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JP5133205B2 - Capacitive coupling type touch panel and display device with touch panel - Google Patents

Capacitive coupling type touch panel and display device with touch panel Download PDF

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JP5133205B2
JP5133205B2 JP2008285548A JP2008285548A JP5133205B2 JP 5133205 B2 JP5133205 B2 JP 5133205B2 JP 2008285548 A JP2008285548 A JP 2008285548A JP 2008285548 A JP2008285548 A JP 2008285548A JP 5133205 B2 JP5133205 B2 JP 5133205B2
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Description

本発明は、静電容量結合方式タッチパネルとそれを実装する表示装置に係り、特に、樹脂ペン入力に対応する静電容量結合方式タッチパネルに関する。   The present invention relates to a capacitively coupled touch panel and a display device on which the capacitively coupled touch panel is mounted, and more particularly to a capacitively coupled touch panel that supports resin pen input.

タッチパネルは、表示装置と組み合わせることで、表示装置の表示領域に対応するタッチパネル画面を指やペンでタッチ(押圧)することで位置を検知して、位置座標などを表示装置に入力する機能を有する機器である。   When combined with a display device, the touch panel has a function of detecting a position by touching (pressing) a touch panel screen corresponding to the display area of the display device with a finger or a pen and inputting position coordinates or the like to the display device. Equipment.

その動作原理から、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、音響パルス方式、超音波方式、電磁誘導結合方式など様々な方式が存在する。   From its operating principle, there are various systems such as a resistive film system, a capacitive coupling system, an infrared system, an acoustic pulse system, an ultrasonic system, and an electromagnetic induction coupling system.

その中でも、抵抗膜方式と静電容量結合方式タッチパネルは、コストの点で優位であり、近年、携帯電話や超小型のパーソナルコンピュータなどのモバイル機器に搭載されて、表示装置と組み合わせ入力装置として用いられている。   Among them, the resistive film type and capacitive coupling type touch panel are advantageous in terms of cost, and have recently been installed in mobile devices such as mobile phones and ultra-small personal computers and used as display devices and combination input devices. It has been.

抵抗膜方式タッチパネルは、ベースとなるガラスなどの透明基板に対して、その表面にギャップスペーサを介して、タッチ面となる対向する基板(ポリエチレンテレフタレートフィルムなど)が貼り付けられた構造を有している。これらの基板はその向かい合う面に、インジウム酸化スズ膜といった透明電極が格子状の形成されている。   The resistive touch panel has a structure in which an opposing substrate (such as a polyethylene terephthalate film) serving as a touch surface is attached to a transparent substrate such as glass serving as a base via a gap spacer on the surface thereof. Yes. These substrates have a transparent electrode such as an indium tin oxide film formed in a lattice pattern on the opposite surface.

タッチされない状態では、スペーサによりこれらの電極は基板間で接触しない。タッチ面となる基板にタッチすると、圧力により基板がたわみ、ベース基板に接近し、電極は基板間で接触する。このとき、各基板面の透明電極の抵抗による分圧比を計測してタッチされた位置が検出されて、表示装置への位置入力信号となる。故に、抵抗膜方式タッチパネルでは、基板面の電極同士が接触することが必要不可欠である。また、基板面の電極同士が接触することで位置検出することから、樹脂製のペンでの入力も可能である。   When not touched, the spacers do not contact these electrodes between the substrates. When touching a substrate to be a touch surface, the substrate bends due to pressure, approaches the base substrate, and the electrodes contact each other. At this time, the touched position is detected by measuring the voltage division ratio due to the resistance of the transparent electrode on each substrate surface, and becomes a position input signal to the display device. Therefore, in a resistive film type touch panel, it is indispensable that the electrodes on the substrate surface are in contact with each other. In addition, since the position is detected by contacting the electrodes on the substrate surface, input with a resin pen is also possible.

静電容量方式のタッチパネルは、表示装置表示領域に対応するタッチパネル基板上のタッチパネル画面に、タッチされた位置を検出するパターン化させた透明電極が形成され、タッチパネル画面周辺には透明電極からの位置検出信号を取り出す配線が形成され、位置検出信号を外部の検出回路に出力するためにの配線回路などを備えている。   In a capacitive touch panel, a patterned transparent electrode that detects the touched position is formed on the touch panel screen on the touch panel substrate corresponding to the display device display area, and the position from the transparent electrode is formed around the touch panel screen. A wiring for extracting the detection signal is formed, and a wiring circuit for outputting the position detection signal to an external detection circuit is provided.

一般に、高速にタッチされた位置を検出できる利点があり、指タッチを基本として、指先と位置検出電極との間での静電容量の変化を捉えて位置を検出する。例えばXY位置を検出する場合に、XY位置検出電極間は絶縁された構造を有している。   In general, there is an advantage that a position touched at high speed can be detected. Based on finger touch, a position is detected by detecting a change in capacitance between the fingertip and the position detection electrode. For example, when detecting the XY position, the XY position detection electrodes are insulated from each other.

一般的な静電容量方式のタッチパネルでは、完全な絶縁物でタッチした場合に、表面静電気が変化しにくく位置を検出できない。このため、樹脂製のペンなどでは入力は不可能であり、導電性を持ったタッチペンが必要となる。   In a general capacitive touch panel, the surface static electricity hardly changes and the position cannot be detected when touching with a complete insulator. For this reason, input is impossible with a resin pen or the like, and a conductive touch pen is required.

抵抗膜方式タッチパネルの例としては、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4が知られている。   Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, and Patent Document 4 are known as examples of the resistive touch panel.

静電容量方式タッチパネルの例としては、特許文献5、特許文献6が知られている。   As examples of the capacitive touch panel, Patent Documents 5 and 6 are known.

ペン入力可能なタッチパネル入力装置として、静電結合方式と超音波方式を組み合わせたものが、特許文献7に知られている。   As a touch panel input device capable of pen input, Patent Document 7 discloses a combination of an electrostatic coupling method and an ultrasonic method.

特開平5−113843号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-113843 特開平9−185457号公報JP-A-9-185457 特開2004−117646号公報JP 2004-117646 A 特開2005−31805号公報JP 2005-31805 A 特開2008−32756号公報JP 2008-32756 A 特開2008−134522号公報JP 2008-134522 A 特開平8−179872号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-179872

先述のように、一般に、静電容量方式のタッチパネルは、指先と位置検出電極との間での静電容量の変化を捉えて位置を検出するので、完全な絶縁物でタッチした場合に、表面静電気が変化しにくく位置を検出できない。このため、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチしたときに、位置検出電極との間での静電容量の変化を起こせず、入力が不可能である課題がある。   As described above, in general, a capacitive touch panel detects a position by detecting a change in capacitance between a fingertip and a position detection electrode. Static electricity is difficult to change and position cannot be detected. For this reason, when touched with a resin pen or other insulator, there is a problem that the capacitance cannot be changed between the position detection electrode and input is impossible.

本発明の目的は、静電容量方式タッチパネルに有する高速にタッチされた位置を検出できる利点を活かすべく、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチしたときに、位置検出できる静電容量方式タッチパネルを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a capacitive touch panel that can detect a position when touched with a resin pen or other insulator in order to take advantage of the high-speed touch position of the capacitive touch panel. Is to provide.

上述の目的を達成するために、本発明の静電容量方式タッチパネルは、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチしたときに位置検出できる、以下の特徴を有している。   In order to achieve the above-described object, the capacitive touch panel of the present invention has the following features that can detect the position when touched with a resin pen or other insulator.

本発明の静電容量結合方式タッチパネルは、透明基板上にXY位置座標を検出する電極回路を有し、前記XY位置座標電極と対向する隔絶された位置に浮遊電極を有し、前記浮遊電極をペンでタッチしてXY位置座標電極との間を接近させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生し、これによりペンでタッチされた位置を検出する機能を有する。   The capacitively coupled touch panel of the present invention has an electrode circuit for detecting XY position coordinates on a transparent substrate, and has a floating electrode at an isolated position facing the XY position coordinate electrode. Capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode by touching with the pen and bringing the XY position coordinate electrode closer, thereby detecting the position touched with the pen .

このとき、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、XY位置座標電極との間の距離が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する。この静電容量結合の発生位置を検出することで、ペンでタッチされた位置を検出できる。このため、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチされても、位置検出電極との間での静電容量の変化を引き起こすことが可能となる。   At this time, the floating electrode is pushed by the load when touched with the pen, and the distance between the XY position coordinate electrode approaches and capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. To do. By detecting the generation position of this capacitive coupling, the position touched with the pen can be detected. For this reason, even if it touches with resin-made pens and other insulators, it becomes possible to cause the change of the electrostatic capacitance between position detection electrodes.

上記のXY位置座標電極と浮遊電極は、透明電極からなり、透明電極材料としては酸化物透明電極が適している。酸化物透明電極には、インジウム酸化スズ膜や、酸化インジウム酸化亜鉛膜、酸化亜鉛膜を用いることができる。これらは,電導度がある程度高く,可視光を透過させるという機能を有する。   Said XY position coordinate electrode and floating electrode consist of transparent electrodes, and an oxide transparent electrode is suitable as a transparent electrode material. An indium tin oxide film, an indium zinc oxide film, or a zinc oxide film can be used for the oxide transparent electrode. These have high conductivity to some extent and have a function of transmitting visible light.

本発明の静電容量結合方式タッチパネルでは、XY位置座標電極と対向する隔絶された位置に浮遊電極が形成されている。このとき、XY位置座標電極回路と対向して絶縁膜を介している構造を有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、絶縁膜が荷重により厚み方向に変形し、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生し、これによりペンでタッチされた位置を検出することが可能となる。   In the capacitive coupling type touch panel of the present invention, the floating electrode is formed at an isolated position facing the XY position coordinate electrode. At this time, by having a structure through the insulating film facing the XY position coordinate electrode circuit, the floating electrode is pushed by the load when touched with the pen, and the insulating film is deformed in the thickness direction by the load. By approaching the floating electrode and the XY position coordinate electrode, capacitive coupling is generated between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, thereby making it possible to detect the position touched with the pen. .

このとき、上記の絶縁膜は、10μm以上120μm以下の厚みを有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、絶縁膜が荷重により厚み方向に変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前と接近後で、静電容量結合の信号と雑音の比(S/N比)を大きく取れ、位置信号検出が良好に行える。絶縁膜が10μm未満の厚みでは、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前から発生する静電容量結合が信号雑音となってNが大きいために、S/N比が小さい結果となり、位置信号検出が難しいこととなる。絶縁膜が120μm以上の厚みでは、浮遊電極とXY位置座標電極とを小さな荷重では充分に接近させることができず、静電容量結合の発生容量が小さくてSを大きくできず、S/N比が小さい結果となり、位置信号検出が難しいこととなる。   At this time, since the insulating film has a thickness of 10 μm or more and 120 μm or less, the floating electrode is pushed by a load when touched with a pen, and the insulating film is deformed in the thickness direction by the load, so that the floating electrode When the capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode due to the closeness between the XY position coordinate electrode and the XY position coordinate electrode, Capacitive coupling signal and noise ratio (S / N ratio) can be increased, and position signal detection can be performed satisfactorily. When the insulating film has a thickness of less than 10 μm, capacitive coupling that occurs before the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other becomes signal noise and N is large, resulting in a small S / N ratio. It will be difficult to detect. When the insulating film has a thickness of 120 μm or more, the floating electrode and the XY position coordinate electrode cannot be sufficiently approached with a small load, the capacitance generated by the capacitive coupling is small and S cannot be increased, and the S / N ratio. As a result, position signal detection becomes difficult.

また、上記の絶縁膜が、80%以上100%以下の光透過率特性を有することで、表示装置と組み合わせた際の表示性能に優れた静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能である。光透過率が80%未満では、表示の輝度が小さい問題が生じる。   In addition, since the above insulating film has a light transmittance characteristic of 80% or more and 100% or less, a capacitively coupled touch panel excellent in display performance when combined with a display device can be realized. . If the light transmittance is less than 80%, there arises a problem that the luminance of the display is small.

また、上記の絶縁膜が、1.30以上1.52以下の屈折率特性を有することで、表示装置と組み合わせた際の表示性能に優れた静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能である。   In addition, since the above insulating film has a refractive index characteristic of 1.30 or more and 1.52 or less, it is possible to realize a capacitively coupled touch panel excellent in display performance when combined with a display device. is there.

また、浮遊電極上層に浮遊電極を保護する保護層があることで、外部からの荷重により、浮遊電極自体を傷つけることなく保護し、静電容量結合方式タッチパネルとしての性能を保持することが可能となる。また、本保護層が透明基板からなる場合もあり、外部からの荷重により、浮遊電極自体を傷つけることなく保護できる。   In addition, since there is a protective layer that protects the floating electrode on the upper layer of the floating electrode, it is possible to protect the floating electrode itself without damaging it by an external load and maintain the performance as a capacitively coupled touch panel. Become. In addition, the protective layer may be made of a transparent substrate, and can be protected without damaging the floating electrode itself by an external load.

本発明の静電容量結合方式タッチパネルでは、XY位置座標電極と対向して空間層を介している構造を有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、空間層が荷重により厚み方向に圧縮変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生し、これによりペンでタッチされた位置を検出することが可能となる。   In the capacitive coupling type touch panel of the present invention, the floating electrode is pushed by a load when touched with a pen by facing the XY position coordinate electrode and the space layer is interposed, and the space layer is Capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode by being compressed and deformed in the thickness direction by the load and approaching between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. The position can be detected.

空間層が、10μm以上120μm以下の厚みの空間を有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、空間層が荷重により厚み方向に圧縮変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前と接近後で、静電容量結合の信号と雑音の比(S/N比)を大きく取れ、位置信号検出が良好に行える。   Since the space layer has a space with a thickness of 10 μm or more and 120 μm or less, the floating electrode is pushed by the load when touched with the pen, and the space layer is compressed and deformed in the thickness direction by the load, and the floating electrode and the XY When the capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode due to the proximity between the position coordinate electrodes, the capacitance before and after the approach between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. A large ratio (S / N ratio) between the combined signal and noise can be obtained, and the position signal can be detected satisfactorily.

このとき、浮遊電極がXY位置座標電極を形成した透明基板に対向する第2の透明基板に形成される場合もある。この第2の透明基板を押しつけることで、浮遊電極とXY位置座標電極との間に存在する空間が荷重により厚み方向に圧縮変形する。   At this time, the floating electrode may be formed on the second transparent substrate facing the transparent substrate on which the XY position coordinate electrode is formed. By pressing the second transparent substrate, the space existing between the floating electrode and the XY position coordinate electrode is compressed and deformed in the thickness direction by a load.

本発明の静電容量結合方式タッチパネルでは、XY位置座標電極と対向して液体層を介している構造を有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、液体層が荷重により厚み方向に変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生し、これによりペンでタッチされた位置を検出することが可能となる。   In the capacitive coupling type touch panel of the present invention, the floating electrode is pushed by a load when touched with a pen by facing the XY position coordinate electrode and via the liquid layer, so that the liquid layer is When the load is deformed in the thickness direction and the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other, capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched by the pen Can be detected.

この液体層が、10μm以上120μm以下の厚みの空間を有することで、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、空間層が荷重により厚み方向に圧縮変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前と接近後で、静電容量結合の信号と雑音の比を大きく取れ、位置信号検出が良好に行える。   Since this liquid layer has a space with a thickness of 10 μm or more and 120 μm or less, the floating electrode is pushed by a load when touched with a pen, and the space layer is compressed and deformed in the thickness direction by the load, When capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode due to the proximity between the XY position coordinate electrodes, electrostatic capacitance is generated before and after the approach between the floating electrode and the XY position coordinate electrodes. The ratio of capacitive coupling signal and noise can be increased, and position signal detection can be performed satisfactorily.

このとき、浮遊電極がXY位置座標電極回路を形成した透明基板に対向する第2の透明基板に形成される場合もある。この第2の透明基板を押しつけることで、浮遊電極とXY位置座標電極との間に存在する液体層が荷重により厚み方向に変形する。   At this time, the floating electrode may be formed on the second transparent substrate facing the transparent substrate on which the XY position coordinate electrode circuit is formed. By pressing the second transparent substrate, the liquid layer existing between the floating electrode and the XY position coordinate electrode is deformed in the thickness direction by a load.

また、上記の液体層が、80%以上100%以下の光透過率特性を有することで、表示装置と組み合わせた際の表示性能に優れた静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能である。光透過率が80%未満では、表示の輝度が小さい問題が生じる。   In addition, since the liquid layer has light transmittance characteristics of 80% or more and 100% or less, a capacitively coupled touch panel excellent in display performance when combined with a display device can be realized. . If the light transmittance is less than 80%, there arises a problem that the luminance of the display is small.

また、上記の液体層が、1.30以上1.52以下の屈折率特性を有することで、表示装置と組み合わせた際の表示性能に優れた静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能である。   In addition, since the liquid layer has a refractive index characteristic of 1.30 or more and 1.52 or less, it is possible to realize a capacitively coupled touch panel excellent in display performance when combined with a display device. is there.

上述した本発明のペン入力機能に対応した静電容量結合方式タッチパネルと、液晶表示装置などの表示装置と組み合わせて実装することで、ペンでタッチされた位置を検出する機能を有する表示装置を実現することが可能となる。   A display device having a function of detecting a position touched with a pen is realized by mounting in combination with the capacitive coupling type touch panel corresponding to the pen input function of the present invention described above and a display device such as a liquid crystal display device. It becomes possible to do.

このとき、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチしたときに位置検出できる表示装置を実現することが可能となる。   At this time, it is possible to realize a display device capable of detecting a position when touched with a resin pen or other insulator.

本発明の目的は、樹脂製のペンや他の絶縁物でタッチしたときに、位置検出できるペン入力機能に対応した静電容量方式タッチパネル、ならびに、このペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルと表示装置と組み合わせたペンでタッチされた位置を検出する機能を有する表示装置を実現することができる。   An object of the present invention is to provide a capacitive touch panel corresponding to a pen input function capable of detecting a position when touched with a resin pen or other insulator, and a capacitive touch panel corresponding to the pen input function. And a display device having a function of detecting a position touched with a pen combined with the display device.

以下、本発明の実施の形態について、図1ないし13を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1の断面図に示す実施例1のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   A touch panel device of Example 1 shown in the sectional view of FIG. 1 was produced under the following conditions.

本実施例のタッチパネル装置は、透明基板101の片面に位置座標を検出するための座標検出回路層102が形成されている。この回路層は、座標電極103と105となる透明電極が絶縁膜104と106を介して配置される。   In the touch panel device of this embodiment, a coordinate detection circuit layer 102 for detecting position coordinates is formed on one surface of the transparent substrate 101. In this circuit layer, transparent electrodes to be the coordinate electrodes 103 and 105 are arranged via insulating films 104 and 106.

透明基板101としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスや、無アルカリガラス、また化学強化ガラスといったガラス基板が適している。また、透明性を有するポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフレタートなどのポリエステルフィルム、耐熱性と透明性の高いポリイミドフィルムも知られており、このような透明性を有する樹脂系基板を用いてもよい。   As the transparent substrate 101, a glass substrate such as soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, non-alkali glass, or chemically strengthened glass is suitable. Further, polyester films such as polyethylene terephthalate having transparency and polyethylene naphthalate, and polyimide films having high heat resistance and transparency are also known, and a resin-based substrate having such transparency may be used.

座標電極103と105となる透明電極としては、電導度がある程度高く,可視光を透過させるという機能を有するインジウム酸化スズ膜や、酸化インジウム酸化亜鉛膜、酸化亜鉛などの酸化物透明電極が適している。   As the transparent electrode to be the coordinate electrodes 103 and 105, an indium tin oxide film having a certain degree of conductivity and a function of transmitting visible light, an oxide transparent electrode such as an indium zinc oxide film and zinc oxide is suitable. Yes.

座標電極の厚みは、電導度と透明性との相関から任意に設定される。また、座標電極の形状も、検出回路としての静電容量結合の信号と雑音の比からの位置信号検出が良好に行える性能を得るために、任意に設定される。   The thickness of the coordinate electrode is arbitrarily set from the correlation between conductivity and transparency. In addition, the shape of the coordinate electrode is also arbitrarily set in order to obtain a performance capable of satisfactorily detecting the position signal from the ratio of the capacitive coupling signal and the noise as the detection circuit.

座標電極103と105のそれぞれは、タッチパネル装置において、X位置座標とY位置座標に対応する座標電極となる。座標電極103と105の上下関係がXYに固有となる必要はない。すなわち、103をX位置を検出するX位置座標電極、105をY位置を検出するY位置座標電極としてもよいし、103をY位置を検出するY位置座標電極、105をX位置を検出するX位置座標電極としてもよい。   Each of the coordinate electrodes 103 and 105 is a coordinate electrode corresponding to the X position coordinate and the Y position coordinate in the touch panel device. The vertical relationship between the coordinate electrodes 103 and 105 need not be unique to XY. That is, 103 may be an X position coordinate electrode that detects an X position, 105 may be a Y position coordinate electrode that detects a Y position, 103 is a Y position coordinate electrode that detects a Y position, and 105 is an X position that detects an X position. It may be a position coordinate electrode.

座標電極103と105となる透明電極は、例えば、インジウム酸化スズ膜をよく知られる真空中のスパッタリング法を用いて、厚さ5〜100nm成膜する。次に、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、ホトレジストを塗布し、露光、現像により所望の座標電極パターンを形成する。次に、得られたホトレジストパターンをマスクとして、透明電極をエッチングによりパターンを形成し、ホトレジストを除去して、透明電極からなる所望の座標電極パターンを得る。   As the transparent electrode to be the coordinate electrodes 103 and 105, for example, an indium tin oxide film is formed with a thickness of 5 to 100 nm by using a well-known sputtering method in vacuum. Next, using a well-known photolithography technique, a photoresist is applied, and a desired coordinate electrode pattern is formed by exposure and development. Next, using the obtained photoresist pattern as a mask, the transparent electrode is etched to form a pattern, and the photoresist is removed to obtain a desired coordinate electrode pattern made of the transparent electrode.

インジウム酸化スズ膜をエッチングする際には臭化水素酸水溶液などの酸性系液をエッチング液として用いればよい。   When etching the indium tin oxide film, an acidic liquid such as a hydrobromic acid aqueous solution may be used as the etching liquid.

絶縁膜104と106としては、光透過性のある絶縁膜材料が適している。膜厚は、光透過率や絶縁膜材料の誘電率を考慮して選択することができる。絶縁膜を比誘電率3〜4とした場合に、膜厚は1〜20μmが適している。   As the insulating films 104 and 106, a light-transmitting insulating film material is suitable. The film thickness can be selected in consideration of the light transmittance and the dielectric constant of the insulating film material. When the insulating film has a relative dielectric constant of 3 to 4, the film thickness is suitably 1 to 20 μm.

絶縁膜層の材料としては、感光性材料を用いると上述の座標検出回路層102を形成する際の開口パターンの形成に適している。アクリル系樹脂やアクリルエポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂をベースポリマに感光剤と組み合わせることで、光照射された部分が現像溶解して除去されるポジ型感光性材料や光照射されていない部分が現像溶解して除去されるネガ型感光性材料が知られており、これらを用いることが可能である。現像液としては、それぞれの感光性材料に依存して、アルカリ水溶液や有機溶剤を用いることが可能である。   As a material for the insulating film layer, a photosensitive material is suitable for forming an opening pattern when forming the coordinate detection circuit layer 102 described above. By combining acrylic resin, acrylic epoxy resin, or siloxane resin with a base polymer and a photosensitizer, the light-sensitive part is developed and dissolved and removed, and the positive photosensitive material that is not exposed to light is developed. Negative photosensitive materials that are dissolved and removed are known and can be used. As the developer, an aqueous alkali solution or an organic solvent can be used depending on the photosensitive material.

絶縁膜は、画像表示装置の性能を下げないために、透過率80%以上の光透過性を有することが必要である。上述の絶縁膜材料において、ネガ型感光性材料では、ベースポリマと感光剤などの成分が可視光領域(400nm〜800nm)での光吸収が少ないものを選択すれば、光透過性を実現できる。また、ポジ型感光性材料ではベースポリマが可視光領域での光吸収が少ないものを選択すると共に、感光剤は、光脱色(ホトブリーチング)処理を行い、可視光領域での光透過性を向上させることが可能である。   The insulating film needs to have a light transmittance of a transmittance of 80% or more so as not to lower the performance of the image display device. In the above-described insulating film material, if the negative photosensitive material is selected such that the components such as the base polymer and the photosensitive agent have little light absorption in the visible light region (400 nm to 800 nm), light transmittance can be realized. In addition, a positive photosensitive material with a base polymer that absorbs less light in the visible light region is selected, and the photosensitizer is subjected to a photobleaching process to improve light transmission in the visible light region. It is possible to improve.

具体的に、座標検出回路層102は以下の工程で形成することが可能である。   Specifically, the coordinate detection circuit layer 102 can be formed by the following steps.

インジウム酸化スズ膜をスパッタリング法を用いて厚さ20nmを透明基板101上の全面に成膜する。次に、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、ホトレジストを塗布し、露光、現像により、下層のインジウム酸化スズが露出した所望のパターンを形成する。次に、ホトレジストパターンをマスクとして、露出したインジウム酸化スズを臭化水素酸水溶液を用いてエッチングにより除去する。次にホトレジストを除去して、透明電極からなる所望の座標電極103を得る。   An indium tin oxide film having a thickness of 20 nm is formed on the entire surface of the transparent substrate 101 by sputtering. Next, using a well-known photolithography technique, a photoresist is applied, and a desired pattern in which the underlying indium tin oxide is exposed is formed by exposure and development. Next, using the photoresist pattern as a mask, the exposed indium tin oxide is removed by etching using a hydrobromic acid aqueous solution. Next, the photoresist is removed to obtain a desired coordinate electrode 103 made of a transparent electrode.

アルカリ水溶液現像可能なアクリル系ネガ型感光性材料を用いる場合の絶縁膜層形成では、次のような工程を取る。まず、座標電極103が形成された透明基板101上に材料溶液を塗布する。次に、ホットプレートにて90℃、5分間加熱してプリベーク膜を得る。次に、所望のパターンを形成するためのホトマスクを介して、絶縁膜として開口する箇所を除いた面に光照射して光硬化させる。次に、水酸化テトラメチルアンモニウム2.38wt%のアルカリ水溶液を用いて、プリベーク膜を現像し、光照射されていない部分を溶解除去して、絶縁膜に所望の開口を形成する。次いで、ホットプレートにて230℃、10分間加熱硬化して、2μm厚の絶縁膜104を得る。   In the formation of the insulating film layer in the case of using an acrylic negative photosensitive material that can be developed with an alkaline aqueous solution, the following steps are taken. First, a material solution is applied on the transparent substrate 101 on which the coordinate electrode 103 is formed. Next, a prebaked film is obtained by heating on a hot plate at 90 ° C. for 5 minutes. Next, light curing is performed by irradiating light onto the surface excluding a portion opening as an insulating film through a photomask for forming a desired pattern. Next, the prebaked film is developed using a 2.38 wt% alkali aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide, and a portion not irradiated with light is dissolved and removed to form a desired opening in the insulating film. Next, the insulating film 104 having a thickness of 2 μm is obtained by heating and curing on a hot plate at 230 ° C. for 10 minutes.

次に、インジウム酸化スズ膜をスパッタリング法を用いて厚さ20nmを透明基板101上の絶縁膜104を含めて、その上に全面に成膜する。次に、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、ホトレジストを塗布し、露光、現像により、下層のインジウム酸化スズが露出した所望のパターンを形成する。次に、ホトレジストパターンをマスクとして、露出したインジウム酸化スズを臭化水素酸水溶液を用いてエッチングにより除去する。次にホトレジストを除去して、透明電極からなる所望の座標電極105を得る。   Next, an indium tin oxide film is formed on the entire surface including the insulating film 104 on the transparent substrate 101 to a thickness of 20 nm by sputtering. Next, using a well-known photolithography technique, a photoresist is applied, and a desired pattern in which the underlying indium tin oxide is exposed is formed by exposure and development. Next, using the photoresist pattern as a mask, the exposed indium tin oxide is removed by etching using a hydrobromic acid aqueous solution. Next, the photoresist is removed to obtain a desired coordinate electrode 105 made of a transparent electrode.

次に、下層の座標電極層が形成された基板上にアルカリ水溶液現像可能なアクリル系ネガ型感光性材料溶液を塗布する。次に、ホットプレートにて90℃、5分間加熱してプリベーク膜を得る。次に、所望のパターンを形成するためのホトマスクを介して、絶縁膜として開口する箇所を除いた面に光照射して光硬化させる。次に、水酸化テトラメチルアンモニウム2.38wt%のアルカリ水溶液を用いて、プリベーク膜を現像し、光照射されていない部分を溶解除去して、絶縁膜に所望の開口を形成する。次いで、ホットプレートにて230℃、10分間加熱硬化して、2μm厚の絶縁膜106を得る。   Next, an acrylic negative photosensitive material solution that can be developed with an alkaline aqueous solution is applied onto the substrate on which the lower coordinate electrode layer is formed. Next, a prebaked film is obtained by heating on a hot plate at 90 ° C. for 5 minutes. Next, light curing is performed by irradiating light onto the surface excluding a portion opening as an insulating film through a photomask for forming a desired pattern. Next, the prebaked film is developed using a 2.38 wt% alkali aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide, and a portion not irradiated with light is dissolved and removed to form a desired opening in the insulating film. Next, the insulating film 106 having a thickness of 2 μm is obtained by heating and curing on a hot plate at 230 ° C. for 10 minutes.

次に、座標検出回路層102上にペン入力のタッチ荷重により変形する荷重変形絶縁膜107を形成する。絶縁膜107は、10μm以上120μm以下の厚みを有する。荷重変形絶縁膜は、タッチ荷重負荷により変形し、荷重除荷により変形が回復することが重要な特性となる。   Next, a load deformation insulating film 107 that is deformed by a pen input touch load is formed on the coordinate detection circuit layer 102. The insulating film 107 has a thickness of 10 μm to 120 μm. An important characteristic of the load-deformed insulating film is that it is deformed by a touch load, and the deformation is recovered by unloading.

荷重変形絶縁膜107の材料としては、シリコーンゲル材料が好適と挙げられる。
本シリコーンゲルは、シリコーンゴムのモノマーにシリコーンオイルを白金触媒などの作用によって付加させて、通常のシリコーンエラストマーの1/5〜1/10の架橋密度で硬化させた付加重合型シリコーン樹脂である。
As a material of the load deformation insulating film 107, a silicone gel material is preferable.
This silicone gel is an addition polymerization type silicone resin obtained by adding silicone oil to a monomer of silicone rubber by the action of a platinum catalyst or the like and curing it at a crosslinking density of 1/5 to 1/10 of that of a normal silicone elastomer.

ゴム材料は、一般的に物性の温度依存性のために、温度変化による反発弾性率の変動が激しく、また−10℃程度の低温になると固くなり荷重変形特性が低下する。また、ゴムは、圧縮永久歪(圧縮残留歪)が大きく、長期間にわたって負荷が加えられる場合には、ゴムはへたるために荷重変形特性を維持することは困難である。   The rubber material generally has a temperature dependence of physical properties, so that the resilience elastic modulus fluctuates greatly due to a temperature change, and becomes hard at a low temperature of about −10 ° C., and the load deformation characteristics are lowered. In addition, rubber has a large compression set (compression residual strain), and when a load is applied over a long period of time, it is difficult to maintain load-deformation characteristics because the rubber sags.

これに対して、ゲル材料は、およそ−50℃から200℃くらいの環境下でも、機械的な性質(ヤング率:柔らかさとも置き換えることができる)がほぼ一定で良好な荷重変形特性を得ることができる。さらに、ゲル材料は、圧縮残留歪が小さいため、長期間にわたって良好な荷重変形特性を維持することができる。   On the other hand, the gel material obtains good load deformation characteristics with almost constant mechanical properties (Young's modulus: can be replaced with softness) even in an environment of about -50 ° C to 200 ° C. Can do. Furthermore, since the gel material has a small compressive residual strain, it can maintain good load deformation characteristics over a long period of time.

本シリコーンゲル材料は、可視光領域で光透過性も高く、80%以上の光透過率特性を確保することが可能である。   This silicone gel material has high light transmittance in the visible light region, and can ensure light transmittance characteristics of 80% or more.

また、本シリコーンゲル材料は、1.30以上1.52以下の屈折率特性を有することで、表示装置と組み合わせた際の表示性能に優れた静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能である。   In addition, since the silicone gel material has a refractive index characteristic of 1.30 or more and 1.52 or less, it is possible to realize a capacitively coupled touch panel excellent in display performance when combined with a display device. is there.

ここでは、シリコーンゲルを100μmの厚みで形成し、荷重変形絶縁膜107とした。このとき、シリコーンゲル荷重変形絶縁膜は、ペンタッチの荷重82gでその厚みの50%変形する。また、屈折率は1.4、波長400−800nmで光透過率が98%以上である。   Here, a silicone gel is formed to a thickness of 100 μm, and the load deformation insulating film 107 is formed. At this time, the silicone gel load deformable insulating film is deformed by 50% of its thickness with a pen touch load of 82 g. The refractive index is 1.4, the wavelength is 400 to 800 nm, and the light transmittance is 98% or more.

浮遊電極108を形成する。浮遊電極としては、可視光を透過させるという機能を有するインジウム酸化スズ膜や、酸化インジウム酸化亜鉛膜、酸化亜鉛などの酸化物透明電極が適している。酸化物材料をスパッタリング法を用いて所望の開口が形成された金属マスクを介して厚さ5〜100nm成膜することで、所望の浮遊電極108が得られる。   The floating electrode 108 is formed. As the floating electrode, an indium tin oxide film having a function of transmitting visible light, an oxide transparent electrode such as an indium zinc oxide film and zinc oxide is suitable. A desired floating electrode 108 is obtained by depositing an oxide material with a thickness of 5 to 100 nm through a metal mask having a desired opening formed by a sputtering method.

また、このような酸化物電極としては、透明酸化物導電材料の微粒子を溶液に分散された塗布材料を用いることができる。このような塗布材料から、周知のインクジェット塗布技術やスクリーン印刷技術を用いることで、所望のパターンを形成し、100℃から230℃で加熱焼成することで、溶媒などの揮発性分を除去して、透明酸化物導電パターンとすることで、浮遊電極108を得る。   As such an oxide electrode, a coating material in which fine particles of a transparent oxide conductive material are dispersed in a solution can be used. From such a coating material, a known pattern is formed by using a well-known inkjet coating technique or screen printing technique, and baked at 100 to 230 ° C. to remove volatile components such as a solvent. The floating electrode 108 is obtained by using a transparent oxide conductive pattern.

ここでは、スパッタリング法を用いて所望の開口が形成された金属マスクを介して、15nm厚のインジウム酸化スズ膜を形成し、浮遊電極108とした。   Here, an indium tin oxide film having a thickness of 15 nm is formed through a metal mask in which a desired opening is formed by sputtering, and the floating electrode 108 is obtained.

以上詳述した材料構成や工程を用いて、図1の断面図に示す静電容量結合方式タッチパネル装置を得た。   The capacitive coupling type touch panel device shown in the cross-sectional view of FIG. 1 was obtained using the material configuration and processes detailed above.

これにより、位置座標電極回路と対向して荷重変形絶縁膜を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重82gにより浮遊電極は押されて、荷重変形絶縁膜がその厚みの50%変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   As a result, the floating electrode is present through the load deformation insulating film facing the position coordinate electrode circuit, so that the floating electrode is pushed by the touch load 82g of the resin pen, and the load deformation insulating film is By changing 50% of the thickness, the gap between the floating electrode and the XY position coordinate electrode approaches, so that capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched with the pen Can be detected, and a capacitive touch panel corresponding to the pen input function is obtained.

図2に示す実施例2のタッチパネル付き液晶表示装置を以下の条件で作製した。   A liquid crystal display device with a touch panel of Example 2 shown in FIG. 2 was produced under the following conditions.

液晶表示装置201の液晶表示領域202に対向する面に、実施例1(図1)で得られたタッチパネル203を重ね合わせて固定する。タッチパネル203は、タッチパネル位置検出回路制御用IC205を実装したフレキシブルプリント配線基板206が接続されている。このフレキシブルプリント配線基板206は、信号を液晶表示装置201に入力する目的でタッチパネル203と液晶表示装置201を接続する。液晶表示装置201は、液晶表示用制御IC208を実装し、フレキシブルプリント配線基板207を接続している。フレキシブルプリント配線基板207を、例えば携帯電話の信号回路とを接続することで、液晶表示装置201に表示画像信号を送る働きをする。   The touch panel 203 obtained in Example 1 (FIG. 1) is overlapped and fixed on the surface of the liquid crystal display device 201 facing the liquid crystal display region 202. The touch panel 203 is connected to a flexible printed wiring board 206 on which a touch panel position detection circuit control IC 205 is mounted. The flexible printed circuit board 206 connects the touch panel 203 and the liquid crystal display device 201 for the purpose of inputting signals to the liquid crystal display device 201. The liquid crystal display device 201 is mounted with a liquid crystal display control IC 208 and connected to a flexible printed wiring board 207. By connecting the flexible printed wiring board 207 to, for example, a signal circuit of a mobile phone, the display image signal is transmitted to the liquid crystal display device 201.

実施例1で得られたタッチパネル装置は、位置座標電極回路と対向して荷重変形絶縁膜を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重82gにより浮遊電極は押されて、荷重変形絶縁膜がその厚みの50%変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となる。これにより、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルと表示装置と組み合わせたペンでタッチされた位置を検出する機能を有する表示装置を得る。   The touch panel device obtained in Example 1 has a structure in which a floating electrode exists through a load deformation insulating film facing the position coordinate electrode circuit, so that the floating electrode is pressed by the touch load 82g of the resin pen. Then, the load deformation insulating film is deformed by 50% of its thickness, and the floating electrode and the XY position coordinate electrode come close to each other, so that capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. Thus, the position touched with the pen can be detected. As a result, a display device having a function of detecting a position touched with a pen in combination with a capacitive touch panel corresponding to the pen input function and the display device is obtained.

本実施例では、実施例1で得られたタッチパネル装置を用いているが、後述の実施例で得られたタッチパネル装置を用いても同様である。   In this example, the touch panel device obtained in Example 1 is used, but the same applies to the touch panel device obtained in Examples described later.

図3に示す実施例3のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   A touch panel device of Example 3 shown in FIG. 3 was produced under the following conditions.

実施例1(図1)で得られたタッチパネルの最表面に表面保護層301を形成した。   A surface protective layer 301 was formed on the outermost surface of the touch panel obtained in Example 1 (FIG. 1).

保護層の材料としては、実施例1の絶縁膜104と106に用いられた光透過性のある絶縁膜材料が適している。   As the material for the protective layer, the light-transmitting insulating film material used for the insulating films 104 and 106 in Example 1 is suitable.

また、上述の感光性材料に限らず、アクリル系樹脂やアクリルエポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂をベースポリマに熱硬化材料のみと組み合わせた熱硬化性材料も適している。   Further, not only the above-described photosensitive material, but also a thermosetting material in which an acrylic resin, an acrylic epoxy resin, or a siloxane resin is combined with only a thermosetting material in a base polymer is suitable.

さらには、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスや、無アルカリガラス、また化学強化ガラスといったガラス基板を貼り合わせて、表面保護層301として用いることが可能である。また、透明性を有するポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフレタートなどのポリエステルフィルム、耐熱性と透明性の高いポリイミドフィルムなどの透明性を有する樹脂系基板を貼り合わせて、表面保護層301として用いることが可能である。   Furthermore, a glass substrate such as soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, non-alkali glass, or chemically tempered glass can be attached to be used as the surface protective layer 301. In addition, it can be used as the surface protective layer 301 by laminating a transparent resin-based substrate such as a transparent polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate having high transparency and a polyimide film having high heat resistance and transparency. It is.

これにより、位置座標電極回路と対向して荷重変形絶縁膜を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、荷重変形絶縁膜がその厚みを変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   As a result, the floating electrode is opposed to the position coordinate electrode circuit via the load deformation insulating film, so that the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the load deformation insulating film is By deforming the thickness, the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other, so that capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched with the pen is detected. And a capacitive touch panel corresponding to the pen input function is obtained.

図4の基板平面図に示す実施例4のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   The touch panel device of Example 4 shown in the substrate plan view of FIG. 4 was produced under the following conditions.

透明基板上401に、実施例1(図1)に記載した座標電極103を形成した材料と工程を用いて、X位置座標電極403を形成する。次に、実施例1に記載した材料と工程を用いて絶縁膜104を形成する(図4には絶縁膜104は示していない)。   An X position coordinate electrode 403 is formed on the transparent substrate 401 using the material and the process in which the coordinate electrode 103 described in the first embodiment (FIG. 1) is formed. Next, the insulating film 104 is formed using the materials and steps described in Example 1 (the insulating film 104 is not shown in FIG. 4).

次に、実施例1に記載した座標電極105を形成した材料と工程を用いて、Y位置座標電極404を形成する。   Next, the Y position coordinate electrode 404 is formed by using the material and process for forming the coordinate electrode 105 described in the first embodiment.

X位置座標電極403やY位置座標電極404については、ペンでタッチされた際の荷重により浮遊電極は押されて、絶縁膜が荷重により厚み方向に変形して、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前と接近後で、位置信号検出が良好に行える形状を選択することが可能である。   For the X position coordinate electrode 403 and the Y position coordinate electrode 404, the floating electrode is pushed by the load when touched with the pen, and the insulating film is deformed in the thickness direction by the load, so that the floating electrode and the XY position coordinate electrode are When capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode due to the close proximity, the position signal can be detected well before and after the floating electrode and the XY position coordinate electrode are approached. The shape can be selected.

本実施例では、X位置座標電極403は菱形形状とし、Y位置座標電極404は長方形形状としているが、X位置座標電極を長方形形状とし、Y位置座標電極を菱形形状としてもよい。   In this embodiment, the X position coordinate electrode 403 has a rhombus shape and the Y position coordinate electrode 404 has a rectangular shape, but the X position coordinate electrode may have a rectangular shape and the Y position coordinate electrode may have a rhombus shape.

X位置座標電極403やY位置座標電極404は、タッチパネル基板の座標検出面402の周辺部にある電極回路信号配線405に接続されており、この電極回路信号配線は、接続端子開口406に引き出されている。この接続端子開口は、図2に示すようなタッチパネル位置検出回路制御用ICを実装したフレキシブルプリント配線基板が接続されるものである。   The X position coordinate electrode 403 and the Y position coordinate electrode 404 are connected to the electrode circuit signal wiring 405 in the peripheral portion of the coordinate detection surface 402 of the touch panel substrate, and the electrode circuit signal wiring is drawn out to the connection terminal opening 406. ing. The connection terminal opening is connected to a flexible printed wiring board on which a touch panel position detection circuit control IC as shown in FIG. 2 is mounted.

本実施例では、実施例1のタッチパネル装置の基板平面図とその作製について説明したが、前述の実施例3、後述の実施例6、7、8、12、13のタッチパネル装置の基板平面図とその作製も同様である。   In the present embodiment, the substrate plan view of the touch panel device of the first embodiment and the production thereof have been described, but the substrate plan view of the touch panel device of the above-described third embodiment and later-described embodiments 6, 7, 8, 12, and 13; The production is the same.

図5の基板平面図に示す実施例5のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   The touch panel device of Example 5 shown in the substrate plan view of FIG. 5 was produced under the following conditions.

座標検出面501に、X位置座標電極503とY位置座標電極504がある。これらは、実施例4(図4)に記載した内容で得られる。   On the coordinate detection surface 501, there are an X position coordinate electrode 503 and a Y position coordinate electrode 504. These are obtained with the contents described in Example 4 (FIG. 4).

本実施例では、X位置座標電極503は菱形形状とし、Y位置座標電極504は長方形形状としている。   In this embodiment, the X position coordinate electrode 503 has a rhombus shape, and the Y position coordinate electrode 504 has a rectangular shape.

このとき、浮遊電極502は、これら電極に対応する小さな長方形に孤立分割した形状である。孤立分割された長方形形状の浮遊電極502は、菱形X位置座標電極503と長方形形状Y位置座標電極504とに重なり合うように配置されている。   At this time, the floating electrode 502 has a shape that is isolated and divided into small rectangles corresponding to these electrodes. The rectangular floating electrode 502 which is isolated and divided is arranged so as to overlap the rhombus X position coordinate electrode 503 and the rectangular Y position coordinate electrode 504.

これにより、位置座標電極回路と対向して荷重変形絶縁膜を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、荷重変形絶縁膜がその厚みを変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近することで、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   As a result, the floating electrode is opposed to the position coordinate electrode circuit via the load deformation insulating film, so that the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the load deformation insulating film is By deforming the thickness, the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other, so that capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched with the pen is detected. And a capacitive touch panel corresponding to the pen input function is obtained.

本実施例では、X位置座標電極503は菱形形状とし、Y位置座標電極504は長方形形状としているが、X位置座標電極を長方形形状とし、Y位置座標電極を菱形形状としてもよい。また、X位置座標電極とY位置座標電極の両方が1つの孤立した浮遊電極に重なり合うように配置されていれば、X位置座標電極、Y位置座標電極、浮遊電極の形状は別の形状であってもよい。   In this embodiment, the X position coordinate electrode 503 has a rhombus shape and the Y position coordinate electrode 504 has a rectangular shape. However, the X position coordinate electrode may have a rectangular shape and the Y position coordinate electrode may have a rhombus shape. If both the X position coordinate electrode and the Y position coordinate electrode are arranged so as to overlap one isolated floating electrode, the X position coordinate electrode, the Y position coordinate electrode, and the floating electrode have different shapes. May be.

本実施例では、実施例1のタッチパネル装置を用いた実施例4のタッチパネル装置の基板平面図とその作製について説明したが、前述の実施例3、後述の実施例6、7、8、12、13のタッチパネル装置を用いても同様である。   In the present embodiment, the substrate plan view of the touch panel device of the fourth embodiment using the touch panel device of the first embodiment and the production thereof have been described. However, the above-described third embodiment and later-described embodiments 6, 7, 8, 12, The same applies to 13 touch panel devices.

