JP5156698B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本明細書の残り全体を通して、「整合マーク」および「複数の整合マーク」という用語は、別段の指示がない限り、それぞれ、1つまたは複数の個々の個別でない整合マークを示すために使用する。「個々の」という用語は、各整合マークが、そのタイプの他のものから(すなわち、他の整合マークから)独立していて別のものであることを意味する。「個別でない」という用語は、いくつかの部分に分割されない(例えば、各整合マークが1つの分割されていないエンティティである)ことを意味する。種々のこのようなマークは、本発明の実施形態で使用することができ、本明細書内のドット、ダッシュおよびラインという用語は、単に特定の例にすぎないことを理解されたい。他の形も使用することができる。
図1は、本発明のある実施形態によるリソグラフィ投影装置100の略図である。装置100は、少なくとも1つの放射システム102、個々に制御可能な素子のアレイ104、対象物テーブル106(例えば、基板テーブル)、および投影システム(「レンズ」)108を含む。
今まで本発明の種々の実施形態について説明してきたが、これらの実施形態は単に例示としてのものであって、本発明を制限するものではないことを理解されたい。当業者であれば、本発明の精神および範囲から逸脱することなしに、形状および詳細な点を種々に変更することができることを容易に理解することができるだろう。それ故、本発明の領域および範囲は、上記例示としての実施形態のどれかに限定すべきではなく、添付の特許請求の範囲およびその等価物によってだけ定義すべきである。
102 放射システム
104 個々に制御可能な素子のアレイ
106 対象物テーブル
108 投影システム
110 放射線ビーム
112 ソース
114 基板
116 位置決めデバイス
118 ビーム・スプリッタ
120 目標部分
122 ビーム
124 照明装置
126 調整デバイス
130 インテグレータ
132 コンデンサ
134 干渉計測定デバイス
136 ベース・プレート
140 ビーム・スプリッタ
21,23 凹状ミラー
24 折り返しミラー
30 対象物フィールド
41 プリズム
42,42’ 素子
44 開口絞り
45 素子
46,50,64,81,82,83 ミラー
63 レンズ
71 凸状非球形反射光学素子
72 環状非球形反射光学素子
PB 放射線ビーム
PPM パターニング・アレイ
IL 照明装置
PL 投影システム
Claims (10)
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整する照明システムと、
前記照明システムによって調整された放射線ビームを反射する凹状ミラーと、
前記凹状ミラーによって反射された放射線ビームにパターンを与えるための個々に制御可能な素子を備えるパターニング・アレイと、
基板の目標部分上に前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームを投影する投影システムと、を備え、
前記凹状ミラーは環状をしていて、前記凹状ミラーは、前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームの光軸に沿って配置されている中央開口部を有し、
前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームが、前記パターニング・アレイから前記投影システムへ前記中央開口部を通して伝達されるリソグラフィ装置。 - 前記パターニング・アレイが、前記凹状ミラーによって反射された放射線ビームのテレセントリック性を変える、請求項1に記載の装置。
- 前記凹状ミラーが、それぞれが共通の光軸を有する複数のミラーにより形成される、請求項1または2に記載の装置。
- 前記照明システムが、前記凹状ミラー上に、面平行ビームとして放射線ビームを投影する、請求項1から3のいずれかに記載の装置。
- 前記照明システムが、前記凹状ミラー上に、放射線ビームを発散放射線ビームとして投影する、請求項1から3のいずれかに記載の装置。
- 前記凹状ミラー上に前記照明システムによって調整された放射線ビームを投影するための折り返しミラーをさらに備える、請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- 前記凹状ミラーによって反射された放射線ビームが、前記パターニング・アレイのための対象物フィールドが、前記パターニング・アレイの画像フィールドよりも前記光軸からもっと遠いところに位置するように配置される、請求項1から6のいずれかに記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
凹状ミラーによって伝達される放射線ビームでパターニング・アレイを照明するステップと、
前記パターニング・アレイにより、前記凹状ミラーによって伝達される放射線ビームにパターンを与えるステップと、
投影システムによって基板上に、前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームを投影するステップとを含み、
前記凹状ミラーは環状をしていて、前記凹状ミラーは、前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームの光軸に沿って配置されている中央開口部を有し、
前記パターニング・アレイによってパターンを与えられた放射線ビームが、前記パターニング・アレイから前記投影システムへ前記中央開口部を通して伝達される方法。 - 前記パターニング・アレイにより前記凹状ミラーによって伝達される放射線ビームの光軸を変えるステップをさらに含む、請求項8に記載の方法。
- 前記パターニング・アレイにより前記凹状ミラーによって伝達される放射線ビームのテレセントリック性を変えるステップをさらに含む、請求項8に記載の方法。
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