JP4986867B2 - 高純度ジオールを工業的に製造する方法 - Google Patents
高純度ジオールを工業的に製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4986867B2 JP4986867B2 JP2007556835A JP2007556835A JP4986867B2 JP 4986867 B2 JP4986867 B2 JP 4986867B2 JP 2007556835 A JP2007556835 A JP 2007556835A JP 2007556835 A JP2007556835 A JP 2007556835A JP 4986867 B2 JP4986867 B2 JP 4986867B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distillation column
- tray
- formula
- continuous multistage
- chimney
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 title claims description 143
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 127
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 title description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 402
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 85
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 84
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 66
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 claims description 55
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 51
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 45
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 44
- 238000000066 reactive distillation Methods 0.000 claims description 37
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 36
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 30
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 21
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 17
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 12
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 239
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 60
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 43
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- -1 alkylene carbonates Chemical class 0.000 description 30
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 24
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 21
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 10
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 8
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 5
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 4
- 101100008048 Caenorhabditis elegans cut-4 gene Proteins 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 3
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 3-(cyclononen-1-yl)-4,5,6,7,8,9-hexahydro-1h-diazonine Chemical compound C1CCCCCCC=C1C1=NNCCCCCC1 QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJIOQYGWTQBHNH-UHFFFAOYSA-N undecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCO KJIOQYGWTQBHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;zirconium Chemical compound [Zr].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O YOBOXHGSEJBUPB-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAZWADXTNBRANC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCCCC1(C)O RAZWADXTNBRANC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUCJHJXFXUZJHL-UHFFFAOYSA-N 1-ethylcyclohexan-1-ol Chemical compound CCC1(O)CCCCC1 BUCJHJXFXUZJHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPCWIFPJLFCXRS-UHFFFAOYSA-N 1-ethylcyclopentan-1-ol Chemical compound CCC1(O)CCCC1 LPCWIFPJLFCXRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAKWRXVKWGUISE-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclopentan-1-ol Chemical compound CC1(O)CCCC1 CAKWRXVKWGUISE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTTDXHDYTWQDCS-UHFFFAOYSA-N 1-phenylcyclohexan-1-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1(O)CCCCC1 DTTDXHDYTWQDCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 3-Buten-1-ol Chemical compound OCCC=C ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWHLORMGUXPWLW-UHFFFAOYSA-N 4,4-diethylcyclohexan-1-ol Chemical compound CCC1(CC)CCC(O)CC1 MWHLORMGUXPWLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCC(O)CC1 MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000534000 Berula erecta Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZALOHOLPKHYYAX-UHFFFAOYSA-L CO[Ti](Cl)(Cl)OC Chemical compound CO[Ti](Cl)(Cl)OC ZALOHOLPKHYYAX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFMCTMBLJIQCGV-UHFFFAOYSA-N OC(O)COC(O)=O Chemical compound OC(O)COC(O)=O KFMCTMBLJIQCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020220 Pb—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUQAZSOFZSPHD-UHFFFAOYSA-N Phenylpropanol Chemical compound CCC(O)C1=CC=CC=C1 DYUQAZSOFZSPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M Tributyltin chloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(CCCC)CCCC GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N acetic acid;titanium Chemical compound [Ti].CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O INNSZZHSFSFSGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- FBFXQVWMDXHMJW-UHFFFAOYSA-N benzhydryloxytin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O[Sn])C1=CC=CC=C1 FBFXQVWMDXHMJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- QCRFMSUKWRQZEM-UHFFFAOYSA-N cycloheptanol Chemical compound OC1CCCCCC1 QCRFMSUKWRQZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHADSMKORVFYOS-UHFFFAOYSA-N cyclooctanol Chemical compound OC1CCCCCCC1 FHADSMKORVFYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJOCCCWCYHQYPZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)stannane Chemical compound CCO[Sn](CC)(CC)OCC CJOCCCWCYHQYPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CC1=CC=CC=C1 ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N nitrooxythallium Chemical compound [Tl+].[O-][N+]([O-])=O FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);thallium(1+) Chemical compound [O-2].[Tl+].[Tl+] WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229950009195 phenylpropanol Drugs 0.000 description 1
- RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N phosphamidon Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(\Cl)=C(/C)OP(=O)(OC)OC RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003476 thallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021515 thallium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003438 thallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L thallium sulfate Chemical compound [Tl+].[Tl+].[O-]S([O-])(=O)=O YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940119523 thallium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000374 thallium(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- DASUJKKKKGHFBF-UHFFFAOYSA-L thallium(i) carbonate Chemical compound [Tl+].[Tl+].[O-]C([O-])=O DASUJKKKKGHFBF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QGYXCSSUHCHXHB-UHFFFAOYSA-M thallium(i) hydroxide Chemical compound [OH-].[Tl+] QGYXCSSUHCHXHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N trimethoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057402 undecyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- YNPXMOHUBANPJB-UHFFFAOYSA-N zinc;butan-1-olate Chemical compound [Zn+2].CCCC[O-].CCCC[O-] YNPXMOHUBANPJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXKZSTUKHWTJCF-UHFFFAOYSA-N zinc;ethanolate Chemical compound [Zn+2].CC[O-].CC[O-] WXKZSTUKHWTJCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXNCWJJAQLTWKR-UHFFFAOYSA-N zinc;methanolate Chemical compound [Zn+2].[O-]C.[O-]C JXNCWJJAQLTWKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/06—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from organic carbonates
- C07C68/065—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from organic carbonates from alkylene carbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/74—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C29/76—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C29/80—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by distillation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/009—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping in combination with chemical reactions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/143—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column by two or more of a fractionation, separation or rectification step
- B01D3/146—Multiple effect distillation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/32—Other features of fractionating columns ; Constructional details of fractionating columns not provided for in groups B01D3/16 - B01D3/30
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B63/00—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C27/00—Processes involving the simultaneous production of more than one class of oxygen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/128—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by alcoholysis
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
1. 環状カーボネートと脂肪族1価アルコールとを原料として、
(I)この原料を触媒が存在する連続多段蒸留塔A内に連続的に供給し、該蒸留塔A内で反応蒸留を行い、蒸留塔Aの上部から生成するジアルキルカーボネート及び該脂肪族1価アルコールを含む低沸点反応混合物(AT)をガス状で連続的に抜出し、蒸留塔Aの下部から生成するジオール類を含む高沸点反応混合物(AB)を液状で連続的に抜出す工程(I)、
(II)該高沸点反応混合物(AB)を連続多段蒸留塔Cに連続的に供給し、該高沸点反応混合物(AB)中に含有するジオールよりも低沸点の物質を塔頂成分(CT)及び/又はサイドカット成分(CS)として連続的に抜き出し、ジオールを主成分とする塔底成分(CB)を蒸留塔Cの下部から連続的に抜き出す工程(II)、
(III)該塔底成分(CB)を連続多段蒸留塔Eに連続的に供給し、該連続多段蒸留塔Eのサイドカット抜き出し口からサイドカット成分(ES)として高純度ジオールを連続的に抜き出す工程(III)
を行うことによって、高純度ジオールを製造するにあたり、
(a)該連続多段蒸留塔Aが、下記式(1)〜(6)を満足する長さL0(cm)、内径D0(cm)、内部に段数n0を持つインターナルを有し、塔頂部又はそれに近い塔の上部に内径d01(cm)のガス抜出し口、塔底部又はそれに近い塔の下部に内径d02(cm)の液抜出し口、該ガス抜出し口より下部であって塔の上部及び/又は中間部に1つ以上の第1の導入口、該液抜出し口より上部であって塔の中間部及び/又は下部に1つ以上の第2の導入口を有する蒸留塔であって、
2100 ≦ L0 ≦ 8000 式(1)
180 ≦ D0 ≦ 2000 式(2)
4 ≦ L0/D0 ≦ 40 式(3)
20 ≦ n0 ≦ 120 式(4)
3 ≦ D0/d01 ≦ 20 式(5)
5 ≦ D0/d02 ≦ 30 式(6)
(b)該連続多段蒸留塔Cが下記式(7)〜(15)を満足する長さLC1(cm)、内径DC1(cm)、内部に段数nC1をもつインターナルを有する回収部と、長さLC2(cm)、内径DC2(cm)、内部に段数nC2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
300 ≦ LC1 ≦ 3000 式(7)
50 ≦ DC1 ≦ 700 式(8)
3 ≦ LC1/DC1 ≦ 30 式(9)
3 ≦ nC1 ≦ 30 式(10)
1000 ≦ LC2 ≦ 5000 式(11)
50 ≦ DC2 ≦ 500 式(12)
10 ≦ LC2/DC2 ≦ 50 式(13)
20 ≦ nC2 ≦ 100 式(14)
DC2 ≦ DC1 式(15)
(c)該連続多段蒸留塔Cの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイには、式(16)を満足する断面積SC(cm2)の開口部を有するチムニーが1個以上設置されており、
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhC(cm)が、式(17)を満足するチムニーであり、
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
(d)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔であり、
(e)該連続多段蒸留塔Eが、下記式(18)〜(26)を満足する長さLE1(cm)、内径DE1(cm)、内部に段数nE1をもつインターナルを有する回収部と、長さLE2(cm)、内径DE2(cm)、内部に段数nE2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
400 ≦ LE1 ≦ 3000 式(18)
50 ≦ DE1 ≦ 700 式(19)
2 ≦ LE1/DE1 ≦ 50 式(20)
3 ≦ nE1 ≦ 30 式(21)
600 ≦ LE2 ≦ 4000 式(22)
100 ≦ DE2 ≦ 1000 式(23)
2 ≦ LE2/DE2 ≦ 30 式(24)
5 ≦ nE2 ≦ 50 式(25)
DE1 ≦ DE2 式(26)
(f)該連続多段蒸留塔Eの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイが、式(27)を満足する断面積SE(cm2)の開口部を有するチムニーを2個以上設置しており、
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhE(cm)が、式(28)を満足するチムニーであり、
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
(g)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔である、
ことを特徴とする高純度ジオールを工業的に製造する方法、
2. 製造される高純度ジオールの量が、1時間あたり1トン以上であることを特徴とする前項1に記載の方法、
3. 該d01と該d02が式(29)を満足することを特徴とする前項1又は2に記載の方法、
1 ≦ d01/d02 ≦ 5 式(29)
4. 該連続多段蒸留塔AのL0、D0、L0/D0、n0、D0/d01、D0/d02 が、それぞれ、2300≦L0≦6000、 200≦D0≦1000、 5≦L0/D0≦30、 30≦n0≦100、 4≦D0/d01≦15、 7≦D0/d02≦25であることを特徴とする前項1ないし3のうち何れか一項に記載の方法、
5. 該連続多段蒸留塔Aのインターナルが、多孔板トレイであることを特徴とする前項1ないし4のうち何れか一項に記載の方法、
6. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有するものであることを特徴とする前項5に記載の方法、
7. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項5又は6に記載の方法、
8. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が1.5〜15%であることを特徴とする前項5ないし7のうち何れか一項に記載の方法、
9. 該連続多段蒸留塔Cの塔下部にある回収部最下部のインターナルの下部にさらに複数(nC3段)のトレイKを設け、該トレイKの最上段から液を一部連続的に抜き出し、リボイラーで蒸留に必要な熱量を与えた後、該加熱された液を回収部最下部のインターナルと該最上段トレイKとの間に設けられた供給口から蒸留塔Cに戻し、残りの液を下部のトレイに順に供給することを特徴とする前項1ないし8のうち何れか一項に記載の方法、
10. 該トレイKが、バッフルトレイであることを特徴とする前項9に記載の方法、
11. 該トレイKの存在する場所の該連続多段蒸留塔Cの内径(DC3)が、DC1≦DC3であることを特徴とする前項9又は10に記載の方法、
12. 該連続多段蒸留塔CのLC1、DC1、LC1/DC1、nC1、LC2、DC2、LC2/DC2、nC2、nC3が、それぞれ、500≦LC1≦2000、 70≦DC1≦500、 5≦LC1/DC1≦20、 5≦nC1≦20、 1500≦LC2≦4000、 70≦DC2≦400、 15≦LC2/DC2≦40、 30≦nC2≦90、 3≦nC3≦20 であることを特徴とする前項9ないし11のうち何れか一項に記載の方法、
13. 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナル及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする前項1ないし12のうち何れか一項に記載の方法、
14. 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナルがトレイであり、濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、トレイ及び/又は規則充填物であることを特徴とする前項13に記載の方法、
15. 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする前項13又は14に記載の方法、
16. 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有しており、且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項15に記載の方法、
17. 該連続多段蒸留塔Cの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜15%の範囲であることを特徴とする前項15又は16に記載の方法、
18. 該連続多段蒸留塔Cの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜12%の範囲であることを特徴とする前項15ないし17のうち何れか一項に記載の方法、
19. 該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、10〜40%の範囲であることを特徴とする前項1ないし18のうち何れか一項に記載の方法、
20. 該連続多段蒸留塔Cの塔底温度が、150〜250℃の範囲であることを特徴とする前項1ないし19のうち何れか一項に記載の方法、
21. 該連続多段蒸留塔Cの塔頂圧力が、50000〜300000Paの範囲であることを特徴とする前項1ないし20のうち何れか一項に記載の方法、
22. 該連続多段蒸留塔Cの還流比が、0.3〜5の範囲であることを特徴とする前項1ないし21のうち何れか一項に記載の方法、
23. 該塔頂成分(CT)中のジオールの含有量が、100ppm以下であることを特徴とする前項1ないし22のうち何れか一項に記載の方法、
24. 該サイドカット成分(CS)中のジオールの含有量が、該連続多段蒸留塔Cに供給されたジオールの0.5%以下であることを特徴とする前項1ないし23のうち何れか一項に記載の方法、
25. 該連続多段蒸留塔EのLE1、DE1、LE1/DE1、nE1、LE2、DE2、LE2/DE2、nE2が、それぞれ、500≦LE1≦2000、 100≦DE1≦500、 3≦LE1/DE1≦20、 5≦nE1≦20、 700≦LE2≦3000、 120≦DE2≦800、 3≦LE2/DE2≦20、 7≦nE2≦30、 DE1<DE2であることを特徴とする前項1ないし24のうち何れか一項に記載の方法、
26. 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする前項1ないし25のうち何れか一項に記載の方法、
27. 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイであることを特徴とする前項26に記載の方法、
28. 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする前項27に記載の方法、
29. 該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり150〜1200個の孔を有しており、且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項28に記載の方法、
30. 該連続多段蒸留塔Eの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、3〜25%の範囲であることを特徴とする前項28又は29に記載の方法、
31. 該連続多段蒸留塔Eの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜20%の範囲であることを特徴とする前項28ないし30のうち何れか一項に記載の方法、
32. 該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、5〜40%の範囲であることを特徴とする前項1ないし31のうち何れか一項に記載の方法、
33. 該連続多段蒸留塔Eの塔底温度が、110〜210℃の範囲であることを特徴とする前項1ないし32のうち何れか一項に記載の方法、
34. 該連続多段蒸留塔Eの還流比が、6〜100の範囲であることを特徴とする前項1ないし33のうち何れか一項に記載の方法、
35. 該サイドカット成分(ES)中のジオールの純度が、99%以上であることを特徴とする前項1ないし34のうち何れか一項に記載の方法、
36. 該サイドカット成分(ES)中のジオールの純度が、99.9%以上であることを特徴とする前項1ないし35のうち何れか一項に記載の方法、
を提供する。
37. 高純度ジオールよりも高沸点の不純物が200ppm以下であって、ハロゲン含有量が0.1ppm以下である高純度ジオールを製造することを特徴とする前項1ないし36のうち何れか一項に記載の方法、
38. 高純度ジオールよりも高沸点の不純物が100ppm以下であって、ハロゲン含有量が1ppb以下である高純度ジオールを製造することを特徴とする前項1ないし36のうち何れか一項に記載の方法、
を提供する。
39. 環状カーボネートと脂肪族1価アルコールとを原料として、
(I)この原料を触媒が存在する連続多段蒸留塔A内に連続的に供給し、該蒸留塔A内で反応蒸留を行い、蒸留塔Aの上部から生成するジアルキルカーボネート及び該脂肪族1価アルコールを含む低沸点反応混合物(AT)をガス状で連続的に抜出し、蒸留塔Aの下部から生成するジオール類を含む高沸点反応混合物(AB)を液状で連続的に抜出す工程(I)、
(II)該高沸点反応混合物(AB)を連続多段蒸留塔Cに連続的に供給し、該高沸点反応混合物(AB)中に含有するジオールよりも低沸点の物質を塔頂成分(CT)及び/又はサイドカット成分(CS)として連続的に抜き出し、ジオールを主成分とする塔底成分(CB)を蒸留塔Cの下部から連続的に抜き出す工程(II)、
(III)該塔底成分(CB)を連続多段蒸留塔Eに連続的に供給し、該連続多段蒸留塔Eのサイドカット抜き出し口からサイドカット成分(ES)として高純度ジオールを連続的に抜き出す工程(III)
を行うことによって、高純度ジオールを製造するための該連続多段蒸留塔Aと該連続多段蒸留塔Cと該連続多段蒸留塔Eと、を備える装置であって、
(a)該連続多段蒸留塔Aが、下記式(1)〜(6)を満足する長さL0(cm)、内径D0(cm)、内部に段数n0を持つインターナルを有し、塔頂部又はそれに近い塔の上部に内径d01(cm)のガス抜出し口、塔底部又はそれに近い塔の下部に内径d02(cm)の液抜出し口、該ガス抜出し口より下部であって塔の上部及び/又は中間部に1つ以上の第1の導入口、該液抜出し口より上部であって塔の中間部及び/又は下部に1つ以上の第2の導入口を有する蒸留塔であって、
2100 ≦ L0 ≦ 8000 式(1)
180 ≦ D0 ≦ 2000 式(2)
4 ≦ L0/D0 ≦ 40 式(3)
20 ≦ n0 ≦ 120 式(4)
3 ≦ D0/d01 ≦ 20 式(5)
5 ≦ D0/d02 ≦ 30 式(6)
(b)該連続多段蒸留塔Cが下記式(7)〜(15)を満足する長さLC1(cm)、内径DC1(cm)、内部に段数nC1をもつインターナルを有する回収部と、長さLC2(cm)、内径DC2(cm)、内部に段数nC2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
300 ≦ LC1 ≦ 3000 式(7)
50 ≦ DC1 ≦ 700 式(8)
3 ≦ LC1/DC1 ≦ 30 式(9)
3 ≦ nC1 ≦ 30 式(10)
1000 ≦ LC2 ≦ 5000 式(11)
50 ≦ DC2 ≦ 500 式(12)
10 ≦ LC2/DC2 ≦ 50 式(13)
20 ≦ nC2 ≦ 100 式(14)
DC2 ≦ DC1 式(15)
(c)該連続多段蒸留塔Cの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイには、式(16)を満足する断面積SC(cm2)の開口部を有するチムニーが1個以上設置されており、
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhC(cm)が、式(17)を満足するチムニーであり、
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
(d)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔であり、
(e)該連続多段蒸留塔Eが、下記式(18)〜(26)を満足する長さLE1(cm)、内径DE1(cm)、内部に段数nE1をもつインターナルを有する回収部と、長さLE2(cm)、内径DE2(cm)、内部に段数nE2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
400 ≦ LE1 ≦ 3000 式(18)
50 ≦ DE1 ≦ 700 式(19)
2 ≦ LE1/DE1 ≦ 50 式(20)
3 ≦ nE1 ≦ 30 式(21)
600 ≦ LE2 ≦ 4000 式(22)
100 ≦ DE2 ≦ 1000 式(23)
2 ≦ LE2/DE2 ≦ 30 式(24)
5 ≦ nE2 ≦ 50 式(25)
DE1 ≦ DE2 式(26)
(f)該連続多段蒸留塔Eの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイが、式(27)を満足する断面積SE(cm2)の開口部を有するチムニーを2個以上設置しており、
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhE(cm)が、式(28)を満足するチムニーであり、
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
(g)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔である、
ことを特徴とする高純度ジオールを製造するための連続多段蒸留塔Aと連続多段蒸留塔Cと連続多段蒸留塔Eと、を備える装置、
40. 該d01と該d02が式(29)を満足することを特徴とする前項39に記載の装置、
1 ≦ d01/d02 ≦ 5 式(29)
41. 該連続多段蒸留塔AのL0、D0、L0/D0、n0、D0/d01、D0/d02 がそれぞれ、2300≦L0≦6000、 200≦D0≦1000、 5≦L0/D0≦30、 30≦n0≦100、 4≦D0/d01≦15、 7≦D0/d02≦25であることを特徴とする前項39又は40に記載の装置、
42. 該連続多段蒸留塔Aのインターナルが、多孔板トレイであることを特徴とする前項39ないし41のうち何れか一項に記載の装置、
43. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有するものであることを特徴とする前項42に記載の装置、
44. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項42又は43に記載の装置、
45. 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜15%であることを特徴とする前項42ないし44のうち何れか一項に記載の装置、
46. 該連続多段蒸留塔Cの塔下部にある回収部最下部のインターナルの下部にさらに複数(nC3段)のトレイKを設け、該トレイKの最上段から液を一部連続的に抜き出し、リボイラーで蒸留に必要な熱量を与えた後、該加熱された液を回収部最下部のインターナルと該最上段トレイKとの間に設けられた供給口から蒸留塔Cに戻し、残りの液を下部のトレイに順に供給することができることを特徴とする前項39に記載の装置、
47. 該トレイKが、バッフルトレイであることを特徴とする前項46に記載の装置、
48. 該トレイKの存在する場所の該連続多段蒸留塔Cの内径(DC3)が、DC1≦DC3であることを特徴とする前項46又は47に記載の装置、
49. 該連続多段蒸留塔CのLC1、DC1、LC1/DC1、nC1、LC2、DC2、LC2/DC2、nC2、nC3が、それぞれ、500≦LC1≦2000、 70≦DC1≦500、 5≦LC1/DC1≦20、 5≦nC1≦20、 1500≦LC2≦4000、 70≦DC2≦400、 15≦LC2/DC2≦40、 30≦nC2≦90、 3≦nC3≦20 であることを特徴とする前項46ないし48のうち何れか一項に記載の装置、
50. 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナル及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする前項39ないし49のうち何れか一項に記載の装置、
51. 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナルがトレイであり、濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、トレイ及び/又は規則充填物であることを特徴とする前項50に記載の装置、
52. 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする前項50又は51に記載の装置、
53. 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有しており、且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項52に記載の装置、
54. 該連続多段蒸留塔Cの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜15%の範囲であることを特徴とする前項52又は53に記載の装置、
55. 該連続多段蒸留塔Cの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜12%の範囲であることを特徴とする前項52ないし54のうち何れか一項に記載の装置、
56. 該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、10〜40%の範囲であることを特徴とする前項39ないし55のうち何れか一項に記載の装置、
57. 該連続多段蒸留塔EのLE1、DE1、LE1/DE1、nE1、LE2、DE2、LE2/DE2、nE2が、それぞれ、500≦LE1≦2000、 100≦DE1≦500、 3≦LE1/DE1≦20、 5≦nE1≦20、 700≦LE2≦3000、 120≦DE2≦800、 3≦LE2/DE2≦20、 7≦nE2≦30、 DE1<DE2であることを特徴とする前項39ないし56のうち何れか一項に記載の装置、
58. 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする前項39ないし57のうち何れか一項に記載の装置、
59. 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれ、トレイであることを特徴とする前項58に記載の装置、
60. 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする前項59に記載の装置、
61. 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり150〜1200個の孔を有しており、且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする前項60に記載の装置、
62. 該連続多段蒸留塔Eの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、3〜25%の範囲であることを特徴とする前項60又は61に記載の装置、
63. 該連続多段蒸留塔Eの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜20%の範囲であることを特徴とする前項60ないし62のうち何れか一項に記載の装置、
64. 該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、5〜40%の範囲であることを特徴とする前項39ないし63のうち何れか一項に記載の装置、
を提供する。
本発明の工程(I)で行われる反応は、環状カーボネートと脂肪族1価アルコール類とから、ジアルキルカーボネートとジオール類が生成する下記式で表わされる可逆平衡なエステル交換反応である。
リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属類;
アルカリ金属及びアルカリ土類金属の水素化物、水酸化物、アルコキシド化物類、アリーロキシド化物類、アミド化物類等の塩基性化合物類;
アルカリ金属及びアルカリ土類金属の炭酸塩類、重炭酸塩類、有機酸塩類等の塩基性化合物類;
トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリヘキシルアミン、ベンジルジエチルアミン等の3級アミン類;
N−アルキルピロール、N−アルキルインドール、オキサゾール、N−アルキルイミダゾール、N−アルキルピラゾール、オキサジアゾール、ピリジン、アルキルピリジン、キノリン、アルキルキノリン、イソキノリン、アルキルイソキノリン、アクリジン、アルキルアクリジン、フェナントロリン、アルキルフェナントロリン、ピリミジン、アルキルピリミジン、ピラジン、アルキルピラジン、トリアジン、アルキルトリアジン等の含窒素複素芳香族化合物類;
ジアザビシクロウンデセン(DBU)、ジアザビシクロノネン(DBN)等の環状アミジン類;
酸化タリウム、ハロゲン化タリウム、水酸化タリウム、炭酸タリウム、硝酸タリウム、硫酸タリウム、タリウムの有機酸塩類等のタリウム化合物類;
トリブチルメトキシ錫、トリブチルエトキシ錫、ジブチルジメトキシ錫、ジエチルジエトキシ錫、ジブチルジエトキシ錫、ジブチルフェノキシ錫、ジフェニルメトキシ錫、酢酸ジブチル錫、塩化トリブチル錫、2−エチルヘキサン酸錫等の錫化合物類;
ジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜鉛、エチレンジオキシ亜鉛、ジブトキシ亜鉛等の亜鉛化合物類;
アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリブトキシド等のアルミニウム化合物類;
テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラブトキシチタン、ジクロロジメトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、酢酸チタン、チタンアセチルアセトナート等のチタン化合物類;
トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリブチルメチルホスホニウムハライド、トリオクチルブチルホスホニウムハライド、トリフェニルメチルホスホニウムハライド等のリン化合物類;
ハロゲン化ジルコニウム、ジルコニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムアルコキシド、酢酸ジルコニウム等のジルコニウム化合物類;
鉛及び鉛を含む化合物類、例えば、PbO、PbO2、Pb3O4などの酸化鉛類;
PbS、Pb2S3、PbS2などの硫化鉛類;
Pb(OH)2、Pb3O2(OH)2、Pb2[PbO2(OH)2]、Pb2O(OH)2などの水酸化鉛類;
Na2PbO2、K2PbO2、NaHPbO2、KHPbO2などの亜ナマリ酸塩類;
Na2PbO3、Na2H2PbO4、K2PbO3、K2[Pb(OH)6]、K4PbO4、Ca2PbO4、CaPbO3などの鉛酸塩類;
PbCO3、2PbCO3・Pb(OH)2などの鉛の炭酸塩及びその塩基性塩類;
Pb(OCH3)2、(CH3O)Pb(OPh)、Pb(OPh)2などのアルコキシ鉛類、アリールオキシ鉛類;
Pb(OCOCH3)2、Pb(OCOCH3)4、Pb(OCOCH3)2・PbO・3H2Oなどの有機酸の鉛塩及びその炭酸塩や塩基性塩類;
Bu4Pb、Ph4Pb、Bu3PbCl、Ph3PbBr、Ph3Pb(又はPh6Pb2)、Bu3PbOH、Ph2PbOなどの有機鉛化合物類(Buはブチル基、Phはフェニル基を示す);
Pb−Na、Pb−Ca、Pb−Ba、Pb−Sn、Pb−Sbなどの鉛の合金類;
ホウエン鉱、センアエン鉱などの鉛鉱物類、及びこれらの鉛化合物の水和物類;
が挙げられる。
(I)この原料を触媒が存在する連続多段蒸留塔A内に連続的に供給し、該蒸留塔A内で反応蒸留を行い、蒸留塔Aの上部から生成するジアルキルカーボネート及び該脂肪族1価アルコールを含む低沸点反応混合物(AT)をガス状で連続的に抜出し、蒸留塔Aの下部から生成するジオール類を含む高沸点反応混合物(AB)を液状で連続的に抜出す工程(I)、
(II)該高沸点反応混合物(AB)を連続多段蒸留塔Cに連続的に供給し、該高沸点反応混合物(AB)中に含有するジオールよりも低沸点の物質を塔頂成分(CT)及び/又はサイドカット成分(CS)として連続的に抜き出し、ジオールを主成分とする塔底成分(CB)を蒸留塔Cの下部から連続的に抜き出す工程(II)、
(III)該塔底成分(CB)を連続多段蒸留塔Eに連続的に供給し、該連続多段蒸留塔Eのサイドカット抜き出し口からサイドカット成分(ES)として高純度ジオールを連続的に抜き出す工程(III)、
を行う製造方法によって、1時間あたり好ましくは約1トン以上の高純度ジオールを長期間安定的に製造できる。
具体的には、
(a)該連続多段蒸留塔Aが、下記式(1)〜(6)を満足する長さL0(cm)、内径D0(cm)、内部に段数n0を持つインターナルを有し、塔頂部又はそれに近い塔の上部に内径d01(cm)のガス抜出し口、塔底部又はそれに近い塔の下部に内径d02(cm)の液抜出し口、該ガス抜出し口より下部であって塔の上部及び/又は中間部に1つ以上の第1の導入口、該液抜出し口より上部であって塔の中間部及び/又は下部に1つ以上の第2の導入口を有する蒸留塔であって、
2100 ≦ L0 ≦ 8000 式(1)
180 ≦ D0 ≦ 2000 式(2)
4 ≦ L0/D0 ≦ 40 式(3)
20 ≦ n0 ≦ 120 式(4)
3 ≦ D0/d01 ≦ 20 式(5)
5 ≦ D0/d02 ≦ 30 式(6)
(b)該連続多段蒸留塔Cが下記式(7)〜(15)を満足する長さLC1(cm)、内径DC1(cm)、内部に段数nC1をもつインターナルを有する回収部と、長さLC2(cm)、内径DC2(cm)、内部に段数nC2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
300 ≦ LC1 ≦ 3000 式(7)
50 ≦ DC1 ≦ 700 式(8)
3 ≦ LC1/DC1 ≦ 30 式(9)
3 ≦ nC1 ≦ 30 式(10)
1000 ≦ LC2 ≦ 5000 式(11)
50 ≦ DC2 ≦ 500 式(12)
10 ≦ LC2/DC2 ≦ 50 式(13)
20 ≦ nC2 ≦ 100 式(14)
DC2 ≦ DC1 式(15)
(c)該連続多段蒸留塔Cの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイには、式(16)を満足する断面積SC(cm2)の開口部を有するチムニーが1個以上設置されており、
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhC(cm)が、式(17)を満足するチムニーであり、
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
(d)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔であり、
(e)該連続多段蒸留塔Eが、下記式(18)〜(26)を満足する長さLE1(cm)、内径DE1(cm)、内部に段数nE1をもつインターナルを有する回収部と、長さLE2(cm)、内径DE2(cm)、内部に段数nE2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
400 ≦ LE1 ≦ 3000 式(18)
50 ≦ DE1 ≦ 700 式(19)
2 ≦ LE1/DE1 ≦ 50 式(20)
3 ≦ nE1 ≦ 30 式(21)
600 ≦ LE2 ≦ 4000 式(22)
100 ≦ DE2 ≦ 1000 式(23)
2 ≦ LE2/DE2 ≦ 30 式(24)
5 ≦ nE2 ≦ 50 式(25)
DE1 ≦ DE2 式(26)
(f)該連続多段蒸留塔Eの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイが、式(27)を満足する断面積SE(cm2)の開口部を有するチムニーを2個以上設置しており、
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhE(cm)が、式(28)を満足するチムニーであり、
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
(g)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔である、
ことが必要である。
なお、各々の要因の好ましい範囲は下記に示される。
1 ≦ d01/d02 ≦ 5 式(29)
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
また、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口(チムニーの上部開口部下端)までの高さh(cm)が、式(17)を満足していることが必要である。
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、ハロゲンはイオンクロマトグラフィーで測定した。
連続多段蒸留塔Aとして、図1に示されるようなL0=3300cm、D0=300cm、L0/D0=11、n0=60、D0/d01=7.5、D0/d02=12 である連続多段蒸留塔を用いた。この蒸留塔のトレイは多孔板トレイであり、多孔板部の孔1個あたりの断面積=約1.3cm2、孔数=約180〜320個/m2を有していた。環状カーボネートの供給段(下から55段目)より上の段の各トレイの堰の高さは5cmで、環状カーボネートの供給段以下の段の各トレイの堰の高さは6cmであった。また各トレイの開口比は、2.1〜4.2%の範囲であった。
エチレンカーボネートの反応率は100%で、エチレングリコールの選択率は99.8%であった。メタノール0.99トン/hr、ジメチルカーボネート0.001トン/hr、2−メトキシエタノール0.009トン/hr、エチレングリコール2.186トン/hr、ジエチレングリコール及び触媒成分0.019トン/hrから成るこの塔底成分(AB)が、図3に示されるように、連続多段蒸留塔Cに導入口1から連続的に供給された。この導入口1は、連続多段蒸留塔Cの下から10段目と11段目のトレイの間に設置されている。これとは別に、連続多段蒸留塔Cの塔底部のリボイラーを経て、連続多段蒸留塔Eの塔頂成分(ET)0.155トン/hr(エチレングリコール0.137トン/hr、水0.019トン/hr)が連続的に供給された。
連続多段蒸留塔Cは、塔底温度約200℃、塔頂圧力約11000Pa、還流比0.9で連続的に運転された。また、塔底液面レベルは、該多孔板トレイKの最下段のトレイよりも下に維持されていた。
連続多段蒸留塔Cの塔頂成分(CT)として、メタノール0.968トン/hr、ジメチルカーボネート0.001トン/hr、水0.019トン/hrが連続的に抜き出され、サイドカット成分(CS)として、メタノール0.022トン/hr、2−メトキシエタノール0.0093トン/hr、エチレングリコール0.003トン/hrが連続的に抜き出され、塔底成分(CB)として、エチレングリコール2.32トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.019トン/hrが連続的に抜き出された。
塔底成分(CB)中のエチレングリコールの濃度は99.1質量%であった。また、連続多段蒸留塔Cに供給されたエチレングリコールの99.82%が塔底成分(CB)として回収された。
この塔底成分(CB)2.339トン/hrが、下から8段目と9段目の間に設置された導入口1から連続多段蒸留塔Eに連続的に供給された。連続多段蒸留塔Eの塔底部の導入口5からリボイラー7を経て、酸素濃度が10ppm以下の水0.019トン/hrが供給された。連続多段蒸留塔Eは、塔底温度約149℃、塔底圧力約14600Pa、還流比11で連続的に運転された。
24時間後には安定的な定常運転が達成できた。連続多段蒸留塔Eの塔頂部2から、0.155トン/hrで連続的に抜き出された塔頂成分(ET)は、エチレングリコール0.136トン/hr、水0.019トン/hrから成っていた。この塔頂成分(ET)は連続多段蒸留塔Cにリサイクルされた。連続多段蒸留塔Eの塔底部3から、0.04トン/hrで連続的に抜き出された塔底成分(EB)は、エチレングリコール0.02トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.02トン/hrから成っていた。連続多段蒸留塔Eのサイドカット部4から、2.164トン/hrで連続的に抜き出されたサイドカット成分(ES)中のエチレングリコールの純度は99.99%以上であり、ジエチレングリコール等の高沸点不純物の含有量は10ppm以下であり、ハロゲンは検出限界外の1ppb以下であった。
エチレンカーボネート基準の高純度エチレングリコールの収率は98.6%であった。
この条件で長期間の連続運転を行った。500時間後、2000時間後、4000時間後、5000時間後、6000時間後の1時間あたりのエチレングリコールの製造量は、2.162トン、2.162トン、2.162トン、2.162トン、2.162トンであり、非常に安定していた。エチレングリコールの純度は、いずれも99.99%以上であり、ハロゲン含有量は検出限界外の1ppb以下であった。また、特許文献15の方法で測定したアルデヒド含有量は0.2ppm以下であり、220nmの紫外線透過率は90%であった。
実施例1と同じ連続多段蒸留塔A、連続多段蒸留塔C及び連続多段蒸留塔Eを用いて、同様な方法で高純度エチレングリコールの製造を行った。
エチレンカーボネート(3.565トン/hr)とメタノール(モル比MeOH/EC=8)からなる原料と触媒(KOHをエチレングリコール中で加熱脱水処理したもの:K濃度としてECに対して0.1質量%)を連続多段蒸留塔Aに連続的に供給し、反応蒸留を行うことによって、実施例1と同様な反応成績でジメチルカーボネートとエチレングリコールが製造され、エチレングリコールを主成分とする塔底成分(AB)が連続的に抜き出された。塔底部の温度は93℃で、塔頂部の圧力は約1.046×105Pa、還流比は0.48であった。実施例1と同じ連続多段蒸留塔Cを用いて、同様な方法でエチレングリコールの蒸留分離を行った。連続多段蒸留塔Cから2.472トン/hrで連続的に抜き出された塔底成分(CB)は、エチレングリコール2.439トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.033トン/hrから成っていた。塔底成分(CB)中のエチレングリコールの濃度は99.1質量%であった。また、連続多段蒸留塔Cに供給されたエチレングリコールの99.8%が塔底成分(CB)として回収された。
連続多段蒸留塔Cから連続的に抜き出された塔底成分(CB)2.472トン/hr(エチレングリコール2.439トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.033トン/hr)が、図3に示されるように導入口1から連続多段蒸留塔Eに連続的に供給された。
連続多段蒸留塔Eの塔底部の導入口5からリボイラー7を経て、酸素濃度が10ppm以下の水0.022トン/hrが供給された。連続多段蒸留塔Eは、塔底温度約162℃、塔底圧力約17300Pa、還流比12で連続的に運転された。
24時間後には安定的な定常運転が達成できた。連続多段蒸留塔Eの塔頂部2から、0.192トン/hrで連続的に抜き出された塔頂成分(ET)は、エチレングリコール0.17トン/hr、水0.022トン/hrから成っていた。この塔頂成分(ET)は連続多段蒸留塔Cにリサイクルされた。連続多段蒸留塔Eの塔底部3から、0.055トン/hrで連続的に抜き出された塔底成分(EB)は、エチレングリコール0.015トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.04トン/hrから成っていた。連続多段蒸留塔Eのサイドカット部4から、2.29トン/hrで連続的に抜き出されたサイドカット成分(ES)中のエチレングリコールの純度は99.99%以上であり、ジエチレングリコール等の高沸点不純物の含有量は10ppm以下であり、ハロゲンは検出限界外の1ppb以下であった。
エチレンカーボネート基準の高純度エチレングリコールの収率は98.5%であった。
この条件で長期間の連続運転を行った。1000時間後、2000時間後、3000時間後、5000時間後の1時間あたりのエチレングリコールの製造量は、2.29トン、2.29トン、2.29トン、2.29トンであり、非常に安定していた。エチレングリコールの純度は、いずれも99.99%以上であり、ハロゲン含有量は検出限界外の1ppb以下であった。また、アルデヒド含有量は0.2ppm以下であり、220nmの紫外線透過率は90%であった。
連続多段蒸留塔Aとして、実施例1とほぼ同じ蒸留塔を用いた。ただし、多孔板トレイは、多孔板部の孔1個あたりの断面積=約1.3cm2、孔数=約240〜360個/m2を有していた。環状カーボネートの供給段(下から55段目)より上の段の各トレイの堰の高さは5cmで、環状カーボネートの供給段以下の段の各トレイの堰の高さは10cmであった。また各トレイの開口比は、3.0〜5.0%の範囲であった。
連続多段蒸留塔Cとして、実施例1とほぼ同じ蒸留塔を用いた。ただし、回収部及び濃縮部の多孔板トレイの孔数は約550〜650個/m2の範囲であり、開口比は6.5〜8.5%の範囲であった。また、連続多段蒸留塔Eとして、実施例1とほぼ同じ蒸留塔を用いた。ただし、回収部の多孔板トレイの孔数は約650〜750個/m2の範囲であり、開口比は8〜10%の範囲で、濃縮部の多孔板トレイの孔数は約500〜650個/m2の範囲であり、開口比は6〜8%の範囲であった。
エチレンカーボネート(8.20トン/hr)とメタノール(モル比MeOH/EC=9)からなる原料と触媒(KOHをエチレングリコール中で加熱脱水処理したもの:K濃度としてECに対して0.1質量%)を連続多段蒸留塔Aに連続的に供給し、反応蒸留を行うことによって、実施例1と同様な反応成績でジメチルカーボネートとエチレングリコールが製造され、エチレングリコールを主成分とする塔底成分(AB)が連続的に抜き出された。連続多段蒸留塔Cを用いて、実施例1と同様な方法でエチレングリコールの蒸留分離を行った。連続多段蒸留塔Cから5.852トン/hrで連続的に抜き出された塔底成分(CB)は、エチレングリコール5.754トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.098トン/hrから成っていた。塔底成分(CB)中のエチレングリコールの濃度は98.3質量%であった。また、連続多段蒸留塔Cに供給されたエチレングリコールの99.8%が塔底成分(CB)として回収された。エチレンカーボネート基準のエチレングリコールの収率は99.6%であった。
連続多段蒸留塔Cから連続的に抜き出された塔底成分(CB)5.852トン/hr(エチレングリコール5.754トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.098トン/hr)が、図3に示されるように導入口1から連続多段蒸留塔Eに連続的に供給された。
連続多段蒸留塔Eの塔底部の導入口5からリボイラー7を経て、酸素濃度が10ppm以下の水0.05トン/hrが供給された。連続多段蒸留塔Eは、塔底温度約160℃、塔底圧力約21300Pa、還流比13で連続的に運転された。
24時間後には安定的な定常運転が達成できた。連続多段蒸留塔Eの塔頂部2から、0.45トン/hrで連続的に抜き出された塔頂成分(ET)は、エチレングリコール0.4トン/hr、水0.05トン/hrから成っていた。この塔頂成分(ET)は連続多段蒸留塔Cにリサイクルされた。連続多段蒸留塔Eの塔底部3から、0.2トン/hrで連続的に抜き出された塔底成分(EB)は、エチレングリコール0.1トン/hr、ジエチレングリコール、触媒成分及び高沸点副生物0.1トン/hrから成っていた。連続多段蒸留塔Eのサイドカット部4から、5.202トン/hrで連続的に抜き出されたサイドカット成分(ES)中のエチレングリコールの純度は99.99%以上であり、ジエチレングリコール等の高沸点不純物の含有量は10ppm以下であり、ハロゲンは検出限界外の1ppb以下であった。
エチレンカーボネート基準の高純度エチレングリコールの収率は97.6%であった。
この条件で長期間の連続運転を行った。500時間後、1000時間後、1500時間後の1時間あたりのエチレングリコールの製造量は、5.202トン、5.202トン、5.202トンであり、非常に安定していた。エチレングリコールの純度は、99.99%以上であり、ハロゲン含有量は検出限界外の1ppb以下であった。また、アルデヒド含有量は0.2ppm以下であり、220nmの紫外線透過率は90%であった。
Claims (64)
- 環状カーボネートと脂肪族1価アルコールとを原料として、
(I)この原料を触媒が存在する連続多段蒸留塔A内に連続的に供給し、該蒸留塔A内で反応蒸留を行い、蒸留塔Aの上部から生成するジアルキルカーボネート及び該脂肪族1価アルコールを含む低沸点反応混合物(AT)をガス状で連続的に抜出し、蒸留塔Aの下部から生成するジオール類を含む高沸点反応混合物(AB)を液状で連続的に抜出す工程(I)、
(II)該高沸点反応混合物(AB)を連続多段蒸留塔Cに連続的に供給し、該高沸点反応混合物(AB)中に含有するジオールよりも低沸点の物質を塔頂成分(CT)及び/又はサイドカット成分(CS)として連続的に抜き出し、ジオールを主成分とする塔底成分(CB)を蒸留塔Cの下部から連続的に抜き出す工程(II)、
(III)該塔底成分(CB)を連続多段蒸留塔Eに連続的に供給し、該連続多段蒸留塔Eのサイドカット抜き出し口からサイドカット成分(ES)として高純度ジオールを連続的に抜き出す工程(III)
を行うことによって、高純度ジオールを製造するにあたり、
(a)該連続多段蒸留塔Aが、下記式(1)〜(6)を満足する長さL0(cm)、内径D0(cm)、内部に段数n0を持つインターナルを有し、塔頂部又はそれに近い塔の上部に内径d01(cm)のガス抜出し口、塔底部又はそれに近い塔の下部に内径d02(cm)の液抜出し口、該ガス抜出し口より下部であって塔の上部及び/又は中間部に1つ以上の第1の導入口、該液抜出し口より上部であって塔の中間部及び/又は下部に1つ以上の第2の導入口を有する蒸留塔であって、
2100 ≦ L0 ≦ 8000 式(1)
180 ≦ D0 ≦ 2000 式(2)
4 ≦ L0/D0 ≦ 40 式(3)
20 ≦ n0 ≦ 120 式(4)
3 ≦ D0/d01 ≦ 20 式(5)
5 ≦ D0/d02 ≦ 30 式(6)
(b)該連続多段蒸留塔Cが下記式(7)〜(15)を満足する長さLC1(cm)、内径DC1(cm)、内部に段数nC1をもつインターナルを有する回収部と、長さLC2(cm)、内径DC2(cm)、内部に段数nC2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
300 ≦ LC1 ≦ 3000 式(7)
50 ≦ DC1 ≦ 700 式(8)
3 ≦ LC1/DC1 ≦ 30 式(9)
3 ≦ nC1 ≦ 30 式(10)
1000 ≦ LC2 ≦ 5000 式(11)
50 ≦ DC2 ≦ 500 式(12)
10 ≦ LC2/DC2 ≦ 50 式(13)
20 ≦ nC2 ≦ 100 式(14)
DC2 ≦ DC1 式(15)
(c)該連続多段蒸留塔Cの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイには、式(16)を満足する断面積SC(cm2)の開口部を有するチムニーが1個以上設置されており、
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhC(cm)が、式(17)を満足するチムニーであり、
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
(d)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔であり、
(e)該連続多段蒸留塔Eが、下記式(18)〜(26)を満足する長さLE1(cm)、内径DE1(cm)、内部に段数nE1をもつインターナルを有する回収部と、長さLE2(cm)、内径DE2(cm)、内部に段数nE2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
400 ≦ LE1 ≦ 3000 式(18)
50 ≦ DE1 ≦ 700 式(19)
2 ≦ LE1/DE1 ≦ 50 式(20)
3 ≦ nE1 ≦ 30 式(21)
600 ≦ LE2 ≦ 4000 式(22)
100 ≦ DE2 ≦ 1000 式(23)
2 ≦ LE2/DE2 ≦ 30 式(24)
5 ≦ nE2 ≦ 50 式(25)
DE1 ≦ DE2 式(26)
(f)該連続多段蒸留塔Eの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイが、式(27)を満足する断面積SE(cm2)の開口部を有するチムニーを2個以上設置しており、
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhE(cm)が、式(28)を満足するチムニーであり、
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
(g)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔である、
ことを特徴とする高純度ジオールを工業的に製造する方法。 - 製造される高純度ジオールの量が、1時間あたり1トン以上であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 該d01と該d02が式(29)を満足することを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
1 ≦ d01/d02 ≦ 5 式(29) - 該連続多段蒸留塔AのL0、D0、L0/D0、n0、D0/d01、D0/d02が、それぞれ、2300≦L0≦6000、 200≦D0≦1000、 5≦L0/D0≦30、 30≦n0≦100、 4≦D0/d01≦15、 7≦D0/d02≦25であることを特徴とする請求項1ないし3のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Aのインターナルが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項1ないし4のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有するものであることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項5又は6に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が1.5〜15%であることを特徴とする請求項5ないし7のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの塔下部にある回収部最下部のインターナルの下部にさらに複数(nC3段)のトレイKを設け、該トレイKの最上段から液を一部連続的に抜き出し、リボイラーで蒸留に必要な熱量を与えた後、該加熱された液を回収部最下部のインターナルと該最上段トレイKとの間に設けられた供給口から蒸留塔Cに戻し、残りの液を下部のトレイに順に供給することを特徴とする請求項1ないし8のうち何れか一項に記載の方法。
- 該トレイKが、バッフルトレイであることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 該トレイKの存在する場所の該連続多段蒸留塔Cの内径(DC3)が、DC1≦DC3であることを特徴とする請求項9又は10に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔CのLC1、DC1、LC1/DC1、nC1、LC2、DC2、LC2/DC2、nC2、nC3が、それぞれ、500≦LC1≦2000、 70≦DC1≦500、 5≦LC1/DC1≦20、 5≦nC1≦20、 1500≦LC2≦4000、 70≦DC2≦400、 15≦LC2/DC2≦40、 30≦nC2≦90、 3≦nC3≦20 であることを特徴とする請求項9ないし11のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナル及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする請求項1ないし12のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナルがトレイであり、濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、トレイ及び/又は規則充填物であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項13又は14に記載の方法。
- 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有しており、
且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 該連続多段蒸留塔Cの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜15%の範囲であることを特徴とする請求項15又は16に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜12%の範囲であることを特徴とする請求項15ないし17のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、
該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、10〜40%の範囲であることを特徴とする請求項1ないし18のうち何れか一項に記載の方法。 - 該連続多段蒸留塔Cの塔底温度が、150〜250℃の範囲であることを特徴とする請求項1ないし19のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの塔頂圧力が、50000〜300000Paの範囲であることを特徴とする請求項1ないし20のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Cの還流比が、0.3〜5の範囲であることを特徴とする請求項1ないし21のうち何れか一項に記載の方法。
- 該塔頂成分(CT)中のジオールの含有量が、100ppm以下であることを特徴とする請求項1ないし22のうち何れか一項に記載の方法。
- 該サイドカット成分(CS)中のジオールの含有量が、該連続多段蒸留塔Cに供給されたジオールの0.5%以下であることを特徴とする請求項1ないし23のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔EのLE1、DE1、LE1/DE1、nE1、LE2、DE2、LE2/DE2、nE2が、それぞれ、500≦LE1≦2000、 100≦DE1≦500、 3≦LE1/DE1≦20、 5≦nE1≦20、 700≦LE2≦3000、 120≦DE2≦800、 3≦LE2/DE2≦20、 7≦nE2≦30、 DE1<DE2であることを特徴とする請求項1ないし24のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする請求項1ないし25のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイであることを特徴とする請求項26に記載の方法。
- 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項27に記載の方法。
- 該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり150〜1200個の孔を有しており、且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項28に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、3〜25%の範囲であることを特徴とする請求項28又は29に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜20%の範囲であることを特徴とする請求項28ないし30のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、
該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、5〜40%の範囲であることを特徴とする請求項1ないし31のうち何れか一項に記載の方法。 - 該連続多段蒸留塔Eの塔底温度が、110〜210℃の範囲であることを特徴とする請求項1ないし32のうち何れか一項に記載の方法。
- 該連続多段蒸留塔Eの還流比が、6〜100の範囲であることを特徴とする請求項1ないし33のうち何れか一項に記載の方法。
- 該サイドカット成分(ES)中のジオールの純度が、99%以上であることを特徴とする請求項1ないし34のうち何れか一項に記載の方法。
- 該サイドカット成分(ES)中のジオールの純度が、99.9%以上であることを特徴とする請求項1ないし35のうち何れか一項に記載の方法。
- 高純度ジオールよりも高沸点の不純物が200ppm以下であって、ハロゲン含有量が0.1ppm以下である高純度ジオールを製造することを特徴とする請求項1ないし36のうち何れか一項に記載の方法。
- 高純度ジオールよりも高沸点の不純物が100ppm以下であって、ハロゲン含有量が1ppb以下である高純度ジオールを製造することを特徴とする請求項1ないし36のうち何れか一項に記載の方法。
- 環状カーボネートと脂肪族1価アルコールとを原料として、
(I)この原料を触媒が存在する連続多段蒸留塔A内に連続的に供給し、該蒸留塔A内で反応蒸留を行い、蒸留塔Aの上部から生成するジアルキルカーボネート及び該脂肪族1価アルコールを含む低沸点反応混合物(AT)をガス状で連続的に抜出し、蒸留塔Aの下部から生成するジオール類を含む高沸点反応混合物(AB)を液状で連続的に抜出す工程(I)、
(II)該高沸点反応混合物(AB)を連続多段蒸留塔Cに連続的に供給し、該高沸点反応混合物(AB)中に含有するジオールよりも低沸点の物質を塔頂成分(CT)及び/又はサイドカット成分(CS)として連続的に抜き出し、ジオールを主成分とする塔底成分(CB)を蒸留塔Cの下部から連続的に抜き出す工程(II)、
(III)該塔底成分(CB)を連続多段蒸留塔Eに連続的に供給し、該連続多段蒸留塔Eのサイドカット抜き出し口からサイドカット成分(ES)として高純度ジオールを連続的に抜き出す工程(III)
を行うことによって、高純度ジオールを製造するための該連続多段蒸留塔Aと該連続多段蒸留塔Cと該連続多段蒸留塔Eと、を備える装置であって、
(a)該連続多段蒸留塔Aが、下記式(1)〜(6)を満足する長さL0(cm)、内径D0(cm)、内部に段数n0を持つインターナルを有し、塔頂部又はそれに近い塔の上部に内径d01(cm)のガス抜出し口、塔底部又はそれに近い塔の下部に内径d02(cm)の液抜出し口、該ガス抜出し口より下部であって塔の上部及び/又は中間部に1つ以上の第1の導入口、該液抜出し口より上部であって塔の中間部及び/又は下部に1つ以上の第2の導入口を有する蒸留塔であって、
2100 ≦ L0 ≦ 8000 式(1)
180 ≦ D0 ≦ 2000 式(2)
4 ≦ L0/D0 ≦ 40 式(3)
20 ≦ n0 ≦ 120 式(4)
3 ≦ D0/d01 ≦ 20 式(5)
5 ≦ D0/d02 ≦ 30 式(6)
(b)該連続多段蒸留塔Cが下記式(7)〜(15)を満足する長さLC1(cm)、内径DC1(cm)、内部に段数nC1をもつインターナルを有する回収部と、長さLC2(cm)、内径DC2(cm)、内部に段数nC2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
300 ≦ LC1 ≦ 3000 式(7)
50 ≦ DC1 ≦ 700 式(8)
3 ≦ LC1/DC1 ≦ 30 式(9)
3 ≦ nC1 ≦ 30 式(10)
1000 ≦ LC2 ≦ 5000 式(11)
50 ≦ DC2 ≦ 500 式(12)
10 ≦ LC2/DC2 ≦ 50 式(13)
20 ≦ nC2 ≦ 100 式(14)
DC2 ≦ DC1 式(15)
(c)該連続多段蒸留塔Cの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイには、式(16)を満足する断面積SC(cm2)の開口部を有するチムニーが1個以上設置されており、
200 ≦ SC ≦ 1000 式(16)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhC(cm)が、式(17)を満足するチムニーであり、
10 ≦ hC ≦ 80 式(17)
(d)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔であり、
(e)該連続多段蒸留塔Eが、下記式(18)〜(26)を満足する長さLE1(cm)、内径DE1(cm)、内部に段数nE1をもつインターナルを有する回収部と、長さLE2(cm)、内径DE2(cm)、内部に段数nE2をもつインターナルを有する濃縮部と、を備え、
400 ≦ LE1 ≦ 3000 式(18)
50 ≦ DE1 ≦ 700 式(19)
2 ≦ LE1/DE1 ≦ 50 式(20)
3 ≦ nE1 ≦ 30 式(21)
600 ≦ LE2 ≦ 4000 式(22)
100 ≦ DE2 ≦ 1000 式(23)
2 ≦ LE2/DE2 ≦ 30 式(24)
5 ≦ nE2 ≦ 50 式(25)
DE1 ≦ DE2 式(26)
(f)該連続多段蒸留塔Eの濃縮部には、インターナルとして1つ以上のチムニートレイが設置されており、該チムニートレイが、式(27)を満足する断面積SE(cm2)の開口部を有するチムニーを2個以上設置しており、
50 ≦ SE ≦ 2000 式(27)
且つ、該チムニーの該開口部から該チムニーのガス出口までの高さhE(cm)が、式(28)を満足するチムニーであり、
20 ≦ hE ≦ 100 式(28)
(g)サイドカット抜き出し口が該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの液溜り部に接続されている、
連続多段蒸留塔である、
ことを特徴とする高純度ジオールを製造するための連続多段蒸留塔Aと連続多段蒸留塔Cと連続多段蒸留塔Eと、を備える装置。 - 該d01と該d02が式(29)を満足することを特徴とする請求項39に記載の装置。
1 ≦ d01/d02 ≦ 5 式(29) - 該連続多段蒸留塔AのL0、D0、L0/D0、n0、D0/d01、D0/d02がそれぞれ、2300≦L0≦6000、 200≦D0≦1000、 5≦L0/D0≦30、 30≦n0≦100、 4≦D0/d01≦15、 7≦D0/d02≦25であることを特徴とする請求項39又は40に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Aのインターナルが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項39ないし41のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイが、多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有するものであることを特徴とする請求項42に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項42又は43に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Aの該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜15%であることを特徴とする請求項42ないし44のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Cの塔下部にある回収部最下部のインターナルの下部にさらに複数(nC3段)のトレイKを設け、該トレイKの最上段から液を一部連続的に抜き出し、リボイラーで蒸留に必要な熱量を与えた後、該加熱された液を回収部最下部のインターナルと該最上段トレイKとの間に設けられた供給口から蒸留塔Cに戻し、残りの液を下部のトレイに順に供給することができることを特徴とする請求項39に記載の装置。
- 該トレイKが、バッフルトレイであることを特徴とする請求項46に記載の装置。
- 該トレイKの存在する場所の該連続多段蒸留塔Cの内径(DC3)が、DC1≦DC3であることを特徴とする請求項46又は47に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔CのLC1、DC1、LC1/DC1、nC1、LC2、DC2、LC2/DC2、nC2、nC3が、それぞれ、500≦LC1≦2000、 70≦DC1≦500、 5≦LC1/DC1≦20、 5≦nC1≦20、 1500≦LC2≦4000、 70≦DC2≦400、 15≦LC2/DC2≦40、 30≦nC2≦90、 3≦nC3≦20 であることを特徴とする請求項46ないし48のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナル及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする請求項39ないし49のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Cの回収部のインターナルがトレイであり、濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、トレイ及び/又は規則充填物であることを特徴とする請求項50に記載の装置。
- 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項50又は51に記載の装置。
- 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり100〜1000個の孔を有しており、
且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項52に記載の装置。 - 該連続多段蒸留塔Cの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜15%の範囲であることを特徴とする請求項52又は53に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Cの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、1.5〜12%の範囲であることを特徴とする請求項52ないし54のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Cの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、
該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、10〜40%の範囲であることを特徴とする請求項39ないし55のうち何れか一項に記載の装置。 - 該連続多段蒸留塔EのLE1、DE1、LE1/DE1、nE1、LE2、DE2、LE2/DE2、nE2が、それぞれ、500≦LE1≦2000、 100≦DE1≦500、 3≦LE1/DE1≦20、 5≦nE1≦20、 700≦LE2≦3000、 120≦DE2≦800、 3≦LE2/DE2≦20、 7≦nE2≦30、 DE1<DE2であることを特徴とする請求項39ないし56のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれトレイ及び/又は充填物であることを特徴とする請求項39ないし57のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Eの回収部及び濃縮部のチムニートレイを除くインターナルが、それぞれ、トレイであることを特徴とする請求項58に記載の装置。
- 該トレイが、多孔板トレイであることを特徴とする請求項59に記載の装置。
- 該多孔板トレイが多孔板部の面積1m2あたり150〜1200個の孔を有しており、
且つ、孔1個あたりの断面積が0.5〜5cm2であることを特徴とする請求項60に記載の装置。 - 該連続多段蒸留塔Eの回収部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、3〜25%の範囲であることを特徴とする請求項60又は61に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Eの濃縮部における該多孔板トレイの開口比(トレイ1段の孔の断面積の合計と該トレイの面積との比)が、2〜20%の範囲であることを特徴とする請求項60ないし62のうち何れか一項に記載の装置。
- 該連続多段蒸留塔Eの該チムニートレイの開口比(チムニーの開口部断面積の合計と、該開口部全断面積を含むチムニートレイの面積との比)が、5〜40%の範囲であることを特徴とする請求項39ないし63のうち何れか一項に記載の装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007556835A JP4986867B2 (ja) | 2006-02-01 | 2007-01-26 | 高純度ジオールを工業的に製造する方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006024955 | 2006-02-01 | ||
JP2006024955 | 2006-02-01 | ||
PCT/JP2007/051238 WO2007088782A1 (ja) | 2006-02-01 | 2007-01-26 | 高純度ジオールを工業的に製造する方法 |
JP2007556835A JP4986867B2 (ja) | 2006-02-01 | 2007-01-26 | 高純度ジオールを工業的に製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007088782A1 JPWO2007088782A1 (ja) | 2009-06-25 |
JP4986867B2 true JP4986867B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=38327359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007556835A Active JP4986867B2 (ja) | 2006-02-01 | 2007-01-26 | 高純度ジオールを工業的に製造する方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090270656A1 (ja) |
EP (1) | EP1980548A1 (ja) |
JP (1) | JP4986867B2 (ja) |
KR (1) | KR20080083049A (ja) |
CN (1) | CN101370757B (ja) |
BR (1) | BRPI0707221A2 (ja) |
EA (1) | EA200870139A1 (ja) |
TW (1) | TW200738602A (ja) |
WO (1) | WO2007088782A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8058465B2 (en) | 2005-11-25 | 2011-11-15 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Process for industrially producing dialkyl carbonate and diol |
TWI314549B (en) | 2005-12-26 | 2009-09-11 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Industrial process for separating out dialkyl carbonate |
US8618334B2 (en) * | 2007-12-20 | 2013-12-31 | Dsm Ip Assets B.V. | Cyclohexanone production process with modified post-distillation |
BRPI0805556A2 (pt) | 2008-12-10 | 2010-08-24 | Ademar Luis Corradi | sistema de moagem por compressço de duas secÇÕes de discos em rotaÇço e suas aplicaÇÕes |
SG179023A1 (en) * | 2009-09-29 | 2012-04-27 | Shell Int Research | Process for preparing alkanediol and dialkyl carbonate |
CN102188832B (zh) * | 2010-03-03 | 2014-01-22 | 中国石油化工股份有限公司 | 反应蒸馏分隔塔塔体 |
CN102188831B (zh) * | 2010-03-03 | 2013-12-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 反应蒸馏的方法 |
CN102188830B (zh) * | 2010-03-03 | 2013-12-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 反应蒸馏的方法 |
CN102188833B (zh) * | 2010-03-03 | 2013-12-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 反应蒸馏塔塔体 |
US8829252B2 (en) | 2010-07-12 | 2014-09-09 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | System for alcohol production |
CN202620759U (zh) * | 2011-12-21 | 2012-12-26 | 株式会社吴羽 | 蒸馏塔系 |
KR101364705B1 (ko) * | 2012-01-09 | 2014-02-20 | 아주대학교산학협력단 | 무선 네트워크 상의 혼잡을 줄이는 네트워크 관리 방법 및 시스템 |
GB201710508D0 (en) * | 2017-06-30 | 2017-08-16 | Johnson Matthey Davy Technologies Ltd | Process |
US11111205B2 (en) | 2017-07-18 | 2021-09-07 | Shell Oil Company | Process for preparing alkanediol and dialkyl carbonate |
TWI846082B (zh) | 2021-10-05 | 2024-06-21 | 日商旭化成股份有限公司 | 高純度碳酸二芳酯的製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003342209A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | ジメチルカーボネート及びエチレングリコールの製造方法 |
JP2004131394A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ジアルキルカーボネートおよびジオールを製造する方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4129316A1 (de) * | 1991-09-03 | 1993-03-04 | Bayer Ag | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von dialkylcarbonaten |
DE4216121A1 (de) * | 1992-05-15 | 1993-11-18 | Bayer Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Dialkylcarbonaten |
JP3652035B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2005-05-25 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | ジアルキルカーボネートおよびジオールの連続的製造法 |
DE69620470T2 (de) * | 1995-12-22 | 2002-11-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha, Osaka | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von dialkylcarbonaten und diolen |
JP4565742B2 (ja) * | 1998-06-10 | 2010-10-20 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | ジアルキルカーボネートとジオールを連続的に製造する方法 |
DE60036936T2 (de) * | 1999-03-03 | 2008-08-07 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von einem dialkylcarbonat und diol |
AU2005254380A1 (en) * | 2004-06-17 | 2005-12-29 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Process for producing dialkyl carbonate and diol |
JP4174540B2 (ja) * | 2004-09-17 | 2008-11-05 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 副生アルコール類の工業的分離方法 |
-
2007
- 2007-01-22 TW TW096102365A patent/TW200738602A/zh unknown
- 2007-01-26 US US11/991,387 patent/US20090270656A1/en not_active Abandoned
- 2007-01-26 CN CN2007800029313A patent/CN101370757B/zh active Active
- 2007-01-26 EA EA200870139A patent/EA200870139A1/ru unknown
- 2007-01-26 EP EP07707470A patent/EP1980548A1/en not_active Withdrawn
- 2007-01-26 WO PCT/JP2007/051238 patent/WO2007088782A1/ja active Application Filing
- 2007-01-26 KR KR1020087018959A patent/KR20080083049A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-01-26 JP JP2007556835A patent/JP4986867B2/ja active Active
- 2007-01-26 BR BRPI0707221-0A patent/BRPI0707221A2/pt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003342209A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | ジメチルカーボネート及びエチレングリコールの製造方法 |
JP2004131394A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ジアルキルカーボネートおよびジオールを製造する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101370757A (zh) | 2009-02-18 |
US20090270656A1 (en) | 2009-10-29 |
EA200870139A1 (ru) | 2009-12-30 |
EP1980548A1 (en) | 2008-10-15 |
BRPI0707221A2 (pt) | 2011-04-26 |
CN101370757B (zh) | 2012-03-28 |
WO2007088782A1 (ja) | 2007-08-09 |
KR20080083049A (ko) | 2008-09-12 |
JPWO2007088782A1 (ja) | 2009-06-25 |
TW200738602A (en) | 2007-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4986867B2 (ja) | 高純度ジオールを工業的に製造する方法 | |
JP4260212B2 (ja) | ジアルキルカーボネートの工業的分離方法 | |
JP4937140B2 (ja) | ジアルキルカーボネートとジオール類の工業的製造方法 | |
JP4986866B2 (ja) | 高純度ジオールの工業的製造法 | |
JP5074213B2 (ja) | ジオールの工業的製造方法 | |
JP4936555B2 (ja) | 高純度ジアリールカーボネートの工業的製造法 | |
JP4936556B2 (ja) | 芳香族カーボネートの工業的製造法 | |
JP4236207B2 (ja) | ジアルキルカーボネートとジオール類の工業的製造法 | |
JP4246779B2 (ja) | ジアルキルカーボネートとジオール類を工業的に製造する方法 | |
JP4236275B2 (ja) | ジアルキルカーボネートとジオール類の工業的製造方法 | |
JP5088954B2 (ja) | 高純度ジオールの工業的製造方法 | |
JP7569448B2 (ja) | ジアルキルカーボネートの製造方法、及びジアルキルカーボネートの製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120423 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120424 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4986867 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |