JP5273598B2 - 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 - Google Patents
水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5273598B2 JP5273598B2 JP2007140796A JP2007140796A JP5273598B2 JP 5273598 B2 JP5273598 B2 JP 5273598B2 JP 2007140796 A JP2007140796 A JP 2007140796A JP 2007140796 A JP2007140796 A JP 2007140796A JP 5273598 B2 JP5273598 B2 JP 5273598B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resonance frequency
- vicinity
- electromagnetic field
- water
- khz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
[実施の形態1]
図1は、本実施形態における水を電磁場処理する方法の一例の説明図である。そして、図2は電磁界誘起電流である交流電流の一例を示す電流波形図である。図1に示すように、例えば塩化ビニール製の通水管1の外側にコイル2を設け、通水管1に例えば水道水、排水等の被処理水3を流すと共に、交流電源4を通して後述するような特定の周波数である共振周波数の交流電流をコイル2に供給する。ここで、交流電流の波形は、例えば図2に示すような方形波形等、時間的変化が急峻なものが好適である。
上記特定の周波数には、後述の説明で明らかになるような2種類の性質の異なる共振周波数が、それぞれに複数存在する。そこで、これ等の共振周波数は第1の共振周波数群と第2の共振周波数群に分別される。
(第1の共振周波数群)
この第1の共振周波数群には、図5〜図10に示すように、複数の共振周波数Ai(i=1〜6の整数)が少なくとも存在する。ここで、図5ないし図10は、振動する電磁場処理における共振周波数の共振特性を示し、リン酸カルシウム16の溶解度が特異性を示す周波数帯域において、横軸にコイル2に流す交流電流の周波数をとり、縦軸にリン酸カルシウム16の上記溶解度をとっている。
第2の共振周波数群には、図14〜図19等に示すように、複数の共振周波数Bi(i=1〜6の整数)が少なくとも存在する。これ等の図も、図5ないし図13の場合と同様、溶解度が特異性を示す周波数帯域において、横軸に交流電流の周波数をとり、縦軸に溶解度をとっている。
上述した共振周波数において、図23〜図40に示すように、更に特定の電流値によりリン酸カルシウムの溶解度が特異的に増大する。ここで、図23ないし図40は、共振周波数における共振磁界の共振特性を示し、リン酸カルシウム16の溶解度が特異性を示す特定の電流値において、横軸にコイル2に流す交流ピーク電流と共にそのときの誘起磁界強度をとり、縦軸にリン酸カルシウム16の溶解度をとっている。ここで、誘起磁界強度は、電流ピーク電流に対応して、コイル2内の被処理水3の流れる方向に沿い誘起され振動する磁界6のピーク強度である。
また、図42の実線は共振周波数A3の場合の3つの共振磁界を示しており、同図中の破線は共振周波数B3の場合の2つの共振磁界を示している。そして、図中の実線(1)、(2)、(3)が共振周波数A3の場合のそれぞれ基底モード、2倍モード、3倍モードとなっている。同様に、破線(1)、(2)が共振周波数B3の場合のそれぞれ基底モード、2倍モードとなっている。
以上のことから、共振周波数A1において、今回の電磁場処理の実験装置では交流ピーク電流が小さ過ぎて計測できなかったが、上記4倍モードの共振磁界における誘導磁界強度の1/4の17.3mGもしくはその近傍に基底モードの共振磁界が存在し、この基底モードのn倍モードの共振磁界が多数存在する。ここで、nは正整数である。
同様に、図25から、共振周波数A3では、基底モードの場合、交流ピーク電流が46.5mAでありそのときの共振磁界が130.6mGもしくはその近傍になる。そして、その半値幅(Δb)の範囲は102.5〜156.7mGである。また、図26から、共振周波数A4では、基底モードの場合、交流ピーク電流が115.0mAでありそのときの共振磁界が323.0mGもしくはその近傍になる。そして、その半値幅(Δb)の範囲は298.1〜351.8mGである。
同様に、図33から、共振周波数B2では、2倍モードの場合、交流ピーク電流が33.5mAでありそのときの共振磁界が94.1mGもしくはその近傍になる。そして、その半値幅(Δb)の範囲は85.7〜102.1mGである。ここで、この場合の基底モードの共振磁界の誘起磁界強度は47.1mGもしくはその近傍となる。また、図34から、共振周波数B3では、基底モードの場合、交流ピーク電流が67.0mAでありそのときの共振磁界が188.2mGもしくはその近傍になる。そして、その半値幅(Δb)の範囲は171.9〜201.7mGである。
このような電磁場処理による水の脱ガスの効果は、例えば純水あるいは超純水に例えば水素あるいはオゾンを溶解させて、水素溶解水あるいはオゾン溶解水のような有効ガスが溶解した機能水の生成に極めて有効に利用できる。これは、上記有効ガスの水への溶解においてその溶解効率を高めるためには、水に溶けている炭酸ガスなどを脱ガスすることが必須になるからである。
次に、本発明の好適な第2の実施形態について説明する。本実施形態の特徴は、第1の実施形態で説明した交流電流の第1の共振周波数群と第2の共振周波数群から選択したそれぞれ1つの共振周波数を用い、これ等2つの共振周波数により同時に水を活性化させるところにある。このようにすることにより、水が効率的に電磁場処理されると共にその活性処理水が機能水として長寿命化される。図45は、このような2つの共振周波数を混合して振動電磁場を誘起する交流電流の一例を示した波形図である。
図中の破線は、第1の実施形態と同様であり、第1の共振周波数群あるいは第2の共振周波数群の1つの共振周波数の場合であり、単一周波数を用いた交流電流により電磁場処理した場合の一例の結果である。ここで、この1つの周波数電流の振幅は共に共振磁界が生じるように設定されている。
図中の点線は、図45で説明した2つの共振周波数を用いた交番電流により電磁場処理した場合であるが、A−A(あるいはB−B)同種混合周波数の一例の結果である。ここで、第1の周波数電流21および第2の周波数電流22の周波数は、共に同じ第1の共振周波数群から選択した共振周波数である。あるいは、共に同じ第2の共振周波数群から選択した共振周波数である。これ等の周波数電流の振幅は共に共振磁界が生じるように設定されている。そして、上記交番周波数は100Hz、交番周波数における第1の周波数電流21および第2の周波数電流22のデューティサイクルは50%である。
