JP5097276B2 - 任意のステアリング中にコヒーレントな合成ビームを保持するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
本明細書において「後方結合機構」又は「位相サンプラ」がたびたび参照される。本明細書において用いられるときに、用語「位相サンプラ」は、光路内の下流点から到来する光の一部を遮断し(又は結合するか、又は別の方法で捕捉し)、そのように遮断された光を、光路を通じて後方に送信する(すなわち、その光を、光路を通じて上流に送信する)ことができる任意の素子又は構造を指す。典型的には、位相サンプラは、任意の上流にある構成要素の熱又は経時変化のためにドリフトする場合がある位相シフトを有する光を遮断し、そのように遮断した光を、光学的な構成要素列を通じて所定の点(たとえば、信号が単一の光源ファイバから分割されるか、又は単一の受信ファイバに合成される場所)まで後方に(上流に)送信し、フィードバック制御を用いて位相ドリフトを相殺することによって、コヒーレントに合成された位相安定複合出力ビームが達成されるようにする。
したがって、ここで図4を参照すると、開ループステアリング角補正を提供するために用いられる位相制御システム80の機能図が示される。ここで図3の類似の素子は類似の参照記号を設けられる。図4において要素82によって示されるように、環境による外乱が、図3との関連で説明されたのと概ね同じようにして取り扱われるが、図1との関連で説明されたように合成開口ビームをまとめてステアリングすることによって生成される位相誤差を明らかにするために、付加的な開ループ機能84が含まれる。そのような機能は、たとえば、位相補正プロセッサ84によって提供される場合があり、位相補正プロセッサ84は、ステアリング角86及びシステム較正値88を利用して、ステアリングのための開口位相補正値90を生成し、それは、その後、加算回路91に与えられ、さらにその後、出力ビーム65に適用される。
E(r)∝exp(jk・r−jωt) (式1)
ただし、
kはステアリングベクトル(所望のステアリングされるビームの方向における単位ベクトル)であり、
rは電界が測定されている空間内の点であり、
ωはラジアン単位の光周波数であり、
tは時間である。
E(r)∝exp(jk・r) (式2)
多開口システムでは、式(2)は、開口毎に、ステアリング及び位相オフセット項に分けられる。図5に示されるように、アレイの名目上の中心r0、及び第iの開口のOPAステアリング座標の原点(たとえば、中心)をもたらすとき、式(2)は、式(3)として書き換えることができる。
これは3つの異なる位相項を残す。
k・(r−ri):その中心がriである開口から放射される通常の形の波であり、すなわち、開口i内のOPAが通常の動作において生成する波である;及び
k・(ri−r0):ステアリングに起因する位相オフセットであり、それは、全ての開口ビームを1つのコヒーレントビームに合成するのを確実にするために適用されなければならないものである。
この補正の1つの重要な態様は、それが送信/受信ビームにのみ適用されることである。この補正が制御ビームにも適用される場合、FPSのための制御ループが、送信ビームへの効果を相殺して無効にすることになる。こうして、各開口内のOPAは、制御ビームの位相に影響を及ぼす部分(たとえば、40a、40b、図2、図2A、図2B)、及びメイン送信/受信ビームの位相に影響を及ぼす部分(たとえば、43a、43b)に分割される。必要とされる補正(式4)は局所端末制御システムによって検出することができないので、ステアリング位相誤差を補正するための過程は開ループ過程である。
Claims (21)
- 光学系内の送信経路の位相を調整するためのシステムであって、
(a)出力ポートを有する送信機光源と、
(b)前記送信機光源の前記出力ポートに結合される入力ポートと、該入力ポートから分離された第1のポートとを有し、且つ複数の送信経路出力ポートを有する結合器と、
(c)それぞれが、前記複数の結合器送信経路出力ポートのうちのそれぞれ1つに結合される第1の端部と、光開口で終端する第2の端部とを有する、同数の複数の光送信経路と、
(d)同数の複数の位相変調器であって、該位相変調器のそれぞれは、前記光送信経路のうちの対応する光送信経路に結合される、同数の複数の位相変調器と、
(e)前記光開口のうちの対応する光開口にそれぞれ結合され、前記光開口のうちの前記対応する光開口から出射するときに送信信号の一部を捕捉し、該捕捉された信号部分の方向を変更して、それぞれの前記光開口内に戻して前記光送信経路を通すようそれぞれ配置される、同数の複数の位相サンプラと、
(f)前記位相サンプラから方向を変更された前記信号部分を受信すると共に方向を変更された前記信号部分に応答してセンサ信号を生成するよう前記結合器の前記第1のポートに結合される送信機センサと、
(g)前記送信機センサから前記センサ信号を受信し、それに応答して、前記複数の位相変調器のそれぞれに制御信号を与えるよう結合される送信制御システムと、を備えるシステム。 - 光送信システムの送信経路の位相を調整する方法であって、該方法は、
(a)送信信号を生成すること、
(b)結合器から複数の送信信号経路を通じて前記送信信号を送ることであって、該複数の送信信号経路のそれぞれがその端部において1つの光開口を有すること、
(c)前記光開口のうちの対応する1つの光開口から出射するときに各送信信号の一部を補足し、該補足された各送信信号部分の方向を変更して、前記複数の送信信号経路のうちのそれぞれ対応する1つを通じて前記結合器に戻すこと、
(d)方向を変更された各前記信号の位相を検知すること、
(e)前記検知に応答して、同数の複数の位相変調器のそれぞれに対して制御信号を与えることであって、前記位相変調器のそれぞれが前記複数の送信信号経路のうちの対応する1つに結合されること、及び
(f)少なくとも1つの前記位相変調器によって、前記与えられた制御信号に従って前記複数の送信信号経路のうちの少なくとも1つの位相長を調整すること、
を含む、光送信システムの送信経路の位相を調整する方法。 - 前記複数の位相サンプラのそれぞれは、前記捕捉された信号部分の方向を変更して、来たところから前記同じ光送信経路を通じて戻す、請求項1記載のシステム。
- 前記送信制御システムにより与えられる前記制御信号は各光送信経路の別個の有効送信経路長を制御する、請求項3記載のシステム。
- 前記送信制御システムは、前記送信機光源から前記位相サンプラまで進み、前記送信機センサへ戻される位相誤差を無くす、請求項4記載のシステム。
- それぞれが前記複数の開口のうち対応する開口に結合される複数のフィードファイバをさらに備え、前記送信制御システムは該複数のフィードファイバのうち対応するフィードファイバを介して前記複数の開口のそれぞれに結合される光に、時間依存位相変調を適用する、請求項5記載のシステム。
- 前記送信制御システムにより与えられる前記時間依存位相変調は、ヒルクライミングサーボタイプループ(hill-climbing servo type loop)が送信信号経路の位相長を調整することによって前記後方に反射される信号部分の検出強度を最大にできるようにし、前記位相サンプリング点における位相間の特定の関係が与えられ、前記システムが照準に合わせられるときにこの関係が同相ビームに対応するように前記システムが較正可能であるようにする、請求項6記載のシステム。
- 前記送信制御システムは前記時間依存位相変調を与えるファイバストレッチャを備える、請求項6記載のシステム。
- 前記複数の開口のそれぞれに結合される光に時間依存位相変調を適用することをさらに備える、請求項2記載の方法。
- 前記時間依存位相変調を適用することは、時間依存位相変調を与えるようファイバストレッチャを操作することを含む、請求項9記載の方法。
- 前記時間依存位相変調は、ヒルクライミングサーボタイプループが、前記送信信号経路の位相長を調整することによって、後方に反射される信号部分の検出強度を最大にできるようにして、位相サンプリング点において検出される前記位相間に特定の関係が与えられるようにし、この関係が同相ビームに対応するように、該ビームが特定のステアリング角に向けられるときに前記システムが較正可能にする、請求項9記載の方法。
- 前記特定のステアリング角はシステム照準に対応する、請求項11記載の方法。
- 前記特定のステアリング角とは異なるステアリング角に向けられている前記ビームに応答して、前記方法は、前記特定のステアリング角とは異なるステアリング角における指向から生じる相対的な位相変化を補正することをさらに含む、請求項11記載の方法。
- 前記特定のステアリング角とは異なるステアリング角における指向から生じる前記相対的な位相変化を補正することは、
前記ビームのステアリングに起因する開口位相誤差を計算すること、
前記計算された位相シフトを前記ビームに直に適用すること、
を含む、請求項13記載の方法。 - 前記ビームのステアリングに起因する開口位相誤差を計算することは、位相シフト補正を幾何学的に計算することを含む、請求項14記載の方法。
- 幾何学的に計算された前記位相シフト補正を、送信ビームのみに適用し、前記後方に反射された信号部分には適用しないことをさらに含む、請求項15記載の方法。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記複数の光送信経路のそれぞれが、
前記位相サンプラから方向を変更された信号部分に応答し、位相調整を与えて第1の位相外乱を相殺するよう構成される、短期位相器と、
前記位相サンプラから方向を変更された信号部分に応答し、位相調整を与えて長い位相シフトを相殺するよう構成される、光フェーズドアレイ(OPA)と、
を含むシステム。 - 前記短期位相器は短期圧電ファイバ位相器(FPS)として与えられ、高速の位相変化を補償するよう適応される、請求項17記載のシステム。
- 前記短期位相器はOPA位相器と直列に配置されている、請求項18記載のシステム。
- 制御ループは前記短期位相器と前記OPA位相器の両方に結合され、該制御ループは、長期位相の処理を前記OPA位相器に任せながら、高速の位相器を用いて高速の外乱を相殺する、請求項19記載のシステム。
- 請求項1記載のシステムにおいて、
前記複数の光送信経路のそれぞれが、
位相シフト範囲を有し、前記位相サンプラからの方向を変更した信号部分に応答する、ファイバ位相器(FPS)と、
前記FPSがその位相シフト範囲の限界に達した時点を検出する位相検出手段と、
前記位相検出手段に応答する信号リセット手段であって、前記FPSがその位相シフト範囲の限界に達することを示す前記位相検出手段からの信号に応答して、整数の個数の波だけ前記FPS位相シフトを動かすリセット信号を適用する、信号リセット手段と、
を含む、システム。
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