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JP5214324B2 - Cutting equipment - Google Patents

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JP5214324B2
JP5214324B2 JP2008127283A JP2008127283A JP5214324B2 JP 5214324 B2 JP5214324 B2 JP 5214324B2 JP 2008127283 A JP2008127283 A JP 2008127283A JP 2008127283 A JP2008127283 A JP 2008127283A JP 5214324 B2 JP5214324 B2 JP 5214324B2
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blade
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grindstone
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健一 岩崎
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Description

本発明は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するハブブレードが回転可能に装着された切削手段とを備えた切削装置に関する。   The present invention relates to a cutting apparatus that includes a chuck table that holds a workpiece and a cutting means that is rotatably mounted with a hub blade that cuts the workpiece held on the chuck table.

一般的にダイサーと呼ばれる切削装置は、スピンドルの先端にフランジマウントを取り付け、このフランジマウントに薄い切刃(砥石部)を有する切削ブレードを装着してナットで固定し、IC又はLSI等が形成されたシリコンウエーハや、光導波路等が形成されたニオブ酸リチウム(LN)等のセラミック基板、樹脂基板、ガラス板等を切断し、個々のLSIチップや、電子デバイス、又は光デバイスに分割する分野で使用されている。   In general, a cutting device called a dicer has a flange mount attached to the tip of a spindle, and a cutting blade having a thin cutting edge (grindstone) is attached to the flange mount and fixed with a nut to form an IC or LSI. In the field of cutting silicon wafers, ceramic substrates such as lithium niobate (LN) on which optical waveguides are formed, resin substrates, glass plates, etc., and dividing them into individual LSI chips, electronic devices, or optical devices It is used.

切削装置で使用される切削ブレードにハブブレードと呼ばれるものがある。このハブブレードは、ハンドリングを容易にするために形成された円形ハブを有するハブ基台の外周にニッケル母材中にダイヤモンド砥粒が分散されてなる砥石部を電着して構成されている。   A cutting blade used in a cutting apparatus is called a hub blade. This hub blade is configured by electrodepositing a grindstone portion in which diamond abrasive grains are dispersed in a nickel base material on the outer periphery of a hub base having a circular hub formed for easy handling.

ハブ基台は100μm以下と薄い砥石部のハンドリングを容易にするために形成されており、砥石部はハブ基台の一側面外周部に形成されている。砥石部は切削加工に伴って消耗し、ハブ基台からの突き出し分(刃先出し量)が消耗してなくなると新品のハブブレードへ交換する。   The hub base is formed in order to facilitate handling of a thin grindstone part having a thickness of 100 μm or less, and the grindstone part is formed on the outer peripheral part of one side of the hub base. The grindstone is consumed with the cutting process, and when the protrusion from the hub base (blade tip protruding amount) is not consumed, it is replaced with a new hub blade.

ハブブレードを交換した際には、ブレードの真円出し及び目立てを行うドレス・プリカットや切削加工位置を調整するヘアライン合わせ等、実際に切削加工を行うまでに種々の加工前調整を行う必要がある。   When the hub blade is replaced, it is necessary to make various pre-processing adjustments before actually performing the cutting process, such as dressing / pre-cutting to make the blade round and sharp, and hairline adjustment to adjust the cutting position. .

ハブブレードの刃先出し量を多くすることでハブブレードの寿命を延ばし、ブレードの交換頻度を抑えることが可能と考えられるが、実際には刃先出し量が多量すぎると、砥石部の剛性が落ちて切削加工中に砥石部が曲がる蛇行等の切削不良が発生する。従って、通常はハブブレードの種類によって消耗分を加味した所定の刃先出し量が決められている。
特開2000−190155号公報
Although it is considered possible to extend the life of the hub blade and reduce the replacement frequency of the blade by increasing the blade tip advancement amount, in fact, if the blade tip extension amount is too large, the rigidity of the grindstone will decrease. Cutting defects such as meandering where the grindstone bends during cutting work occur. Accordingly, a predetermined amount of blade tip is usually determined in consideration of the amount of wear depending on the type of hub blade.
JP 2000-190155 A

ところが、被加工物によってはその材質や構造等によって切削が難しく、切削時により高い加工負荷がブレードにかかるものがある。このような場合には、所定の刃先出し量では蛇行が発生し、切削不良が発生してしまうという問題がある。   However, some workpieces are difficult to cut depending on the material and structure thereof, and some blades are subjected to higher processing loads during cutting. In such a case, there is a problem that meandering occurs at a predetermined amount of leading edge, resulting in poor cutting.

このような被加工物の切削には、刃先出し量をより抑えたハブブレードを使用することで切削不良なく加工が可能となるが、ハブブレードの寿命が短くなり、ブレードの交換頻度が多くなるため作業が煩雑になってしまう。   For cutting such workpieces, the use of a hub blade with a reduced cutting edge allows processing without cutting defects, but the life of the hub blade is shortened and the frequency of blade replacement is increased. Therefore, the work becomes complicated.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、砥石部の磨耗に応じて刃先出しを行うことが可能なハブブレードを有する切削装置を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is providing the cutting device which has a hub blade which can perform a blade tip according to abrasion of a grindstone part. .

本発明によると、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するハブブレードが回転可能に装着された切削手段とを備えた切削装置であって、該ハブブレードは円形ハブが一体的に形成されたハブ基台と、該ハブ基台の前記円形ハブと反対側の側面外周部に形成された砥石部とから構成され、該砥石部は該ハブ基台の外周から突き出た突き出し部と、該ハブ基台の外周から内周方向に所定の幅を持って該ハブ基台に密着する密着部とを有し、前記ハブ基台はアルミニウムを主材料として形成されるとともに、前記砥石部は砥粒をニッケルメッキ若しくはニッケル合金メッキで固めた電鋳で形成され、該ハブ基台の外周にエッチング液を供給するエッチング液供給手段を具備し、前記エッチング液は水酸化ナトリウムを含む水溶液であることを特徴とする切削装置が提供される。 According to the present invention, there is provided a cutting apparatus comprising: a chuck table that holds a workpiece; and a cutting means that is rotatably mounted with a hub blade that cuts the workpiece held on the chuck table. The hub blade is composed of a hub base integrally formed with a circular hub, and a grindstone formed on the outer peripheral portion of the side opposite to the circular hub of the hub base. A projecting portion projecting from the outer periphery of the base , and a contact portion having a predetermined width in the inner peripheral direction from the outer periphery of the hub base and closely contacting the hub base , wherein the hub base is mainly made of aluminum. together it is formed as the grinding stone portion is formed of abrasive grains in electroforming solidified with nickel plating or nickel alloy plating, comprising an etching liquid supplying means for supplying the etchant to the outer periphery of the hub base, the etching Cutting apparatus, characterized in that the aqueous solution containing the sodium hydroxide is provided.

本発明によると、砥石部の消耗に応じて随時砥石部をハブ基台から突き出すことができるため、ハブブレードの刃先出し量を最小限に抑えることができる。これにより、よりハブブレードの剛性を高めることができ、ブレードの曲がりや蛇行を防止して高負荷のかかる切削加工が可能となる。   According to the present invention, since the grindstone portion can be protruded from the hub base at any time according to the consumption of the grindstone portion, the amount of the blade tip of the hub blade can be minimized. As a result, the rigidity of the hub blade can be further increased, and the bending and meandering of the blade can be prevented and cutting with a high load can be performed.

また、ハブブレードの砥石部が消耗して突き出し部分がなくなっても、エッチング液を回転するハブブレードのハブ基台に供給することでハブ基台をエッチングして、新たな砥石部をハブ基台から突き出すことが可能となる。従って、予め設定された刃先出し量を有する従来のハブブレードに比べてブレードの寿命を延ばすことが可能となる。   Even if the wheel part of the hub blade is worn out and the protruding part disappears, the hub base is etched by supplying the etchant to the hub base of the rotating hub blade, and a new wheel part is then added to the hub base. It is possible to protrude from. Accordingly, it is possible to extend the life of the blade as compared with a conventional hub blade having a preset blade tip amount.

更には、ハブブレードの使用量を減らすことができるため、低コスト化が可能となる上、ハブブレードを新品に交換することに伴う加工前調整を行う必要がないため、切削作業効率の向上が可能となる。   Furthermore, since the amount of hub blades used can be reduced, costs can be reduced, and there is no need to make pre-processing adjustments when replacing the hub blades with new ones, improving the cutting work efficiency. It becomes possible.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は半導体ウエーハをダイシングして個々のチップ(デバイス)に分割することのできる本発明実施形態に係る切削装置2の外観を示している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an appearance of a cutting apparatus 2 according to an embodiment of the present invention, which can divide a semiconductor wafer into individual chips (devices).

切削装置2の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作手段4が設けられている。装置上部には、オペレータに対する案内画面や後述する撮像手段によって撮像された画像が表示されるCRT等の表示手段6が設けられている。   On the front side of the cutting device 2, there is provided operating means 4 for an operator to input instructions to the device such as machining conditions. In the upper part of the apparatus, there is provided a display means 6 such as a CRT for displaying a guidance screen for an operator and an image taken by an imaging means described later.