図6の断面図に示す実施例6のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   A touch panel device of Example 6 shown in the sectional view of FIG. 6 was produced under the following conditions.

ここでは、図3に示す実施例3(図3)のタッチパネル装置に対して、荷重変形絶縁膜の替わりに、気体層を用いたものである。   Here, a gas layer is used instead of the load-deformed insulating film in the touch panel device of Example 3 (FIG. 3) shown in FIG.

実施例1に詳述した材料と工程を用いて、透明基板601上に座標電極602、604、絶縁膜603、605を形成して、X位置座標電極とY位置座標電極を得る。   Using the materials and processes detailed in the first embodiment, coordinate electrodes 602 and 604 and insulating films 603 and 605 are formed on the transparent substrate 601 to obtain an X position coordinate electrode and a Y position coordinate electrode.

タッチパネル基板の座標検出面の周辺部に接着剤を塗布して、額縁接着部606を形成する。   An adhesive is applied to the periphery of the coordinate detection surface of the touch panel substrate to form the frame adhesive portion 606.

この額縁接着部606に、浮遊電極607を形成した透明基板608を貼り合わせる。このとき、浮遊電極はX位置座標電極とY位置座標電極と実施例5(図5)に示すように対応した位置を取る。   A transparent substrate 608 on which the floating electrode 607 is formed is bonded to the frame bonding portion 606. At this time, the floating electrode takes positions corresponding to the X position coordinate electrode and the Y position coordinate electrode as shown in the fifth embodiment (FIG. 5).

額縁接着部606は、熱硬化性や光硬化と熱硬化を組み合わせた高粘度の接着剤を10μm以上120μm以下の厚みで形成される。接着剤に、いわゆるギャップ剤として、直径が10μm以上120μm以下の球形やファイバー状のガラスを混練して、このガラスの厚みで額縁接着部606の厚みを制御する。   The frame adhesive portion 606 is formed of a high-viscosity adhesive having a combination of thermosetting or photocuring and thermosetting with a thickness of 10 μm or more and 120 μm or less. As the so-called gap agent, spherical or fiber glass having a diameter of 10 μm or more and 120 μm or less is kneaded with the adhesive, and the thickness of the frame bonding portion 606 is controlled by the thickness of this glass.

浮遊電極607を形成した透明基板608としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスや、無アルカリガラス、また化学強化ガラスといったガラス基板、透明性を有するポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフレタートなどのポリエステルフィルム、耐熱性と透明性の高いポリイミドフィルムなどの透明性を有する樹脂系基板を用いることが可能である。   Examples of the transparent substrate 608 on which the floating electrode 607 is formed include soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, glass substrate such as alkali-free glass and chemically tempered glass, transparent polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like. It is possible to use a resin-based substrate having transparency such as a polyester film and a polyimide film having high heat resistance and high transparency.

無アルカリガラス0.4mm厚の基板を透明基板として、インジウム酸化スズ膜をスパッタリング法を用いて厚さ15nm成膜する。次に、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、ホトレジストを塗布し、露光、現像により、下層のインジウム酸化スズが露出した所望のパターンを形成する。次に、ホトレジストパターンをマスクとして、露出したインジウム酸化スズを臭化水素酸水溶液を用いてエッチングにより除去する。次にホトレジストを除去して、浮遊電極607を得る。   Using a non-alkali glass 0.4 mm thick substrate as a transparent substrate, an indium tin oxide film is formed to a thickness of 15 nm by sputtering. Next, using a well-known photolithography technique, a photoresist is applied, and a desired pattern in which the underlying indium tin oxide is exposed is formed by exposure and development. Next, using the photoresist pattern as a mask, the exposed indium tin oxide is removed by etching using a hydrobromic acid aqueous solution. Next, the photoresist is removed to obtain the floating electrode 607.

次に、浮遊電極607を形成した透明基板608の裏面を0.2mm厚研磨して、0.2mm厚の透明基板を得る。研磨は、薬液を用いてガラスエッチングする化学研磨技術や、砥粒を研磨剤として機械的に削る機械研磨技術を用いることが可能である。   Next, the back surface of the transparent substrate 608 on which the floating electrode 607 is formed is polished by 0.2 mm to obtain a 0.2 mm thick transparent substrate. For the polishing, a chemical polishing technique in which glass is etched using a chemical solution or a mechanical polishing technique in which abrasive grains are mechanically cut using an abrasive as an abrasive can be used.

直径が100μmのガラスビーズを混練した熱硬化性接着剤をタッチパネル基板の座標検出面の周辺部に塗布して、額縁接着部606を形成する。先の、浮遊電極を形成した0.2mm厚のガラス基板を額縁接着部606で貼り合わせる。このとき、浮遊電極607は、100μmの空間を介して、X位置座標電極とY位置座標電極と実施例5に示すように対応した位置を取る。その後、140℃で60分間加熱することで、接着剤を硬化させる。これによって図6の断面図に示すタッチパネル装置を得る。   A frame adhesive portion 606 is formed by applying a thermosetting adhesive kneaded with glass beads having a diameter of 100 μm to the periphery of the coordinate detection surface of the touch panel substrate. The glass substrate having a thickness of 0.2 mm on which the floating electrode is formed is pasted together with the frame bonding portion 606. At this time, the floating electrode 607 takes a position corresponding to the X position coordinate electrode and the Y position coordinate electrode as shown in the fifth embodiment through a space of 100 μm. Thereafter, the adhesive is cured by heating at 140 ° C. for 60 minutes. Thus, the touch panel device shown in the cross-sectional view of FIG. 6 is obtained.

これにより、位置座標電極回路と対向して気体層(空間層609)を介して浮遊電極607が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、気体層を変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近し、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   As a result, the floating electrode 607 exists through the gas layer (space layer 609) facing the position coordinate electrode circuit, so that the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the gas layer By deforming, the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other, capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched with the pen can be detected Thus, a capacitive touch panel corresponding to the pen input function is obtained.

気体層を用いた場合は、低荷重で層の厚みがなくなるほど、すなわち浮遊電極607が絶縁膜605に接するほどに接近させることが可能であり、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、浮遊電極とXY位置座標電極との接近前と接近後で、静電容量結合の信号と雑音の比を大きく取れ、位置信号検出が良好に行うことが可能である。   When the gas layer is used, it is possible to approach the layer so that the thickness of the layer is reduced with a low load, that is, the floating electrode 607 is in contact with the insulating film 605, and the electrostatic layer is placed between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. When capacitive coupling occurs, before and after the approach between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, the ratio of the capacitive coupling signal and noise can be made large, and the position signal can be detected satisfactorily. .

図7の断面図に示す実施例7のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。   A touch panel device of Example 7 shown in the sectional view of FIG. 7 was produced under the following conditions.

実施例6(図6)で得られた浮遊電極を形成したガラス基板の表面に浮遊電極保護膜701を形成した。   A floating electrode protective film 701 was formed on the surface of the glass substrate on which the floating electrode obtained in Example 6 (FIG. 6) was formed.

浮遊電極保護層701の材料としては、実施例1の絶縁膜104と106に用いられた光透過性のある絶縁膜材料が適している。また、上述の感光性材料に限らず、アクリル系樹脂やアクリルエポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂をベースポリマに熱硬化材料のみと組み合わせた熱硬化性材料も適している。   As the material for the floating electrode protective layer 701, the light-transmitting insulating film material used for the insulating films 104 and 106 in Example 1 is suitable. Further, not only the above-described photosensitive material, but also a thermosetting material in which an acrylic resin, an acrylic epoxy resin, or a siloxane resin is combined with only a thermosetting material in a base polymer is suitable.

これにより、位置座標電極回路と対向して気体層を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、気体層を変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近し、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   Thereby, by having a structure in which the floating electrode exists through the gas layer facing the position coordinate electrode circuit, the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the gas layer is deformed. Capacitance coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and the position touched by the pen can be detected, and the pen input function can be detected. Get the corresponding capacitive touch panel.

気体層を用いた場合は、低荷重で層の厚みがなくなるほど、すなわち浮遊電極がXY位置座標電極の絶縁膜に接するほどに接近させることが可能である。このときの浮遊電極保護層701により、浮遊電極自体を保護する効果が得られる。   When the gas layer is used, it is possible to approach the layer so that the thickness of the layer is reduced with a low load, that is, the floating electrode is in contact with the insulating film of the XY position coordinate electrode. The effect of protecting the floating electrode itself is obtained by the floating electrode protective layer 701 at this time.

図8の断面図に示す実施例8のタッチパネル装置を以下の条件で作製した。
ここでは、実施例6(図6)に記載したタッチパネル装置に対して、空気層の替わりに、液体層を用いたものである。
A touch panel device of Example 8 shown in the sectional view of FIG. 8 was produced under the following conditions.
Here, a liquid layer is used instead of an air layer for the touch panel device described in Example 6 (FIG. 6).

ここでは、タッチパネル基板の座標検出面の周辺部に、直径が100μmのガラスビーズを混練した光硬化の接着剤を塗布して、100μm厚の額縁封止接着層802を形成する。   Here, a photocuring adhesive kneaded with glass beads having a diameter of 100 μm is applied to the periphery of the coordinate detection surface of the touch panel substrate to form a frame sealing adhesive layer 802 having a thickness of 100 μm.

額縁接着部の中に、流動パラフィンを滴下充填して、実施例6に記載した浮遊電極を形成した0.2mm厚のガラス基板を額縁封止接着層802で貼り合わせる。このとき、浮遊電極は、100μmの空間を介して、X位置座標電極とY位置座標電極と実施例5(図5)に示すように対応した位置を取る。その後、接着剤に光を照射させて硬化する。これによって、流動パラフィンを充填した液体層801を有するタッチパネル装置を得る。   In the frame bonding portion, liquid paraffin is dropped and filled, and a glass substrate having a thickness of 0.2 mm on which the floating electrode described in Example 6 is formed is bonded to the frame sealing adhesive layer 802. At this time, the floating electrode takes a position corresponding to the X position coordinate electrode and the Y position coordinate electrode as shown in the fifth embodiment (FIG. 5) through a space of 100 μm. Thereafter, the adhesive is cured by irradiating light. Thus, a touch panel device having a liquid layer 801 filled with liquid paraffin is obtained.

ここで、流動パラフィンとしては、炭化水素系やシリコーンオイル系の無色透明液状材料であり、誘電率が1.9〜3.0の特性を有するものが好適と挙げられる。さらには誘電率が1.9〜2.5を有する材料が好適と挙げられる。   Here, the liquid paraffin is preferably a hydrocarbon-based or silicone oil-based colorless transparent liquid material having a dielectric constant of 1.9 to 3.0. Furthermore, a material having a dielectric constant of 1.9 to 2.5 is preferable.

これにより、位置座標電極回路と対向して透明な液体層801を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、液体層を変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近し、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   As a result, the floating electrode is present through the transparent liquid layer 801 facing the position coordinate electrode circuit, so that the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen and deforms the liquid layer. As a result, the floating electrode and the XY position coordinate electrode approach each other, and capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, so that the position touched by the pen can be detected. A capacitive touch panel corresponding to the input function is obtained.

液体層を用いた場合は、低荷重で層の厚みがなくなるほど、すなわち浮遊電極がXY位置座標電極の絶縁膜に接するほどに接近させることが可能である。   When the liquid layer is used, it is possible to make the layer approach as the thickness of the layer is reduced with a low load, that is, the floating electrode is in contact with the insulating film of the XY position coordinate electrode.

図9の断面図に示す実施例9のタッチパネル装置について、実施例4(図4)に記載したタッチパネル装置を基本に詳述する。   The touch panel device of Example 9 shown in the sectional view of FIG. 9 will be described in detail based on the touch panel device described in Example 4 (FIG. 4).

タッチパネル透明基板901と、菱形形状のX位置座標電極と長方形形状のY位置座標電極に対して、電極回路信号配線902が接続端子開口903に引き出されている。   An electrode circuit signal wiring 902 is drawn out to the connection terminal opening 903 with respect to the touch panel transparent substrate 901, the rhombus-shaped X position coordinate electrode, and the rectangular Y position coordinate electrode.

このとき、接続端子開口の断面a−a'について、X位置座標電極とY位置座標電極の絶縁膜を形成する際に、電極回路信号配線906に対して開口を形成することで、接続端子開口905を得る。絶縁膜の材料や開口形成方法については、上述の実施例に記載している。   At this time, with respect to the cross section aa ′ of the connection terminal opening, when the insulating film of the X position coordinate electrode and the Y position coordinate electrode is formed, the connection terminal opening is formed by forming an opening with respect to the electrode circuit signal wiring 906. 905 is obtained. The material of the insulating film and the method for forming the opening are described in the above embodiments.

図10の断面図に示す実施例10のタッチパネル装置について、実施例4(図4)に記載したタッチパネル装置を基本に詳述する。   The touch panel device of Example 10 shown in the sectional view of FIG. 10 will be described in detail based on the touch panel device described in Example 4 (FIG. 4).

タッチパネル透明基板1001と、菱形形状の座標電極1003に対して、電極回路信号配線1002が透明基板周辺部に引き出されている。   For the touch panel transparent substrate 1001 and the diamond-shaped coordinate electrode 1003, the electrode circuit signal wiring 1002 is drawn out to the periphery of the transparent substrate.

このとき、透明基板周辺部の断面bについて、タッチパネル透明基板1007上に座標電極1006を形成し、その上に電極回路信号配線1005があり、それらの上に座標電極絶縁膜1004が形成させる構造を有する。   At this time, with respect to the cross section b of the peripheral portion of the transparent substrate, the coordinate electrode 1006 is formed on the touch panel transparent substrate 1007, the electrode circuit signal wiring 1005 is formed thereon, and the coordinate electrode insulating film 1004 is formed thereon. Have.

図11の断面図に示す実施例11のタッチパネル装置について、実施例4(図4)に記載したタッチパネル装置を基本に詳述する。   The touch panel device of Example 11 shown in the sectional view of FIG. 11 will be described in detail based on the touch panel device described in Example 4 (FIG. 4).

タッチパネル透明基板1101と、長方形形状の座標電極1103に対して、電極回路信号配線1102が透明基板周辺部に引き出されている。   For the touch panel transparent substrate 1101 and the rectangular coordinate electrode 1103, the electrode circuit signal wiring 1102 is drawn to the periphery of the transparent substrate.

このとき、透明基板周辺部の断面cについて、タッチパネル透明基板1107上に電極回路信号配線1105があり、その上に座標電極1106を形成し、それらの上に座標電極絶縁膜1104が形成させる構造を有する。   At this time, regarding the cross section c of the peripheral portion of the transparent substrate, the electrode circuit signal wiring 1105 is provided on the touch panel transparent substrate 1107, the coordinate electrode 1106 is formed thereon, and the coordinate electrode insulating film 1104 is formed thereon. Have.

図12の断面図に示す実施例12のタッチパネル装置について、実施例6(図6)に記載したタッチパネル装置を基本に詳述する。   The touch panel device of Example 12 shown in the sectional view of FIG. 12 will be described in detail based on the touch panel device described in Example 6 (FIG. 6).

座標検出電極回路層の上面に間隔厚制御突起パターン1201を形成する。間隔厚制御突起パターンは、上述の感光性材料とホトリソグラフィ技術を用いて、所望のパターン形状、厚みで形成することが可能である。   An interval thickness control projection pattern 1201 is formed on the upper surface of the coordinate detection electrode circuit layer. The interval thickness control projection pattern can be formed with a desired pattern shape and thickness by using the above-described photosensitive material and photolithography technology.

この後、額縁接着部を用いて浮遊電極を形成した透明基板を貼り合わせる。浮遊電極は位置座標電極と実施例5(図5)に示すように対応した位置を取る。   Thereafter, the transparent substrate on which the floating electrode is formed is bonded using the frame bonding portion. The floating electrode takes a position corresponding to the position coordinate electrode as shown in the fifth embodiment (FIG. 5).

これにより、位置座標電極回路と対向して空間層1202を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、空間層を変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近し、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   Thus, by having a structure in which the floating electrode exists through the space layer 1202 facing the position coordinate electrode circuit, the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the space layer is deformed. Since the floating electrode and the XY position coordinate electrode are close to each other, and capacitive coupling is generated between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, it is possible to detect the position touched with the pen, and the pen input function. To obtain a capacitive touch panel.

このとき、間隔厚制御突起パターン1201は、浮遊電極とXY位置座標電極との接近後の間隔を制御することができ、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、静電容量結合の信号量を制御することで、位置信号検出が良好に行うことが可能である。   At this time, the gap thickness control projection pattern 1201 can control the gap between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and when capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. The position signal can be detected satisfactorily by controlling the signal amount of capacitive coupling.

図13の断面図に示す実施例13のタッチパネル装置について、実施例8(図8)に記載したタッチパネル装置を基本に詳述する。   The touch panel device of Example 13 shown in the sectional view of FIG. 13 will be described in detail based on the touch panel device described in Example 8 (FIG. 8).

座標検出電極回路層の上面に間隔厚制御突起パターン1301を形成する。間隔厚制御突起パターンは、上述の感光性材料とホトリソグラフィ技術を用いて、所望のパターン形状、厚みで形成することが可能である。   An interval thickness control projection pattern 1301 is formed on the upper surface of the coordinate detection electrode circuit layer. The interval thickness control projection pattern can be formed with a desired pattern shape and thickness by using the above-described photosensitive material and photolithography technology.

この後、額縁封止接着層を形成し、流動パラフィンを滴下充填して、浮遊電極を形成したガラス基板を額縁接着部で貼り合わせる。   Thereafter, a frame sealing adhesive layer is formed, liquid paraffin is dropped and filled, and the glass substrate on which the floating electrode is formed is bonded to the frame adhesive portion.

これにより、位置座標電極回路と対向して空間層1302を介して浮遊電極が存在する構造を有することで、樹脂製のペンのタッチ荷重により浮遊電極は押されて、空間層を変形させることで、浮遊電極とXY位置座標電極の間が接近し、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生して、ペンでタッチされた位置を検出することが可能となり、ペン入力機能に対応する静電容量方式タッチパネルを得る。   Thus, by having a structure in which the floating electrode exists through the space layer 1302 facing the position coordinate electrode circuit, the floating electrode is pushed by the touch load of the resin pen, and the space layer is deformed. Since the floating electrode and the XY position coordinate electrode are close to each other, and capacitive coupling is generated between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, it is possible to detect the position touched with the pen, and the pen input function. To obtain a capacitive touch panel.

このとき、間隔厚制御突起パターン1301は、浮遊電極とXY位置座標電極との接近後の間隔を制御することができ、浮遊電極とXY位置座標電極の間に静電容量結合が発生する際に、静電容量結合の信号量を制御することで、位置信号検出が良好に行うことが可能である。   At this time, the gap thickness control protrusion pattern 1301 can control the gap between the floating electrode and the XY position coordinate electrode, and when capacitive coupling occurs between the floating electrode and the XY position coordinate electrode. The position signal can be detected satisfactorily by controlling the signal amount of capacitive coupling.

実施例1のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 1. FIG. 実施例2のタッチパネル付き液晶表示装置を説明する斜視図The perspective view explaining the liquid crystal display device with a touch panel of Example 2. FIG. 実施例3のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 3. FIG. 実施例4のタッチパネル装置を説明するための基板平面図The board | substrate top view for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 4. FIG. 実施例5のタッチパネル装置を説明するため基板平面図Substrate plan view for explaining the touch panel device of Example 5 実施例6のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 6. FIG. 実施例7のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 7. FIG. 実施例8のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 8. FIG. 実施例9のタッチパネル装置の接続端子部を説明するための平面図と断面図(a−a')The top view and sectional drawing (aa ') for demonstrating the connection terminal part of the touchscreen apparatus of Example 9. FIG. 実施例10のタッチパネル装置の額縁部を説明するための平面図と断面図(b)The top view and sectional view (b) for explaining the frame part of the touch panel device of Example 10 実施例11のタッチパネル装置の額縁部を説明するための平面図と断面図(c)The top view and sectional drawing for demonstrating the frame part of the touchscreen apparatus of Example 11 (c). 実施例12のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 12. FIG. 実施例13のタッチパネル装置を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the touchscreen apparatus of Example 13.

符号の説明Explanation of symbols

101・・・透明基板、102・・・座標検出回路層、103・・・座標電極、
104・・・絶縁膜、105・・・座標電極、106・・・絶縁膜、
107・・・荷重変形絶縁膜、108・・・浮遊電極、
201・・・液晶表示装置、202・・・液晶表示領域、203・・・タッチパネル
204・・・樹脂ペン、205・・・タッチパネル位置検出回路制御用IC
206・・・フレキシブルプリント配線基板、
207・・・フレキシブルプリント配線基板、208・・・液晶表示用制御IC
301・・・表面保護層、
401・・・透明基板、402・・・座標検出面、403・・・X位置座標電極
404・・・Y位置座標電極、405・・・電極回路信号配線
406・・・接続端子開口、
501・・・座標検出面、502・・・浮遊電極、503・・・X位置座標電極
504・・・Y位置座標電極、
601・・・透明基板、602・・・座標電極、603・・・絶縁膜、
604・・・座標電極、605・・・絶縁膜、606・・・額縁接着部、
607・・・浮遊電極、608・・・透明基板、609・・・空間層
701・・・浮遊電極保護膜、
801・・・液体層、802・・・額縁封止接着層、
901・・・タッチパネル透明基板、902・・・電極回路信号配線
903・・・接続端子開口、904・・・座標検出回路絶縁膜、
905・・・接続端子開口、906・・・電極回路信号配線、
907・・・タッチパネル透明基板、
1001・・・タッチパネル透明基板、1002・・・電極回路信号配線
1003・・・座標電極、1004・・・座標電極絶縁膜、
1005・・・電極回路信号配線、1006・・・座標電極層
1007・・・タッチパネル透明基板、
1101・・・タッチパネル透明基板、1102・・・電極回路信号配線、
1103・・・座標電極、1104・・・座標電極絶縁膜、
1105・・・電極回路信号配線、1106・・・座標電極層、
1107・・・タッチパネル透明基板、
1201・・・間隔厚制御突起パターン、1202・・・空間層、
1301・・・間隔厚制御突起パターン、1302・・・液体層
101 ... Transparent substrate, 102 ... Coordinate detection circuit layer, 103 ... Coordinate electrode,
104 ... insulating film, 105 ... coordinate electrode, 106 ... insulating film,
107 ... load-deformation insulating film, 108 ... floating electrode,
201 ... Liquid crystal display device, 202 ... Liquid crystal display area, 203 ... Touch panel 204 ... Resin pen, 205 ... Touch panel position detection circuit control IC
206 ... flexible printed wiring board,
207 ... Flexible printed circuit board, 208 ... Control IC for liquid crystal display
301 ... surface protective layer,
401 ... transparent substrate, 402 ... coordinate detection surface, 403 ... X position coordinate electrode 404 ... Y position coordinate electrode, 405 ... electrode circuit signal wiring 406 ... connection terminal opening,
501 ... Coordinate detection surface, 502 ... floating electrode, 503 ... X position coordinate electrode 504 ... Y position coordinate electrode,
601 ... Transparent substrate, 602 ... Coordinate electrode, 603 ... Insulating film,
604 ... coordinate electrode, 605 ... insulating film, 606 ... frame adhesion part,
607 ... floating electrode, 608 ... transparent substrate, 609 ... space layer 701 ... floating electrode protective film,
801 ... Liquid layer, 802 ... Frame sealing adhesive layer,
901 ... Touch panel transparent substrate, 902 ... Electrode circuit signal wiring 903 ... Connection terminal opening, 904 ... Coordinate detection circuit insulating film,
905... Connection terminal opening, 906... Electrode circuit signal wiring,
907 ... transparent touch panel,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1001 ... Touch-panel transparent substrate, 1002 ... Electrode circuit signal wiring 1003 ... Coordinate electrode, 1004 ... Coordinate electrode insulating film,
1005 ... Electrode circuit signal wiring, 1006 ... Coordinate electrode layer 1007 ... Touch panel transparent substrate,
1101 ... Touch panel transparent substrate, 1102 ... Electrode circuit signal wiring,
1103 ... coordinate electrode, 1104 ... coordinate electrode insulating film,
1105 ... Electrode circuit signal wiring, 1106 ... Coordinate electrode layer,
1107: Touch panel transparent substrate,
1201... Spacing thickness control projection pattern, 1202... Spatial layer,
1301... Interval thickness control projection pattern, 1302... Liquid layer

Claims (7)

第一の透明基板と、
前記第一の透明基板上に設けられ、XY位置座標を検出するXY座標電極を備え、
当該XY座標電極が、静電容量結合により、入力された位置を検出する静電容量方式タッチパネルにおいて、
前記XY座標電極に対向し隔離された位置に、それぞれが孤立絶縁されて前記第一の透明基板の面に沿った方向に並んで設けられた複数の浮遊電極と、
前記XY座標電極と前記浮遊電極との間に絶縁膜とを備え、
前記絶縁膜が弾性変形することにより前記XY座標電極と前記浮遊電極との距離が変動することを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
A first transparent substrate;
An XY coordinate electrode provided on the first transparent substrate for detecting XY position coordinates;
In the capacitive touch panel in which the XY coordinate electrode detects an input position by capacitive coupling,
A plurality of floating electrodes that are isolated and insulated from each other and are arranged in a direction along the surface of the first transparent substrate at positions separated from the XY coordinate electrodes ;
An insulating film is provided between the XY coordinate electrode and the floating electrode;
The capacitively coupled touch panel , wherein a distance between the XY coordinate electrode and the floating electrode varies due to elastic deformation of the insulating film .
請求項1において、
前記複数の浮遊電極のそれぞれは、前記XY座標電極に重なり合う位置に設けられていることを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
In claim 1,
Each of the plurality of floating electrodes is provided at a position overlapping with the XY coordinate electrode.
請求項2において、
前記XY座標電極は、X座標電極とY座標電極とを備え、
一つの前記浮遊電極に対し、一組の前記X座標電極とY座標電極が重なり合っていることを特徴する静電容量結合方式タッチパネル。
In claim 2,
The XY coordinate electrode includes an X coordinate electrode and a Y coordinate electrode,
For one of the floating electrode, capacitive coupling type touch panel which is characterized in that overlap each other pair of the X-coordinate electrode and the Y-coordinate electrodes.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記第一の透明基板電極に対向した第二の透明基板とを備え、
前記浮遊電極は、透明電極であり、かつ前記第二の透明基板上に設けられていることを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
A second transparent substrate facing the first transparent substrate electrode,
The capacitively coupled touch panel, wherein the floating electrode is a transparent electrode and is provided on the second transparent substrate.
請求項において、
前記絶縁膜が可視光領域で光透過率が80%以上であることを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
In claim 4 ,
The capacitive coupling type touch panel, wherein the insulating film has a visible light region and a light transmittance of 80% or more.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記XY座標電極と前記浮遊電極との間に発生する静電容量結合の変動に基づいて、入力を受け付けることを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
In any one of Claims 1 thru | or 5 ,
A capacitively coupled touch panel that receives an input based on a variation in capacitive coupling generated between the XY coordinate electrode and the floating electrode.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
絶縁物により前記第一の透明基板または第二の透明基板をタッチされることにより、前記XY座標電極と前記浮遊電極との距離が変動し、当該電極間に発生した静電容量結合の変動が変動し、
当該変動を検知することによって、前記絶縁物がタッチされた位置を検出することを特徴とする静電容量結合方式タッチパネル。
In any one of Claims 1 thru | or 5 ,
When the first transparent substrate or the second transparent substrate is touched by an insulator, the distance between the XY coordinate electrode and the floating electrode varies, and the capacitance coupling variation generated between the electrodes varies. Fluctuate,
A capacitively coupled touch panel that detects a position where the insulator is touched by detecting the fluctuation.
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