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JP4963586B2 - Method for producing ultrafine particles - Google Patents

Method for producing ultrafine particles Download PDF

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JP4963586B2 JP2006278609A JP2006278609A JP4963586B2 JP 4963586 B2 JP4963586 B2 JP 4963586B2 JP 2006278609 A JP2006278609 A JP 2006278609A JP 2006278609 A JP2006278609 A JP 2006278609A JP 4963586 B2 JP4963586 B2 JP 4963586B2
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Description

本発明は、薄膜を被覆した超微粒子の製造方法に関し、より詳細には、熱プラズマ法を用いて超微粒子の表面に炭素単体物および/または炭素化合物からなる薄膜を形成した超微粒子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing ultrafine particles coated with a thin film, and more specifically, a method for producing ultrafine particles in which a thin film comprising a carbon simple substance and / or a carbon compound is formed on the surface of ultrafine particles using a thermal plasma method. About.

酸化物微粒子,窒化物微粒子,炭化物微粒子等の微粒子は、半導体基板,プリント基板,各種電気絶縁部品などの電気絶縁材料や、ダイス,軸受などの高硬度・高精度の機械工作材料、粒界コンデンサ,湿度センサなどの機能性材料、精密焼結成形材料などの焼結体の製造や、エンジンバルブなどのような高温耐摩耗性が要求される材料などの溶射部品製造、さらには燃料電池の電極や電解質材料および各種触媒などの分野で用いられている。このような微粒子を用いることにより、焼結体や溶射部品などにおける異種セラミックス同士や異種金属同士の接合強度や緻密性、あるいは機能性を向上させている。   Fine particles such as oxide fine particles, nitride fine particles, and carbide fine particles are used for electrical insulation materials such as semiconductor substrates, printed circuit boards, and various electrical insulation components, high-hardness and high-precision machine tool materials such as dies and bearings, and grain boundary capacitors. , Production of sintered materials such as functional materials such as humidity sensors, precision sintered molding materials, thermal spray parts such as materials that require high-temperature wear resistance such as engine valves, and fuel cell electrodes And electrolyte materials and various catalysts. By using such fine particles, the bonding strength, denseness, or functionality of dissimilar ceramics or dissimilar metals in a sintered body or a sprayed part is improved.

このような微粒子を製造する方法の一つに、気相法がある。気相法には、各種のガス等を高温で化学反応させる化学的方法と、電子やレーザなどのビームを照射して物質を分解・蒸発させ、微粒子をさせる物理的方法とがある。   One method for producing such fine particles is a gas phase method. The vapor phase method includes a chemical method in which various gases and the like are chemically reacted at a high temperature, and a physical method in which particles are decomposed and evaporated by irradiation with a beam such as an electron or a laser to form fine particles.

上記気相法の中の一つとして、熱プラズマ法がある。熱プラズマ法は、熱プラズマ中で原材料を瞬時に蒸発させた後、急冷凝固させ、微粒子を製造する方法であり、また、クリーンで生産性が高く、高温で熱容量が大きいため高融点材料にも対応可能であり、他の気相法に比べて複合化が比較的容易であるといった多くの利点を有する。このため、熱プラズマ法は、微粒子を製造する方法として積極的に利用されている。   One of the gas phase methods is a thermal plasma method. The thermal plasma method is a method of instantly evaporating raw materials in thermal plasma and then rapidly solidifying them to produce fine particles. Also, it is clean, highly productive, and has a high heat capacity at high temperatures. It has many advantages such as being compatible and being relatively easy to combine compared with other gas phase methods. For this reason, the thermal plasma method is actively used as a method for producing fine particles.

特許文献1には、粉末状にされた原材料を熱プラズマ炎中に導入する従来技術に関し、金属微粒子と被覆層との両粉末材料を複合化し、原材料混合物を不活性または還元性雰囲気の熱プラズマ(熱プラズマ炎)中に供給して原材料を蒸発させて気相状態の混合物にした後、この混合物を急冷して、酸化物金属被覆微粒子を製造する方法が開示されている。   Patent Document 1 relates to a conventional technique for introducing a powdered raw material into a thermal plasma flame, compositing both powder materials of a metal fine particle and a coating layer, and making the raw material mixture a thermal plasma in an inert or reducing atmosphere. There is disclosed a method for producing oxide metal-coated fine particles by supplying into a (thermal plasma flame) to evaporate raw materials to form a gas phase mixture and then rapidly cooling the mixture.

ところで、近年、上述のような各種の微粒子については、その材質を問わず、より小さいサイズのものが要求される状況になってきている。
これは、微粒子が用いられる対象物それ自体が小サイズ化することに起因しているが、ここで問題となるのは、微粒子のサイズが小さくなるに従って表面活性が高くなり、この高い表面活性は逆に微粒子の安定性を低下させるという点である。
By the way, in recent years, the various fine particles as described above are required to have a smaller size regardless of the material.
This is due to the fact that the object itself in which the fine particles are used is reduced in size, but the problem here is that the surface activity increases as the size of the fine particles decreases, and this high surface activity is Conversely, the stability of the fine particles is reduced.

例えば、鉄や銅などの金属を微粒子化した場合、その粒径が数μmオーダーであれば、徐々に酸化することにより表面に酸化被膜を形成することはよく知られているが、これが数nm〜数十nmオーダー(以下、従来の感覚に基づく微粒子と区別するために、超微粒子という)になると、酸化が急激に起こって危険でさえあるという状態になる。   For example, when a metal such as iron or copper is atomized, if the particle size is on the order of several μm, it is well known that an oxide film is formed on the surface by gradual oxidation. On the order of tens of nanometers (hereinafter referred to as ultrafine particles to distinguish them from fine particles based on conventional sensation), oxidation is abrupt and even dangerous.

また、金や銀などの低融点金属を微粒子化した場合、数nmオーダーになると融点が急激に低下することが知られているが、数十nmオーダーでも粒子同士が容易に融着し、それぞれが独立した超微粒子を得ることができない状態になる。   In addition, when a low melting point metal such as gold or silver is made into fine particles, it is known that the melting point is drastically lowered when it is on the order of several nanometers. However, it becomes impossible to obtain independent ultrafine particles.

そこで、このような超微粒子を安定に、かつ、効率的に製造する方法を確立することが必要になってきている。
これに関しては、例えば、特許文献2に記載されている技術が参考になる。
Therefore, it has become necessary to establish a method for producing such ultrafine particles stably and efficiently.
For this, for example, the technique described in Patent Document 2 is helpful.

特許文献2に記載されている技術は、反応性ガスの存在下での真空蒸着により、超微粉体(コアとなるもの)の表面に均一な厚さ(数原子層〜数十原子層程度という超薄層)の炭素原子層を形成するというものである。   The technique described in Patent Document 2 is such that a uniform thickness (several atomic layer to several tens atomic layer) is formed on the surface of the ultrafine powder (which becomes a core) by vacuum deposition in the presence of a reactive gas. The ultra-thin layer) carbon atom layer is formed.

特開2000−219901号公報JP 2000-219901 A 特公平5−43791号公報Japanese Patent Publication No. 5-43791

上述の特許文献2に記載された「炭素超薄膜を被覆した超微粉体」の製造方法は、予め形成されている粒径数十nmの超微粉体を蒸着雰囲気内に供給し、この超微粉体の表面に、雰囲気内に存在する反応性ガスの分解により発生する原子状の炭素(炭素原子)を均一に付着させるというものである。   The manufacturing method of “ultrafine powder coated with an ultra-thin carbon film” described in Patent Document 2 described above supplies a preliminarily formed ultrafine powder having a particle size of several tens of nanometers to a vapor deposition atmosphere. Atomic carbon (carbon atoms) generated by the decomposition of the reactive gas present in the atmosphere is uniformly attached to the surface of the ultrafine powder.

前述のように、微粒子のサイズが小さくなるに従って表面活性が高くなり、この高い表面活性は逆に微粒子の安定性を低下させることから、粒径が数nm程度のさらに小さな超微粒子を形成し、形成された超微粒子の表面に薄膜を被覆するというような一貫した製造工程により、種々の機能性材料,精密焼結成形材料などを効率的に製造することが望まれているが、従来はこのような一貫製造工程により表面に薄膜を被覆した超微粒子を製造することはできなかった。   As described above, the surface activity increases as the size of the microparticles decreases, and this high surface activity reduces the stability of the microparticles on the contrary, thereby forming ultrafine particles having a particle size of several nanometers, It is desired to efficiently produce various functional materials, precision sintered molding materials, etc. through an integrated manufacturing process such as coating the surface of the formed ultrafine particles with a thin film. It was not possible to produce ultrafine particles having a surface coated with a thin film by such an integrated production process.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、前記従来技術に基づく問題点を解消した、高表面活性と新機能性が期待される超微粒子の表面への気相薄膜形成を効率的に行い、粒径や形状の均一性が高レベルで実現可能な、一貫製造工程により表面に薄膜を被覆した超微粒子の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to eliminate the problems based on the conventional technique, and to vapor phase the surface of ultrafine particles expected to have high surface activity and new functionality. An object of the present invention is to provide a method for producing ultrafine particles having a surface coated with a thin film by an integrated production process capable of efficiently forming a thin film and achieving high uniformity in particle size and shape.

より詳細には、本発明は、炭素単体物および/または炭素化合物からなる薄膜を被覆した超微粒子の製造方法を提供することを目的としている。   More specifically, an object of the present invention is to provide a method for producing ultrafine particles coated with a thin film composed of a carbon simple substance and / or a carbon compound.

