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JP5154804B2 - Thermosetting resin composition, the cured product, and various articles derived therefrom - Google Patents

Thermosetting resin composition, the cured product, and various articles derived therefrom Download PDF

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JP5154804B2
JP5154804B2 JP2007007054A JP2007007054A JP5154804B2 JP 5154804 B2 JP5154804 B2 JP 5154804B2 JP 2007007054 A JP2007007054 A JP 2007007054A JP 2007007054 A JP2007007054 A JP 2007007054A JP 5154804 B2 JP5154804 B2 JP 5154804B2
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Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、当該組成物を熱硬化させて得られる硬化物、およびこれらから誘導される各種物品に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, a cured product obtained by thermosetting the composition, and various articles derived therefrom.

プラスチックはガラスと比べて軽量で加工性がよいため、レンズなどの光学材料として用いられている。しかし、プラスチックは一般に屈折率が低いためにレンズが厚くなってしまい、軽量という特徴が失われることや、耐熱性が低いなどの問題点がある。このような問題点を解決するものとして、硫黄を含有するチオウレタン樹脂などの高屈折率のプラスチック材料(たとえば、特許文献1参照)が知られているが、耐熱性の点では充分満足しうるものではない。   Plastics are used as optical materials such as lenses because they are lighter and easier to process than glass. However, since plastics generally have a low refractive index, the lens becomes thick, and there are problems such as loss of light weight and low heat resistance. As a solution to such a problem, a plastic material having a high refractive index such as a thiourethane resin containing sulfur (for example, see Patent Document 1) is known, but it can be sufficiently satisfied in terms of heat resistance. It is not a thing.

ところで、有機材料の特性を一層向上させる手段として、有機材料と無機材料とを複合化させることにより、無機材料の特性である高い耐熱性、耐薬品性、高い表面硬度などを付与させた、いわゆる有機−無機ハイブリッド化技術が近年注目されている。当該技術に用いる無機材料の中でも、RSiO3/2で表されるシルセスキオキサンとよばれる化合物は、Rに有機材料との反応点を持たせることで、容易に有機−無機ハイブリッド硬化物を提供できるため、実用化検討が進められている(たとえば、特許文献2〜5参照)。しかしながら、これらの有機−無機ハイブリッド硬化物は耐熱性に優れるものの、一般に屈折率が低いという問題がある。 By the way, as a means of further improving the characteristics of the organic material, by combining the organic material and the inorganic material, the so-called high heat resistance, chemical resistance, high surface hardness, etc., which are the characteristics of the inorganic material, are given. In recent years, organic-inorganic hybrid technology has attracted attention. Among the inorganic materials used in the technology, a compound called silsesquioxane represented by RSiO 3/2 can easily form an organic-inorganic hybrid cured product by giving R a reaction site with an organic material. Since it can be provided, practical application studies are underway (see, for example, Patent Documents 2 to 5). However, these organic-inorganic hybrid cured products are excellent in heat resistance, but generally have a problem of low refractive index.

前記問題点を解決するため、本発明者らは、硫黄を含むチオール基を持つシルセスキオキサンと炭素−炭素二重結合を持つ有機物とをエン−チオール反応させることによって得られる有機−無機ハイブリッド硬化物を提案した(たとえば、特許文献6参照)。該硬化物は耐熱性に優れ、また硫黄を含むため高屈折率であるという特徴があるが、特許文献6には、当該有機−無機ハイブリッドを含有する熱硬化性組成物や該熱硬化物に関しては教示されていない。   In order to solve the above problems, the present inventors have developed an organic-inorganic hybrid obtained by reacting silsesquioxane having a thiol group containing sulfur with an organic substance having a carbon-carbon double bond. A cured product was proposed (see, for example, Patent Document 6). Although this hardened | cured material is excellent in heat resistance, and since it contains sulfur, it has the characteristics that it is high refractive index, patent document 6 is related with the thermosetting composition containing this organic-inorganic hybrid, and this thermosetting material. Is not taught.

特開平3−236386号公報JP-A-3-236386 特許第3653976号公報Japanese Patent No. 36553976 特許第3598749号公報Japanese Patent No. 3598749 特開平10−330485号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-330485 特表2003−533553号公報Special Table 2003-533553 特願2005−219428号明細書Japanese Patent Application No. 2005-219428

本発明は、加熱によって容易に硬化し、耐熱性、耐薬品性、高い表面硬度、高い屈折率などの諸特性を満足しうる硬化物を実現するための熱硬化性樹脂組成物を提供すること、および当該組成物から得られる硬化物を提供することを目的とする。   The present invention provides a thermosetting resin composition for realizing a cured product that is easily cured by heating and that can satisfy various properties such as heat resistance, chemical resistance, high surface hardness, and high refractive index. And a cured product obtained from the composition.

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、チオール基含有アルコキシシラン類の加水分解縮合物と、エポキシ基を有する化合物および/またはイソシアネート基を有する化合物とからなる組成物、およびその熱硬化物によって上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a composition comprising a hydrolysis condensate of a thiol group-containing alkoxysilane, a compound having an epoxy group and / or a compound having an isocyanate group, and its heat It discovered that the said subject could be solved with hardened | cured material, and came to complete this invention.

すなわち、本発明は、一般式(1):
1Si(OR23 (1)
(式中、R1は少なくとも1つのチオール基を有する炭素数1〜8の炭化水素基、または少なくとも1つのチオール基を有する芳香族炭化水素基を表し、R2は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。)で示されるチオール基含有アルコキシシラン類(a1)を加水分解および縮合して得られる縮合物(A)(以下、成分(A)という)、ならびにエポキシ基を有する化合物(B)(以下、成分(B)という)および/またはイソシアネート基を有する化合物(C)(以下、成分(C)という)を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物に関する。また本発明は、当該組成物を熱によって硬化してなる硬化物に関する。さらに本発明は、これらから誘導される各種物品に関する。
That is, the present invention relates to the general formula (1):
R 1 Si (OR 2 ) 3 (1)
(In the formula, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms having at least one thiol group, or an aromatic hydrocarbon group having at least one thiol group, and R 2 represents a hydrogen atom, having 1 to 1 carbon atoms. 8 represents a hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.) A condensate (A) obtained by hydrolysis and condensation of a thiol group-containing alkoxysilane (a1) (hereinafter referred to as component (A)) And a compound (B) having an epoxy group (hereinafter referred to as component (B)) and / or a compound (C) having an isocyanate group (hereinafter referred to as component (C)). The present invention relates to a functional resin composition. The present invention also relates to a cured product obtained by curing the composition with heat. The present invention further relates to various articles derived therefrom.

本発明によれば、耐熱性、耐薬品性、高い表面硬度、高い屈折率などの諸特性が改善された硬化物を提供しうる熱硬化性樹脂組成物を提供できる。また該熱硬化性樹脂組成物から得られる本発明の硬化物は、コーティング剤(導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、OHPフィルム、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、液晶セル用プラスチック基板またはプリズムなどの用途)、接着剤(液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、カラーフィルターまたは光ディスク基板などの用途)、封止材(発光素子、受光素子、光電変換素子、または光伝送関連部品などの用途)などとして有用である。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the thermosetting resin composition which can provide the hardened | cured material in which various characteristics, such as heat resistance, chemical resistance, high surface hardness, and a high refractive index, were improved can be provided. The cured product of the present invention obtained from the thermosetting resin composition is a coating agent (light guide plate, polarizing plate, liquid crystal panel, EL panel, PDP panel, OHP film, optical fiber, color filter, optical disk substrate, lens, liquid crystal Cell plastic substrates or prisms), adhesives (liquid crystal panels, EL panels, PDP panels, color filters, optical disk substrates, etc.), sealing materials (light emitting elements, light receiving elements, photoelectric conversion elements, or optical transmission) This is useful for applications such as related parts).

本発明で用いられる成分(A)は、一般式(1):
1Si(OR23 (1)
(式中、R1は少なくとも1つのチオール基を有する炭素数1〜8の炭化水素基、または少なくとも1つのチオール基を有する芳香族炭化水素基を表し、R2は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。)で示されるチオール基含有アルコキシシラン類(a1)を加水分解および縮合して得られる化合物である。チオール基含有アルコキシシラン類(a1)(以下、成分(a1)という)の具体例としては、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、1,4−ジメルカプト−2−(トリメトキシシリル)ブタン、1,4−ジメルカプト−2−(トリエトキシシリル)ブタン、1,4−ジメルカプト−2−(トリプロポキシシリル)ブタン、1,4−ジメルカプト−2−(トリブトキシシリル)ブタン、2−メルカプトメチル−3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2−メルカプトメチル−3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2−メルカプトメチル−3−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、2−メルカプトメチル−3−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、1,2−ジメルカプトエチルトリメトキシシラン、1,2−ジメルカプトエチルトリエトキシシラン、1,2−ジメルカプトエチルトリプロポキシシラン、1,2−ジメルカプトエチルトリブトキシシランなどがあげられ、該例示化合物はいずれか単独で、または適宜に組み合わせて使用できる。該例示化合物のうち、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランは、加水分解反応の反応性が高く、かつ入手が容易であるため特に好ましい。
Component (A) used in the present invention has the general formula (1):
R 1 Si (OR 2 ) 3 (1)
(In the formula, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms having at least one thiol group, or an aromatic hydrocarbon group having at least one thiol group, and R 2 represents a hydrogen atom, having 1 to 1 carbon atoms. 8 is a compound obtained by hydrolysis and condensation of a thiol group-containing alkoxysilane (a1) represented by 8). Specific examples of the thiol group-containing alkoxysilanes (a1) (hereinafter referred to as component (a1)) include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltripropoxysilane, 3- Mercaptopropyltributoxysilane, 1,4-dimercapto-2- (trimethoxysilyl) butane, 1,4-dimercapto-2- (triethoxysilyl) butane, 1,4-dimercapto-2- (tripropoxysilyl) butane 1,4-dimercapto-2- (tributoxysilyl) butane, 2-mercaptomethyl-3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 2-mercaptomethyl-3-mercaptopropyltriethoxysilane, 2-mercaptomethyl-3-mercapto Propyl tripropoxy Silane, 2-mercaptomethyl-3-mercaptopropyltributoxysilane, 1,2-dimercaptoethyltrimethoxysilane, 1,2-dimercaptoethyltriethoxysilane, 1,2-dimercaptoethyltripropoxysilane, 1, Examples include 2-dimercaptoethyltributoxysilane, and the exemplified compounds can be used alone or in appropriate combination. Among the exemplified compounds, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is particularly preferable because of high reactivity of hydrolysis reaction and easy availability.

また、成分(a1)に加えて、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシランなどのトリアルキルアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのジアルキルジアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのアルキルトリアルコキシシラン類、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどのテトラアルコキシチタン類、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウムなどのテトラアルコキシジルコニウム類などの金属アルコキシド類(a2)(以下、成分(a2)という)を使用しうる。成分(a2)は、いずれか単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらのうち、トリアルキルアルコキシシラン類、ジアルキルジアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類を用いることで、成分(A)の架橋密度を調整することができる。アルキルトリアルコキシシラン類を用いることで、成分(A)中に含まれるチオール基の量を調整することができる。テトラアルコキシチタン類、テトラアルコキシジルコニウム類を用いることで、最終的に得られる熱硬化物の屈折率を高くすることができる。   In addition to component (a1), trialkylalkoxysilanes such as trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, triphenylmethoxysilane, triphenylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxy Dialkyl dialkoxysilanes such as silane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane Methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, Alkyltrialkoxysilanes such as rutriethoxysilane, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetrapropoxytitanium, tetrabutoxytitanium, etc. Metal alkoxides (a2) (hereinafter referred to as component (a2)) such as tetraalkoxyzirconiums such as tetraalkoxytitaniums, tetraethoxyzirconium, tetrapropoxyzirconium, and tetrabutoxyzirconium can be used. The component (a2) can be used either alone or in combination of two or more. Of these, the crosslink density of the component (A) can be adjusted by using trialkylalkoxysilanes, dialkyldialkoxysilanes, and tetraalkoxysilanes. By using alkyltrialkoxysilanes, the amount of thiol groups contained in component (A) can be adjusted. By using tetraalkoxytitaniums or tetraalkoxyzirconiums, the refractive index of the finally obtained thermoset can be increased.

成分(a1)と成分(a2)を併用する場合は、[成分(a1)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数](モル比:1分子あたりに含まれるチオール基の平均個数を示す)が0.2以上であることが好ましい。0.2未満である場合、得られる成分(A)中に含まれるチオール基の数が少なくなるため、熱硬化性が低下するとともに、硬化物の硬度などの物性についての改善効果も不充分となる傾向がある。また、[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数](モル比:1分子あたりに含まれるアルコキシ基の平均個数を示す)が2.5以上3.5以下であることが好ましく、2.7以上3.2以下であることがより好ましい。2.5未満の場合、得られる成分(A)の架橋密度が低く、硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。また、3.5を超える場合、成分(A)を製造する際、ゲル化しやすくなる傾向がある。   When component (a1) and component (a2) are used in combination, [number of moles of thiol group contained in component (a1)] / [total number of moles of component (a1) and component (a2)] (molar ratio: 1 The average number of thiol groups contained per molecule is preferably 0.2 or more. When it is less than 0.2, the number of thiol groups contained in the component (A) to be obtained is reduced, so that the thermosetting property is lowered and the effect of improving the physical properties such as hardness of the cured product is insufficient. Tend to be. [Total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] / [Total number of moles of component (a1) and component (a2)] (molar ratio: alkoxy contained per molecule) The average number of groups) is preferably 2.5 or more and 3.5 or less, and more preferably 2.7 or more and 3.2 or less. When it is less than 2.5, the crosslinking density of the obtained component (A) is low, and the heat resistance of the cured product tends to decrease. Moreover, when it exceeds 3.5, when manufacturing a component (A), it exists in the tendency which becomes easy to gelatinize.

本発明に用いられる成分(A)は、成分(a1)単独やこれに成分(a2)を併用して、それらを加水分解後、縮合させて得ることができる。加水分解反応によって、成分(a1)や成分(a2)に含まれるアルコキシ基が水酸基となり、アルコールが副生する。加水分解反応に必要な水の量は、[加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)が0.4以上10以下であればよく、好ましくは1である。0.4未満の場合、成分(A)中に加水分解されずに残るアルコキシ基があるため好ましくない。また、10を超える場合、後に行う縮合反応(脱水反応)の際に除くべき水の量が多くなるため製造時間が長くなり、経済的に不利である。   Component (A) used in the present invention can be obtained by condensing component (a1) alone or in combination with component (a2), condensing them after hydrolysis. By the hydrolysis reaction, the alkoxy group contained in component (a1) or component (a2) becomes a hydroxyl group, and alcohol is by-produced. The amount of water required for the hydrolysis reaction is [number of moles of water used in hydrolysis reaction] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio). 4 or more and 10 or less, preferably 1. When it is less than 0.4, there is an alkoxy group remaining without being hydrolyzed in the component (A), which is not preferable. On the other hand, when it exceeds 10, the amount of water to be removed in the subsequent condensation reaction (dehydration reaction) increases, so that the production time becomes longer, which is economically disadvantageous.

また、成分(a2)としてテトラアルコキシチタン類、テトラアルコキシジルコニウム類等、特に加水分解性および縮合反応性の高い金属アルコキシド類を併用する場合には、急速に加水分解および縮合反応が進行し、系がゲル化してしまう場合がある。この場合、成分(a1)の加水分解反応を終了させ、実質的にすべての水が消費された状態にした後、該成分(a2)を添加することによって、ゲル化を避けることができる。   In addition, when the component (a2) is used in combination with a tetraalkoxytitanium, a tetraalkoxyzirconium or the like, particularly a metal alkoxide having a high hydrolyzability and condensation reactivity, the hydrolysis and condensation reaction proceeds rapidly, and the system May gel. In this case, gelation can be avoided by adding the component (a2) after the hydrolysis reaction of the component (a1) has been completed and all water has been consumed.

加水分解反応に用いる触媒としては、特に限定はされず、従来公知の加水分解触媒を任意に用いることができる。これらのうちギ酸は、触媒活性が高く、また引き続く縮合反応の触媒としても機能するので好ましい。ギ酸の添加量は、成分(a1)および成分(a2)の合計100重量部に対して、0.1〜25重量部であることが好ましく、1〜10重量部であることがより好ましい。25重量部よりも多いと、得られる熱硬化性樹脂組成物の安定性が低下する傾向があり、また後工程でギ酸を除去できるとしても該除去量が多くなる傾向がある。一方、0.1重量部よりも少ないと、実質的に反応が進行しない、または反応時間が長くなるなどの傾向がある。反応温度、時間は、成分(a1)や成分(a2)の反応性に応じて任意に設定できるが、通常0〜100℃程度、好ましくは20〜60℃、1分〜2時間程度である。該加水分解反応は、溶剤の存在下または不存在下に行うことができる。溶剤の種類は特に限定されず、任意の溶剤を1種類以上選択して用いることができるが、後述の縮合反応に用いる溶剤と同一のものを用いることが好ましい。成分(a1)や成分(a2)の反応性が低い場合は、無溶剤で行うことが好ましい。   The catalyst used for the hydrolysis reaction is not particularly limited, and a conventionally known hydrolysis catalyst can be arbitrarily used. Of these, formic acid is preferred because it has high catalytic activity and also functions as a catalyst for the subsequent condensation reaction. The amount of formic acid added is preferably 0.1 to 25 parts by weight, and more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight as the total of component (a1) and component (a2). When the amount is more than 25 parts by weight, the stability of the resulting thermosetting resin composition tends to decrease, and even if formic acid can be removed in a subsequent step, the removal amount tends to increase. On the other hand, when the amount is less than 0.1 parts by weight, the reaction does not substantially proceed or the reaction time tends to be long. Although reaction temperature and time can be arbitrarily set according to the reactivity of a component (a1) or a component (a2), it is about 0-100 degreeC normally, Preferably it is about 20-60 degreeC, 1 minute-about 2 hours. The hydrolysis reaction can be performed in the presence or absence of a solvent. The type of the solvent is not particularly limited, and one or more arbitrary solvents can be selected and used, but it is preferable to use the same solvent as that used in the condensation reaction described later. When the reactivity of component (a1) or component (a2) is low, it is preferable to carry out without solvent.

上記方法で加水分解反応を行うが、[加水分解されてできた水酸基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)が0.5以上になるように進行させることが好ましく、0.8以上に調整することがさらに好ましい。加水分解反応に続く縮合反応は、加水分解で生じた水酸基間だけでなく、該水酸基と残存アルコキシ基との間でも進行するため、少なくとも半分(モル比が0.5以上)が加水分解されていればよい。   The hydrolysis reaction is carried out by the above method, but the [number of moles of hydroxyl group formed by hydrolysis] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio) is 0. It is preferable to make it progress so that it may become 0.5 or more, and it is still more preferable to adjust to 0.8 or more. The condensation reaction following the hydrolysis reaction proceeds not only between the hydroxyl groups generated by hydrolysis but also between the hydroxyl groups and the remaining alkoxy groups, so that at least half (molar ratio is 0.5 or more) is hydrolyzed. Just do it.

縮合反応においては、前記の水酸基間で水が副生し、また水酸基とアルコキシ基間ではアルコールが副生して、ガラス化する。縮合反応には、従来公知の脱水縮合触媒を任意に用いることができる。前記のように、ギ酸は触媒活性が高く、加水分解反応の触媒と共用できるため好ましい。反応温度、時間は成分(a1)や成分(a2)の反応性に応じてそれぞれ任意に設定できるが、通常は40〜150℃程度、好ましくは60〜100℃、30分〜12時間程度である。   In the condensation reaction, water is by-produced between the hydroxyl groups, and alcohol is by-produced between the hydroxyl groups and the alkoxy group to vitrify. A conventionally known dehydration condensation catalyst can be arbitrarily used for the condensation reaction. As described above, formic acid is preferable because it has high catalytic activity and can be used as a catalyst for hydrolysis reaction. The reaction temperature and time can be arbitrarily set according to the reactivity of the component (a1) or component (a2), but are usually about 40 to 150 ° C., preferably 60 to 100 ° C., about 30 minutes to 12 hours. .

上記方法で縮合反応を行うが、[未反応の水酸基および未反応のアルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)や成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)が0.3以下になるように進行させることが好ましく、0.2以下に調整することがさらに好ましい。0.3を超える場合、未反応の水酸基およびアルコキシ基が熱硬化性樹脂組成物の保管中に縮合反応してゲル化したり、硬化後に縮合反応し揮発分が発生してクラックが発生するなど、硬化物の性能を損なう傾向があるため好ましくない。   Condensation reaction is carried out by the above method. [Total number of moles of unreacted hydroxyl group and unreacted alkoxy group] / [Total number of moles of alkoxy groups contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio ) Is preferably 0.3 or less, and more preferably 0.2 or less. If it exceeds 0.3, the unreacted hydroxyl group and alkoxy group undergo a condensation reaction during storage of the thermosetting resin composition to gel, or the condensation reaction occurs after curing to generate volatile matter and cracks. This is not preferable because it tends to impair the performance of the cured product.

当該縮合反応は、成分(a1)(成分(a2)を併用する場合は両者)の濃度が2〜80重量%程度になるように溶剤希釈して行うことが好ましく、15〜60重量%であることがより好ましい。縮合反応によって生成する水およびアルコールの沸点より高い沸点を有する溶剤を用いると、反応系中よりこれらを留去することができるため好ましい。該濃度が2重量%未満である場合は、得られる熱硬化性組成物に含まれる成分(A)が少なくなるため好ましくない。80重量%を超える場合は、反応中にゲル化したり、生成する成分(A)の分子量が大きくなり過ぎ、得られる熱硬化性組成物の保存安定性が悪くなる傾向がある。溶剤としては、任意の溶剤を1種類以上選択して用いることができる。縮合反応によって生成する水およびアルコールより高い沸点を有する溶剤を用いれば、反応系中よりこれらを留去することができるため好ましい。また、成分(B)も溶剤の一部として用いることができる。   The condensation reaction is preferably performed by diluting the solvent so that the concentration of component (a1) (or both when component (a2) is used in combination) is about 2 to 80% by weight. It is more preferable. It is preferable to use a solvent having a boiling point higher than that of water and alcohol generated by the condensation reaction because these can be distilled off from the reaction system. When the concentration is less than 2% by weight, the component (A) contained in the resulting thermosetting composition decreases, which is not preferable. When it exceeds 80% by weight, gelation occurs during the reaction, or the molecular weight of the component (A) to be generated becomes too large, and the storage stability of the resulting thermosetting composition tends to be poor. As the solvent, one or more arbitrary solvents can be selected and used. It is preferable to use a solvent having a boiling point higher than that of water and alcohol produced by the condensation reaction because these can be distilled off from the reaction system. Component (B) can also be used as part of the solvent.

当該縮合反応の終了後、用いた触媒を除去すると、最終的に得られる熱硬化性樹脂組成物の安定性が向上するため好ましい。除去方法は、用いた触媒に応じて公知各種の方法から適宜に選択できる。例えば、ギ酸を用いた場合は、縮合反応の終了後、該沸点以上に加熱する、減圧するなどの方法により容易に除去でき、この点からもギ酸の使用が好ましい。   It is preferable to remove the used catalyst after completion of the condensation reaction because the stability of the finally obtained thermosetting resin composition is improved. The removal method can be appropriately selected from various known methods depending on the catalyst used. For example, when formic acid is used, it can be easily removed by a method such as heating to above the boiling point or depressurization after completion of the condensation reaction, and formic acid is also preferred in this respect.

本発明で用いられる成分(B)としては、特に限定されず、従来公知のエポキシ基を有する化合物を適宜に用いることができる。たとえば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格含有エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂などがあげられる。これらの化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。該例示化合物のうち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株):商品名「エピコート828」など)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株):商品名「エピコート807」など)、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株):商品名「サントートST−3000」など)、脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株):商品名「セロキサイド2021」など)は、最終的に得られる硬化物が無色透明性、耐熱性等に優れ、かつ入手が容易であるため特に好ましい。   The component (B) used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known compound having an epoxy group can be appropriately used. For example, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, stilbene type Epoxy resin, triazine skeleton-containing epoxy resin, fluorene skeleton-containing epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidylamine-type epoxy resin, triphenolphenolmethane-type epoxy resin, alkyl-modified triphenolmethane-type epoxy resin Biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene skeleton-containing epoxy resin, naphthalene skeleton-containing epoxy resin, arylalkylene type epoxy resin, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among the exemplified compounds, bisphenol A type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name “Epicoat 828” and the like), bisphenol F type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name “Epicoat 807” and the like), Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (Toto Kasei Co., Ltd .: trade name “Santoto ST-3000”, etc.) and alicyclic epoxy resin (Daicel Chemical Industries, Ltd .: trade name “Celoxide 2021”, etc.) The cured product obtained is particularly preferable because it is excellent in colorless transparency, heat resistance and the like and is easily available.

また、成分(B)として、前記化合物よりも高分子量のものを用いることができる。高分子量のものを用いてなる熱硬化性樹脂組成物は、得られる硬化物の可撓性が向上する傾向がある。該高分子量物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂のうち、エポキシ当量が2000g/eq以上のもの(ジャパンエポキシレジン(株):商品名「エピコート1010」、「エピコート4007P」など)、エポキシ変性シリコーン(信越化学工業(株):商品名「X−22−163A」など)、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどがあげられる。これらの化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。   Moreover, as a component (B), a thing with a higher molecular weight than the said compound can be used. Thermosetting resin compositions using high molecular weight products tend to improve the flexibility of the resulting cured product. Examples of the high molecular weight substance include bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin having an epoxy equivalent of 2000 g / eq or more (Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade names “Epicoat 1010”, “Epicoat 4007P”, etc. ), Epoxy-modified silicone (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: trade name “X-22-163A”, etc.), polyethylene glycol diglycidyl ether, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, polyethylene glycol diglycidyl ether is preferable.

また、本発明で用いられる成分(C)は、特に限定されず、従来公知のイソシアネート基を有する化合物を適宜に用いることができる。該ジイソシアネート化合物としては、たとえば芳香族、脂肪族または脂環族の各種公知のジイソシアネート類を使用することができ、より具体的には、たとえば、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’−ジベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネートやダイマー酸のカルボキシル基をイソシアネート基に転化したダイマージイソシアネートなどがあげられる。これらの化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。該例示化合物のうち、イソホロンジイソシアネートは、最終的に得られる硬化物が無色透明性、耐熱性等に優れ、かつ入手が容易であるため特に好ましい。   Moreover, the component (C) used by this invention is not specifically limited, The compound which has a conventionally well-known isocyanate group can be used suitably. As the diisocyanate compound, various known diisocyanates such as aromatic, aliphatic or alicyclic can be used. More specifically, for example, 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4′- Diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4′-dibenzyl isocyanate, dialkyldiphenylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, butane -1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isopropylene diisocyanate, methylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Socyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, lysine diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, 1,3 Examples thereof include bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, methylcyclohexane diisocyanate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, and dimerisocyanate obtained by converting a carboxyl group of dimer acid into an isocyanate group. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among the exemplified compounds, isophorone diisocyanate is particularly preferable because the finally obtained cured product is excellent in colorless transparency, heat resistance and the like and is easily available.

また、成分(C)として、前記化合物よりも高分子量のものを用いることができる。高分子量のものを用いてなる熱硬化性樹脂組成物は、得られる硬化物の可撓性が向上する傾向がある。該高分子量物としては、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオールなどのポリオール類のジイソシアネート変性物、ポリメリックMDI(三井武田ケミカル(株):商品名「コスモネートM」など)などがあげられる。これらの化合物は、単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Moreover, as a component (C), a thing with a higher molecular weight than the said compound can be used. Thermosetting resin compositions using high molecular weight products tend to improve the flexibility of the resulting cured product. Examples of the high molecular weight material include diisocyanate-modified products of polyols such as polycarbonate diol and polyester diol, polymeric MDI (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd .: trade name “Cosmonate M”, etc.) and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製する際に使用可能な触媒としては、特に限定されず、成分(B)を用いる場合には従来公知のエポキシ硬化触媒を用いることができる。例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン類;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類;トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などをあげることができる。硬化触媒は熱硬化性樹脂組成物100重量部に対し、0.01〜5重量部の割合で使用することが好ましい。   The catalyst that can be used when preparing the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known epoxy curing catalyst can be used when the component (B) is used. For example, tertiary amines such as 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2 -Imidazoles such as methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine; Tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / tetraphenylborate, etc. Such as boron salt can be mentioned. The curing catalyst is preferably used at a ratio of 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin composition.

また、成分(C)を用いる場合には従来公知のウレタン化触媒を用いることができる。例えば、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズなどの有機スズ化合物、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン類などをあげることができる。ウレタン化触媒は熱硬化性樹脂組成物100重量部に対し、0.01〜5重量部の割合で使用することが好ましい。   Moreover, when using a component (C), a conventionally well-known urethanation catalyst can be used. For example, organic tin compounds such as dibutyltin dilaurate and tin octylate, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethyl) And tertiary amines such as (aminomethyl) phenol. The urethanization catalyst is preferably used at a ratio of 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin composition.

熱硬化性樹脂組成物の有効成分(A)、(B)または(C)の濃度は、用途に応じて適宜に決定でき、必要に応じて溶剤を配合することができる。溶剤としては、当該成分と非反応性であればよく、各種従来公知のものを適宜選択して用いることができる。熱硬化性樹脂組成物をコーティング剤として用いる場合は、溶剤で希釈し、所望の粘度とすればよい。また、熱硬化性樹脂組成物を1mm以上の厚膜に硬化させる場合や、接着剤として用いる場合には、成分(A)、(B)または(C)の合計濃度を90重量%以上にすることが好ましく、95重量%以上にすることがより好ましい。該合計濃度は、成分(A)と(B)または(C)の濃度と熱硬化性組成物の仕込み時に加えた溶剤の量とより計算で求めてもかまわないし、熱硬化性組成物に含まれる溶剤の沸点以上で2時間程度加熱し、加熱前後の重量変化により求めることもできる。該用途では、90重量%未満の場合、硬化、成形時に発泡したり、硬化物中に溶剤が残存したりして、硬化物の物性が低下する傾向がある。なお、成分(A)合成の際に溶剤を必須使用しているため、該用途に用いる際には、反応終了後、不揮発分含有量が90重量%以上となるよう溶剤を揮発させておけばよい。また、熱硬化性樹脂組成物を調製した後、用いた溶剤を揮発させて、有効成分(A)、(B)または(C)の合計濃度を高めることもできる。   The concentration of the active ingredient (A), (B) or (C) of the thermosetting resin composition can be appropriately determined according to the application, and a solvent can be blended as necessary. The solvent only needs to be non-reactive with the component, and various conventionally known solvents can be appropriately selected and used. When the thermosetting resin composition is used as a coating agent, it may be diluted with a solvent to obtain a desired viscosity. Further, when the thermosetting resin composition is cured to a thick film of 1 mm or more or used as an adhesive, the total concentration of the components (A), (B) or (C) is set to 90% by weight or more. It is preferable that the content be 95% by weight or more. The total concentration may be calculated from the concentration of components (A) and (B) or (C) and the amount of solvent added at the time of charging the thermosetting composition, and is included in the thermosetting composition. It can also be obtained by heating for about 2 hours above the boiling point of the solvent to be obtained and by changing the weight before and after heating. In the application, if it is less than 90% by weight, foaming may occur during curing and molding, or a solvent may remain in the cured product, and the physical properties of the cured product tend to decrease. In addition, since the solvent is indispensably used during the synthesis of component (A), when used in the application, the solvent should be volatilized after the reaction so that the nonvolatile content is 90% by weight or more. Good. Moreover, after preparing a thermosetting resin composition, the used solvent can be volatilized and the total density | concentration of an active ingredient (A), (B) or (C) can also be raised.

本発明の熱硬化性樹脂組成物の調製に際しての成分(A)と(B)または(C)の使用割合は、[成分(A)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(B)に含まれるエポキシ基のモル数または成分(C)に含まれるイソシアネート基のモル数](モル比)が、0.9〜1.1となるよう配合することが好ましく、より好ましくは1.0である。0.9未満である場合は、熱硬化後にもエポキシ基やイソシアネート基が残存し、耐候性が低下する傾向がある。また、1.1を超える場合は、チオール基が残存し、その分解によって悪臭を発生させる場合がある。   The ratio of components (A) and (B) or (C) used in the preparation of the thermosetting resin composition of the present invention is [number of moles of thiol groups contained in component (A)] / [component (B). It is preferable that the number of moles of epoxy groups contained in or the number of moles of isocyanate groups contained in component (C)] (molar ratio) is 0.9 to 1.1, more preferably 1.0. It is. When it is less than 0.9, epoxy groups and isocyanate groups remain even after thermosetting, and the weather resistance tends to be lowered. Moreover, when it exceeds 1.1, a thiol group may remain | survive and a malodor may be generated by the decomposition | disassembly.

成分(B)または(C)の使用に際しては、[成分(B)に含まれるエポキシ基のモル数または成分(C)に含まれるイソシアネート基のモル数]/[成分(B)または成分(C)のモル数](モル比:1分子あたりに含まれるエポキシ基またはイソシアネート基の平均個数を示す)が2以上であることが好ましい。2未満である場合、熱硬化性組成物の硬化性が低くなり、かつ得られる硬化物の架橋密度が低くなるため、硬化物の耐熱性、表面硬度等の物性が低下する傾向がある。   When using component (B) or (C), [number of moles of epoxy group contained in component (B) or number of moles of isocyanate group contained in component (C)] / [component (B) or component (C ) (Molar ratio: the average number of epoxy groups or isocyanate groups contained per molecule) is preferably 2 or more. When it is less than 2, the curability of the thermosetting composition is lowered, and the crosslink density of the obtained cured product is lowered, so that the physical properties such as heat resistance and surface hardness of the cured product tend to be lowered.

また、熱硬化性樹脂組成物には、用途に応じ、前記成分(a1)および/またはその加水分解物(但し、該縮合物は除く)[以下、併せて成分(D)という]を配合できる。成分(D)は、成分(A)の合成に際して用いた成分(a1)をそのままで用いるか、その加水分解物を用いるか、これらを組み合わせて使用できる。成分(D)を含有する熱硬化性樹脂組成物を、ガラス、金属等の無機基材に対するコーティング剤として用いると、該密着性をより向上できる利点がある。成分(D)の配合量は、該組成物100重量部に対して、0.1〜20重量部程度であることが好ましい。0.1重量部未満の場合は、該熱硬化性樹脂組成物の無機基材に対する密着性向上効果が不充分となる傾向がある。また、20重量部を超える場合、成分(D)が加水分解、縮合反応する際の揮発分が多くなるため、該熱硬化性樹脂組成物が厚膜硬化できなくなる、または得られる硬化物が脆くなる傾向がある。このような成分(D)としては、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランが、当該密着性向上効果の点で特に好ましい。   The thermosetting resin composition may contain the component (a1) and / or a hydrolyzate thereof (excluding the condensate) [hereinafter also referred to as component (D)] depending on the application. . As the component (D), the component (a1) used in the synthesis of the component (A) can be used as it is, or a hydrolyzate thereof can be used in combination. When the thermosetting resin composition containing the component (D) is used as a coating agent for inorganic substrates such as glass and metal, there is an advantage that the adhesion can be further improved. It is preferable that the compounding quantity of a component (D) is about 0.1-20 weight part with respect to 100 weight part of this composition. When the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of improving the adhesion of the thermosetting resin composition to the inorganic substrate tends to be insufficient. On the other hand, when the amount exceeds 20 parts by weight, since the volatile component when the component (D) undergoes hydrolysis and condensation reaction increases, the thermosetting resin composition cannot be cured thickly or the resulting cured product is brittle. Tend to be. As such a component (D), 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is particularly preferable in terms of the effect of improving the adhesion.

また、熱硬化性樹脂組成物には、用途に応じ、前記成分(a2)である金属アルコキシド類および/またはその加水分解物(但し、縮合物は含まず)(E)[以下、併せて成分(E)という]を配合できる。成分(E)は、成分(A)の合成に際して用いた金属アルコキシド類をそのままで用いるか、その加水分解物を用いるか、これらを組み合わせて使用できる。成分(E)を含有する熱硬化性樹脂組成物を用いることで、得られる硬化物の屈折率を調整することができる。該熱硬化性樹脂組成物を高屈折率のコーティング剤として用いる場合には、成分(E)としてアルコキシチタン類、アルコキシジルコニウム類が好適である。成分(E)の配合量は、熱硬化性樹脂組成物100重量部に対して、0.1〜20重量部程度であることが好ましい。0.1重量部に満たない場合には、屈折率向上効果が不充分となる傾向がある。また、20重量部を超える場合は、成分(E)が加水分解、縮合反応する際の揮発分が多くなるため、熱硬化性樹脂組成物が硬化時に発泡したり、反りやクラックが発生したり、得られる硬化物が脆くなったりする傾向がある。   In addition, the thermosetting resin composition includes a metal alkoxide as the component (a2) and / or a hydrolyzate thereof (excluding a condensate) (E) [hereinafter also referred to as a component, depending on the application. (E)] can be blended. As the component (E), the metal alkoxides used in the synthesis of the component (A) can be used as they are, their hydrolysates can be used, or these can be used in combination. By using the thermosetting resin composition containing the component (E), the refractive index of the obtained cured product can be adjusted. When the thermosetting resin composition is used as a coating agent having a high refractive index, alkoxytitaniums and alkoxyzirconiums are suitable as the component (E). It is preferable that the compounding quantity of a component (E) is about 0.1-20 weight part with respect to 100 weight part of thermosetting resin compositions. If it is less than 0.1 part by weight, the refractive index improving effect tends to be insufficient. Moreover, when it exceeds 20 weight part, since a volatile matter at the time of a component (E) hydrolyzing and a condensation reaction increases, a thermosetting resin composition will foam at the time of hardening, a curvature and a crack may generate | occur | produce. The resulting cured product tends to be brittle.

さらに、熱硬化性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、各種用途での必要性に応じて、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、フィラー等を配合してもよい。   Furthermore, in the thermosetting resin composition, a plasticizer, a weathering agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a lubricant, and an antistatic agent are used as long as they do not impair the effects of the present invention. , Whitening agents, colorants, conductive agents, mold release agents, surface treatment agents, viscosity modifiers, fillers, and the like may be blended.

本発明の熱硬化性組成物を硬化物として使用する一態様を例示する。当該熱硬化組成物をテフロン(登録商標)コーティングした容器に流し込み、加熱して溶剤乾燥および硬化させることにより、所望のハイブリッド硬化物が得られる。硬化温度および加熱時間は、使用した成分(B)または成分(C)の種類、および溶剤の種類、硬化物の厚みなどを考慮して、適宜決定する。通常は20〜150℃程度で1分〜24時間程度の条件とするのが好ましい。また、硬化終了後さらに100℃〜300℃程度、好ましくは120℃以上250℃未満で、1分〜6時間程度加熱することにより、残存溶剤を完全に除くとともに硬化反応をさらに進行させる。こうして得られる硬化膜はシリカ複合化の効果によって、耐熱性、耐薬品性に優れるという特徴を有する。   An example of using the thermosetting composition of the present invention as a cured product is illustrated. The thermosetting composition is poured into a container coated with Teflon (registered trademark), heated to dry the solvent, and cured to obtain a desired hybrid cured product. The curing temperature and heating time are appropriately determined in consideration of the type of component (B) or component (C) used, the type of solvent, the thickness of the cured product, and the like. Usually, it is preferable to set the conditions at about 20 to 150 ° C. for about 1 minute to 24 hours. Moreover, after completion | finish of hardening, about 100 degreeC-300 degreeC, Preferably it is 120 degreeC or more and less than 250 degreeC, It heats for about 1 minute-about 6 hours, and removes a residual solvent completely and also advances hardening reaction. The cured film thus obtained is characterized by excellent heat resistance and chemical resistance due to the effect of silica complexation.

(コーティング剤への適用)
熱硬化性樹脂組成物を所望の基材にコーティングし、熱硬化させることでコーティング層を得ることができる。基材としては、ガラス、鉄、アルミ、銅、ITO等の無機基材、PE、PP、PET、PEN、PMMA、PSt、PC、ABS等の有機基材など、各種公知のものを適宜に選択使用できる。無機基材へコーティングする際、密着性が不足する場合には、前述のように成分(C)を併用することが好ましい。また有機基材へコーティンングする際、密着性が不足する場合には、前述のように成分(D)を併用することが好ましい。また、熱硬化性組成物を溶剤希釈することで、コーティング性をある程度向上させることもできる。上述のような熱硬化性組成物をコーティングし、熱硬化させることで、導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、OHPフィルム、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、液晶セル用プラスチック基板、プリズム等にコーティング層を形成させることができる。
(Application to coating agent)
A coating layer can be obtained by coating a thermosetting resin composition on a desired substrate and thermosetting the composition. As the substrate, various known materials such as inorganic substrates such as glass, iron, aluminum, copper, and ITO, and organic substrates such as PE, PP, PET, PEN, PMMA, PSt, PC, and ABS are appropriately selected. Can be used. When coating on an inorganic base material, when the adhesion is insufficient, it is preferable to use the component (C) in combination as described above. Moreover, when coating to an organic base material, when adhesiveness is insufficient, it is preferable to use a component (D) together as mentioned above. Also, the coating property can be improved to some extent by diluting the thermosetting composition with a solvent. For light guide plate, polarizing plate, liquid crystal panel, EL panel, PDP panel, OHP film, optical fiber, color filter, optical disk substrate, lens, liquid crystal cell by coating and thermosetting the above thermosetting composition A coating layer can be formed on a plastic substrate, a prism, or the like.

また、熱硬化性組成物から得られる硬化膜の屈折率が基材より高い場合には、反射防止効果を付与することができる。成分(A)の製造に際して、成分(a2)を成分(a1)と併用したり、前述のように成分(E)として該金属アルコキシド類を用いることで、該熱硬化性組成物から得られる硬化膜の屈折率を向上させることができる。そのため、導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、OHPフィルム、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、液晶セル用プラスチック基板、プリズムに対して適用されるコーティング層に反射防止効果を付与したい場合には、熱硬化性組成物に当該成分を適量添加しておくことが好ましい。   Moreover, when the refractive index of the cured film obtained from a thermosetting composition is higher than a base material, an antireflection effect can be provided. Curing obtained from the thermosetting composition by using the component (a2) together with the component (a1) or using the metal alkoxide as the component (E) as described above in the production of the component (A) The refractive index of the film can be improved. Therefore, anti-reflection effect is applied to the coating layer applied to the light guide plate, polarizing plate, liquid crystal panel, EL panel, PDP panel, OHP film, optical fiber, color filter, optical disk substrate, lens, plastic substrate for liquid crystal cell, prism. In the case of imparting, it is preferable to add an appropriate amount of the component to the thermosetting composition.

(封止材への適用)
熱硬化性樹脂組成物を厚膜塗布し、または所定の型枠に流し込んだ後、熱硬化させることで、透明な硬化物で封止された成形材料を得ることができる。このような材料は、発光素子、受光素子、光電変換素子、光伝送関連部品等の光学部品用途に、特に好適である。
(Application to sealing material)
A molding material sealed with a transparent cured product can be obtained by applying a thick film of the thermosetting resin composition or pouring the thermosetting resin composition into a predetermined mold, followed by thermosetting. Such a material is particularly suitable for use in optical parts such as a light emitting element, a light receiving element, a photoelectric conversion element, and an optical transmission related part.

(透明基板への適用)
熱硬化性樹脂組成物をガラスクロス(基材)に含浸させ、熱硬化させることで透明基板を得ることができる。ガラスクロスとしては各種公知のものを適宜に選択使用できる。ガラスクロスとしては、各種公知のガラス繊維(Eガラス、Cガラス、Tガラス、ECRガラスなどから構成されるストランド、ヤーン、ロービングなど)から得られる各種の布帛が使用できるが、Eガラスから作られるガラスクロスが安価であり、入手性に優れるため特に好ましい。熱硬化性樹脂組成物をガラスクロスに含浸させる方法についても特に限定はされず、各種公知の方法を採用でき、またコーティング法を採用してもよい。また、得られる透明基板を無色透明とするためには、熱硬化性組成物から得られる硬化物とガラスクロスとの屈折率の差を0.05以内にすることが好ましく、0.01以内にすることがより好ましく、同一にすることがさらに好ましい。また、熱硬化性組成物を溶剤希釈することで、ガラスクロスへの含浸性をより向上させることもできる。なお、ガラスクロスに対する熱硬化性樹脂組成物の使用割合は、得られる透明基板の用途に応じて適宜に決定でき、通常はガラスクロス100重量部あたり20〜500重量部とされる。また得られる透明基板の厚みも、該用途に応じて適宜に決定でき、通常は20μm〜1mmとされる。上述のような熱硬化性組成物をガラスクロスに含浸させ、熱硬化させることで得られる透明基板は、透明性、耐熱性に優れるため、導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、カラーフィルター、光ディスク基板、液晶セル用プラスチック基板等にコーティング層を作製するのに好適である。
(Application to transparent substrate)
A transparent substrate can be obtained by impregnating a glass cloth (base material) with a thermosetting resin composition and thermosetting the composition. Various known glass cloths can be appropriately selected and used. As the glass cloth, various kinds of fabrics obtained from various known glass fibers (strands composed of E glass, C glass, T glass, ECR glass, etc., yarn, roving, etc.) can be used. Glass cloth is particularly preferred because it is inexpensive and has excellent availability. The method of impregnating the glass cloth with the thermosetting resin composition is not particularly limited, and various known methods can be employed, and a coating method may be employed. Moreover, in order to make the transparent substrate obtained colorless and transparent, the difference in refractive index between the cured product obtained from the thermosetting composition and the glass cloth is preferably within 0.05, and within 0.01 More preferably, it is more preferable to make the same. Moreover, the impregnation property to a glass cloth can also be improved by diluting a thermosetting composition with a solvent. In addition, the usage-amount of the thermosetting resin composition with respect to a glass cloth can be suitably determined according to the use of the transparent substrate obtained, and is normally 20-500 weight part per 100 weight part of glass cloth. Moreover, the thickness of the transparent substrate obtained can also be suitably determined according to this use, and is normally set to 20 μm to 1 mm. A transparent substrate obtained by impregnating a glass cloth with the thermosetting composition as described above and thermosetting it is excellent in transparency and heat resistance. Therefore, a light guide plate, a polarizing plate, a liquid crystal panel, an EL panel, and a PDP panel. It is suitable for producing a coating layer on a color filter, an optical disk substrate, a plastic substrate for a liquid crystal cell, and the like.

以下、実施例および比較例をあげて本発明を具体的に説明する。なお、各例中、部および%は特記しない限り重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In each example, parts and% are based on weight unless otherwise specified.

製造例1(縮合物(A−1)の製造)
攪拌機、冷却管、分水器、温度計、窒素吹き込み口を備えた反応装置に、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング(株)製:商品名「SH−6062」)190部、イオン交換水52.3部([加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)=1.0)、95%ギ酸9.5部を仕込み、室温で30分間加水分解反応させた。反応中、発熱によって最大22℃温度上昇した。反応後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(日本乳化剤(株)製:商品名「MFG−AC」)287.36部を仕込み、加熱した。82℃まで昇温したところで、加水分解によって発生したメタノールが留去され始めた。30分かけて105℃まで昇温し、縮合反応によって発生した水を留去した。さらに1時間30分、105℃で反応させた後、70℃−150mmHgで減圧して、残存するメタノール、水、ギ酸、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの一部を留去することで、縮合物(A−1)を385.2g得た。[未反応の水酸基およびアルコキシ基のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)は0.15、濃度は32.0%であった。また縮合物(A−1)のチオール当量は、398g/eqであった。
Production Example 1 (Production of condensate (A-1))
In a reactor equipped with a stirrer, a condenser, a water separator, a thermometer, and a nitrogen inlet, 190 parts of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .: trade name “SH-6062”), 52.3 parts of ion-exchanged water ([number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [number of moles of alkoxy groups contained in component (a1)] (molar ratio) = 1.0), 95% formic acid 9.5 The portion was charged and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 22 ° C. due to exotherm. After the reaction, 287.36 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd .: trade name “MFG-AC”) was charged and heated. When the temperature was raised to 82 ° C., methanol generated by hydrolysis began to be distilled off. The temperature was raised to 105 ° C. over 30 minutes, and water generated by the condensation reaction was distilled off. The reaction was further carried out at 105 ° C. for 1 hour and 30 minutes, and then the pressure was reduced at 70 ° C. to 150 mmHg, and a part of the remaining methanol, water, formic acid, and propylene glycol monomethyl ether acetate was distilled off to obtain a condensate (A -1) 385.2g was obtained. [Mole number of unreacted hydroxyl group and alkoxy group] / [Mole number of alkoxy group contained in component (a1)] (molar ratio) was 0.15, and the concentration was 32.0%. Moreover, the thiol equivalent of the condensate (A-1) was 398 g / eq.

製造例2(縮合物(A−2)の製造)
製造例1と同様の反応装置に、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン180部、イオン交換水49.55部([加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)=1.0)、95%ギ酸9.00部を仕込み、室温で30分間加水分解反応させた。反応中、発熱によって最大22℃温度上昇した。反応後、トルエン272.23部を仕込み、加熱した。72℃まで昇温したところで、加水分解によって発生したメタノールとトルエンの一部が留去され始めた。20分かけて75℃まで昇温し、縮合反応させて水を留去した。さらに1時間、75℃で反応させた後、70℃−150mmHgで減圧して、残存するメタノール、水、ギ酸を留去した。さらに70℃−5mmHgで減圧して、トルエンを留去することで、縮合物(A−2)を124.49部得た。[未反応の水酸基およびアルコキシ基のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)は0.16、濃度は93.7%であった。また縮合物(A−2)のチオール当量は、136g/eqであった。
Production Example 2 (Production of condensate (A-2))
In the same reactor as in Production Example 1, 180 parts of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 49.55 parts of ion-exchanged water ([number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [alkoxy group contained in component (a1)) Number of moles] (molar ratio) = 1.0), and 9.00 parts of 95% formic acid were charged and subjected to a hydrolysis reaction at room temperature for 30 minutes. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 22 ° C. due to exotherm. After the reaction, 272.23 parts of toluene was charged and heated. When the temperature was raised to 72 ° C., part of methanol and toluene generated by hydrolysis began to be distilled off. The temperature was raised to 75 ° C. over 20 minutes, and water was distilled off by condensation reaction. After further reacting at 75 ° C. for 1 hour, the pressure was reduced at 70 ° C. to 150 mmHg to distill off the remaining methanol, water and formic acid. Furthermore, it reduced pressure at 70 degreeC-5mmHg, and distilled toluene, and obtained 124.49 parts of condensates (A-2). [Mole number of unreacted hydroxyl group and alkoxy group] / [Mole number of alkoxy group contained in component (a1)] (molar ratio) was 0.16, and the concentration was 93.7%. Moreover, the thiol equivalent of the condensate (A-2) was 136 g / eq.

製造例3(縮合物(A−3)の製造)
製造例1と同様の反応装置に、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン15.0部、フェニルトリメトキシシラン5.05部([成分(a1)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=0.75、[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=3)、イオン交換水5.51部([加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)=1.0)、95%ギ酸1.00部を仕込み、室温で30分間加水分解反応させた。反応中、発熱によって最大20℃温度上昇した。反応後、トルエン19.52部を仕込み、加熱した。72℃まで昇温したところで、加水分解によって発生したメタノールとトルエンの一部が留去され始めた。20分かけて75℃まで昇温し、縮合反応させて水を留去した。さらに1時間、75℃で反応させた後、70℃−150mmHgで減圧して、残存するメタノール、水、ギ酸を留去した。さらに70℃−5mmHgで減圧して、トルエンを留去することで、縮合物(A−3)を13.84部得た。[未反応の水酸基およびアルコキシ基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)は0.16、濃度は94.0%であった。また縮合物(A−3)のチオール当量は、181g/eqであった。
Production Example 3 (Production of condensate (A-3))
In the same reactor as in Production Example 1, 15.0 parts of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 5.05 parts of phenyltrimethoxysilane ([number of moles of thiol group contained in component (a1)] / [component (a1 ) And the total number of moles of component (a2)] = 0.75, [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] / [total of component (a1) and component (a2) Number of moles] = 3), 5.51 parts of ion-exchanged water ([number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)]) Ratio) = 1.0), and 1.00 part of 95% formic acid was charged and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 20 ° C. due to exotherm. After the reaction, 19.52 parts of toluene was charged and heated. When the temperature was raised to 72 ° C., part of methanol and toluene generated by hydrolysis began to be distilled off. The temperature was raised to 75 ° C. over 20 minutes, and water was distilled off by condensation reaction. After further reacting at 75 ° C. for 1 hour, the pressure was reduced at 70 ° C. to 150 mmHg to distill off the remaining methanol, water and formic acid. Further, the pressure was reduced at 70 ° C. to 5 mmHg, and toluene was distilled off to obtain 13.84 parts of condensate (A-3). [Number of moles of unreacted hydroxyl group and alkoxy group] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio) is 0.16, and the concentration is 94.0%. there were. Moreover, the thiol equivalent of the condensate (A-3) was 181 g / eq.

製造例4(縮合物(A−4)の製造)
製造例1と同様の反応装置に、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン18.0部、ジフェニルジメトキシシラン2.24部([成分(a1)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=0.91、[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=2.9)、イオン交換水5.29部([加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)=1.0)、95%ギ酸0.90部を仕込み、室温で30分間加水分解反応させた。反応中、発熱によって最大20℃温度上昇した。反応後、トルエン20.23部を仕込み、加熱した。72℃まで昇温したところで、加水分解によって発生したメタノールとトルエンの一部が留去され始めた。20分かけて75℃まで昇温し、縮合反応させて水を留去した。さらに1時間、75℃で反応させた後、70℃−150mmHgで減圧して、残存するメタノール、水、ギ酸を留去した。さらに70℃−5mmHgで減圧して、トルエンを留去することで、縮合物(A−4)を13.84部得た。[未反応の水酸基およびアルコキシ基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)は0.16、濃度は93.6%であった。また縮合物(A−4)のチオール当量は、181g/eqであった。
Production Example 4 (Production of condensate (A-4))
In the same reactor as in Production Example 1, 18.0 parts of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 2.24 parts of diphenyldimethoxysilane ([number of moles of thiol group contained in component (a1)] / [component (a1)) And the total number of moles of component (a2)] = 0.91, [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] / [total number of moles of component (a1) and component (a2) Number] = 2.9), 5.29 parts of ion-exchanged water ([number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)]) (Molar ratio) = 1.0), 0.90 part of 95% formic acid was charged, followed by hydrolysis at room temperature for 30 minutes. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 20 ° C. due to exotherm. After the reaction, 20.23 parts of toluene was charged and heated. When the temperature was raised to 72 ° C., part of methanol and toluene generated by hydrolysis began to be distilled off. The temperature was raised to 75 ° C. over 20 minutes, and water was distilled off by condensation reaction. After further reacting at 75 ° C. for 1 hour, the pressure was reduced at 70 ° C. to 150 mmHg to distill off the remaining methanol, water and formic acid. Furthermore, pressure-reduced at 70 degreeC-5mmHg, and 13.84 parts of condensates (A-4) were obtained by distilling toluene off. [Mole number of unreacted hydroxyl group and alkoxy group] / [total mole number of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio) is 0.16, and the concentration is 93.6%. there were. Moreover, the thiol equivalent of the condensate (A-4) was 181 g / eq.

製造例5(縮合物(A−5)の製造)
製造例1と同様の反応装置に、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン20.0部、イオン交換水3.06部([加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)=0.56)、95%ギ酸1.17部を仕込み、室温で30分間加水分解反応させた。反応中、発熱によって最大20℃温度上昇した。反応後、テトラブトキシジルコニウム((株)マツモト交商製:商品名「オルガチックスZA−60」)3.30部をn−ブタノール11.34部に溶解させたものを仕込み、さらに室温で15分間加水分解反応させた。なお、[成分(a1)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=0.92、[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数]=3.1であった。反応中、発熱によって最大5℃温度上昇した。トルエン45.36部を仕込み、加熱して80℃まで昇温し、30分間縮合反応を行った。さらに2時間、70℃−150mmHgで減圧して、残存するメタノール、n−ブタノール、水、ギ酸を留去することで、縮合物(A−5)を16.82部得た。[未反応の水酸基およびアルコキシ基のモル数]/[成分(a1)に含まれるアルコキシ基のモル数](モル比)は0.12、濃度は83.4%であった。また縮合物(A−5)のチオール当量は、165g/eqであった。
Production Example 5 (Production of condensate (A-5))
In the same reaction apparatus as in Production Example 1, 20.0 parts of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3.06 parts of ion-exchanged water ([number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [component (a1)) Mole number of alkoxy group] (molar ratio) = 0.56), 1.17 parts of 95% formic acid were charged, and the mixture was subjected to a hydrolysis reaction at room temperature for 30 minutes. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 20 ° C. due to exotherm. After the reaction, a solution prepared by dissolving 3.30 parts of tetrabutoxyzirconium (manufactured by Matsumoto Kosho Co., Ltd .: trade name “Orgachix ZA-60”) in 11.34 parts of n-butanol was further added at room temperature for 15 minutes. Hydrolysis reaction was performed. In addition, [number of moles of thiol group contained in component (a1)] / [total number of moles of component (a1) and component (a2)] = 0.92, included in [component (a1) and component (a2) The total number of moles of each alkoxy group] / [total number of moles of component (a1) and component (a2)] = 3.1. During the reaction, the temperature rose by a maximum of 5 ° C due to exotherm. 45.36 parts of toluene was charged, heated to 80 ° C., and a condensation reaction was performed for 30 minutes. The pressure was further reduced at 70 ° C. to 150 mmHg for 2 hours, and the remaining methanol, n-butanol, water and formic acid were distilled off to obtain 16.82 parts of the condensate (A-5). [Mole number of unreacted hydroxyl group and alkoxy group] / [Mole number of alkoxy group contained in component (a1)] (molar ratio) was 0.12, and the concentration was 83.4%. Moreover, the thiol equivalent of the condensate (A-5) was 165 g / eq.

製造例6(成分(C−1)の製造)
攪拌機、冷却管、温度計、窒素吹き込み口を備えた反応装置に、ポリカーボネートジオール(日本ポリウレタン工業(株)製:商品名「ニッポラン951」、平均分子量:1000)120部、イソホロンジイソシアネート58.7部(イソホロンジイソシアネートに含まれるイソシアネート基のモル数)/[ポリカーボネートジオールに含まれる水酸基 のモル数](モル比)=2.2)を仕込み、90℃で4時間反応させることで、成分(C−1)縮合物を203g得た。成分(C−1)のイソシアネート当量は620g/eqであった。
Production Example 6 (Production of component (C-1))
In a reactor equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a nitrogen inlet, 120 parts of polycarbonate diol (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: trade name “Nipporan 951”, average molecular weight: 1000), 58.7 parts of isophorone diisocyanate (Mole number of isocyanate group contained in isophorone diisocyanate) / [Mole number of hydroxyl group contained in polycarbonate diol] (molar ratio) = 2.2) and reacted at 90 ° C. for 4 hours, whereby component (C— 1) 203 g of condensate was obtained. The isocyanate equivalent of component (C-1) was 620 g / eq.

実施例1〜19(熱硬化性組成物の製造)
製造例1で得られた縮合物(A−1)10部に対し、成分(B)としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製:商品名「エピコート828」、エポキシ当量370g/eq)4.40部([成分(A)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(B)に含まれるエポキシ基のモル数](モル比)=1.0)を配し、熱硬化性組成物(F−1)とした。また、製造例1で得られた縮合物(A−1)10部に対し、成分(C)としてイソホロンジイソシアネート(東京化成(株)製:イソシアネート当量111g/eq、以下IPDIと表す)2.79部([成分(A)に含まれるチオール基のモル数]/[成分(C)に含まれるイソシアネート基のモル数](モル比)=1.0)、ジブチルスズジラウレート(日東化成(株):商品名「ネオスタンU−100」)0.013gを配し、熱硬化性組成物(F−2)とした。同様に、製造例1〜5で得られた縮合物(A−1〜5)を用い、下表に従って熱硬化性組成物(F−3〜F−19)とした。
Examples 1 to 19 (Production of thermosetting composition)
For 10 parts of the condensate (A-1) obtained in Production Example 1, bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name “Epicoat 828”, epoxy equivalent 370 g / eq) as component (B) ) 4.40 parts ([number of moles of thiol group contained in component (A)] / [number of moles of epoxy group contained in component (B)] (molar ratio) = 1.0) and thermosetting Composition (F-1). Further, isophorone diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .: isocyanate equivalent 111 g / eq, hereinafter referred to as IPDI) 2.79 with respect to 10 parts of the condensate (A-1) obtained in Production Example 1 Parts ([number of moles of thiol group contained in component (A)) / [number of moles of isocyanate group contained in component (C)] (molar ratio) = 1.0), dibutyltin dilaurate (Nitto Kasei Co., Ltd.): 0.013 g of a trade name “Neostan U-100”) was provided to obtain a thermosetting composition (F-2). Similarly, it was set as the thermosetting composition (F-3 to F-19) according to the following table using the condensate (A-1-5) obtained by manufacture example 1-5.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表中、セロキサイド2021:脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株)製:商品名「セロキサイド2021」、エポキシ当量126g/eq)、SR−8EG:ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(坂本薬品工業(株)製:商品名、エポキシ当量285g/eq)、MDI:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)製:商品名「ミリオネートMT」、イソシアネート当量125g/eq)、HMDI:ヘキサメチレンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)製:商品名「HDI」、イソシアネート当量84.1g/eq)を示す。   In the table, Celoxide 2021: Alicyclic epoxy resin (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: trade name “Celoxide 2021”, epoxy equivalent 126 g / eq), SR-8EG: Polyethylene glycol diglycidyl ether (Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.) Product name: Epoxy equivalent 285 g / eq), MDI: 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Product name “Millionate MT”, isocyanate equivalent 125 g / eq), HMDI: Hexamethylene diisocyanate ( Shown by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: trade name “HDI”, isocyanate equivalent 84.1 g / eq).

比較例1(熱硬化性組成物の製造)
ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)(堺化学工業(株)製:商品名「PEMP」)10部に対し、エピコート828 16.2部を配合し、熱硬化性組成物とした。
Comparative Example 1 (Production of thermosetting composition)
Epicoat 828 16.2 parts was blended with 10 parts of pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd .: trade name “PEMP”) to give a thermosetting composition.

比較例2(熱硬化性組成物の製造)
ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)10部に対し、イソホロンジイソシアネート10.3部、ジブチルスズジラウレート0.020部を配合し、熱硬化性組成物とした。
Comparative Example 2 (Production of thermosetting composition)
Isophorone diisocyanate 10.3 parts and dibutyltin dilaurate 0.020 parts were blended with 10 parts of pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) to obtain a thermosetting composition.

比較例3(熱硬化性組成物の製造)
特開2005−290286号公報の実施例3に従い比較用の熱硬化性組成物を合成した。具体的には、ビスフェノールA型グリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名「エピコート828」、エポキシ当量190g/eq)8部をテトラヒドロフラン8gに溶解し樹脂溶液とした。ついで、フェニルトリメトキシシラン18部、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン8部、蟻酸の10重量%水溶液8部、テトラヒドロフラン49部を攪拌しながら60℃で3時間還流し、熱硬化剤(旭電化工業(株)製、商品名「アデカオプトンCP−66」)1部および前記樹脂溶液16部を加え、熱硬化性組成物とした。
Comparative Example 3 (Production of thermosetting composition)
A comparative thermosetting composition was synthesized according to Example 3 of JP-A-2005-290286. Specifically, 8 parts of bisphenol A glycidyl ether (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “Epicoat 828”, epoxy equivalent 190 g / eq) was dissolved in 8 g of tetrahydrofuran to obtain a resin solution. Next, 18 parts of phenyltrimethoxysilane, 8 parts of 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 8 parts of a 10% by weight aqueous solution of formic acid, and 49 parts of tetrahydrofuran were refluxed at 60 ° C. for 3 hours with stirring, and a thermosetting agent (Asahi) 1 part of Denka Kogyo Co., Ltd., trade name “ADEKA OPTON CP-66”) and 16 parts of the resin solution were added to obtain a thermosetting composition.

(熱硬化性組成物の硬化性、表面硬度)
実施例1〜19、比較例1、2で得られた熱硬化性組成物をガラス板上に、硬化後膜厚が約15μmとなるようコーティングし、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物の硬化性は、ラマン分光分析(日本分光(株):商品名「NRS−3100」)により、2600cm-1付近のチオールのピークが大きく減少、もしくはほぼ消失していることでそれぞれ確認した。また、得られた硬化物の表面硬度を、JIS K−5401の一般試験法による鉛筆硬度試験により評価した。
(Curability of the thermosetting composition, surface hardness)
The thermosetting compositions obtained in Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 were coated on a glass plate so that the film thickness after curing was about 15 μm, followed by solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. went. The curability of the obtained cured product is that the peak of thiol near 2600 cm −1 is greatly reduced or almost disappeared by Raman spectroscopic analysis (JASCO Corporation: trade name “NRS-3100”). Each confirmed. Moreover, the surface hardness of the obtained hardened | cured material was evaluated by the pencil hardness test by the general test method of JISK-5401.

Figure 0005154804
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表2から明らかなように、同じ成分(B)を用いて硬化した比較例1と実施例1、3、8、10、11、14、15および同じ成分(C)を用いて硬化した比較例2と実施例2、6、9、12を比較すると、比較例の硬化物に比べ、実施例の硬化物では表面硬度が高いことが分かる。このことより、本発明の熱硬化性組成物はハードコート剤としてより好適であると認められる。   As is apparent from Table 2, Comparative Example 1 cured using the same component (B) and Comparative Examples cured using Examples 1, 3, 8, 10, 11, 14, 15 and the same component (C). 2 and Examples 2, 6, 9, and 12 are compared, it can be seen that the cured product of the example has higher surface hardness than the cured product of the comparative example. From this, it is recognized that the thermosetting composition of the present invention is more suitable as a hard coat agent.

(硬化膜の耐候性)
実施例3、4、6、比較例1、2で得られた熱硬化性組成物をガラス板上に、硬化後膜厚が約15μmとなるようコーティングし、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物に対し、紫外線照射装置(ウシオ電機(株)製:商品名「UV−152」)を用い、365nmの紫外線検出器で積算光量が20000mJ/cm2となるよう紫外線を照射し、照射後の着色の程度を目視評価した。また、200℃で30分間加熱し、加熱後の着色の程度も目視評価した。評価基準は次の通りである。
○・・・ほとんど着色なし
△・・・少し着色あり(やや黄色)
×・・・濃い着色あり(茶色)
(Weather resistance of cured film)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3, 4, 6 and Comparative Examples 1 and 2 were coated on a glass plate so that the film thickness after curing was about 15 μm, and the solvent was dried and cured at 80 ° C. for 2 hours. Reaction was performed. The obtained cured product was irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (USHIO INC .: trade name “UV-152”) so that the integrated light amount was 20000 mJ / cm 2 with a 365 nm ultraviolet detector. The degree of coloring after irradiation was visually evaluated. Moreover, it heated at 200 degreeC for 30 minute (s), and also evaluated the degree of coloring after a heating visually. The evaluation criteria are as follows.
○ ・ ・ ・ No coloration △ ・ ・ ・ Slight coloration (slightly yellow)
× ・ ・ ・ Deep coloring (brown)

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表3から明らかなように、比較例1の硬化物は茶色に着色したのに対し、実施例3の硬化物の着色は抑えられている。また、実施例4、6の硬化物は紫外線照射、加熱のどちらに対してもほとんど着色がなく、本発明の硬化物はより耐候性に優れることが分かる。   As is clear from Table 3, the cured product of Comparative Example 1 was colored brown, while the cured product of Example 3 was suppressed from being colored. In addition, it can be seen that the cured products of Examples 4 and 6 are hardly colored with respect to both ultraviolet irradiation and heating, and the cured product of the present invention is more excellent in weather resistance.

(無機材への密着性)
実施例3、6、8、9で得られた熱硬化性組成物を各種無機基材に硬化後膜厚が約15μmとなるようコーティングし、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物について、JIS K−5400の一般試験法によるゴバン目セロハンテープ剥離試験により評価した。
(Adhesion to inorganic materials)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3, 6, 8, and 9 were coated on various inorganic substrates so that the film thickness after curing was about 15 μm, and solvent drying and curing reaction were performed at 80 ° C. for 2 hours. . About the obtained hardened | cured material, it evaluated by the gobang eyes cellophane tape peeling test by the general test method of JISK-5400.

表2および表4より明らかなように、成分(D)を配した実施例8、9の硬化物は、実施例3、6の硬化物に比べて、硬化性、表面硬度は同等であるが、無機基材への密着性が大きく向上していることが分かる。このことより、実施例8、9の熱硬化性組成物は、無機基材よりなる導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、プリズム等へのコーティング剤として好適であると認められる。   As is clear from Tables 2 and 4, the cured products of Examples 8 and 9 in which component (D) is arranged have the same curability and surface hardness as the cured products of Examples 3 and 6. It can be seen that the adhesion to the inorganic base material is greatly improved. From this, the thermosetting compositions of Examples 8 and 9 can be applied to a light guide plate, a polarizing plate, a liquid crystal panel, an EL panel, a PDP panel, an optical fiber, a color filter, an optical disk substrate, a lens, a prism and the like made of an inorganic base material. It is recognized that it is suitable as a coating agent.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

(屈折率)
実施例3〜6、10〜12、15〜19で得られた熱硬化性組成物を、硬化後膜厚が約300μmとなるようアルミカップに流し込み、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物をさらに200℃の乾燥機で30分間加熱した。得られた硬化物について、アッベ屈折率計((株)島津製作所製:商品名「アッベ3L」)を用いて屈折率を測定した。
(Refractive index)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3 to 6, 10 to 12, and 15 to 19 were poured into an aluminum cup so that the film thickness after curing was about 300 μm, and solvent drying and curing reaction were performed at 80 ° C. for 2 hours. went. The obtained cured product was further heated with a dryer at 200 ° C. for 30 minutes. About the obtained hardened | cured material, the refractive index was measured using the Abbe refractometer (Shimadzu Corporation make: brand name "Abbe 3L").

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表5より明らかなように、成分(a2)としてジルコニウムを配した実施例15の硬化物、および成分(E)としてチタネートを配した実施例10の硬化物は、実施例3〜6、11、12、16〜19の硬化物に比べて、屈折率が向上していることが分かる。このことより、実施例10、15の熱硬化性組成物は、導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、OHPフィルム、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、液晶セル用プラスチック基板、プリズム等の反射防止膜用コーティング剤として好適であると認められる。   As is clear from Table 5, the cured product of Example 15 in which zirconium was arranged as the component (a2) and the cured product of Example 10 in which titanate was arranged as the component (E) were obtained in Examples 3 to 6, 11, It turns out that the refractive index is improving compared with the cured | curing material of 12 and 16-19. Thus, the thermosetting compositions of Examples 10 and 15 are light guide plates, polarizing plates, liquid crystal panels, EL panels, PDP panels, OHP films, optical fibers, color filters, optical disk substrates, lenses, and plastic substrates for liquid crystal cells. It is recognized that it is suitable as a coating agent for an antireflection film such as a prism.

(透明基板の作製)
実施例4、6で得られた組成物を、硬化後に(ガラスクロスの重量)/(組成物の重量)が100/200となるよう市販のガラスクロス(クリッパー ガラスクロス マイクロB、膜厚28μm、屈折率1.54)に含浸させ、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行うことで、厚さ80μmの透明基板を得た。また、比較例3で得られた組成物をガラスクロスに含浸させ、60℃の乾燥器で溶剤を揮散させた後、120℃で3時間加熱し、150℃で1時間プレス成型することで厚さ80μmの透明基板を得た。得られた透明基板の外観を目視評価した。評価基準は以下の通りである。
○・・・ほぼ透明
△・・・半透明
×・・・不透明
(Production of transparent substrate)
Commercially available glass cloth (clipper glass cloth micro-B, film thickness 28 μm, so that the composition obtained in Examples 4 and 6 is 100/200 after curing (weight of glass cloth) / (weight of composition), A transparent substrate having a thickness of 80 μm was obtained by impregnating with a refractive index of 1.54) and performing a solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. Further, the glass cloth was impregnated with the composition obtained in Comparative Example 3, and after the solvent was volatilized with a dryer at 60 ° C., it was heated at 120 ° C. for 3 hours, and then press molded at 150 ° C. for 1 hour. A transparent substrate having a thickness of 80 μm was obtained. The appearance of the obtained transparent substrate was visually evaluated. The evaluation criteria are as follows.
○ ・ ・ ・ Almost transparent △ ・ ・ ・ Translucent × ・ ・ ・ Opaque

また、透明基板の柔軟性を、基板を曲げた際にクラックが生じる曲率半径によって評価した。   Further, the flexibility of the transparent substrate was evaluated by the radius of curvature at which cracks occur when the substrate is bent.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表6より明らかなように、得られた基板はいずれもほぼ透明であった。また、比較例3の透明基板は曲率半径が5cm以下になるとクラックを生じるのに対し、実施例6の透明基板は曲率半径が1cm以下になるとクラックを生じ、実施例4の透明基板はそれ以上曲げてもクラックが生じなかった。このため、フレキシブルな液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、カラーフィルター等の基材として用いるのにより好適であると認められる。   As is clear from Table 6, all of the obtained substrates were almost transparent. The transparent substrate of Comparative Example 3 cracks when the radius of curvature is 5 cm or less, whereas the transparent substrate of Example 6 cracks when the radius of curvature is 1 cm or less, and the transparent substrate of Example 4 exceeds that. No cracks occurred when bent. For this reason, it is recognized that it is more suitable to use as base materials, such as a flexible liquid crystal panel, EL panel, PDP panel, and a color filter.

(耐熱性)
実施例3、12、比較例1、2で得られた熱硬化性組成物を、硬化後膜厚が約1mmとなるようアルミカップに流し込み、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物をさらに200℃の乾燥機で30分間加熱した。該硬化物を5mm×25mmにカットし、粘弾性測定器(セイコーインスツルメント(株)製、商品名「DMS6100」、測定条件:振動数1Hz、スロープ3℃/分)を用いて動的貯蔵弾性率を測定して、耐熱性を評価した。測定結果を図1、2に示す。図1、2から明らかなように、実施例3は比較例1に比べ、実施例12は比較例2に比べてTgが向上しており、かつ、高温でも弾性率の低下が少なく、耐熱性に優れていることが認められる。また、比較例1では、測定限界(106)以下まで低下した。
(Heat-resistant)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3 and 12 and Comparative Examples 1 and 2 were poured into an aluminum cup so that the film thickness after curing was about 1 mm, followed by solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. . The obtained cured product was further heated with a dryer at 200 ° C. for 30 minutes. The cured product is cut into 5 mm × 25 mm, and dynamically stored using a viscoelasticity measuring instrument (trade name “DMS6100” manufactured by Seiko Instruments Inc., measurement condition: frequency 1 Hz, slope 3 ° C./min). The elastic modulus was measured to evaluate the heat resistance. The measurement results are shown in FIGS. As is apparent from FIGS. 1 and 2, Example 3 has improved Tg compared to Comparative Example 1 and Example 12 has improved Tg compared to Comparative Example 2, and has a small decrease in elastic modulus even at high temperatures, and has heat resistance. It is recognized that Moreover, in the comparative example 1, it fell to the measurement limit (106) or less.

(線膨張率)
実施例3、12および比較例1、2で得られた熱硬化性組成物を、硬化後膜厚が約1mmとなるようアルミカップに流し込み、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物をさらに200℃の乾燥機で30分間加熱した。得られた硬化物を用いて、熱応力歪測定装置(セイコーインスツルメント(株)、商品名 TMA120C)で、120〜150℃の線膨張率を測定した。結果を表7に示す。
(Linear expansion coefficient)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3 and 12 and Comparative Examples 1 and 2 were poured into an aluminum cup so that the film thickness after curing was about 1 mm, followed by solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. . The obtained cured product was further heated with a dryer at 200 ° C. for 30 minutes. Using the obtained cured product, the linear expansion coefficient at 120 to 150 ° C. was measured with a thermal stress strain measuring device (Seiko Instruments Inc., trade name TMA120C). The results are shown in Table 7.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

同じ成分(B)を用いて硬化した比較例1と実施例3および同じ成分(C)を用いて硬化した比較例2と実施例12を比較すると、比較例の硬化物に比べ、実施例の硬化物では線膨張率が低いことがわかる。このことより、本発明の熱硬化性組成物は熱安定性の求められる導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、カラーフィルター、光ディスク基板または液晶セル用プラスチック基板として好適であると認められる。   Comparing Comparative Example 1 and Example 3 cured using the same component (B) and Comparative Example 2 and Example 12 cured using the same component (C), compared to the cured product of the comparative example, It can be seen that the cured product has a low linear expansion coefficient. From this, the thermosetting composition of the present invention is suitable as a light guide plate, a polarizing plate, a liquid crystal panel, an EL panel, a PDP panel, a color filter, an optical disk substrate, or a plastic substrate for a liquid crystal cell, for which thermal stability is required. Is recognized.

(吸水率)
実施例3、12および比較例1、2で得られた熱硬化性組成物を、硬化後膜厚が約1mmとなるようアルミカップに流し込み、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物をさらに200℃の乾燥機で30分間加熱した。得られた硬化物を用いて、50℃に保った恒温槽中に24時間放置した後の測定重量と、その後23℃に保った恒温水槽中に24時間浸漬した後の測定重量との差から、吸水率を算出した。結果を表8に示す。
(Water absorption rate)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3 and 12 and Comparative Examples 1 and 2 were poured into an aluminum cup so that the film thickness after curing was about 1 mm, followed by solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. . The obtained cured product was further heated with a dryer at 200 ° C. for 30 minutes. From the difference between the measured weight after leaving for 24 hours in a constant temperature bath maintained at 50 ° C. and the measured weight after being immersed in a constant temperature water bath maintained at 23 ° C. for 24 hours using the obtained cured product The water absorption was calculated. The results are shown in Table 8.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表8から明らかなように、実施例3、12は、比較例1、2と同程度の吸水率であることが示される。   As is apparent from Table 8, Examples 3 and 12 have the same water absorption rate as Comparative Examples 1 and 2.

(耐薬品性)
実施例3、12および比較例1、2で得られた熱硬化性組成物を、硬化後膜厚が約1mmとなるようアルミカップに流し込み、80℃で2時間溶剤乾燥および硬化反応を行った。得られた硬化物をさらに200℃の乾燥機で30分間加熱した。得られた硬化物を溶剤(メタノール、トルエン、THF、DMF)に3時間浸漬し、外観を目視で観察した。また、浸漬前後の測定重量の差から膨潤度を算出(計算方法:(浸漬後の重量−浸漬前の重量)/浸漬前の重量×100、吸収がない場合は0%になる)した。結果を表9に示す。
(chemical resistance)
The thermosetting compositions obtained in Examples 3 and 12 and Comparative Examples 1 and 2 were poured into an aluminum cup so that the film thickness after curing was about 1 mm, followed by solvent drying and curing reaction at 80 ° C. for 2 hours. . The obtained cured product was further heated with a dryer at 200 ° C. for 30 minutes. The obtained cured product was immersed in a solvent (methanol, toluene, THF, DMF) for 3 hours, and the appearance was visually observed. The degree of swelling was calculated from the difference in measured weight before and after immersion (calculation method: (weight after immersion−weight before immersion) / weight before immersion × 100, and 0% when there was no absorption). The results are shown in Table 9.

Figure 0005154804
Figure 0005154804

表9から明らかなように、実施例3、12の熱硬化性組成物から得られる硬化物は、比較例1、2の熱硬化性組成物から得られる硬化物に比べて耐溶剤性に優れることが分かる。   As is clear from Table 9, the cured products obtained from the thermosetting compositions of Examples 3 and 12 are superior in solvent resistance compared to the cured products obtained from the thermosetting compositions of Comparative Examples 1 and 2. I understand that.

実施例3および比較例1の組成物から得られる硬化物についての温度と動的貯蔵弾性率との相関関係を図示したものである。The correlation of the temperature and the dynamic storage elastic modulus about the hardened | cured material obtained from the composition of Example 3 and Comparative Example 1 is illustrated. 実施例12および比較例2の組成物から得られる硬化物についての温度と動的貯蔵弾性率との相関関係を図示したものである。The correlation of the temperature and dynamic storage elastic modulus about the hardened | cured material obtained from the composition of Example 12 and Comparative Example 2 is illustrated.

Claims (17)

一般式(1):
1Si(OR23 (1)
(式中、R1は少なくとも1つのチオール基を有する炭素数1〜8の炭化水素基、または少なくとも1つのチオール基を有する芳香族炭化水素基を表し、R2は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。)で示されるチオール基含有アルコキシシラン類(a1)あるいは前記チオール基含有アルコキシシラン類(a1)と金属アルコキシド(a2)とを加水分解および縮合して得られる縮合物(A)、ならびにイソシアネート基を有する化合物(C)から選択される少なくとも一種を含有し、
加水分解に用いる水の量が、[加水分解反応に用いる水のモル数]/[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数](モル比)が0.4以上10以下であって、[成分(a1)と成分(a2)に含まれる各アルコキシ基の合計モル数]/[成分(a1)と成分(a2)の合計モル数](モル比:1分子あたりに含まれるアルコキシ基の平均個数を示す)が2.5以上3.5以下であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
General formula (1):
R 1 Si (OR 2 ) 3 (1)
(In the formula, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms having at least one thiol group, or an aromatic hydrocarbon group having at least one thiol group, and R 2 represents a hydrogen atom, having 1 to 1 carbon atoms. And the thiol group-containing alkoxysilanes (a1) or the thiol group-containing alkoxysilanes (a1) and the metal alkoxide (a2). condensed condensate obtained (a), it contains at least one selected from compounds having a b isocyanate group (C) as well,
The amount of water used for hydrolysis is [number of moles of water used for hydrolysis reaction] / [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] (molar ratio). 10 or less, [total number of moles of each alkoxy group contained in component (a1) and component (a2)] / [total number of moles of component (a1) and component (a2)] (molar ratio: 1 molecule The thermosetting resin composition is characterized in that the average number of alkoxy groups contained per unit is 2.5 or more and 3.5 or less .
縮合物(A)が、アルコキシシラン類(a1)をギ酸の存在下に加水分解した後、溶剤の存在下に縮合反応させて得られたものである請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。 Condensate (A) is, alkoxyalkyl after silanes with (a1) was hydrolyzed in the presence of formic acid, according to claim 1 Symbol placement of the thermosetting resin composition is obtained by a condensation reaction in the presence of a solvent object. アルコキシシラン類(a1)が、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランである請求項1または2記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the alkoxysilane (a1) is 3-mercaptopropyltrimethoxysilane. 化合物(C)が、イソホロンジイソシアネートである請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the compound (C) is isophorone diisocyanate. さらに、アルコキシシラン類(a1)および/またはその加水分解物(但し、縮合物は含まず)(D)を含有する請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-4 containing alkoxysilane (a1) and / or its hydrolyzate (however, a condensate is not included) (D). 成分(D)が、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランおよび/またはその加水分解物(但し、縮合物は含まず)である請求項記載の熱硬化性樹脂組成物。 6. The thermosetting resin composition according to claim 5 , wherein the component (D) is 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and / or a hydrolyzate thereof (however, a condensate is not included). さらに、金属アルコキシド(a2)および/またはその加水分解物(但し、縮合物は含まず)(E)を含有する請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, metal alkoxy de (a2) and / or a hydrolyzate thereof (however, condensate is free) (E) the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6 containing a. 成分(E)が、アルコキシシラン、アルコキシチタンおよびアルコキシジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項記載の熱硬化性樹脂組成物。 Component (E) is alkoxysilane down, Arukokishichita emissions Contact and alkoxy zirconates Niu nothing Ranaru least one kind of claim 7 thermosetting resin composition according selected from the group. 不揮発分含有率が90%以上である請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性組成物。 The thermosetting composition according to any one of claims 1 to 8 , which has a nonvolatile content of 90% or more. 請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性組成物を熱硬化させて得られることを特徴とする硬化物。 A cured product obtained by thermosetting the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 9 . 請求項1〜10のいずれかに記載の熱硬化性組成物をガラスクロスに含浸させた後、熱硬化させて得られることを特徴とする透明基板。 A transparent substrate obtained by impregnating a glass cloth with the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 10 , followed by thermosetting. 導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、カラーフィルター、光ディスク基板または液晶セル用プラスチック基板用の請求項11記載の透明基板。 The transparent substrate according to claim 11 for a light guide plate, a polarizing plate, a liquid crystal panel, an EL panel, a PDP panel, a color filter, an optical disk substrate or a plastic substrate for a liquid crystal cell. 請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性組成物を熱硬化させて得られたコーティング層を基材上に有することを特徴とする塗装物品。 A coated article comprising a coating layer obtained by thermosetting the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 9 on a substrate. コーティング層が基材よりも屈折率が高くなるように形成されている請求項13記載の塗装物品。 The coated article according to claim 13, wherein the coating layer is formed to have a refractive index higher than that of the substrate. 導光板、偏光板、液晶パネル、ELパネル、PDPパネル、OHPフィルム、光ファイバー、カラーフィルター、光ディスク基板、レンズ、液晶セル用プラスチック基板またはプリズム用の請求項14記載の塗装物品。 The coated article according to claim 14 for a light guide plate, a polarizing plate, a liquid crystal panel, an EL panel, a PDP panel, an OHP film, an optical fiber, a color filter, an optical disk substrate, a lens, a plastic substrate for a liquid crystal cell, or a prism. 請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性組成物を封止材として用い、熱硬化させて得られることを特徴とする封止物品。 Using the thermosetting composition according to any one of claims 1 to 9 as a sealing material, sealing articles, characterized in that it is obtained by thermally curing. 発光素子、受光素子、光電変換素子、または光伝送関連部品用の請求項16記載の封止物品。 The sealing article according to claim 16 for a light emitting element, a light receiving element, a photoelectric conversion element, or an optical transmission related part.
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