JP4974009B2 - 電子部品 - Google Patents
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Description
しかし、電子機器の小型化に伴って、DC−DCコンバータの容積を低減することが要請されていた。
図20に特許文献1記載のDC−DCコンバータを示す。半導体集積回路206やコンデンサ又は抵抗207などの回路部品を搭載するための第1の外部電極211aが上面に形成され且つ第1の外部電極211aからの配線を行なうための第1の導体パターン209aが内部に形成された、絶縁性材料による第1の配線層201と、第1の配線層201より下側に設けられ且つインダクタ用のコイルを構成するためのコイル導体パターン208が内部に形成された、磁性体材料によるコイル層203と、コイル層3より下側に設けられ第2の外部電極211bが底面に形成され且つ第2の外部電極211bへの配線を行なうための第2の導体パターン209bが内部に構成された絶縁性材料による第2の配線層205とを有する。
そして、第1の配線層201の少なくとも一部とコイル層203と第2の配線層205の少なくとも一部とを貫き、第1の導体パターン209a並びに第2の導体パターン209bと接続され且つ導電体が充填されたヴィアホール210が、積層基板内部の外周部分に形成される。ヴィアホール210は、積層基板を貫通する長いものであった。
またCPUなどの半導体装置に対しては、高速化並びに高機能化とともに動作電圧の低下並びに高電流化が進み、DC‐DCコンバータの出力も、低電圧化並びに高電流化が要求されている。
しかし動作電圧が低下すると、半導体装置はDC‐DCコンバータの出力電圧の変動(リップル)の影響を受けやすくなる。これを防ぐため、スイッチング周波数を更に4〜10 MHz程度に高めたものも提案されている。
直流電圧VINを交流(パルス)電圧に変換するために、2つのMOSトランジスタQ1,Q2を交互にON/OFFしてスイッチング動作を制御する制御回路において、出力電圧VOUTと基準電圧Vrとが、誤差増幅器で比較され、誤差電圧(=VOUT−Vr)によってパルス幅変調器PWM(Pulse Width Modulation)により制御され、一定値の直流の出力電圧VOUTが得られる。
より詳しく述べると、スイッチング素子(MOSトランジスタQ1,Q2)を、パルス幅変調器PWMからの制御信号に基づいてスイッチングし、直流の入力電圧(電池)を出力電圧VOUT[=Ton/(Ton+Toff)×VIN(Ton=トランジスタQ1のオン時間=トランジスタQ2のオフ時間、Toff=トランジスタQ1のオフ時間=トランジスタQ2のオン時間であり、Ton/(Ton+Toff)はデューティ比)〕に降圧する。入力電圧が変動してもデューティ比を調整し、一定の直流出力電圧VOUTを安定的に出力できる。
MOSトランジスタQ1がOFF状態で定常状態にあるものとする。このような定常状態においてMOSトランジスタQ1がONすると、MOSトランジスタQ1を介して入力電圧VIN(電池)から出力インダクタLoutへと電流が流れ、出力インダクタLoutの負荷抵抗R側の電圧は、出力コンデンサCoutによって平滑化されて負荷抵抗Rに印加される。この際、MOSトランジスタQ1のON期間には、出力インダクタLoutに、その電流に応じたエネルギが蓄積される。
その後、MOSトランジスタQ1がOFFすると、出力インダクタLoutの両端に起電力が発生し、この起電力によって維持される電流がMOSトランジスタQ2を通じて転流して、ON期間に蓄積されたエネルギが負荷抵抗Rに供給される。
以上の動作を繰り返すことにより、負荷抵抗Rの両端にはMOSトランジスタQ1のデューティ比に応じた電圧が出力される。直流の入力電圧(電池)および負荷の変動によらずに一定の出力電圧が維持される。
しかし、変換効率や出力電圧精度が低い原因は、解明されてなかったのが実情である。LGA方式のDC‐DCコンバータでは、止むを得ぬとされていた。
また、前記半導体集積回路と前記インダクタによりDC−DCコンバータを構成するのも好ましい。
また、寄生インダクタンスL1に蓄積された電磁エネルギは、MOSトランジスタQ1がOFFのとき、逃げ場を失って輻射ノイズとして散逸する。それによる損失も有る。寄生インダクタンスL2に蓄積された電磁エネルギについても同様である。
これらの損失は、ON/OFF制御の高周波化によって増大するため、高周波化によって出力インダクタや出力コンデンサを小さくし、装置の小型化・軽量化を図る上で大きな問題となる。
MOSトランジスタQ1がON、MOSトランジスタQ2がOFFの時にはインダクタンスに流れる電流は線型に増加、MOSトランジスタQ1がOFF、MOSトランジスタQ2がONの時にはインダクタンスに流れる電流は線型に減少し、三角波を繰り返す。
負荷電流が小さい場合には実線で示した三角波だったものが、負荷電流が増加した場合には一点鎖線で示した三角波のように増大する。インダクタンス値をL,インダクタンスに流れる電流をIとしたとき、インダクタンスに蓄積される磁気エネルギは、良く知られたように(LI2)/2で表される。図14の出力インダクタンスLoutに蓄積された磁気エネルギは、MOSトランジスタQ1がOFF、MOSトランジスタQ2がONになった時に出力コンデンサCoutに有効に変換される。しかし、図15の寄生インダクタンスL1,L2に蓄積される磁気エネルギは逃げ場を失って損失となって変換効率を低下、輻射ノイズとなって近隣の電子機器に悪影響を及ぼす。
図中実線は、寄生インダクタンスL2をゼロとしたとき、寄生インダクタンスL1を約150nHまで増加させた場合の変換効率に対する影響を調べたものである。本発明の場合、寄生インダクタンスL1はゼロに近いから変換効率は81%近くある。それに対して、従来のDC‐DCコンバータでは少なくとも70nH程度有るから、変換効率は79%程度と約2%も低下する。
2%の効率低下は、入力電圧を供給する電池の寿命を短くするのみならず、損失によるDC‐DCコンバータ自体の発熱という問題も招来する。また、寄生インダクタンスに蓄えられた電磁エネルギーが輻射ノイズとしてDC‐DCコンバータに隣接する電子機器に与える悪影響も問題である。
また破線は、寄生インダクタンスL1と寄生インダクタンスL2とが等しい場合であり、L1+L2を横軸とした。寄生インダクタンスL2がゼロ(実線)の場合に比べて、変換効率がより悪化する。寄生インダクタンスL1のみならず寄生インダクタンスL2も効率低下の要因であることが分かる。
一点鎖線は、寄生インダクタンスL1がゼロの場合であり、変換効率は一層悪化する。原因は解明中であるが、寄生インダクタンスL2の効率低下への寄与は大きい。以上の要因分析により、変換効率の高いDC‐DCコンバータへの設計指針が与えられる。
そこで本発明者は、LGA方式ではない、すなわち積層基板のヴィアホールを用いない新規な構造の電子部品を案出した。その一例として、DC‐DCコンバータの端子構造として、実装面側にガラスエポキシ製の端子台を用い、ガラスエポキシ製の端子台により形成される積層基板と実装面との空間に回路部品を配置した。
本発明によれば、引き回しは積層基板の表面、または、そのごく近傍に形成されたパターン電極のみで行われ、寄生インダクタを極めて低減することが出来る。従来のDC‐DCコンバータで必須だった長いヴィアホールが不要となり、配線の長さ、それに伴い発生する寄生インダクタンスを激減できた。
複数の端子台あるいは複数の端子台パネルを、複数のインダクタを個々に内蔵した大型のパネル構造とすることにより、多数のDC‐DCコンバータが大量生産できる。パネル構造の製造者とDC‐DCコンバータの製造者とが、異なっても良い。それにより、製造者のベストミックスが可能となる。
本発明に係る電子部品100は、大型の積層基板のパネル構造体14に端子台40、回路部品30を実装し、所定の寸法、例えば4.5mm×3.2mm×1.4mmmの個片のDC−DCコンバータとなるように、一定の間隔をもって、予め積層基板に形成されたダイサーカット部(分割溝)に沿って個片に分割して得られる。
また図1(a)に図示する様に、電子部品100の上面側には、回路部品を搭載しないので平坦面が得られる。従って、自動実装の生産性が向上する。平坦面を吸着すれば良いからである。また、製造ロット番号などを表示するにも便利である。
例えば、図1(b)に例示したマーク80は、端子台40の第1ピン(後述の図6の例示では、パワー系のグランドPG)を示す。人手による組立をする場合であっても、マーク80を基準にすれば誤挿入ミスを無くせる。
一実施態様におけるフェライト基板の1個の電子部品に相当する寸法は、例えば縦3mm,横2.5mmである。中央部の部分には半導体集積回路との接続用の第1電極パターン130が、その上部及び下部には端子台と接続する第3電極パターン120a、120bが設けられている。図6に示すように、上部の第3電極パターン120aはそれぞれ後述する半導体集積回路30のPG(パワーラインのグランド端子)、SG(信号ラインのグランド端子)、FB(フィードバック端子)、Vcon(出力電圧切換端子)に対応する。下部の第3電極パターン120bはそれぞれ出力電圧をDC−DCコンバータから外部の負荷に接続するためのVout(出力端子)、EN(イネーブル端子)、Vdd(信号用電圧端子)、Vin(入力電圧端子)に対応する。
積層基板10のコイルパターンや配線パターンを構成する導体材料は、抵抗率が小さく、低廉のものが好ましいが、Agの他に、Pt、Pd、Au、Cu、Niの1種以上を含有する合金等から選択しても良い。導体材料の選択によっては、焼結温度を1200℃以上の高温とする場合や、焼結雰囲気を還元雰囲気に限定しなければならない場合もある。
また、Fe2O3、ZnO、MgO(一部をCuOで置換しても良い)を主成分とするMg−Znフェライトや、Fe2O3、ZnO、LiO(一部をCuOで置換しても良い)を主成分とするLi−Znフェライトが用いられる。Mg−Znフェライトであれば、高価なNiを用いる事無く、低廉な積層電子部品とすることが出来る。またLi−Znフェライトであれば、磁歪による磁気特性の劣化が少ない積層インダクタを内蔵できる。
図6において、一番ピンであるPG(パワーラインのグランド端子)から時計回りに、SG(信号ラインのグランド端子)、FB(フィードバック端子)、Vcon(出力電圧設定端子)、EN(イネーブル端子)、Vdd(信号用電圧端子)、Vin(入力電圧端子)、SW(スイッチング端子)等の外部端子が、例えば、半田ボールにより電気的に接続される。
図示しない信号ラインのグランドと基準電圧Vrとの間の接続についても同様である。端子台40におけるPG,SG・・・等の端子と、半導体集積回路30のPG,SG・・・等のパッドとの間を接続する線路パターンの幅は、短く、且つ太い方が好ましい。線路パターンの幅を太くするほど、インダクタンスも減少するからである。
端子台40におけるPG,SG・・・等の端子間における絶縁距離は充分である。一例として、縦2.5mm,横3mmのインダクタ内蔵基板12の場合、端子台40の長さは2.1mmであり、PG,SG・・・等の端子間の間隔は、少なくとも0.2mm以上は確保される。
主成分が47.0モル%のFe2O3、36.7モル%のNiO、11.0モル%のCuO、5.0モル%のZnO、並びに0.3モル%のCo3O4からなり、主成分の総量に対して1.0質量%のBi2O3を含有するフェライト[キュリー温度Tc:140℃、並びに初透磁率(周波数100 kHz):250]を用いて、低温焼結セラミックス法により形成した各シートに、Agペーストにより所定のコイルパターンを形成した。コイルパターンをヴィアホールなどで接続して螺旋状とした積層コイルとした。この積層コイルは焼結後、インダクタンスが3.3μHとなるように構成されている。
14 インダクタ内蔵パネル
20 インダクタ
30 回路部品
40 端子台
42 端子台パネル
44 端子
50 基材
60 端面電極
62 ヴィアホール
64 端子台部材
80 マーク
90 ダイサーカット部
100 電子部品
Cout 出力コンデンサ
EN イネーブル端子
FB フィードバック端子
INV インバータ
Lout 出力インダクタ
L1,L2,L3 寄生インダクタ
Op−Amp 誤差増幅器
PG パワーラインのグランド端子
PWM パルス幅変調器
Q1,Q2 MOSトランジスタ
R 負荷抵抗
SG 信号ラインのグランド端子
SW スイッチング端子
Vdd 信号用電圧端子
Vin 入力電圧端子
Vout 出力電圧端子
Vr 基準電圧
Vcon 出力電圧設定端子
Vdd 信号用電圧端子
Claims (3)
- フェライト磁性体材料からなりインダクタを内蔵するフェライト積層基板に、前記インダクタと接続する半導体集積回路と、複数の端子が形成された非磁性体材料からなる端子台を備えた電子部品であって、
前記フェライト積層基板には前記端子台の端子と前記半導体集積回路とを接続する複数の接続線路を備え、前記接続線路は、前記フェライト積層基板の第一面の面上に設けられた第1電極パターンと、前記フェライト積層基板の内層であって前記第一面の近傍に形成されヴィアホールを介して前記第1電極パターンと接続された第2電極パターンと、前記第2電極パターンと他のヴィアホールを介して接続された第3電極パターンを備え、
前記第1電極パターンに前記半導体集積回路を接続し、
前記第3電極パターンに前記端子台に形成された端子が接続されたことを特徴とする電子部品。 - 前記端子台は基材をガラスエポキシ基板とする両面プリント配線板であって、その一方の面の電極パターンが前記第3電極パターンと接続し、他方の面の電極パターンは回路基板への実装に用いられ、前記電極パターンどうしがヴィアホールで接続されてなることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
- 前記半導体集積回路と前記インダクタによりDC−DCコンバータを構成したことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品。
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