JP4904844B2 - 超精密形状測定方法 - Google Patents
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- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 113
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02083—Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
- G01B9/02085—Combining two or more images of different regions
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/005—Testing of reflective surfaces, e.g. mirrors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/60—Reference interferometer, i.e. additional interferometer not interacting with object
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
と平面ミラー2の傾き角度はΔh/D=1×10-8radの精度で測定することができる。
また、2点のみの計測ではなく、面データとしてデータを取得できるので、極めて精度よく、かつ、再現性よく角度を測定することが可能となる。
B フィゾー型干渉計
1 参照面
2 平面ミラー
3 曲面ミラー
4 下段傾斜ステージ
5 上段傾斜ステージ
6 支持台
7 曲面ミラー
7A 被測定曲面
7B 基準平面
8 固定プレート
9 姿勢計測用平面ミラー
10 平面ミラー
11 参照面
12 曲面ミラー
13 下段回転ステージ
14 上段回転ステージ
Claims (6)
- マイケルソン型顕微干渉計を用いて、被測定曲面よりも狭い領域の顕微測定データを互に隣接するデータ間に重合領域を設けて複数取得するとともに、フィゾー型干渉計による全体形状データを用いて、隣接する顕微測定データの重合領域の一致度を利用して隣接する顕微測定データ間の傾きを最適に補正してスティッチングすることにより全体形状を測定する超精密形状測定方法であって、フィゾー型干渉計による全体形状計測において、被測定曲面と形状データが既知の基準平面をフィゾー型干渉計で同時に計測し、フィゾー型干渉計の参照面に対して被測定曲面と基準平面を同時に順次傾けて、被測定曲面よりも狭い領域の部分形状データを互に隣接するデータ間に重合領域を設けて複数取得するとともに、隣接する部分形状データ間の相対角度を基準平面の傾け角として計測し、隣接する部分形状データを前記傾け角と重合領域の一致度を利用してスティッチングすることを特徴とする超精密形状測定方法。
- 前記被測定曲面が曲面ミラー、基準平面が平面ミラーであり、曲面ミラーと平面ミラーとをフィゾー型干渉計の参照面に対して略平行に並べるとともに、曲面ミラーを下段傾斜ステージ上に直接設置し、平面ミラーを下段傾斜ステージ上に設けた上段傾斜ステージ上に設置し、前記下段傾斜ステージを操作して曲面ミラーと平面ミラーを共に順方向に順次傾けてフィゾー型干渉計による曲面ミラーの形状計測を行うとともに、平面ミラーの傾け角を計測し、前記平面ミラーの前記参照面に対する傾斜角度がフィゾー型干渉計による形状計測限界角度になる前に前記上段傾斜ステージを操作して該平面ミラーのみを逆方向に傾け、その後のフィゾー型干渉計による形状計測を可能な状態を維持してなる請求項1記載の超精密形状測定方法。
- 前記被測定曲面が曲面ミラーであり、前記基準平面が該曲面ミラーの一部に形成されたものであり、基準平面付きの曲面ミラーを、傾斜ステージ上に設置してフィゾー型干渉計の参照面に対して略平行に配置し、前記傾斜ステージを操作して曲面ミラーを順次傾けてフィゾー型干渉計による曲面ミラーの形状計測を行うとともに、基準平面の傾け角を計測する請求項1記載の超精密形状測定方法。
- 前記曲面ミラーの被測定曲面と基準平面とのなす最大角度が、前記フィゾー型干渉計による形状計測限界角度の2倍以内である請求項3記載の超精密形状測定方法。
- マイケルソン型顕微干渉計を用いて、被測定曲面よりも狭い領域の顕微測定データを互に隣接するデータ間に重合領域を設けて複数取得すると同時に、フィゾー型干渉計によって各顕微測定データの傾け角を直接的又は間接的に計測して取得し、隣接する顕微測定データを前記傾け角と重合領域の一致度を利用してスティッチングすることにより全体形状を測定する超精密形状測定方法であって、マイケルソン型顕微干渉計に固定した姿勢計測用平面ミラーと、それと略平行に配した形状データが既知の基準平面とをフィゾー型干渉計で同時に計測して、両干渉計間の相対姿勢と、フィゾー型干渉計の参照面に対する基準平面の傾け角を正確に計測するとともに、前記基準平面に対して相対位置と角度が正確に規定された被測定曲面をマイケルソン型顕微干渉計で計測し、フィゾー型干渉計の参照面に対して被測定曲面と基準平面を同時に順次傾けて計測を繰り返すことにより、それぞれ傾け角が計測された顕微測定データを複数取得することを特徴とする超精密形状測定方法。
- 前記被測定曲面が曲面ミラー、基準平面が平面ミラーであり、曲面ミラーを下段回転ステージ上に直接設置し、平面ミラーを下段回転ステージ上に設けた上段回転ステージ上に設置し、前記下段回転ステージを操作して曲面ミラーと平面ミラーを共に順方向に順次傾けてフィゾー型干渉計によって平面ミラーの傾け角を計測するとともに、曲面ミラーをマイケルソン型顕微干渉計で計測して顕微測定データを取得し、前記平面ミラーの前記参照面に対する傾斜角度がフィゾー型干渉計による形状計測限界角度になる前に前記上段回転ステージを操作して該平面ミラーのみを逆方向に傾け、その後のフィゾー型干渉計による平面ミラーの傾け角の計測を可能な状態を維持してなる請求項5記載の超精密形状測定方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006042547A JP4904844B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 超精密形状測定方法 |
PCT/JP2007/052729 WO2007097244A1 (ja) | 2006-02-20 | 2007-02-15 | 超精密形状測定方法 |
US11/992,096 US7616324B2 (en) | 2006-02-20 | 2007-02-15 | Ultra precision profile measuring method |
EP07714259.4A EP1925907B1 (en) | 2006-02-20 | 2007-02-15 | Ultra precision profile measuring method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006042547A JP4904844B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 超精密形状測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007218852A JP2007218852A (ja) | 2007-08-30 |
JP4904844B2 true JP4904844B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=38437282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006042547A Active JP4904844B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 超精密形状測定方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7616324B2 (ja) |
EP (1) | EP1925907B1 (ja) |
JP (1) | JP4904844B2 (ja) |
WO (1) | WO2007097244A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5070370B2 (ja) * | 2007-05-23 | 2012-11-14 | 株式会社ジェイテック | 超精密形状測定方法及びその装置 |
US7847954B2 (en) * | 2008-05-15 | 2010-12-07 | Kla-Tencor Corporation | Measuring the shape and thickness variation of a wafer with high slopes |
CN102686972B (zh) | 2009-09-18 | 2015-04-08 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 测量光学表面形状的方法以及干涉测量装置 |
JP5483993B2 (ja) * | 2009-10-20 | 2014-05-07 | キヤノン株式会社 | 干渉計 |
EP2434345B1 (en) | 2010-09-27 | 2013-07-03 | Imec | Method and system for evaluating euv mask flatness |
CN113432508B (zh) * | 2021-06-23 | 2023-09-22 | 贵州永红航空机械有限责任公司 | 用于大型滑油箱快速消除尺寸误差、快速装夹的检验装置及方法 |
CN114111685B (zh) * | 2021-11-19 | 2023-09-01 | 华能国际电力股份有限公司 | 一种透平叶片测量方法 |
CN117781937B (zh) * | 2024-02-23 | 2024-06-07 | 东莞市兆丰精密仪器有限公司 | 一种二维线轮廓度测量方法、装置、系统及存储介质 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0629715B2 (ja) * | 1987-03-31 | 1994-04-20 | 松下電器産業株式会社 | 形状測定装置 |
JP3162355B2 (ja) * | 1989-03-31 | 2001-04-25 | キヤノン株式会社 | 面形状等測定方法及び装置 |
JP2531596B2 (ja) | 1991-03-19 | 1996-09-04 | 富士写真光機株式会社 | 被測定面における分割域間の接続方法及び分割域間の波面接続方法 |
JP3352507B2 (ja) * | 1993-09-24 | 2002-12-03 | 株式会社リコー | 形状測定装置 |
JP3309743B2 (ja) * | 1996-11-27 | 2002-07-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 形状測定方法及び装置 |
US5987189A (en) * | 1996-12-20 | 1999-11-16 | Wyko Corporation | Method of combining multiple sets of overlapping surface-profile interferometric data to produce a continuous composite map |
JP3562338B2 (ja) | 1998-09-10 | 2004-09-08 | 富士ゼロックス株式会社 | 面形状測定方法及び装置 |
JP3598983B2 (ja) | 2001-03-05 | 2004-12-08 | 森 勇蔵 | 超精密形状測定方法及びその装置 |
US7221461B2 (en) * | 2004-08-13 | 2007-05-22 | Zygo Corporation | Method and apparatus for interferometric measurement of components with large aspect ratios |
US7446883B2 (en) * | 2005-06-16 | 2008-11-04 | Zygo Corporation | Method and apparatus for tilt corrected lateral shear in a lateral shear plus rotational shear absolute flat test |
-
2006
- 2006-02-20 JP JP2006042547A patent/JP4904844B2/ja active Active
-
2007
- 2007-02-15 EP EP07714259.4A patent/EP1925907B1/en active Active
- 2007-02-15 WO PCT/JP2007/052729 patent/WO2007097244A1/ja active Application Filing
- 2007-02-15 US US11/992,096 patent/US7616324B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090135431A1 (en) | 2009-05-28 |
WO2007097244A1 (ja) | 2007-08-30 |
JP2007218852A (ja) | 2007-08-30 |
EP1925907A1 (en) | 2008-05-28 |
US7616324B2 (en) | 2009-11-10 |
EP1925907B1 (en) | 2014-05-14 |
EP1925907A4 (en) | 2013-04-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090213 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20111201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20111207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111213 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111226 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4904844 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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