JP5016517B2 - 地下水位低下工法 - Google Patents
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- 地下水位低下対象域の地下水位を低下させる地下水位低下工法であって、
前記地下水位低下対象域及び前記地下水位低下対象域に隣接する掘削域を包囲する遮水性土留壁を設置する遮水性土留壁設置工程と、
前記地下水位低下対象域と前記掘削域との間に開水性土留壁を設置する開水性土留壁設置工程と、
前記遮水性土留壁設置工程及び前記開水性土留壁設置工程の後、前記掘削域を掘削して立坑を形成する掘削工程と、
を有することを特徴とする地下水位低下工法。 - 前記開水性土留壁は、土砂の通過を阻止する排水孔により、水の通過を許容することを特徴とする請求項1に記載の地下水位低下工法。
- 前記掘削工程により前記掘削域が所定深さ掘削された後、前記開水性土留壁に前記排水孔を形成する排水孔形成工程を、更に有することを特徴とする請求項2に記載の地下水位低下工法。
- 前記開水性土留壁設置工程は、前記排水孔が形成された前記開水性土留壁を設置することを特徴とする請求項2に記載の地下水位低下工法。
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