本発明者らは、このような高表面活性と新機能性が期待される超微粒子を安定に、かつ効率的に製造する方法を確立することが必要になってきていることに鑑みて、上記目的を達成するために、鋭意研究を重ねた結果、超微粒子製造用材料を気相状態の混合物にする熱プラズマ炎の終端部に反応性ガスと冷却用気体とを導入することにより、表面に反応性ガスの成分による薄膜を被覆した超微粒子を製造することができることを知見し、本発明に至ったものである。   In view of the need to establish a method for stably and efficiently producing ultrafine particles that are expected to have such a high surface activity and new functionality, the present inventors have described above. As a result of intensive research to achieve the purpose, a reactive gas and a cooling gas are introduced into the end of the thermal plasma flame, which makes the ultrafine particle production material a gas-phase mixture, and is introduced to the surface. The inventors have found that it is possible to produce ultrafine particles coated with a thin film of a reactive gas component, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明に係る薄膜を被覆した超微粒子の製造方法は、減圧下で、超微粒子製造用材料を、不活性ガスをキャリアガスとして用いて熱プラズマ炎中に導入して分散させ、気相状態の混合物にし、この気相状態の混合物を急冷するのに十分な供給量で、炭化水素ガスとこの炭化水素ガスを除く冷却用気体との混合ガスを、前記熱プラズマ炎と平行な垂直方向の角度が、90°超240°未満で、かつ、前記熱プラズマ炎の垂直方向に対して直交する面内で、前記熱プラズマ炎の中心部に対する角度が、−90°超90°未満を満たすように、前記熱プラズマ炎の終端部(尾部)に向けて導入して、超微粒子を生成させ、この生成した超微粒子と前記炭化水素ガスとを接触させて、表面に炭化水素化合物からなる薄膜を被覆した超微粒子を製造することを特徴とする。 That is, in the method for producing ultrafine particles coated with a thin film according to the present invention, a material for producing ultrafine particles is introduced and dispersed in a thermal plasma flame using an inert gas as a carrier gas under reduced pressure. The mixed gas of the hydrocarbon gas and the cooling gas excluding the hydrocarbon gas is supplied in a vertical direction parallel to the thermal plasma flame with a supply amount sufficient to rapidly cool the gaseous mixture. And an angle with respect to the center of the thermal plasma flame satisfies −90 ° and less than 90 ° in a plane perpendicular to the vertical direction of the thermal plasma flame. Thus, it introduce | transduces toward the termination | terminus part (tail part) of the said thermal plasma flame, a superfine particle is produced | generated, this produced | generated ultrafine particle and the said hydrocarbon gas are made to contact, and the thin film which consists of a hydrocarbon compound on the surface Coated with ultrafine particles And characterized in that the elephants.

なお、本発明に係る薄膜を被覆した超微粒子の製造方法において、前記気相状態の混合物を急冷するのに十分な前記冷却用気体の供給量とは、以下の通りのものである。すなわち、前記気相状態の混合物を急冷するために形成される空間を冷却室(チャンバ)と呼ぶが、そこに導入される気体の冷却室内における平均流速(チャンバ内流速)を、0.001〜60m/secとすることが好ましく、0.01〜10m/secとすることがより好ましい。   In the method for producing ultrafine particles coated with a thin film according to the present invention, the supply amount of the cooling gas sufficient to quench the gas phase mixture is as follows. That is, a space formed for quenching the gas phase mixture is called a cooling chamber (chamber), and an average flow velocity (in-chamber flow velocity) of gas introduced into the cooling chamber is set to 0.001 to 0.001. 60 m / sec is preferable, and 0.01 to 10 m / sec is more preferable.

また、前記気体の前記冷却室内への導入方向としては、前記冷却室内において、熱プラズマ炎の尾部(終端部)に対して、垂直上方を0°とした場合の角度αが90°<α<240°(より好ましくは100°<α<180°)の範囲、気体射出口から見た熱プラズマ炎の方向を0°とした場合の角度βが−90°<β<90°(より好ましくは−45°<β<45°)の範囲であるのがよい。   Further, as the direction of introducing the gas into the cooling chamber, the angle α when the vertical upper side is 0 ° with respect to the tail (end portion) of the thermal plasma flame in the cooling chamber is 90 ° <α <. In the range of 240 ° (more preferably 100 ° <α <180 °), the angle β when the direction of the thermal plasma flame viewed from the gas outlet is 0 ° is −90 ° <β <90 ° (more preferably A range of −45 ° <β <45 °) is preferable.

本発明によれば、高表面活性と新機能性が期待される超微粒子の表面への気相薄膜形成を効率的に行い、粒径や形状の均一性が高レベルで実現可能な、薄膜を被覆した超微粒子の製造方法を実現できるという顕著な効果を奏する。   According to the present invention, it is possible to efficiently form a vapor-phase thin film on the surface of ultrafine particles expected to have high surface activity and new functionality, and to achieve a thin film capable of realizing a high level of particle size and shape uniformity. The remarkable effect that the manufacturing method of the coated ultrafine particle is realizable is produced.

より具体的には、本発明によれば、減圧下で、超微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入することにより気相状態の混合物にし、この気相状態の混合物を急冷するのに十分な供給量で、反応性ガスと冷却用気体とを前記熱プラズマ炎の尾部(終端部)に向けて導入して、超微粒子を生成させ、この生成した超微粒子と前記反応性ガスとを接触させるようにしたことにより、効率的に超微粒子(コア)を生成させる工程と、生成した超微粒子(コア)表面に反応性ガスの分解・反応により生ずる炭素単体物および/または炭素化合物を付着させる工程とを一緒に行わせることで、薄膜を被覆した超微粒子を製造することが可能になるという顕著な効果を奏する。   More specifically, according to the present invention, under a reduced pressure, a material for producing ultrafine particles is introduced into a thermal plasma flame to form a gas phase mixture, which is sufficient to rapidly cool the gas phase mixture. The reactive gas and the cooling gas are introduced toward the tail (end part) of the thermal plasma flame with a small supply amount to generate ultrafine particles, and the generated ultrafine particles and the reactive gas are brought into contact with each other. By doing so, a step of efficiently generating ultrafine particles (core) and a carbon simple substance and / or a carbon compound generated by decomposition and reaction of reactive gas are attached to the surface of the generated ultrafine particles (core). By performing the process together, a remarkable effect is achieved that it is possible to produce ultrafine particles coated with a thin film.

以下、図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明に係る超微粒子の製造方法を詳細に説明する。   Hereinafter, the method for producing ultrafine particles according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係る薄膜を被覆した超微粒子の製造方法を実施するための超微粒子製造装置10の全体構成を示す模式図である。また、図2は、図1中に示したプラズマトーチ12付近の部分拡大図で、図3は、図1中に示した材料供給装置14の拡大図、また、図4は、図1中に示したチャンバ16の天板17、およびこの天板17に備えられた気体射出口28aおよび気体射出口28b付近を拡大した断面図である。   FIG. 1 is a schematic view showing an overall configuration of an ultrafine particle production apparatus 10 for carrying out a method for producing an ultrafine particle coated with a thin film according to an embodiment of the present invention. 2 is a partially enlarged view of the vicinity of the plasma torch 12 shown in FIG. 1, FIG. 3 is an enlarged view of the material supply device 14 shown in FIG. 1, and FIG. It is sectional drawing to which the top plate 17 of the chamber 16 shown and the gas injection port 28a with which this top plate 17 was equipped, and gas injection port 28b vicinity are expanded.

図1に示す超微粒子製造装置10は、熱プラズマ炎を発生させるプラズマトーチ12と、超微粒子製造用材料(粉末材料)をプラズマトーチ12内へ供給する材料供給装置14と、超微粒子18を生成させるための冷却室としての機能を有するチャンバ16と、生成した超微粒子18を回収する回収部20と、冷却用の気体をチャンバ16内に導入し、熱プラズマ炎24に向けて射出する気体導入装置28とを含んで構成されている。   An ultrafine particle production apparatus 10 shown in FIG. 1 generates a plasma torch 12 that generates a thermal plasma flame, a material supply apparatus 14 that supplies an ultrafine particle production material (powder material) into the plasma torch 12, and generates ultrafine particles 18. A chamber 16 having a function as a cooling chamber, a recovery unit 20 for recovering the generated ultrafine particles 18, and a gas introduction for introducing a cooling gas into the chamber 16 and ejecting it toward the thermal plasma flame 24. The apparatus 28 is comprised.

図2に示すプラズマトーチ12は、石英管12aと、その外側を取り巻く高周波発振用コイル12bとで構成されている。プラズマトーチ12の上部には、超微粒子製造用材料とキャリアガスとをプラズマトーチ12内に導入するための後述する導入管14aがその中央部に設けられており、プラズマガス導入口12cがその周辺部(同一円周上)に形成されている。   The plasma torch 12 shown in FIG. 2 includes a quartz tube 12a and a high-frequency oscillation coil 12b surrounding the outside. In the upper part of the plasma torch 12, an introduction tube 14a, which will be described later, for introducing the ultrafine particle manufacturing material and the carrier gas into the plasma torch 12 is provided in the center thereof, and the plasma gas inlet 12c is provided in the periphery thereof. It is formed in the part (on the same circumference).

プラズマガスは、プラズマガス供給源22からプラズマガス導入口12cへ送り込まれる。プラズマガスとしては、例えば、アルゴン,窒素,水素等が挙げられる。プラズマガス供給源22には、例えば、2種類のプラズマガスが準備されている。プラズマガスは、プラズマガス供給源22からリング状のプラズマガス導入口12cを介して、矢印Pで示されるようにプラズマトーチ12内に送り込まれる。そして、高周波発振用コイル12bに高周波電流が供給されて、熱プラズマ炎24が発生する。   The plasma gas is sent from the plasma gas supply source 22 to the plasma gas inlet 12c. Examples of the plasma gas include argon, nitrogen, hydrogen, and the like. For example, two types of plasma gas are prepared in the plasma gas supply source 22. The plasma gas is sent from the plasma gas supply source 22 into the plasma torch 12 as indicated by an arrow P through the ring-shaped plasma gas inlet 12c. Then, a high frequency current is supplied to the high frequency oscillation coil 12b, and a thermal plasma flame 24 is generated.

