JP5080419B2 - 硬化性組成物 - Google Patents
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Description
(式中R1およびR2は同一または異なった炭素数1から20のアルキル基、炭素数6から20のアリール基、炭素数7から20のアラルキル基または(R’)3SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R1またはR2が二個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ここでR’は炭素数1から20の一価の炭化水素基であり3個のR’は同一であってもよく、異なっていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、Xが二個以上存在する時、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を、bは0、1、または2をそれぞれ示す。またm個の−Si(R1 2−b)(Xb)−O−基におけるbについて、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。mは0から19の整数を示す。但し、a+Σb≧1を満足するものとする)。また上記一般式(1)におけるR1、およびR2の具体例としては、例えばメチル基、エチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基、R’がメチル基やフェニル基等である(R’)3SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基などが挙げられる。R1、R2,R’としてはメチル基が特に好ましい。
−Si(R2 3−a)Xa (8)
(式中R2、X、aは上記一般式(1)で記載した基と同様のものである。)上記反応性ケイ素基はポリエーテル分子鎖の内部に側鎖として存在してもよく、末端に存在してもよいが、建築物のシーラント用途等には末端に存在するのが特に好ましい。反応性ケイ素基が内部に側鎖として存在すると、最終的に形成される硬化物に含まれるポリエーテルオリゴマー成分の有効網目鎖量が小さくなるため、高弾性率で低伸びを示すゴム状硬化物が得られやすくなる。一方、反応性ケイ素基が分子鎖の末端近傍に存在すると最終的に形成される硬化物に含まれるポリエーテルオリゴマー成分の有効網目鎖量が多くなるため、高強度、高伸びで低弾性率を示すゴム状硬化物が得られやすくなる。特に、反応性ケイ素基が分子鎖の末端に存在すると、最終的に形成される硬化物に含まれるポリエーテルオリゴマー成分の有効網目鎖量が最も大きくなるため、引張り物性として大きい伸び特性と柔軟性に富むゴム弾性を有することが望ましい建築物のシーラント用途等には特に好ましい。
H2C=C(R3)−R4−O−(2)
(式中R3は炭素数10以下の炭化水素基、R4は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)または一般式(3):
HC(R3)=CH−R4−O−(3)
(式中R3は炭素数10以下の炭化水素基、R4は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)で示される不飽和基を側鎖または末端に少なくとも1個含有し、主鎖がポリエーテルからなるポリエーテルオリゴマーと、(b)反応性ケイ素基含有化合物とを、(c)VIII族遷移金属触媒の存在下で反応させることにより得ることができる。
H2C=C(R3)−R4−X(6)
(式中R3は炭素数10以下の炭化水素基、R4は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基、Xはハロゲン)または一般式(7):
HC(R3)=CH−R4−X(7)
(式中R3は炭素数10以下の炭化水素基、R4は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基、Xはハロゲン)で示される有機ハロゲン化合物と反応させて末端に不飽和基を有するポリエーテルオリゴマーを製造する方法が挙げられる。
H−(Si(R1 2−b)(Xb)O)mSi(R2 3−a)Xa (9)
(式中R1、R2、X、a、b及びmは、上記一般式(1)で記載した基と同様のものである)具体的には、トリクロルシラン、メチルジクロルシラン、ジメチルクロルシラン、フェニルジクロルシラン、トリメチルシロキシメチルクロルシラン、1,1,3,3−テトラメチル−1−ブロモジシロキサンの如きハロゲン化シラン類;トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、トリメチルシロキシメチルメトキシシラン、トリメチルシロキシジエトキシシランの如きアルコキシシラン類;メチルジアセトキシシラン、フェニルジアセトキシシラン、トリアセトキシシラン、トリメチルシロキシメチルアセトキシシラン、トリメチルシロキシジアセトキシシランの如きアシロキシシラン類;ビス(ジメチルケトキシメート)メチルシラン、ビス(シクロヘキシルケトキシメート)メチルシラン、ビス(ジエチルケトキシメート)トリメチルシロキシシラン、ビス(メチルエチルケトキシメート)メチルシラン、トリス(アセトキシメート)シランの如きケトキシメートシラン類;メチルイソプロペニルオキシシランの如きアルケニルオキシシラン類などが挙げられる。これらの内、特にアルコキシシラン類が好ましく、アルコキシ基の中でもメトキシ基が特に好ましい。
CH2=C(R5)(COOR6)(10)
(式中R5は水素原子またはメチル基、R6は炭素数1から8のアルキル基を示す)
CH2=C(R5)(COOR7)(11)
(式中R5は前記に同じ。R7は炭素数10以上のアルキル基を示す)
前記一般式(10)のR6としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、2ーエチルヘキシル基などの炭素数1〜8、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜2のアルキル基を挙げることができる。なお一般式(10)で表されるモノマーは1種類でもよく、2種以上用いてもよい。
(合成例1)
ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキサイドの重合を行い、数平均分子量10,000の水酸基末端ポリエーテルオリゴマーを得た。続いてこの水酸基末端ポリエーテルオリゴマーの水酸基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、さらに3−クロロ−2−メチル−1−プロペンを添加して末端の水酸基をメタリル基に変換した。脱塩精製処理を実施した後に得られたオリゴマー500gに対し、酸化防止剤として2,6ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、共沸溶媒としてヘキサンを加えて90℃で共沸脱水を行った。ヘキサンを減圧下留去後、8%O2/N2で容器内を置換した。これに対して硫黄(1重量%のトルエン溶液)25μl、白金ジビニルジシロキサン錯体(白金換算で3重量%のキシレン溶液)56μlを加え、撹拌しながら、DMS(ジメトキシメチルシラン)24.2gをゆっくりと滴下した。90℃で5時間反応させた後、未反応のDMSを減圧下留去し反応性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン重合体を得た。得られた重合体の1H−NMR分析より、末端への反応性ケイ素基導入率は98%であることを確認した(ポリマーA)。
ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキサイドの重合を行い、数平均分子量10,000の水酸基末端ポリエーテルオリゴマーを得た。続いてこの水酸基末端ポリエーテルオリゴマーの水酸基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、さらに3−クロロ−1−プロペンを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。次に得られたオリゴマー2000gに対し、酸化防止剤として2,6ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、共沸溶媒としてヘキサンを加えて90℃で共沸脱水を行い、ヘキサンを減圧下留去した後、窒素置換した。これに対して塩化白金酸触媒(5重量%のイソプロパノール溶液)160μlを加え、撹拌しながら、DMS(ジメトキシメチルシラン)26.28gをゆっくりと滴下した。その混合溶液を90℃で2時間反応させた後、未反応のDMSを減圧下留去し反応性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン重合体を得た。得られた重合体の1H−NMR分析より、末端への反応性ケイ素基導入率は55%であることを確認した(ポリマーB)。
ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキサイドの重合を行い、数平均分子量10,000の水酸基末端ポリエーテルオリゴマーを得た。続いてこの水酸基末端ポリエーテルオリゴマーの水酸基に対して1.2倍当量のNaOMeのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、さらに3−クロロ−1−プロペンを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。次に得られたオリゴマー500gに対し、酸化防止剤として2,6ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、共沸溶媒としてヘキサンを加えて90℃で共沸脱水を行い、ヘキサンを減圧下留去した後、窒素置換した。これに対して塩化白金酸触媒(5重量%のイソプロパノール溶液)40μlを加え、撹拌しながら、DMS(ジメトキシメチルシラン)7.7gをゆっくりと滴下した。その混合溶液を90℃で2時間反応させた後、未反応のDMSを減圧下留去し反応性ケイ素基含有ポリオキシプロピレン重合体を得た。得られた重合体の1H−NMR分析より、末端への反応性ケイ素基導入率は62%であることを確認した(ポリマーC)。
(実施例2)ポリマーA40部に対し、表1の組成で硬化性組成物を作製した以外は実施例1と同様とした。
(実施例3)ポリマーA30部に対し、表1の組成で硬化性組成物を作製した以外は実施例1と同様とした。
(実施例4)ポリマーA40部に対し、表1の組成で硬化性組成物を作製した以外は実施例1と同様とした。
(比較例1)ポリマーB100部を用いた以外は実施例1と同様とした。
(比較例2)ポリマーC100部を用いた以外は実施例1と同様とした。
(2)残留タック硬化性組成物を軟膏缶(深さ4.5mm、直径46mm)に詰め、23℃、55%湿度下にて硬化させ、硬化性組成物表面のベタツキの程度を指触法にて評価した。評価は、(良)>◎、◎、○〜◎、○、○△、△、△×、×(悪)の8段階評価とした。
Claims (21)
- (I)分子鎖末端数に対する反応性ケイ素基の数が1H−NMR分析により95%以上である、分子鎖末端に反応性ケイ素基を有する、反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー100重量部、及び(II)可塑剤210〜450重量部を含有する硬化性組成物であって、
反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)が、(a)1分子中に一般式(2):
H2C=C(R3)−R4−O− (2)
(式中R3は炭素数10以下の炭化水素基、R4は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)で示される不飽和基を側鎖または末端に少なくとも1個含有し、主鎖がポリエーテルからなるポリエーテルオリゴマーと、(b)反応性ケイ素基含有化合物とを、(c)VIII族遷移金属触媒の存在下で反応させる方法により得られる硬化性組成物。 - 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーにおける、分子鎖末端数に対する反応性ケイ素基の数が1H−NMR分析により98%以上である請求項1記載の硬化性組成物。
- 硬化物は50%伸長時のモジュラスが0.05MPa≦M50≦0.30MPaのものである請求項1または2に記載の硬化性組成物。
- 反応性ケイ素基が一般式(1):
−(Si(R1 2−b)(Xb)O)mSi(R2 3−a)Xa (1)
(式中R1およびR2は同一または異なった炭素数1から20のアルキル基、炭素数6から20のアリール基、炭素数7から20のアラルキル基または(R’)3SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R1またはR2が二個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ここでR’は炭素数1から20の一価の炭化水素基であり3個のR’は同一であってもよく、異なっていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、Xが二個以上存在する時、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を、bは0、1、または2をそれぞれ示す。またm個の−Si(R1 2−b)(Xb)−O−基におけるbについて、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。mは0から19の整数を示す。但し、a+Σb≧1を満足するものとする)で表わされる化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 - 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)が複合金属シアン化物錯体触媒の存在下にアルキレンオキサイドを開環付加重合して得られるポリエーテルオリゴマーから誘導される請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)の主鎖が主にポリプロピレンオキサイドから形成されたものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- VIII族遷移金属触媒(c)が白金−ビニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 一般式(2)において、R3がCH3又はCH2CH3のいずれかであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 一般式(2)で表される不飽和基が一般式(4):
H2C=C(CH3)−CH2−O− (4)
で表されることを特徴とする請求項8に記載の硬化性組成物。 - 可塑剤(II)が、高分子可塑剤及び/又は高粘度可塑剤である請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- (I)分子鎖末端数に対する反応性ケイ素基の数が 1 H−NMR分析により95%以上である反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー100重量部、及び(II)可塑剤210〜450重量部を含有する硬化性組成物を使用することを特徴とする残留タックの低減方法であって、
反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)が、(a)1分子中に一般式(2):
H 2 C=C(R 3 )−R 4 −O− (2)
(式中R 3 は炭素数10以下の炭化水素基、R 4 は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)で示される不飽和基を側鎖または末端に少なくとも1個含有し、主鎖がポリエーテルからなるポリエーテルオリゴマーと、(b)反応性ケイ素基含有化合物とを、(c)VIII族遷移金属触媒の存在下で反応させる方法により得られる残留タックの低減方法。 - 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーにおける、分子鎖末端数に対する反応性ケイ素基の数が 1 H−NMR分析により98%以上である請求項11記載の残留タックの低減方法。
- 硬化物は50%伸長時のモジュラスが0.05MPa≦M50≦0.30MPaのものである請求項11または12に記載の残留タックの低減方法。
- 反応性ケイ素基は反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)の分子鎖末端に存在する請求項11〜13のいずれかに記載の残留タックの低減方法。
- 反応性ケイ素基が一般式(1):
−(Si(R 1 2−b )(X b )O) m Si(R 2 3−a )X a (1)
(式中R 1 およびR 2 は同一または異なった炭素数1から20のアルキル基、炭素数6から20のアリール基、炭素数7から20のアラルキル基または(R’) 3 SiO−で示されるトリオルガノシロキシ基を示し、R 1 またはR 2 が二個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ここでR’は炭素数1から20の一価の炭化水素基であり3個のR’は同一であってもよく、異なっていてもよい。Xは水酸基または加水分解性基を示し、Xが二個以上存在する時、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。aは0、1、2または3を、bは0、1、または2をそれぞれ示す。またm個の−Si(R 1 2−b )(X b )−O−基におけるbについて、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。mは0から19の整数を示す。但し、a+Σb≧1を満足するものとする)で表わされる化合物であることを特徴とする請求項11〜14のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。 - 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)が複合金属シアン化物錯体触媒の存在下にアルキレンオキサイドを開環付加重合して得られるポリエーテルオリゴマーから誘導される請求項11〜15のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。
- 反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマー(I)の主鎖が主にポリプロピレンオキサイドから形成されたものである請求項11〜16のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。
- VIII族遷移金属触媒(c)が白金−ビニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項11〜17のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。
- 一般式(2)において、R 3 がCH 3 又はCH 2 CH 3 のいずれかであることを特徴とする請求項11〜18のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。
- 一般式(2)で表される不飽和基が一般式(4):
H 2 C=C(CH 3 )−CH 2 −O− (4)
で表されることを特徴とする請求項19に記載の残留タックの低減方法。 - 可塑剤(II)が、高分子可塑剤及び/又は高粘度可塑剤である請求項11〜20のいずれか1項に記載の残留タックの低減方法。
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