JP5107993B2 - 圧粉磁心及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態の圧粉磁心の製造方法は、次のような各工程を有する。
(1)非晶質軟磁性合金粉末と、低融点ガラス粉末と、潤滑性樹脂とを混合する第1の混合工程。
(2)混合工程を経た混合物を硼酸もしくは硼酸塩と結着性絶縁樹脂とで被覆する被覆工程。
(3)被覆工程を経た混合物と潤滑性樹脂を混合する第2の混合工程。
(4)第2の混合工程を経た混合物を、加圧成形処理して成形体を作製する成形工程。
(5)成形工程を経た成形体を焼鈍処理する焼鈍工程。
以下、各工程を具体的に説明する。
第1の混合工程では、非晶質軟磁性合金粉末と、低融点ガラスと、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛とを混合機(V型混合機)を使用して混合する。非晶質軟磁性合金粉末として、Si成分が6.7%、B成分が2.5%、Cr成分が2.5%、C成分が0.75%、残り成分がFeであるFe基非晶質軟磁性合金粉末を使用した。潤滑性樹脂を添加することにより、非晶質軟磁性合金粉末同士の滑りを良く出来るので、混合時の密度を向上することができ成形密度を高くすることができる。
被覆工程では、混合工程を経た混合物を硼酸もしくは硼酸塩と結着性絶縁樹脂とで被覆する。硼酸として硼酸の添加量が、非晶質軟磁性合金粉末に対して0.01〜1.20wt%となるようにした2%硼酸水溶液と、結着性絶縁樹脂として、非晶質軟磁性合金粉末に対して2.0wt%のアクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョンとを混合して、120℃で2時間乾燥後する。ここで添加された硼酸は、熱処理工程で、非晶質軟磁性合金粉末の表面に酸化ボロン層を形成する。
前記被覆工程を経た混合物に潤滑性樹脂を混合する第2の混合工程では、結着性絶縁樹脂を被覆した第1の混合物に潤滑性樹脂を混合する。前記被覆工程を経た混合物に対して、潤滑性樹脂として、非晶質軟磁性合金粉末に対して0.4wt%のステアリン酸亜鉛を混合機(V型混合機)を使用して混合する。潤滑性樹脂を添加することにより、混合時の密度を向上させ成形密度を高くすることができる。さらに、成形時の上パンチの抜き圧低減、金型と粉末の接触によるコア壁面の縦筋の発生を防止することが可能である。
第2の混合工程を経た混合物を、加圧成形処理して成形体を作製する成形工程では、潤滑性樹脂を混合した第2の混合物を加圧成形する。前記第2の混合工程を経た第2混合物に対して、室温にて成形圧力1500MPaで加圧成形することにより、成形体を形成する。この時、加圧乾燥された結着性絶縁樹脂は、成形時のバインダーとして作用する。
焼鈍工程では、前記成形体に対して焼鈍処理を行うことで圧粉磁心が作製される。この焼鈍工程は、図3に示すように第1〜第3の3つの領域に分かれる。
第1の製造工程の第1の混合工程と被覆工程では、非晶質軟磁性合金粉末と、低融点ガラスと、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛とを混合し、その後被覆工程において、その混合物に対して硼酸もしくは硼酸塩と結着性絶縁樹脂とで被覆することにより、非晶質軟磁性合金粉末の表面を酸化ホウ素で被覆したが、混合工程において非晶質軟磁性合金粉末の表面を予め酸化ボロンで被覆してもよい。その場合の圧粉磁心の製造方法は、次のような各工程を有する。
(1)非晶質軟磁性合金粉末と、低融点ガラス粉末と、潤滑性樹脂とを混合する第1の混合工程。
(2)混合工程を経た混合物を結着性絶縁樹脂で被覆する被覆工程。
(3)被覆工程を経た混合物と潤滑性樹脂を混合する第2の混合工程。
(4)第2の混合工程を経た混合物を、加圧成形処理して成形体を作製する成形工程。
(5)成形工程を経た成形体を焼鈍処理する焼鈍工程。
第2の製造工程の(3)〜(5)の各工程は、第1の製造工程と同様であるので、(1)第1の混合工程について説明する。
