JP5272716B2 - カラーフィルター基板及びその製造方法 - Google Patents
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また、下地の着色層が露出すると、耐熱性や耐溶剤性が低下するため、液晶パネル化において、カラーフィルタ基板上で、色度変化や、変色、クラックといった外観上の不良が生じやすいといった問題があった。
また、着色層を形成すると同時に着色保護層を形成することができるため、オーバーコート層を設けるなどの新たな工程を必要とせず、安価で高品位なカラーフィルター基板を提供することができる。
着色層3の作製方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、色顔料を分散させた感光性樹脂をスリットコート法やスピンコート法、ロールコート法などの塗布法で基板上に着色感光層を形成した後にフォトリソグラフィー法により着色感光層をパターニングし、着色層を形成してもよい。または、着色材料をインクジェット法や、グラビア印刷法、フレキソ印刷法などの印刷法で基板上に形成し着色層としてもよく、基板上に形成した着色材料をエッチングするエッチング法など何れの方法で作製しても構わない。しかし、高精細、分光特性の制御性及び再現性等を考慮すれば、透明な樹脂中に色顔料を、光開始剤、重合性モノマーと共に適当な溶剤に分散させた感光性着色組成物を透明基板上に塗布製膜して着色層を形成し、着色層をパターン露光、現像及び必要により硬膜処理することで一色の画素を形成する工程を各色毎に繰り返し行ってカラーフィルタを作製するフォトリソグラフィー法が好ましい。
々の感光性樹脂層を使用することができ、着色層を形成した後に、スリットコート法やスピンコート法、ロールコート法などの塗布法で感光性樹脂層を塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターニングしてもよく、またインクジェット法や、グラビア印刷法、フレキソ印刷法などの印刷法で保護層4を形成しても良いが、電気特性に優れた着色層を形成すると同時に、同じ材料で着色保護層4を形成するのが、工程を増やさずにカラーフィルター基板を製造することができるため、好ましい。
着色保護層4の膜厚を制御する手法としては、例えば、ハーフトーンマスクやグレートーンマスク、マスク開口率差を利用することにより露光量を減ずることができるフォトマスクを使用することにより容易に制御可能であるし、インクジェット法や印刷法を用いて別途形成する場合も制御することが可能である。
15:6を用いることができる。また、青色着色組成物には、C.I.Pigment
Violet 1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50等の紫色顔料、好ましくはC.I.Pigment Violet 23を併用することができる。
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、エステルアクリレート、メチロール化メラミンの(メタ)アクリル酸エステル、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。これらは、単独でまたは2種類以上混合して用いることができる。
また、各着色層の比抵抗値は、着色層を電極で挟んで高電圧印加抵抗測定装置(KEITHLEY
237)を使用して測定した結果、Redが3×1015Ω・cm、Blueが8×1014Ω・cm、Greenが8×1013Ω・cm、でありR>B>Gの順であった。
得られたカラーフィルターを用いて液晶表示装置を作製した結果、15Vの電圧で駆動した場合においても配向不良のない良好な表示品質が得られた。
実施例1において、着色保護層4を形成しないカラーフィルターを用いて液晶表示装置を作製した結果、5Vの低電圧で駆動した場合においてG着色層で液晶の配向不良が発生し、10Vの電圧駆動によりB着色層の上に形成された透明電極開口部において液晶の配向不良が発生した。
実施例1において、着色保護層4をハーフトーンマスクで形成せず、着色層と同じ1.2μm形成し、また、透明電極開口部6を着色保護層4の順テーパー部に形成せずに作製した結果、着色保護層4上に形成された透明電極層5が、着色層3上に形成された透明電極層5よりも上部に位置するため、この部分で液晶配向の乱れを起こし、表示ムラとなった。
着色保護層の比抵抗が8×1014Ω・cm程度では10Vの電圧印加で配向不良が生じた。
着色保護層がない場合は、着色層の比抵抗が8×1013Ω・cm程度では5Vの電圧印加で、比抵抗が8×1014Ω・cm程度では10Vの電圧印加で配向不良が生じた。
すなわち、配向不良が生じるかどうかは印加する電圧に依存することがわかった。
実用上は10Vの印加で配向不良が生じなければ十分なので、着色層もしくは着色保護層のいずれかの比抵抗を5×1014Ω・cm程度に設定すれば配向不良が生じないと言える。
2:遮光層
3:着色層
31:R着色層
32:G着色層
33:B着色層
4:保護層もしくは着色保護層
5:透明電極層
6:感光性樹脂層
7:透明電極の開口部
8:隙間
10:フォトマスク
Claims (4)
- 透光性基板上に少なくとも、複数の着色層、前記着色層及び着色保護層の一部を露出する開口部を有する透明電極層が積層されてなるカラーフィルタ基板であって、比抵抗値が5×10 14 Ω・cm以下である着色層の上には、複数の着色層のうち一つの着色層を形成した材料からなる着色保護層が形成され、開口部より露出する着色保護層の比抵抗値が5×1014 Ω・cm以上であることを特徴とするカラーフィルター基板。
- 着色保護層の膜端部における断面形状は順テーパー形状を有し、この順テーパー部において透明電極層と重なっていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルター基板。
- 着色保護層の厚みは、0.1〜0.7μmであることを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板。
- 透光性基板上に少なくとも、複数の着色層を順に形成する工程、着色保護層を形成する工程、透明電極層を形成する工程、透明電極層に開口部を形成する工程を含むカラーフィルター基板の製造方法において、着色保護層は、複数の着色層のうち、最後に形成される着色層と同時に形成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のカラーフィルター基板の製造方法。
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