そして、具体的には、図48に示した一例の結果としては、共振周波数Ai(i=3,4)、共振周波数Bj(j=3,4)を用いて得られたものが載せられている。
これに対して、点線では、その減衰は破線の場合よりも大きくなり、水の活性化の持続時間が減少する。例えば、6〜7時間程度の保存期間で未処理水と同程度に戻る。しかも、点線の場合には、保存期間0時間に示されるように、破線の単一周波数の場合よりも初期の活性化の度合いが低減している。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。本実施形態の特徴は、第1の実施形態で説明した地磁気の影響を電磁場処理から効果的に除去するところにある。このようにすることにより、振動電磁場を生成するコイルが配設される場所あるいはその取り付け方に依存することなく、水の安定した電磁場処理が容易になる。
このようにすることにより、地磁気Beは磁気シールド34により遮蔽され、通水管33内への浸入が大幅に低減するようになる。そして、図51(b)に示す構造であると、通水管33の入口側あるいは出口側から浸入する地磁気Beがシールドされる。
このようにすることにより、U字状の通水管1aの中央領域における誘起磁界強度は、コイル2軸心において均一になる。そして、地磁気Beは磁気遮蔽容器36により遮蔽される。このために、通水管1a内の磁束密度がコイル2の軸心方向で一様になり、通水管1内を流れる被処理水が高効率に活性化できるようになる。
このようにすることにより、通水管1内の地磁気の影響は皆無になり、環境変化に全く左右されることなく安定した被処理水に高効率な活性化ができるようになる。
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。本実施形態は、第1,2あるいは3の実施形態で説明した電磁場処理において好適に使用される電磁場処理装置について説明する。
2,2a コイル
3 被処理水
4 交流電源
5,5a 活性処理水
6 磁界
7,25,26 電磁場付与部
8 タンク
9 貯留水
10 実験槽
11 間仕切り板
12,13,14 貯留室
15 ポンプ
16 リン酸カルシウム
17 採水管
21 第1の周波数電流
22 第2の周波数電流
23 第1の交流電源
24 第2の交流電源
27 水素イオン付着クラスター
28 水酸イオン付着クラスター
31 地磁気方向
32 垂直平面
34 磁気シールド
35 磁性体コア
36 磁気遮蔽容器
37 磁気センサー
38 定電流源
39 消磁用コイル
41 電磁場処理装置
42 交番電流供給部
43 駆動電源部
44 水晶振動子
45 周波数分周回路
46 周波数変調回路
47 振幅変調回路
48 邪魔板
49 円柱棒
50 連結材
51 炭酸ガス脱気装置
53 正捲回コイル
54 逆捲回コイル
55 一極性電流供給部
Claims (22)
- コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理方法において、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群あるいは前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中から1つの共振周波数を選択し、
前記選択した1つの共振周波数の電磁界誘起電流により前記コイルに振動電磁場を誘起し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする水の電磁場処理方法。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理方法において、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群あるいは前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中から1つの共振周波数を選択し、
前記選択した共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数の電磁界誘起電流により、前記コイルに振動電磁場を誘起し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする水の電磁場処理方法。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理方法において、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群および前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中からそれぞれ1つの共振周波数を選択し、
前記第1の共振周波数群から選択した1つの共振周波数の電磁界誘起電流と、前記第2の共振周波数群から選択した1つの共振周波数の電磁界誘起電流とにより前記コイルに振動電磁場を誘起し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする水の電磁場処理方法。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理方法において、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群および前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中からそれぞれ1つの共振周波数を選択し、
前記第1の共振周波数群から選択した共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数の電磁界誘起電流と、前記第2の共振周波数群から選択した共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数の電磁界誘起電流とにより、前記コイルに振動電磁場を誘起し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする水の電磁場処理方法。 - 前記共振周波数の電磁界誘起電流のピーク電流を特定の電流値にすることにより、前記共振周波数の電磁界誘起電流により前記コイルに誘起される振動磁界のピーク強度が、特定の磁界強度になる共振磁界の強度、あるいは前記共振磁界の共振特性における半値幅内にある磁界強度になるようにすることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記共振磁界の強度は、その基底モードの磁界強度の正整数倍になることを特徴とする請求項5に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記共振周波数Ai(i=−2〜7の整数)の電磁界誘起電流における前記共振磁界の基底モードの磁界強度は、前記iの番号順にそれぞれ、5.3mGもしくはその近傍、7.4mGもしくはその近傍、12.3mGもしくはその近傍、17.3mGもしくはその近傍、31.9mGもしくはその近傍、130.6mGもしくはその近傍、323.0mGもしくはその近傍、1123.5mGもしくはその近傍、2556.0mGもしくはその近傍、6039.0mGもしくはその近傍であり、