図2に示すように、ダイシング対象のウエーハWの表面においては、第1のストリートS1と第2ストリートS2とが直交して形成されており、第1のストリートS1と第2のストリートS2とによって区画されて多数のデバイスDがウエーハW上に形成されている。   As shown in FIG. 2, on the surface of the wafer W to be diced, the first street S1 and the second street S2 are formed orthogonally, and the first street S1 and the second street S2 A plurality of devices D are partitioned and formed on the wafer W.

ウエーハWは粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周縁部は環状フレームFに貼着されている。これにより、ウエーハWはダイシングテープTを介してフレームFに支持された状態となり、図1に示したウエーハカセット8中にウエーハが複数枚(例えば25枚)収容される。ウエーハカセット8は上下動可能なカセットエレベータ9上に載置される。   The wafer W is attached to a dicing tape T that is an adhesive tape, and the outer peripheral edge of the dicing tape T is attached to an annular frame F. As a result, the wafer W is supported by the frame F via the dicing tape T, and a plurality of wafers (for example, 25 sheets) are accommodated in the wafer cassette 8 shown in FIG. The wafer cassette 8 is placed on a cassette elevator 9 that can move up and down.

ウエーハカセット8の後方には、ウエーハカセット8から切削前のウエーハWを搬出するとともに、切削後のウエーハをウエーハカセット8に搬入する搬出入手段10が配設されている。ウエーハカセット8と搬出入手段10との間には、搬出入対象のウエーハが一時的に載置される領域である仮置き領域12が設けられており、仮置き領域12には、ウエーハWを一定の位置に位置合わせする位置合わせ手段14が配設されている。   Behind the wafer cassette 8, a loading / unloading means 10 for unloading the wafer W before cutting from the wafer cassette 8 and loading the wafer after cutting into the wafer cassette 8 is disposed. Between the wafer cassette 8 and the loading / unloading means 10, a temporary placement area 12, which is an area on which a wafer to be carried in / out, is temporarily placed, is provided. Positioning means 14 for positioning at a certain position is provided.

仮置き領域12の近傍には、ウエーハWと一体となったフレームFを吸着して搬送する旋回アームを有する搬送手段16が配設されており、仮置き領域12に搬出されたウエーハWは、搬送手段16により吸着されてチャックテーブル18上に搬送され、このチャックテーブル18に吸引されるとともに、複数の固定手段19によりフレームFが固定されることでチャックテーブル18上に保持される。   In the vicinity of the temporary placement area 12, transport means 16 having a turning arm that sucks and transports the frame F integrated with the wafer W is disposed, and the wafer W carried to the temporary placement area 12 is It is attracted by the transport means 16 and transported onto the chuck table 18 and is sucked by the chuck table 18, and is held on the chuck table 18 by fixing the frame F by a plurality of fixing means 19.

チャックテーブル18は、回転可能且つX軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル18のX軸方向の移動経路の上方には、ウエーハWの切削すべきストリートを検出するアライメント手段20が配設されている。   The chuck table 18 is configured to be rotatable and reciprocally movable in the X-axis direction. Above the movement path of the chuck table 18 in the X-axis direction, an alignment unit 20 that detects a street to be cut of the wafer W is provided. It is arranged.

アライメント手段20は、ウエーハWの表面を撮像する撮像手段22を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の処理によって切削すべきストリートを検出することができる。撮像手段22によって取得された画像は、表示手段6に表示される。   The alignment unit 20 includes an imaging unit 22 that images the surface of the wafer W, and can detect a street to be cut by a process such as pattern matching based on an image acquired by imaging. The image acquired by the imaging unit 22 is displayed on the display unit 6.

アライメント手段20の左側には、チャックテーブル18に保持されたウエーハWに対して切削加工を施す切削手段24が配設されている。切削手段24はアライメント手段20と一体的に構成されており、両者が連動してY軸方向及びZ軸方向に移動する。   On the left side of the alignment means 20, a cutting means 24 for cutting the wafer W held on the chuck table 18 is disposed. The cutting means 24 is configured integrally with the alignment means 20, and both move together in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

切削手段24は、回転可能なスピンドル26の先端に切削ブレード(ハブブレード)28が装着されて構成され、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード28は撮像手段22のX軸方向の延長線上に位置している。   The cutting means 24 is configured by mounting a cutting blade (hub blade) 28 on the tip of a rotatable spindle 26 and is movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction. The cutting blade 28 is located on the extended line of the imaging means 22 in the X-axis direction.

このように構成された切削装置2において、ウエーハカセット8に収容されたウエーハWは、搬出入手段10によってフレームFが挟持され、搬出入手段10が装置後方(Y軸方向)に移動し、仮置き領域12においてその挟持が解除されることにより、仮置き領域12に載置される。そして、位置合わせ手段14が互いに接近する方向に移動することにより、ウエーハWが一定の位置に位置づけられる。   In the cutting apparatus 2 configured as described above, the wafer W accommodated in the wafer cassette 8 is sandwiched by the frame F by the loading / unloading means 10, and the loading / unloading means 10 moves to the rear of the apparatus (Y-axis direction). When the nipping is released in the placing area 12, the placing area 12 is placed in the temporary placing area 12. Then, the wafer W is positioned at a certain position by the positioning means 14 moving in a direction approaching each other.

次いで、搬送手段16によってフレームFは吸着され、搬送手段16が旋回することによりフレームFと一体となったウエーハWがチャックテーブル18に搬送されてチャックテーブル18により保持される。そして、チャックテーブル18がX軸方向に移動してウエーハWはアライメント手段20の直下に位置づけられる。   Next, the frame F is adsorbed by the transport unit 16, and the wafer W integrated with the frame F is transported to the chuck table 18 and held by the chuck table 18 as the transport unit 16 rotates. Then, the chuck table 18 moves in the X-axis direction, and the wafer W is positioned directly below the alignment means 20.

アライメント手段20が切削すべきストリートを検出するアライメントの際のパターンマッチングに用いる画像は、切削前に予め取得しておく必要がある。そこで、ウエーハWがアライメント手段20の直下に位置づけられると、撮像手段22がウエーハWの表面を撮像し、撮像した画像を表示手段6に表示させる。   The image used for pattern matching at the time of alignment in which the alignment unit 20 detects a street to be cut needs to be acquired in advance before cutting. Therefore, when the wafer W is positioned directly below the alignment unit 20, the imaging unit 22 captures the surface of the wafer W and causes the display unit 6 to display the captured image.

切削装置2のオペレータは、操作手段4を操作することにより、撮像手段22をゆっくりと移動させながら、必要に応じてチャックテーブル18も移動させて、パターンマッチングのターゲットとなるパターンを探索する。   The operator of the cutting apparatus 2 operates the operation unit 4 to move the image pickup unit 22 slowly and also move the chuck table 18 as necessary to search for a pattern that is a pattern matching target.

オペレータがキーパターンを決定すると、そのキーパターンを含む画像が切削装置2のコントローラに備えたメモリに記憶される。また、そのキーパターンとストリートS1,S2の中心線との距離を座標値等によって求め、その値もメモリに記憶させておく。   When the operator determines a key pattern, an image including the key pattern is stored in a memory provided in the controller of the cutting apparatus 2. Further, the distance between the key pattern and the center line of the streets S1 and S2 is obtained by a coordinate value or the like, and the value is also stored in the memory.

更に、撮像手段22を移動させることにより、隣り合うストリートとストリートとの間隔(ストリートピッチ)を座標値等によって求め、ストリートピッチの値についてもコントローラのメモリに記憶させておく。   Further, by moving the image pickup means 22, an interval between the adjacent streets (street pitch) is obtained by a coordinate value or the like, and the street pitch value is also stored in the memory of the controller.

ウエーハWのストリートに沿った切断の際には、記憶させたキーパターンの画像と実際に撮像手段22により撮像されて取得した画像とのパターンマッチングをアライメント手段20にて行う。   At the time of cutting along the street of the wafer W, the alignment unit 20 performs pattern matching between the stored key pattern image and the image actually acquired by the imaging unit 22.

そして、パターンがマッチングしたときは、キーパターンとストリートの中心線との距離分だけ切削手段24をY軸方向に移動させることにより、切削しようとするストリートと切削ブレード28との位置合わせを行う。   When the pattern matches, the cutting means 24 is moved in the Y-axis direction by the distance between the key pattern and the street center line, thereby aligning the street to be cut with the cutting blade 28.

切削しようとするストリートと切削ブレード28との位置合わせが行われた状態で、チャックテーブル18をX軸方向に移動させるとともに、切削ブレード28を高速回転させながら切削手段24を下降させると、位置合わせされたストリートが切削される。   When the street to be cut and the cutting blade 28 are aligned, the chuck table 18 is moved in the X-axis direction, and the cutting means 24 is lowered while rotating the cutting blade 28 at a high speed. The street was cut.

メモリに記憶されたストリートピッチずつ切削手段24をY軸方向にインデックス送りにしながら切削を行うことにより、同方向のストリートS1が全て切削される。更に、チャックテーブル18を90°回転させてから、上記と同様の切削を行うと、ストリートS2も全て切削され、個々のデバイスDに分割される。   By performing cutting while feeding the cutting means 24 in the Y-axis direction by the street pitch stored in the memory, all the streets S1 in the same direction are cut. Furthermore, when the chuck table 18 is rotated by 90 ° and then the same cutting as described above is performed, the streets S2 are all cut and divided into individual devices D.

切削が終了したウエーハWはチャックテーブル18をX軸方向に移動してから、Y軸方向に移動可能な搬送手段25により把持されて洗浄装置27まで搬送される。洗浄装置27では、洗浄ノズルから水を噴射しながらウエーハWを低速回転(例えば300rpm)させることによりウエーハを洗浄する。   The wafer W that has been cut is moved in the X-axis direction by the chuck table 18 and is then gripped by the transfer means 25 that can move in the Y-axis direction and transferred to the cleaning device 27. The cleaning device 27 cleans the wafer by rotating the wafer W at a low speed (for example, 300 rpm) while jetting water from the cleaning nozzle.

洗浄後、ウエーハWを高速回転(例えば3000rpm)させながら、エアノズルからエアを噴出させてウエーハWを乾燥させた後、搬送手段16によりウエーハWを吸着して仮置き領域12に戻し、更に搬出入手段10によりウエーハカセット8の元の収納場所にウエーハWが戻される。   After cleaning, while rotating the wafer W at a high speed (for example, 3000 rpm), air is blown out from the air nozzle to dry the wafer W, and then the wafer W is sucked by the conveying means 16 and returned to the temporary storage area 12, and further carried in and out. By means 10, the wafer W is returned to the original storage location of the wafer cassette 8.

ところで、切削装置2に使用される切削ブレード28は、図3の断面図に示すようなハブブレードと呼ばれるタイプのものが良く使用される。このハブブレード28は、円形ハブ32を有するハブ基台30の外周にニッケル母材又はニッケル合金母材中にダイヤモンド砥粒が分散された砥石部(切刃)34が電着されて構成されている。ハブ基台30はアルミニウム合金等のアルミニウムを主材料とした材料から形成されている。   By the way, as the cutting blade 28 used in the cutting apparatus 2, a type called a hub blade as shown in the sectional view of FIG. 3 is often used. The hub blade 28 is configured by electrodepositing a grindstone portion (cutting blade) 34 in which diamond abrasive grains are dispersed in a nickel base material or a nickel alloy base material on the outer periphery of a hub base 30 having a circular hub 32. Yes. The hub base 30 is made of a material mainly made of aluminum such as an aluminum alloy.

ハブブレード28は更に、ハブ基台30の外周と円形ハブ32の基部とを接続する環状テーパー部36と、装着穴38と、ハブ基台30の両側に形成された浅い座繰り部40,42を有している。   The hub blade 28 further includes an annular tapered portion 36 that connects the outer periphery of the hub base 30 and the base of the circular hub 32, a mounting hole 38, and shallow countersunk portions 40 and 42 formed on both sides of the hub base 30. have.

座繰り部40,42は、ハブブレード28をスピンドル26に固定された図示しないマウントフランジに装着する時に、当接面積を減少させてスピンドル26に対する装着精度を高めるために設けられている。   The countersunk portions 40 and 42 are provided to reduce the contact area and increase the mounting accuracy with respect to the spindle 26 when the hub blade 28 is mounted on a mount flange (not shown) fixed to the spindle 26.

図3を参照すると明らかなように、ハブブレード28の形状は円形ハブ32側と砥石部34側とで左右非対称に形成されている。砥石部34は、ハブ基台30の側面に電鋳された密着部34aと、ハブ基台30の外周から突き出る突き出し部34bとを含んでおり、突き出し部34bで被加工物を切削する。   As apparent from FIG. 3, the shape of the hub blade 28 is formed asymmetrically between the circular hub 32 side and the grindstone 34 side. The grindstone portion 34 includes a close contact portion 34a electroformed on the side surface of the hub base 30 and a protruding portion 34b protruding from the outer periphery of the hub base 30. The workpiece 34 is cut by the protruding portion 34b.

ところで、砥石部34は切削加工に伴って消耗し、ハブ基台30の外周からの突き出し部34bが消耗してなくなると、従来は新品のハブブレードへ交換する必要があった。本発明は、このように突き出し部34bが消耗したハブブレード28に新たな突き出し部を形成することにより、ハブブレード28の寿命を延ばすことが可能な切削装置を提供せんとするものであり、以下、図4乃至図7を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。   By the way, when the grindstone portion 34 is consumed with the cutting process and the protruding portion 34b from the outer periphery of the hub base 30 is not consumed, it has been conventionally necessary to replace it with a new hub blade. The present invention is intended to provide a cutting device capable of extending the life of the hub blade 28 by forming a new protruding portion on the hub blade 28 in which the protruding portion 34b is consumed as described above. The embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

図4を参照すると、ハブ基台の外周にエッチング液を供給する本発明第1実施形態のエッチング液供給構造の概略構成図が示されている。44は切削手段24のスピンドルユニットであり、スピンドルユニット44のスピンドルハウジング46中には、図示しないサーボモータにより回転駆動されるスピンドル26が回転可能に収容されている。スピンドル26の先端部には図示しないフランジマウントが固定されており、このフランジマウントにハブブレード28が装着されている。   Referring to FIG. 4, there is shown a schematic configuration diagram of an etching solution supply structure according to the first embodiment of the present invention for supplying an etching solution to the outer periphery of the hub base. Reference numeral 44 denotes a spindle unit of the cutting means 24. In a spindle housing 46 of the spindle unit 44, a spindle 26 that is rotationally driven by a servo motor (not shown) is rotatably accommodated. A flange mount (not shown) is fixed to the tip of the spindle 26, and a hub blade 28 is attached to the flange mount.

48はハブブレード28をカバーするブレードカバーであり、このブレードカバー48にはハブブレード28の側面に沿って伸長する図示しない切削水供給ノズルが取り付けられている。   A blade cover 48 covers the hub blade 28, and a cutting water supply nozzle (not shown) extending along the side surface of the hub blade 28 is attached to the blade cover 48.

ブレードカバー48に取り付けられたパイプ60は、電磁切替弁64を介して切削水供給源66に接続されており、電磁切替弁64を開くことにより、切削水がパイプ60を介して図示しない切削水供給ノズルに供給される。   The pipe 60 attached to the blade cover 48 is connected to a cutting water supply source 66 via an electromagnetic switching valve 64. When the electromagnetic switching valve 64 is opened, cutting water is not shown via the pipe 60. Supplied to the supply nozzle.

58は着脱カバーであり、ねじ52によりブレードカバー48に取り付けられる。着脱カバー50は、ブレードカバー48に取り付けられた際、ハブブレード28の側面に沿って伸長する切削水供給ノズル58を有している。   A detachable cover 58 is attached to the blade cover 48 with screws 52. The detachable cover 50 has a cutting water supply nozzle 58 that extends along the side surface of the hub blade 28 when attached to the blade cover 48.

着脱カバー50に取り付けられたパイプ62は、電磁開閉弁68を介して切削水供給源66に選択的に接続され、さらに電磁開閉弁70を介してエッチング液供給源72に選択的に接続される。パイプ62は切削水供給ノズル58に接続されている。本実施形態では、切削水供給ノズル58をエッチング液供給ノズルとして兼用する。   The pipe 62 attached to the detachable cover 50 is selectively connected to the cutting water supply source 66 via the electromagnetic on-off valve 68 and further connected selectively to the etching solution supply source 72 via the electromagnetic on-off valve 70. . The pipe 62 is connected to the cutting water supply nozzle 58. In the present embodiment, the cutting water supply nozzle 58 is also used as an etching liquid supply nozzle.

54はブレード検出ブロックであり、ねじ56によりブレードカバー48に取り付けられる。ブレード検出ブロック54には発光部及び受光部からなる図示しないブレードセンサが取り付けられており、このブレードセンサによりハブブレード28の砥石部(切刃)34の状態を検出する。   A blade detection block 54 is attached to the blade cover 48 by screws 56. A blade sensor (not shown) composed of a light emitting part and a light receiving part is attached to the blade detection block 54, and the state of the grindstone part (cutting edge) 34 of the hub blade 28 is detected by this blade sensor.

ブレードセンサにより砥石部34の欠けを検出した場合には、ハブブレード28を新たなハブブレードに交換する。63はブレードセンサの位置を調整するための調整ねじである。   When the chip of the grindstone 34 is detected by the blade sensor, the hub blade 28 is replaced with a new hub blade. 63 is an adjusting screw for adjusting the position of the blade sensor.

一方、ブレードセンサにより砥石部34の突き出し部34bの磨耗を検出した場合には、本実施形態では、ハブブレード28を新たなハブブレードに交換する必要はなく、ハブ基台30の環状テーパー部36の外周部分をエッチングすることにより、突き出し部34bを新たに形成する。   On the other hand, when the wear of the protrusion 34b of the grindstone 34 is detected by the blade sensor, in this embodiment, it is not necessary to replace the hub blade 28 with a new hub blade, and the annular tapered portion 36 of the hub base 30 is used. A protrusion 34b is newly formed by etching the outer peripheral portion of the protrusion.

ハブ基台30の環状テーパー部36の外周部分を所定量エッチングして除去するために、本実施形態の切削水供給ノズル58はZ方向(上下方向)に移動可能に構成されており、エッチング時には切削水供給ノズル58をハブブレード28の環状テーパー部36の外周部分に対向する位置に位置づける。   In order to etch and remove the outer peripheral portion of the annular taper portion 36 of the hub base 30 by a predetermined amount, the cutting water supply nozzle 58 of the present embodiment is configured to be movable in the Z direction (vertical direction). The cutting water supply nozzle 58 is positioned at a position facing the outer peripheral portion of the annular tapered portion 36 of the hub blade 28.

そして、電磁開閉弁68を閉じ、電磁開閉弁70を開くことにより、エッチング液供給ノズル58からハブ基台30の環状テーパー部36に向かってエッチング液を噴出する。これにより、図6に示すように、円形ハブ32及び環状テーパー部36を一点鎖線36´で示す位置までエッチングして、新たな突き出し部34b´を形成する。   Then, by closing the electromagnetic on-off valve 68 and opening the electromagnetic on-off valve 70, the etching liquid is ejected from the etching liquid supply nozzle 58 toward the annular tapered portion 36 of the hub base 30. As a result, as shown in FIG. 6, the circular hub 32 and the annular taper portion 36 are etched to the position indicated by the alternate long and short dash line 36 'to form a new protruding portion 34b'.

エッチング液は水酸化ナトリウムを含む水溶液であることが好ましく、このようなエッチング液を使用することにより、アルミニウムを主材料として形成されたハブ基台30を選択的にエッチングすることができる。この場合、砥石部34はダイヤモンド砥粒をニッケルメッキ若しくはニッケル合金メッキで固めた電鋳で形成されているため、エッチング液によりエッチングされることはない。   The etchant is preferably an aqueous solution containing sodium hydroxide. By using such an etchant, the hub base 30 formed with aluminum as a main material can be selectively etched. In this case, since the grindstone portion 34 is formed by electroforming in which diamond abrasive grains are hardened by nickel plating or nickel alloy plating, it is not etched by the etching solution.

図5を参照すると、本発明第2実施形態のエッチング液供給構造の概略構成図が示されている。本実施形態では、ブレードカバー48にエッチング液供給ノズル74を新たに配設し、このエッチング液供給ノズル74をパイプ76及び電磁開閉弁70を介してエッチング液供給源72に接続する。   Referring to FIG. 5, there is shown a schematic configuration diagram of an etching solution supply structure according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, an etching solution supply nozzle 74 is newly provided in the blade cover 48, and this etching solution supply nozzle 74 is connected to the etching solution supply source 72 via the pipe 76 and the electromagnetic on-off valve 70.

ハブ基台30のテーパー部36のエッチング時には、電磁開閉弁70を開いてエッチング液供給ノズル74をエッチング液供給源72に連通し、エッチング液供給ノズル74からハブ基台30の環状テーパー部36に向かってエッチング液を噴出する。   When the taper portion 36 of the hub base 30 is etched, the electromagnetic on-off valve 70 is opened to connect the etchant supply nozzle 74 to the etchant supply source 72, and the etchant supply nozzle 74 connects to the annular taper portion 36 of the hub base 30. Etching solution is jetted out.

これにより、図4に示した第1実施形態と同様に、図6に示すように円形ハブ32及び環状テーパー部36を所定量エッチングして、突き出し部34b´を新たに形成することができる。尚、第1及び第2実施形態において、エッチング中はハブブレード28を3000〜4000回転等の低速で回転させてエッチングを実施する。   Accordingly, as in the first embodiment shown in FIG. 4, the circular hub 32 and the annular tapered portion 36 are etched by a predetermined amount as shown in FIG. 6, and a protruding portion 34b ′ can be newly formed. In the first and second embodiments, the etching is performed by rotating the hub blade 28 at a low speed such as 3000 to 4000 rotations during the etching.

尚、第1及び第2実施形態において、所定量のエッチングが完了したことを検知する機構を設けることが好ましい。例えば、レーザー測距計を環状テーパー部36の先端に対向するように設け、エッチングにより環状テーパー部36がエッチングされて突き出し部34b´が露出すると、計測する距離が砥石部34表面までの所定距離となるため、この時点でエッチングを中止するようにすれば良い。   In the first and second embodiments, it is preferable to provide a mechanism for detecting that a predetermined amount of etching has been completed. For example, when a laser range finder is provided so as to face the tip of the annular taper portion 36 and the annular taper portion 36 is etched by etching and the protruding portion 34 b ′ is exposed, the measured distance is a predetermined distance to the surface of the grindstone portion 34. Therefore, the etching may be stopped at this point.

図7を参照すると、本発明第3実施形態の切削装置の外観斜視図が示されている。本実施形態では、適当な位置に小型のエッチング液槽80を設け、ハブブレード28が回転しながらエッチング液槽80に浸漬されることにより、所望のエッチングを達成する。   Referring to FIG. 7, an external perspective view of a cutting device according to a third embodiment of the present invention is shown. In the present embodiment, a small etching solution tank 80 is provided at an appropriate position, and the hub blade 28 is immersed in the etching solution tank 80 while rotating, thereby achieving desired etching.

尚、図7ではエッチング液槽80を視認し易くするためにチャックテーブル18近辺に設けているが、実際にはスピンドル26の下等の非可動部にエッチング液槽を設けるようにするのが好ましい。   In FIG. 7, the etching solution tank 80 is provided in the vicinity of the chuck table 18 so that the etching solution tank 80 can be easily seen. However, in practice, it is preferable to provide the etching solution tank in a non-movable part such as under the spindle 26. .

切削装置の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of a cutting device. フレームと一体化されたウエーハを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the wafer integrated with the flame | frame. ハブブレードの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a hub blade. 本発明第1実施形態のエッチング液供給構造を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the etching liquid supply structure of 1st Embodiment of this invention. 本発明第2実施形態のエッチング液供給構造を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the etching liquid supply structure of 2nd Embodiment of this invention. エッチング状態を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an etching state. 本発明第3実施形態のエッチング液供給構造を有する切削装置の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the cutting device which has the etching liquid supply structure of 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

2 切削装置
18 チャックテーブル
24 切削手段
26 スピンドル
28 ハブブレード(切削ブレード)
30 ハブ基台
32 円形ハブ
34 砥石部(切刃)
34a 密着部
34b 突き出し部
36 環状テーパー部
58 切削水供給ノズル(エッチング液供給ノズル)
72 エッチング液供給源
74 エッチング液供給ノズル
80 エッチング液槽
2 Cutting device 18 Chuck table 24 Cutting means 26 Spindle 28 Hub blade (cutting blade)
30 Hub base 32 Circular hub 34 Grinding wheel (cutting blade)
34a Contact part 34b Protrusion part 36 Annular taper part 58 Cutting water supply nozzle (etching liquid supply nozzle)
72 Etching solution supply source 74 Etching solution supply nozzle 80 Etching solution tank

Claims (1)

被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するハブブレードが回転可能に装着された切削手段とを備えた切削装置であって、
該ハブブレードは円形ハブが一体的に形成されたハブ基台と、該ハブ基台の前記円形ハブと反対側の側面外周部に形成された砥石部とから構成され、
該砥石部は該ハブ基台の外周から突き出た突き出し部と、該ハブ基台の外周から内周方向に所定の幅を持って該ハブ基台に密着する密着部とを有し、
前記ハブ基台はアルミニウムを主材料として形成されるとともに、前記砥石部は砥粒をニッケルメッキ若しくはニッケル合金メッキで固めた電鋳で形成され、
該ハブ基台の外周にエッチング液を供給するエッチング液供給手段を具備し
前記エッチング液は水酸化ナトリウムを含む水溶液であることを特徴とする切削装置。
A cutting apparatus comprising: a chuck table for holding a workpiece; and a cutting means on which a hub blade for cutting the workpiece held on the chuck table is rotatably mounted,
The hub blade is composed of a hub base integrally formed with a circular hub, and a grindstone formed on the outer peripheral portion of the hub base on the side opposite to the circular hub,
The grindstone portion has a protruding portion protruding from the outer periphery of the hub base, and a close contact portion closely contacting the hub base with a predetermined width from the outer periphery of the hub base to the inner peripheral direction,
The hub base is formed of aluminum as a main material, and the grindstone is formed by electroforming in which abrasive grains are hardened by nickel plating or nickel alloy plating.
Etching solution supplying means for supplying an etching solution to the outer periphery of the hub base ,
The cutting apparatus, wherein the etching solution is an aqueous solution containing sodium hydroxide .
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