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JP5052942B2 - Coating device - Google Patents

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JP5052942B2
JP5052942B2 JP2007101024A JP2007101024A JP5052942B2 JP 5052942 B2 JP5052942 B2 JP 5052942B2 JP 2007101024 A JP2007101024 A JP 2007101024A JP 2007101024 A JP2007101024 A JP 2007101024A JP 5052942 B2 JP5052942 B2 JP 5052942B2
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Description

本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置に関する。   The present invention relates to a coating apparatus that applies a flowable material to a substrate.

従来より、半導体基板(以下、単に「基板」という。)上にレジスト液等の流動性材料を塗布する装置として、特許文献1および2に開示されているように、流動性材料を連続的に吐出するノズルを基板上で走査することにより、基板の主面全域に対して互いに接触する複数の平行線状に流動性材料を塗布する塗布装置が知られている。   Conventionally, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, as a device for applying a fluid material such as a resist solution on a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”), the fluid material is continuously applied. 2. Description of the Related Art A coating apparatus that coats a fluid material in a plurality of parallel lines that are in contact with each other over the entire main surface of a substrate by scanning a nozzle for discharging on the substrate is known.

このような塗布装置では、流動性材料の膜厚の均一性を向上するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献1では、レジスト塗布装置により塗布液が塗布された基板を、レジスト塗布装置とは別に設けられた溶剤雰囲気装置において塗布液の溶剤雰囲気に曝すことにより、溶剤を塗布液表面に付着させて塗布液表面の粘性を低下させ、その後、基板が収容されている容器内に気流を形成して当該気流により塗布液の表面を平坦化する技術が開示されている。特許文献1では、また、塗布液が塗布された基板が収容されている容器内を加圧することにより塗布液の揮発を抑制する技術も開示されている。   In such a coating apparatus, various techniques for improving the uniformity of the film thickness of the flowable material have been proposed. For example, in Patent Document 1, a substrate coated with a coating solution by a resist coating apparatus is exposed to the solvent atmosphere of the coating liquid in a solvent atmosphere apparatus provided separately from the resist coating apparatus, so that the solvent adheres to the surface of the coating liquid. A technique is disclosed in which the viscosity of the surface of the coating liquid is reduced, and then an airflow is formed in the container in which the substrate is accommodated, and the surface of the coating liquid is flattened by the airflow. Patent Document 1 also discloses a technique for suppressing volatilization of the coating liquid by pressurizing the inside of the container in which the substrate coated with the coating liquid is accommodated.

特許文献2の塗布成膜装置では、基板の上方2mm以内の位置に基板のほぼ全体を覆う乾燥防止板を設け、当該乾燥防止板に形成された直線状の隙間において、絶縁膜用の塗布液を吐出するノズルを基板に対して走査することにより、基板上に一様に塗布液が塗布される。これにより、基板と乾燥防止板との間に高濃度の溶剤雰囲気が形成され、基板に塗布された塗布液の乾燥が抑制される。また、特許文献2の塗布成膜装置では、溶剤をしみ込ませたスポンジ部材を乾燥防止板上に設け、スポンジ部材から蒸発する溶剤蒸気を乾燥防止板に形成された供給孔から基板と乾燥防止板との間に供給することにより、基板と乾燥防止板との間の溶剤濃度がより高くされる。
特開2003−17402号公報 特開2005−13787号公報
In the coating film forming apparatus of Patent Document 2, a drying prevention plate that covers almost the entire substrate is provided at a position within 2 mm above the substrate, and a coating liquid for an insulating film is formed in a linear gap formed on the drying prevention plate. By scanning a nozzle that discharges the substrate with respect to the substrate, the coating liquid is uniformly applied onto the substrate. Thereby, a high concentration solvent atmosphere is formed between the substrate and the drying prevention plate, and drying of the coating solution applied to the substrate is suppressed. Further, in the coating film forming apparatus of Patent Document 2, a sponge member soaked with a solvent is provided on a drying prevention plate, and solvent vapor evaporating from the sponge member is supplied from a supply hole formed in the drying prevention plate to the substrate and the drying prevention plate. , The solvent concentration between the substrate and the drying prevention plate is further increased.
JP 2003-17402 A Japanese Patent Laid-Open No. 2005-13787

ところで、流動性材料を吐出するノズルを走査することにより基板に流動性材料を塗布する塗布装置は、平面表示装置用の基板に対して画素形成材料を含む流動性材料を塗布する際にも利用されている。このような装置では、例えば、所定のピッチにて配列された複数のノズルの走査、および、走査方向に垂直な方向への基板のステップ移動が繰り返されることにより、基板上に形成された隔壁間の複数の溝に流動性材料がストライプ状に塗布される。   By the way, a coating apparatus that applies a fluid material to a substrate by scanning a nozzle that discharges the fluid material is also used when a fluid material including a pixel forming material is applied to a substrate for a flat display device. Has been. In such an apparatus, for example, scanning between a plurality of nozzles arranged at a predetermined pitch and step movement of the substrate in a direction perpendicular to the scanning direction are repeated, so that the partition walls formed on the substrate The flowable material is applied in stripes to the plurality of grooves.

基板上では、流動性材料の各ラインから溶媒成分が蒸発することにより、画素形成材料が基板上に定着して画素形成材料の膜が形成され、溶媒が蒸発するまでの間に、画素形成材料が流動性材料の各ライン内において十分に分散することにより、画素形成材料の膜厚が均一となる。   On the substrate, the solvent component evaporates from each line of the flowable material, so that the pixel forming material is fixed on the substrate and a film of the pixel forming material is formed. Is sufficiently dispersed in each line of the fluid material, so that the film thickness of the pixel forming material becomes uniform.

しかしながら、複数のノズルにより流動性材料を塗布する場合、基板のステップ移動方向の後側には流動性材料が塗布されていないため、複数のノズルのうち、ステップ移動方向に関して最も後側に位置するノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲では、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲に比べて雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなってしまう。   However, when the flowable material is applied by a plurality of nozzles, the flowable material is not applied to the rear side in the step movement direction of the substrate, and therefore, the plurality of nozzles are positioned at the rearmost side in the step movement direction. The concentration of the solvent component in the atmosphere is lower around the flowable material lines applied by the nozzles than the flowable material lines applied by the other nozzles.

このため、最も後側のノズルにより塗布された流動性材料のラインが、他のノズルにより塗布された流動性材料のラインよりも早く乾燥してしまい、基板上に形成される画素形成材料の膜厚が不均一となってしまう。その結果、基板全体としてみた場合に塗布ムラが発生してしまい、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。   For this reason, the line of the flowable material applied by the rearmost nozzle dries faster than the line of the flowable material applied by the other nozzle, and the pixel forming material film formed on the substrate. The thickness becomes non-uniform. As a result, when the substrate is viewed as a whole, coating unevenness occurs, and the display quality of the flat display device after the product is manufactured may be deteriorated.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to improve the uniformity of the drying rate of the flowable material discharged from a plurality of discharge ports.

請求項1に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面上の塗布領域に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側から相対移動方向後側に向かう前記基板の前記主面に略平行な気体の流れを前記吐出機構と前記基板との間に形成する気流形成部とを備える。   The invention described in claim 1 is a coating apparatus that applies a fluid material to a substrate, and is arranged at equal intervals with respect to a substrate holding portion that holds the substrate and a sub-scanning direction parallel to the main surface of the substrate. A discharge mechanism that discharges a flowable material from a plurality of discharge ports toward a coating region on the main surface of the substrate, and the discharge mechanism in a main scanning direction that is perpendicular to the sub-scanning direction and parallel to the main surface. A movement mechanism that moves relative to the substrate and moves the substrate relative to the ejection mechanism in the sub-scanning direction each time the movement in the main scanning direction is performed; and the sub-scanning An airflow forming unit that forms a gas flow substantially parallel to the main surface of the substrate from the front side relative to the relative movement direction of the substrate in the direction toward the rear side in the relative movement direction between the discharge mechanism and the substrate.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の塗布装置であって、前記気流形成部により、前記気体の流れが前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って形成される。   A second aspect of the present invention is the coating apparatus according to the first aspect, wherein the gas flow is formed over the entire length of the coating region in the main scanning direction by the air flow forming unit.

請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の塗布装置であって、前記気流形成部の前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されている。   A third aspect of the present invention is the coating apparatus according to the first or second aspect, wherein a relative position in the sub-scanning direction of the airflow forming unit with respect to the discharge mechanism is fixed.

請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、前記気体がエアである。   A fourth aspect of the present invention is the coating apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the gas is air.

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、前記気流形成部が前記気体を送出する送出口を備える。   A fifth aspect of the present invention is the coating apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the air flow forming unit includes a delivery port for sending out the gas.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の塗布装置であって、前記送出口が、前記吐出機構の前記複数の吐出口に対して前記基板の前記相対移動方向前側に配置され、前記送出口から前記気体が前記基板の前記主面に略平行に送出される。   Invention of Claim 6 is a coating device of Claim 5, Comprising: The said delivery port is arrange | positioned with respect to the said several discharge port of the said discharge mechanism in the said relative movement direction front side of the said board | substrate, The gas is delivered from the delivery port substantially parallel to the main surface of the substrate.

請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布装置であって、前記吐出機構へと向かう前記気体を加熱する気体加熱部をさらに備える。   A seventh aspect of the present invention is the coating apparatus according to any one of the first to sixth aspects, further comprising a gas heating unit that heats the gas toward the discharge mechanism.

請求項8に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板保持部が、前記基板を加熱する基板加熱部を備える。   The invention according to an eighth aspect is the coating apparatus according to any one of the first to seventh aspects, wherein the substrate holding unit includes a substrate heating unit that heats the substrate.

請求項9に記載の発明は、請求項1ないし8のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含む。   The invention described in claim 9 is the coating apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.

本発明では、複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上することができる。   In the present invention, it is possible to improve the uniformity of the drying rate of the fluid material discharged from the plurality of discharge ports.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る塗布装置1を示す平面図であり、図2は塗布装置1の正面図である。塗布装置1は、平面表示装置用のガラス基板9(以下、単に「基板9」という。)に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置1において、アクティブマトリックス駆動方式の有機EL(Electro Luminescence)表示装置用の基板9に、揮発性の溶媒(本実施の形態では、芳香族の有機溶媒の1つである4−メチルアニソール)および基板9上に付与される有機EL材料を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)が塗布される。   FIG. 1 is a plan view showing a coating apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus 1. The coating apparatus 1 is an apparatus that applies a flowable material including a pixel forming material for a flat display device to a glass substrate 9 for flat display devices (hereinafter simply referred to as “substrate 9”). In the present embodiment, in the coating apparatus 1, a substrate 9 for an organic EL (Electro Luminescence) display device of an active matrix driving system is applied to a volatile solvent (in this embodiment, one of aromatic organic solvents). A fluid material (hereinafter referred to as “organic EL liquid”) including an organic EL material applied to the substrate 9 and a certain 4-methylanisole) is applied.

塗布装置1は、図2に示すように、基板9を保持する基板保持部11を備え、図1および図2に示すように、基板保持部11を基板9の主面に平行な所定の方向(すなわち、図1中のY方向であり、以下、「副走査方向」という。)に水平移動するとともに垂直方向(すなわち、Z方向)に向く軸を中心として回転する基板移動機構12を備える。基板保持部11は、図2に示すように、基板9を下側から加熱する基板加熱部であるヒータ111を内部に備える。   As shown in FIG. 2, the coating apparatus 1 includes a substrate holding unit 11 that holds the substrate 9, and as shown in FIGS. 1 and 2, the substrate holding unit 11 is in a predetermined direction parallel to the main surface of the substrate 9. (Ie, the Y direction in FIG. 1, hereinafter referred to as “sub-scanning direction”) and a substrate moving mechanism 12 that rotates about an axis that is oriented in the vertical direction (that is, the Z direction). As shown in FIG. 2, the substrate holding unit 11 includes a heater 111 that is a substrate heating unit that heats the substrate 9 from below.

塗布装置1は、また、基板9上に形成されたアライメントマーク(図示省略)を撮像して検出するアライメントマーク検出部13、基板保持部11(図2参照)に保持された基板9の(+Z)側の主面90(以下、「上面90」という。)上の塗布領域91(図1中において破線で囲んで示す。)に向けて流動性材料を吐出する吐出機構である塗布ヘッド14、塗布ヘッド14を基板9の上面90に平行かつ副走査方向に垂直な方向(すなわち、図1中のX方向であり、以下、「主走査方向」という。)に水平移動するヘッド移動機構15、塗布ヘッド14の移動方向(すなわち、X方向)に関して基板保持部11の両側に設けられるとともに塗布ヘッド14からの有機EL液を受ける2つの受液部16、および、塗布ヘッド14に流動性材料を供給する流動性材料供給部18を備え、図1に示すように、これらの構成を制御する制御部2を備える。   The coating apparatus 1 also captures and detects an alignment mark (not shown) formed on the substrate 9 and detects (+ Z) of the substrate 9 held by the substrate holding unit 11 (see FIG. 2). ) Side main surface 90 (hereinafter referred to as “upper surface 90”), a coating head 14 that is a discharge mechanism that discharges a fluid material toward a coating region 91 (shown by being surrounded by a broken line in FIG. 1). A head moving mechanism 15 that horizontally moves the coating head 14 in a direction parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 and perpendicular to the sub-scanning direction (that is, the X direction in FIG. 1 and hereinafter referred to as “main scanning direction”); Two liquid receiving portions 16 that are provided on both sides of the substrate holding portion 11 with respect to the moving direction (that is, the X direction) of the coating head 14 and receive the organic EL liquid from the coating head 14, and a fluid material in the coating head 14 Comprising a flowable material supply section 18 supplies, as shown in FIG. 1, a control unit 2 for controlling these configurations.

図1および図2に示すように、塗布ヘッド14は、同一種類の有機EL液を連続的に吐出する複数(本実施の形態では、3本)のノズル17を備える。3本のノズル17は、X方向(すなわち、主走査方向)に略直線状に配列されるとともにY方向(すなわち、副走査方向)に僅かにずれて配置される。3本のノズル17の吐出口は副走査方向に関して等間隔にて配列されており、隣接する2本のノズル17の間の副走査方向に関する距離は、基板9の塗布領域91上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ(以下、「隔壁ピッチ」という。)の3倍に等しくされる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the coating head 14 includes a plurality of (three in the present embodiment) nozzles 17 that continuously discharge the same type of organic EL liquid. The three nozzles 17 are arranged substantially linearly in the X direction (that is, the main scanning direction) and are slightly shifted in the Y direction (that is, the sub scanning direction). The discharge ports of the three nozzles 17 are arranged at equal intervals in the sub-scanning direction, and the distance in the sub-scanning direction between the two adjacent nozzles 17 is formed in advance on the coating region 91 of the substrate 9. It is made equal to three times the pitch between the partition walls extending in the main scanning direction (hereinafter referred to as “partition wall pitch”).

基板9の塗布領域91に有機EL液が塗布される際には、3本のノズル17から隔壁間に形成される3つの溝部に有機EL液が吐出されて塗布される。塗布装置1により有機EL液が塗布される2つの溝部の間には、他の塗布装置等により他の種類の有機EL液が塗布される2つの溝部が挟まれている。   When the organic EL liquid is applied to the application region 91 of the substrate 9, the organic EL liquid is discharged and applied from the three nozzles 17 to the three grooves formed between the partition walls. Between the two groove portions to which the organic EL liquid is applied by the coating device 1, two groove portions to which another type of organic EL liquid is applied are sandwiched by another coating device or the like.

塗布装置1では、ヘッド移動機構15および基板移動機構12が、塗布ヘッド14を基板9に対して主走査方向に相対的に移動するとともに基板9を塗布ヘッド14に対して副走査方向に相対的に移動する移動機構となる。後述するように、塗布装置1では、基板9に対する有機EL液の塗布時に、基板9が基板保持部11と共に副走査方向において図1中の(−Y)側から(+Y)側に向けて移動する。すなわち、図1中の(+Y)側が副走査方向における基板9の相対移動方向前側となり、(−Y)側が副走査方向における基板9の相対移動方向後側となる。換言すれば、図1中の(+Y)側は、基板9の副走査方向における移動の下流側であり、(−Y)側が基板9の移動の上流側である。   In the coating apparatus 1, the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12 move the coating head 14 relative to the substrate 9 in the main scanning direction and the substrate 9 relative to the coating head 14 in the sub-scanning direction. It becomes a moving mechanism to move to. As will be described later, in the coating apparatus 1, when the organic EL liquid is applied to the substrate 9, the substrate 9 moves from the (−Y) side to the (+ Y) side in FIG. To do. That is, the (+ Y) side in FIG. 1 is the front side of the relative movement direction of the substrate 9 in the sub-scanning direction, and the (−Y) side is the rear side of the relative movement direction of the substrate 9 in the sub-scanning direction. In other words, the (+ Y) side in FIG. 1 is the downstream side of the movement of the substrate 9 in the sub-scanning direction, and the (−Y) side is the upstream side of the movement of the substrate 9.

図1および図2に示すように、塗布装置1は、塗布ヘッド14の複数のノズル17の吐出口の(+Y)側(すなわち、副走査方向における基板9の相対移動方向前側)において基板保持部11および基板移動機構12を跨いで配置されるとともに(−Y)側に向けて気体を送出することにより(+Y)側から(−Y)側に向かう気体の流れ(すなわち、副走査方向における基板9の相対移動方向前側から相対移動方向後側に向かう気流)を形成する気流形成部19をさらに備える。   As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 1 includes a substrate holding unit on the (+ Y) side of the discharge ports of the plurality of nozzles 17 of the coating head 14 (that is, on the front side in the relative scanning direction of the substrate 9 in the sub-scanning direction). 11 and the substrate moving mechanism 12 and a gas flow from the (+ Y) side to the (−Y) side by sending the gas toward the (−Y) side (that is, the substrate in the sub-scanning direction) 9 is further provided with an airflow forming unit 19 that forms an airflow from the front side of the relative movement direction 9 toward the rear side of the relative movement direction.

気流形成部19は、基板移動機構12およびヘッド移動機構15と共に図示省略の基台に固定されているため、気流形成部19の塗布ヘッド14に対する副走査方向の相対位置は固定されている。気流形成部19は、副走査方向において塗布ヘッド14の複数のノズル17に近接して配置されており、気流形成部19と複数のノズル17との間の副走査方向の距離は数cmとされる。また、気流形成部19は基板9の上側にて基板9の上面90に近接して配置される。   Since the airflow forming unit 19 is fixed to a base (not shown) together with the substrate moving mechanism 12 and the head moving mechanism 15, the relative position of the airflow forming unit 19 with respect to the coating head 14 in the sub-scanning direction is fixed. The airflow forming unit 19 is disposed in the vicinity of the plurality of nozzles 17 of the coating head 14 in the sub-scanning direction, and the distance in the sub-scanning direction between the airflow forming unit 19 and the plurality of nozzles 17 is several cm. The Further, the airflow forming unit 19 is disposed on the upper side of the substrate 9 and in proximity to the upper surface 90 of the substrate 9.

図3は、気流形成部19近傍を示す縦断面図である。図2および図3に示すように、気流形成部19は、塗布ヘッド14の複数のノズル17と対向する(−Y)側に気体を送出する送出口191を備え、送出口191は、主走査方向の全長が基板9の塗布領域91(図1参照)の主走査方向の全長よりも長いスリット状である。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing the vicinity of the airflow forming unit 19. As shown in FIGS. 2 and 3, the airflow forming unit 19 includes a delivery port 191 that delivers gas to the (−Y) side facing the plurality of nozzles 17 of the coating head 14, and the delivery port 191 is a main scan. The total length in the direction is a slit shape longer than the total length in the main scanning direction of the application region 91 (see FIG. 1) of the substrate 9.

塗布装置1では、気流形成部19が図示省略のコンプレッサに接続されており、コンプレッサから気流形成部19にエア(通常のエアよりも低湿度のドライエア)が供給されることにより、塗布ヘッド14の複数のノズル17に対して(+Y)側(すなわち、基板9の相対移動方向前側)に配置された送出口191から基板9の上面90に平行に(−Y)側に向かってエアが送出される。これにより、複数のノズル17の先端(すなわち、吐出口)と基板9との間に基板9の上面90に平行なエアの流れが形成される。気流形成部19では、送出口191が基板9の塗布領域91の主走査方向の全長に亘って設けられているため、上記エアの流れは、塗布領域91の主走査方向の全長に亘って形成される。   In the coating apparatus 1, the airflow forming unit 19 is connected to a compressor (not shown), and air (dry air having a humidity lower than that of normal air) is supplied from the compressor to the airflow forming unit 19. Air is sent out toward the (−Y) side in parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 from the delivery port 191 arranged on the (+ Y) side (that is, the front side in the relative movement direction of the substrate 9) with respect to the plurality of nozzles 17. The As a result, an air flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 is formed between the tips (that is, ejection ports) of the plurality of nozzles 17 and the substrate 9. In the airflow forming unit 19, the outlet 191 is provided over the entire length of the application region 91 of the substrate 9 in the main scanning direction, so that the air flow is formed over the entire length of the application region 91 in the main scanning direction. Is done.

気流形成部19により形成されるエアの流れの速度(すなわち、流速)は、ノズル17と基板9との間において、好ましくは、秒速0.15m以上0.35m以下(より好ましくは、秒速0.2m以上0.3m以下)とされ、本実施の形態では、秒速0.21mとされる。なお、気流形成部19により形成されるエアの流れは、基板9の上面90に略平行であれば上面90に対して僅かに傾いていてもよい。   The speed of the air flow formed by the airflow forming unit 19 (that is, the flow velocity) is preferably 0.15 m or more and 0.35 m or less per second (more preferably, 0.1. 2 m or more and 0.3 m or less), and in this embodiment, the speed is 0.21 m / s. Note that the air flow formed by the airflow forming unit 19 may be slightly inclined with respect to the upper surface 90 as long as it is substantially parallel to the upper surface 90 of the substrate 9.

次に、塗布装置1による有機EL液の塗布について説明する。図4は、有機EL液の塗布の流れを示す図である。塗布装置1により有機EL液の塗布が行われる際には、まず、基板9が基板保持部11に載置されて保持され、アライメントマーク検出部13からの出力に基づいて基板移動機構12が駆動されて基板9が移動および回転し、図1中に実線にて示す塗布開始位置に位置する(ステップS11)。換言すれば、塗布ヘッド14が、基板9に対する副走査方向における相対移動の開始端に位置する。また、塗布ヘッド14は、主走査方向において、図1および図2中に実線にて示す待機位置(すなわち、図1中の(−X)側の受液部16の上方)に予め位置している。   Next, application of the organic EL liquid by the application apparatus 1 will be described. FIG. 4 is a diagram showing a flow of application of the organic EL liquid. When the organic EL liquid is applied by the coating apparatus 1, first, the substrate 9 is placed and held on the substrate holding unit 11, and the substrate moving mechanism 12 is driven based on the output from the alignment mark detection unit 13. Then, the substrate 9 moves and rotates, and is positioned at the application start position indicated by the solid line in FIG. 1 (step S11). In other words, the coating head 14 is located at the start end of relative movement in the sub-scanning direction with respect to the substrate 9. Further, the application head 14 is previously positioned in a standby position indicated by a solid line in FIGS. 1 and 2 (that is, above the (−X) side liquid receiving part 16 in FIG. 1) in the main scanning direction. Yes.

続いて、制御部2により気流形成部19が制御されて送出口191からのエアの送出が開始され、基板9上に上面90に平行なエアの流れが形成される(ステップS12)。次に、制御部2により塗布ヘッド14が制御されて3本のノズル17から有機EL液の吐出が開始され(ステップS13)、さらに、ヘッド移動機構15が制御されて塗布ヘッド14の主走査方向の移動(すなわち、図1中の(−X)側から(+X)側への移動)が開始される。   Subsequently, the air flow forming unit 19 is controlled by the control unit 2 to start sending air from the delivery port 191, and an air flow parallel to the upper surface 90 is formed on the substrate 9 (step S12). Next, the coating head 14 is controlled by the control unit 2 to start discharging the organic EL liquid from the three nozzles 17 (step S13). Further, the head moving mechanism 15 is controlled to control the coating head 14 in the main scanning direction. Movement (that is, movement from the (−X) side in FIG. 1 to the (+ X) side) is started.

塗布装置1では、塗布ヘッド14の主走査方向への相対移動時に、ノズル17から有機EL液を基板9に向けて連続的に吐出することにより、基板9の塗布領域91の3本の溝に有機EL液がストライプ状に塗布される(ステップS14)。なお、図1中における塗布領域91の(+X)側および(−X)側の非塗布領域は図示省略のマスクにより覆われているため有機EL液は塗布されない。   In the coating apparatus 1, when the coating head 14 is relatively moved in the main scanning direction, the organic EL liquid is continuously discharged from the nozzle 17 toward the substrate 9, thereby forming three grooves in the coating region 91 of the substrate 9. The organic EL liquid is applied in a stripe shape (step S14). In addition, since the non-application area | region of the (+ X) side and (-X) side of the application | coating area | region 91 in FIG.

塗布ヘッド14が図1および図2中に二点鎖線にて示す待機位置(すなわち、(+X)側の受液部16の上方)まで移動すると、基板移動機構12が駆動され、基板9が基板保持部11と共に(+Y)方向(すなわち、副走査方向)に隔壁ピッチの9倍に等しい距離だけ移動する(ステップS15)。このとき、塗布ヘッド14では、3本のノズル17から受液部16に向けて有機EL液が連続的に吐出されている。   When the coating head 14 moves to the standby position indicated by a two-dot chain line in FIGS. 1 and 2 (that is, above the (+ X) side liquid receiver 16), the substrate moving mechanism 12 is driven, and the substrate 9 is moved to the substrate. The holding unit 11 moves in the (+ Y) direction (that is, the sub-scanning direction) by a distance equal to 9 times the partition wall pitch (step S15). At this time, in the coating head 14, the organic EL liquid is continuously discharged from the three nozzles 17 toward the liquid receiving unit 16.

塗布装置1では、有機EL液の溶媒として速乾性のものが利用されており、また、基板保持部11のヒータ111により基板9が加熱されているため、ノズル17により塗布領域91に塗布された有機EL液は、塗布された直後からステップS15における基板9の副走査方向への移動の間に迅速に乾燥し(すなわち、有機EL液から溶媒が蒸発し)、有機EL材料が半乾燥状態で基板9上に残置されて有機EL材料の膜が形成される。   In the coating apparatus 1, a quick-drying solvent is used as the solvent of the organic EL liquid, and the substrate 9 is heated by the heater 111 of the substrate holding unit 11, so that it is applied to the application region 91 by the nozzle 17. The organic EL liquid is quickly dried immediately after being applied and during the movement of the substrate 9 in the sub-scanning direction in step S15 (that is, the solvent is evaporated from the organic EL liquid), and the organic EL material is in a semi-dry state. A film of organic EL material is formed on the substrate 9.

副走査方向における基板9の移動が終了すると、基板9および基板保持部11が図1中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部2により確認される(ステップS16)。そして、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップS14に戻って塗布ヘッド14が3本のノズル17から有機EL液を吐出しつつ基板9の(+X)側から(−X)方向(すなわち、主走査方向)に移動することにより、基板9の塗布領域91の溝に有機EL液が塗布される(ステップS14)。その後、基板9が副走査方向に移動し、塗布終了位置まで移動したか否かの確認が行われる(ステップS15,S16)。   When the movement of the substrate 9 in the sub-scanning direction is completed, it is confirmed by the control unit 2 whether or not the substrate 9 and the substrate holding unit 11 have moved to the application end position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1 (step S16). ). If the application head 14 has not moved to the application end position, the process returns to step S14, and the application head 14 discharges the organic EL liquid from the three nozzles 17 while the (+ X) side of the substrate 9 is in the (−X) direction ( That is, the organic EL liquid is applied to the groove of the application region 91 of the substrate 9 by moving in the main scanning direction (step S14). Thereafter, it is confirmed whether or not the substrate 9 has moved in the sub-scanning direction and has moved to the coating end position (steps S15 and S16).

塗布装置1では、基板保持部11および基板9が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド14の主走査方向における移動、および、基板9の(+Y)側へのステップ移動が繰り返され(すなわち、塗布ヘッド14の基板9に対する主走査方向における相対移動が行われる毎に、基板9が塗布ヘッド14に対して副走査方向に相対的に移動され)、これにより、基板9の塗布領域91において、有機EL液が隔壁ピッチの3倍に等しいピッチにて配列されたストライプ状に塗布される(ステップS14〜S16)。塗布装置1では、副走査方向に関し、基板9上において有機EL液の塗布が進行する方向(すなわち、塗布ヘッド14の基板9に対する相対移動方向)は、基板移動機構12による基板9の移動方向とは反対向きとなっている。   In the coating apparatus 1, the movement of the coating head 14 in the main scanning direction and the step movement toward the (+ Y) side of the substrate 9 are repeated until the substrate holding unit 11 and the substrate 9 are positioned at the coating end position (that is, the substrate 9 is moved to the (+ Y) side). Each time the coating head 14 is moved relative to the substrate 9 in the main scanning direction, the substrate 9 is moved relative to the coating head 14 in the sub-scanning direction). The organic EL liquid is applied in stripes arranged at a pitch equal to three times the partition wall pitch (steps S14 to S16). In the coating apparatus 1, the direction in which the application of the organic EL liquid proceeds on the substrate 9 in the sub-scanning direction (that is, the relative movement direction of the coating head 14 with respect to the substrate 9) is the movement direction of the substrate 9 by the substrate moving mechanism 12. Is in the opposite direction.

そして、基板9が塗布終了位置まで移動すると、3本のノズル17からの有機EL液の吐出が停止され(ステップS17)、さらに、気流形成部19からのエアの送出が停止され(ステップS18)、塗布装置1による基板9に対する有機EL液の塗布が終了する。塗布装置1による塗布が終了した基板9は、他の塗布装置等へと搬送され、塗布装置1により塗布された有機EL液以外の他の2色の有機EL液が塗布される。なお、塗布装置1では、実際には複数の基板9に対して連続的に有機EL液の塗布が行われる。この場合、ステップS18において気流形成部19からのエアの送出が停止されることなく、複数の基板9に対する有機EL液の塗布が終了するまで、気流形成部19から連続的にエアが送出されてもよい。   When the substrate 9 moves to the application end position, the discharge of the organic EL liquid from the three nozzles 17 is stopped (step S17), and further, the air supply from the airflow forming unit 19 is stopped (step S18). Then, the application of the organic EL liquid to the substrate 9 by the coating apparatus 1 is completed. The substrate 9 that has been applied by the coating apparatus 1 is transported to another coating apparatus or the like, and two organic EL liquids other than the organic EL liquid applied by the coating apparatus 1 are applied. In the coating apparatus 1, the organic EL liquid is actually continuously applied to the plurality of substrates 9. In this case, air is continuously sent from the airflow forming unit 19 until the application of the organic EL liquid to the plurality of substrates 9 is completed without stopping the air sending from the airflow forming unit 19 in step S18. Also good.

以上に説明したように、塗布装置1では、塗布ヘッド14が主走査方向に移動することにより、3本のノズル17から吐出された有機EL液が、基板9の塗布領域91にストライプ状に塗布される。このとき、3本のノズル17のうち、中央のノズル17により塗布された有機EL液のラインは、(+Y)側および(−Y)側のノズル17により並行して塗布された有機EL液のラインにより挟まれており、(+Y)側のノズル17により塗布された有機EL液のラインは、中央のノズル17により並行して塗布された有機EL液のライン、および、既に基板9上に塗布されている有機EL液のライン群により挟まれている。このため、中央および(+Y)側のノズル17により塗布された有機EL液のラインの周囲では、雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度が高くなっている。   As described above, in the coating apparatus 1, when the coating head 14 moves in the main scanning direction, the organic EL liquid ejected from the three nozzles 17 is applied to the coating region 91 of the substrate 9 in a stripe shape. Is done. At this time, among the three nozzles 17, the line of the organic EL liquid applied by the central nozzle 17 is the line of the organic EL liquid applied in parallel by the (+ Y) side and (−Y) side nozzles 17. The organic EL liquid line applied by the (+ Y) side nozzle 17 is sandwiched between the lines, and the organic EL liquid line applied in parallel by the central nozzle 17 and already applied on the substrate 9. It is sandwiched between lines of organic EL liquid. For this reason, the concentration of the solvent component of the organic EL liquid in the atmosphere is high around the center and the line of the organic EL liquid applied by the (+ Y) side nozzle 17.

また、塗布装置1では、気流形成部19により形成された基板9の上面90に平行な(+Y)側から(−Y)方向に向かうエアの流れにより、(+Y)側および中央のノズル17により塗布された有機EL液のラインの周囲の雰囲気が、(−Y)方向へと広げられる。これにより、(−Y)側のノズル17により塗布された有機EL液のラインの周囲においても、雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度が高くなり、3本のノズル17により塗布された3本の有機EL液のラインの周囲において、雰囲気中の溶媒成分の濃度の均一性が向上される。   Further, in the coating apparatus 1, the (+ Y) side and central nozzles 17 cause the air flow from the (+ Y) side parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 formed by the airflow forming unit 19 to the (−Y) direction. The atmosphere around the line of the applied organic EL liquid is expanded in the (−Y) direction. As a result, the concentration of the solvent component of the organic EL liquid in the atmosphere is increased around the line of the organic EL liquid applied by the (−Y) side nozzle 17, and the liquid is applied by the three nozzles 17. The uniformity of the concentration of the solvent component in the atmosphere is improved around the line of the organic EL liquid.

ここで、気流形成部が設けられない塗布装置を比較例とすると、比較例の塗布装置において(+Y)側(すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向前側)のノズル、および、中央のノズルにより塗布された有機EL液のラインの周囲では、上記と同様に、雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度が高くなっている。しかしながら、(−Y)側(すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向後側)のノズルにより塗布された有機EL液のラインの(−Y)側には、他の有機EL液のラインは塗布されておらず、(+Y)側にのみ、中央のノズルにより並行して塗布された有機EL液のラインが配置されることとなる。   Here, assuming that a coating apparatus in which no airflow forming unit is provided is a comparative example, in the coating apparatus of the comparative example, the nozzle on the (+ Y) side (that is, the front side in the relative scanning direction of the substrate in the sub-scanning direction) and the central nozzle As described above, the concentration of the solvent component of the organic EL liquid in the atmosphere is high around the line of the organic EL liquid applied by the above. However, on the (−Y) side of the line of the organic EL liquid applied by the nozzle on the (−Y) side (that is, the rear side in the relative movement direction of the substrate in the sub-scanning direction), there are no other organic EL liquid lines. The line of the organic EL liquid applied in parallel by the central nozzle is arranged only on the (+ Y) side without being applied.

このため、(−Y)側のノズルにより塗布された有機EL液のラインの周囲では、(+Y)側および中央のノズルにより塗布された有機EL液のラインの周囲と比べて有機EL液の溶媒成分の濃度が低くなってしまい、(−Y)側の有機EL液のラインの乾燥速度が、(+Y)側の2本の有機EL液のラインよりも大きくなってしまう。また、(−Y)側の有機EL液のラインの周囲では、当該ラインの(−Y)側における雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度が、ラインの(+Y)側における濃度よりも低くなってしまい、ラインの(−Y)側の部位が(+Y)側の部位よりも早く乾燥してしまう。   Therefore, the solvent of the organic EL liquid around the line of the organic EL liquid applied by the nozzle on the (−Y) side is compared with the periphery of the line of the organic EL liquid applied by the nozzle on the (+ Y) side and the center. The concentration of the component becomes low, and the drying speed of the (−Y) side organic EL liquid line becomes larger than the (+ Y) side two organic EL liquid lines. Further, around the line of the organic EL liquid on the (−Y) side, the concentration of the solvent component of the organic EL liquid in the atmosphere on the (−Y) side of the line is lower than the concentration on the (+ Y) side of the line. Thus, the (−Y) side portion of the line dries faster than the (+ Y) side portion.

図5.Aは、比較例の塗布装置の3本のノズルにより塗布された有機EL液から溶媒が蒸発することにより、基板9a上の塗布領域91aに形成された有機EL材料の3本の膜93aを示す断面図である。図5.Aでは、図示の都合上、基板9aの塗布領域91aに形成されている隔壁の図示を省略しており、また、膜93aの高さを実際よりも大きく描いている(図5.Bにおいても同様)。   FIG. A shows three films | membranes 93a of the organic EL material formed in the application | coating area | region 91a on the board | substrate 9a, when a solvent evaporates from the organic EL liquid apply | coated with the three nozzles of the coating device of a comparative example. It is sectional drawing. FIG. In A, for convenience of illustration, the illustration of the partition formed in the coating region 91a of the substrate 9a is omitted, and the height of the film 93a is drawn larger than the actual height (also in FIG. 5.B). The same).

比較例の塗布装置では、上述のように、(−Y)側の有機EL液のラインの(−Y)側の部位が(+Y)側の部位よりも早く乾燥してしまうため、図5.Aに示すように、(−Y)側の膜93aにおいて、(−Y)側の部位の膜厚が(+Y)側の部位の膜厚よりも大きくなってしまう。そして、このように厚さに偏りがある有機EL材料の膜93aが、塗布領域91aに周期的に(すなわち、3本毎に)形成されて塗布ムラが発生することにより、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。   In the coating apparatus of the comparative example, as described above, the (−Y) side portion of the (−Y) side organic EL liquid line dries faster than the (+ Y) side portion. As shown in A, in the film 93a on the (−Y) side, the film thickness at the (−Y) side portion is larger than the film thickness at the (+ Y) side portion. Then, after the film 93a of the organic EL material having the uneven thickness is formed in the application region 91a periodically (that is, every three pieces) and uneven application occurs, the product becomes a product. The display quality of the flat display device may be degraded.

これに対し、本実施の形態に係る塗布装置1では、上述のように、3本のノズル17により塗布された3本の有機EL液のラインの周囲において、雰囲気中の溶媒成分の濃度の均一性が向上される。また、3本のノズル17のうち(−Y)側のノズル17により塗布された有機EL液のラインの(+Y)側および(−Y)側における雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。   On the other hand, in the coating apparatus 1 according to the present embodiment, as described above, the concentration of the solvent component in the atmosphere is uniform around the three organic EL liquid lines applied by the three nozzles 17. Is improved. Further, the concentration of the solvent component of the organic EL liquid in the atmosphere on the (+ Y) side and the (−Y) side of the line of the organic EL liquid applied by the (−Y) side nozzle 17 among the three nozzles 17. The difference is reduced.

これにより、3本のノズル17の吐出口から吐出された有機EL液の乾燥速度の均一性を向上することができるとともに、(−Y)側(すなわち、副走査方向における基板9の相対移動方向後側)のノズル17の吐出口から吐出された有機EL液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、図5.Bに示すように、隣接する有機EL材料の3本の膜93の断面をほぼ同形状とすることができ、基板9上の塗布領域91における塗布ムラの発生を防止することができる。   Thereby, the uniformity of the drying rate of the organic EL liquid discharged from the discharge ports of the three nozzles 17 can be improved, and the relative movement direction of the substrate 9 in the (−Y) side (that is, the sub-scanning direction). The drying speed of the organic EL liquid discharged from the discharge port of the nozzle 17 on the rear side can be made substantially uniform in the sub-scanning direction. As a result, FIG. As shown in B, the cross-sections of the three films 93 of adjacent organic EL materials can be made substantially the same shape, and the occurrence of coating unevenness in the coating region 91 on the substrate 9 can be prevented.

ところで、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の基板に対する塗布では、塗布ムラが発生すると、製品となった後の平面表示装置の表示の質が低下する恐れがある。本実施の形態に係る塗布装置1では、上述のように、塗布ムラの発生を防止することができるため、塗布装置1は、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の塗布に特に適しているといえる。   By the way, in the application | coating with respect to the board | substrate of the fluid material containing the pixel formation material for flat panel displays, when a coating nonuniformity generate | occur | produces, there exists a possibility that the display quality of the flat panel display after becoming a product may fall. Since the coating apparatus 1 according to the present embodiment can prevent the occurrence of uneven coating as described above, the coating apparatus 1 is particularly suitable for coating a fluid material containing a pixel forming material for a flat display device. It can be said that it is suitable.

塗布装置1では、また、基板9の上面90に平行なエアの流れが塗布領域91の主走査方向の全長に亘って形成されることにより、塗布ヘッド14により塗布された有機EL液のラインの全長において、有機EL液の塗布から乾燥までの間、エアの流れが維持される。これにより、3本のノズル17により塗布された有機EL液の乾燥速度の均一性を、主走査方向に伸びる当該有機EL液のラインの全長に亘ってより向上することができ、基板9上の塗布領域91における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。   In the coating apparatus 1, an air flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 is formed over the entire length of the coating area 91 in the main scanning direction, so that the line of the organic EL liquid applied by the coating head 14 is formed. In the full length, the air flow is maintained from the application of the organic EL liquid to the drying. Thereby, the uniformity of the drying speed of the organic EL liquid applied by the three nozzles 17 can be further improved over the entire length of the line of the organic EL liquid extending in the main scanning direction. Occurrence of coating unevenness in the coating region 91 can be prevented more reliably.

塗布装置1では、気流形成部19からのエアの流速が小さすぎると、雰囲気中の溶媒成分が(−Y)側に十分に広がらず、流速が大きすぎると溶媒成分が広い範囲に拡散して濃度が大きく低下するため、副走査方向における塗布ヘッド14のノズル17の位置(すなわち、塗布位置)におけるエアの流速が適切な範囲となるように、気流形成部19からのエアの送出量が決定されている。仮に、気流形成部が塗布ヘッドに対して副走査方向に相対移動する(例えば、気流形成部が基板保持部上に固定されている)とすると、気流形成部と塗布ヘッドとの間の副走査方向の距離に応じて気流形成部からのエアの送出量が変更される必要がある。これに対し、塗布装置1では、気流形成部19の塗布ヘッド14に対する副走査方向の相対位置が固定されているため、気流形成部19からのエアの送出量を変更する必要がない。その結果、塗布装置1の装置構成を簡素化することができる。   In the coating apparatus 1, if the flow rate of air from the airflow forming unit 19 is too small, the solvent component in the atmosphere does not spread sufficiently to the (−Y) side, and if the flow rate is too large, the solvent component diffuses in a wide range. Since the density is greatly reduced, the amount of air sent from the airflow forming unit 19 is determined so that the air flow rate at the position of the nozzle 17 of the coating head 14 (that is, the coating position) in the sub-scanning direction is within an appropriate range. Has been. If the air flow forming unit moves relative to the coating head in the sub scanning direction (for example, the air flow forming unit is fixed on the substrate holding unit), the sub scanning between the air flow forming unit and the coating head is performed. It is necessary to change the amount of air sent from the airflow forming unit in accordance with the distance in the direction. On the other hand, in the coating apparatus 1, since the relative position in the sub-scanning direction of the airflow forming unit 19 with respect to the coating head 14 is fixed, there is no need to change the amount of air sent from the airflow forming unit 19. As a result, the apparatus configuration of the coating apparatus 1 can be simplified.

気流形成部19では、送出口191からエアを送出して基板9の上面90に平行なエアの流れを形成することにより、エアの吸引等により基板9上にエアの流れを形成する場合に比べて、所望の向きや流速を有するエアの流れを容易に形成することができる。その結果、塗布装置1の構造を簡素化することができる。また、塗布ヘッド14の複数のノズル17の(+Y)側に配置された送出口191から基板9の上面90に平行にエアを送出することにより、上記エアの流れをより容易に形成することができ、塗布装置1の構造をより簡素化することができる。   In the air flow forming unit 19, air is sent from the delivery port 191 to form an air flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9, so that the air flow is formed on the substrate 9 by air suction or the like. Thus, an air flow having a desired direction and flow velocity can be easily formed. As a result, the structure of the coating apparatus 1 can be simplified. Further, the air flow can be more easily formed by sending air in parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 from the outlet 191 disposed on the (+ Y) side of the plurality of nozzles 17 of the coating head 14. In addition, the structure of the coating apparatus 1 can be further simplified.

気流形成部19では、基板9上に気流を形成する気体としてエアが利用されることにより、基板保持部11や塗布装置1の周囲に気密構造を設ける必要がないため、塗布装置1の構造をさらに簡素化することができる。また、塗布装置1が設置される工場等の既存設備を利用して気流形成部19に容易に気体を供給することもできる。   In the airflow forming unit 19, since air is used as a gas that forms an airflow on the substrate 9, it is not necessary to provide an airtight structure around the substrate holding unit 11 and the coating apparatus 1. Further simplification can be achieved. Moreover, gas can also be easily supplied to the airflow formation part 19 using the existing facilities, such as a factory in which the coating device 1 is installed.

塗布装置1では、基板9を加熱するヒータ111により基板9の塗布領域91に塗布された有機EL液の乾燥速度を増大させることにより、3本のノズル17の吐出口から吐出された有機EL液の乾燥速度の差をより小さくすることができる。その結果、3本のノズル17から吐出された有機EL液の乾燥速度の均一性をさらに向上することができ、基板9上の塗布領域91における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。   In the coating apparatus 1, the organic EL liquid discharged from the discharge ports of the three nozzles 17 is increased by increasing the drying speed of the organic EL liquid applied to the application region 91 of the substrate 9 by the heater 111 that heats the substrate 9. The difference in drying speed can be further reduced. As a result, the uniformity of the drying speed of the organic EL liquid discharged from the three nozzles 17 can be further improved, and the occurrence of coating unevenness in the coating region 91 on the substrate 9 can be more reliably prevented. .

次に、本発明の第2の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図6は、第2の実施の形態に係る塗布装置の気流形成部19近傍を示す縦断面図である。図6に示すように、第2の実施の形態に係る塗布装置では、気流形成部19の内部に、塗布ヘッド14へと向かうエアを加熱する気体加熱部192が設けられる。本実施の形態では、気体加熱部192として、x方向に伸びる棒状のヒータが用いられる。その他の構成は、図1ないし図3に示す塗布装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。   Next, a coating apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a longitudinal cross-sectional view showing the vicinity of the airflow forming unit 19 of the coating apparatus according to the second embodiment. As shown in FIG. 6, in the coating apparatus according to the second embodiment, a gas heating unit 192 that heats air toward the coating head 14 is provided inside the airflow forming unit 19. In the present embodiment, a rod-like heater extending in the x direction is used as the gas heating unit 192. Other configurations are the same as those of the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 to 3, and the same reference numerals are given in the following description.

第2の実施の形態に係る塗布装置では、第1の実施の形態と同様に、気流形成部19により形成された基板9の上面90に平行な(+Y)側から(−Y)方向に向かうエアの流れにより、3本のノズル17により塗布された3本の有機EL液のラインの周囲において、雰囲気中の溶媒成分の濃度の均一性が向上される。その結果、塗布ヘッド14の3本のノズル17の吐出口から吐出された有機EL液の乾燥速度の均一性を向上することができ、基板9上の塗布領域91(図1参照)における塗布ムラの発生を防止することができる。   In the coating apparatus according to the second embodiment, as in the first embodiment, the (+ Y) side parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 formed by the airflow forming unit 19 is directed in the (−Y) direction. The air flow improves the uniformity of the concentration of the solvent component in the atmosphere around the three organic EL liquid lines applied by the three nozzles 17. As a result, the uniformity of the drying rate of the organic EL liquid discharged from the discharge ports of the three nozzles 17 of the coating head 14 can be improved, and coating unevenness in the coating region 91 (see FIG. 1) on the substrate 9 can be improved. Can be prevented.

第2の実施の形態に係る塗布装置では、特に、気体加熱部192により加熱されたエアにより基板9の上面90に平行な気流が形成されることにより、基板9の塗布領域91に塗布された有機EL液の乾燥速度を増大させることができる。これにより、3本のノズル17の吐出口から吐出された有機EL液の乾燥速度の差をより小さくすることができ、その結果、3本のノズル17から吐出された有機EL液の乾燥速度の均一性をさらに向上することができる。   In the coating apparatus according to the second embodiment, in particular, the air heated by the gas heating unit 192 is applied to the coating region 91 of the substrate 9 by forming an air flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9. The drying rate of the organic EL liquid can be increased. Thereby, the difference in the drying speed of the organic EL liquid discharged from the discharge ports of the three nozzles 17 can be further reduced. As a result, the drying speed of the organic EL liquid discharged from the three nozzles 17 can be reduced. Uniformity can be further improved.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.

第2の実施の形態に係る塗布装置では、気体加熱部192は、必ずしも気流形成部19の内部に設けられる必要はなく、気流形成部19の(−Y)側、かつ、塗布ヘッド14のノズル17の(+Y)側に気流形成部19とは独立して設けられてもよい。この場合、気流形成部19から送出されたエアが気体加熱部192近傍を通過することにより加熱され、加熱されたエアにより基板9の上面90に平行な気流が形成される。   In the coating apparatus according to the second embodiment, the gas heating unit 192 is not necessarily provided in the airflow forming unit 19, and is the (−Y) side of the airflow forming unit 19 and the nozzle of the coating head 14. 17 may be provided on the (+ Y) side independently of the airflow forming unit 19. In this case, the air sent from the airflow forming unit 19 is heated by passing near the gas heating unit 192, and an airflow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 is formed by the heated air.

上記実施の形態に係る塗布装置では、副走査方向における塗布ヘッド14のノズル17の位置におけるエアの流速は、必ずしも上述の範囲には限定されず、有機EL液の溶媒の種類や蒸発速度等に応じて適切な速度とされる。   In the coating apparatus according to the above-described embodiment, the flow rate of air at the position of the nozzle 17 of the coating head 14 in the sub-scanning direction is not necessarily limited to the above-described range, and depends on the type of solvent of the organic EL liquid, the evaporation rate, and the like. The speed is set appropriately.

気流形成部19の送出口191は、必ずしも塗布領域91の主走査方向の全長に亘って伸びるスリット状である必要はなく、例えば、塗布領域91の主走査方向の全長に亘って配列された複数の小さな送出口が気流形成部19に設けられてもよい。また、気流形成部19の送出口191は、必ずしも、塗布領域91の主走査方向の全長に亘って設けられる必要はなく、例えば、主走査方向の幅が塗布ヘッド14の幅とおよそ等しい1つの送出口のみを有する気流形成部が、複数のノズル17の(+Y)側にて主走査方向に移動可能に設けられ、有機EL液の塗布時にエアを送出しつつ塗布ヘッド14と同期して主走査方向に移動することにより、塗布ヘッド14と基板9との間に基板9の上面90に平行なエアの流れが形成されてもよい。   The delivery port 191 of the airflow forming unit 19 does not necessarily have a slit shape extending over the entire length of the application region 91 in the main scanning direction. For example, a plurality of the outlets 191 arranged over the entire length of the application region 91 in the main scanning direction. May be provided in the airflow forming unit 19. Further, the delivery port 191 of the airflow forming unit 19 is not necessarily provided over the entire length of the application region 91 in the main scanning direction. For example, one outlet having a width in the main scanning direction approximately equal to the width of the application head 14 is used. An airflow forming portion having only a delivery port is provided on the (+ Y) side of the plurality of nozzles 17 so as to be movable in the main scanning direction, and is synchronized with the coating head 14 while sending air when coating the organic EL liquid. By moving in the scanning direction, an air flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 may be formed between the coating head 14 and the substrate 9.

上記実施の形態に係る塗布装置では、必ずしも、気流形成部19の送出口191から基板9の上面90に平行なエアが送出される必要はなく、例えば、塗布ヘッド14の(+Y)側に配置された気流形成部19から下向き(すなわち、(−Z)方向)にエアが送出され、基板9の主面90や他の構造に衝突して向きが変更されたエアにより、基板9の主面90に平行な気流が形成されてもよい。   In the coating apparatus according to the above-described embodiment, it is not always necessary to send air parallel to the upper surface 90 of the substrate 9 from the outlet 191 of the airflow forming unit 19. For example, it is disposed on the (+ Y) side of the coating head 14. The air is sent downward from the airflow forming part 19 (that is, in the (−Z) direction), and the main surface of the substrate 9 is changed by the air whose direction is changed by colliding with the main surface 90 of the substrate 9 or another structure. An airflow parallel to 90 may be formed.

塗布装置では、気流形成部19から送出される気体はエアには限定されず、例えば、窒素(N)等の不活性ガスとされてもよい。また、有機EL液の溶媒成分を僅かに含むエアが送出されて基板9の上面90に平行な気体の流れが形成されてもよい。 In the coating apparatus, the gas delivered from the airflow forming unit 19 is not limited to air, and may be an inert gas such as nitrogen (N 2 ), for example. Further, air slightly containing the solvent component of the organic EL liquid may be sent out to form a gas flow parallel to the upper surface 90 of the substrate 9.

また、塗布装置では、塗布ヘッド14の(+Y)側から気体を送出する気流形成部19に代えて、塗布ヘッド14の(−Y)側に配置されて周囲の雰囲気を吸引することにより基板9上に気体の流れを形成する気流形成部が設けられてもよい。また、塗布ヘッド14の(+Y)側から気体を送出しつつ(−Y)側から気体を吸引することにより基板9上に気体の流れを形成する気流形成部が設けられてもよい。   Further, in the coating apparatus, instead of the airflow forming unit 19 that sends out gas from the (+ Y) side of the coating head 14, the substrate 9 is disposed on the (−Y) side of the coating head 14 and sucks the surrounding atmosphere. An airflow forming unit that forms a gas flow may be provided thereon. In addition, an airflow forming unit that forms a gas flow on the substrate 9 by sucking the gas from the (−Y) side while sending the gas from the (+ Y) side of the coating head 14 may be provided.

上記実施の形態に係る塗布装置では、基板移動機構12による基板9および基板保持部11の移動に代えて、塗布ヘッド14が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板9の塗布ヘッド14に対する相対移動が行われてもよい。また、ヘッド移動機構15による塗布ヘッド14の移動に代えて、基板9および基板保持部11が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド14の基板9に対する相対移動が行われてもよい。   In the coating apparatus according to the above embodiment, instead of the movement of the substrate 9 and the substrate holding unit 11 by the substrate moving mechanism 12, the coating head 14 moves in the sub-scanning direction, whereby the coating head for the substrate 9 in the sub-scanning direction. A relative movement with respect to 14 may be performed. Further, instead of the movement of the coating head 14 by the head moving mechanism 15, the substrate 9 and the substrate holder 11 move in the main scanning direction, so that the coating head 14 moves relative to the substrate 9 in the main scanning direction. Also good.

塗布装置では、塗布ヘッド14の3本のノズル17から、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液が同時に吐出されて基板9に塗布されてもよい。この場合、塗布ヘッド14では、隣接する2本のノズル17の間の副走査方向に関する距離が隔壁ピッチと等しくされる。また、塗布ヘッド14では、有機EL液を吐出するノズル17の本数は必ずしも3本には限定されず、2本、あるいは、4本以上のノズル17が塗布ヘッド14に設けられてもよい。さらには、これらのノズル17から吐出される有機EL液は、隔壁が設けられていない塗布領域91にストライプ状に塗布されてもよい。   In the coating apparatus, three types of organic EL liquids each including three types of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) are supplied from the three nozzles 17 of the coating head 14. It may be discharged simultaneously and applied to the substrate 9. In this case, in the coating head 14, the distance in the sub-scanning direction between the two adjacent nozzles 17 is made equal to the partition wall pitch. Further, in the coating head 14, the number of nozzles 17 that discharge the organic EL liquid is not necessarily limited to three, and two or four or more nozzles 17 may be provided in the coating head 14. Further, the organic EL liquid ejected from these nozzles 17 may be applied in a stripe pattern to the application region 91 where no partition is provided.

ところで、基板9上に連続的に吐出された有機EL液のラインでは、有機EL液中の有機EL材料が主走査方向において比較的移動しやすいため、乾燥時間の差により有機EL材料の偏り大きくなって図5.Aに示すように膜厚の差が生じやすい。上記実施の形態に係る塗布装置は、上述のように、有機EL液の乾燥時間の均一性を向上することできるため、有機EL液を連続的に吐出して基板に塗布する装置に特に適しているが、インクジェット方式のように断続的に流動性材料を吐出して基板上に塗布する装置にも適用することができる。   By the way, in the line of the organic EL liquid continuously discharged onto the substrate 9, the organic EL material in the organic EL liquid is relatively easy to move in the main scanning direction. As shown in FIG. As shown in A, a difference in film thickness is likely to occur. Since the coating apparatus according to the above embodiment can improve the uniformity of the drying time of the organic EL liquid as described above, it is particularly suitable for an apparatus that continuously discharges the organic EL liquid and applies it to the substrate. However, the present invention can also be applied to an apparatus that intermittently discharges a fluid material and applies it onto a substrate, such as an inkjet method.

上記実施の形態に係る塗布装置では、正孔輸送材料を含む流動性材料が基板9に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機EL表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機EL材料により形成された有機EL層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。   In the coating apparatus according to the above embodiment, a fluid material containing a hole transport material may be applied to the substrate 9. Here, the “hole transport material” is a material that forms a hole transport layer of an organic EL display device, and the “hole transport layer” is a positive electrode that is formed into an organic EL layer formed of an organic EL material. It means not only a narrowly defined hole transport layer that transports holes, but also includes a hole injection layer that injects holes.

塗布装置は、1枚の基板から複数の有機EL表示装置を製造する(いわゆる、多面取りを行う)場合にも利用できる。また、上記塗布装置は、必ずしも有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。   The coating device can also be used when a plurality of organic EL display devices are manufactured from a single substrate (so-called multi-surface processing). Further, the coating device is not necessarily used only for coating a fluid material containing an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device. For example, a flat surface of a liquid crystal display device, a plasma display device, or the like. You may utilize when the fluidity | liquidity material containing other types of pixel formation materials, such as a coloring material and a fluorescent material, is apply | coated with respect to the board | substrate for display apparatuses.

上述のように、塗布装置は、基板9上の塗布領域91における塗布ムラの発生を防止することができるため、製品となった際の表示の質の低下として塗布ムラが感得されやすい平面表示装置用の画素形成材料(上記実施の形態では、有機EL表示装置用の有機EL材料)を含む流動性材料の塗布に特に適しているが、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板や半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。   As described above, since the coating apparatus can prevent the occurrence of coating unevenness in the coating region 91 on the substrate 9, the flat display in which the coating unevenness is easily perceived as a deterioration in display quality when the product is manufactured. Although it is particularly suitable for application of a fluid material containing a pixel forming material for a device (in the above embodiment, an organic EL material for an organic EL display device), the application device can be a substrate or a semiconductor for a flat display device. It may be used to apply various types of flowable materials to various substrates such as substrates.

第1の実施の形態に係る塗布装置を示す平面図である。It is a top view which shows the coating device which concerns on 1st Embodiment. 塗布装置の正面図である。It is a front view of a coating device. 気流形成部近傍を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the airflow formation part vicinity. 有機EL液の塗布の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of application | coating of organic electroluminescent liquid. 比較例の塗布装置により基板上に形成された有機EL材料の膜を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the film | membrane of the organic EL material formed on the board | substrate with the coating device of the comparative example. 本実施の形態に係る塗布装置により基板上に形成された有機EL材料の膜を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the film | membrane of the organic EL material formed on the board | substrate with the coating device which concerns on this Embodiment. 第2の実施の形態に係る塗布装置の気流形成部近傍を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the airflow formation part vicinity of the coating device which concerns on 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 塗布装置
9 基板
11 基板保持部
12 基板移動機構
14 塗布ヘッド
15 ヘッド移動機構
19 気流形成部
90 上面
91 塗布領域
111 ヒータ
191 送出口
192 気体加熱部
S11〜S18 ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Application | coating apparatus 9 Substrate 11 Substrate holding | maintenance part 12 Substrate moving mechanism 14 Coating head 15 Head moving mechanism 19 Airflow formation part 90 Upper surface 91 Application | coating area | region 111 Heater 191 Outlet 192 Gas heating part S11-S18 step

Claims (9)

基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板の前記主面上の塗布領域に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側から相対移動方向後側に向かう前記基板の前記主面に略平行な気体の流れを前記吐出機構と前記基板との間に形成する気流形成部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A substrate holder for holding the substrate;
A discharge mechanism for discharging a flowable material from a plurality of discharge ports arranged at equal intervals in a sub-scanning direction parallel to the main surface of the substrate toward a coating region on the main surface of the substrate;
The ejection mechanism moves relative to the substrate in a main scanning direction perpendicular to the sub-scanning direction and parallel to the main surface, and the substrate is ejected each time movement in the main scanning direction is performed. A moving mechanism that moves relative to the mechanism in the sub-scanning direction;
An airflow forming unit that forms a gas flow substantially parallel to the main surface of the substrate from the front side in the sub-scanning direction toward the rear side in the relative movement direction between the discharge mechanism and the substrate; ,
A coating apparatus comprising:
請求項1に記載の塗布装置であって、
前記気流形成部により、前記気体の流れが前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って形成されることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1,
The coating apparatus according to claim 1, wherein the gas flow is formed over the entire length of the coating region in the main scanning direction by the air flow forming unit.
請求項1または2に記載の塗布装置であって、
前記気流形成部の前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されていることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1 or 2,
A coating apparatus, wherein a relative position of the air flow forming unit in the sub-scanning direction with respect to the discharge mechanism is fixed.
請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記気体がエアであることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The coating apparatus, wherein the gas is air.
請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記気流形成部が前記気体を送出する送出口を備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The coating apparatus according to claim 1, wherein the air flow forming unit includes a delivery port for delivering the gas.
請求項5に記載の塗布装置であって、
前記送出口が、前記吐出機構の前記複数の吐出口に対して前記基板の前記相対移動方向前側に配置され、
前記送出口から前記気体が前記基板の前記主面に略平行に送出されることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 5,
The delivery port is disposed on the front side in the relative movement direction of the substrate with respect to the plurality of ejection ports of the ejection mechanism;
The coating apparatus, wherein the gas is delivered from the delivery port substantially parallel to the main surface of the substrate.
請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記吐出機構へと向かう前記気体を加熱する気体加熱部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 6,
A coating apparatus, further comprising a gas heating unit that heats the gas toward the discharge mechanism.
請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板保持部が、前記基板を加熱する基板加熱部を備えることを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The coating apparatus, wherein the substrate holding unit includes a substrate heating unit that heats the substrate.
請求項1ないし8のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 8,
The coating apparatus, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5342282B2 (en) * 2009-03-17 2013-11-13 大日本スクリーン製造株式会社 Coating device
JP2010221182A (en) * 2009-03-25 2010-10-07 Toppan Printing Co Ltd Ink supply apparatus
CN103620812B (en) * 2011-07-01 2018-05-04 科迪华公司 For by carrier liquid steam from the separated apparatus and method of ink
CN112007826A (en) * 2019-05-29 2020-12-01 夏普株式会社 Coating device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09272199A (en) * 1996-04-05 1997-10-21 Canon Inc Method for ink-jet printing and apparatus for ink-jet printing
TW480562B (en) * 1999-12-20 2002-03-21 Tokyo Electron Ltd Coating processing apparatus
JP2001300383A (en) * 2000-04-28 2001-10-30 Optrex Corp Coater for ultraviolet setting resin
JP3844670B2 (en) * 2001-09-14 2006-11-15 東京エレクトロン株式会社 Coating film forming device
JP2003297569A (en) * 2002-01-30 2003-10-17 Toshiba Corp Manufacturing method and manufacturing device of display device
KR101025103B1 (en) * 2004-03-30 2011-03-25 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for coating photoresist comprising slitnozzle
JP2007038135A (en) * 2005-08-03 2007-02-15 Seiko Epson Corp Membrane manufacturing apparatus
JP4275678B2 (en) * 2006-04-17 2009-06-10 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate coating device

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