前記共振周波数Bj(j=−2〜7の整数)の電磁界誘起電流における前記共振磁界の基底モードの磁界強度は、前記jの番号順にそれぞれ、7.1mGもしくはその近傍、10.4mGもしくはその近傍、16.3mGもしくはその近傍、23.5mGもしくはその近傍、47.1mGもしくはその近傍、188.2mGもしくはその近傍、463.5mGもしくはその近傍、1601.0mGもしくはその近傍、3342.5mGもしくはその近傍、7302.9mGもしくはその近傍であり、
前記その近傍の磁界強度は、磁界強度の数値の±2%程度であることを特徴とする請求項6に記載の水の電磁場処理方法。 - 前記コイルに対して地磁気の影響を除去することを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記地磁気の方向に直交する面内に前記コイルの軸心を配置することを特徴とする請求項8に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記コイルを磁気遮蔽体により被包することを特徴とする請求項8に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記地磁気の前記コイルの軸心方向の磁界強度を検出し、前記磁界強度が略ゼロになるように前記コイルに静磁場を付与することを特徴とする請求項8に記載の水の電磁場処理方法。
- 前記水に対して炭酸ガスの脱気処理を施した後に前記水を電磁場処理することを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一項に記載の電磁場処理方法。
- 前記コイルを巻きつけた領域の通水路に絶縁体を配置し前記水の流れを変えて前記水を電磁場処理することを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一項に記載の電磁場処理方法。
- コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理装置であって、
コイルと、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群あるいは前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中から選択した1つの共振周波数の電磁界誘起電流を前記コイルに供給する電源と、
を有し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする電磁場処理装置。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理装置であって、
コイルと、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群あるいは前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中から選択した1つの共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数の電磁界誘起電流を、前記コイルに供給する電源と、
を有し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする電磁場処理装置。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理装置であって、
コイルと、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群の中の1つの共振周波数と、前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中の1つの共振周波数とを振幅変調した交番電流を供給する交番電流供給部と、
前記交番電流供給部を駆動する駆動電源部と、
を有し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする電磁場処理装置。 - コイルに電磁界誘起電流を流し、前記コイルに誘起される振動電磁場を水に付与して前記水を活性化する水の電磁場処理装置であって、
コイルと、
前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第1の共振周波数群の中の1つの共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数と、前記水を活性化する前記電磁界誘起電流の第2の共振周波数群の中の1つの共振周波数の共振特性における半値幅内にある周波数とを振幅変調した交番電流を供給する交番電流供給部と、
前記交番電流供給部を駆動する駆動電源部と、
を有し、
前記第1の共振周波数群は、151.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−2、222.5Hzもしくはその近傍の共振周波数A−1、345.0Hzもしくはその近傍の共振周波数A0、484Hzもしくはその近傍の共振周波数A1、954Hzもしくはその近傍の共振周波数A2、3.5kHzもしくはその近傍の共振周波数A3、7.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A4、20.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A5、37.3kHzもしくはその近傍の共振周波数A6、80.0kHzもしくはその近傍の共振周波数A7を含み、
前記第2の共振周波数群は、205.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−2、301.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B−1、466.0Hzもしくはその近傍の共振周波数B0、655Hzもしくはその近傍の共振周波数B1、1.29kHzもしくはその近傍の共振周波数B2、4.73kHzもしくはその近傍の共振周波数B3、9.47kHzもしくはその近傍の共振周波数B4、27.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B5、50.4kHzもしくはその近傍の共振周波数B6、108.0kHzもしくはその近傍の共振周波数B7を含み、
前記その近傍の共振周波数は、共振周波数の数値の±1.2%程度であることを特徴とする電磁場処理装置。 - 前記電源あるいは前記交番電流供給部は、前記共振周波数の電磁界誘起電流のピーク電流を特定の電流値にし、前記共振周波数の電磁界誘起電流により前記コイルに誘起される振動磁界のピーク強度が特定の磁界強度になる共振磁界の強度、あるいは前記共振磁界の共振特性における半値幅内にある磁界強度になるようにすることを特徴とする請求項14ないし17のいずれか一項に記載の水の電磁場処理装置。
- 前記共振磁界の強度は、その基底モードの磁界強度の正整数倍になることを特徴とする請求項18に記載の水の電磁場処理装置。
- 前記共振周波数Ai(i=−2〜7の整数)の電磁界誘起電流における前記共振磁界の基底モードの磁界強度は、前記iの番号順にそれぞれ、5.3mGもしくはその近傍、7.4mGもしくはその近傍、12.3mGもしくはその近傍、17.3mGもしくはその近傍、31.9mGもしくはその近傍、130.6mGもしくはその近傍、323.0mGもしくはその近傍、1123.5mGもしくはその近傍、2556.0mGもしくはその近傍、6039.0mGもしくはその近傍であり、
前記共振周波数Bj(j=−2〜7の整数)の電磁界誘起電流における前記共振磁界の基底モードの磁界強度は、前記jの番号順にそれぞれ、7.1mGもしくはその近傍、10.4mGもしくはその近傍、16.3mGもしくはその近傍、23.5mGもしくはその近傍、47.1mGもしくはその近傍、188.2mGもしくはその近傍、463.5mGもしくはその近傍、1601.0mGもしくはその近傍、3342.5mGもしくはその近傍、7302.9mGもしくはその近傍であり、
前記その近傍の磁界強度は、磁界強度の数値の±2%程度であることを特徴とする請求項19に記載の水の電磁場処理装置。 - 前記コイルに対して地磁気の影響を除去する手段が取り付けられていることを特徴とする請求項14ないし20のいずれか一項に記載の水の電磁場処理装置。
- 前記水に対して炭酸ガスの脱気処理を施した後に前記水に前記電磁場処理を施すようになっていることを特徴とする請求項14ないし21のいずれか一項に記載の電磁場処理装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007140796A JP5273598B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-28 | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 |
US12/302,815 US20090242407A1 (en) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic field treatment method and electromagnetic field treatment equipment of water |
TW096119186A TW200811059A (en) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic field treatment method and electromagnetic field treatment equipment of water |
CN2007800200716A CN101466643B (zh) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 水的电磁场处理方法及电磁场处理装置 |
KR1020087028341A KR101093944B1 (ko) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 물의 전자장 처리 방법과 전자장 처리 장치 |
PCT/JP2007/060893 WO2007139103A1 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 |
EP07744313A EP2036865A1 (en) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic field treatment method and electromagnetic field treatment equipment of water |
HK09110613.7A HK1130462A1 (en) | 2006-05-29 | 2009-11-13 | Electromagnetic field treatment method and electromagnetic field treatment equipment of water |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006148331 | 2006-05-29 | ||
JP2006148331 | 2006-05-29 | ||
JP2007140796A JP5273598B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-28 | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008006433A JP2008006433A (ja) | 2008-01-17 |
JP5273598B2 true JP5273598B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=39065127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007140796A Expired - Fee Related JP5273598B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-28 | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5273598B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009207958A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | B Ii Denshi Kogyo Kk | 電磁処理装置 |
JP5844259B2 (ja) * | 2010-08-13 | 2016-01-13 | 株式会社志賀機能水研究所 | 水の電磁場処理方法 |
JP5830172B1 (ja) * | 2014-03-04 | 2015-12-09 | 新一郎 石橋 | 配管内面付着生成物の電磁誘導電流剥離装置 |
US20160207801A1 (en) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Basic Water Solutions, LLC | Systems and Methods for Conditioning Water |
JP6786087B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2020-11-18 | 株式会社エビス総研 | 消火液剤の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9319859D0 (en) * | 1993-09-25 | 1993-11-10 | Stefanini Daniel | Arrangement for and method of treating fluid |
JPH0768266A (ja) * | 1993-09-01 | 1995-03-14 | Iwase Sangyo Kk | 機能性水の製造方法 |
AUPO688697A0 (en) * | 1997-05-19 | 1997-06-12 | Morris, Terence Edward | Cleansing of a body of water |
NL1011304C2 (nl) * | 1999-02-15 | 2000-08-17 | Jan Pieter De Baat Doelman | Stelsel voor het behandelen van vloeistoffen. |
JP2001038362A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Ska Kk | 電磁界処理装置 |
JP2003112186A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-15 | Mitsubishi Corp | 物質処理システム |
JP4305855B2 (ja) * | 2004-03-09 | 2009-07-29 | エスケーエイ株式会社 | 被処理流体の変調電磁場処理装置と方法 |
JP4116002B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2008-07-09 | エスケーエイ株式会社 | 被処理水の机上試験方法と流体流路を構成する壁面の錆び、スケール、その他の成分の付着防止及び/又は除去方法 |
-
2007
- 2007-05-28 JP JP2007140796A patent/JP5273598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008006433A (ja) | 2008-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101093944B1 (ko) | 물의 전자장 처리 방법과 전자장 처리 장치 | |
JP2008290053A (ja) | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 | |
Gabrielli et al. | Magnetic water treatment for scale prevention | |
JP5273598B2 (ja) | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 | |
CA2182549C (en) | Device for neutralizing and preventing formation of scale and method | |
Margulis | Sonoluminescence and sonochemical reactions in cavitation fields. A review | |
KR20150050087A (ko) | 스케일 처리장치 | |
US20160251762A1 (en) | Method of treating a pickling solution for a pickling process | |
JP2003328167A (ja) | スケール除去方法およびスケール除去装置 | |
Xu et al. | Enhancement of sonochemical reaction by dual-pulse ultrasound | |
KR101776287B1 (ko) | 다목적 수처리 및 스케일형성방지장치 | |
Othman et al. | A Review: Methodologies Review of Magnetic Water Treatment As Green Approach of Water Pipeline System. | |
JP4305855B2 (ja) | 被処理流体の変調電磁場処理装置と方法 | |
Naderi et al. | Mechanical trajectory control of water mineral impurities in the electrochemical-magnetic reactor | |
US20150344328A1 (en) | Method and device for water treatment using radio waves | |
JP2008149255A (ja) | 磁性体含有液体の活性化方法及び装置 | |
US10899638B2 (en) | Method and system for water electromagnetic activation and active metals generation | |
US20090326421A1 (en) | Device for Producing Shock Waves | |
Kim et al. | Microbubble formation in underwater pulsed streamer discharge | |
KR100704421B1 (ko) | 3차원 파울링 저감장치 및 방법 | |
US20180265388A1 (en) | Systems And Methods For Treating Saltwater And Feedwater | |
JP3139116U (ja) | 液体/ガス管路又は液体/ガス槽に用いられる磁化装置 | |
JP2006061847A (ja) | 超音波洗浄・バリ取り装置 | |
JP2019181369A (ja) | 超音波化学反応装置及び方法 | |
CN101555074B (zh) | 一种锅炉强磁防垢除垢装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071221 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100621 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130313 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130507 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5273598 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |