、GL−20(登録商標)、GL−35(商標)、Solarbronze(登録商標)、Starphire(登録商標)、Solarphire(登録商標)、Solarphire PV(登録商標)及びSolargray(登録商標)ガラスが含まれ、全て、PPG Industries Inc.(ピッツバーグ、ペンシルベニア州)から市販されている。ガラスは、滑らかな表面を有していても、又は、代わりに、粗い、若しくはテクスチャのある表面を有していてもよい。非限定的実施形態において、ガラス表面は、100nmから5mmの範囲の表面粗さ(RMS)を有し得る。
In a broad implementation of the invention, the
基板12は、望みのどのような寸法(例えば、長さ、幅、形状、又は厚さ)のものであってもよい。例えば、基板12は、平面状、曲面状であってよく、又は、平面上及び曲面状の両方の部分を有していてもよい。非限定的な一実施形態において、基板12は、1mmから10mm(例えば、1mmから5mm、例えば2mmから4mm、例えば3mmから4mm)の範囲の厚さを有し得る。
The
非限定的な一実施形態において、基板12は、550ナノメートル(nm)の基準波長で、大きな可視光透過率を有し得る。「大きな可視光透過率」によって、85%以上(例えば、87%以上、例えば90%以上、例えば91%以上、例えば92%以上)の、550nmでの可視光透過率を意味する。
In one non-limiting embodiment, the
第1コーティング(アンダーコーティング層)14は、下でより詳細に説明されるように、コーティングされた物品10に、様々な性能上の利点をもたらす。本発明の非限定的一実施形態において、第1コーティング14は、均一なコーティングであり得る。「均一なコーティング」によって、材料がコーティングの全体に渡って、偏りなく分布しているコーティングを意味する。代わりに、第1コーティング14は、複数のコーティング層又は膜(例えば、2つ以上の別個のコーティング膜)を含み得る。さらに代わりに、第1コーティング14は、勾配層(gradient layer)であり得る。「勾配層」によって、基板からの距離が変わるにつれて、成分の濃度が連続的に(又は段階的に)変わる2つ以上の成分を含む層を意味する。
The first coating (undercoating layer) 14 provides various performance advantages to the
非限定的一実施形態において、第1コーティング14は、ケイ素、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、及び/又はリンの酸化物から選択される2種以上の酸化物の混合物を含む。酸化物は、望みのどのような比率でもあり得る。非限定的一実施形態において、第1コーティング14は、シリカ及びチタニアの混合物を含み、シリカは、0.1重量パーセント(wt%)から99.9wt%の範囲で存在し、チタニアは、99.9wt%から0.1wt%の範囲で存在する。第1コーティング14は、均一なコーティングであり得る。代わりに、第1コーティング14は、シリカ及びチタニアの相対的比率がコーティングの中を通して変わる勾配コーティングであってもよい。例えば、第1コーティング14は、基板表面に隣接する部分において主にシリカで、第1コーティング14の外側部分で主にチタニアであってもよい。
In one non-limiting embodiment, the
上で説明されたように、第1コーティング14は、ケイ素、チタン、アルミニウム、ジルコニウム及び/又はリンから選択される元素を有する少なくとも2種の酸化物の混合物を含み得る。このような混合物には、これらに限定されないが、チタニア及び酸化リン;シリカ及びアルミナ;チタニア及びアルミナ;シリカ及び酸化リン;チタニア及び酸化リン;シリカ及びジルコニア;チタニア及びジルコニア;アルミナ及びジルコニア;アルミナ及び酸化リン;ジルコニア及び酸化リン;又は上の材料の任意の組合せが含まれる。酸化物の相対的比率は、望みのどのような量でも(例えば、0.1wt%から99.9wt%の1つの材料、及び99.9wt%から0.1wt%の他の材料)あり得る。
As explained above, the
さらに、第1コーティング14は、少なくとも3種の酸化物の混合物を、例えば、これらに限らないが、ケイ素、チタン、アルミニウム、ジルコニウム及び/又はリンから選択される元素を有する3種以上の酸化物を含み得る。例には、これらに限らないが、シリカ、チタニア及び酸化リン;シリカ、チタニア及びアルミナ;並びに、シリカ、チタニア及びジルコニアを含む混合物が含まれる。非限定的一実施形態において、第1コーティング14は、シリカ及びチタニアを、アルミナ、ジルコニア、及び酸化リンから選択される少なくとも1種の他の酸化物と共に含む。酸化物の相対的比率は、望みのどのような量でも(例えば、0.1wt%から99.9wt%の1つの材料、99.9wt%から0.1wt%の第2の材料、及び0.1wt%からの99.9wt%第3の材料)あり得る。
Furthermore, the
本発明の特定の第1コーティング14は、シリカ、チタニア及び酸化リンの混合物を含む。シリカは、30体積パーセント(vol%)から80vol%の範囲で存在し得る。チタニアは、5vol%から69vol%の範囲で存在し得る。酸化リンは、1vol%から15vol%の範囲で存在し得る。
The particular
第1コーティング14は、望みのどのような厚さも(これらに限らないが、例えば10nmから120nm、例えば30nmから80nm、例えば40nmから80nm、例えば30nmから70nm)有し得る。
The
第2コーティング(トップコート)16は機能性コーティングを含む。本発明に有用な機能性コーティングの例には、これらに限らないが、導電性コーティング、日射制御(solar control)コーティング、低放射率コーティング、及び光活性コーティングが含まれる。 The second coating (topcoat) 16 includes a functional coating. Examples of functional coatings useful in the present invention include, but are not limited to, conductive coatings, solar control coatings, low emissivity coatings, and photoactive coatings.
非限定的一実施形態において、第2コーティング16は、少なくとも1つの導電性酸化物層、例えば、ドーピングされた酸化物層を含む。例えば、第2コーティング16は、1種又は複数の酸化物材料を、例えば、これらに限らないが、Zn、Fe、Mn、Al、Ce、Sn、Sb、Hf、Zr、Ni、Zn、Bi、Ti、Co、Cr、Si若しくはIn、又はこれらの材料の2種以上の合金の1種又は複数の1種又は複数の酸化物を含み得る。第2コーティング16は、また、1種又は複数のドーパント材料を、例えば、これらに限らないが、F、In、Al、及び/又はSbを含み得る。非限定的一実施形態において、第2コーティング16は、フッ素がドーピングされた酸化スズであり、フッ素は、前駆体材料の全重量に対して20wt%未満(例えば15重量%未満、例えば13wt%未満、例えば10wt%未満、例えば5wt%未満)の量でコーティング前駆体材料に存在する。第2コーティング16は、アモルファス、結晶性、又は少なくとも部分的に結晶性であり得る。
In one non-limiting embodiment, the
非限定的一実施形態において、第2コーティング16は、200nmを超える(例えば、250nmを超える、例えば350nmを超える、例えば380nmを超える、例えば400nmを超える、例えば420nmを超える)厚さを有する、フッ素がドーピングされた酸化スズを含む。非限定的一実施形態において、厚さは、350nmから420nmの範囲にある。
In one non-limiting embodiment, the
本発明のアンダーコーティング層14は、15オーム/スクエア(Ω/□)未満(例えば、14Ω/□未満、例えば13.5Ω/□未満、例えば13Ω/□未満、例えば12Ω/□未満、例えば11Ω/□未満、例えば10Ω/□未満)の表面抵抗を有するトップコート16(例えば、フッ素がドーピングされた酸化スズ)をもたらす。
The
別の非限定的実施形態において、第2コーティング16は、光活性コーティングであり得る。用語「光活性」又は「光活性による」は、特定の振動数の放射、例えば紫外(「UV」)光によって照射された時のホール−電子対の光誘起生成(photogeneration)を表す。光活性コーティングは、光触媒、光活性による親水性、又はこれらの両方であり得る。「光触媒」によって、セルフクリーニング性を有するコーティング、すなわち、特定の電磁放射、例えばUVへの曝露で、コーティング表面上の有機汚染物質と相互作用して、有機汚染物質を劣化させる、又は分解するコーティングを意味する。「光活性により親水性」によって、コーティング上の水滴の接触角が、材料の光吸収帯の電磁放射にコーティングを曝す結果として、経時的に減少するコーティングを意味する。例えば、コーティング表面で24W/m2の強度を有する、材料の光吸収帯における放射に60分間曝した後、接触角は、15°未満(例えば、10°未満)の値に低下し、超親水性になり得る、例えば5°未満に低下し得る。光活性であっても、コーティングは、必ずしも、それがセルフクリーニングである程に光触媒性ではなくてよい、すなわち、妥当な又は経済的に有効な期間、コーティング表面上の汚れのような有機材料を分解するのに十分なだけの光触媒性でなくてもよい。例えば、光触媒活性は、4×10−3/センチメートル・分(cm−1min−1)未満(例えば3×10−3cm−1min−1未満、例えば2×10−3cm−1min−1未満、例えば1×10−3cm−1min−1未満)であり得る。
In another non-limiting embodiment, the
光活性コーティングは、少なくとも1種の光活性コーティング材料と、任意選択で、ドーパント材料のないコーティングの光活性に比べて、コーティングの光活性に変化をもたらすように設計された少なくとも1種の添加剤又はドーパントとを含み得る。光活性コーティング材料は、少なくとも1種の酸化物、例えば、これらに限定されないが、1種又は複数の酸化物若しくは酸化物半導体(例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化銀、酸化コバルト、酸化クロム、酸化銅、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化(亜鉛/スズ)、チタン酸ストロンチウム、及びこれらの混合物)を含む。酸化物には、元素の酸化物、超酸化物又は亜酸化物が含まれる。酸化物は、結晶性、又は少なくとも部分的に結晶性であり得る。本発明の例示的な1つのコーティングにおいて、光活性コーティング材料は、二酸化チタン(チタニア)である。二酸化チタンは、アモルファス状態、並びに3つの結晶型、すなわち、アナターゼ、ルチル及びブルッカイト結晶型で存在する。アナターゼ相の二酸化チタンは、それが強い光活性を示し、同時にまた、化学的攻撃に対する優れた耐性及び優れた物理的耐久性を有するので、特に有用である。しかし、ルチル相、或いはアナターゼ及び/又はルチル相と、ブルッカイト及び/又はアモルファス相との組合せもまた、本発明では許容される。 The photoactive coating comprises at least one photoactive coating material and optionally at least one additive designed to effect a change in the photoactivity of the coating relative to the photoactivity of the coating without the dopant material. Or a dopant. The photoactive coating material includes at least one oxide, such as, but not limited to, one or more oxides or oxide semiconductors (eg, titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, iron oxide, silver oxide, Cobalt oxide, chromium oxide, copper oxide, tungsten oxide, zinc oxide, oxide (zinc / tin), strontium titanate, and mixtures thereof). Oxides include elemental oxides, superoxides or suboxides. The oxide can be crystalline or at least partially crystalline. In one exemplary coating of the present invention, the photoactive coating material is titanium dioxide (titania). Titanium dioxide exists in an amorphous state and in three crystal forms: anatase, rutile and brookite crystal forms. Anatase phase titanium dioxide is particularly useful because it exhibits strong photoactivity and at the same time has excellent resistance to chemical attack and excellent physical durability. However, a combination of a rutile phase or anatase and / or rutile phase with a brookite and / or amorphous phase is also acceptable in the present invention.
本発明で有用な、光活性コーティングのためのドーパントの例には、これらに限らないが、クロム(Cr)、バナジウム(V)、マンガン(Mn)、銅(Cu)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ニオブ(Nb)、モリブデン(Mo)ルテニウム(Ru)、タングステン(W)、銀(Ag)、鉛(Pb)、ニッケル(Ni)、レニウム(Re)、スズ(Sn)、並びに/或いは、元素状態又はイオン状態のいずれかにおける、これらの任意の混合物若しくは組合せの1種又は複数が含まれる。 Examples of dopants useful for the present invention for photoactive coatings include, but are not limited to, chromium (Cr), vanadium (V), manganese (Mn), copper (Cu), iron (Fe), magnesium (Mg), scandium (Sc), yttrium (Y), niobium (Nb), molybdenum (Mo) ruthenium (Ru), tungsten (W), silver (Ag), lead (Pb), nickel (Ni), rhenium ( Re), tin (Sn), and / or one or more of any mixture or combination thereof, either in elemental or ionic state.
非限定的一実施形態において、第2コーティング16は、10nmを超える(例えば20nmを超える、例えば30nmを超える、例えば40nmを超える、例えば50nmを超える、例えば60nmを超える、例えば70nmを超える、例えば80nmを超える、例えば90nmを超える、例えば100nmを超える、例えば10nmから150nmの範囲にある)厚さを有するチタニアを含む。
In one non-limiting embodiment, the
非限定的一実施形態において、本発明の第1コーティング14は、23%未満(例えば、20%未満、例えば19%未満、例えば18%未満、例えば17%未満、例えば16%未満、例えば15%未満、例えば14%未満、例えば12%未満、例えば11%未満、例えば10%未満)の、可視領域における反射率を有するチタニア第2コーティング16を有する物品10をもたらすことができる。
In one non-limiting embodiment, the
第1コーティング14及び/又は第2コーティング16は、基板12の少なくとも一部の上に、通常の何らかの方法、例えば、これらに限らないが、スプレー熱分解、化学気相堆積(CVD)、又はマグネトロンスパッタリングによる真空蒸着(MSVD)によって形成できる。スプレー熱分解法では、1種又は複数の酸化物前駆体材料(例えば、チタニア及び/又はシリカ及び/又はアルミナ及び/又は酸化リン及び/又はジルコニアの前駆体材料)を含む有機又は金属含有前駆体組成物が、懸濁液に、例えば、水性若しくは非水溶液に、保持され、基板の表面に向けられ、その間、基板は、前駆体組成物に分解を引き起こし、また基板上にコーティングを形成するのに十分なだけ高い温度にある。組成物は1種又は複数のドーパント材料を含み得る。CVD法では、前駆体組成物は、キャリアガスに、例えば窒素ガスに保持され、加熱された基板に向けられる。MSVD法では、1つ又は複数の金属含有カソードターゲットが、不活性雰囲気又は酸素含有雰囲気において減圧下にスパッタリングされて、基板の上にスパッターコーティングを蒸着させる。基板は、スパッタリングによるコーティングの結晶化を引き起こしてコーティングを形成するように、コーティングの間又は後で加熱され得る。
The
本発明の非限定的な一実施において、1つ又は複数のCVDコーティング装置が、通常のフロートガラスリボン製造工程における、1つ又は複数の位置で使用され得る。例えば、CVDコーティング装置は、フロートガラスリボンがスズ浴を移動している時に、それがスズ浴を出た後で、それがアニーリングレアに入る前に、それがアニーリングレアを移動している時に、又はそれがアニーリングレアを出た後に、用いられ得る。CVD法は、移動しているフロートガラスリボンをコーティングでき、その上、フロートガラスリボン製造に伴う過酷な環境に耐えることができるので、CVD法は、溶融スズ浴においてフロートガラスリボンにコーティングを堆積させるのに特によく適している。米国特許第4853257号、米国特許第4971843号、米国特許第5536718号、米国特許第5464657号、米国特許第5714199号、及び米国特許第5599387号は、溶融スズ浴においてフロートガラスリボンをコーティングするように、本発明の実施に用いることができる、CVDコーティング装置及び方法を記載する。 In one non-limiting implementation of the present invention, one or more CVD coating equipment can be used at one or more locations in a typical float glass ribbon manufacturing process. For example, a CVD coating device can be used when a float glass ribbon is moving an annealing rare after it leaves the tin bath and before it enters the annealing rare when it is moving the tin bath. Or it can be used after leaving the annealing rare. Since CVD methods can coat moving float glass ribbons and can withstand the harsh environments associated with producing float glass ribbons, CVD methods deposit coatings on float glass ribbons in molten tin baths. Especially well suited for. US Pat. No. 4,853,257, US Pat. No. 4,971,843, US Pat. No. 5,536,718, US Pat. No. 5,464,657, US Pat. No. 5,714,199, and US Pat. No. 5,599,387 are designed to coat float glass ribbons in a molten tin bath. Describes a CVD coating apparatus and method that can be used to practice the present invention.
非限定的一実施形態において、1つ又は複数のCVDコーティング装置が、スズ浴において、溶融スズプールの上に配置され得る。フロートガラスリボンがスズ浴を移動する時、気化した前駆体組成物が、キャリアガスに添加され、リボンの上部表面上に向けられ得る。前駆体組成物は、分解して、リボン上にコーティング(例えば、第1コーティング14及び/又は第2コーティング16)を形成する。非限定的一実施形態において、コーティング組成物は、リボンの温度が1300°F(704℃)未満(例えば1250°F(677℃)未満、例えば1200°F(649℃)未満、例えば1190°F(643℃)未満、例えば1150°F(621℃)未満、例えば1130°F(610℃)未満、例えば1190°Fから1200°F(643℃から649℃)の範囲)である位置で、リボンに堆積される。これは、堆積温度が低いほど、得られる表面抵抗は低くなり得るので、表面抵抗の低い第2コーティング16(例えば、フッ素がドーピングされた酸化スズ)を堆積させるのに、特に有用である。
In one non-limiting embodiment, one or more CVD coating devices can be placed over the molten tin pool in a tin bath. As the float glass ribbon moves through the tin bath, the vaporized precursor composition can be added to the carrier gas and directed onto the upper surface of the ribbon. The precursor composition decomposes to form a coating (eg,
例えば、シリカ及びチタニアを含む第1コーティング14を形成するために、組成物は、シリカ前駆体及びチタニア前駆体の両方を含む。シリカ前駆体の非限定的な一例は、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)である。
For example, to form a
チタニア前駆体の例には、これらに限らないが、チタンの酸化物、亜酸化物、又は超酸化物が含まれる。一実施形態において、チタニア前駆体材料には、1種又は複数のチタンアルコキシド、例えば、これらに限らないが、チタンのメトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシドなど;又はこれらの異性体、例えば、チタンのイソプロポキシド、テトラエトキシドなどが含まれる。本発明の実施に適する例示的前駆体材料には、これに限らないが、テトライソプロピルチタネート(TPT)が含まれる。代わりに、チタニア前駆体材料は、四塩化チタンであってもよい。アルミナ前駆体の例には、これらに限らないが、ジメチルアルミニウムイソプロポキシド(DMAP)及びアルミニウムトリ−sec−ブトキシド(ATSB)が含まれる。非限定的一実施形態において、ジメチルアルミニウムイソプロポキシドは、室温の不活性雰囲気内で、トリメチルアルミニウム及びアルミニウムイソプロポキシドを、2:1のモル比で混合することによって製造できる。酸化リン前駆体の例には、これに限らないが、亜リン酸トリエチルが含まれる。ジルコニア前駆体の例には、これに限らないが、ジルコニウムアルコキシドが含まれる。 Examples of titania precursors include, but are not limited to, titanium oxides, suboxides, or superoxides. In one embodiment, the titania precursor material includes one or more titanium alkoxides, such as, but not limited to, titanium methoxide, ethoxide, propoxide, butoxide, etc .; or isomers thereof, such as titanium Isopropoxide, tetraethoxide and the like are included. Exemplary precursor materials suitable for the practice of the present invention include, but are not limited to, tetraisopropyl titanate (TPT). Alternatively, the titania precursor material may be titanium tetrachloride. Examples of alumina precursors include, but are not limited to, dimethylaluminum isopropoxide (DMAP) and aluminum tri-sec-butoxide (ATSB). In one non-limiting embodiment, dimethylaluminum isopropoxide can be prepared by mixing trimethylaluminum and aluminum isopropoxide in a 2: 1 molar ratio in an inert atmosphere at room temperature. Examples of phosphorus oxide precursors include, but are not limited to, triethyl phosphite. Examples of zirconia precursors include, but are not limited to, zirconium alkoxides.
シリカ及びチタニアの組合せを有する第1コーティング14は、これまでの酸化物の組合せを超える利点をもたらす。例えば、シリカ(550nmで、1.5の屈折率)のような低屈折率材料と、チタニア(550nmで、2.4の屈折率)のような高屈折率材料との組合せにより、シリカとチタニアの量を変えることによって、第1コーティング14の屈折率は、これら2つの極値の間で変えられる。これは、着色又はイリデセンス抑制特性を有する第1コーティング14を得るのに特に有用である。
The
しかし、チタニアの堆積速度は、通常、シリカのそれよりずっと速い。通常の体積条件下では、これは、シリカの量を約50wt%以下に制限し、転じて、これは、得られるシリカ/チタニアコーティングの屈折率の低い方の範囲に限界を設ける。このため、シリカの堆積速度を増すために、ドーパント材料が、シリカ及びチタニア組成物に添加され得る。ドーパントは、得られる酸化物混合物の一部をなすので、得られるコーティングに、性能特性の向上をもたらすように選択され得る。本発明の実施に有用なドーパントの例は、これらに限らないが、リン、アルミニウム及びジルコニウムの1種又は複数を含む材料を、得られるコーティングにこれらの材料の酸化物を生成するように、含む。酸化リン前駆体材料の例には、亜リン酸トリエチルが含まれる。アルミナ前駆体材料の例には、アルミニウムトリsecブトキシド(ATSB)及びジメチルアルミニウムイソプロポキシド(DMAP)が含まれる。ジルコニア前駆体の例には、ジルコニウムアルコキシドが含まれる。 However, the deposition rate of titania is usually much faster than that of silica. Under normal volume conditions, this limits the amount of silica to about 50 wt% or less, and in turn this limits the lower range of refractive index of the resulting silica / titania coating. Thus, a dopant material can be added to the silica and titania composition to increase the deposition rate of silica. Since the dopant forms part of the resulting oxide mixture, it can be selected to provide improved performance characteristics to the resulting coating. Examples of dopants useful in the practice of the present invention include, but are not limited to, materials comprising one or more of phosphorus, aluminum, and zirconium, so as to produce oxides of these materials in the resulting coating. . An example of a phosphorus oxide precursor material includes triethyl phosphite. Examples of alumina precursor materials include aluminum trisec butoxide (ATSB) and dimethylaluminum isopropoxide (DMAP). Examples of the zirconia precursor include zirconium alkoxide.
(例1)
この例は、チタニアトップコートのための、着色抑制層としての、本発明のアンダーコーティング層の使用を例示する。アンダーコーティング層は、シリカ、チタニア及び酸化リンの組合せであった。
(Example 1)
This example illustrates the use of the undercoating layer of the present invention as a color suppression layer for a titania topcoat. The undercoating layer was a combination of silica, titania and phosphorus oxide.
アンダーコーティング層は、実験用コーティング装置を用い、化学気相堆積法によって、ガラス基板上に堆積させた。次いで、チタニアコーティングを、アンダーコーティング上に堆積させた。表1は、試料1〜4のコーティングの構成(組成及び厚さ)を示す。アンダーコーティングは、3つのアンダーコーティング膜を、すなわち、ガラス基板の上に第1アンダーコーティング膜、第1アンダーコーティング膜の上に第2アンダーコーティング膜、及び第2アンダーコーティング膜の上に第3アンダーコーティング膜を有する多膜層として堆積させた。多層の構成は、段階的アンダーコーティング層をシミュレートする。
表2は、試料1〜4及び比較試料(アンダーコーティング層なしに、チタニアがコーティングされたガラスシート)についての、反射された色の性能データを示す。色のデータは、D65、10 0 Observerで、基板のコーティングされた側について、通常のTFCalc(登録商標)ソフトウェアを用い、モデル化した。
この例では、アンダーコーティング層の存在により、アンダーコーティング層のない物品に比べて、一般に、a*は、より小さく(よりマイナスに)なり、b*は、より大きく(よりプラスに)なる。 In this example, the presence of the undercoating layer generally results in a * being smaller (more negative) and b * being larger (more positive) compared to an article without the undercoating layer.
(例2)
この例は、チタニアトップコートの光活性を向上させる、本発明のアンダーコーティング層の使用を例示する。アンダーコーティング層は、シリカ、チタニア及び酸化リンを含んでいた。
(Example 2)
This example illustrates the use of the undercoating layer of the present invention to improve the photoactivity of the titania topcoat. The undercoating layer contained silica, titania and phosphorus oxide.
アンダーコーティング層及びトップコート(チタニア)のどちらも、化学気相堆積法によって形成した。酸化リンの前駆体は、亜リン酸トリエチル(TPE)であった。シリカの前駆体は、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)であった。チタニアの前駆体は、アンダーコーティング層及びトップコートのどちらにおいても、テトライソプロピルチタネート(TPT)であった。表3は、試料5〜9についての堆積パラメータを示す。
表4は、試料5〜9の層の厚さを示す。
表5は、試料5〜9についての通常のステアリン酸試験の結果を示す。ステアリン酸試験は、米国特許第6027766号(参照として本明細書に組み込まれる)に記載されている。分かるように、本発明のアンダーコーティング層を有する物品は、アンダーコーティング層のない物品(試料9)より高い光触媒活性を有していた。
(例3)
この例は、フッ素がドーピングされた酸化スズトップコートの表面抵抗を減らすための、本発明のアンダーコーティング層の使用を例示する。
(Example 3)
This example illustrates the use of the undercoating layer of the present invention to reduce the surface resistance of a fluorine doped tin oxide topcoat.
アンダーコーティング層は、CVDによって堆積されたシリカ、チタニア、酸化リンのアンダーコートであった。用いた前駆体は、TEOS(シリカ)、TPT(チタニア)、及びTEP(酸化リン)であった。フッ素がドーピングされた酸化スズの様々な厚さのトップコートを、アンダーコーティング層上に、またコーティングされていないガラス上(比較試料として)にも堆積させた。両方のコーティングを、Electronic Design To Market, Inc.から市販されているR−Chek+4点メーターによって測定して、表面抵抗によって比較した。[Sn]の量はX線蛍光によって求めたが、[Sn]の量はフッ素がドーピングされた酸化スズコーティングの厚さに対応する。図2は、本発明のアンダーコーティング層上のフッ素ドーピング酸化スズコーティングの表面抵抗が、ガラス上の同じ厚さのフッ素ドーピング酸化スズコーティングより、平均して1から3オーム/スクエア低かったことを示す。図2において、白四角及び破線が、ガラス上のフッ素ドーピング酸化スズに対するものである。黒丸及び実線は、本発明のアンダーコーティング層上のフッ素ドーピング酸化スズコーティングに対するものである。アンダーコーティング層(組成及び厚さ)は、各試料で同じであった。
The undercoating layer was a silica, titania, phosphorous oxide undercoat deposited by CVD. The precursors used were TEOS (silica), TPT (titania), and TEP (phosphorus oxide). Fluorine-doped tin oxide topcoats of varying thickness were deposited on the undercoating layer and also on uncoated glass (as a comparative sample). Both coatings were obtained from Electronic Design To Market, Inc. Measured by a commercially available R-
(例4)
1枚の透明ガラス(12インチ×24インチ;30cm×61cm)を、前記前駆体でCVD法を用いて、コーティングした。ガラスの半分は、フッ素ドーピング酸化スズコーティングで、ガラス上に直接コーティングし、ガラスの他の半分は、シリカ、チタニア、リンのアンダーコーティング層と、フッ素ドーピング酸化スズトップコートとでコーティングした。試料を、ガラスシートのそれぞれの部分から切り取り、下に記載の通り分析した。
(Example 4)
A piece of transparent glass (12 inches × 24 inches; 30 cm × 61 cm) was coated with the precursor using a CVD method. Half of the glass was coated directly on the glass with a fluorine-doped tin oxide coating, and the other half of the glass was coated with a silica, titania, phosphorous undercoating layer and a fluorine-doped tin oxide topcoat. Samples were cut from each part of the glass sheet and analyzed as described below.
(1)X線蛍光(XRF)データ
表6のXRFデータは、両方のコーティングでの似た量の[Sn]を示す(FTO/ULコーティングスタックの場合に僅かに大きい)。
(2)ヘーズ及び透過率
試料はまた、ヘーズ及び透過率について試験した。結果は表7に示す。透過率スペクトルを図4に示す。ガラス上に直接のフッ素ドーピング酸化スズ(FTO)コーティングに比べて、フッ素ドーピング酸化スズ(FTO)/アンダーコーティング層(UL)コーティングスタックで、ヘーズはより大きく、透過率もまた大きかった。したがって、本発明のアンダーコーティング層は、また、コーティングされた物品のヘーズ及び透過率を増すための方法を提供する。これは、ヘーズの増加により電磁エネルギーの吸収行程が増加し、このことが、転じて、電磁エネルギーが吸収される機会の増加をもたらす、太陽電池の分野において有用であり得る。
(3)表面抵抗
表面抵抗のデータを表8に示す。FTO/ULコーティングは、ガラス上FTOコーティングのそれより1.5ohm/sq低い表面抵抗を有していた。
(4)コーティングの厚さ
FTOコーティングの厚さは、エッチング法によって求めると、UL上のFTO(FTOトップコーティング 334nm)に対して、ガラス上FTOコーティング(356nm)の場合に、僅かに大きかった。
(4) Coating thickness The thickness of the FTO coating, as determined by the etching method, was slightly greater for the FTO on glass (356 nm) versus the FTO on the UL (FTO top coating 334 nm).
(5)コーティングの多孔性
コーティングを、走査電子顕微鏡(SEM)を用い、観察した。非常に多数の小孔が、ガラス上に直接のFTOコーティングに見られた。FTO/ULコーティングスタックでは、孔は全く認められなかった。
(5) Porousness of coating The coating was observed using a scanning electron microscope (SEM). A large number of small holes were found in the FTO coating directly on the glass. In the FTO / UL coating stack, no holes were observed.
(6)表面粗さ
表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM)を用い、10マイクロメートル(μm)×10μm;5μm×5μm;及び1μm×1μm;の領域について分析した。結果を表9に示す。表面粗さは、FTO/ULコーティングスタックの場合に、ガラス上に直接のFTOの場合より大きかった。表面粗さの増加により、コーティングのヘーズが増し、その結果、衝突するどの電磁エネルギーの吸収行程も増加する。
(例5)
この例は、コーティングされた物品の反射率への、本発明のアンダーコーティング層の効果を例示する。
(Example 5)
This example illustrates the effect of the undercoating layer of the present invention on the reflectance of the coated article.
図4は、ガラス上の10nmから120nmのTiO2コーティング(白菱形、破線)、及びガラス上の本発明のアンダーコーティング層上の同じTiO2層に対する、反射率の変化を示す。アンダーコーティング層は、13nmの75%SiO2−20%TiO2−5%P2O5/23nmの49%SiO2−49%TiO2−2%P2O5/21nmの75%SiO2−20%TiO2−5%P2O5であった(黒丸、実線)。TiO2の厚さの変化は、5nmの間隔で、10nmから120nmである。 FIG. 4 shows the change in reflectivity for a 10 nm to 120 nm TiO 2 coating on glass (white rhombus, dashed line) and the same TiO 2 layer on the undercoating layer of the present invention on glass. Undercoating layer is 75% 13nm SiO 2 -20% TiO 2 -5 % P 2 O 5/49% SiO 2 -49% of 23nm TiO 2 -2% P 2 O 5 / 21nm of 75% SiO 2 - It was 20% TiO 2 -5% P 2 O 5 (black circle, solid line). The thickness change of TiO 2 is from 10 nm to 120 nm with an interval of 5 nm.
図4は、ガラス上のTiO2機能性コーティングの厚さが増加する時、反射率は大きく振れることを示す(すなわち、11.7%<R<38.8%のどこか)。しかし、TiO2機能性コーティングが、アンダーコーティング層上に堆積される場合、反射率の変化はずっと小さい(すなわち、17.2%から27.4%の範囲)。これは、下層コーティングを有するコーティングスタック全体の反射率は、トップコーティングの厚さの変化に対して、下層コーティングのないものほど敏感ではないことを示す。 FIG. 4 shows that the reflectivity fluctuates as the thickness of the TiO 2 functional coating on the glass increases (ie, somewhere 11.7% <R <38.8%). However, when a TiO 2 functional coating is deposited on the undercoating layer, the change in reflectivity is much smaller (ie, in the range of 17.2% to 27.4%). This indicates that the reflectivity of the entire coating stack with the underlying coating is not as sensitive to changes in the thickness of the top coating as it is without the underlying coating.
ある範囲では、反射率は、本発明のアンダーコーティング層により、かなり低下し得る。表10は、55nmと165nmのチタニアレベルでの反射率における相違を示す。
(例6)
この例は、物品の色(例えば、a*及びb*)への本発明のアンダーコーティング層の効果を例示する。
(Example 6)
This example illustrates the effect of the undercoating layer of the present invention on the color of the article (eg, a * and b * ).
図5は、透明ガラス上の10nmから120nmのTiO2(白菱形、破線)、及び透明ガラス上のアンダーコーティング層(13nmの75%SiO2−20%TiO2−5%P2O5/23nmの49%SiO2−49%TiO2−2%P2O5/21nmの75%SiO2−20%TiO2−5%P2O5)上の同じコーティング(黒丸、実線)に対する、a*及びb*の変化を示す。TiO2の厚さの変化は、5nm間隔で10nmから120nmである。 5, TiO 2 (open diamonds, dashed) of 120nm from 10nm on transparent glass, and a transparent glass on the under coating layer (13 nm of 75% SiO 2 -20% TiO 2 -5% P 2 O 5 / 23nm for the 49% SiO 2 -49% TiO 2 -2% P 2 O 5 / 21nm of 75% SiO 2 -20% TiO 2 -5% P 2 O 5) the same coating on (closed circles, solid line), a * And b * change. The thickness change of TiO 2 is 10 nm to 120 nm at 5 nm intervals.
図5は、TiO2機能性コーティングの厚さが増加する時、下層のないTiO2コーティングの色(a*及びb*)は、大きく振れることを示す(−24<a*<+37、及び−42<b*<+34のどこか)。しかし、TiO2機能性コーティングが前記の通りアンダーコーティング層上に堆積された時には、a*及びb*は、より少なく変化するにすぎない(−8<a*<+12、及び−10<b*<+7)。これは、本発明の下層コーティング層を有するコーティングスタック全体の色は、トップコーティングの厚さの変化に対して、下層コーティングのないものほど敏感でないことを意味する。 FIG. 5 shows that when the thickness of the TiO 2 functional coating increases, the color of the TiO 2 coating without an underlayer (a * and b * ) swings greatly (−24 <a * <+ 37, and − 42 <b * <+ 34 somewhere). However, when the TiO 2 functional coating is deposited on the undercoating layer as described above, a * and b * change only slightly (−8 <a * <+ 12 and −10 <b *). <+7). This means that the color of the entire coating stack with the underlying coating layer of the present invention is not as sensitive to changes in the thickness of the top coating as it is without the underlying coating.
(例7)
この例は、チタニアトップコート(120nmの厚さ)の光触媒活性への、シリカ及びチタニアの勾配アンダーコーティング層の効果を例示する。
(Example 7)
This example illustrates the effect of a gradient undercoat layer of silica and titania on the photocatalytic activity of a titania topcoat (120 nm thickness).
表11は、2つの勾配アンダーコーティング層の組成を示す。
表12は、120nmの厚さのチタニアトップコートの光触媒活性への、表11の2つのアンダーコーティング層の効果を、アンダーコーティング層のないチタニアの活性と比較して示す。[Ti]の単位は、マクログラム/cm2である。
上述の説明に開示された基本的な構想から逸脱することなく、本発明に改変がなされ得ることを、当業者は直ちに理解するであろう。したがって、本明細書において詳細に説明された特定の実施形態は、単なる例示であって、本発明の範囲に対する限定ではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲の全範囲、及びその全ての均等物に示される。 Those skilled in the art will readily appreciate that modifications can be made to the present invention without departing from the basic concept disclosed in the foregoing description. Accordingly, the specific embodiments described in detail herein are merely exemplary and are not a limitation on the scope of the invention, which is encompassed by the full scope of the appended claims and the scope thereof. Shown in all equivalents.
Claims (11)
基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングであって、P、Si、Ti、Al及びZrの酸化物からなる群から選択された少なくとも2種の酸化物を含む第1コーティング;及び
第1コーティングの少なくとも一部の上に形成された機能性コーティング
を含み、
第1コーティングは、
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、チタニアは10〜25体積%で存在する第1部分;
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、チタニアは36〜50体積%で存在する第2部分;及び
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、チタニアは9〜25体積%で存在する第3部分を含む、コーティングされた物品。 substrate;
A first coating formed on at least a portion of the substrate, the first coating comprising at least two oxides selected from the group consisting of oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr; And a functional coating formed on at least a portion of the first coating,
The first coating is
A first portion comprising phosphorous oxide, silica, and titania, wherein the titania is present at 10-25% by volume;
A second portion comprising phosphorus oxide, silica, and titania, wherein the titania is present in 36-50% by volume; and
A coated article comprising phosphorous oxide, silica, and titania, wherein the titania comprises a third portion present at 9-25% by volume .
基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングであって、P、Si、Ti、Al及びZrから選ばれる少なくとも2種の酸化物を含む第1コーティング;及び A first coating formed on at least a portion of the substrate, the first coating comprising at least two oxides selected from P, Si, Ti, Al and Zr; and
第1コーティングの少なくとも一部の上に形成された機能性コーティング A functional coating formed on at least a portion of the first coating
を含み、Including
第1コーティングが、 The first coating is
5〜10体積%の酸化リン、70〜80体積%のシリカ及び10〜25体積%のチタニアを含む第1部分であって、11nmから29nmの厚さを有する第1部分; A first part comprising 5-10% by volume phosphorous oxide, 70-80% by volume silica and 10-25% by volume titania, the first part having a thickness of 11 nm to 29 nm;
2体積%の酸化リン、48〜62体積%のシリカ及び36〜50体積%のチタニアを含む第2部分であって、21nmから33nmの厚さを有する第2部分;及び A second part comprising 2% by volume phosphorous oxide, 48-62% by volume silica and 36-50% by volume titania, the second part having a thickness of 21 nm to 33 nm; and
5〜11体積%の酸化リン、70〜80体積%のシリカ及び9〜25体積%のチタニアを含む第3部分であって、15nmから23nmの厚さを有する第3部分 A third part comprising 5-11% by volume phosphorous oxide, 70-80% by volume silica and 9-25% by volume titania, the third part having a thickness of 15 nm to 23 nm
を含む、コーティングされた物品。A coated article comprising:
基板の少なくとも一部の上に形成された第1コーティングであって、P、Si、Ti、Al及びZrの酸化物からなる群から選択された少なくとも2種の酸化物を含む第1コーティング;及び A first coating formed on at least a portion of the substrate, the first coating comprising at least two oxides selected from the group consisting of oxides of P, Si, Ti, Al, and Zr;
第1コーティングの少なくとも一部の上に形成された機能性コーティングであって、チタニア及びフッ素がドーピングされた酸化スズからなる群から選択される酸化物を含む、機能性コーティング; A functional coating formed on at least a portion of the first coating, comprising an oxide selected from the group consisting of titania and fluorine doped tin oxide;
を含み、Including
第1コーティングは、 The first coating is
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、かつシリカは70〜80体積%で存在する第1部分; A first portion comprising phosphorous oxide, silica, and titania, wherein the silica is present at 70-80% by volume;
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、かつシリカは48〜62体積%で存在する第2部分;及び A second portion comprising phosphorus oxide, silica, and titania, wherein the silica is present at 48-62% by volume; and
酸化リン、シリカ、及びチタニアを含み、かつシリカは70〜80体積%で存在する第3部分を含む、コーティングされた物品。 A coated article comprising phosphorous oxide, silica, and titania, wherein the silica comprises a third portion present at 70-80% by volume.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/273,617 US7998586B2 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
US12/273,641 | 2008-11-19 | ||
US12/273,641 US8133599B2 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved photoactive topcoat functionality |
US12/273,623 US20100124642A1 (en) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | Undercoating layers providing improved conductive topcoat functionality |
US12/273,623 | 2008-11-19 | ||
US12/273,617 | 2008-11-19 | ||
PCT/US2009/064292 WO2010059507A1 (en) | 2008-11-19 | 2009-11-13 | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012509214A JP2012509214A (en) | 2012-04-19 |
JP5343133B2 true JP5343133B2 (en) | 2013-11-13 |
Family
ID=41572951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011537513A Expired - Fee Related JP5343133B2 (en) | 2008-11-19 | 2009-11-13 | Undercoating layer that improves topcoat functionality |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5343133B2 (en) |
CN (1) | CN102239221B (en) |
CA (1) | CA2743845A1 (en) |
DE (1) | DE112009003493T5 (en) |
RU (1) | RU2481364C2 (en) |
WO (1) | WO2010059507A1 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2408022A1 (en) * | 2010-07-16 | 2012-01-18 | Applied Materials, Inc. | Thin Film Solar Cell Fabrication Process, Deposition method for TCO layer, and Solar cell precursor layer stack |
JP5566334B2 (en) * | 2010-12-28 | 2014-08-06 | 麒麟麦酒株式会社 | Gas barrier plastic molded body and method for producing the same |
CN104039731B (en) * | 2012-01-10 | 2017-06-06 | Vitro可变资本股份有限公司 | The glass of the coating with low film resistor, smooth surface and/or low-heat emissivity |
US20140311573A1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-10-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar Cell With Selectively Doped Conductive Oxide Layer And Method Of Making The Same |
JP6030796B1 (en) * | 2016-05-26 | 2016-11-24 | イビデン株式会社 | Antiviral decorative board |
CN106655995B (en) * | 2017-02-09 | 2019-03-12 | 河南弘大新材科技有限公司 | Self-cleaning photoelectric conversion solar tile |
CN107458052B (en) * | 2017-07-18 | 2019-07-02 | 南京工业职业技术学院 | A kind of automatically cleaning polyethylene film and preparation method thereof |
EP3676416A1 (en) | 2017-08-31 | 2020-07-08 | Pilkington Group Limited | Chemical vapor deposition process for forming a silicon oxide coating |
US11542194B2 (en) | 2017-08-31 | 2023-01-03 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, method of making the same, and photovoltaic cell made therewith |
JP7085081B1 (en) * | 2021-04-02 | 2022-06-15 | ポリプラスチックス株式会社 | Composite member and its manufacturing method |
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US4746347A (en) | 1987-01-02 | 1988-05-24 | Ppg Industries, Inc. | Patterned float glass method |
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-
2009
- 2009-11-13 RU RU2011124950/05A patent/RU2481364C2/en not_active IP Right Cessation
- 2009-11-13 CA CA2743845A patent/CA2743845A1/en not_active Abandoned
- 2009-11-13 DE DE112009003493T patent/DE112009003493T5/en not_active Withdrawn
- 2009-11-13 WO PCT/US2009/064292 patent/WO2010059507A1/en active Application Filing
- 2009-11-13 CN CN200980148470.XA patent/CN102239221B/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-13 JP JP2011537513A patent/JP5343133B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012509214A (en) | 2012-04-19 |
RU2481364C2 (en) | 2013-05-10 |
CA2743845A1 (en) | 2010-05-27 |
CN102239221A (en) | 2011-11-09 |
WO2010059507A1 (en) | 2010-05-27 |
CN102239221B (en) | 2013-12-25 |
DE112009003493T5 (en) | 2012-09-06 |
RU2011124950A (en) | 2012-12-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121030 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121031 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130128 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130204 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130227 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130306 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130329 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |