JP5032249B2 - Composition for imprint molding and molded product using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物に関し、特にはモールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物に関するものである。 The present invention relates to an imprint molding composition and a molded article using the same, and particularly, an ultraviolet curable imprint molding composition that is easy to flow into a mold and has excellent adhesion to metal oxides such as IZO and ITO. It is about.
昨今、微細なパターンを低コストで形成する技術としてインプリント成形技術が精力的に研究されている。該インプリント成形技術は、基材上に配置した樹脂材料層に所望の凹凸を有するモールドを押し当てることで所望のパターンを基材上に形成する技術である。そして、該インプリント成形技術においては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用い、熱でパターンを形成する方法と、紫外線硬化型の樹脂を用い、紫外線照射でパターンを形成する方法が知られている。 Recently, an imprint molding technique has been vigorously studied as a technique for forming a fine pattern at a low cost. The imprint molding technique is a technique for forming a desired pattern on a substrate by pressing a mold having desired irregularities on a resin material layer disposed on the substrate. In the imprint molding technique, a method of forming a pattern by heat using a thermoplastic resin or a thermosetting resin and a method of forming a pattern by ultraviolet irradiation using an ultraviolet curable resin are known. Yes.
しかしながら、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱及び加圧に大量のエネルギーを消費せざるを得ず、また、成形時間が長くなって、生産性が低下する問題がある。一方、通常の紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、硬化時の収縮が大きいため、形成されたパターンと基材との密着性が悪く、特にIZOやITO等の透明導電性金属酸化物に対する接着性が悪い。また、紫外線硬化型樹脂として、高分子量のオリゴマーをモノマーで希釈して調製した原料組成物を使用した場合は、原料組成物が高粘度となって、モールドに原料組成物が流れ込み難く、転写率が低下したり、不要な部分に薄膜が残存したりして、成形性が低下する問題もある。 However, when a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used, a large amount of energy must be consumed for heating and pressurization, and there is a problem that the molding time becomes long and the productivity is lowered. On the other hand, when a normal ultraviolet curable resin is used, the shrinkage at the time of curing is large, so the adhesion between the formed pattern and the substrate is poor, and particularly the adhesion to transparent conductive metal oxides such as IZO and ITO. The nature is bad. In addition, when a raw material composition prepared by diluting a high molecular weight oligomer with a monomer is used as an ultraviolet curable resin, the raw material composition has a high viscosity and the raw material composition is difficult to flow into the mold, and the transfer rate There is also a problem that the moldability is lowered due to a decrease in the thickness or a thin film remaining in unnecessary portions.
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することにある。 Accordingly, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, with low energy consumption, short molding time, easy flow into the mold, and excellent UV curing with excellent adhesion to metal oxides such as IZO and ITO. An object of the present invention is to provide a mold imprint molding composition.
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、特定の(メタ)アクリレートモノマーとを含み、粘度が一定以下の組成物が、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the inventors of the present invention include a specific (meth) acrylate oligomer and a specific (meth) acrylate monomer, and a composition having a certain viscosity or less flows into the mold. It was easy to find and excellent adhesion to metal oxides such as IZO and ITO, and the present invention was completed.
即ち、本発明のインプリント成形用組成物は、
・ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、
・ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、
・光重合開始剤(C)とを含んでなり、
・粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とする。
That is, the imprint molding composition of the present invention is
-At least one (meth) acrylate oligomer (A) selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate oligomers and epoxy (meth) acrylate oligomers;
At least one (meth) acrylate monomer (B) selected from the group consisting of hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomers and carboxyl group-containing (meth) acrylate monomers;
-Comprising a photopolymerization initiator (C),
-The viscosity is 1000 mPa · s or less.
本発明のインプリント成形用組成物は、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が2であるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを40質量%以上含むことが好ましい。 The imprint molding composition of the present invention preferably contains 40% by mass or more of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer having 2 carbon atoms from the (meth) acryloyl group to the hydroxyl group.
また、本発明のインプリント成形用組成物は、カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを30質量%以上含むことも好ましい。 The imprint molding composition of the present invention preferably contains 30% by mass or more of a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer.
本発明のインプリント成形用組成物において、前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量は30質量%以上であることが好ましい。 In the imprint molding composition of the present invention, the content of the (meth) acrylate oligomer (A) is preferably 30% by mass or more.
また、本発明のインプリント成形用組成物は、更に、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含むことが好ましい。 The imprint molding composition of the present invention preferably further contains a (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer.
本発明のインプリント成形用組成物は、前記粘度が10〜1000 mPa・sであることが好ましい。 The imprint molding composition of the present invention preferably has the viscosity of 10 to 1000 mPa · s.
本発明のインプリント成形用組成物の好適例においては、前記光重合開始剤(C)の配合量が、前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と前記(メタ)アクリレートモノマー(B)との合計100質量部に対して0.1〜10質量部である。 In a preferred example of the imprint molding composition of the present invention, the amount of the photopolymerization initiator (C) is the sum of the (meth) acrylate oligomer (A) and the (meth) acrylate monomer (B). It is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts.
また、本発明の成形物は、上記のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなり、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましく、ディスプレイ用リブ材として好適である。 The molded article of the present invention is obtained by curing the above-mentioned imprint molding composition by ultraviolet irradiation, and preferably has a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or higher, and is suitable as a rib material for a display. .
本発明によれば、特定の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、特定の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)とを含み、粘度が1000 mPa・s以下であって、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することができる。 According to the present invention, the specific (meth) acrylate oligomer (A), the specific (meth) acrylate monomer (B), and the photopolymerization initiator (C) are included, and the viscosity is 1000 mPa · s or less. Thus, it is possible to provide an ultraviolet curable imprint molding composition that is easy to flow into a mold and has excellent adhesion to metal oxides such as IZO and ITO.
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のインプリント成形用組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)とを含んでなり、粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とする。 The present invention is described in detail below. The imprint molding composition of the present invention comprises at least one (meth) acrylate oligomer (A) selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate oligomers and epoxy (meth) acrylate oligomers, and hydroxyl group-containing (meth). It comprises at least one (meth) acrylate monomer (B) selected from the group consisting of an acrylate monomer and a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer, and a photopolymerization initiator (C), and has a viscosity of 1000 mPa · s. It is characterized by the following.
本発明のインプリント成形用組成物においては、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのカルボキシル基がIZOやITO等の金属酸化物と水素結合するため、これら金属酸化物に対する接着性が大幅に向上しており、脱型時のパターン剥がれを防止することができる。 In the imprint molding composition of the present invention, the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer and / or the carboxyl group of the carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer is hydrogen bonded to a metal oxide such as IZO or ITO. Therefore, adhesion to these metal oxides is greatly improved, and pattern peeling at the time of demolding can be prevented.
また、本発明のインプリント成形用組成物は、上記モノマーに比べて分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーを含むため、紫外線照射で形成される成形物が高い強度を有する。 Further, since the imprint molding composition of the present invention contains a urethane (meth) acrylate oligomer and / or an epoxy (meth) acrylate oligomer having a molecular weight larger than that of the monomer, a molded product formed by ultraviolet irradiation is high. Has strength.
更に、本発明のインプリント成形用組成物は、粘度が1000 mPa・s以下であるため、モールド(型)へ流れ込み易く、転写率を十分に向上させることができると共に、残膜厚さを十分に薄くすることができる。なお、本発明のインプリント成形用組成物は、粘度の下限に特に制限はないが、基材に対する接着性の観点から、粘度が10 mPa・s以上であることが好ましい。 Furthermore, since the composition for imprint molding of the present invention has a viscosity of 1000 mPa · s or less, it can easily flow into a mold (mold), can sufficiently improve the transfer rate, and has a sufficient remaining film thickness. Can be thinned. In the imprint molding composition of the present invention, the lower limit of the viscosity is not particularly limited, but the viscosity is preferably 10 mPa · s or more from the viewpoint of adhesion to the substrate.
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートオリゴマー(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーであり、ウレタンアクリレートオリゴマー及び/又はエポキシアクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートオリゴマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれらの(メタ)アクリレートオリゴマーを含まない場合、紫外線照射で形成される成形物の強度が低下してしまう。 The (meth) acrylate oligomer (A) used in the imprint molding composition of the present invention is a urethane (meth) acrylate oligomer and / or an epoxy (meth) acrylate oligomer, and is a urethane acrylate oligomer and / or an epoxy acrylate oligomer. It is preferable. These (meth) acrylate oligomers may be used alone or in combination of two or more. When the composition for imprint molding does not contain these (meth) acrylate oligomers, the strength of the molded product formed by ultraviolet irradiation is lowered.
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイルオキシ基(CH2=CHCOO−又はCH2=C(CH3)COO−)を1つ以上有し、ウレタン結合(−NHCOO−)を複数有する化合物である。該ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、該ウレタンプレポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレートを付加させることによって製造することができる。 The urethane (meth) acrylate oligomer has at least one (meth) acryloyloxy group (CH 2 ═CHCOO— or CH 2 ═C (CH 3 ) COO—) and a plurality of urethane bonds (—NHCOO—). A compound. The urethane (meth) acrylate oligomer can be produced, for example, by synthesizing a urethane prepolymer from a polyol and polyisocyanate, and adding a (meth) acrylate having a hydroxyl group to the urethane prepolymer.
上記ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基(OH基)を複数有する化合物であり、該ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオール及びポリイソプレンポリオール等が挙げられる。なお、上記ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、上記ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。 The polyol used for the synthesis of the urethane prepolymer is a compound having a plurality of hydroxyl groups (OH groups). Specific examples of the polyol include polyether polyol, polyester polyol, polytetramethylene glycol, polybutadiene polyol, and alkylene oxide modification. Examples include polybutadiene polyol and polyisoprene polyol. The polyether polyol is obtained, for example, by adding an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide to a polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, or glycerin. The polyester polyol is, for example, ethylene glycol. , Diethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, propylene glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane and other polyhydric alcohols and adipic acid, glutaric acid, succinic acid, sebacic acid, pimelic acid, suberin It is obtained from a polyvalent carboxylic acid such as an acid.
上記ポリイソシアネートは、イソシアネート基(NCO基)を複数有する化合物であって、該ポリイソシアネートとして、具体的には、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート(クルードMDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等が挙げられる。 The polyisocyanate is a compound having a plurality of isocyanate groups (NCO groups). Specifically, as the polyisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), crude diphenylmethane diisocyanate (crude MDI), Examples include isophorone diisocyanate (IPDI), hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), these isocyanurate-modified products, carbodiimide-modified products, and glycol-modified products.
上記ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。該ウレタン化反応用触媒としては、有機スズ化合物、無機スズ化合物、有機鉛化合物、モノアミン類、ジアミン類、トリアミン類、環状アミン類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、有機スルホン酸、無機酸、チタン化合物、ビスマス化合物、四級アンモニウム塩等が挙げられ、これらの中でも、有機スズ化合物が好ましい。また、好適な有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート,ジブチルスズジアセテート,ジブチルスズチオカルボキシレート,ジブチルスズジマレエート,ジオクチルスズチオカルボキシレート,オクテン酸スズ,モノブチルスズオキシド等が挙げられる。 In the synthesis of the urethane prepolymer, it is preferable to use a catalyst for urethanization reaction. Examples of the catalyst for urethanization reaction include organic tin compounds, inorganic tin compounds, organic lead compounds, monoamines, diamines, triamines, cyclic amines, alcohol amines, ether amines, organic sulfonic acids, inorganic acids, titanium A compound, a bismuth compound, a quaternary ammonium salt, etc. are mentioned, Among these, an organotin compound is preferable. Suitable organic tin compounds include dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin thiocarboxylate, dibutyltin dimaleate, dioctyltin thiocarboxylate, tin octenoate, monobutyltin oxide, and the like.
また、上記ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物である。該水酸基を有する(メタ)アクリレートは、上記ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。該水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylate having a hydroxyl group to be added to the urethane prepolymer is a compound having one or more hydroxyl groups and one or more (meth) acryloyloxy groups. The (meth) acrylate having a hydroxyl group can be added to the isocyanate group of the urethane prepolymer. Examples of the (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate.
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、グリシジル基を有する化合物、好ましくは、グリシジル基を有し且つベンゼン環、ナフタレン環、スピロ環、ジシクロペンタジエン、トリシクロデカン等の環状構造を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって製造することができる。 The epoxy (meth) acrylate oligomer is a compound having a glycidyl group, preferably a compound having a glycidyl group and a cyclic structure such as a benzene ring, a naphthalene ring, a spiro ring, dicyclopentadiene, or tricyclodecane. It can be produced by reacting with (meth) acrylic acid.
上記グリシジル基を有する化合物としては、ビスフェノールA又はビスフェノールFとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the compound having a glycidyl group include a bisphenol type epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and the like obtained by a reaction between bisphenol A or bisphenol F and epichlorohydrin. It is done.
本発明のインプリント成形用組成物は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)を30質量%以上含むことが好ましい。インプリント成形用組成物中の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が30質量%以上であれば、十分な強度を有する成形物を得ることができる。また、本発明のインプリント成形用組成物は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が60質量%以下であることが好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が60質量%以下であれば、インプリント成形用組成物の粘度が十分に低くなる。 The imprint molding composition of the present invention preferably contains 30% by mass or more of the (meth) acrylate oligomer (A). When the content of the (meth) acrylate oligomer (A) in the imprint molding composition is 30% by mass or more, a molded product having sufficient strength can be obtained. In the imprint molding composition of the present invention, the content of the (meth) acrylate oligomer (A) is preferably 60% by mass or less. When the content of the (meth) acrylate oligomer (A) is 60% by mass or less, the viscosity of the imprint molding composition is sufficiently low.
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー(B)は、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及び/又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーであり、ヒドロキシル基含有アクリレートモノマー及び/又はカルボキシル基含有アクリレートモノマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートモノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれらの(メタ)アクリレートモノマーを含まない場合、成形物がIZOやITO等の金属酸化物と水素結合できないため、これら金属酸化物に対する接着性が悪化し、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。 The (meth) acrylate monomer (B) used in the imprint molding composition of the present invention is a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer and / or a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer, and a hydroxyl group-containing acrylate monomer and / or Or it is preferable that it is a carboxyl group-containing acrylate monomer. These (meth) acrylate monomers may be used alone or in combination of two or more. If the composition for imprint molding does not contain these (meth) acrylate monomers, the molded product cannot hydrogen bond with metal oxides such as IZO and ITO, so the adhesion to these metal oxides deteriorates, and at the time of demolding The molded product easily peels from the substrate.
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、水酸基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物であり、(メタ)アクリロイル基(CH2=CHCO−又はCH2=C(CH3)CO−)からヒドロキシル基までの炭素数が2であることが好ましい。かかるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が3以上では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分なことがあり、一方、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が1の化合物は、合成及び入手が困難である。 The hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer is a compound having one or more hydroxyl groups and one or more (meth) acryloyloxy groups, and is a (meth) acryloyl group (CH 2 ═CHCO— or CH 2 ═C The number of carbon atoms from (CH 3 ) CO—) to the hydroxyl group is preferably 2. As such hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomers, specifically, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate are particularly preferable. If the number of carbon atoms from the (meth) acryloyl group to the hydroxyl group is 3 or more, the adhesion of the imprint molding composition to the metal oxide may be insufficient, while the (meth) acryloyl group to the hydroxyl group may be insufficient. A compound having 1 carbon is difficult to synthesize and obtain.
本発明のインプリント成形用組成物が(メタ)アクリレートモノマー(B)としてヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含む場合、該ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、40質量%以上であることが好ましい。インプリント成形用組成物中のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量が40質量%未満では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分で、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。なお、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、紫外線照射で形成される成形物の強度の観点から、70質量%以下であることが好ましい。 When the imprint molding composition of the present invention contains a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer as the (meth) acrylate monomer (B), the content of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer is 40% by mass or more. Preferably there is. When the content of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer in the imprint molding composition is less than 40% by mass, the imprint molding composition has insufficient adhesion to the metal oxide, and is removed from the substrate during demolding. The molded product is easily peeled off. The content of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer is preferably 70% by mass or less from the viewpoint of the strength of the molded product formed by ultraviolet irradiation.
上記カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、カルボキシル基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物である。該カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンサクシネート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンテトラヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンテトラヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンヘキサヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンヘキサヒドロフタレート、β-トリス(アクリロイルオキシメチル)エチルハイドロジェンフタレート等が挙げられる。 The carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer is a compound having one or more carboxyl groups and one or more (meth) acryloyloxy groups. As the carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer, specifically, β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen succinate, β- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen succinate, β- (meth) acryloyloxyethyl Hydrogen phthalate, β- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen tetrahydrophthalate, β- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen tetrahydrophthalate, β- (meth) acryloyloxyethyl Examples include hydrogen hexahydrophthalate, β- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen hexahydrophthalate, β-tris (acryloyloxymethyl) ethyl hydrogen phthalate, and the like.
本発明のインプリント成形用組成物が(メタ)アクリレートモノマー(B)としてカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含む場合、該カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、30質量%以上であることが好ましい。インプリント成形用組成物中のカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量が30質量%未満では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分で、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。なお、カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、紫外線照射で形成される成形物の強度の観点から、70質量%以下であることが好ましい。 When the imprint molding composition of the present invention includes a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer as the (meth) acrylate monomer (B), the content of the carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer is 30% by mass or more. Preferably there is. If the content of the carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer in the imprint molding composition is less than 30% by mass, the imprint molding composition has insufficient adhesion to the metal oxide, and is removed from the substrate during demolding. The molded product is easily peeled off. In addition, it is preferable that content of a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer is 70 mass% or less from a viewpoint of the intensity | strength of the molded object formed by ultraviolet irradiation.
本発明のインプリント成形用組成物に用いる光重合開始剤(C)は、紫外線を照射されることによって、上述した(メタ)アクリレートオリゴマー(A)や(メタ)アクリレートモノマー(B)の重合を開始させる作用を有する。該光重合開始剤(C)としては、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸エステル、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン及び3,3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4,4-ジメトキシベンゾフェノン、4,4-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(4-ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイン及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、キサントン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、フルオレン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1,2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(モルホリノフェニル)-ブタノン-1等が挙げられる。これら光重合開始剤(C)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The photopolymerization initiator (C) used in the imprint molding composition of the present invention is polymerized with the above-described (meth) acrylate oligomer (A) or (meth) acrylate monomer (B) by being irradiated with ultraviolet rays. Has the effect of starting. Examples of the photopolymerization initiator (C) include 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid ester, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenone diethyl ketal, alkoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, benzophenone and 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone derivatives such as 4,4-dimethoxybenzophenone, 4,4-diaminobenzophenone, alkyl benzoylbenzoate, bis (4-dialkylaminophenyl) ketone, benzyl, benzylmethyl ketal, etc. Benzyl derivatives of benzoin, benzoin derivatives such as benzoin and benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Thioxanthone and thioxanthone derivatives, fluorene, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6- Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (morpholinophenyl) -butanone-1, etc. Is mentioned. One of these photopolymerization initiators (C) may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
本発明のインプリント成形用組成物における上記光重合開始剤(C)の配合量は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と上記(メタ)アクリレートモノマー(B)との合計100質量部に対して0.1〜10質量部の範囲が好ましい。光重合開始剤の配合量が0.1質量部未満では、インプリント成形用組成物の紫外線硬化を開始させる効果が小さく、一方、10質量部を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、インプリント成形用組成物の原料コストが高くなる。 The amount of the photopolymerization initiator (C) in the imprint molding composition of the present invention is 100 parts by mass in total of the (meth) acrylate oligomer (A) and the (meth) acrylate monomer (B). The range of 0.1 to 10 parts by mass is preferable. When the blending amount of the photopolymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the effect of initiating UV curing of the imprint molding composition is small, whereas when it exceeds 10 parts by mass, the effect of initiating UV curing is saturated, The raw material cost of the imprint molding composition is increased.
本発明のインプリント成形用組成物は、更に、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含むことが好ましい。上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)及び(メタ)アクリレートモノマー(B)からなるインプリント成形用組成物から作製した成形物(硬化物)は、ガラス転移温度(Tg)が低く、若干タック性を有することがある。一方、インプリント成形用組成物が(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含む場合、成形物中に環構造が導入され、成形物のガラス転移温度(Tg)が上昇して、成形物のタック性を低減することができる。 The imprint molding composition of the present invention preferably further contains a (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer. A molded product (cured product) produced from the imprint molding composition comprising the (meth) acrylate oligomer (A) and the (meth) acrylate monomer (B) has a low glass transition temperature (Tg) and is slightly tacky. May have. On the other hand, when the imprint molding composition contains a (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer, a ring structure is introduced into the molded product, and the glass transition temperature (Tg) of the molded product is increased, thereby tacking the molded product. Can be reduced.
なお、インプリント成形用組成物に架橋剤を添加することでも、成形物のガラス転移温度を上昇させることができるが、この場合、成形物の架橋度が上昇するため、硬化収縮が起こり、成形物の基材への接着力が低下することがある。一方、インプリント成形用組成物に(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを添加して、成形物中に環構造を導入した場合は、成形物の架橋度が上昇することが無いため、成形物の基材への接着力を維持しつつ、成形物のガラス転移温度を上昇させ、成形物のタック性を低減することが可能となる。 Note that the glass transition temperature of the molded product can also be increased by adding a crosslinking agent to the imprint molding composition. However, in this case, the degree of crosslinking of the molded product increases, so that curing shrinkage occurs and molding is performed. The adhesion force of the object to the substrate may be reduced. On the other hand, when a (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer is added to the imprint molding composition and a cyclic structure is introduced into the molding, the degree of cross-linking of the molding does not increase. It is possible to increase the glass transition temperature of the molded product and reduce the tackiness of the molded product while maintaining the adhesive force to the substrate.
上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーは、環を1つ以上有し、(メタ)アクリロイル基を1つ以上有する化合物である。ここで、環としては、イソボルニル、ベンゼン環、モルホリン環、トリアジン環等が挙げられ、これらの中でも、モルホリン環等の複素環が好ましい。また、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーとして、具体的には、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer is a compound having one or more rings and one or more (meth) acryloyl groups. Here, examples of the ring include isobornyl, benzene ring, morpholine ring, and triazine ring. Among these, a heterocyclic ring such as morpholine ring is preferable. Specific examples of the (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer include (meth) acryloylmorpholine. The said (meth) acryloyl group containing cyclic monomer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーの含有量は、インプリント成形用組成物中5〜50質量%の範囲が好ましく、10〜50質量%の範囲が更に好ましい。(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーの含有量が5質量%未満では、成形物のガラス転移温度を上昇させてタック性を低減する効果が不十分であり、一方、50質量%を超えると、オリゴマー量の減少により強伸度が低下し、また、ヒドロキシル基含有モノマー及び/又はカルボキシル基含有モノマーの減少により、基材接着力が低下するので基材から成形物が剥離し易くなる。 The content of the (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer is preferably in the range of 5 to 50% by mass and more preferably in the range of 10 to 50% by mass in the imprint molding composition. If the content of the (meth) acryloyl group-containing cyclic monomer is less than 5% by mass, the effect of increasing the glass transition temperature of the molded product to reduce tackiness is insufficient, while if exceeding 50% by mass, The reduction in the amount of oligomer reduces the strength and elongation, and the decrease in the hydroxyl group-containing monomer and / or the carboxyl group-containing monomer reduces the adhesive strength of the base material, so that the molded product is easily peeled off from the base material.
上述のように、本発明のインプリント成形用組成物は、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れる。従って、本発明のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物は、転写率が高く、残膜厚さも非常に薄く、基材から剥離し難く、ディスプレイ用リブ材として好適である。 As described above, the imprint molding composition of the present invention is easy to flow into a mold and has excellent adhesion to metal oxides such as IZO and ITO. Therefore, a molded product obtained by curing the imprint molding composition of the present invention by ultraviolet irradiation has a high transfer rate, a very thin residual film thickness, and is hardly peeled off from the substrate, and is suitable as a rib material for a display. is there.
なお、上記インプリント成形用組成物を硬化させてなる成形物は、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましい。ガラス転移温度が50℃以上であれば、成形物のタック性が非常に低く、粉体が付着し難いため、電子粉流体を用いたディスプレイのリブ材として特に好適である。 The molded product obtained by curing the imprint molding composition preferably has a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or higher. A glass transition temperature of 50 ° C. or higher is particularly suitable as a rib material for a display using an electronic powder fluid because the molded product has very low tackiness and hardly adheres to powder.
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
表1及び表2に示す配合のインプリント成形用組成物を調製して、下記の方法で25℃での粘度を測定し、更に、下記の方法で転写率、残膜厚さ、基材に対する接着強度、成形物のガラス転移温度を測定した。また、成形物の基材からの剥離の有無、成形物のタック性を観察した。結果を表1及び表2に示す。 An imprint molding composition having the composition shown in Table 1 and Table 2 was prepared, and the viscosity at 25 ° C. was measured by the following method. Further, the transfer rate, the remaining film thickness, and the substrate were measured by the following method. The adhesive strength and the glass transition temperature of the molded product were measured. Moreover, the presence or absence of peeling from the base material of the molded product and the tackiness of the molded product were observed. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1)粘度
回転式粘度計(型番:RS600, 英弘精機&サーモエレクトロン製)を用い、25℃で一定温度に保たれた測定用プレートにサンプルとなるUV硬化樹脂液をのせ、専用コーンプレート(直径2cm, コーン中心とサンプル最表面でなす角度1度)を用い、ずり速度0.01s-1〜1000s-1をかけながらコーンプレートを回転させ、応力を検知し、応力とずり速度との関係から粘度値を得た。
(1) Viscosity Using a rotary viscometer (model number: RS600, manufactured by Eihiro Seiki & Thermo Electron), put a UV curable resin liquid as a sample on a measurement plate kept at a constant temperature at 25 ° C, and use a dedicated cone plate ( Rotate the cone plate while applying a shear rate of 0.01 s -1 to 1000 s -1 using a diameter of 2 cm and an angle of 1 degree between the cone center and the sample outermost surface). From the relationship between the stress and shear rate, Viscosity values were obtained.
(2)転写率及び残膜厚さ
成形物が載ったフィルムをカミソリ刃で切断し、得られた試料をPP製の小型容器に入れ、常温硬化エポキシ樹脂を流し、硬化させる。小型容器から硬化物を取り出し、それを回転研磨機[ストルアス製ロトポール]で成形物の断面が見えるまで研磨する。得られた試料をデジタルマイクロスコープ[キーエンス製VHX DIGITAL. MICROSCOPE]で成形物の断面を観察し、成形物の凸部の上底、下底、高さから断面積を算出し、金型断面積に対する成形物断面積の割合を算出して転写率を求めた。また、残膜厚さについては、同様に成形物の凹部の基材上に残存する薄膜厚さを測定したものである。なお、転写率については、90%以上であれば良好であり、残膜厚さついては、1μm以下であれば良好である。
(2) Transfer rate and remaining film thickness The film on which the molded product is placed is cut with a razor blade, and the obtained sample is put into a small PP container, and a room temperature curing epoxy resin is poured and cured. The cured product is taken out from the small container and polished with a rotary polishing machine [Strouss Rotopol] until the cross section of the molded product can be seen. The obtained sample is observed with a digital microscope [Keyence VHX DIGITAL. MICROSCOPE], the cross section of the molded product is calculated from the top, bottom and height of the convex portion of the molded product. The transfer rate was determined by calculating the ratio of the cross-sectional area of the molded product relative to. Moreover, about the remaining film thickness, the thin film thickness which remains on the base material of the recessed part of a molded object similarly is measured. The transfer rate is good when it is 90% or more, and the remaining film thickness is good when it is 1 μm or less.
(3)基材に対する接着強度
PET基材に蒸着されたIZO上にUV硬化樹脂液をバーコーターで100μm厚に塗布する。その後、裏打ち材として同様のフィルムをIZO面が樹脂液に向くように載せ、ゴムローラーで樹脂液を伸ばし、UV照射(-700 mW/cm2, 3000 mJ/cm2)し、樹脂液を硬化させる。得られたサンプルの持ち手部分を剥離試験機[オリエンテック製STA−1150]のチャックに挟み、50 mm/minで引き上げ、得られた荷重値と試料の幅から接着強度を算出した。なお、接着強度は、500 N/m以上であれば良好である。
(3) Adhesive strength to base material A UV curable resin liquid is applied to a thickness of 100 μm by a bar coater on IZO deposited on a PET base material. Then, place the same film as the backing material so that the IZO surface faces the resin liquid, stretch the resin liquid with a rubber roller, and UV-irradiate (-700 mW / cm 2 , 3000 mJ / cm 2 ) to cure the resin liquid Let The handle portion of the obtained sample was sandwiched between chucks of a peel tester [Orientec STA-1150], pulled up at 50 mm / min, and the adhesive strength was calculated from the obtained load value and the sample width. The adhesive strength is good if it is 500 N / m or more.
(4)成形物のガラス転移温度
7mm×50mm×1mmの板状UV硬化組成物を作製し、動的粘弾性測定機[SII製EXSTAR−6000]にて試験片を引っ張り振動用治具に固定し、1 Hzの周波数で応力をかけ、その際に発生する応答を検知させる。測定より求められたE'(貯蔵弾性率)、E"(損失弾性率)より正弦損失tanδを求め、そのピークが発生する温度をTg(ガラス転移温度)とした。なお、ガラス転移温度は、50℃以上であれば良好である。
(4) Glass transition temperature of the molded product
A plate-shaped UV curable composition of 7 mm x 50 mm x 1 mm is prepared, and the test piece is pulled and fixed to a vibration jig with a dynamic viscoelasticity measuring instrument [SEX EXSTAR-6000], and stress is applied at a frequency of 1 Hz. And make a response to occur at that time. The sine loss tan δ was determined from E ′ (storage elastic modulus) and E ″ (loss elastic modulus) determined from the measurement, and the temperature at which the peak occurred was defined as Tg (glass transition temperature). If it is 50 degreeC or more, it is favorable.
*1 共栄社化学製, 商品名「3002A」, エポキシアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=600, ビスフェノールA骨格
*2 日本化薬製, 商品名「UX2201」, ポリエーテルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=7200
*3 日本合成化学製, 商品名「UV3000B」, ポリエステルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=18000
*4 日本合成化学製, 商品名「UV3700B」, ポリエーテルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=36000
*5 共栄社化学製, 商品名「HO−A」, 2-ヒドロキシエチルアクリレート
*6 共栄社化学製, 商品名「HOP−A」, 2-ヒドロキシプロピルアクリレート
*7 共栄社化学製, 商品名「HOB−A」, 2-ヒドロキシブチルアクリレート
*8 新中村化学製, 商品名「A−SA」, β-アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート
*9 共栄社化学製, 商品名「LA」, ラウリルアクリレート
*10 大阪有機化学製, 商品名「4−HBA」, 4-ヒドロキシブチルアクリレート
*11 新中村化学製, 商品名「A−MO」, アクリロイルモルホリン
*12 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製, 商品名「IRGACURE 184」, 1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン
* 1 Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name “3002A”, epoxy acrylate oligomer, weight average molecular weight (Mw) = 600, bisphenol A skeleton
* 2 Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "UX2201", urethane acrylate oligomer derived from polyether polyol, weight average molecular weight (Mw) = 7200
* 3 Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “UV3000B”, urethane acrylate oligomer derived from polyester polyol, weight average molecular weight (Mw) = 18000
* 4 Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “UV3700B”, urethane acrylate oligomer derived from polyether polyol, weight average molecular weight (Mw) = 36000
* 5 Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name “HO-A”, 2-hydroxyethyl acrylate
* 6 Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name “HOP-A”, 2-hydroxypropyl acrylate
* 7 Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name “HOB-A”, 2-hydroxybutyl acrylate
* 8 Made by Shin-Nakamura Chemical, trade name “A-SA”, β-acryloyloxyethyl hydrogen succinate
* 9 Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name “LA”, lauryl acrylate
* 10 Made by Osaka Organic Chemicals, trade name “4-HBA”, 4-hydroxybutyl acrylate
* 11 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “A-MO”, acryloylmorpholine
* 12 Product name “IRGACURE 184”, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
表1から、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーと、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含み、粘度が1000 mPa・s以下である実施例1〜8のインプリント成形用組成物は、転写率が高く、残膜厚さが薄い上、IZOフィルムに対する接着強度が高く、IZOフィルムから成形物が剥離することが無かった。 From Table 1, Examples containing urethane (meth) acrylate oligomers or epoxy (meth) acrylate oligomers and hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomers or carboxyl group-containing (meth) acrylate monomers and having a viscosity of 1000 mPa · s or less In the imprint molding compositions 1 to 8, the transfer rate was high, the residual film thickness was thin, the adhesive strength to the IZO film was high, and the molded product did not peel from the IZO film.
また、実施例5〜8の結果から、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーに加え、アクリロイルモルホリンを含むインプリント成形用組成物は、成形物のガラス転移温度が高く、タック性が小さいため、電子粉流体を用いたディスプレイのリブ材の形成に特に好適であることが分かった。 Further, from the results of Examples 5 to 8, in addition to urethane (meth) acrylate oligomer or epoxy (meth) acrylate oligomer and hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer or carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer, an acryloylmorpholine-containing monomer It has been found that the composition for print molding is particularly suitable for forming a rib material for a display using an electronic powder fluid because the molded article has a high glass transition temperature and low tackiness.
一方、粘度が1000 mPa・sを超える比較例1〜4のインプリント成形用組成物は、転写率が低く、残膜厚さが厚かった。また、ラウリルアクリレートを配合した比較例5のインプリント成形用組成物は、IZOフィルムに対する接着強度が低く、IZOフィルムから成形物が剥離してしまった。 On the other hand, the imprint molding compositions of Comparative Examples 1 to 4 having a viscosity exceeding 1000 mPa · s had a low transfer rate and a large residual film thickness. Further, the imprint molding composition of Comparative Example 5 containing lauryl acrylate had low adhesive strength to the IZO film, and the molded product was peeled off from the IZO film.
なお、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が4であるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを配合した実施例9のインプリント成形用組成物は、IZOフィルムに対する接着強度が低く、IZOフィルムから成形物が剥離してしまったため、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとしては、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が2である化合物が好ましいことが分かる。 In addition, the imprint molding composition of Example 9 in which a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer having 4 carbon atoms from a (meth) acryloyl group to a hydroxyl group was blended had a low adhesive strength to an IZO film, and IZO Since the molded product was peeled off from the film, it is understood that a compound having 2 carbon atoms from the (meth) acryloyl group to the hydroxyl group is preferable as the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer.
Claims (10)
ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、
光重合開始剤(C)とを含んでなり、
粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とするインプリント成形用組成物。 At least one (meth) acrylate oligomer (A) selected from the group consisting of urethane (meth) acrylate oligomers and epoxy (meth) acrylate oligomers;
At least one (meth) acrylate monomer (B) selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer and a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer;
A photopolymerization initiator (C),
An imprint molding composition having a viscosity of 1000 mPa · s or less.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
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---|---|
JP2009062433A JP2009062433A (en) | 2009-03-26 |
JP5032249B2 true JP5032249B2 (en) | 2012-09-26 |
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ID=40557315
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11427669B2 (en) | 2017-12-07 | 2022-08-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Photocurable resin composition and fabrication method of window member using the same |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5130082B2 (en) * | 2008-03-03 | 2013-01-30 | 株式会社ブリヂストン | Composition for imprint molding and molded product using the same |
JP5634799B2 (en) * | 2010-08-26 | 2014-12-03 | 株式会社ダイセル | Radiation curable resin composition for forming fine pattern, and method for producing fine structure using the composition |
JP5978761B2 (en) * | 2012-05-23 | 2016-08-24 | 旭硝子株式会社 | Photocurable composition for imprint and method for producing molded article having fine pattern on surface |
JP6783995B2 (en) * | 2016-05-27 | 2020-11-11 | 協立化学産業株式会社 | Curable resin composition |
JP6732174B2 (en) * | 2016-07-14 | 2020-07-29 | 協立化学産業株式会社 | Photocurable resin composition for imprint molding |
JP6833211B2 (en) * | 2018-01-26 | 2021-02-24 | 協立化学産業株式会社 | Photocurable resin composition for imprint molding |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100568581B1 (en) * | 2003-04-14 | 2006-04-07 | 주식회사 미뉴타텍 | Composition for mold used in forming micropattern, and mold prepared therefrom |
JP2007001250A (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Asahi Glass Co Ltd | Manufacturing method of fine pattern formed material |
JP4770354B2 (en) * | 2005-09-20 | 2011-09-14 | 日立化成工業株式会社 | Photocurable resin composition and pattern forming method using the same |
JP4791186B2 (en) * | 2006-01-12 | 2011-10-12 | ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ | Magnetic head slider, method for manufacturing the same, and magnetic disk drive |
JP2007245684A (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Sekisui Chem Co Ltd | Manufacturing process of replica mold |
WO2007145246A1 (en) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Resin composition and multilayer optical member using the same |
JP2008155344A (en) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Liquid photopolymerizable composition, nano-structure with same and manufacturing method therefor |
-
2007
- 2007-09-05 JP JP2007230314A patent/JP5032249B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11427669B2 (en) | 2017-12-07 | 2022-08-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Photocurable resin composition and fabrication method of window member using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009062433A (en) | 2009-03-26 |
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A621 | Written request for application examination |
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