JP5096069B2 - Optical laminate, polarizing plate, and image display device - Google Patents
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Images
Landscapes
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- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Description
本発明は、光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置に関するものである。 The present invention relates to an optical laminate, a polarizing plate, and an image display device.
陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。 In an image display device such as a cathode ray tube display device (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), and an electroluminescence display (ELD), an optical laminate for preventing reflection is generally provided on the outermost surface. ing. Such an anti-reflection optical laminate suppresses image reflection or reduces reflectance by scattering or interference of light.
このような反射防止用光学積層体の一つとして、透明性基材の表面に凹凸形状を有する防眩層を形成した防眩性積層体が知られている。このような防眩性積層体は、表面の凹凸形状によって外光を散乱させて外光の反射や像の写り込みによる視認性の低下を防止することができる。防眩性積層体としては、粒子によって凹凸を形成したものや(特許文献1)、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状としたものが知られている(特許文献2、3)。 As one of such an antireflection optical laminate, an antiglare laminate in which an antiglare layer having an uneven shape is formed on the surface of a transparent substrate is known. Such an antiglare laminate can prevent external light from being scattered due to the uneven shape of the surface and prevent deterioration of visibility due to reflection of external light or image reflection. As an anti-glare laminated body, what formed the unevenness | corrugation with the particle | grains (patent document 1), and what made the uneven | corrugated shape by giving an emboss shaping process are known (patent document 2, 3).
このような防眩性積層体を画像表示装置表面に使用した場合、表面の凹凸形状が微細なレンズの役割を果たすため、透過光が防眩性積層体の凹凸形状面を透過するとき、表示される画素等を乱してしまう状態「ギラツキ」が生じ易いという問題もある。 When such an antiglare laminate is used on the surface of an image display device, the surface irregularity shape plays the role of a fine lens, so when transmitted light passes through the irregular surface of the antiglare laminate, the display There is also a problem that a state of “glaring” is likely to occur that disturbs the pixels and the like.
この「ギラツキ」を解消する方法としては、鮮明度を高める目的で表面凹凸を緻密にしたり、又は、防眩層を形成する樹脂と屈折率差のある内部散乱粒子を添加することにより防眩性積層体に内部散乱効果を付与したりする等の手法が知られている。 As a method of eliminating this “glare”, anti-glare properties can be obtained by increasing the surface roughness for the purpose of enhancing the sharpness, or by adding internal scattering particles having a refractive index difference from the resin forming the anti-glare layer. Techniques such as imparting an internal scattering effect to a laminate are known.
しかしながら、上述のような内部散乱粒子を配合すると、黒輝度が低下し、結果としてコントラストの低下という問題を発生するおそれがある。このため、ギラツキを解消するための適度な内部散乱効果と優れたコントラストを両立できる光学積層体の開発が望まれている。 However, when the internal scattering particles as described above are blended, the black luminance is lowered, and as a result, there is a possibility that the problem of a reduction in contrast occurs. For this reason, development of the optical laminated body which can make the moderate internal scattering effect for eliminating glare and the outstanding contrast compatible is desired.
本発明の目的は、良好な防眩性を保ちつつ、良好なコントラストとギラツキ防止効果を両立した光学積層体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical laminate that has both good contrast and antiglare effect while maintaining good antiglare properties.
本発明は、光透過性基材と、該光透過性基材上に設けられた内部散乱粒子を含有する内部散乱層とを有する光学積層体であって、前記内部散乱粒子は、平均粒径が1〜10μmであり、屈折率1.50以上の有機樹脂からなる粒子マトリックス成分を含有しており、かつ、平均粒径が5〜300nmの有機材料及び/又は無機材料からなる屈折率が1.55以上の微粒子を内包しており、上記内部散乱層は、マトリックス樹脂中に上記内部散乱粒子が分散しており、上記内部散乱粒子に内包された微粒子の屈折率をn A 、内部散乱粒子の内包された微粒子以外の成分の屈折率をn B 、マトリックス樹脂の屈折率をn C とすると、n A 、n B 及びn C は、下記式(1)を満たすことを特徴とする光学積層体に関する。
n C <n B <n A (1)
The present invention is an optical laminate having a light transmissive substrate and an internal scattering layer containing the internal scattering particles provided on the light transmissive substrate, the internal scattering particles having an average particle size Is 1 to 10 μm, contains a particle matrix component made of an organic resin having a refractive index of 1.50 or more, and has a refractive index of 1 made of an organic material and / or an inorganic material having an average particle size of 5 to 300 nm. .55 or more of fine particles are included, and the internal scattering layer has the internal scattering particles dispersed in a matrix resin, and the refractive index of the fine particles included in the internal scattering particles is expressed as n A. n B the refractive index of the encapsulated ingredients other than fine particles and the refractive index of the matrix resin and n C, n a, n B, and n C is the optical stack and satisfies the following formula (1) About the body.
n C <n B <n A (1)
上記内部散乱粒子は、内包された微粒子の体積分率{=(内包された微粒子の合計体積/内部散乱粒子の体積)×100}が30%以下であることが好ましい。
上記内部散乱粒子に内包された微粒子は、屈折率が1.55以上であり、かつ、酸化チタン、酸化亜鉛、ジルコニア及びアルミナからなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。
上記内部散乱粒子は、更に外郭部に平均粒径が1μm以下の物理吸着した外郭付着粒子を有するものであってもよい。
Upper SL internal scattering particles preferably volume fraction of the encapsulated microparticle {= (volume of total volume / internal scattering particles are contained fine particles) × 100} is 30% or less.
The fine particles encapsulated in the internal scattering particles preferably have a refractive index of 1.55 or more and contain at least one selected from the group consisting of titanium oxide, zinc oxide, zirconia and alumina.
Upper SL internal scattering particles may further have an outer shell adhered particles having an average particle diameter was less physical adsorption 1μm in the outer portion.
上記光学積層体は、反射防止用積層体として好適に用いられる。
本発明は、上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
The optical laminate is suitably used as an antireflection laminate.
The present invention is also a self-luminous image display device including the above-described optical laminate.
This invention is a polarizing plate provided with a polarizing element, Comprising: The polarizing plate characterized by providing the above-mentioned optical laminated body on the surface of the said polarizing element.
The present invention also provides a non-self-luminous image display device comprising the above-described optical laminate or the above-described polarizing plate on a surface.
The present invention is described in detail below.
以下、本発明において使用する基材、組成物を具体的に説明する。なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。 Hereinafter, the base material and composition used in the present invention will be specifically described. In the present invention, unless otherwise specified, curable resin precursors such as monomers, oligomers, and prepolymers are referred to as “resins”.
内部散乱層
本発明の光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材上に設けられた内部散乱粒子を含有する内部散乱層とを有するものである。
上記内部散乱層に含まれる内部散乱粒子は、平均粒径の下限が1μm、上限が10μmであり、かつ、平均粒径の下限が5nm、上限が300nmの有機材料及び/又は無機材料からなる微粒子(以下、内包微粒子ともいう)を内包している。本発明の光学積層体は、上記内部散乱粒子を含有することにより、優れたコントラストと内部散乱効果を兼ね備えたものである。
このような内部散乱粒子を含有することにより、優れたコントラストと内部散乱効果を兼ね備えるという効果が得られるのは、上記内包微粒子を包み込む粒子マトリックス成分からなる内部散乱粒子の屈折率と、該内部散乱粒子を包み込む後述するマトリックス樹脂からなる内部散乱層の屈折率との差を小さくすることができるため、内部散乱粒子同士の多重散乱が抑えられ、C/R低下を防ぐことが可能になったと推測される。ただし、これだけでは内部散乱粒子と内部散乱層のマトリックス樹脂との屈折率差が小さく充分な内部散乱性が得られない。そのため、上記に加えて屈折率を制御した複数の分散した内部散乱粒子を内部散乱層に内包させることにより、所望の内部散乱性が得られると推測される。
Internal scattering layer The optical layered body of the present invention has a light-transmitting substrate and an internal scattering layer containing internal scattering particles provided on the light-transmitting substrate.
The internal scattering particles contained in the internal scattering layer are fine particles made of an organic material and / or an inorganic material having a lower limit of the average particle diameter of 1 μm and an upper limit of 10 μm, and a lower limit of the average particle diameter of 5 nm and an upper limit of 300 nm. (Hereinafter also referred to as encapsulated fine particles). The optical layered body of the present invention has excellent contrast and internal scattering effect by containing the internal scattering particles.
By including such internal scattering particles, the effect of having both excellent contrast and internal scattering effect is obtained because of the refractive index of the internal scattering particles composed of the particle matrix component enclosing the above-mentioned internal fine particles, and the internal scattering Since the difference from the refractive index of the internal scattering layer made of a matrix resin, which will be described later, enveloping the particles can be reduced, it is assumed that multiple scattering between the internal scattering particles can be suppressed and the C / R reduction can be prevented. Is done. However, with this alone, the difference in refractive index between the internal scattering particles and the matrix resin of the internal scattering layer is small, and sufficient internal scattering properties cannot be obtained. Therefore, in addition to the above, it is presumed that a desired internal scattering property can be obtained by encapsulating a plurality of dispersed internal scattering particles whose refractive index is controlled in the internal scattering layer.
上記内部散乱粒子の形状としては特に限定されず、例えば、球状、回転楕円体状、薄板状、針状等を挙げられる。上記内部散乱粒子の平均粒径は、球状である場合、下限が1μm、上限が10μmである。形状が球状以外である場合は、最大長さの下限が1μm、上限が10μmとなる。
上記内部散乱粒子の平均粒径が1μm未満であると、本発明の光学積層体を用いてなる画像表示装置のコントラストが低下し、充分なギラツキ防止効果が得られない。上記内部散乱粒子の平均粒径が10μmを超えると、本発明の光学積層体の膜厚が粒径以上に必要になり、膜厚アップによるクラックの発生が顕著になる。なお、上記平均粒径は、SEM、TEM観察より測定できる。
また、上記内部散乱粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であることが好ましい。平均粒径とは、単分散型の粒子(形状が単一な粒子)であれば、その平均粒径を表し、ブロードな粒度分布を持つ不定形型の粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒径として表している。
The shape of the internal scattering particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a spheroid shape, a thin plate shape, and a needle shape. When the average particle diameter of the internal scattering particles is spherical, the lower limit is 1 μm and the upper limit is 10 μm. When the shape is other than spherical, the lower limit of the maximum length is 1 μm and the upper limit is 10 μm.
When the average particle size of the internal scattering particles is less than 1 μm, the contrast of the image display device using the optical laminate of the present invention is lowered, and a sufficient glare prevention effect cannot be obtained. When the average particle diameter of the internal scattering particles exceeds 10 μm, the film thickness of the optical layered body of the present invention is required to be larger than the particle diameter, and the occurrence of cracks due to the increase in film thickness becomes remarkable. In addition, the said average particle diameter can be measured from SEM and TEM observation.
The internal scattering particles may be aggregated particles. In the case of the aggregated particles, the secondary particle size is preferably within the above range. The average particle size represents the average particle size of monodispersed particles (particles having a single shape), and if the particles are irregular shaped particles having a broad particle size distribution, The particle diameter of the most abundant particles is expressed as an average particle diameter.
上記内部散乱粒子は、平均粒径の下限が5nm、上限が300nmの有機材料又は無機材料からなる微粒子(内包微粒子)を多数内包するものである。
上記内包微粒子の形状としては特に限定されず、例えば、球状、回転楕円体状、薄板状、針状等を挙げられる。上記内包微粒子の平均粒径は、球状である場合、下限が5nm、上限が300nmである。上記内包微粒子形状が球状以外である場合は、最大長さの下限が5nm、上限が300nmとなる。
上記内包微粒子の平均粒径が5nm未満であると、所望の内部散乱が得られないためギラツキ改良効果を得られなくなり、300nmを超えると、C/R低下を充分に抑えることができない。上記内包粒子の平均粒径の好ましい下限20nm、好ましい上限は150nmである。なお、上記平均粒径は、SEM、TEM観察より測定できる。また、上記内部散乱層中の内包微粒子が球状以外である場合、その最大長さの測定方法としては、例えば、上記内部散乱層を任意の位置で切断した断面をSEM、TEM観察し、少なくとも10個の内包微粒子の最大長さを測定し、その平均値を算出する方法が挙げられる。
また、上記内包微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であることが好ましい。平均粒径とは、単分散型の粒子(形状が単一な粒子)であれば、その平均粒径を表し、ブロードな粒度分布を持つ不定形型の粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒径として表している。
The internal scattering particles include a large number of fine particles (encapsulated fine particles) made of an organic material or an inorganic material whose lower limit of the average particle diameter is 5 nm and whose upper limit is 300 nm.
The shape of the encapsulated fine particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a spheroid shape, a thin plate shape, and a needle shape. When the average particle diameter of the encapsulated fine particles is spherical, the lower limit is 5 nm and the upper limit is 300 nm. When the shape of the encapsulated fine particles is other than spherical, the lower limit of the maximum length is 5 nm and the upper limit is 300 nm.
If the average particle size of the encapsulated fine particles is less than 5 nm, desired internal scattering cannot be obtained, and thus no effect of improving glare can be obtained. If the average particle size exceeds 300 nm, C / R reduction cannot be sufficiently suppressed. A preferable lower limit of 20 nm and a preferable upper limit of the average particle diameter of the encapsulated particles are 150 nm. In addition, the said average particle diameter can be measured from SEM and TEM observation. When the encapsulated fine particles in the internal scattering layer are other than spherical, the maximum length can be measured by, for example, observing a cross section of the internal scattering layer at an arbitrary position with SEM and TEM, and at least 10 A method of measuring the maximum length of the individual encapsulated fine particles and calculating an average value thereof can be mentioned.
The encapsulated fine particles may be aggregated particles. In the case of aggregated particles, the secondary particle size is preferably within the above range. The average particle size represents the average particle size of monodispersed particles (particles having a single shape), and if the particles are irregular shaped particles having a broad particle size distribution, The particle diameter of the most abundant particles is expressed as an average particle diameter.
上記内部散乱粒子は、内包微粒子を内包している。
ここで、「内包微粒子を内包している」とは、内部散乱粒子を構成する粒子マトリックス成分とは異なる有機材料及び/又は無機材料からなる複数個の内包微粒子が分散した状態を意味し、好ましくは、後述する内部散乱粒子中の内包微粒子の体積分率を満たす範囲で内包微粒子が内部散乱粒子中に複数個含まれていることである。
The internal scattering particles contain encapsulated fine particles.
Here, “encapsulating encapsulated fine particles” means a state in which a plurality of encapsulated fine particles made of an organic material and / or an inorganic material different from the particle matrix component constituting the internal scattering particles are dispersed, preferably This means that a plurality of encapsulated fine particles are contained in the internal scattering particles within a range that satisfies the volume fraction of the encapsulated fine particles in the internal scattering particles described later.
図1は、上記内部散乱粒子の一例を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、内部散乱粒子10は、有機樹脂からなる粒子マトリックス成分12中に内包微粒子11が分散している状態であることが好ましく、内包微粒子11は、内部散乱粒子10の表面に露出していないことが好ましい。
ただし、上記内包微粒子は、内部散乱粒子の表面に露出していてもよく、この場合、露出している内包微粒子の表面積が、内部散乱粒子の表面積の20%以下であることが好ましい。20%を超えると、優れたコントラストと内部散乱効果を兼ね備えた内部散乱層とすることができないことがある。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the internal scattering particles.
As shown in FIG. 1, the
However, the encapsulated fine particles may be exposed on the surface of the internal scattering particles. In this case, it is preferable that the surface area of the exposed internal fine particles is 20% or less of the surface area of the internal scattering particles. If it exceeds 20%, an internal scattering layer having both excellent contrast and internal scattering effect may not be obtained.
上記内部散乱粒子は、上記内包微粒子の体積分率{=(内包粒子の合計体積/内部散乱粒子の体積)×100}が30%以下であることが好ましい。30%を超えると、C/R低下を充分に抑えることができないことがある。上記体積分率の好ましい下限は1%である。1%未満であると、好適な内部散乱を得られないことがある。 The internal scattering particles preferably have a volume fraction {= (total volume of internal particles / volume of internal scattering particles) × 100} of the internal microparticles of 30% or less. If it exceeds 30%, C / R reduction may not be sufficiently suppressed. A preferable lower limit of the volume fraction is 1%. If it is less than 1%, suitable internal scattering may not be obtained.
上記内包微粒子は、有機材料及び/又は無機材料からなるものである。特に、上記内包微粒子が無機材料からなる場合、特に優れたC/R低下抑制効果がある点で好ましい。
上記有機材料としては特に限定されず、例えば、透明なスチレン樹脂等の各種の有機樹脂が使用できる。
上記有機材料の屈折率は1.55以上であることが好ましい。屈折率が1.55未満であると、後述するように、屈折率の好ましい範囲が1.45〜1.65である内部散乱層のマトリックス樹脂、及び、屈折率の好ましい範囲が1.50以上である内部散乱粒子の粒子マトリックス成分との屈折率差が小さくなり所望の内部散乱性が得られない恐れがある。
The encapsulated fine particles are made of an organic material and / or an inorganic material. In particular, when the encapsulated fine particles are made of an inorganic material, it is preferable in that it has a particularly excellent C / R reduction suppressing effect.
It does not specifically limit as said organic material, For example, various organic resins, such as transparent styrene resin, can be used.
The refractive index of the organic material is preferably 1.55 or more. When the refractive index is less than 1.55, as described later, the matrix resin of the internal scattering layer in which the preferable range of the refractive index is 1.45 to 1.65, and the preferable range of the refractive index is 1.50 or more. The difference in refractive index between the internal scattering particles and the particle matrix component becomes small, and there is a fear that desired internal scattering properties cannot be obtained.
また、上記無機材料としては特に限定されず、酸化チタン、酸化亜鉛、ジルコニア、アルミナ等の屈折率発現性の高い材料等が挙げられる。これらの無機材料は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。なかでも、酸化チタン、酸化亜鉛、ジルコニア及びアルミナからなる群より選択される少なくとも一種を含有するものであることが好ましい。 In addition, the inorganic material is not particularly limited, and examples thereof include a material having a high refractive index expression such as titanium oxide, zinc oxide, zirconia, and alumina. These inorganic materials may be used independently and 2 or more types may be used together. Especially, it is preferable that it contains at least 1 type selected from the group which consists of a titanium oxide, a zinc oxide, a zirconia, and an alumina.
上記内包微粒子が酸化チタン、酸化亜鉛、ジルコニア及びアルミナからなる群より選択される少なくとも一種を含有する場合、該内包粒子は、屈折率は1.55以上であることが好ましい。屈折率が1.55未満であると、後述するように、屈折率の好ましい範囲が1.45〜1.65である内部散乱層のマトリックス樹脂、及び、屈折率の好ましい範囲が1.50以上である内部散乱粒子の粒子マトリックス成分との屈折率差が小さくなり所望の内部散乱性が得られない恐れがある。 When the encapsulated fine particles contain at least one selected from the group consisting of titanium oxide, zinc oxide, zirconia and alumina, the encapsulated particles preferably have a refractive index of 1.55 or more. When the refractive index is less than 1.55, as described later, the matrix resin of the internal scattering layer in which the preferable range of the refractive index is 1.45 to 1.65, and the preferable range of the refractive index is 1.50 or more. The difference in refractive index between the internal scattering particles and the particle matrix component becomes small, and there is a fear that desired internal scattering properties cannot be obtained.
上記内部散乱粒子は、屈折率が1.50以上の有機樹脂からなる粒子マトリックス成分を含有することが好ましい。上記粒子マトリックス成分は、上記内部散乱粒子の主原料となるものであり、上記内包微粒子を分散させるバインダー成分として機能するものである。上記屈折率が1.50未満であると、後述するように、内部散乱層のマトリックス樹脂の屈折率の好ましい範囲が1.45〜1.65であるため、C/R低下の恐れがある。
上記有機樹脂としては、屈折率が1.50以上であれば特に限定されず、例えば、スチレン樹脂、イソシアネート化合物、エステル系化合物、アクリル系のモノマー成分同士若しくはこれらと共重合可能なモノマーとのコポリマー等が挙げられる。
また、上記アクリル系のモノマー成分とこれらと共重合可能なモノマーとのコポリマーとしては、例えば、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等が挙げられる。
The internal scattering particles preferably contain a particle matrix component made of an organic resin having a refractive index of 1.50 or more. The particle matrix component serves as a main raw material for the internal scattering particles, and functions as a binder component for dispersing the encapsulated fine particles. If the refractive index is less than 1.50, as will be described later, the preferred range of the refractive index of the matrix resin of the internal scattering layer is 1.45 to 1.65, so there is a risk of C / R reduction.
The organic resin is not particularly limited as long as the refractive index is 1.50 or more. For example, a copolymer of a styrene resin, an isocyanate compound, an ester compound, an acrylic monomer component, or a monomer copolymerizable therewith. Etc.
Examples of the copolymer of the acrylic monomer component and a monomer copolymerizable therewith include, for example, methyl methacrylate-styrene copolymer.
更に、上記内部散乱粒子は、有機材料及び/又は無機材料からなる内包微粒子と上記粒子マトリックス成分とが化学的に結合した状態であってもよい。 Furthermore, the internal scattering particles may be in a state where the encapsulated fine particles made of an organic material and / or an inorganic material and the particle matrix component are chemically bonded.
上記内部散乱粒子の製造方法としては特に限定されず、例えば、上記内包微粒子を分散させた液状媒体中において、上述した有機樹脂の重合反応を行い、粒子マトリックス成分を得る方法等が挙げられる。上記内部散乱粒子の製造に際しては、分散剤を併用してもよい。また、粒子径が所定の範囲である内部散乱粒子を得るために、上記内部散乱粒子の製造は、例えば、ビーズミル分散機等にて分散させながら行ってもよい。 The method for producing the internal scattering particles is not particularly limited, and examples thereof include a method of obtaining a particle matrix component by performing the above-described polymerization reaction of the organic resin in a liquid medium in which the encapsulated fine particles are dispersed. In the production of the internal scattering particles, a dispersant may be used in combination. Moreover, in order to obtain the internal scattering particles having a particle diameter in a predetermined range, the production of the internal scattering particles may be performed while being dispersed by, for example, a bead mill disperser.
上記内部散乱粒子は、更に外郭部に平均粒径が1μm以下の物理吸着した外郭付着粒子を有することが好ましい。上記外郭付着粒子を有することで、さらに所望の内部散乱性を付与できる。 The internal scattering particles preferably further have physically adsorbed outer adhered particles having an average particle diameter of 1 μm or less in the outer portion. By having the outer-attached particles, desired internal scattering properties can be further imparted.
上記外郭付着粒子の形状としては特に限定されず、例えば、球状、回転楕円体状、薄板状、針状等を挙げられる。上記外郭付着粒子の平均粒径は、球状である場合、上限が1μmである。形状が球状以外である場合は、最大長さの上限が1μmとなる。上記外郭付着粒子の平均粒径が1μmを超えると、内部散乱粒子が凝集した場合と近い状態になり、多重散乱が起こりやすくなるためC/R低下が起こるとことがある。好ましい上限は0.4μmである。なお、上記外郭付着粒子の平均粒径は、上述した方法と同様の方法で測定することができる。 The shape of the outer-attached particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a spheroid shape, a thin plate shape, and a needle shape. When the average particle diameter of the outer shell-attached particles is spherical, the upper limit is 1 μm. When the shape is other than spherical, the upper limit of the maximum length is 1 μm. When the average particle diameter of the outer-attached particles exceeds 1 μm, the internal scattering particles become close to the aggregated state, and multiple scattering is likely to occur, so C / R may be lowered. A preferable upper limit is 0.4 μm. In addition, the average particle diameter of the outer-attached particles can be measured by the same method as described above.
上記外郭付着粒子は、上記内部散乱粒子の外郭部に物理吸着されており、その吸着量としては特に限定されないが、上記内部散乱粒子100体積部に対して、好ましい下限は2体積部、好ましい上限は75体積部である。この範囲で外郭付着粒子が内部散乱粒子の外郭部に物理吸着されていることで、内包微粒子を含む内部散乱粒子の効果に加え、更に内部散乱性を向上できるため、内部散乱粒子量を減らすことができる。 The outer adhered particles are physically adsorbed on the outer portion of the internal scattering particles, and the amount of adsorption is not particularly limited, but a preferred lower limit is 2 parts by volume and a preferred upper limit with respect to 100 parts by volume of the inner scattering particles. Is 75 parts by volume. In this range, the externally adhered particles are physically adsorbed on the outer part of the internal scattering particles, so that the internal scattering properties can be further improved in addition to the effect of the internal scattering particles including the encapsulated fine particles, thereby reducing the amount of internal scattering particles. Can do.
上記外郭付着粒子の原料としては特に限定されず、例えば、スチレン樹脂、イソシアネート化合物、エステル系化合物、アクリル系のモノマー成分同士若しくはこれらと共重合可能なモノマーとのコポリマー等が挙げられる。
また、上記アクリル系のモノマー成分とこれらと共重合可能なモノマーとのコポリマーとしては、例えば、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等が挙げられる。なかでも、芳香族系イソシアネート、又は、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等が好適に用いられる。
The raw material for the outer-attached particles is not particularly limited, and examples thereof include styrene resins, isocyanate compounds, ester compounds, copolymers of acrylic monomer components, or copolymers with monomers copolymerizable therewith.
Examples of the copolymer of the acrylic monomer component and a monomer copolymerizable therewith include, for example, methyl methacrylate-styrene copolymer. Of these, aromatic isocyanate or methyl methacrylate-styrene copolymer is preferably used.
上記外郭付着粒子の屈折率としては、好ましい下限が1.50である。1.50未満であると、後述するように、内部散乱層のマトリックス樹脂の屈折率の好ましい範囲が1.45〜1.65であるため、C/R低下の恐れがある。 A preferable lower limit of the refractive index of the outer adhered particles is 1.50. If it is less than 1.50, as will be described later, since the preferred range of the refractive index of the matrix resin of the internal scattering layer is 1.45 to 1.65, there is a risk of C / R reduction.
上記内部散乱粒子の外郭部に上記外郭付着粒子を物理吸着させる方法としては特に限定されず、例えば、母粒子(内包微粒子)に子粒子(外郭付着粒子)を物理的に衝突させる方法等が挙げられる。殊に(株)奈良機械製作所社製ハイブリダイゼーションシステムは、乾式で微粉体同士の接合を可能にしたシステムで母粒子に子粒子をまぶしたオーダーミクスチュアーを形成することが可能である。 The method of physically adsorbing the outer particles attached to the outer part of the inner scattering particles is not particularly limited, and examples thereof include a method of physically causing the child particles (outer particles) to collide with the mother particles (encapsulated fine particles). It is done. In particular, the hybridization system manufactured by Nara Machinery Co., Ltd. can form an order mixture in which the mother particles are coated with the child particles by a dry system that allows the joining of fine powders.
上記内部散乱層は、マトリックス樹脂中に上記内部散乱粒子が分散していることが好ましい。
上記マトリックス樹脂は、上記内部散乱層のバインダー樹脂として機能するものである。上記マトリックス樹脂としては特に限定されず、硬化反応性を有する樹脂を含有することが好ましい。上記硬化反応性を有する樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、又は、熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
また、本発明の好ましい態様によれば、少なくとも電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂とを含む。
In the internal scattering layer, it is preferable that the internal scattering particles are dispersed in a matrix resin.
The matrix resin functions as a binder resin for the internal scattering layer. It does not specifically limit as said matrix resin, It is preferable to contain resin which has hardening reactivity. The resin having the curing reactivity is not particularly limited. For example, an ionizing radiation curable resin, an ionizing radiation curable resin and a solvent-drying resin that are cured by ultraviolet rays or an electron beam (adjust solid content at the time of coating) In order to achieve this, only by drying the added solvent, a mixture with a resin that becomes a film) or a thermosetting resin is exemplified, and an ionizing radiation curable resin is preferably used.
Moreover, according to the preferable aspect of this invention, ionizing radiation curable resin and solvent dry resin are included at least.
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。
上記1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。
上記2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物と(メタ)アルリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)、等が挙げられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
Examples of the ionizing radiation curable resin include compounds having one or more unsaturated bonds such as a compound having an acrylate functional group.
Examples of the compound having 1 unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like.
Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tris. Reaction products such as (meth) acrylates, polyfunctional compounds such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and (meth) allyllate ( For example, poly (meth) acrylate ester of polyhydric alcohol). In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate.
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。 In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. It can be used as an ionizing radiation curable resin.
上記電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。
上記光重合開始剤の具体例としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。
また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。
When the ionizing radiation curable resin is used as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator.
Specific examples of the photopolymerization initiator include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amino oxime esters, thioxanthones, propiophenones, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. It is done.
In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.
上記光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。
また、上記光重合開始剤としては、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, for example, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are preferably used alone or in combination.
In addition, as the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, for example, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonate ester, etc. Or it is preferable to use as a mixture.
上記光重合開始剤の添加量としては、電離放射線硬化性組成物100質量部に対し、好ましい下限は0.1質量部、好ましい上限は10質量部である。 As the addition amount of the photopolymerization initiator, a preferable lower limit is 0.1 parts by mass and a preferable upper limit is 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable composition.
上記電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、一般的に例示されるものが利用されるが、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。
The solvent-drying resin used by mixing with the ionizing radiation curable resin mainly includes thermoplastic resins.
As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. Specific examples of preferred thermoplastic resins include those generally exemplified. For example, styrene resins, (meth) acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl ether resins, halogen-containing resins, fats Examples thereof include cyclic olefin resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins, cellulose derivatives, silicone resins, and rubbers or elastomers.
また、上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ、有機溶剤(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤)に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。 Further, as the thermoplastic resin, it is usually preferable to use a resin that is non-crystalline and is soluble in an organic solvent (in particular, a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, resins with high moldability or film formability, transparency and weather resistance, such as styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) Etc. are preferred.
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「TAC」等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例としては、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が挙げられる。上記セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材と内部散乱層との密着性及び透明性を向上させることができる。 According to a preferred aspect of the present invention, when the material of the light-transmitting substrate is a cellulose resin such as triacetyl cellulose “TAC”, preferable specific examples of the thermoplastic resin include, for example, nitrocellulose, acetyl cellulose, Examples thereof include cellulose resins such as cellulose acetate propionate and ethyl hydroxyethyl cellulose. By using the cellulose resin, the adhesion and transparency between the light transmissive substrate and the internal scattering layer can be improved.
上記硬化反応性を有する樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
また、上記熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
Examples of the thermosetting resin that can be used as the resin having curing reactivity include, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, Examples include melamine-urea cocondensation resin, silicon resin, polysiloxane resin, and the like.
Moreover, when using the said thermosetting resin, hardening agents, such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier, etc. can also be used together as needed.
上述した硬化反応性を有する樹脂は、なかでも、1分子中に3個以上の硬化反応性基を含有することが好ましい。上記硬化反応性を有する樹脂が1分子中に硬化反応性基を3個以上含有することで、上記内部散乱粒子の分散性に加えて、基材との密着性を保持することができるため好ましい。 In particular, the resin having curing reactivity described above preferably contains three or more curing reactive groups in one molecule. It is preferable that the resin having the curing reactivity contains 3 or more curing reactive groups in one molecule, so that in addition to the dispersibility of the internal scattering particles, the adhesion to the substrate can be maintained. .
上記内部散乱粒子と硬化反応性を有する樹脂を硬化させた硬化物とを含有する内部散乱層において、上記内包粒子の屈折率をnA、上記内包粒子の内包粒子以外の成分(上述した粒子マトリクス成分)の屈折率をnB、マトリックス樹脂の屈折率をnCとすると、nA、nB及びnCは、下記式(1)を満たすことが好ましい。
nC<nB<nA (1)
式(1)を満たすことにより、内包微粒子の内部と硬化反応性を有する樹脂との屈折率差を保つことができ、結果として高い光散乱性を示しつつ、界面反射を抑制することで優れたコントラストも得ることができる。
なお、上記内包微粒子が複数の原料からなるものである場合、上記屈折率nAは、各内包微粒子の有する屈折率の平均値である。
In the internal scattering layer containing the internal scattering particles and a cured product obtained by curing a resin having curing reactivity, the refractive index of the inclusion particles is n A , and components other than the inclusion particles of the inclusion particles (the particle matrix described above) the refractive index of the component) n B, and the refractive index of the matrix resin and n C, n a, n B, and n C preferably satisfies the following formula (1).
n C <n B <n A (1)
By satisfying the formula (1), it is possible to maintain the refractive index difference between the inside of the encapsulated fine particles and the resin having curing reactivity, and as a result, it is excellent in suppressing interface reflection while exhibiting high light scattering properties. Contrast can also be obtained.
In the case where the encapsulated fine particles are made of a plurality of raw materials, the refractive index n A is an average value of the refractive indexes of the respective encapsulated fine particles.
上記マトリックス樹脂の屈折率nCとしては特に限定されないが、例えば、1.45〜1.65の範囲であることが好ましい。上記範囲内であることにより、光透過性基材との屈折率差が小さくなるため、好ましい。
なお、上記マトリックス樹脂が複数の樹脂を含有する混合物である場合、このような混合物からなるマトリックス樹脂の屈折率nCとは、以下の方法により算出された値である。
すなわち、上記内部散乱粒子を含むマトリックス樹脂のサンプルフィルムを作製し、サンプルフィルムを斜め切削し、アルバック・ファイ社製TOF−SIMSを用いて、内部散乱粒子以外の成分の分子を検出する。検出された分子の屈折率を、セイシン企業が開示している分子の屈折率一覧表或いはPolymer Handbook(John Wiley & Sons)を参考に算出する。
The refractive index n C of the matrix resin is not particularly limited, for example, is preferably in the range of 1.45 to 1.65. By being in the above range, the refractive index difference from the light-transmitting substrate becomes small, which is preferable.
When the matrix resin is a mixture containing a plurality of resins, the refractive index n C of the matrix resin made of such a mixture is a value calculated by the following method.
That is, a sample film of a matrix resin containing the above internal scattering particles is prepared, the sample film is cut obliquely, and molecules of components other than the internal scattering particles are detected using TOF-SIMS manufactured by ULVAC-PHI. The refractive index of the detected molecule is calculated with reference to a molecular refractive index list disclosed by a Seishin company or Polymer Handbook (John Wiley & Sons).
ここで、上記内包微粒子の屈折率nA及び内包微粒子の内包粒子以外の成分(上述した粒子マトリクス成分)の屈折率nBの測定方法について説明する。
上記内部散乱粒子を含むサンプルフィルムを作製し、サンプルフィルムを斜め切削し、アルバック・ファイ社製TOF−SIMSを用いて、内部散乱粒子の内包微粒子と該内包微粒子以外の成分の分子を検出する。検出された分子の屈折率を、セイシン企業が開示している分子の屈折率一覧表或いはPolymer Handbook(John Wiley & Sons)を参考に算出する。例えば、ポリスチレンは1.59、メタクリル酸メチル樹脂は1.49である。メタクリル酸メチル−スチレン共重合体は、TOF−SIMSによってメタクリル酸メチルとスチレンの組成を検出し、各々の屈折率から算出した。更に、酸化チタン、酸化ジルコニウム、アルミナ、酸化亜鉛等の無機材料についても同様に分子構造と組成の検出を行い、屈折率を算出した。
Here, a method for measuring the refractive index n A of the encapsulated fine particles and the refractive index n B of components other than the encapsulated particles of the encapsulated fine particles (the particle matrix component described above) will be described.
A sample film containing the above internal scattering particles is prepared, the sample film is obliquely cut, and the internal fine particles of the internal scattering particles and molecules of components other than the internal fine particles are detected using TOF-SIMS manufactured by ULVAC-PHI. The refractive index of the detected molecule is calculated with reference to a molecular refractive index list disclosed by a Seishin company or Polymer Handbook (John Wiley & Sons). For example, polystyrene is 1.59 and methyl methacrylate resin is 1.49. The methyl methacrylate-styrene copolymer was calculated from each refractive index by detecting the composition of methyl methacrylate and styrene by TOF-SIMS. Further, the molecular structure and composition of the inorganic materials such as titanium oxide, zirconium oxide, alumina, and zinc oxide were similarly detected, and the refractive index was calculated.
上記内部散乱層は、上記内部散乱粒子とマトリックス樹脂とを適切な溶剤に混合して得た内部散乱層形成用組成物を上記光透過性基材に塗布することにより形成することができる。
上記溶剤としては、マトリックス樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分(複数のポリマー及び硬化反応性を有する樹脂前駆体、重合開始剤、その他添加剤)を均一に溶解できる溶剤であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、水、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等が挙げられ、これらの混合溶剤であってもよい。
The internal scattering layer can be formed by applying the composition for forming an internal scattering layer obtained by mixing the internal scattering particles and the matrix resin in an appropriate solvent to the light transmissive substrate.
The solvent can be selected and used according to the type and solubility of the matrix resin, and at least solid content (a plurality of polymers and resin precursors having curing reactivity, polymerization initiators, other additives) is uniform. Any solvent can be used as long as it can be dissolved in water. Examples of such solvents include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons ( Cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), water, alcohols (ethanol, isopropanol, Butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), propylene glycol Bruno ethyl ether (PGME), and the like, may be a mixed solvent.
また、光透過性基材への浸透性溶剤も、好ましく使用することができる。上記浸透性溶剤を用いることにより、干渉縞の発生を防止できるため、より好ましい光学積層体とすることができる。 Moreover, the permeable solvent to a light transmissive base material can also be used preferably. By using the permeable solvent, the generation of interference fringes can be prevented, so that a more preferable optical laminate can be obtained.
例えば、光透過性基材がTACである場合、上記浸透性溶剤の具体例としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類;その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等のエステル類やケトン類が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。 For example, when the light-transmitting substrate is TAC, specific examples of the permeable solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol; methyl formate, methyl acetate, acetic acid Esters such as ethyl, butyl acetate and ethyl lactate; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide; glycols such as methyl glycol and methyl glycol acetate; tetrahydrofuran, 1,4- Ethers such as dioxane, dioxolane and diisopropyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and tetrachloroethane; glycosyl such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve and cellosolve acetate Ethers and the like; dimethyl sulfoxide and propylene carbonate. These may be used independently and 2 or more types may be used together. Preferably, esters and ketones such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and methyl ethyl ketone are used. In addition, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and isobutyl alcohol, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene can be mixed with the permeable solvent.
上記内部散乱層形成用組成物としては、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加したものが好ましい。レベリング剤を添加した上記内部散乱層形成用組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して滑り性や防汚性を付与でき、かつ、耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。
上記レベリング剤としては、光透過性基材が耐熱性の要求されるフィルム状のもの(例えばトリアセチルセルロース)に好適に利用される。
As the composition for forming the internal scattering layer, a composition to which a leveling agent such as fluorine or silicone is added is preferable. The composition for forming an internal scattering layer to which a leveling agent is added can impart slipperiness and antifouling properties to the coating film surface during coating or drying, and can impart an effect of scratch resistance. .
As the leveling agent, a light-transmitting substrate is suitably used for a film-like material (for example, triacetyl cellulose) that requires heat resistance.
上記内部散乱層形成用組成物には、内部散乱層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。 The internal scattering layer-forming composition includes a resin, a dispersant, a surfactant, an antistatic agent, depending on purposes such as increasing the hardness of the internal scattering layer, suppressing curing shrinkage, and controlling the refractive index. Silane coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment, dye), antifoaming agent, leveling agent, flame retardant, UV absorber, adhesion-imparting agent, polymerization inhibitor, antioxidant, surface modification An agent or the like may be added.
上記内部散乱層は、上記内部散乱粒子を含有するものであるが、コントラストの著しい低下を引き起こさない範囲でその他の防眩性微粒子を含有していてもよい。上記その他の防眩性微粒子の平均粒径としては特に限定されないが、一般的には0.01〜20μm程度とすればよい。また、上記その他の防眩性微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであってもよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。
なお、上記その他の防眩性粒子の平均粒径は、上述の方法により測定することができる。
The internal scattering layer contains the internal scattering particles, but may contain other anti-glare fine particles as long as the contrast is not significantly reduced. The average particle size of the other anti-glare fine particles is not particularly limited, but generally may be about 0.01 to 20 μm. In addition, the shape of the other anti-glare fine particles may be any of a spherical shape, an elliptical shape, and the like, and preferably a spherical shape.
In addition, the average particle diameter of said other anti-glare particle | grains can be measured by the above-mentioned method.
上記その他の防眩性微粒子は、防眩性を発揮するものであり、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。
有機系材料により形成されてなるその他の防眩性微粒子の具体例としては、例えば、プラスチックビーズが挙げられる。上記プラスチックビーズの具体例としては、例えば、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49〜1.53)、アクリルースチレンビーズ(屈折率1.54)、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体(屈折率1.68)、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体(屈折率1.68)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。
無機系材料からなるその他の防眩性微粒子としては、例えば、不定形シリカ等が挙げられる。
The other anti-glare fine particles exhibit anti-glare properties, and inorganic and organic particles can be used, and preferably transparent.
Specific examples of other anti-glare fine particles formed of an organic material include plastic beads. Specific examples of the plastic beads include, for example, styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49 to 1.53), acrylic styrene beads ( Examples thereof include refractive index 1.54), benzoguanamine-formaldehyde condensate (refractive index 1.68), melamine-formaldehyde condensate (refractive index 1.68), polycarbonate beads, polyethylene beads and the like. The plastic beads preferably have a hydrophobic group on the surface, and examples thereof include styrene beads.
Examples of other anti-glare fine particles made of an inorganic material include amorphous silica.
上記不定形シリカは、分散性が良好な平均粒径が0.5〜5μmのシリカビーズを使用することが好ましい。
上記不定形シリカの含有量は、マトリックス樹脂に対して1〜30質量部であることが好ましい。内部散乱層形成用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、平均粒径や、添加量を変更させるとともに、粒子表面への有機物処理の有無も変更して使用することができる。粒子表面に有機物処理を施す場合には、疎水化処理が好ましい。なお、上記不定形シリカの平均粒径は、上述の方法により測定することができる。
As the amorphous silica, it is preferable to use silica beads having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm having good dispersibility.
The content of the amorphous silica is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to the matrix resin. In order to improve the dispersibility of the amorphous silica without causing an increase in the viscosity of the composition for forming the internal scattering layer, the average particle size and the addition amount are changed, and the presence or absence of organic matter treatment on the particle surface Can also be used with modification. When the organic substance treatment is performed on the particle surface, a hydrophobic treatment is preferable. The average particle diameter of the amorphous silica can be measured by the method described above.
上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基又はシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上記活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料等が用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−n−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。 The organic matter treatment includes a method of chemically bonding a compound to the bead surface and a physical method of penetrating into a void in a composition forming the bead without chemically bonding to the bead surface. Yes, you can use either one. In general, a chemical treatment method using an active group on the silica surface such as a hydroxyl group or a silanol group is preferably used from the viewpoint of treatment efficiency. As the compound used for the treatment, a silane-based, siloxane-based, silazane-based material or the like having high reactivity with the active group is used. For example, linear alkyl single group substituted silicone materials such as methyltrichlorosilane, branched alkyl monosubstituted silicone materials, or polysubstituted linear alkyl silicone compounds such as di-n-butyldichlorosilane and ethyldimethylchlorosilane, and polysubstituted branched A chain alkyl silicone compound. Similarly, mono-substituted, poly-substituted siloxane materials and silazane materials having a linear alkyl group or a branched alkyl group can also be used effectively.
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。 Depending on the required function, those having a hetero atom, an unsaturated bond group, a cyclic bond group, an aromatic functional group or the like may be used at the terminal or intermediate part of the alkyl chain. In these compounds, the alkyl group contained is hydrophobic, so that the surface of the material to be treated can be easily converted from hydrophilic to hydrophobic, and both the high-molecular material with poor affinity when untreated is high. Affinity can be obtained.
上記内部散乱層形成用組成物を上記光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
上記内部散乱層形成用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥や紫外線硬化、電子線硬化等を行うことにより、上記内部散乱層形成用組成物中の上記硬化反応性を有する樹脂が硬化して上記内部散乱層が形成される。
Examples of a method for applying the internal scattering layer forming composition to the light-transmitting substrate include application methods such as a roll coating method, a Miya bar coating method, and a gravure coating method.
After application of the internal scattering layer-forming composition, the resin having the curing reactivity in the internal scattering layer-forming composition is cured by drying, ultraviolet curing, electron beam curing, or the like as necessary. Thus, the internal scattering layer is formed.
上記紫外線硬化を行う際の紫外線の光源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。上記電子線硬化を行う際の電子線源としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。 Examples of the ultraviolet light source used for the ultraviolet curing include light sources of ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc lamp, black light fluorescent lamp, and metal halide lamp lamp. As the wavelength of the ultraviolet light, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Various electron beam accelerators such as cockcroft-wald type, bande graft type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. are mentioned as the electron beam source when performing the electron beam curing. It is done.
上記内部散乱層形成用組成物は、80〜100%のゲル分率で硬化して上記内部散乱層を形成させることが好ましい。上記ゲル分率が上記範囲内にあると、材料が充分に硬化、架橋していることとなり、表面硬度、耐擦傷性、耐久性の点で好ましい。 The internal scattering layer forming composition is preferably cured at a gel fraction of 80 to 100% to form the internal scattering layer. When the gel fraction is within the above range, the material is sufficiently cured and crosslinked, which is preferable in terms of surface hardness, scratch resistance, and durability.
上記内部散乱層の乾燥膜厚(硬化時)は、一般的には下限が0.1μm、上限が100μm程度、特に下限が0.8μm、上限が10μmの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、内部散乱層としての機能を充分に発揮することができる。ただし、内部散乱層の乾燥膜厚は、上記内部散乱粒子の平均粒径よりも大きなものであることが好ましい。内部散乱層の乾燥膜厚が内部散乱粒子の平均粒径以下であると、内部散乱層としての機能を充分に発揮できないおそれがある。具体的には、内部散乱粒子の平均粒径の1.05〜3.50倍程度であることが好ましい。
上記内部散乱層の膜厚は、断面を電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察し、測定することができる。
In general, the dry thickness (at the time of curing) of the internal scattering layer is preferably set such that the lower limit is 0.1 μm and the upper limit is about 100 μm, particularly the lower limit is 0.8 μm and the upper limit is 10 μm. When the film thickness is within this range, the function as an internal scattering layer can be sufficiently exhibited. However, the dry thickness of the internal scattering layer is preferably larger than the average particle diameter of the internal scattering particles. If the dry thickness of the internal scattering layer is less than or equal to the average particle size of the internal scattering particles, the function as the internal scattering layer may not be exhibited sufficiently. Specifically, it is preferably about 1.05 to 3.50 times the average particle diameter of the internal scattering particles.
The thickness of the internal scattering layer can be measured by observing the cross section with an electron microscope (SEM, TEM, STEM).
上記内部散乱層は、更に、凹凸形状を付与する賦型処理を行ってもよい。このような賦型処理は、内部散乱層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理によって好適に行うことができる。逆の凹凸形状を有する型はエンボス板、エンボスロール等が挙げられる。 The internal scattering layer may be further subjected to a shaping process that imparts an uneven shape. Such a shaping process can be suitably performed by a shaping process using a mold having an uneven shape opposite to the uneven shape of the internal scattering layer. Examples of the mold having the reverse uneven shape include an emboss plate and an emboss roll.
上記賦型処理としては、内部散乱層形成用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、内部散乱層形成用組成物を光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、内部散乱層形成用組成物を凹凸型と光透過性基材の間に介在させて、凹凸形状の形成と内部散乱層の形成とを同時に行ってもよい。本発明においては、エンボスローラーにかえて、平板状のエンボス板を用いることもできる。 As the above-mentioned shaping treatment, the composition for forming the internal scattering layer may be applied and then shaped with the uneven shape, or the composition for forming the internal scattering layer may be supplied to the interface between the light-transmitting substrate and the uneven shape. Then, the composition for forming the internal scattering layer may be interposed between the concave-convex mold and the light-transmitting substrate, and the formation of the concave-convex shape and the formation of the internal scattering layer may be performed simultaneously. In the present invention, a flat embossed plate can be used instead of the embossed roller.
エンボスローラー又は平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、サンドブラスト法又はビーズショット法等の公知の種々の方法により、形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版(エンボスローラー)を用いて形成された内部散乱層は、その凹凸形状を断面でみた場合、凹形状が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版(エンボスローラー)を用いて形成された内部散乱層は、凹凸形状を断面でみた場合、上側に凸形状が多数分布した形状となる。 The concavo-convex surface formed on the embossing roller or the flat embossing plate can be formed by various known methods such as a sandblasting method or a bead shot method. The internal scattering layer formed using an embossing plate (embossing roller) by the sandblasting method has a shape in which a large number of concave shapes are distributed when the uneven shape is viewed in cross section. The internal scattering layer formed by using an embossed plate (embossing roller) by the bead shot method has a shape in which a number of convex shapes are distributed on the upper side when the concave and convex shapes are viewed in cross section.
上記内部散乱層の表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有している内部散乱層は、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法により内部散乱層の凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用して内部散乱層の凹凸形状を形成することが好ましい。 When the average roughness of the concavo-convex shape formed on the surface of the internal scattering layer is the same, the internal scattering layer having a shape in which many convex portions are distributed on the upper side has a shape in which many concave portions are distributed on the upper side. It is said that there are few reflections, such as an indoor illuminating device, compared with what is doing. Therefore, according to a preferred aspect of the present invention, it is preferable to form the concavo-convex shape of the internal scattering layer using a concavo-convex mold formed in the same shape as the concavo-convex shape of the internal scattering layer by the bead shot method.
凹凸型面を形成するための型材としては、プラスチック、金属、木等を使用することができ、これらの複合体であってもよい。上記凹凸型面を形成するための型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属クロムが好ましく、経済性等の観点から、鉄製エンボス版(エンボスローラー)の表面にクロムをメッキしたものが好ましい。 As a mold material for forming the concavo-convex mold surface, plastic, metal, wood or the like can be used, and a composite of these may be used. As the mold material for forming the concavo-convex mold surface, metal chromium is preferable from the viewpoint of strength and wear resistance due to repeated use. From the viewpoint of economy and the like, chromium is applied to the surface of the iron embossing plate (embossing roller). Plating is preferred.
上記サンドブラスト法又はビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子(ビーズ)の具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、又はガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒径(直径)としては、30〜200μm程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメッキ等を施してから使用することが好ましく、硬膜化、及び腐食防止の上で好ましい。 Specific examples of the particles (beads) to be sprayed when forming the concavo-convex mold by the sandblasting method or the bead shot method include inorganic particles such as metal particles, silica, alumina, or glass. The particle diameter (diameter) of these particles is preferably about 30 to 200 μm. When spraying these particles onto the mold material, a method of spraying these particles together with a high-speed gas can be used. At this time, an appropriate liquid such as water may be used in combination. Further, in the present invention, it is preferable to use a concavo-convex mold formed with a concavo-convex shape after chromium plating or the like for the purpose of improving durability during use. Is preferable.
上記内部散乱層が凹凸形状を有する場合、以下の方法により膜厚を測定することができる。
共焦点レーザー顕微鏡(LeicaTCS−NT:ライカ社製:倍率「300〜1000倍」)にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の測定基準により測定することができる。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2ml乗せて観察し判断する。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いる。
測定手順
1:レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
2:測定条件は、上記の通りであった。
3:1画面につき 凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出し、これを、内部散乱層の膜厚とする。このレーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察をすることができる。また、各層の組成の違いで観察できるSEM及びTEM断面写真の観察を用いて、5画面分の観察を行うことで同様に求めることができる。
When the internal scattering layer has an uneven shape, the film thickness can be measured by the following method.
With a confocal laser microscope (Leica TCS-NT: Leica Co., Ltd .: magnification “300 to 1000 times”), the cross section of the optical laminate can be observed through transmission, the presence or absence of an interface can be determined, and the measurement can be performed according to the following measurement standards. . Specifically, in order to obtain a clear image without halation, a wet objective lens is used for the confocal laser microscope, and about 2 ml of oil having a refractive index of 1.518 is placed on the optical laminate. Judgment. The use of oil is used to eliminate the air layer between the objective lens and the optical laminate.
Measurement procedure 1: The average layer thickness was measured by laser microscope observation.
2: Measurement conditions were as described above.
For every 3: 1 screen, measure the layer thickness from the base material of the maximum uneven part and the minimum concave part one point at a time, and measure it for 5 screens, a total of 10 points, and calculate the average value. The film thickness of the internal scattering layer. This laser microscope can observe a non-destructive cross section by having a refractive index difference in each layer. Moreover, it can obtain | require similarly by performing observation for 5 screens using observation of the SEM and TEM cross-section photograph which can be observed with the difference in the composition of each layer.
光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、例えば、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテートが挙げられる。
Light-transmitting substrate The light-transmitting substrate is preferably one having smoothness and heat resistance and excellent mechanical strength. Specific examples of the material forming the light transmissive substrate include, for example, polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, Examples thereof include thermoplastic resins such as polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, preferably polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). And cellulose triacetate.
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。 The light-transmitting substrate preferably uses the thermoplastic resin as a flexible film-like body, but uses a plate of these thermoplastic resins depending on the use mode in which curability is required. It is also possible, or a glass plate plate may be used.
その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー(Cyclo−Olefin−Polymer:COP)フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア(ノルボルネン系樹脂)、住友ベークライト(株)製のスミライトFS−1700、JSR(株)製のアートン(変性ノルボルネン系樹脂)、三井化学(株)製のアペル(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製のTopas(環状オレフィン共重合体)、日立化成(株)製のオプトレッツOZ−1000シリーズ(脂環式アクリル樹脂)等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
In addition, examples of the light-transmitting substrate include an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure. This is a base material in which a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, or the like is used. ZEONEX, ZEONOR (norbornene resin), Sumitrite FS-1700 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., Arton (modified norbornene resin) manufactured by JSR Co., Ltd., Appel (cyclic olefin copolymer) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. Topas (cyclic olefin copolymer) manufactured by Ticona, Optretz OZ-1000 series (alicyclic acrylic resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and the like.
Further, the FV series (low birefringence, low photoelastic modulus film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation is also preferable as an alternative base material for triacetylcellulose.
上記光透過性基材の厚さは、下限20μm、上限が300μmであることが好ましく、より好ましくは下限が30μmであり、上限が200μmである。ただし、上記光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。上記光透過性基材は、その上に上記内部散乱層や、後述する帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。 The thickness of the light transmissive substrate is preferably a lower limit of 20 μm and an upper limit of 300 μm, more preferably a lower limit of 30 μm and an upper limit of 200 μm. However, when the light-transmitting substrate is a plate-like body, the thickness may exceed these thicknesses. The light-transmitting substrate has a physical treatment such as a corona discharge treatment and an oxidation treatment in order to improve adhesion when forming the internal scattering layer and the antistatic layer described later on the light-transmitting substrate. Application of a coating material called an anchor agent or primer may be performed in advance.
本発明の光学積層体は、必要に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、低屈折率層、防汚層、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層等の通常の光学積層体に使用されるものであれば限定されない。 The optical layered body of the present invention may be provided with other layers as necessary. Other layers are not limited as long as they are used for ordinary optical laminates such as a low refractive index layer, an antifouling layer, an antistatic layer, a hard coat layer, and an antireflection layer.
低屈折率層
上記低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。これらの低屈折率層は、その屈折率が1.45以下、特に1.42以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
Low-refractive index layer The low-refractive index layer is a layer that plays a role of reducing the reflectance when external light (for example, a fluorescent lamp, natural light, etc.) is reflected on the surface of the optical laminate. It is. These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less.
Moreover, although the dry thickness of a low-refractive-index layer is not limited, Usually, what is necessary is just to set suitably from the range of about 30 nm-1 micrometer.
上記低屈折率層としては、好ましくは1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成される。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記内部散乱層形成用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。 The low refractive index layer is preferably 1) a resin containing silica or magnesium fluoride, 2) a fluorine resin which is a low refractive index resin, 3) a fluorine resin containing silica or magnesium fluoride, 4) It is composed of either silica or magnesium fluoride thin film. About resin other than the said fluorine-type resin, resin similar to resin which comprises the said composition for internal scattering layer formation can be used.
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。上記重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これらの反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、上記重合体とは、上記のような反応性基等を一切もたないものである。 As the fluororesin, a polymerizable compound containing a fluorine atom in at least a molecule or a polymer thereof can be used. Although it does not specifically limit as said polymeric compound, For example, what has hardening reactive groups, such as an ionizing radiation curable group and a thermosetting polar group, is preferable. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient. In contrast to this polymerizable compound, the polymer has no reactive group as described above.
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、含フッ素(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。 As the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, to illustrate fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do. As having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethacryl Fluorinated (meth) acrylate compounds such as methyl acrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; C 1-14 fluoroalkyl group, fluorocycloalkyl group or fluoroalkylene having at least 3 fluorine atoms in the molecule And at least two (meth) acryloyloxy groups There are also fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having a silyl group.
上記熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。 Preferable examples of the thermosetting polar group include hydrogen bond forming groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. Examples of the polymerizable compound having a thermosetting polar group include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, polyimide, and the like. Fluorine modified products of each resin can be mentioned.
上記電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。 The polymerizable compound having both the ionizing radiation curable group and the thermosetting polar group includes acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, completely or partially. Examples thereof include fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones and the like.
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。 Moreover, as a fluorine resin, the following can be mentioned, for example. Polymer of monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of a polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound; and methyl (meth) Copolymers with (meth) acrylate compounds that do not contain fluorine atoms in the molecule such as acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate; fluoroethylene , Fluorine-containing compounds such as vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene Monomer homopolymer or Copolymer such as. Silicone-containing vinylidene fluoride copolymers obtained by adding a silicone component to these copolymers can also be used.
上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。 The silicone component is not particularly limited. For example, (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly ) Dimethylsiloxane, dimethylsilicone, phenylmethylsilicone, alkyl-aralkyl-modified silicone, fluorosilicone, polyether-modified silicone, fatty acid ester-modified silicone, methylhydrogen silicone, silanol group-containing silicone, alkoxy group-containing silicone, phenol group-containing silicone, methacryl Modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone, Tsu-containing modified silicone, polyether-modified silicone are exemplified. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.
上記ジメチルシロキサン構造としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの3官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。 More specifically, as the dimethylsiloxane structure, polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, polymethylvinylsiloxane, or other polyalkyl, polyalkenyl, or polyarylsiloxane having a silanol group at the terminal may be added to various crosslinking agents such as tetra Tetrafunctional silanes such as acetoxysilane, tetraalkoxysilane, tetraethylmethyl ketoxime silane, tetraisopropenyl silane, trifunctional silanes such as alkyl or alkenyl triacetoxy silane, triketoxime silane, triisopropenyl silane trialkoxy silane, etc. And those that have been reacted in advance in some cases.
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。 Furthermore, non-polymers or polymers composed of the following compounds can also be used as the fluororesin. That is, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule is reacted with a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group. Compound obtained: a compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as fluorine-containing polyether polyol, fluorine-containing alkyl polyol, fluorine-containing polyester polyol, fluorine-containing ε-caprolactone modified polyol with a compound having an isocyanato group Can be used.
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、内部散乱層形成用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。 Further, together with the above-described polymerizable compound or polymer having a fluorine atom, each resin component as described in the composition for forming an internal scattering layer can be mixed and used. Furthermore, various additives and solvents can be used as appropriate in order to improve the curing agent for curing reactive groups and the like, to improve the coating property, and to impart antifouling properties.
上記低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物(屈折率層用組成物)を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分(樹脂等)及び必要に応じて添加剤(例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。 In formation of the said low refractive index layer, it can form using the composition (composition for refractive index layers) containing a raw material component, for example. More specifically, a raw material component (resin, etc.) and, if necessary, an additive (for example, “fine particles having voids”, a polymerization initiator, an antistatic agent, an antiglare agent, etc., described later) are dissolved or dispersed in a solvent. A low refractive index layer can be obtained by using the resulting solution or dispersion as a composition for a low refractive index layer, forming a coating film from the composition, and curing the coating film. In addition, additives, such as a polymerization initiator, an antistatic agent, and an anti-glare agent, are not specifically limited, A well-known thing can be mentioned.
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を1.30〜1.45に調節することが可能である。 In the low refractive index layer, it is preferable to use “fine particles having voids” as the low refractive index agent. The “fine particles having voids” can lower the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present invention, the term “fine particles having voids” refers to a structure in which a gas is filled with gas and / or a porous structure containing gas, and the gas in the fine particle is compared with the original refractive index of the fine particle. It means fine particles whose refractive index decreases in inverse proportion to the occupation ratio. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure at least inside and / or on the surface depending on the form, structure, aggregated state, and dispersed state of the fine particles inside the coating. The low refractive index layer using these fine particles can adjust the refractive index to 1.30 to 1.45.
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開2001−233611号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平7−133105、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。 Examples of the inorganic fine particles having voids include silica fine particles prepared by the method described in JP-A-2001-233611. Further, it may be silica fine particles obtained by the production methods described in JP-A-7-133105, JP-A-2002-79616, JP-A-2006-106714, and the like. Since silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, when a low refractive index layer is formed by mixing with a binder, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20-1. It is possible to prepare within the range of about 45. In particular, as specific examples of the organic fine particles having voids, hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503 are preferably exemplified.
被膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒径の範囲内のものを利用することが可能である。 The fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least a part of the surface of the coating are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area in addition to the silica fine particles, and the packing column and the porous surface Examples include a release material that adsorbs various chemical substances on the part, a porous fine particle used for catalyst fixation, a dispersion or aggregate of hollow fine particles intended to be incorporated into a heat insulating material or a low dielectric material. As a specific example, aggregates of porous silica fine particles and silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. were linked in a chain form from the product names Nippon and Nippon manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. as commercial products. From the colloidal silica UP series (trade name) having a structure, it is possible to use those within the preferred particle size range of the present invention.
「空隙を有する微粒子」の平均粒径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中に樹脂100質量部に対して、通常0.1〜500質量部程度、好ましくは10〜200質量部程度とするのが好ましい。 The average particle size of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 300 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 100 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 80 nm or less. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer. The average particle diameter is a value measured by a dynamic light scattering method or the like. The “fine particles having voids” are usually about 0.1 to 500 parts by mass, preferably about 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin in the low refractive index layer.
上記溶剤としては特に限定されず、例えば、内部散乱層形成用組成物で例示したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、t−ブタノール、ジエチルケトン、PGME等である。 The solvent is not particularly limited, and examples thereof include those exemplified in the composition for forming an internal scattering layer. Preferably, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, t-butanol, diethyl Ketone, PGME and the like.
上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、内部散乱層形成用組成物において上述した公知の装置を使用して混合することができる。 The preparation method of the composition for a low refractive index layer is not particularly limited as long as the components can be mixed uniformly, and may be performed according to a known method. For example, it can mix using the well-known apparatus mentioned above in the composition for internal scattering layer formation.
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、内部散乱層の形成で上述した各種方法を用いることができる。 The formation method of a coating film should just follow a well-known method. For example, the various methods described above for forming the internal scattering layer can be used.
上記低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる0.5〜5cps(25℃)、好ましくは0.7〜3cps(25℃)の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。 In the formation of the low refractive index layer, the viscosity of the composition for the low refractive index layer is in the range of 0.5 to 5 cps (25 ° C.), preferably 0.7 to 3 cps (25 ° C.) at which preferable coatability is obtained. It is preferable to make it. An antireflection film excellent in visible light can be realized, a uniform thin film with no coating unevenness can be formed, and a low refractive index layer particularly excellent in adhesion to a substrate can be formed.
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が添加されることが好ましい。 What is necessary is just to select the hardening method of the obtained coating film suitably according to the content etc. of the composition. For example, in the case of an ultraviolet curing type, the coating film may be cured by irradiating with ultraviolet rays. When a heating means is used for the curing treatment, it is preferable to add a thermal polymerization initiator that generates, for example, a radical by heating to start polymerization of the polymerizable compound.
低屈折率層の膜厚(nm)dAは、下記式(I):
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、nAは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
The film thickness (nm) d A of the low refractive index layer is expressed by the following formula (I):
d A = mλ / (4n A ) (I)
(In the above formula, n A represents the refractive index of the low refractive index layer, m represents a positive odd number, preferably 1 and λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 to 580 nm) Those satisfying these conditions are preferred.
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式(II):
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
In the present invention, the low refractive index layer has the following formula (II):
120 <n A d A <145 (II)
It is preferable from the viewpoint of low reflectivity.
防汚層
上記防汚層は、本発明の光学積層体の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
Antifouling layer The antifouling layer is difficult to adhere to dirt (fingerprints, water-based or oily inks, pencils, etc.) on the outermost surface of the optical laminate of the present invention, or easily wiped even when it adheres. It is a layer that plays the role of being able to take. According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing the outermost surface of the low refractive index layer from being stained, and in particular, one surface of the light-transmitting substrate on which the low refractive index layer is formed; It is preferable to provide an antifouling layer on both opposite sides. By forming the antifouling layer, the optical laminate can be further improved in antifouling properties and scratch resistance. Even when there is no low refractive index layer, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing contamination on the outermost surface.
上記防汚層は、一般的には、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、光学積層体の耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又はこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述の内部散乱層形成用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。 In general, the antifouling layer can be formed of a composition containing an antifouling agent and a resin. The antifouling agent is mainly intended to prevent the outermost surface of the optical laminate from being stained, and can also impart scratch resistance to the optical laminate. Examples of the antifouling agent include fluorine compounds, silicon compounds, and mixed compounds thereof. More specifically, silane coupling agents having a fluoroalkyl group, such as 2-perfluorooctylethyltriaminosilane, and the like can be mentioned, and those having an amino group can be preferably used. It does not specifically limit as said resin, Resin illustrated by the above-mentioned composition for internal scattering layer formation can be mentioned.
上記防汚層は、例えば内部散乱層の上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えば、内部散乱層自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。 The antifouling layer can be formed on the internal scattering layer, for example. In particular, it is desirable to form the antifouling layer so as to be the outermost surface. The antifouling layer can be replaced, for example, by imparting antifouling performance to the internal scattering layer itself.
帯電防止層
本発明の光学積層体は、更に帯電防止層を有するものであってもよい。上記帯電防止層は、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述の内部散乱層形成用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。
Antistatic layer The optical layered body of the present invention may further have an antistatic layer. The antistatic layer can be formed of a composition containing an antifouling agent and a resin. It does not specifically limit as said resin, Resin illustrated by the above-mentioned composition for internal scattering layer formation can be mentioned.
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性化合物;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物;スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物;上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。 The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include cationic compounds such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and primary to tertiary amino groups; sulfonate groups, sulfate ester bases, phosphate ester bases, and phosphonic acids. Anionic compounds such as bases; amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters; nonionic compounds such as amino alcohols, glycerin and polyethylene glycol; organometallic compounds such as tin and titanium alkoxides; Examples thereof include metal chelate compounds such as acetylacetonate salts of compounds. Compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above can also be used. Also, polymerizability of organometallic compounds such as coupling agents having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group or a metal chelate moiety and having a monomer, oligomer or functional group that can be polymerized by ionizing radiation. Compounds can also be used as antistatic agents.
上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。 Examples of the antistatic agent include conductive polymers. The conductive polymer is not particularly limited. For example, aromatic conjugated poly (paraphenylene), heterocyclic conjugated polypyrrole, polythiophene, aliphatic conjugated polyacetylene, heteroatom-containing polyaniline, mixed type Conjugated poly (phenylene vinylene), a double chain conjugated system that has a plurality of conjugated chains in the molecule, and a conductive polymer that is a polymer obtained by grafting or block-copolymerizing the conjugated polymer chain to a saturated polymer. And the like.
上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、CeO2(1.95)、酸化インジウム錫(略称 ITO;1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称ATO;2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称AZO;2.0)等を挙げることができる。 The antistatic agent may be conductive metal oxide fine particles. The conductive metal oxide fine particles are not particularly limited. For example, ZnO (refractive index 1.90, hereinafter, all values in parentheses indicate refractive index), Sb 2 O 2 (1.71). ), SnO 2 (1.997), CeO 2 (1.95), indium tin oxide (abbreviated as ITO; 1.95), In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), Antimony-doped tin oxide (abbreviation ATO; 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation AZO; 2.0), and the like can be given.
偏光素子の表面に、本発明の光学積層体を該光学積層体における内部散乱層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
By providing the optical layered body of the present invention on the surface of the polarizing element on the surface opposite to the surface where the internal scattering layer exists in the optical layered body, a polarizing plate can be obtained.
The polarizing element is not particularly limited, and for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, etc. dyed and stretched with iodine or the like can be used. In the laminating process of the polarizing element and the optical laminate of the present invention, it is preferable to saponify the light-transmitting substrate (preferably a triacetyl cellulose film). By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.
最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置とすることもできる。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。 It can also be set as the image display apparatus provided with the said optical laminated body or the said polarizing plate on the outermost surface. The image display device may be a non-self-luminous image display device such as an LCD, or a self-luminous image display device such as a PDP, FED, ELD (organic EL, inorganic EL), or CRT.
上記非自発発光型の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は上述の偏光板が形成されてなるものである。 An LCD as a typical example of the non-spontaneous light emission type includes a transmissive display body and a light source device that irradiates the transmissive display body from the back. When the image display device is an LCD, the optical laminate of the present invention or the above-described polarizing plate is formed on the surface of the transmissive display body.
上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 In the case of the liquid crystal display device having the optical laminated body, the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminated body. Note that in the STN liquid crystal display device, a retardation plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.
上記自発光型画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板(表面に電極を形成)と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板(電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成)とを備えてなるものである。上記画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。 The PDP, which is the self-luminous image display device, has a front glass substrate (electrodes are formed on the surface) and a rear glass substrate (electrodes and minute electrodes) disposed with a discharge gas sealed between the front glass substrate and the front glass substrate. Are formed on the surface, and red, green, and blue phosphor layers are formed in the groove). When the image display device is a PDP, the above-described optical laminate is provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).
上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。 The self-luminous image display device is an ELD device that emits light when a voltage is applied, such as zinc sulfide and a diamine substance: a phosphor is deposited on a glass substrate, and the voltage applied to the substrate is controlled. It may be an image display device such as a CRT that converts light into light and generates an image visible to the human eye. In this case, the optical laminated body described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.
上記画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD、FEDなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。 In any case, the image display device can be used for display of a television, a computer, a word processor, or the like. In particular, it can be suitably used for the surface of high-definition image displays such as CRT, liquid crystal panel, PDP, ELD, FED and the like.
本発明によれば、防眩性を保ちつつ、良好なコントラストを示し、かつ、ギラツキを防止した光学積層体を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated body which showed favorable contrast and prevented glare can be obtained, maintaining anti-glare property.
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。 The features of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples. However, the scope of the present invention is not limited to the examples.
下記製造例に従い、内部散乱粒子及び内部散乱層形成用組成物を調製した。 According to the following manufacture example, the composition for internal scattering particle | grains and internal scattering layer formation was prepared.
製造例1(内包微粒子分散液(1)の調製)
微粒子酸化チタン(テイカ(株)社製、MT−600B、平均粒径50nm)18.67部、分散剤(ビックケミー・ジャパン(株)社製、DISPER BYK−163)3.73部、KAYARAD PET−30(日本化薬(株)社製)7.47部、重合開始剤イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)0.41部を、69.7部のメチルイソブチルケトンに加え、この溶液をビーズミル分散機ZRS(アシザワ・ファインテック(株)社製)にて分散し、内包微粒子分散液(1)を調製した。
Production Example 1 (Preparation of Encapsulated Fine Particle Dispersion (1))
Fine particle titanium oxide (manufactured by Teika Co., Ltd., MT-600B, average particle size 50 nm) 18.67 parts, dispersant (Bic Chemie Japan Co., Ltd., DISPER BYK-163) 3.73 parts, KAYARAD PET- 30 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7.47 parts, polymerization initiator Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.41 parts was added to 69.7 parts of methyl isobutyl ketone, and this solution was dispersed in a bead mill. Dispersion was carried out using a machine ZRS (manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd.) to prepare an encapsulated fine particle dispersion (1).
製造例2(内包微粒子分散液(2)の調製)
微粒子ジルコニア(東ソー(株)社製、TZ−3Y−E、平均粒径50nm)18.67部、分散剤(ビックケミー・ジャパン(株)社製、DISPER BYK−163)3.73部、KAYARAD PET−30(日本化薬(株)社製)7.47部、重合開始剤イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)0.41部を、69.7部のメチルイソブチルケトンに加え、この溶液をビーズミル分散機ZRS(アシザワ・ファインテック(株)社製)にて分散し、内包微粒子分散液(2)を調製した。
Production Example 2 (Preparation of encapsulated fine particle dispersion (2))
Fine particle zirconia (manufactured by Tosoh Corporation, TZ-3Y-E, average particle size 50 nm) 18.67 parts, dispersant (Big Chemy Japan, Ltd., DISPER BYK-163) 3.73 parts, KAYARAD PET -30 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7.47 parts, polymerization initiator Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) 0.41 part was added to 69.7 parts of methyl isobutyl ketone, and this solution was added to a bead mill. Dispersion was performed using a disperser ZRS (manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd.) to prepare an encapsulated fine particle dispersion (2).
製造例3(内包微粒子分散液(3)の調製)
超微粒子酸化亜鉛(住友大阪セメント(株)社製、平均粒径50nm)18.67部、分散剤(ビックケミー・ジャパン(株)社製、DISPER BYK−163)3.73部、KAYARAD PET−30(日本化薬(株)社製)7.47部、重合開始剤イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)0.41部を、69.7部のメチルイソブチルケトンに加え、この溶液をビーズミル分散機ZRS(アシザワ・ファインテック(株)社製)にて分散し、内包微粒子分散液(3)を調製した。
Production Example 3 (Preparation of Encapsulated Fine Particle Dispersion (3))
Ultrafine zinc oxide (Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., average particle size 50 nm) 18.67 parts, Dispersant (Big Chemy Japan Co., Ltd., DISPER BYK-163) 3.73 parts, KAYARAD PET-30 7.47 parts (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 0.41 part of polymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added to 69.7 parts of methyl isobutyl ketone, and this solution was added to a bead mill disperser. Dispersion was carried out with ZRS (manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd.) to prepare an encapsulated fine particle dispersion (3).
製造例4(内包微粒子分散液(4)の調製)
超微粒子アルミナ(日本軽金属(株)社製、平均粒径50nm)18.67部、分散剤(ビックケミー・ジャパン(株)社製、DISPER BYK−163)3.73部、KAYARAD PET−30(日本化薬(株)社製)7.47部、重合開始剤イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)0.41部を、69.7部のメチルイソブチルケトンに加え、この溶液をビーズミル分散機ZRS(アシザワ・ファインテック(株)社製)にて分散し、内包微粒子分散液(4)を調製した。
Production Example 4 (Preparation of encapsulated fine particle dispersion (4))
Ultrafine particle alumina (manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., average particle size 50 nm) 18.67 parts, dispersant (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., DISPER BYK-163) 3.73 parts, KAYARAD PET-30 (Japan) 7.47 parts of Kayaku Co., Ltd.) and 0.41 part of polymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are added to 69.7 parts of methyl isobutyl ketone, and this solution is added to a bead mill disperser ZRS ( Ashizawa Finetech Co., Ltd.) to prepare an encapsulated fine particle dispersion (4).
製造例5(内部散乱粒子(1)の調製)
イオン交換水695部、製造例1で調製した内包微粒子分散液(1)100部、ドデシル硫酸ナトリウム5部、酢酸エチル80部を加え、良く撹拌した。そこに、スチレン/メタクリル酸メチル(MMA)(重量比50/50)の混合溶液を286部加えた後、得られた混合溶液をTKホモミキサー[特殊機化工業(株)製]を用いて12000rpm、2分間撹拌した。その後、耐圧反応容器に移し、40℃まで昇温しながら常圧で脱溶剤することにより、実施例1に係る内部散乱粒子(1)を得た。得られた内部散乱粒子(1)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、並びに、内包微粒子の粒径及び屈折率を表1に示す。
Production Example 5 (Preparation of internal scattering particles (1))
695 parts of ion exchange water, 100 parts of the encapsulated fine particle dispersion (1) prepared in Production Example 1, 5 parts of sodium dodecyl sulfate, and 80 parts of ethyl acetate were added and stirred well. 286 parts of a mixed solution of styrene / methyl methacrylate (MMA) (weight ratio 50/50) was added thereto, and the obtained mixed solution was then added using a TK homomixer [manufactured by Special Machine Industries Co., Ltd.]. The mixture was stirred at 12000 rpm for 2 minutes. Then, it moved to the pressure | voltage resistant reaction container, the internal scattering particle | grains (1) which concern on Example 1 were obtained by desolvating at normal pressure, heating up to 40 degreeC. Table 1 shows the refractive index and particle size of the particle matrix component of the obtained internal scattering particles (1), and the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles.
更に、得られた内部散乱粒子(1)の体積、及び、これらの内包微粒子の合計体積は、TEM観察より内部散乱粒子と内包微粒子の平均半径から体積を算出し、更にTEM観察から内包微粒子の平均粒子数を算出し、内包微粒子の体積分率{=(内包粒子の合計体積/内部散乱粒子の体積)×100}を算出した。結果を表1に示す。 Furthermore, the volume of the obtained internal scattering particles (1) and the total volume of these inclusion fine particles are calculated from the average radius of the internal scattering particles and the inclusion fine particles by TEM observation, and further from the TEM observation, the volume of the inclusion fine particles is calculated. The average number of particles was calculated, and the volume fraction of encapsulated fine particles {= (total volume of encapsulated particles / volume of internally scattered particles) × 100} was calculated. The results are shown in Table 1.
製造例6(内部散乱粒子(2)の調製)
スチレン/メタクリル酸メチル(MMA)の重量比を100/0にした以外は、製造例5と同様にして、実施例2に係る内部散乱粒子(2)を調製した。得られた内部散乱粒子(2)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。
Production Example 6 (Preparation of internal scattering particles (2))
Internal scattering particles (2) according to Example 2 were prepared in the same manner as in Production Example 5 except that the weight ratio of styrene / methyl methacrylate (MMA) was 100/0. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the obtained internal scattering particles (2), the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume fraction of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5 are shown. It is shown in 1.
製造例7(内部散乱粒子(3)の調製)
反応器にネオペンチルグリコール200部、エチレングリコール93部、テレフタル酸355部を投入し、230℃に加熱し生成する水を留去しながら2時間反応を進めた。その後0.2部のジブチルチンオキサイドを添加し、酸価が0.5以下になるまで反応を続けることで、両末端に水酸基を有し、数平均分子量7000、水酸基価17のポリエステル樹脂(ポリエステル樹脂)を得た。
ビーカー内に、得られたポリエステル樹脂を93部、MEKオキシムブロックされたHDIトリマー(旭化成製、スミジュール)7部、及び、テトラヒドロフラン100部を混合しておき、これを内包微粒子分散液(1)100部に添加した後、ウルトラディスパーサー(ヤマト科学製)を使用して、回転数9000rpmで1分間混合し、平均粒径を4μmとした。混合後、攪拌棒及び温度計をセットした4つ口フラスコにこの混合液を投入し、常温、減圧下で10時間脱溶剤した。次いでウレタン化触媒[TEDA、東ソー社製]0.1部、耐光安定剤[DIC−TBS、大日本インキ化学工業社製]0.1部、レオロジー調整剤[SNシックナー−651、サンノプコ社製]3.0部を加え、実施例3に係る内部散乱粒子(3)を得た。得られた内部散乱粒子(3)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。
Production Example 7 (Preparation of internal scattering particles (3))
200 parts of neopentyl glycol, 93 parts of ethylene glycol and 355 parts of terephthalic acid were added to the reactor, and the reaction was allowed to proceed for 2 hours while heating to 230 ° C. and distilling off the generated water. Thereafter, 0.2 part of dibutyltin oxide is added, and the reaction is continued until the acid value becomes 0.5 or less, whereby a polyester resin having a hydroxyl group at both ends, a number average molecular weight of 7000, and a hydroxyl value of 17 (polyester) Resin).
In a beaker, 93 parts of the obtained polyester resin, 7 parts of MEK oxime-blocked HDI trimer (manufactured by Asahi Kasei, Sumijoule) and 100 parts of tetrahydrofuran were mixed, and this was added to the encapsulated fine particle dispersion (1). After adding to 100 parts, an ultradisperser (manufactured by Yamato Kagaku) was used and mixed for 1 minute at a rotation speed of 9000 rpm to obtain an average particle size of 4 μm. After mixing, this mixed solution was put into a four-necked flask equipped with a stirring bar and a thermometer, and the solvent was removed at room temperature and reduced pressure for 10 hours. Next, 0.1 part of urethanization catalyst [TEDA, manufactured by Tosoh Corporation], 0.1 part of light-resistant stabilizer [DIC-TBS, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.], rheology modifier [SN thickener-651, manufactured by San Nopco] 3.0 parts were added, and the internal scattering particles (3) according to Example 3 were obtained. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the internally scattered particles (3) obtained, the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume fraction of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5 are shown. It is shown in 1.
製造例8(内部散乱粒子(4)〜(11)の調製)
内包微粒子及び内部散乱粒子の主原料である粒子マトリックス成分を、下記表1に示す材料となるよう適宜変更した以外は、製造例5〜7と同様にして実施例4〜11に係る内部散乱粒子(4)〜(11)を調製した。得られた内部散乱粒子(4)〜(11)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。
Production Example 8 (Preparation of internal scattering particles (4) to (11))
Internal scattering particles according to Examples 4 to 11 in the same manner as in Production Examples 5 to 7 except that the particle matrix component, which is the main raw material of the encapsulated fine particles and the internal scattering particles, was appropriately changed so as to become the material shown in Table 1 below. (4) to (11) were prepared. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the obtained internal scattering particles (4) to (11), the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5. The fractions are shown in Table 1.
製造例9(外郭付着粒子(1)の調製)
耐圧反応容器に、イオン交換水735部、ドデシル硫酸ナトリウム50部、過硫酸アンモニウム5部、炭酸水素ナトリウム10部を仕込み、反応容器内の空気を窒素で置換した後、反応容器を密閉として80℃まで昇温した。ついで、スチレン/メタクリル酸/ブチルアクリレート(重量比30/30/40)の混合モノマー200部を2時間かけて滴下した。更に、同温度で2時間熟成し、外郭付着粒子(1)を得た。得られた外郭付着粒子(1)の平均粒径は50nmであった。
Production Example 9 (Preparation of outer attached particles (1))
A pressure-resistant reaction vessel was charged with 735 parts of ion-exchanged water, 50 parts of sodium dodecyl sulfate, 5 parts of ammonium persulfate, and 10 parts of sodium hydrogen carbonate. After the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen, the reaction vessel was sealed up to 80 ° C. The temperature rose. Then, 200 parts of a mixed monomer of styrene / methacrylic acid / butyl acrylate (weight ratio 30/30/40) was added dropwise over 2 hours. Further, aging was carried out at the same temperature for 2 hours to obtain outer attached particles (1). The average particle diameter of the obtained outer adhered particles (1) was 50 nm.
製造例10(外郭付着粒子(2)の調製)
混合モノマーの滴下時間を1時間にした以外は、製造例9と同様にして外郭付着粒子(2)を調製した。得られた外郭付着粒子(2)の平均粒径は100nmであった。
Production Example 10 (Preparation of shell-attached particles (2))
The outer adhered particles (2) were prepared in the same manner as in Production Example 9 except that the dropping time of the mixed monomer was 1 hour. The outer particle (2) obtained had an average particle size of 100 nm.
製造例11(内部散乱粒子(12)の調製)
製造例5にて得られた内部散乱粒子(1)900部に、外殻付着粒子(1)100部をハイブリダイゼーションシステム[株式会社奈良機械製作所製]に充填し、12000rpm、50秒処理することにより、外郭付着粒子(1)を付着させた実施例12に係る内部散乱粒子(12)を得た。得られた内部散乱粒子(12)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。なお、外郭付着粒子(1)の体積分率は、内部散乱粒子(1)の18%であった。
Production Example 11 (Preparation of internal scattering particles (12))
Filling 900 parts of the inner scattering particles (1) obtained in Production Example 5 with 100 parts of the outer shell adhering particles (1) in a hybridization system [manufactured by Nara Machinery Co., Ltd.] and treating them at 12000 rpm for 50 seconds. Thus, the internal scattering particles (12) according to Example 12 to which the outer particles (1) were adhered were obtained. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the obtained internal scattering particles (12), the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume fraction of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5 are shown. It is shown in 1. The volume fraction of the outer adhered particles (1) was 18% of the inner scattering particles (1).
製造例12(内部散乱粒子(13)の調製)
外殻付着粒子(1)を外郭付着粒子(2)に変えた以外は、製造例11と同様にして、外郭付着粒子(2)を付着させた実施例13に係る内部散乱粒子(13)を得た。得られた内部散乱粒子(13)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。なお、外郭付着粒子(2)の体積分率は、内部散乱粒子(13)の13%であった。
Production Example 12 (Preparation of internal scattering particles (13))
The internal scattering particles (13) according to Example 13 to which the outer particles (2) were adhered were prepared in the same manner as in Production Example 11, except that the outer particles (1) were changed to outer particles (2). Obtained. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the obtained internal scattering particles (13), the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume fraction of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5 are shown. It is shown in 1. The volume fraction of the outer-attached particles (2) was 13% of the inner scattering particles (13).
製造例13(内部散乱粒子(14)の調製)
製造例6で内包微粒子分散液(1)を添加しなかった以外は、製造例6と同様にして、比較例1に係る内部散乱粒子(14)を調製した。得られた内部散乱粒子(14)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径を表1に示す。
Production Example 13 (Preparation of internal scattering particles (14))
Internal scattering particles (14) according to Comparative Example 1 were prepared in the same manner as in Production Example 6, except that the encapsulated fine particle dispersion (1) was not added in Production Example 6. Table 1 shows the refractive index and particle size of the particle matrix component of the internally scattered particles (14) obtained.
製造例14(内部散乱粒子(15)〜(17)の調製)
TKホモミキサーの攪拌条件を変更したこと以外は、製造例6と同様にして、比較例2〜4に係る内部散乱粒子(15)〜(17)を調製した。得られた内部散乱粒子(15)〜(17)の粒子マトリクス成分の屈折率及び粒径、及び、内包微粒子の粒径及び屈折率、並びに、製造例5と同様にして測定した内包微粒子の体積分率を表1に示す。
Production Example 14 (Preparation of internal scattering particles (15) to (17))
Internal scattering particles (15) to (17) according to Comparative Examples 2 to 4 were prepared in the same manner as in Production Example 6 except that the stirring conditions of the TK homomixer were changed. The refractive index and particle size of the particle matrix component of the internal scattering particles (15) to (17) obtained, the particle size and refractive index of the encapsulated fine particles, and the volume of the encapsulated fine particles measured in the same manner as in Production Example 5. The fractions are shown in Table 1.
製造例15(内部散乱層形成用組成物(1)の調製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(日本化薬製、屈折率1.51)
65質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートM215(東亞合成(株)製) 35質量部
ポリメチルメタクリレート(分子量75,000) 10質量部
(光硬化開始剤)
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 1質量部
(内部散乱粒子)
内部散乱粒子(1)(表1記載の粒子/バインダー樹脂比となるように配合量を調節した。)
(レベリング剤)
シリコーン系レベリング剤 大日精化(株)製 0.045質量部
(溶剤)
トルエン 64質量部
シクロヘキサノン 16質量部
上記材料を充分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分30質量%の実施例1に係る内部散乱層形成用組成物(1)を調製した。
Production Example 15 (Preparation of composition for forming internal scattering layer (1))
Pentaerythritol triacrylate (PETA) (Nippon Kayaku, refractive index 1.51)
65 parts by mass isocyanuric acid-modified diacrylate M215 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 35 parts by mass polymethyl methacrylate (molecular weight 75,000) 10 parts by mass (photocuring initiator)
Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 6 parts by mass Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1 part by mass (internal scattering particles)
Internal scattering particles (1) (The blending amount was adjusted so that the particle / binder resin ratio shown in Table 1 was obtained.)
(Leveling agent)
Silicone leveling agent, manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd. 0.045 parts by mass (solvent)
Toluene 64 parts by mass Cyclohexanone 16 parts by mass The above materials were sufficiently mixed to prepare a composition. This composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare an internal scattering layer forming composition (1) according to Example 1 having a solid content of 30% by mass.
製造例16(内部散乱層形成用組成物(2)〜(17)の調製)
内部散乱粒子(1)に代えて、内部散乱粒子(2)〜(17)を、その配合量が表1記載の粒子/バインダー樹脂比となるように調整したこと以外は、製造例15と同様にして実施例2〜13及び比較例1〜4に係る内部散乱層形成用組成物(2)〜(17)を調製した。
Production Example 16 (Preparation of compositions for forming internal scattering layer (2) to (17))
Instead of the internal scattering particles (1), the internal scattering particles (2) to (17) were the same as in Production Example 15 except that the blending amount was adjusted to the particle / binder resin ratio shown in Table 1. Thus, compositions (2) to (17) for forming an internal scattering layer according to Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared.
実施例1
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80μm)を透明基材として用い、内部散乱層形成用組成物(1)を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#8を用いて乾燥膜厚4μmとなるように塗布し、70℃のオーブン中で2分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が130mJになるよう照射して塗膜を硬化させ内部散乱層を形成し、膜厚4.2μmの光学積層体を得た。
Example 1
Using a triacetyl cellulose (TAC) film (Fuji Photo Film, TF80UL, thickness 80 μm) as a transparent substrate, the composition for forming an internal scattering layer (1) is coated on the film with a winding rod (Meyer's bar) Using # 8, apply to a dry film thickness of 4 μm, heat dry in an oven at 70 ° C. for 2 minutes, evaporate the solvent, and then irradiate with ultraviolet rays to a dose of 130 mJ. Was cured to form an internal scattering layer, and an optical laminate having a thickness of 4.2 μm was obtained.
実施例2〜13、比較例1〜4
内部散乱層形成用組成物(1)の代わりに内部散乱層形成用組成物(2)〜(17)を使用した以外は、実施例1と同様にして表1に示す膜厚の光学積層体を製造した。
Examples 2-13, Comparative Examples 1-4
An optical laminate having the thickness shown in Table 1 in the same manner as in Example 1 except that the compositions (2) to (17) for forming the internal scattering layer were used instead of the composition (1) for forming the internal scattering layer. Manufactured.
得られた光学積層体について、下記の評価を行った。結果を表1に示す。 The following evaluation was performed about the obtained optical laminated body. The results are shown in Table 1.
評価1 内部ヘイズ
内部ヘイズ値は、JIS K−7136に従って測定した。なお、測定機器として、反射・透過率計HM−150(村上色彩技術研究所)を使用した。
Evaluation 1 Internal haze The internal haze value was measured according to JIS K-7136. As a measuring instrument, a reflection / transmittance meter HM-150 (Murakami Color Research Laboratory) was used.
評価2 正面C/R低下率測定
(偏光板の作製)
光学積層体を55℃、2規定のNaOH水溶液で2分けん化した後、片面にTF80ULを貼り合わせた偏光板に、光学積層体の塗工面でない側を偏光子表面に貼合し、偏光板(A)を作製した。
(正面C/R低下率測定)
ソニー製 BRAVIA27インチのパネルの液晶セル表面側に偏光板(A)を、液晶セル裏面側には、偏光子両側にトリアセチルセルロースを貼合した偏光板をクロスニコル配置になるように貼合し、トプコンテクノハウス社製BM−5輝度計を用いてC/Rを測定した。偏光板(A)として、内部散乱層を含まない光学積層体のC/Rは890であった。なお、内部散乱層を含む光学積層体である実施例1ではC/Rが863であり、C/R低下率は3%であった。
Evaluation 2 Front C / R reduction rate measurement (preparation of polarizing plate)
The optical layered body was saponified into two parts with 55 ° C. and 2N NaOH aqueous solution, and then the polarizing plate with TF80UL bonded on one side was bonded to the polarizer surface on the side of the optical layered body that was not the coating surface. A) was prepared.
(Front C / R reduction rate measurement)
A polarizing plate (A) is attached to the front side of the liquid crystal cell of a BRAVIA 27-inch panel made by Sony, and a polarizing plate with triacetyl cellulose attached to both sides of the polarizer is attached to the back side of the liquid crystal cell in a crossed Nicol arrangement. C / R was measured using a BM-5 luminance meter manufactured by Topcon Techno House. As the polarizing plate (A), the C / R of the optical laminate not including the internal scattering layer was 890. In Example 1, which is an optical laminate including an internal scattering layer, C / R was 863, and the C / R reduction rate was 3%.
評価3 ギラツキ
HAKUBA製ビュアー(ライトビュアー7000PRO)上に、0.7mm厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板(105ppi、140ppi)を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かないようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、以下の基準にて評価した。
評価基準
評価◎:140ppiでギラツキがなく良好
評価○:105ppiでギラツキがなく良好
評価△:105ppiでギラツキがみえ不良
Evaluation 3 A black matrix pattern plate (105 ppi, 140 ppi) formed on a 0.7 mm-thick glass is placed on a viewer made of Glitter HAKUBA (Light Viewer 7000PRO) with the pattern surface facing down, and the optical obtained thereon The laminated film was placed with the concavo-convex surface on the air side, and glare was visually observed in a dark room while lightly pressing the edge of the film with a finger so that the film did not float, and evaluated according to the following criteria.
Evaluation standard evaluation ◎: Good evaluation with no glare at 140 ppi ○: Good evaluation without glare at 105 ppi Δ: No glare at 105 ppi
評価4 クラック性
製造した光学積層体を直径0.5cmの金属ロールに巻きつけたときのクラック発生の有無を目視により確認し、以下の基準にて評価した。
評価基準
評価○:クラックなし
評価×:クラックあり
Evaluation 4 Cracking property When the manufactured optical laminate was wound around a metal roll having a diameter of 0.5 cm, the presence or absence of cracks was visually confirmed, and evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria Evaluation ○: No crack evaluation ×: Crack present
評価5 インキ分散性
調製した内部散乱層形成用組成物中の内部散乱粒子の1日経過後の沈降状態を目視により確認し、以下の基準にて評価した。
評価基準
評価○:粒子沈降なし
評価△:粒子沈降するが、撹拌後均一に分散
評価×:粒子沈降し、撹拌後も分散せず
Evaluation 5 The sedimentation state of the internal scattering particles in the composition for forming an internal scattering layer prepared for ink dispersibility after one day was visually confirmed and evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria Evaluation ○: No particle sedimentation evaluation Δ: Particle sedimentation, but uniformly dispersed after stirring Evaluation ×: Particle sedimentation, no dispersion after stirring
表1より、本発明の光学積層体は、C/R低下率が低く、ギラツキ防止効果に優れた、クラック性及びインキ分散性にも優れた光学積層体であることが示された。 Table 1 shows that the optical layered body of the present invention is an optical layered body having a low C / R reduction rate, excellent antiglare effect, and excellent crackability and ink dispersibility.
本発明により、防眩性、コントラスト、ギラツキ防止効果に優れた光学積層体を形成することができる。得られる光学積層体は、好ましくは反射防止積層体として好適に用いることができる。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等に好適に適用することができる。 According to the present invention, an optical layered body excellent in antiglare property, contrast, and glare prevention effect can be formed. The obtained optical laminate can be suitably used as an antireflection laminate. Therefore, the optical laminate of the present invention can be suitably applied to a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD) and the like.
10 内部散乱粒子
11 内包微粒子
12 バインダー成分
10 Internal scattering particles 11 Encapsulated
Claims (8)
前記内部散乱粒子は、平均粒径が1〜10μmであり、屈折率1.50以上の有機樹脂からなる粒子マトリックス成分を含有しており、かつ、平均粒径が5〜300nmの有機材料及び/又は無機材料からなる屈折率が1.55以上の微粒子を内包しており、
前記内部散乱層は、マトリックス樹脂中に前記内部散乱粒子が分散しており、
前記内部散乱粒子に内包された微粒子の屈折率をn A 、内部散乱粒子の内包された微粒子以外の成分の屈折率をn B 、マトリックス樹脂の屈折率をn C とすると、n A 、n B 及びn C は、下記式(1)を満たす
ことを特徴とする光学積層体。
n C <n B <n A (1) An optical laminate having a light transmissive substrate and an internal scattering layer containing internal scattering particles provided on the light transmissive substrate,
The internal scattering particles have an average particle diameter of 1 to 10 μm , contain a particle matrix component made of an organic resin having a refractive index of 1.50 or more, and have an average particle diameter of 5 to 300 nm. Or enclose fine particles made of an inorganic material having a refractive index of 1.55 or more ,
In the internal scattering layer, the internal scattering particles are dispersed in a matrix resin,
Assuming that the refractive index of the fine particles encapsulated in the internal scattering particles is n A , the refractive index of components other than the fine particles encapsulated in the internal scattering particles is n B , and the refractive index of the matrix resin is n C , n A , n B And n C satisfy the following formula (1) .
n C <n B <n A (1)
前記偏光素子の表面に、請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising a polarizing element,
A polarizing plate, wherein the surface of the polarizing element comprises claims 1, 2, 3, 4 or 5 optical laminate according.
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