第1の混合工程では、非晶質軟磁性合金粉末にボロンの金属アルコキシドを添加する。その後、低融点ガラスと、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛とを混合機(V型混合機)を使用して混合する。ここで添加するボロンの金属アルコキシドは、非晶質軟磁性合金粉末に添加することにより、水と加水分解し、B2O3の水和物とエタノールになり、このB2O3が、非晶質軟磁性合金粉末の表面に酸化ボロン層を形成する。TMBまたはTEBの添加量は、非晶質軟磁性合金粉末に対して0.1〜1.0wt%の範囲が好ましい。この範囲未満では磁気特性の面で好適ではなく、この範囲を超えると密度が低下する問題が生じることになる。
被覆工程では、結着性絶縁樹脂として、非晶質軟磁性合金粉末に対してアクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョンとを混合して、120℃で2時間乾燥後する。ここで添加するアクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョンの添加量は、第1の製造工程の被覆工程と同様で良い。また、結着性絶縁樹脂としては、アクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョンの他に、ポリプロピレン(PP)エマルジョン、ポリエチレン(PE)エマルジョン、エチレン系共重合樹脂のエマルジョンなどを使用することができる点も同様である。
本発明の実施例1〜11を、表1,2を参照して、以下に説明する。
[測定項目]
測定項目として、圧環強度と透磁率とコアロスを次のような手法により測定する。圧環強度は、JIS 2507に基づき測定した。透磁率は、作製された圧粉磁心に1次巻線(20ターン)を施し、インピーダンスアナライザー(アジレントテクノロジー:4294A)を使用することで、100kHz、0.5Vにおけるインダクタンスから算出した。
第1の特性比較では、結着性絶縁樹脂として添加する硼酸の量の比較を行った。本特性比較で使用する試料は、平均粒径が150μm以下の非晶質軟磁性合金粉末に対して、下記の処理を行うことにより作製した。
項目Cでは、実施例1〜6として、非晶質軟磁性合金粉末と、軟化点が406℃の低融点ガラスを3.0wt%と、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛を0.5wt%とをV型混合機で2時間混合した。その後、結着性絶縁樹脂として、硼酸の添加量が0.01〜1.20wt%となるようにした2%硼酸水溶液と、アクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョン溶液を2.0wt%混合し、120℃で2時間乾燥後、篩通し(目開き300μm)を行った。
第2の特性比較では、成形体に対して焼鈍処理を行う雰囲気の種類及び温度の比較を行った。本特性比較で使用する試料は、平均粒径が150μm以下の非晶質軟磁性合金粉末に対して、下記の処理を行うことにより作製した。
実施例12〜23は、非晶質軟磁性合金粉末を予めB2O3皮膜で覆う場合の実施例である。測定項目については、実施例1〜11と同様である。以下、本発明の実施例12〜23を表3,4を参照して説明する。
第3の特性比較では、非晶質軟磁性合金粉末を予めB2O3皮膜で覆う場合のTMBとTEBの添加量の比較の比較を行った。本特性比較で使用する試料は、平均粒径が150μm以下の非晶質軟磁性合金粉末に対して、下記の処理を行うことにより作製した。
項目Gでは、実施例12〜17及び比較例6として、非晶質軟磁性合金粉末にTMBを非晶質軟磁性合金粉末に対して0.05〜1.5wt%を添加し、B2O3皮膜を形成した。その後、軟化点が406℃の低融点ガラスを3.0wt%と、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛を0.5wt%とをV型混合機で2時間混合した。さらに、結着性絶縁樹脂として、アクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョン溶液を2.0wt%混合し、120℃で2時間乾燥後、篩通し(目開き300μm)を行った。
項目Hでは、実施例18として、非晶質軟磁性合金粉末にTEBを非晶質軟磁性合金粉末に対して0.50wt%を添加し、B2O3皮膜を形成した。その後、軟化点が406℃の低融点ガラスを3.0wt%と、潤滑性樹脂としてステアリン酸亜鉛を0.5wt%とをV型混合機で2時間混合した。さらに、結着性絶縁樹脂として、アクリル酸共重合樹脂(EAA)エマルジョン溶液を2.0wt%混合し、120℃で2時間乾燥後、篩通し(目開き300μm)を行った。
