JP5134959B2 - 音響波により動作する素子および該素子の製造方法 - Google Patents
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Description
A)犠牲基板の上に第1の金属層と圧電層と構造形成された第2の金属層から成る層構造を形成するステップと、
B)この層構造を基板と固定的に接合するステップと、
C)犠牲基板を除去するステップと、
D)第1の金属層を構造形成するステップと、
E)上記の層構造を第1の金属層の側で別の基板と固定的に接合するステップ
を有している。
21,22 第2のゲートの端子
A 第1の共振器R1の第1の電極
A′ 第2の共振器R2の第1の電極
B 第1の共振器R1の第2の電極
B′ 第2の共振器R2の第2の電極
DS1,DS2 誘電層
G1 第1の基準電位
G2 第2の基準電位
MEj j番目の金属層、j=1〜3
MF1 第1の導電面
MF2 第2の導電面
OS 犠牲基板
PS,PS1,PS2 圧電層
R1 第1の共振器
R2 第2の共振器
SS 層系
S1 第1の基板
S2 第2の基板
W1 第1の変換器
W2 第2の変換器
x 長手方向
y 横断方向
z 垂直方向
Claims (4)
- ガイド音響波により動作する素子において、
基板上に配置された層系と第1の共振器と第2の共振器とが設けられており、
前記層系は、圧電層(PS1)、該圧電層(PS1)の上に配置された第1の金属層(ME1)、前記圧電層の下に配置された第2の金属層(ME2)、および1つの金属層の上に直接配置された誘電層(DS)を含んでおり、
前記層系は2つの基板の間に配置されており、当該2つの基板はウェハボンディングにより層構造に接合されているか、または厚膜として前記層構造に被着されており、
前記第1の共振器は、前記第1の金属層(ME1)の上に形成された第1および第2の電極(A、B)を備え、該第1および第2の電極は、波の伝播方向で周期的に配置された電極構造体を有しており、前記第1および第2の電極(A、B)の電極構造体は交互に配置されていて第1の変換器(W1)を成しており、電気的励起は水平方向に生じ、
前記第2の共振器は、前記第1の共振器と音響的に結合されかつ該第1の共振器とは電気的に絶縁されており、
前記第2の共振器は第2の変換器(W2)を有し、該第2の変換器(W2)は相互にかみ合った電極(A′,B′)を備えており、
前記第1の共振器の電極は第1の電気的ゲートを形成しており、音響的に結合された前記第2の共振器の電極は第2の電気的ゲートを形成しており、
前記音響的結合は垂直方向に生じ、
前記層系は導波体を成しており、該導波体を介してガイド音響体積波が横方向に案内され、
前記両方の共振器は前記導波体を介して互いに結合されていることを特徴とする、
音響波により動作する素子。 - ガイド音響波により動作する素子において、
基板上に配置された層系と第1の共振器と第2の共振器とが設けられており、
前記層系は、圧電層(PS1)、該圧電層(PS1)の上に配置された第1の金属層(ME1)、前記圧電層の下に配置された第2の金属層(ME2)、および1つの金属層の上に直接配置された誘電層(DS)を含んでおり、
前記層系は2つの基板の間に配置されており、当該2つの基板はウェハボンディングにより層構造に接合されているか、または厚膜として前記層構造に被着されており、
前記第1の共振器は、前記第1の金属層(ME1)の上に形成された第1の電極(A)と前記第2の金属層(ME2)の上に形成された第2の電極(B)とを備え、前記第1および第2の電極(A、B)の電極構造体は第1の変換器(W1)を成しており、電気的励起は垂直方向に生じ、
前記第2の共振器は、前記第1の共振器と音響的に結合されかつ該第1の共振器とは電気的に絶縁されており、
前記第2の共振器は、前記第1の金属層(ME1)に形成された第1の電極(A′)と前記第2の金属層(ME2)に形成された第2の電極(B′)とを有し、前記第1の第1の電極(A′)と前記第2の電極(B′)は第2の変換器(W2)を形成しており、
前記第1の共振器の電極は第1の電気的ゲートを形成しており、音響的に結合された前記第2の共振器の電極は第2の電気的ゲートを形成しており、
前記音響的結合は水平方向に生じ、
前記層系は導波体を成しており、該導波体を介してガイド音響体積波が横方向に案内され、
前記両方の共振器は前記導波体を介して互いに結合されていることを特徴とする、
音響波により動作する素子。 - 請求項1記載の素子において、
前記両方の共振器は、圧電層を含んだ結合系を介して横断方向(y)で互いに音響的に結合されていることを特徴とする素子。 - 請求項2記載の素子において、
前記両方の共振器は、圧電層を含んだ結合系を介して長手方向(x)で互いに音響的に結合されていることを特徴とする素子。
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US8925163B2 (en) * | 2006-09-18 | 2015-01-06 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt | Method of manufacturing laterally coupled BAW thin films |
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FR2936100B1 (fr) * | 2008-09-18 | 2010-09-17 | Direction Generale Pour L Arme | Dispositif a ondes acoustiques d'interfaces. |
US8513863B2 (en) * | 2009-06-11 | 2013-08-20 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Piezoelectric resonator with two layers |
JP5526858B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2014-06-18 | 株式会社村田製作所 | 弾性境界波フィルタ装置 |
US8610518B1 (en) | 2011-05-18 | 2013-12-17 | Triquint Semiconductor, Inc. | Elastic guided wave coupling resonator filter and associated manufacturing |
US20120293520A1 (en) * | 2011-05-19 | 2012-11-22 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Piezoelectric resonators with configurations having no ground connections to enhance electromechanical coupling |
US9406865B2 (en) * | 2011-08-19 | 2016-08-02 | Qualcomm Incorporated | Composite piezoelectric laterally vibrating resonator |
US9093979B2 (en) * | 2012-06-05 | 2015-07-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Laterally-coupled acoustic resonators |
DE102013100286B3 (de) * | 2013-01-11 | 2014-06-05 | Epcos Ag | Breitbandiges Filter in Abzweigtechnik |
FR3004289B1 (fr) * | 2013-04-08 | 2015-05-15 | Soitec Silicon On Insulator | Composant a ondes acoustiques de surface et sa methode de fabrication |
Family Cites Families (32)
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---|---|---|---|---|
DE2231467C3 (de) * | 1972-06-27 | 1975-02-13 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Piezoelektrische Anordnung und Verfahren zur Vermeidung von Über Sprechkapazitäten |
US3931598A (en) * | 1974-12-17 | 1976-01-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Normal reflective array compressor and method |
JPS5338284A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Crystal vibrator |
JPS5375888A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-05 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Crystal vibrator |
JPS5910610B2 (ja) * | 1977-11-15 | 1984-03-10 | ティーディーケイ株式会社 | 超音波トランスデユ−サ |
US4329666A (en) * | 1980-08-11 | 1982-05-11 | Motorola, Inc. | Two-pole monolithic crystal filter |
JPS58173912A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Hiroshi Shimizu | 圧電体屈曲振動子および圧電フィルタ |
JPS61127218A (ja) * | 1984-11-26 | 1986-06-14 | Toshiba Corp | 圧電薄膜共振子 |
US4598261A (en) * | 1985-05-24 | 1986-07-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Microwave saw monochromator |
JPH01308070A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
EP0362478B1 (de) * | 1988-09-14 | 1995-05-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Akustische Verzögerungsleitung |
JP2983252B2 (ja) * | 1990-05-14 | 1999-11-29 | 株式会社東芝 | 圧電薄膜デバイス |
US5249355A (en) * | 1991-10-31 | 1993-10-05 | Hughes Aircraft Company | Method of fabricating a multilayer electrical circuit structure |
US5294898A (en) * | 1992-01-29 | 1994-03-15 | Motorola, Inc. | Wide bandwidth bandpass filter comprising parallel connected piezoelectric resonators |
US5910756A (en) * | 1997-05-21 | 1999-06-08 | Nokia Mobile Phones Limited | Filters and duplexers utilizing thin film stacked crystal filter structures and thin film bulk acoustic wave resonators |
JPH1117489A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-01-22 | Kyocera Corp | 圧電共振子およびラダー型フィルタ |
JPH11284478A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Kyocera Corp | 圧電共振子およびラダー型フィルタ |
JP3303772B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2002-07-22 | 株式会社村田製作所 | 圧電体素子 |
US6060818A (en) | 1998-06-02 | 2000-05-09 | Hewlett-Packard Company | SBAR structures and method of fabrication of SBAR.FBAR film processing techniques for the manufacturing of SBAR/BAR filters |
US6121856A (en) * | 1998-08-21 | 2000-09-19 | Lockheed Martin Corporation | Bulk acoustic wave device with lamb wave mode selection |
DE19914468C1 (de) * | 1999-03-30 | 2000-09-07 | Siemens Ag | Bauelement |
GB0014963D0 (en) | 2000-06-20 | 2000-08-09 | Koninkl Philips Electronics Nv | A bulk acoustic wave device |
JP2002368576A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-20 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性波素子 |
US6720844B1 (en) * | 2001-11-16 | 2004-04-13 | Tfr Technologies, Inc. | Coupled resonator bulk acoustic wave filter |
US6670866B2 (en) * | 2002-01-09 | 2003-12-30 | Nokia Corporation | Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers |
JP3815424B2 (ja) * | 2002-11-08 | 2006-08-30 | 株式会社村田製作所 | 弾性境界波装置 |
DE10319554B4 (de) * | 2003-04-30 | 2018-05-09 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren |
DE10325281B4 (de) * | 2003-06-04 | 2018-05-17 | Snaptrack, Inc. | Elektroakustisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung |
DE102004049499B4 (de) * | 2004-10-11 | 2017-12-21 | Snaptrack, Inc. | Mit akustischen Volumenwellen arbeitende Schaltung und Bauelement mit der Schaltung |
DE102004049498A1 (de) | 2004-10-11 | 2006-04-13 | Epcos Ag | Mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US7098758B2 (en) * | 2004-11-03 | 2006-08-29 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustically coupled thin-film resonators having an electrode with a tapered edge |
JP4772866B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-09-14 | エヌエックスピー ビー ヴィ | バルク音波共振器装置 |
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2004
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Cited By (1)
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