JP5060039B2 - ポリチオールオリゴマーの製造方法 - Google Patents
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そこでDMMDと硫黄とをアミン触媒存在下で反応させ、ジスルフィド結合を有するポリチオールオリゴマーを製造する方法が特許文献1により開示されている。
しかしながら、特許文献1の製造過程においては硫化水素が発生するので、硫化水素の処理装置もしくは施設が必要となる。
また、硫化水素を発生させない方法として、DMMDをジメチルスルホキサイド、塩化第二鉄等の触媒存在下、空気で酸化して、DMMDオリゴマー混合物を得た後、DMMDオリゴマー混合物をポリイソシアネートと反応させてポリチオウレタンレンズを製造する方法が特許文献2及び3に提案されている。
しかしながら、特許文献2及び3に開示されている方法で得られるDMMDオリゴマー混合物は、反応条件(例えば、温度、湿度等)が微妙に変化しただけでも屈折率が1.665〜1.680と変化し、不安定であり、このような原料を用いて、一定の屈折率を有するポリチオウレタン材料を得ることは困難であり、上記公報において提案されているDMMDオリゴマー混合物は、光学材料用原料として、必ずしも実用的とはいえない。
また、過酸化水素を用いてポリチオールオリゴマー混合物を得る方法が非特許文献1に記載されているが、ポリチオール化合物を出発原料としてポリチオールオリゴマーを製造する方法を提案するものではない。
すなわち、本発明は、塩基性触媒存在下、ポリチオール化合物と過酸化水素とを反応させてポリチオールオリゴマーを製造する際に、溶媒として、水と、20℃における水100mlに対する溶解度が1g以上である有機溶媒とを用いるポリチオールオリゴマーの製造方法を提供するものである。
また、前記過酸化水素の量は、原料のポリチオール化合物1モルに対して、通常0.1〜0.95モルであり、好ましくは0.2〜0.7モルである。
この有機溶媒の使用量は、原料のポリチオール化合物1モルに対し、通常10〜5000mlであり、好ましくは50〜1000mlである。
また、溶媒としての水と前記有機溶媒の比は、容量比で通常20:1〜1:20であり、好ましくは10:1〜1:5である。
また、前記塩基性触媒の使用量は、原料のポリチオール化合物1モルに対して、通常0.001〜10.0モル%、好ましくは0.01〜1.0モル%である。
なお、過酸化水素を添加すると発熱が著しく、得られるポリチオールオリゴマーの分子量分布に影響を与えるため、添加開始から終了までの温度上昇を5℃以内に抑えることが好ましい。
また、過酸化水素の添加終了後、反応温度を2〜20℃上げた方が反応は速やかに完了する。メタノール等の水溶解度の高い有機溶媒を使用した場合は水層と有機層の分離が良くない場合には、濃縮により殆どの有機溶媒を除くと好ましい。
(a)屈折率(nD):京都電子MFG(株)製Refractometer RA-500Nを用いて、温度60℃で測定した。
(b)外観:肉眼により得られたポリチオールオリゴマーの透明性を観察した。
(c)分子量分布:GPC(東ソー(株)製TSK-GEL SUPER H1000、H2000、H3000、溶媒にクロロホルム、温度40℃、流速0.6ml/分、RI検出器)を用いてチャートのピーク面積により求めた。
200ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム1.6gをとり、純水21mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド27.3gとメタノール21mlとトルエン10mlを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素7.0gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、トルエン20mlを加え、15分撹拌した後、水洗した。無水硫酸マグネシウム乾燥した後、濃縮するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー26.9gが得られた。屈折率は1.6094(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
200ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム1.6gをとり、純水15mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド27.3gとメタノール10mlを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素5.3gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、トルエン20mlを加え、15分撹拌した後、水洗した。無水硫酸マグネシウム乾燥した後、濃縮するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー25.2gが得られた。屈折率は1.6012(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
200ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム1.6gをとり、純水20mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド27.2gとメタノール15mlを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素5.5gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、70℃に加熱し、この温度で静置し、下方を回収、水洗した。無水硫酸マグネシウムで乾燥するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー25.6gが得られた。屈折率は1.6024(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
300ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム3.2gをとり、純水40mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド54.5gとメタノール30mlを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素11.1gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、70℃に加熱し、この温度で静置し、下方を回収、水洗した。無水硫酸マグネシウムで乾燥するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー52.1gが得られた。屈折率は1.6028(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
500ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム16.0gをとり、純水200mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド272.4gとメタノール150mlを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素55.1gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、70℃に加熱し、この温度で静置し、下方を回収、水洗した。無水硫酸マグネシウムで乾燥するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー263.3gが得られた。屈折率は1.6030(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
200ml三つ口フラスコに炭酸水素ナトリウム1.6gをとり、純水43mlに溶解させ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド27.25gを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35重量%過酸化水素7.0gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、トルエン20mlを加え、15分撹拌した後、水洗した。無水硫酸マグネシウム乾燥した後、濃縮するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー27.0gが得られた。屈折率は1.5966(60℃)であった。分子量分布は表1に示す。表1に示すように、高分子量のオリゴマーの割合は少なかった。
200ml三つ口フラスコに純水43mlをいれ、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド27.25gを加えた。45℃に加熱し、50℃を超えないように発熱に注意しながら35%過酸化水素7.0gを滴下した。滴下終了後、55℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後、トルエン20mlを加え、15分撹拌した後、水洗した。無水硫酸マグネシウム乾燥した後、濃縮するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー27.0gが得られた。屈折率は1.5908(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。表1に示すように、得られたオリゴマーは単量体の割合が多く、屈折率が実施例1〜5と比べ低いものであった。
1Lフラスコに硫黄粉末16.035g、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド231.50gをとり、テトラヒドロフラン300mlに溶解させた。トリエチルアミン0.04gを滴下すると瞬時に黄変し、気泡が発生した。60℃で30分加熱した後、さらに窒素雰囲気下で30分加熱した。80℃で2時間加熱した後、100℃で2時間さらに加熱した。80℃で3時間真空脱気するとビス(2−メルカプトエチル)スルフィドオリゴマー227.05gが得られた。屈折率は1.6050(60℃)であった。得られたオリゴマーの分子量分布を表1に示す。
実施例3〜5においてポリチオール化合物、過酸化水素、塩基性触媒濃度等の比率を同じ条件において繰り返し実験を行ったが、最終的なオリゴマーの屈折率、分子量分布に大きな差がなかった。
Claims (7)
- 塩基性触媒存在下、ポリチオール化合物と過酸化水素とを反応させてポリチオールオリゴマーを製造する際に、溶媒として、水と、20℃における水100mlに対する溶解度が1g以上である、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、酢酸エチル、アセトン及び2−ブタノンから選ばれる少なくとも1種の有機溶媒とを用い、水と有機溶媒との比が容量比で20:1〜1:20であり、ポリチオール化合物がビス(メルカプトメチル)スルフィド又はビス(2−メルカプトエチル)スルフィドであるポリチオールオリゴマーの製造方法。
- 前記過酸化水素の用いる量が、前記ポリチオール化合物1モルに対して、0.1〜0.95モルである、請求項1に記載の製造方法。
- 前記溶媒として用いる水の量が、前記ポリチオール化合物1モルに対して、20〜5000mlである、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記過酸化水素を前記ポリチオール化合物へ添加する際、添加開始から終了までの添加温度の上昇が5℃以内である、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- さらに、溶媒としてジクロロメタン、クロロホルム、n−ヘキサン、シクロヘキサン及びトルエンから選ばれる少なくとも1種の他の有機溶媒を用いる、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記塩基性触媒が、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム及び炭酸水素アンモニウムから選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記ポリチオール化合物がビス(2−メルカプトエチル)スルフィドである、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
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