第4の特性比較では、予め非晶質軟磁性合金粉末にTMBとTEBを添加してB2O3皮膜で覆う場合の成形体に対して焼鈍処理を行う雰囲気の種類及び温度の比較を行った。本特性比較で使用する試料は、平均粒径が150μm以下の非晶質軟磁性合金粉末に対して、下記の処理を行うことにより作製した。
本発明は、前記の実施例に限定されるものではない。以下のような他の実施例も包含する。
(a)本発明は、上記のような実施例において作製された圧粉磁心に限定されるものではなく、この圧粉磁心にコイルを巻回することによりチョークコイルを作製する実施形態も包含する。これにより、上述したような第1〜21の実施例において得られた効果を当該チョークコイルにおいても同様に奏することが可能となる。
(b)本発明は、上記のような実施例において作製された圧粉磁心に限定されるものではなく、この圧粉磁心にコイルを巻回することによりチョークコイルを作製する実施形態も含有する。
Claims (10)
- 非晶質軟磁性合金粉末と、潤滑性樹脂と、軟化点が前記非晶質軟磁性合金粉末の結晶化温度以下の低融点ガラスを混合し、
その混合物を結着性絶縁樹脂で被覆し、結着性絶縁樹脂で被覆した混合物と潤滑性樹脂とを混合することで造粒粉を作製し、
得られた造粒粉を加圧成形処理して成形体を作製し、その成形体を窒素雰囲気中で焼鈍し、その後大気中で冷却してなる圧粉磁心において、
前記非晶質軟磁性合金粉末の表面が、非晶質軟磁性合金粉末内のホウ素でなく、外部から供給されたホウ素による酸化ホウ素(B2O3)で被覆されていることを特徴とする圧粉磁心。 - 前記酸化ホウ素被覆が、非晶質軟磁性合金粉末と、潤滑性樹脂と、軟化点が前記非晶質軟磁性合金粉末の結晶化温度以下の低融点ガラスを混合した混合物に硼酸を添加することにより形成したものであることを特徴とする請求項1に記載の圧粉磁心。
- 前記硼酸の添加量が、非晶質軟磁性合金粉末に対して0.02〜1.0wt%であることを特徴とする請求項2に記載の圧粉磁心。
- 前記酸化ホウ素被覆が、前記軟磁性合金粉末にボロンの金属アルコキシドを被覆し、その後、加水分解することにより形成したものであることを特徴とする請求項1に記載の圧粉磁心。
- 前記ボロンの金属アルコキシドがトリメトキシボロンまたはトリエトキシボロンであり、その添加量が非晶質軟磁性合金粉末に対して0.1〜1.0wt%であることを特徴とする請求項4に記載の圧粉磁心。
- 非晶質軟磁性合金粉末と、潤滑性樹脂と、軟化点が前記非晶質軟磁性合金粉末の結晶化温度以下の低融点ガラスを混合する第1の混合工程と、
その混合物を結着性絶縁樹脂で被覆する被覆工程と、
被覆工程を経た混合物と潤滑性樹脂とを混合し造粒粉を作製する第2の混合工程と、
第2の混合工程を経た造粒粉を加圧成形処理して成形体を作製する成形工程と、
成形工程を経た成形体を窒素雰囲気中で焼鈍し、その後大気中で冷却する焼鈍工程とを有する圧粉磁心の製造方法において、
前記非晶質軟磁性合金粉末の表面が、非晶質軟磁性合金粉末内のホウ素でなく、外部から供給されたホウ素による酸化ホウ素(B2O3)で被覆されていることを特徴とする圧粉磁心の製造方法。 - 前記酸化ホウ素被覆が、非晶質軟磁性合金粉末と、潤滑性樹脂と、軟化点が前記非晶質軟磁性合金粉末の結晶化温度以下の低融点ガラスを混合する混合工程の後に、
混合物に硼酸を添加することにより形成したものであることを特徴とする請求項6に記載の圧粉磁心の製造方法。 - 前記硼酸の添加量が、非晶質軟磁性合金粉末に対して0.02〜1.0wt%であることを特徴とする請求項7に記載の圧粉磁心の製造方法。
- 前記酸化ホウ素被覆が、前記軟磁性合金粉末にボロンの金属アルコキシドを被覆し、その後、加水分解することにより形成したものであることを特徴とする請求項6に記載の圧粉磁心の製造方法。
- 前記ボロンの金属アルコキシドがトリメトキシボロンまたはトリエトキシボロンであり、その添加量が非晶質軟磁性合金粉末に対して0.1〜1.0wt%であることを特徴とする請求項9に記載の圧粉磁心の製造方法。
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