JP5093900B2 - 積層型偏光板およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、積層型偏光板およびその製造方法に関する。

液晶表示装置において、偏光板は、液晶セルの両面に張り合わされるのが一般的である。しかしながら、このように偏光板が貼着された液晶セルをビデオカメラ等のビューファインダーやプロジェクタ、デジタルカメラ等に適用した際に、以下のような問題が発生する。

前記ビューファインダーやプロジェクタは、液晶セルの背面から光源を照射して、照明された画像を、前記液晶セルの前方に配置した拡大レンズ系によって拡大投影する形態をとっている。このため、前記拡大レンズの焦点は、一般に、液晶セル内部に配置されたカラーフィルターに合わせられているが、液晶セルに密接していることから、結果的に、偏光板も拡大レンズ系の焦点深度内に入ってしまうことが多い。すると、偏光板にゴミ等の異物が付着していると、拡大レンズ系の焦点深度内にこの異物までもが入ってしまうため、この異物の輪郭も投影されてしまい、表示品位の低下が顕著となってしまうのである。特に、偏光板は、偏光フィルムと透明保護層とを貼り合わせて製造することが一般的であるため、その製造時に偏光板内に異物が混入したり、また、液晶セルへの貼着時に、液晶セルと偏光板との界面に異物が混入するおそれがある。

近年、このような問題を解決するために、液晶セルの外部に十分の距離をおいて偏光板を配置する方法が新たに開示されている（例えば、特許文献１参照）。このように液晶セルから十分に離れた部位に偏光板を配置すれば、拡大レンズ系の焦点を液晶セルに合わせても、偏光板に焦点があうことはない。このために、偏光板の製造時に、その内部に異物が混入しても、前記異物が焦点深度に入ることはなく、表示品位に影響を与えることを防止できるのである。

特開平６−２５８６３７号公報

しかしながら、前記特許文献１に記載の形態とすると、次のような問題が生じてしまう。すなわち、偏光板自体は極めて剛性に劣り、それ単独で液晶セルから十分の距離をおいて配置することが困難なため、液晶セル基板の外部にさらにカバー部材を配置して、その上に偏光板を貼着することが必須となるのである。このため、製造工程が複雑となり、大型化、高コスト化、画面サイズの縮小化等の問題が生じるのである。

そこで、本発明は、液晶セル等の画像表示素子に直接積層することなく、各種画像表示装置に使用することができる偏光板、特にビューファインダーやプロジェクタへの使用に適した偏光板の提供である。

前記目的を達成するために、本発明の偏光板は、偏光フィルムを含む偏光板と、光透過率が８０％以上であり且つガラス転移温度が１００℃以上である樹脂フィルムとが積層された積層型偏光板である。

また、本発明は、偏光板と、光透過率が８０％以上であり且つガラス転移温度が１００
℃以上である樹脂フィルムとの積層体を形成する工程と、前記積層体の樹脂フィルム側にレーザーを照射することによって、前記積層体を切断して積層型偏光板とする工程とを含む、積層型偏光板の製造方法である。

このように、偏光板に、光透過率が８０％以上であり且つガラス転移温度が１００℃以上である樹脂フィルムとを積層すれば、透明性を維持した状態で、偏光板の強度を向上することができる。このような本発明の積層型偏光板であれば、例えば、液晶セルに直接貼り付けたり、前述のような透明カバー部材を装着することなく、液晶セルと偏光板との間に十分な距離を保った状態で、積層偏光板単独で、画像表示装置に装着することができる。したがって、本発明の積層型偏光板は、例えば、前述のような形態のビューファインダーやプロジェクタ等に極めて有用な偏光板と言える。

そして、本発明者らは、この積層型偏光板の製造方法についてもさらに以下の点を見出した。すなわち、偏光板は、通常、所望の大きさに切断されて用途に供されるが、特にビューファインダーやプロジェクタ等には比較的小さな偏光板が使用されることから、その切断には専らレーザー照射が採用されていた。しかしながら、偏光板をレーザーで切断すると、レーザーの熱により偏光板が劣化し、また、その切断面にささくれのような突起物が発生したり、前記切断面が隆起するという問題、さらに洗浄処理等によっても突起物除去が困難であるという問題があったのである。また、このような突起物が生じた偏光板は、製品の筐体に取り付ける際、前記突起物が内部に混入したり、隆起によって取り付け不良が発生する等の問題に発展していたのである。そこで、本発明者らは、新たに見出した偏光板と樹脂フィルムとの積層型偏光板について、その切断方法を鋭意研究した結果、レーザー照射による切断であっても、偏光板と樹脂フィルムとの積層体を、前記樹脂フィルム側にレーザーを照射した場合に限って、前述のような突起物や隆起の発生を防止できることを見出したのである。この製造方法によれば、レーザー照射によっても突起物等が発生しないため、製品の筐体に取り付ける際に、前記突起物の混入や取り付け不良等の問題も防止できるのである。

以下に、本発明の製造方法の一例について詳述する。

まず、偏光板と樹脂フィルムとを積層した積層体を作製する。前記偏光板は、特に制限されず、後述するような従来公知の偏光板が使用できる。

前記樹脂フィルムは、透過率が８０％以上であり、かつ、そのガラス転移温度が１００℃以上であれば特に制限されないが、透明性や耐衝撃性、耐熱性に優れるものが好ましく、例えば、後述する材料を用いて作製することができる。前記ガラス転移温度は、例えば、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製の粘弾性測定装置ARESを用いて、−３０℃から２００℃までの粘弾性測定の結果からｔａｎδのピーク値により決定できる。

前記樹脂フィルムの厚みは、特に制限されないが、例えば、０．０５ｍｍ〜１．５ｍｍであることが好ましい。

前記偏光板と前記樹脂フィルムの積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。また、接着剤により積層する場合、使用する接着剤も特に制限されず、従来公知のものを使用でき、その種類は、前記各構成物の材質等によって適宜決定できる。

つぎに、前述のようにして作製した積層体の樹脂フィルム側にレーザー照射することによって、シート状の積層体を切断する。これによって、本発明の積層型偏光板が作製できる。このような方法によって前述のような突起物や隆起の発生を防止できる理由としては、おそらく、熱の影響を受けやすい偏光板側にレーザーを照射するのではなく、耐熱性の高い樹脂フィルム側からからレーザー照射することで、偏光板の劣化を抑制できるためと推測される。特に偏光板の吸収軸方向に沿って突起物が発生し易いという現象が見られるが、これは吸収軸方向の延伸倍率が垂直方向と比べて高いからであると推測される。

前記積層体の切断方法を、図面を用いて説明する。図１は、本発明の積層型偏光板の製造方法の一例を示す断面図である。図１に示すように、接着剤層１２を介して偏光板１３と樹脂フィルム１１とが積層された積層体に対して、その樹脂フィルム１１側、すなわち、図中の矢印１０方向からレーザーを照射すればよい。

前記レーザーとしては、例えば、ＣＯ₂レーザー、ＹＡＧレーザー、ＵＶレーザー等があげられ、この中でも、厚さ範囲に適用性が高く、割れならびに印欠けが起こらないという点からＣＯ₂レーザーが好ましい。前記レーザー照射において、出力および速度は制限されず、一回の照射で切断しても、複数の照射で切断してもよい。前記レーザー照射の出力は、例えば、１０Ｗ〜８００Ｗであって、１回の照射で切断する場合、１００Ｗ〜３５０Ｗが好ましく、２回の照射で切断する場合には、例えば、５０Ｗ〜２００Ｗが好ましい。

前記積層体から切り出す積層型偏光板の形状は特に制限されないが、一般に四角形であり、積層体中の偏光板における吸収軸方向と垂直軸方向（偏光軸と垂直方向）とに切り出しを行えばよい。具体的には、３６０ｍｍ×２８０ｍｍのシート状積層体から、例えば、製品サイズが１０ｍｍ×１１ｍｍの積層型偏光板（ビューファインダー用）を少なくとも３００個得ることができる。

また、前記積層体を粘着剤を介して表面保護シート上に接着して、レーザー照射を行えば、最終的に、一枚の表面保護シート上に、切断された積層型偏光板が複数点着されたシートを提供できる。このような形態であれば、一枚のシートで、複数の積層型偏光板を持ち運び、保存等可能であるため、流通過程において有用である。

このように一枚のシートに複数の積層型偏光板を貼着する方法としては以下の方法があげられる。まず、表面保護シートに粘着剤を介して前記積層体を貼着してから、前記積層体における偏光板の吸収軸または垂直軸のいずれか一方のみ、すなわち横方向または縦方向のいずれかのみを、前記樹脂フィルム側からレーザー照射によって切断する。そして、前記表面保護シートを剥離してから、再度、新たな表面保護シートを前記積層体に粘着剤を介して積層し、次は、切断していない他の軸方向にレーザー照射を行う。これによって、前記積層体は、吸収軸および垂直軸がともに切断された状態となるが、新たに貼り直した表面保護シートは、一方の軸方向が切断されているのみであるため、切断された積層型偏光板は、ばらばらになることなく、前記表面保護シート上に貼着されるのである。なお、表面保護シートは、前記積層体のいずれか一方の面に貼着してもよいし、両面に貼着してもよい。

図２に、本発明の積層型偏光板を、前述のように表面保護シート上に複数個配置した例の平面図を示す。図示のように、表面保護シート２２上に、偏光軸方向と吸収軸方向とに切り出した積層型偏光板２１が等間隔に配置されている。図中の矢印Ｂは偏光板の吸収軸方向を、矢印Ａは面内において吸収軸と垂直な軸方向（垂直軸方向）をそれぞれ示し、両者は直交している。

本発明の積層型偏光板は、例えば、例えば、レーザー照射時に発生するガスによって表面や切断面が汚染された場合、使用前に、洗浄処理を施すことが好ましい。前記洗浄方法としては、特に制限されず、例えば、アルコールなどの溶剤を含浸させたガス汚染除去用の埃の出難い布等でふき取ってもよい。また、いずれか一方の表面保護シートを剥離し、洗浄後貼り換え、再度逆面を剥離、洗浄して、再度貼り換えてもよい。

図２に示すような形態の場合、積層型偏光板間のピッチは特に制限されないが、例えば、吸収軸方向に沿ったピッチを大きくすることが好ましい。これは、吸収軸方向Ｂの切断面（図２においてｂ）の洗浄が容易に行えるからである。すなわち、偏光板の吸収軸方向Ｂは偏光子（偏光フィルム）の延伸方向に相当し、一般に、垂直軸方向と比較して熱に弱い方向である。このため、積層型偏光板の切断面ｂに、突起物が発生する可能性がある。したがって、このように吸収軸方向に沿ったピッチを大きくしておけば、ピッチ間に洗浄溶剤を流し易く、洗浄処理を効率よく行えるからである。前記偏光板の吸収軸方向（矢印Ａ）のピッチ間隔は、例えば、０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下であることが好ましい。

つぎに、本発明の製造方法において、偏光板としては従来公知のものが使用でき、一般に、偏光子（偏光フィルム）の片面または両面に透明保護層が配置されたものがあげられる。前記偏光子としては特に制限されず、従来公知の偏光フィルムが使用できる。具体的には、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、５〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。

前記透明保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチル（メタ）アクリレートのアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリルニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニルポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルフォン系ポリマー、ポリエーテルスルフォン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、前記各種ポリマーのブレンド物等があげられる。中でもセルロース系ポリマーが好ましい。透明保護フィルムの厚さは特に限定はないが、一般的に５００μｍ以下であり、１〜３００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。

前記偏光子と透明保護層との接着は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系プロエステル等が使用できる。

前記偏光板の表面には、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、拡散処理、アンチグレア処理、反射防止つきアンチグレア処理、帯電防止処理、汚染防止処理等の種々の処理を目的に応じて施してもよい。

前記ハードコート処理は、偏光板表面の傷つき防止などを目的とし、例えば、アクリル系、シリコーン系等の紫外線硬化型樹脂により、硬度やすべり特性に優れる硬化皮膜をフィルムの表面に形成する方法によって行うことができる。前記反射防止処理は、光学フィルム表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止膜（物理光学薄膜、塗工薄膜）等の形成により行うことができる。

また、アンチグレア処理は、光学フィルム表面で外光が反射して偏光板透過光の視認性を阻害することの防止等を目的とする。例えば、サンドブラスト方式、エンボス加工方式等によるフィルムの疎面化や、フィルム形成材料に透明微粒子を配合する成膜方法等によって、フィルム表面へ微細凹凸構造を付与すればよい。前記表面微細凹凸の形成に含有させる微粒子としては、平均粒径が、例えば、０．５〜５０μｍであり、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の有機系材料から構成された透明微粒子等が使用できる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、樹脂１００重量部に対して、一般的に２〜５０重量部程度であり、好ましくは５〜２５重量部である。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視覚などを拡大するための拡散層（視覚拡大機能など）を兼ねるものであっても良い。

前記偏光子と透明保護層との積層方法は特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができ、例えば、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系接着剤、水系ポリエステル等が使用できる。これらの種類は、前記偏光子や透明保護層の材質等によって適宜決定できる。

つぎに、本発明の製造方法において使用できる樹脂フィルムとしては、前述のように透明性や耐衝撃性、耐熱性に優れるものが好ましく、例えば、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリノルボルネン系樹脂（例えば、商品名アートン（ＡＲＴＯＮ）樹脂；ＪＳＲ社製）、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂等があげられ、この中でも、エポキシ樹脂が好ましい。これらは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。

前記エポキシ樹脂としては、得られる樹脂シートの柔軟性や強度等の物性などの点より、エポキシ当量１００〜１０００、軟化点１２０℃以下であることが好ましい。さらに塗工性やシート状への展開性等に優れるエポキシ樹脂含有液を得ること等より、例えば、塗工時の温度以下、特に常温において液体状態を示す二液混合型のものを使用することが好ましい。

前記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、それらに水を添加したビスフェノール型；フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型；トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型等の含窒素環型；脂環式型；脂肪族型；ナフタレン型等の芳香族型；グリシジルエーテル型、ビフェニル型等の低吸水率タイプ；ジシクロ型、エステル型、エーテルエステル型や、これらの変性型等があげられる。この中でも、変色防止性などの点より、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型が好ましく、特に、脂環式エポキシ樹脂が好ましい。これらは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。

また、前記エポキシ樹脂は、光学的等方性に優れることから、位相差が５ｎｍ以下であることが好ましく、特に好ましくは１ｎｍである。

またエポキシ樹脂に、さらに、硬化剤、硬化促進剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤や紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合してもよい。配合例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型等のエポキシ樹脂に、酸無水物硬化剤とリン系硬化触媒とを配合して硬化することで使用することができる。

前記硬化剤は、特に制限されず、使用するエポキシ樹脂種類に応じて適宜決定できる。具体例としては、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸等の有機酸系化合物類；エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンやそれらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホン等のアミン系化合物類；ジシアンジアミドやポリアミド等のアミド系化合物類；ジヒドラジット等のヒドラジド系化合物類；メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾールや２−フェニル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物類；メチルイミダゾリン、２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、ヘプタデシルイミダゾリンや２−フェニル−４−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン系化合物；フェノール系化合物；ユリア系化合物類；ポリスルフィド系化合物類；酸無水物系化合物類等があげられる。これらは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、この中でも、変色防止に優れることから、酸無水物系化合物類を使用することが好ましい。

前記酸無水物系化合物類としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、クロレンディック酸無水物、トリヒドロキシエチルイソシアヌレート酸無水物等があげられる。この中でも、無色ないし淡黄色で、分子量が約１４０〜約２００のものが好ましく、具体例としては、トリヒドロキシエチルイソシアヌレート変性された無水フタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物等があげられる。

前記エポキシ系樹脂と硬化剤との配合割合は、例えば、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を０．５〜１．５当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．２当量である。このような範囲であれば、硬化後において、より優れた色相や耐湿性を示す。なお、他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使用する場合にも、その配合比率は前記の当量比に準じる。

前記硬化促進剤としては、例えば、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類等があげられ、この中でも、特に第三級アミン類、イミダゾール類やリン化合物類が好ましい。これらは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。

前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ樹脂１００重量部に対して０．０５〜７．０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜４．０重量部である。このような範囲であれば、十分な硬化促進効果を得ることができ、かつ、変色も十分に防止できる。

前記老化防止剤は特に制限されず、従来公知の物を使用でき、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等があげられる。

前記変性剤は特に制限されず、従来公知の物を使用でき、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類等があげられる。

前記エポキシ樹脂に、さらに、界面活性剤を添加してもよい。前記界面活性剤を添加することで、流延法により、空気に触れながらエポキシ樹脂シートを成形する際に、シートの表面をより平滑することができる。前記界面活性剤は、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等があげられ、特にシリコーン系が好ましい。

前記樹脂フィルムの作製方法は特に制限されず、従来公知の方法で作製することができ、例えば、キャスティング法、流延法、射出法、押し出成型、ロール塗工法等があげられる。

また、前記樹脂フィルムに、さらに、例えば、ガスバリアー層、ハードコート層等を形成してもよい。これらの層の形成材料、形成方法ならびにその厚みは特に制限されない。前記形成材料の例としては、ガスバリアー層としてはポリビニルアルコールやその部分ケン化物が好ましく、ハードコート層としては熱硬化型または放射線硬化型（例えば、ＵＶ、ＥＢ等）の３次元架橋型アクリル系エポキシ樹脂が好ましい。

本発明において使用できる接着剤としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、ゴム系接着剤等があげられる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。前記接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。この中でも、透明性や耐久性の点より、アクリル系接着剤がもっとも好ましく用いられる。なお、接着剤は、例えば、熱架橋タイプ、光（紫外線、電子線）架橋タイプ等、その種類には限定されない。

前記アクリル系接着剤は、透明性および前記の動的貯蔵弾性率を有するアクリル系重合体を主剤とし、必要応じて、適宜添加剤を加えたものであってもよく、無機フィラーなどで複合化したものでも良い。前記アクリル系重合体は(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、下塗り層を介して、偏光板の保護フィルムとの密着性を上げるために、ＯＨ基、ＣＯＯＨ基、アミノ基、アミド基、スルホン酸基、リン酸基などの極性基を有する上記主成分と共重合が可能な改質用単量体を加え、これらを常法により重合処理することにより得られるものであり、耐熱性の調整を目的として、必要により適宜架橋処理が施される。

前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が、例えば、１〜１８、好ましくは４〜１２である直鎖状または分岐状の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを使用する。具体例としては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）、アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等があげられ、これらは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。この(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能なモノエチレン不飽和単量体は、下塗り層を介して偏光板との密着性を上げるために、下記の極性基を有する単量体を併用してもよい。

前記極性基を有する単量体としては、例えば、アクリル酸やメタクリル酸、カルボキシエチルアクリレートやカルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸やマレイン酸、フマール酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物モノマー；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の燐酸基含有モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）アミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等の（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレート系モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、２−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー等があげられる。

前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとモノエチレン性不飽和単量体とを共重合した場合、主成分となる(メタ)アクリル酸アルキルエステルの配合割合は、例えば、６０〜９５重量％、好ましくは８０〜９５重量％であり、モノエチレン性不飽和単量体の配合割合は、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと合わせて１００重量％となるように適宜設定すればよく、例えば、４０〜５重量％、好ましくは２０〜５重量％となるようにする。このような範囲で使用することにより、下塗り層を介して偏光板との密着性に優れ、衝撃力緩和特性の良好な割れ防止接着剤を得ることができる。

アクリル系重合体は、従来公知の手法を用いて調整することが出来る。例えば、上記主成分と極性基含有モノマー分の２種以上の各単量体との混合物を、溶液重合方式、乳化重合方式、塊状重合方式、懸濁重合方式等により調整することができる。なお、その際、必要に応じて重合開始剤を使用してもよく、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤等があげられる。

前記熱重合開始剤の例としては、過酸化ベンゾイル、ｔ-ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ-ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ-ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等の有機過酸化物；２,２'−アゾビスイソブチロニトリル、２,２'−アゾビス(２−メチルブチロニトリル)、１,１'−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、２,２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２,２'−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２,２'−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４,４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２,２'−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２,２'−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］等のアゾ系化合物等があげられる。

前記光重合開始剤としては、例えば、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパン−１等のアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン等のα−ケトール系化合物；ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物；２−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物；１−フェノン−１，１−プロパンジオン−２−（ο−エトキシカルボニル）オキシム等の光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３,３'−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物等があげられる。

これらの重合開始剤の使用量は、単量体１００重量部あたり、例えば、０．００５〜５重量部の範囲内で、その種類に応じて適宜決定することができる。前記光重合開始剤を使用する場合、例えば、０．００５〜１重量部、特に０．０５〜０．５重量部であることが好ましい。このような範囲であれば、単量体と光重合開始剤との反応性に優れ、接着剤層と偏光板もしくは樹脂フィルムとの接着性に優れ、かつ色相にも優れる。熱重合開始剤を使用する場合、上記同様の理由により、例えば、０．０１〜５重量部、特に０．０５〜３重量部であることが好ましい。

前記重合反応を行うにあたり、前記重合開始剤とともに、交叉結合剤(内部架橋剤)として、分子内に(メタ)アクリロイル基を２個またはそれ以上有する多官能(メタ)アクリレートを必要により添加して、衝撃力緩和部材の凝集力などを高めてせん断強さを増加させてもよい。このような多官能(メタ)アクリレートには、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートなどがあげられる。

前記多官能（メタ）アクリレートの使用量は、単量体１００重両部あたり、例えば、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部の範囲内で、２官能の場合は多めに、３官能やそれ以上の多官能の場合は少なめにすることが好ましい。このような範囲とすることで、光重合後において優れた架橋度を示し、かつ接着剤層と偏光板もしくは樹脂フィルムとの接着性に優れる。

前記重合反応は、重合開始剤の種類に応じて、例えば、紫外線等の光重合法、熱重合法で行うことができる。粘着シートへの加工性や接着物性等の観点からすると、光重合法によるのが特に好ましい。光重合法としては、例えば、窒素ガスなどの不活性ガスで置換した酸素のない雰囲気中で行うか、または紫外線透過性フィルムによる被覆で空気と遮断した状態で行うことが好ましい。

光重合法において、紫外線は波長範囲が約１８０〜４６０ｎｍの電磁放射線であるが、これより長波長または短波長の電磁放射線であってもよい。紫外線源には、例えば、水銀アーク、炭素アーク、低圧水銀ランプ、中・高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ・ブッラクライトランプなどの照射装置を使用することができる。紫外線の強度としては、被照射体までの距離または電圧の調整により、適宜設定することができる。照射時間(生産性)との兼ね合いで、通常は０．５〜１０Ｊ／ｃｍ²の積算光量を用いるのが望ましい。さらに割れ防止接着剤の厚さが０．２ｍｍ以上の場合、その重合熱により接着剤がうねることがあり、光重合の際に冷却することで接着剤のうねりを抑制することができる。

前記接着剤には、さらに、必要により透明性の良好な可塑剤を１種または２種以上配合するようにしてもよい。その配合量は、前記の単量体（もしくは、その重合体）１００重量部あたり、例えば、５〜３００重量部であり、１０〜２００重量部が好ましい。

このような可塑剤としては、例えば、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジブチルベンジル、フタル酸ジオクチル、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸系化合物、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジブトキシエチル等のアジピン酸系化合物、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル等のセバシン酸系化合物、リン酸トリエチレン、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリキシレニル、リン酸クレジルフェニル等のリン酸化合物、ジオクチルセバケート、メチルアセチルリシノレート等の脂肪酸系化合物、ジイソデシル−４，５−エポキシテトラヒドロフタレート等のエポキシ系化合物、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、トリメリット酸トリｎ−オクチル、トリメリット酸トリイソデシル等のトリメリット酸系化合物、その他オレイン酸ブチル、塩素化パラフィン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、またはポリブテン、ポリイソブチレン等のポリオキシアルキレングリコールがあげられる。

さらに接着剤には、透明性を損なわない範囲で必要に応じて、例えば近赤外線（８００−１１００ｎｍ）またはネオン光（５７０−５９０ｎｍ）の吸収特性を有する顔料、染料等の色素、粘着付与剤、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、天然物、合成物の樹脂類、アクリル系のオリゴマー、ガラス繊維、ガラスビーズなどの、適宜な添加剤を配合してもよい。また微粒子を含有させて光拡散性を示す接着剤としてもよい。

本発明の製造方法において、表面保護シートは、例えば、機械的強度に優れ、耐熱性に優れる樹脂を含むシートが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチル（メタ）アクリレートのアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリルニトリル・ストレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーが挙げられる。また、ポリエチレン・ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン．エチレン、プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニルポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルフォン系ポリマー、ポリエーテルスルフォン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーのブレンド物等もあげられる。中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系が好ましい。

つぎに、本発明の積層型偏光板を、例えば、液晶表示装置等に使用した例を説明する。

本発明の液晶表示装置は、液晶セルと偏光板とを含む液晶表示装置であって、前記偏光板が、本発明の積層型偏光板であり、前記積層型偏光板が前記液晶セルから離間した状態で配置されていることが好ましい。また、前記積層型偏光板と液晶セルとの間が、空隙であることが好ましい。

図３の断面図に、本発明の液晶表示装置の一例を示す。図示のように、液晶セル３１と本発明の積層型偏光板３２とを含み、前記液晶セル３１と前記偏光板３２とが離間した状態であって、前記偏光板３２は、偏光板３０３と樹脂フィルム３０２とを含む。図中の矢印３００は、接眼方向を示す。

液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック（ＴＮ）型やスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の光学フィルムは、特にＴＮセル、ＶＡ（Vertical Alignment）セル、ＯＣＢ（Optically Aligned Birefringence）セルが光学補償に非常に優れているので、これらの液晶セルを備える液晶表示装置に非常に有用である。

また、前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板、プラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料があげられる。

なお、本発明の積層型偏光板は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、ＰＤＰ、ＦＥＤ等の自発光型表示装置にも使用できる。

以下、実施例および比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、積層型偏光板の特性は以下の方法で評価した。

（切断面の隆起の測定）
１０ｍｍ×１１ｍｍの積層型偏光板について、中央部と切断面付近の厚みをマイクロメーターで測定した。

（切断面の突起物の測定）
レーザー顕微鏡または光学顕微鏡を使用して、積層型偏光板の吸収軸に沿った切断面（図２においてｂ）に発生した突起物の長さを測定した。

（積層型偏光板の切断面のうねりの測定）
レーザー顕微鏡を用いて、積層型偏光板における吸収軸に沿った切断面（図２においてｂ）付近の厚みを測定し、以下の式を用いて前記切断面のうねりを算出した。
（切断面のうねり）＝（切断面の厚みの最大値）−（切断面の厚みの最小値）

（実施例１）
（偏光板作製）
まず、ポリビニルアルコールフィルム（厚み８０μｍ）をヨウ素水溶液中で５倍に延伸し、乾燥させて偏光子を作製した。ついで、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）の片面に、反射率が１％以下のＵＶウレタンハードコート層と、物理光学薄膜（ＡＲ層）とをこの順序で形成した。そして、この処理済のＴＡＣフィルムを前記偏光子の片面に、未処理のＴＡＣフィルムを前記偏光子の他方の面に、それぞれ接着剤を介して積層し、偏光板を調製した（厚み１９５μｍ、光透過率４５％）。

（樹脂フィルム作製）
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート１００重量部に、硬化剤としてメチルテトラヒドロ無水フタル酸１２０重量部、硬化促進剤としてテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムＯ，Ｏ−ジエチルホスホロジチオエート２重量部をそれそれ添加して攪拌混合し、流延法を用いてプレフィルム（厚み６００μｍ）を形成した。さらに、前記プレフィルムを１８０℃で３０分間熱硬化させて、エポキシフィルムを作製した（厚み７００μｍ、３８０ｍｍ×２８０ｍｍ）。ついで、前記エポキシフィルムの片面にアクリルウレタンＵＶ樹脂を塗工し、保護層（厚み３μｍ）を形成することによって、樹脂フィルムを得た。この樹脂フィルムの光透過率は、９１．７％であり、ガラス転移温度は、１８０℃であった。

（粘着剤作製）
ブチルアクリレート１００重量部と、アクリル酸５．０重量部と、２−ヒドロキシエチルアクリレート０．０７５重量部と、アゾビスイソニトリル０．３重量部と、酢酸エチル２５０重量部とを混合し、攪拌しながら約６０℃で６時間反応させて、重量平均分子量１６３万のアクリル系ポリマー溶液を得た。前記アクリル系ポリマー溶液に、そのポリマー固形分１００重量部に対して、イソシアネート系多官能性化合物（商品名コロネートＬ；日本ポリウレタン工業製）０．６重量部と、シランカップリング剤（商品名ＫＢＭ４０３；信越化学製）０．０８重量部とを添加して、粘着剤溶液を調製した。なお、得られた粘着剤溶液の９０°ピール剥離強さは、１０Ｎ／２５ｍｍであった。

（表面保護シート作製）
ＰＥＴフィルム（厚み５０μｍ）上に前記粘着剤を厚み１０μｍになるように塗工して乾燥させ、表面保護シートを得た。

（積層型偏光板作製）
前記偏光板の未処理ＴＡＣフィルム側を、前記粘着剤（厚み２３μｍ）を介して前記樹脂フィルムのエポキシフィルム側と貼り合せた。この積層体の両面に前記表面保護シートを前記粘着剤により貼り合せた。

（切断方法）
精密加工ＣＯ₂レーザー（商品名ＳＩＬＡＳ−ＳＡＭ（ＳＰＬ２３０５型）；澁谷工業製）を使用して、出力１９０Ｗ、搬送速度２５０ｍｍ／ｓ、空気アシストガス圧０．１ＭＰａの条件で、前記積層体の樹脂フィルム側からレーザーを照射し、吸収軸方向にそって切断した。まずは、吸収軸側を切断した。さらに、前記積層体の両面に貼り付けた表面保護シートを剥離し、新たな表面保護シートを前記積層体の両面に再度貼り付けた。そして、前記積層体の樹脂フィルム側から、垂直軸方向を同様の条件で切断した。これによって、前記表面保護シートに碁盤目状に貼り付けられた、１０×１１ｍｍの積層型偏光板が複数（３００個）得られた。なお、積層型偏光板間のピッチは、吸収軸方向を０．１ｍｍであり、垂直軸方向を約０．１ｍｍとした。

（洗浄方法）
続いて、積層型偏光板に貼着した表面保護シートのうち、前記樹脂フィルム側の表面保護シートを剥離した後、エタノールを含有させたアンチコン布で前記樹脂フィルム表面をふき取り、前記表面に、再度、表面保護シートを貼り合わせた。ついで、積層型偏光板の偏光板側の表面保護シートを剥離し、同様にエタノールによる洗浄を行った。

（実施例２）
以下の条件以外は、前記実施例１と同様にして積層型偏光板を作製した。ＣＯ₂レーザー（商品名ＬＣ−１００Ａ；ローランド社製）を用いて、まず、吸収軸方向を、出力２５Ｗ、搬送速度１００ｍｍ／ｓの条件で、４回レーザー照射を施した（ピッチ間隔１ｍｍ）。ついで、垂直軸方向を、出力２５Ｗ、搬送速度６０ｍｍ／ｓの条件で、２回レーザー照射した（ピッチ間隔０．１ｍｍ）。

（比較例１）
積層体の偏光板側にレーザー照射を行った以外は、実施例１と同様にして積層型偏光板を作製した。

（比較例２）
積層体の偏光板側にレーザー照射を行った以外は、実施例２と同様にして積層型偏光板を作製した。

前記実施例および比較例で得られた積層型偏光板の切断面の隆起および突起物の長さ、ならびに切断面のうねりを測定した。その結果を、下記表１に示す。

表１に示すように、実施例１は対応する比較例１に比べて、また、実施例２は対応する比較例２に比べて、隆起、突起部の長さ、うねりが全て抑制された結果となった。

本発明の製造方法によれば、レーザー照射によっても、切断面における突起物の発生を抑制でき、また、十分な強度を有する本発明の積層型偏光板を得ることができる。このため、本発明の積層型偏光板は、画像表示装置に有用であり、特に、液晶セル等の画像表示セルと距離をおいて偏光板を配置することが好ましいビューファインダーやプロジェクタに適している。

本発明の積層型偏光板の製造方法の一例において、偏光板と樹脂フィルムとの積層体にレーザー照射を行う概略を示す断面図である。 本発明の積層型偏光板の一例を示す平面図である。 本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。

符号の説明

１１ 樹脂フィルム
１２ 接着剤層
１３ 偏光板
１００ レーザー照射方向
２１ 積層型偏光板
２２ 表面保護シート
３１ 液晶セル
３２ 積層型偏光板
３０２ 樹脂フィルム
３０３ 偏光板
３００ 接眼方向
Ａ 垂直軸
Ｂ 吸収軸

Claims (6)

1. 偏光フィルムを含む偏光板と、樹脂フィルムとを含む積層型偏光板に、第１保護シートを粘着剤を介して積層して、第１保護シート付積層型偏光板を得る工程Ａと、
   工程Ａ後に、所定の一方向に沿って、レーザー照射により前記第１保護シート付積層型偏光板を切断する工程Ｂと、
   工程Ｂ後に、前記第１保護シート付積層型偏光板から前記第１保護シートを剥離して切断された積層型偏光板を得る工程Ｃと、
   工程Ｃ後に、前記切断された積層型偏光板に、粘着剤を介して第２保護シートを積層して第２保護シート付積層型偏光板を得る工程Ｄと、
   工程Ｄ後に、前記所定の方向に対して交差する方向に沿って、レーザー照射により前記第２保護シート付積層型偏光板を切断する工程Ｅとを含み、
   前記所定の一方向と前記交差する方向とのなす角度が、略垂直であり、
   前記小型積層型偏光板が長方形状であり、
   前記所定の一方向が、前記長方形状の長さ方向または幅方向のいずれか一方の方向であって、前記交差する方向が、長さ方向または幅方向のいずれか他方の方向であり、
   前記小型積層型偏光板の長さ方向または幅方向のいずれか一方の方向が、前記小型積層型偏光板の吸収軸方向であり、
   工程Ｂにおける前記レーザー照射が、前記第１保護シート付積層型偏光板の前記樹脂フィルムの側に行われ、
   工程Ｅにおける前記レーザー照射が、前記第２保護シート付積層型偏光板の前記樹脂フィルムの側に行われる
   小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。
2. 前記レーザがＣＯ₂レーザーである請求項１に記載の小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。
3. 前記レーザー照射が、１００Ｗ〜３５０Ｗの出力で１回の照射で行われる請求項１または２に記載の小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。
4. 前記レーザー照射が、５０Ｗ〜２００Ｗの出力で２回の照射で行われる請求項１〜３のいずれかに記載の小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。
5. 前記樹脂フィルムのガラス転移温度が１００℃以上である請求項１〜４のいずれかに記載の小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。
6. 前記樹脂フィルムの光透過率が８０％以上である請求項１〜５のいずれかに記載の小型積層型偏光板が複数貼着されたシートの製造方法。

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