なお、石英管12aの外側は、同心円状に形成された管(図示されていない)で囲まれており、この管と石英管12aとの間に冷却水を循環させて石英管12aを水冷し、プラズマトーチ12内で発生した熱プラズマ炎24により石英管12aが高温になりすぎるのを防止している。   The outside of the quartz tube 12a is surrounded by a concentric tube (not shown), and cooling water is circulated between the tube and the quartz tube 12a to cool the quartz tube 12a. The quartz tube 12a is prevented from becoming too hot by the thermal plasma flame 24 generated in the plasma torch 12.

材料供給装置14は、図3にその拡大図を示したように、主に、粉末材料を貯蔵する貯蔵槽142と、粉末材料を定量搬送するスクリューフィーダ160と、スクリューフィーダ160で搬送された超微粒子が最終的に散布される前に、これを一次粒子の状態に分散させる分散部170とから構成されている。   As shown in the enlarged view in FIG. 3, the material supply device 14 mainly includes a storage tank 142 that stores the powder material, a screw feeder 160 that quantitatively conveys the powder material, and an ultra-higher that is conveyed by the screw feeder 160. The dispersion unit 170 is configured to disperse the fine particles into primary particles before the fine particles are finally dispersed.

貯蔵槽142には、図示されていないが、排気用配管および給気用配管が設けられる。また、貯蔵槽142はオイルシール等で密封された圧力容器であり、内部の雰囲気を制御することができるように構成されている。また、貯蔵槽142の上部には粉末材料を導入する導入口(図示されていない)が設けられており、粉末材料144が導入口から貯蔵槽142内部に投入され、貯蔵される。   Although not shown, the storage tank 142 is provided with an exhaust pipe and an air supply pipe. The storage tank 142 is a pressure vessel sealed with an oil seal or the like, and is configured so that the internal atmosphere can be controlled. In addition, an introduction port (not shown) for introducing the powder material is provided in the upper part of the storage tank 142, and the powder material 144 is introduced into the storage tank 142 from the introduction port and stored.

貯蔵槽142の内部には、貯蔵された粉末材料144の凝集を防止するために、攪拌軸146とそれに接続された攪拌羽根148とが設けられる。攪拌軸146は、オイルシール150aと軸受け152aとによって、貯蔵槽142内で回転可能に配設されている。
また、貯蔵槽142外部にある攪拌軸146の端部は、モータ154aに接続されており、図示しない制御装置によってその回転が制御される。
In the storage tank 142, a stirring shaft 146 and a stirring blade 148 connected thereto are provided in order to prevent the stored powder material 144 from agglomerating. The stirring shaft 146 is rotatably disposed in the storage tank 142 by an oil seal 150a and a bearing 152a.
Moreover, the end part of the stirring shaft 146 outside the storage tank 142 is connected to a motor 154a, and its rotation is controlled by a control device (not shown).

貯蔵槽142の下部には、スクリューフィーダ160が設けられ、粉末材料144の定量的な搬送を可能にする。スクリューフィーダ160は、スクリュー162と、スクリュー162の軸164と、ケーシング166と、スクリュー162の回転動力源であるモータ154bとを含み構成されている。スクリュー162および軸164は、貯蔵槽142内の下部を横切って設けられている。軸164は、オイルシール150bと軸受け152bとによって貯蔵槽142内で回転可能に配設されている。   A screw feeder 160 is provided in the lower part of the storage tank 142 to enable quantitative conveyance of the powder material 144. The screw feeder 160 includes a screw 162, a shaft 164 of the screw 162, a casing 166, and a motor 154 b that is a rotational power source of the screw 162. The screw 162 and the shaft 164 are provided across the lower part in the storage tank 142. The shaft 164 is rotatably disposed in the storage tank 142 by an oil seal 150b and a bearing 152b.

また、貯蔵槽142外部にある軸164の端部は、モータ154bに接続されており、図示しない制御装置によってその回転が制御される。さらに、貯蔵槽142の下部の開口部と、後述する分散部170とを接続し、スクリュー162を包む筒状通路であるケーシング166が設けられる。ケーシング166は、後述する分散部170の内部途中まで延設されている。   Further, the end of the shaft 164 outside the storage tank 142 is connected to a motor 154b, and its rotation is controlled by a control device (not shown). Furthermore, a casing 166 that is a cylindrical passage that connects the opening of the lower portion of the storage tank 142 and a dispersion unit 170 described later and wraps the screw 162 is provided. The casing 166 extends to the middle of the dispersion unit 170 described later.

図3に示すように、分散部170は、ケーシング166の一部に外挿固定された外管172と、軸164の先端部に植設された回転ブラシ176を有し、スクリューフィーダ160によって定量搬送された粉末材料144を一次分散させることができる。
外管172の外挿固定された端部と反対の端部は、その形状が円錐台形状であり、その内部にも円錐台形状の空間である粉体分散室174を有する。また、その端部には分散部170で分散された粉末材料を搬送する搬送管182が接続される。
As shown in FIG. 3, the dispersion unit 170 includes an outer tube 172 that is extrapolated and fixed to a part of the casing 166, and a rotating brush 176 that is implanted at the tip of the shaft 164, and is fixed by a screw feeder 160. The conveyed powder material 144 can be primarily dispersed.
The end portion of the outer tube 172 opposite to the end portion that is fixed by extrapolation has a truncated cone shape, and also has a powder dispersion chamber 174 that is a truncated cone-shaped space. In addition, a transport pipe 182 that transports the powder material dispersed by the dispersion unit 170 is connected to the end thereof.

ケーシング166の先端が開口し、その開口部を越えて外管172内部の粉体分散室174まで軸164が延設され、軸164の先端には回転ブラシ176が設けられる。外管172の側面にはキャリアガス供給口178が設けられており、また、ケーシング166の外壁と外管172の内壁とによって設けられる空間は、導入されたキャリアガスが通過するキャリアガス通路180としての機能を有する。   The front end of the casing 166 opens, and a shaft 164 extends beyond the opening to the powder dispersion chamber 174 inside the outer tube 172, and a rotating brush 176 is provided at the front end of the shaft 164. A carrier gas supply port 178 is provided on a side surface of the outer tube 172, and a space provided by the outer wall of the casing 166 and the inner wall of the outer tube 172 serves as a carrier gas passage 180 through which the introduced carrier gas passes. It has the function of.

回転ブラシ176は、ナイロン等の比較的柔軟な材質、あるいは鋼線等の硬質な材質からなる針状部材で、ケーシング166の先端部近傍の内部から粉体分散室174の内部まで、軸164の径外方に延出して密集植設されることによって形成される。このときの上記針状部材の長さは、ケーシング166内の周壁に針状部材の先端部が当接する程度の長さである。   The rotating brush 176 is a needle-like member made of a relatively flexible material such as nylon or a hard material such as steel wire. The rotating brush 176 extends from the vicinity of the tip of the casing 166 to the inside of the powder dispersion chamber 174. It is formed by extending radially outward and being densely planted. The length of the needle-like member at this time is such a length that the tip of the needle-like member comes into contact with the peripheral wall in the casing 166.

分散部170では、分散・搬送用の気体が、キャリアガス供給源15からキャリアガス供給口178、キャリアガス通路180を通って回転ブラシ176の径方向外側から回転ブラシ176に噴出され、定量的に搬送される粉末材料144が、回転ブラシ176の針状部材間を通過することで一次粒子に分散される。   In the dispersion unit 170, the gas for dispersion / conveyance is ejected from the carrier gas supply source 15 through the carrier gas supply port 178 and the carrier gas passage 180 to the rotary brush 176 from the radially outer side of the rotary brush 176, and quantitatively. The conveyed powder material 144 is dispersed into primary particles by passing between the needle-like members of the rotating brush 176.

ここで、粉体分散室174の円錐台形の母線と軸164とのなす角度は、30°程度の角度をなすように設けられている。また、粉体分散室174の容積は小さいほうが好ましく、容積が大きいと回転ブラシ176で分散された粉末材料144が搬送管182に入る前に分散室の内壁に付着し、これが再飛散するために供給される分散粉体の濃度が一定しなくなるという問題を生じる。   Here, the angle formed between the frustoconical bus of the powder dispersion chamber 174 and the shaft 164 is set to be about 30 °. In addition, it is preferable that the volume of the powder dispersion chamber 174 is small. If the volume is large, the powder material 144 dispersed by the rotating brush 176 adheres to the inner wall of the dispersion chamber before entering the transfer pipe 182 and is scattered again. There arises a problem that the concentration of the supplied dispersed powder is not constant.

搬送管182は、その一端は外管172と接続され、他端はプラズマトーチ12に接続される。また、搬送管182は、その管径の10倍以上の管長を有し、少なくとも途中に分散粉体を含む気流が流速20m/sec以上になる管径部分を設けることが好ましい。これにより分散部170で一次粒子の状態に分散された粉末材料144の凝集を防止し、上記の分散状態を維持したまま、粉末材料144をプラズマトーチ12内部に散布することができる。   One end of the transfer tube 182 is connected to the outer tube 172, and the other end is connected to the plasma torch 12. In addition, it is preferable that the transport pipe 182 has a pipe length that is 10 times or more the pipe diameter, and at least a pipe diameter portion in which the air flow containing the dispersed powder flows at a flow velocity of 20 m / sec or more is provided. As a result, aggregation of the powder material 144 dispersed in the primary particle state by the dispersion unit 170 can be prevented, and the powder material 144 can be dispersed inside the plasma torch 12 while maintaining the above dispersion state.

押し出し圧力がかけられたキャリアガスが、キャリアガス供給源15から粉末材料144と共に、図2中に矢印Gで示されるように導入管14aを介してプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中へ供給される。導入管14aは、粉末材料をプラズマトーチ内の熱プラズマ炎24中に噴霧するためのノズル機構を有しており、これにより、粉末材料144をプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に噴霧する。キャリアガスには、アルゴン,窒素,水素等が単独または適宜組み合わせて用いられる。   The carrier gas subjected to the extrusion pressure is supplied from the carrier gas supply source 15 together with the powder material 144 into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 through the introduction tube 14a as shown by an arrow G in FIG. Is done. The introduction tube 14 a has a nozzle mechanism for spraying the powder material into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch, whereby the powder material 144 is sprayed into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12. . As the carrier gas, argon, nitrogen, hydrogen, or the like is used alone or in appropriate combination.

一方、図1に示したように、チャンバ16が、プラズマトーチ12の下方に隣接して設けられている。プラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に噴霧された粉末材料144は、蒸発して気相状態の混合物になり、その直後に上記気相状態の混合物がチャンバ16内で急冷され、超微粒子18が生成する。つまり、チャンバ16は、冷却室としての機能と反応室としての機能とを有する。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the chamber 16 is provided adjacent to the lower side of the plasma torch 12. The powder material 144 sprayed in the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 evaporates into a gas phase mixture, and immediately after that, the gas phase mixture is rapidly cooled in the chamber 16 to form ultrafine particles 18. Produces. That is, the chamber 16 has a function as a cooling chamber and a function as a reaction chamber.

ところで、本発明に係る超微粒子製造装置は、上記気相状態の混合物を急冷することを主たる目的とする気体導入装置を備えることを特徴としている。以下、この気体導入装置について説明する。   By the way, the ultrafine particle production apparatus according to the present invention is characterized by including a gas introduction apparatus mainly intended to rapidly cool the gas phase mixture. Hereinafter, this gas introducing device will be described.

図1および図4に示す気体導入装置28は、第1の気体供給源28d,第2の気体供給源28f、並びにそれらを接続する管28c,28eから構成されている。
ここでは、第1の気体供給源28dには、冷却用ガスとしてのアルゴンが、また、第2の気体供給源28fには、反応性ガスとしてのメタンが貯蔵されている。
ここで、冷却用ガスとしては、アルゴンの他、例えば、窒素,水素,酸素,空気,二酸化炭素,水蒸気,メタンなどの炭化水素ガス等、およびこれらの混合ガスが挙げられる。
The gas introduction device 28 shown in FIGS. 1 and 4 includes a first gas supply source 28d, a second gas supply source 28f, and pipes 28c and 28e connecting them.
Here, argon as a cooling gas is stored in the first gas supply source 28d, and methane as a reactive gas is stored in the second gas supply source 28f.
Here, examples of the cooling gas include argon, hydrocarbon gases such as nitrogen, hydrogen, oxygen, air, carbon dioxide, water vapor, and methane, and a mixed gas thereof.

また、気体導入装置28は、熱プラズマ炎24の尾部に向かって、前述のような所定の角度で気体A(ここでは、一例として冷却用ガスとしてのアルゴンと反応性ガスとしてのメタンとの混合ガスとする)を射出する気体射出口28aと、チャンバ16内の、生成した超微粒子18がチャンバ16内部に付着するのを防止する目的で、チャンバ16内側壁に沿って、上方から下方に向かって気体B(ここでは、一例としてアルゴンとする)を射出する気体射出口28bとを備えている。
ここで、熱プラズマ炎の尾部とは、プラズマガス導入口12cと反対側の熱プラズマ炎の端、つまり、熱プラズマ炎の終端部である。
Further, the gas introduction device 28 is directed toward the tail of the thermal plasma flame 24 at a predetermined angle as described above with the gas A (here, as an example, a mixture of argon as a cooling gas and methane as a reactive gas). Gas injection port 28a for injecting gas) and the generated ultrafine particles 18 in the chamber 16 from the upper side toward the lower side along the inner wall of the chamber 16 for the purpose of preventing the inside of the chamber 16 from adhering. And a gas injection port 28b for injecting gas B (in this case, argon as an example).
Here, the tail portion of the thermal plasma flame is the end of the thermal plasma flame opposite to the plasma gas inlet 12c, that is, the end portion of the thermal plasma flame.

なお、上記気体Aとしては、アルゴンの他、例えば、窒素,水素,酸素,空気,二酸化炭素,水蒸気,メタンなどの炭化水素ガス等、およびこれらの混合ガスを好適に用いることができ、気体Bとしては、アルゴンの他、例えば、窒素,水素,酸素,空気,二酸化炭素,水蒸気,メタンなどの炭化水素ガス等、およびこれらの混合ガスを好適に用いることができる。   In addition, as said gas A, hydrocarbon gas, such as nitrogen, hydrogen, oxygen, air, carbon dioxide, water vapor | steam, methane, etc. other than argon, and these mixed gas can be used suitably, Gas B In addition to argon, for example, hydrocarbon gas such as nitrogen, hydrogen, oxygen, air, carbon dioxide, water vapor, methane, etc., and a mixed gas thereof can be suitably used.

なお、図1中28g,28iは、上記第1の気体供給源28dからのガス供給圧力を制御する圧力制御弁を、また、28hは、上記第2の気体供給源28fからのガス供給圧力を制御する圧力制御弁を示している。また、上記管28eは、第1の気体供給源28dと第2の気体供給源28fから送出されるガスを圧力調整の上混合してチャンバ16に挿通するものであり、管28cは、第1の気体供給源28dからのガスを直接チャンバ16に挿通するものである。   In FIG. 1, 28g and 28i are pressure control valves for controlling the gas supply pressure from the first gas supply source 28d, and 28h is the gas supply pressure from the second gas supply source 28f. The pressure control valve to control is shown. The pipe 28e mixes the gas delivered from the first gas supply source 28d and the second gas supply source 28f with pressure adjustment and inserts the gas into the chamber 16. The pipe 28c The gas from the gas supply source 28d is directly inserted into the chamber 16.

図4に示すように、気体射出口28aと28bとは、チャンバ16の天板17に形成されている。天板17は、円錐台形状で上側の一部が円柱である内側部天板部品17aと、円錐台形状の孔を有する下部天板部品17bと、内側部天板部品17aを垂直に移動させる移動機構を有する上部外側部天板部品17cとを含み構成されている。   As shown in FIG. 4, the gas injection ports 28 a and 28 b are formed in the top plate 17 of the chamber 16. The top plate 17 vertically moves the inner top plate component 17a having a truncated cone shape and a part of the upper side being a cylinder, the lower top plate component 17b having a truncated cone shape hole, and the inner top plate component 17a. And an upper outer part top plate component 17c having a moving mechanism.

ここで、内側部天板部品17aと上部外側部天板部品17cとが接する部分(内側部天板部品17aでは上部の円柱部分)にはネジが切ってあり、内側部天板部品17aを回転させることで垂直方向に位置を変えることができ、内側部天板部品aは、下部天板部品17bとの距離を調節できる。また、内側部天板部品17aの円錐部分の勾配と、下部天板部品17bが有する孔の円錐部分の勾配は同一であり、相互に組み合わされる構造になっている。   Here, a screw is cut at a portion where the inner side top plate component 17a and the upper outer side top plate component 17c are in contact (in the inner side top plate component 17a, the upper cylindrical portion), and the inner side top plate component 17a is rotated. By doing so, the position can be changed in the vertical direction, and the distance between the inner top plate part a and the lower top plate part 17b can be adjusted. Further, the gradient of the conical portion of the inner top plate component 17a and the gradient of the conical portion of the hole of the lower top plate component 17b are the same and are structured to be combined with each other.

また、気体射出口28aとは、内側部天板部品17aと下部天板部品17bとが形成した間隙、つまり、スリットのことであり、その幅が調節可能であって、天板と同心である円周状に形成されている。ここで、気体射出口28aは、熱プラズマ炎24の尾部に向かって気体(ここでは、アルゴンとメタンとの混合ガス)を射出することができる形状であればよく、上述のようなスリット形状に限定されるものではなく、例えば、円周上に多数の孔を配したものでもよい。   The gas injection port 28a is a gap formed by the inner top plate component 17a and the lower top plate component 17b, that is, a slit, the width of which can be adjusted, and is concentric with the top plate. It is formed in a circumferential shape. Here, the gas injection port 28a may have any shape that can inject gas (here, a mixed gas of argon and methane) toward the tail of the thermal plasma flame 24, and has a slit shape as described above. It is not limited, For example, what provided many holes on the circumference may be used.

上部外側部天板部品17cの内部には、管28eを介して送られる気体A(アルゴンおよびメタン)が通過するための通気路17dと、気体B(アルゴン)が通過するための通気路17eと、が設けられている。管28eを介して送られる気体A(アルゴンおよびメタン)は、通気路17dを通過し、上述した内側部天板部品17aと下部天板部品17bとが形成するスリットである気体射出口28aを通過して、チャンバ16内に送り込まれる。管28cを介して送られる気体B(アルゴン)は、通気路17eを通過し、同じくスリットである気体射出口28bを通過して、チャンバ16内に送り込まれる。   Inside the upper outer part top plate component 17c, there are an air passage 17d through which the gas A (argon and methane) sent through the pipe 28e passes, and an air passage 17e through which the gas B (argon) passes. , Is provided. The gas A (argon and methane) sent through the pipe 28e passes through the air passage 17d and passes through the gas injection port 28a which is the slit formed by the inner top plate component 17a and the lower top plate component 17b described above. Then, it is fed into the chamber 16. The gas B (argon) sent through the pipe 28c passes through the ventilation path 17e, passes through the gas injection port 28b that is also a slit, and is sent into the chamber 16.

気体射出口28aに送られた前述の気体A(アルゴンおよびメタン)は、図4中の矢印Sで示す方向から、通気路17dを通って、図1および図4中の矢印Qで示される方向、すなわち、熱プラズマ炎の尾部(終端部)に向かって、前述のように、所定の供給量および所定の角度で射出される。また、気体射出口28bに送られた気体B(ここでは、アルゴン)は、図4中の矢印Tで示す方向から、通気路17eを通って、図1および図4中の矢印Rで示される方向に射出され、生成した超微粒子18がチャンバ16内壁面に付着するのを防止するように供給される。   The gas A (argon and methane) sent to the gas injection port 28a passes through the ventilation path 17d from the direction indicated by the arrow S in FIG. 4 and the direction indicated by the arrow Q in FIGS. That is, as described above, the thermal plasma flame is injected at a predetermined supply amount and a predetermined angle toward the tail (end portion) of the thermal plasma flame. Further, the gas B (in this case, argon) sent to the gas injection port 28b is indicated by an arrow R in FIGS. 1 and 4 from the direction indicated by the arrow T in FIG. 4 through the air passage 17e. It is ejected in the direction and supplied so as to prevent the generated ultrafine particles 18 from adhering to the inner wall surface of the chamber 16.

ここで、上記気体A(アルゴンおよびメタン)の所定の供給量について説明する。前述のように、前記気相状態の混合物を急冷するのに十分な供給量として、例えば前記気相状態の混合物を急冷するのに必要な空間を形成するチャンバ16において、そこに導入される気体のチャンバ16内における平均流速(チャンバ内流速)が、0.001〜60m/secとなるように供給することが好ましく、0.01〜10m/secとなるように供給することがより好ましい。このような平均流速範囲は、熱プラズマ炎24中に噴霧された粉末材料などが蒸発した、気相状態の混合物を急冷し超微粒子を生成させ、生成した超微粒子同士の衝突による凝集を防止するのに十分な気体の供給量である。   Here, the predetermined supply amount of the gas A (argon and methane) will be described. As described above, as a supply amount sufficient for quenching the gas-phase mixture, for example, in the chamber 16 that forms a space necessary for quenching the gas-phase mixture, the gas introduced therein The average flow velocity in the chamber 16 (flow velocity in the chamber) is preferably supplied so as to be 0.001 to 60 m / sec, and more preferably 0.01 to 10 m / sec. In such an average flow velocity range, the powder material sprayed in the thermal plasma flame 24 evaporates, the gas phase mixture is rapidly cooled to generate ultrafine particles, and aggregation due to collision between the generated ultrafine particles is prevented. This is a sufficient gas supply amount.

なお、この供給量は、気相状態の混合物を急冷して凝固させるのに十分な量であり、また、生成した直後の超微粒子同士が衝突することで凝集し凝固しないように気相状態の混合物を希釈するのに十分な量である必要があり、チャンバ16の形状や大きさによりその値を適宜定めるのがよい。
ただし、この供給量は、熱プラズマ炎の安定を妨げることのないように制御されることが好ましい。
The supply amount is sufficient to rapidly cool and solidify the gas phase mixture, and in order to prevent aggregation and solidification by collision of ultrafine particles immediately after production. The amount needs to be sufficient to dilute the mixture, and the value may be appropriately determined according to the shape and size of the chamber 16.
However, this supply amount is preferably controlled so as not to hinder the stability of the thermal plasma flame.

なお、気体A中の反応性ガス(ここでは、メタン)の供給量としては、熱プラズマ炎24中に噴霧された所定量の粉末材料(144)から生成された超微粒子の表面に炭素単体物および/または炭素化合物からなる薄膜を形成できれば、特に制限的ではないが、例えば、気体A中のアルゴンの量に対して、0.1〜10%程度含まれることが好ましい。   The supply amount of the reactive gas (here, methane) in the gas A is such that the surface of the ultrafine particles generated from a predetermined amount of the powder material (144) sprayed in the thermal plasma flame 24 is a carbon simple substance. And if it can form the thin film which consists of a carbon compound and / or, it will not be restrict | limited in particular, For example, it is preferable to contain about 0.1 to 10% with respect to the quantity of argon in the gas A.

次に、図5を用いて、気体射出口28aがスリット形状の場合における、上記所定の角度について説明する。図5(a)に、チャンバ16の天板17の中心軸を通る垂直方向の断面図を、また、図5(b)に、天板17を下方から見た図を示す。なお、図5(b)には、図5(a)に示した断面に対して垂直な方向が示されている。ここで、図5中に示す点Xは、通気路17dを介して第1の気体供給源28dおよび第2の気体供給源28f(図1参照)から送られた混合気体が、気体射出口28aからチャンバ16内部へ射出される射出点である。実際は、気体射出口28aが円周状のスリットであるため、射出時の気体は帯状の気流を形成している。従って、点Xは、仮想的な射出点である。   Next, the predetermined angle in the case where the gas injection port 28a has a slit shape will be described with reference to FIG. FIG. 5A shows a vertical sectional view passing through the central axis of the top plate 17 of the chamber 16, and FIG. 5B shows a view of the top plate 17 as viewed from below. FIG. 5B shows a direction perpendicular to the cross section shown in FIG. Here, a point X shown in FIG. 5 indicates that the mixed gas sent from the first gas supply source 28d and the second gas supply source 28f (see FIG. 1) via the air passage 17d is the gas injection port 28a. This is an injection point that is injected into the chamber 16 from the inside. Actually, since the gas injection port 28a is a circumferential slit, the gas at the time of injection forms a belt-like airflow. Therefore, the point X is a virtual emission point.

図5(a)に示すように、通気路17dの開口部の中心を原点として、垂直上方を0°、紙面で反時計周りに正の方向をとり、矢印Qで示される方向に気体射出口28aから射出される気体の角度を角度αで表す。この角度αは、上述した、熱プラズマ炎の頭部(始端部)から尾部(終端部)への方向(通常は鉛直方向)となす角度である。   As shown in FIG. 5 (a), the center of the opening of the air passage 17d is the origin, the vertical upward is 0 °, the positive direction is counterclockwise on the page, and the gas injection port is in the direction indicated by the arrow Q. The angle of the gas injected from 28a is represented by angle α. This angle α is an angle formed with the direction (usually the vertical direction) from the head (starting end) to the tail (ending end) of the thermal plasma flame described above.

また、図5(b)に示すように、上記仮想的な射出点Xを原点として、熱プラズマ炎24の中心に向かう方向が0°、紙面で反時計回りを正の方向として、熱プラズマ炎24の頭部(始端部)から尾部(終端部)への方向に対して垂直な面方向における、矢印Qで示される方向に気体射出口28aから射出される気体の角度を角度βで表す。この角度βは、上述した、熱プラズマ炎の頭部(始端部)から尾部(終端部)への方向に対して直交する面内(通常は水平面内)で、熱プラズマ炎の中心部に対する角度である。   Further, as shown in FIG. 5B, the thermal plasma flame with the virtual injection point X as the origin and the direction toward the center of the thermal plasma flame 24 as 0 ° and the counterclockwise direction on the paper as the positive direction. The angle of the gas ejected from the gas ejection port 28a in the direction indicated by the arrow Q in the plane direction perpendicular to the direction from the head portion (starting end portion) to the tailing portion (terminal end portion) is represented by an angle β. This angle β is an angle with respect to the center of the thermal plasma flame in the plane (usually in a horizontal plane) perpendicular to the direction from the head (starting end) to the tail (terminal) of the thermal plasma flame described above. It is.

上述した角度α(通常は鉛直方向の角度)および角度β(通常は水平方向の角度)を用いると、前記所定の角度、すなわち、前記気体の前記チャンバ内への導入方向は、前記チャンバ16内において、熱プラズマ炎24の尾部(終端部)に対して、角度αが90°<α<240°(より好ましくは100°<α<180°の範囲、最も好ましくはα=135°)、角度βが−90°<β<90°(より好ましくは−45°<β<45°の範囲、最も好ましくはβ=0°)であるのがよい。   When the angle α (usually the angle in the vertical direction) and the angle β (usually the angle in the horizontal direction) are used, the predetermined angle, that is, the introduction direction of the gas into the chamber is set in the chamber 16. , The angle α is 90 ° <α <240 ° (more preferably in the range of 100 ° <α <180 °, most preferably α = 135 °) with respect to the tail (end portion) of the thermal plasma flame 24. β should be −90 ° <β <90 ° (more preferably in the range of −45 ° <β <45 °, most preferably β = 0 °).

上述したように、熱プラズマ炎24に向かって所定の供給量および所定の角度で射出された気体により、上記気相状態の混合物が急冷され、超微粒子18が生成する。上述の所定の角度でチャンバ16内に射出された気体は、チャンバ16内に発生する乱流等の影響により必ずしもその射出された角度で熱プラズマ炎24の尾部に到達するわけではないが、気相状態の混合物の冷却を効果的に行い、かつ熱プラズマ炎24を安定させて効率よく超微粒子製造装置10を動作させるためには、上記角度に決定するのが好ましい。なお、上記角度は、装置の寸法,熱プラズマ炎の大きさ等の条件を考慮して、実験的に決定すればよい。   As described above, the gas phase mixture is rapidly cooled by the gas injected toward the thermal plasma flame 24 at a predetermined supply amount and a predetermined angle, and the ultrafine particles 18 are generated. The gas injected into the chamber 16 at the predetermined angle described above does not necessarily reach the tail of the thermal plasma flame 24 at the injected angle due to the influence of turbulence generated in the chamber 16. In order to effectively cool the mixture in the phase state and stabilize the thermal plasma flame 24 to operate the ultrafine particle production apparatus 10 efficiently, it is preferable to determine the angle. The angle may be determined experimentally in consideration of conditions such as the size of the apparatus and the size of the thermal plasma flame.

一方、気体射出口28bは、下部天板部品17b内に形成されたスリットである。気体射出口28bは、生成した超微粒子18がチャンバ16内壁へ付着することを防止するために、上記気体をチャンバ16内に導入するものである。
気体射出口28bは、天板17と同心である、円周状に形成されたスリットである。ただし、上記の目的を十分に達成する形状であれば、スリットである必要はない。
On the other hand, the gas injection port 28b is a slit formed in the lower top plate component 17b. The gas injection port 28 b introduces the gas into the chamber 16 in order to prevent the generated ultrafine particles 18 from adhering to the inner wall of the chamber 16.
The gas injection port 28 b is a slit that is concentric with the top plate 17 and formed in a circumferential shape. However, the slit need not be a slit as long as the above-described object is sufficiently achieved.

ここで、第1の気体供給源28dから管28cを介して天板17(詳しくは、下部天板部品17b)内に導入された気体は、通気路17eを介して気体射出口28bからチャンバ16の内側壁に沿って上方から下方に向かって、図1,図4に示す矢印Rの方向に射出される。   Here, the gas introduced into the top plate 17 (specifically, the lower top plate component 17b) from the first gas supply source 28d through the pipe 28c is supplied from the gas injection port 28b to the chamber 16 through the vent passage 17e. Injected in the direction of arrow R shown in FIG. 1 and FIG.

この作用は、前記超微粒子が回収される過程(工程)において、前記超微粒子がチャンバ16の内側壁に付着するのを防止する効果をもたらす。気体射出口28bから射出される気体の量は、その目的を達成するに足りる量であれば不必要に大量でなくてよく、超微粒子がチャンバ16の内側壁に付着するのを防止するのに十分な量でよい。
すなわち、気体Bの供給量は、熱プラズマ炎24のサイズおよび状態と、チャンバ16のサイズやチャンバ16内壁面のサイズおよび状態に応じて、適宜設定すればよいが、例えば、気体Aの1.5〜5倍程度の量であるのがこのましい。
This action has an effect of preventing the ultrafine particles from adhering to the inner wall of the chamber 16 in the process (step) of collecting the ultrafine particles. The amount of gas injected from the gas injection port 28b may not be unnecessarily large as long as the amount is sufficient to achieve the purpose, and it is possible to prevent the ultrafine particles from adhering to the inner wall of the chamber 16. A sufficient amount is sufficient.
That is, the supply amount of the gas B may be appropriately set according to the size and state of the thermal plasma flame 24 and the size of the chamber 16 and the size and state of the inner wall surface of the chamber 16. This amount is about 5 to 5 times.

なお、図1に示したチャンバ16の側壁に設けられている圧力計16pは、チャンバ16内の圧力を監視するためのものであり、主として、前述のようにチャンバ16内に供給されるガス量の変動等を検知し、系内の圧力を制御するためにも用いられる。   The pressure gauge 16p provided on the side wall of the chamber 16 shown in FIG. 1 is for monitoring the pressure in the chamber 16, and mainly the amount of gas supplied into the chamber 16 as described above. It is also used to detect the fluctuation of the pressure and control the pressure in the system.

図1に示すように、チャンバ16の側方には、生成した超微粒子18を回収する回収部20が設けられている。回収部20は回収室20aと、回収室20a内に設けられたフィルター20bと、回収室20a上部に設けられた管20cを介して接続された真空ポンプ(図示されていない)と、を備える。生成した超微粒子は、上記真空ポンプで吸引されることにより、回収室20a内に引き込まれ、フィルター20bの表面で留まった状態になって回収される。   As shown in FIG. 1, a collection unit 20 that collects the generated ultrafine particles 18 is provided on the side of the chamber 16. The recovery unit 20 includes a recovery chamber 20a, a filter 20b provided in the recovery chamber 20a, and a vacuum pump (not shown) connected via a pipe 20c provided in the upper portion of the recovery chamber 20a. The generated ultrafine particles are drawn into the collection chamber 20a by being sucked by the vacuum pump, and are collected while remaining on the surface of the filter 20b.

次に、上述した超微粒子製造装置10の作用を述べつつ、この超微粒子製造装置10を用いて、本発明の一実施形態に係る超微粒子の製造方法、およびこの製造方法により生成する超微粒子について説明する。   Next, while describing the operation of the ultrafine particle production apparatus 10 described above, with respect to the ultrafine particle production method according to an embodiment of the present invention using the ultrafine particle production apparatus 10, and the ultrafine particles generated by this production method explain.

本実施形態に係る超微粒子の製造方法では、まず、超微粒子製造用材料である粉末材料を材料供給装置14に投入する。
また、ここで、使用する粉末材料の粒径は、例えば、10μm以下であることが好ましい。
In the method for producing ultrafine particles according to the present embodiment, first, a powder material that is a material for producing ultrafine particles is charged into the material supply device 14.
Moreover, it is preferable here that the particle size of the powder material to be used is 10 micrometers or less, for example.

ここで、粉末材料は、熱プラズマ炎により蒸発させられるものであれば、その種類を問わないが、好ましくは、以下のものがよい。すなわち、原子番号12,13,26〜30,46〜50,62,78〜83の元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む金属、合金、単体酸化物、複合酸化物、複酸化物、酸化物固溶体、水酸化物、炭酸化合物、ハロゲン化物、硫化物、窒化物、炭化物、水素化物、金属塩または金属有機化合物を適宜選択すればよい。   Here, the powder material is not particularly limited as long as it can be evaporated by a thermal plasma flame, but the following materials are preferable. That is, a metal, an alloy, a single oxide, a complex oxide, a complex oxide containing at least one selected from the group consisting of elements of atomic numbers 12, 13, 26-30, 46-50, 62, 78-83, An oxide solid solution, hydroxide, carbonate compound, halide, sulfide, nitride, carbide, hydride, metal salt, or metal organic compound may be appropriately selected.

なお、単体酸化物とは酸素以外に1種の元素からなる酸化物をいい、複合酸化物とは複数種の酸化物から構成されるものをいい、複酸化物とは2種以上の酸化物からできている高次酸化物をいい、酸化物固溶体とは異なる酸化物が互いに均一に溶け合った固体をいう。また、金属とは1種以上の金属元素のみで構成されるものをいい、合金とは2種以上の金属元素から構成されるものをいい、その組織状態としては、固溶体,共融混合物,金属間化合物あるいはそれらの混合物をなす場合がある。   The simple oxide means an oxide composed of one kind of element other than oxygen, the complex oxide means one composed of plural kinds of oxides, and the double oxide means two or more kinds of oxides. It is a high-order oxide made of, and is a solid in which oxides different from oxide solid solutions are uniformly dissolved. In addition, a metal means a material composed only of one or more kinds of metal elements, and an alloy means a material composed of two or more kinds of metal elements. Its structure is a solid solution, a eutectic mixture, a metal. It may form an intercalation compound or a mixture thereof.

また、水酸化物とは水酸基と1種以上の金属元素から構成されるものをいい、炭酸化合物とは炭酸基と1種以上の金属元素から構成されるものをいい、ハロゲン化物とはハロゲン元素と1種以上の金属元素から構成されるものをいい、硫化物とは硫黄と1種以上の金属元素から構成されるものをいう。また、窒化物とは窒素と1種以上の金属元素から構成されるものをいい、炭化物とは炭素と1種以上の金属元素から構成されるものをいい、水素化物とは水素と1種以上の金属元素から構成されるものをいう。また、金属塩は少なくとも1種以上の金属元素を含むイオン性化合物をいい、金属有機化合物とは1種以上の金属元素と少なくともC,O,N元素のいずれかとの結合を含む有機化合物をいい、金属アルコキシドや有機金属錯体等が挙げられる。   A hydroxide is a compound composed of a hydroxyl group and one or more metal elements, a carbonate compound is a compound composed of a carbonate group and one or more metal elements, and a halide is a halogen element. And one or more metal elements, and a sulfide means one composed of sulfur and one or more metal elements. Nitride means nitrogen and one or more metal elements, carbide means carbon and one or more metal elements, and hydride means hydrogen and one or more metal elements. It consists of metal elements. Further, a metal salt refers to an ionic compound containing at least one metal element, and a metal organic compound refers to an organic compound including a bond between at least one metal element and at least one of C, O, and N elements. And metal alkoxides and organometallic complexes.

次に、キャリアガスを用いて超微粒子製造用材料を気体搬送し、プラズマトーチ12内に導入するための導入管14aを介して熱プラズマ炎24中に導入して蒸発させ、気相状態の混合物にする。つまり、熱プラズマ炎24中に導入された粉末材料は、プラズマトーチ12内に供給されることにより、プラズマトーチ12内に発生している熱プラズマ炎24中に導入され、蒸発する結果、気相状態の混合物となる。   Next, the material for producing ultrafine particles is conveyed by gas using a carrier gas, introduced into the thermal plasma flame 24 through the introduction tube 14a for introduction into the plasma torch 12, and evaporated, and the mixture in the gas phase state To. In other words, the powder material introduced into the thermal plasma flame 24 is introduced into the thermal plasma flame 24 generated in the plasma torch 12 by being supplied into the plasma torch 12, and as a result, the gas phase is vaporized. It becomes a mixture of states.

なお、上記粉末材料が熱プラズマ炎24中で気相状態になる必要があるため、熱プラズマ炎24の温度は、粉末材料の沸点よりも高いことが必要である。一方、熱プラズマ炎24の温度が高いほど、容易に原材料が気相状態となるので好ましいが、特に温度は限定されず、原材料に応じて温度を適宜選択してよい。例えば、熱プラズマ炎24の温度を6000℃とすることもできるし、理論上は、10000℃程度に達するものと考えられる。   Since the powder material needs to be in a gas phase state in the thermal plasma flame 24, the temperature of the thermal plasma flame 24 needs to be higher than the boiling point of the powder material. On the other hand, the higher the temperature of the thermal plasma flame 24 is, the easier it is for the raw material to be in a gas phase, but the temperature is not particularly limited, and the temperature may be appropriately selected according to the raw material. For example, the temperature of the thermal plasma flame 24 can be set to 6000 ° C., and it is theoretically considered to reach about 10000 ° C.

また、プラズマトーチ12内における圧力雰囲気は、大気圧以下であることが好ましい。ここで、大気圧以下の雰囲気については、特に限定されないが、例えば0.5〜100kPaとすることが考えられる。   The pressure atmosphere in the plasma torch 12 is preferably atmospheric pressure or lower. Here, the atmosphere at atmospheric pressure or lower is not particularly limited, but it may be, for example, 0.5 to 100 kPa.

次に、熱プラズマ炎24中で粉末材料が蒸発し気相状態となった混合物を、チャンバ16内で急冷することにより、超微粒子18が生成する。詳しくは、熱プラズマ24中で気相状態となった混合物が、気体射出口28aを介して所定の角度および供給量で熱プラズマ炎に向かって矢印Qで示される方向に射出される気体によって急冷され、超微粒子18が生成する。   Next, the mixture in which the powder material is evaporated in the thermal plasma flame 24 to be in a gas phase is rapidly cooled in the chamber 16, thereby generating ultrafine particles 18. Specifically, the mixture in the vapor phase state in the thermal plasma 24 is rapidly cooled by the gas injected in the direction indicated by the arrow Q toward the thermal plasma flame at a predetermined angle and supply amount through the gas injection port 28a. As a result, ultrafine particles 18 are generated.

生成直後の超微粒子同士が衝突し、凝集体を形成することで粒径の不均一が生じると、品質低下の要因となる。これに対し、本発明に係る超微粒子の製造方法においては、気体射出口28aを介して所定の角度および供給量で熱プラズマ炎の尾部(終端部)に向かって矢印Qで示される方向に射出される気体Aが、超微粒子18を希釈することで、超微粒子同士が衝突し凝集することを防止する。   If ultrafine particles immediately after generation collide with each other to form an aggregate, nonuniformity in particle size is a cause of quality deterioration. On the other hand, in the method for producing ultrafine particles according to the present invention, injection is performed in the direction indicated by the arrow Q toward the tail (end portion) of the thermal plasma flame at a predetermined angle and supply amount through the gas injection port 28a. The gas A to be diluted dilutes the ultrafine particles 18 to prevent the ultrafine particles from colliding with each other and aggregating.

また、チャンバ16内の温度・圧力条件により、気体Aに含まれる反応性ガスが分解・反応し、生成した超微粒子18の表面上で、炭素単体物および/または炭素化合物を生成し、もしくは生成した炭素単体物および/または炭素化合物が超微粒子18の表面上に吸着することで、超微粒子同士の凝集・融着および酸化を防止する。   Further, the reactive gas contained in the gas A decomposes and reacts depending on the temperature and pressure conditions in the chamber 16 to generate or generate a carbon simple substance and / or a carbon compound on the surface of the generated ultrafine particles 18. The carbon simple substance and / or the carbon compound adsorbed on the surface of the ultrafine particles 18 prevents aggregation / fusion and oxidation of the ultrafine particles.

つまり、気体射出口28aから射出された気体が、上記気相状態の混合物を急冷し、さらに、生成した超微粒子の凝集を防止すると同時に、射出された気体に含まれる反応性ガスに由来する炭素単体物および/または炭素化合物で超微粒子の表面が被覆されることで、粒子径の微細化、および粒子径の均一化および粒子同士の凝集・融着および酸化を防止するように作用しており、このことは本発明の大きな特徴である。   That is, the gas injected from the gas injection port 28a rapidly cools the gas phase mixture, and further prevents aggregation of the generated ultrafine particles, and at the same time, carbon derived from the reactive gas contained in the injected gas. By covering the surface of ultrafine particles with a single substance and / or carbon compound, it works to make the particle size finer, make the particle size uniform, and prevent aggregation, fusion and oxidation of particles. This is a major feature of the present invention.

ところで、気体射出口28aから射出される気体は、熱プラズマ炎24の安定性に少なからず悪影響を与える。しかし、装置全体を連続的に運転するためには熱プラズマ炎を安定させる必要がある。このため、本実施形態に係る超微粒子製造装置10における気体射出口28aは、円周状に形成されたスリットとなっており、そのスリット幅を調節することで気体の供給量および射出速度を調節することができ、中心方向に均一な気体を射出することができるので、熱プラズマ炎を安定させるのに好ましい形状を有するといえる。また、この調節は、射出される気体の供給量を変えることでも行える。   By the way, the gas injected from the gas injection port 28 a has a considerable adverse effect on the stability of the thermal plasma flame 24. However, in order to continuously operate the entire apparatus, it is necessary to stabilize the thermal plasma flame. Therefore, the gas injection port 28a in the ultrafine particle manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment is a slit formed in a circumferential shape, and the gas supply amount and the injection speed are adjusted by adjusting the slit width. Since a uniform gas can be injected in the central direction, it can be said that it has a preferable shape for stabilizing the thermal plasma flame. This adjustment can also be performed by changing the supply amount of the injected gas.

一方、第2の導入気体は、気体射出口28bを介してチャンバ16の内側壁に沿って上方から下方に向かって、図1,図4に示す矢印Rの方向に射出される。これによって、超微粒子の回収の過程において、超微粒子18がチャンバ16の内壁に付着することを防止し、生成した超微粒子の収率を向上させることができる。最終的に、チャンバ16内で生成した超微粒子は、管20cに接続された真空ポンプ(図示されていない)により吸引され、回収部20のフィルター20bで回収される。   On the other hand, the second introduced gas is injected in the direction of the arrow R shown in FIGS. 1 and 4 from the upper side to the lower side along the inner wall of the chamber 16 through the gas injection port 28b. Thereby, it is possible to prevent the ultrafine particles 18 from adhering to the inner wall of the chamber 16 in the process of collecting the ultrafine particles, and to improve the yield of the generated ultrafine particles. Finally, the ultrafine particles generated in the chamber 16 are sucked by a vacuum pump (not shown) connected to the tube 20c and collected by the filter 20b of the collection unit 20.

ここで、キャリアガスまたは噴霧ガスとしては、一般には、空気,酸素,窒素,アルゴンまたは水素等の使用が考えられるが、生成する超微粒子が金属超微粒子の場合には、キャリアガスまたは噴霧ガスとしてアルゴンを用いるとよい。   Here, as the carrier gas or the spray gas, generally, use of air, oxygen, nitrogen, argon, hydrogen, or the like can be considered. However, when the generated ultrafine particles are metal ultrafine particles, the carrier gas or the spray gas is used. Argon may be used.

第1の導入気体に含まれる反応性ガスとしては、熱プラズマ中で分解・反応して原子レベルの炭素を発生させ得るものであれば、各種のものが用い得る。例えば、上述のメタンの他、例えば、エタン,プロパン,ブタン,アセチレン,エチレン,プロピレン,ブテン等の炭素数4以下の各種の炭化水素ガス等が好適に用い得る。また、上述の原子レベルの炭素は、前述の生成する超微粒子表面で生成、もしくは、表面に吸着しやすいものであることが好ましい。   As the reactive gas contained in the first introduction gas, various gases can be used as long as they can be decomposed and reacted in thermal plasma to generate carbon at the atomic level. For example, in addition to the above-mentioned methane, for example, various hydrocarbon gases having 4 or less carbon atoms such as ethane, propane, butane, acetylene, ethylene, propylene, and butene can be suitably used. Further, the above-described atomic level carbon is preferably generated on the surface of the ultrafine particles generated or easily adsorbed on the surface.

本実施形態に係る製造方法により製造される超微粒子は、その粒度分布幅が狭い、すなわち、均一な粒径を有し、粗大粒子の混入が少なく、具体的には、その平均粒径が1〜100nmである。本実施形態に係る超微粒子の製造方法では、例えば単体無機物,単体酸化物,複合酸化物,複酸化物,酸化物固溶体,金属,合金,水酸化物,炭酸化合物,燐酸化合物,ハロゲン化物,硫化物,単体窒化物,複合窒化物,単体炭化物,複合炭化物または水素化物等の超微粒子の表面に、薄膜を形成することができる。   The ultrafine particles produced by the production method according to the present embodiment have a narrow particle size distribution width, that is, a uniform particle size, little contamination with coarse particles, and specifically, an average particle size of 1 ~ 100 nm. In the method for producing ultrafine particles according to the present embodiment, for example, simple inorganic substances, simple oxides, composite oxides, double oxides, oxide solid solutions, metals, alloys, hydroxides, carbonate compounds, phosphate compounds, halides, sulfides. It is possible to form a thin film on the surface of ultrafine particles such as oxides, simple nitrides, composite nitrides, simple carbides, composite carbides or hydrides.

本実施形態における反応性ガスの作用は、チャンバ16内の温度・圧力条件によりこれが分解・反応して、生成した超微粒子18の表面上で、炭素単体物および/または炭素化合物を生成し、もしくは、生成した炭素単体物および/または炭素化合物が超微粒子18の表面上に吸着することによって、炭素単体物および/または炭素化合物に表面を被覆された超微粒子を生成させる点にある。   In the present embodiment, the reactive gas is decomposed and reacted according to the temperature and pressure conditions in the chamber 16 to generate a carbon simple substance and / or a carbon compound on the surface of the generated ultrafine particles 18, or The carbon simple substance and / or carbon compound produced is adsorbed on the surface of the ultrafine particles 18 to produce ultrafine particles having the surface coated with the carbon simple substance and / or the carbon compound.

すなわち、前述のように、本実施形態に係る超微粒子製造方法により生成する超微粒子は、その粒径が上述したように小さいので、その表面活性が極めて大きくなり、上述のような炭素単体物および/または炭素化合物による超微粒子の表面被覆は、短時間のうちに迅速に行われるようになる。   That is, as described above, the ultrafine particles produced by the method for producing ultrafine particles according to the present embodiment have a very large surface activity because the particle size is small as described above, and the above-described carbon simple substance and The surface coating of the ultrafine particles with the carbon compound is performed quickly in a short time.

なお、上記射出される気体Aは、気相状態の混合物が急冷され凝固することによって生成する超微粒子同士が、衝突して凝集することを防ぐことができる。つまり、本発明に係る超微粒子の製造方法は、気相状態の混合物を急冷する過程、並びに生成した超微粒子の表面が炭素単体物および/または炭素化合物で被覆されることで、凝集・融着および酸化を防ぐと同時に、粒径が微細かつ均一で、品質の良い高純度の超微粒子を高い生産性で製造する過程を有しているために、上記過程で生成した超微粒子の表面に反応性ガスの分解・反応に由来する炭素単体物および/または炭素化合物を均一に付着させることができるものである。   Note that the injected gas A can prevent the ultrafine particles generated by rapidly cooling and solidifying the gas phase mixture from colliding with each other. That is, the method for producing ultrafine particles according to the present invention comprises a process of rapidly cooling a gas phase mixture, and the surface of the produced ultrafine particles is coated with a carbon simple substance and / or a carbon compound, thereby agglomerating and fusing. In addition to preventing oxidation, it has a process to produce high-purity ultrafine particles with a fine and uniform particle size with high quality, so it reacts with the surface of the ultrafine particles generated in the above process. The carbon simple substance and / or the carbon compound derived from the decomposition / reaction of the property gas can be uniformly attached.

また、本実施形態に係る超微粒子の製造方法では、プラズマガス,キャリアガス,供給原材料に由来するガスおよび反応性ガスからなり、回収部に備えられた真空ポンプの排気動作等によりチャンバ16内に生み出される気流によって、熱プラズマ炎から気相状態の混合物を十分に離れた場所に導くことで実現される冷却のみならず、熱プラズマ炎の尾部(終端部)に向けて射出される気体により、気相状態の混合物を急冷することができるという作用をも有している。   Further, in the method for producing ultrafine particles according to the present embodiment, plasma gas, carrier gas, gas derived from the raw material to be supplied, and reactive gas are contained in the chamber 16 by the evacuation operation of the vacuum pump provided in the recovery unit. Not only is the cooling realized by directing the gas phase mixture from the thermal plasma flame to a location sufficiently away from the thermal plasma flame by the generated air flow, but also the gas injected toward the tail (end) of the thermal plasma flame, It also has an effect that the gas phase mixture can be rapidly cooled.

以下に、上記実施形態に係る装置を用いた実施例を説明する。   Examples using the apparatus according to the above embodiment will be described below.

〔実施例1〕
まず、銀の超微粒子を製造し、粒子同士の凝集・融着を防止した実施例を示す。
原料として、平均粒径4.5μmの銀粉末を用いた。
また、キャリアガスとしては、アルゴンを用いた。
[Example 1]
First, an example in which ultrafine particles of silver are produced and aggregation / fusion of particles is prevented will be described.
As a raw material, silver powder having an average particle size of 4.5 μm was used.
Argon was used as the carrier gas.

プラズマトーチ12の高周波発振用コイル12bには、約4MHz,約80kVAの高周波電圧を印加し、プラズマガス供給源22からは、プラズマガスとして、アルゴン80リットル/min,水素5リットル/minの混合ガスを導入し、プラズマトーチ12内にアルゴン・水素熱プラズマ炎を発生させた。なお、ここでは、反応温度が約8000℃になるように制御し、材料供給装置14のキャリアガス供給源15からは、10リットル/minのキャリアガスを供給した。   A high frequency voltage of about 4 MHz and about 80 kVA is applied to the high frequency oscillation coil 12 b of the plasma torch 12, and a mixed gas of argon 80 liter / min and hydrogen 5 liter / min is used as a plasma gas from the plasma gas supply source 22. And an argon / hydrogen thermal plasma flame was generated in the plasma torch 12. Here, the reaction temperature was controlled to be about 8000 ° C., and 10 liter / min of carrier gas was supplied from the carrier gas supply source 15 of the material supply device 14.

銀粉末を、キャリアガスであるアルゴンとともにプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に導入した。
気体導入装置28によって、チャンバ16内に導入される気体としては、気体射出口28aから射出されるガスにはアルゴン150リットル/minと反応性ガスであるメタン2.5リットル/minとを混合したものを用い、また、気体射出口28bから射出されるガスにはアルゴン50リットル/minを使用した。このときのチャンバ内流速は、0.25m/secであった。なお、チャンバ16内の圧力は、50kPaとした。
Silver powder was introduced into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 together with argon as a carrier gas.
As the gas introduced into the chamber 16 by the gas introduction device 28, the gas injected from the gas injection port 28a was mixed with argon 150 liter / min and reactive gas methane 2.5 liter / min. In addition, 50 liters / min of argon was used as the gas injected from the gas injection port 28b. At this time, the flow velocity in the chamber was 0.25 m / sec. The pressure in the chamber 16 was 50 kPa.

上記のような製造条件で生成された銀超微粒子の比表面積(1グラム当たりの表面積)から換算した粒子径は、70nmであった。図6,図7に、粒子の電子顕微鏡写真を示す。図6は走査型電子顕微鏡による写真で、この銀超微粒子の表面を観察したところでは、粒子同士の融着は殆んど発生していなかった。また、図7は透過型電子顕微鏡による写真で、超微粒子表面に形成されている被膜が観察される。図8は、炭素単体物および/または炭素化合物で被覆されている銀ナノ粒子からクロロホルムを用いて表面被覆物を抽出し、それらの赤外吸収スペクトルを測定した結果である。   The particle diameter converted from the specific surface area (surface area per gram) of the ultrafine silver particles produced under the production conditions as described above was 70 nm. 6 and 7 show electron micrographs of the particles. FIG. 6 is a photograph taken with a scanning electron microscope. When the surface of the silver ultrafine particles was observed, the fusion between the particles hardly occurred. FIG. 7 is a photograph taken with a transmission electron microscope, and a film formed on the surface of the ultrafine particles is observed. FIG. 8 shows the result of extracting the surface coating from the silver nanoparticles coated with the carbon simple substance and / or the carbon compound using chloroform, and measuring the infrared absorption spectrum thereof.

図8に示されるように、1350〜1450cm−1および2800〜3100cm−1には、−CH−を初めとしたパラフィン,オレフィン系の原子団に由来する吸収が、700〜900cm−1および1450〜1650cm−1には、ベンゼン環を初めとした芳香族系の原子団に由来する吸収が、また、1200〜1300cm−1および1650〜1750cm−1には、カルボン酸系の原子団(−COOH)に由来する吸収が現れていることから、超微粒子の表面被覆膜は、炭素化合物(炭化水素化合物)で構成されていることが確認できる。
なお、本実施例で生成された超微粒子の収率は、投入した粉末材料100g当たりに回収された前記銀超微粒子の量が40gであったことから、40%であった。
As shown in FIG. 8, the 1350~1450Cm -1 and 2800~3100cm -1, -CH 2 - paraffin that starting with, absorption derived from the atomic olefin, 700~900Cm -1 and 1450 ˜1650 cm −1 , absorption derived from aromatic atomic groups including a benzene ring, and 1200 to 1300 cm −1 and 1650 to 1750 cm −1 carboxylic acid based atomic groups (—COOH). ) Appears, it can be confirmed that the surface coating film of ultrafine particles is composed of a carbon compound (hydrocarbon compound).
The yield of the ultrafine particles produced in this example was 40% because the amount of the ultrafine silver particles recovered per 100 g of the charged powder material was 40 g.

〔実施例2〕
次に、実施例1と同じく銀の超微粒子を製造し、反応性ガス量を変え、粒子径を制御した実施例を示す。
原料として、平均粒径4.5μmの銀粉末を用いた。
また、キャリアガスとしては、アルゴンを用いた。
[Example 2]
Next, the Example which manufactured the ultrafine particle of silver similarly to Example 1, changed the amount of reactive gas, and controlled the particle diameter is shown.
As a raw material, silver powder having an average particle size of 4.5 μm was used.
Argon was used as the carrier gas.

ここで、プラズマトーチ12に印加した高周波電圧、プラズマガスの供給量等は、実施例1と同じにして、プラズマトーチ12内にアルゴン・水素熱プラズマ炎を発生させた。なお、反応温度も約8000℃になるように制御し、材料供給装置14のキャリアガス供給源15からのキャリアガス供給量も、10リットル/minとした。   Here, the high frequency voltage applied to the plasma torch 12 and the supply amount of the plasma gas were the same as in Example 1, and an argon / hydrogen thermal plasma flame was generated in the plasma torch 12. The reaction temperature was also controlled to be about 8000 ° C., and the amount of carrier gas supplied from the carrier gas supply source 15 of the material supply device 14 was also 10 liters / min.

銀粉末を、キャリアガスであるアルゴンとともにプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に導入した。
気体導入装置28によって、チャンバ16内に導入される気体としては、気体射出口28aから射出されるガスにはアルゴン150リットル/minと反応性ガスであるメタン5.0リットル/minとを混合したものを用い、また、気体射出口28bから射出されるガスにはアルゴン50リットル/minを使用した。このときのチャンバ内流速は、0.25m/secであった。なお、チャンバ16内の圧力は、50kPaとした。
Silver powder was introduced into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 together with argon as a carrier gas.
As the gas introduced into the chamber 16 by the gas introduction device 28, the gas injected from the gas injection port 28a was mixed with 150 liter / min of argon and 5.0 liter / min of methane which is a reactive gas. In addition, 50 liters / min of argon was used as the gas injected from the gas injection port 28b. At this time, the flow velocity in the chamber was 0.25 m / sec. The pressure in the chamber 16 was 50 kPa.

上記のような製造条件で生成された銀超微粒子の比表面積から換算した粒子径は、40nmであった。図9に、粒子の走査型電子顕微鏡写真を示す。また、透過型電子顕微鏡でこの銀超微粒子の表面を観察すると、炭素単体物および/または炭素化合物の層状被膜が確認でき、粒子同士の融着は殆んど発生していなかった。また、生成された超微粒子の収率は、投入した粉末材料100g当たりに回収された前記銀超微粒子の量が45gであったことから、45%であった。   The particle diameter converted from the specific surface area of the ultrafine silver particles produced under the production conditions as described above was 40 nm. FIG. 9 shows a scanning electron micrograph of the particles. Further, when the surface of the silver ultrafine particles was observed with a transmission electron microscope, a layered film of a carbon simple substance and / or a carbon compound could be confirmed, and the particles were hardly fused. The yield of the ultrafine particles produced was 45% because the amount of the ultrafine silver particles collected per 100 g of the charged powder material was 45 g.

〔実施例3〕
次に、銅の超微粒子を製造し、粒子同士の凝集・融着を防止した実施例を示す。
原料として、平均粒径5.0μmの銅粉末を用いた。
また、キャリアガスとしては、アルゴンを用いた。
Example 3
Next, an example in which ultrafine particles of copper are produced and aggregation / fusion of particles is prevented will be described.
A copper powder having an average particle size of 5.0 μm was used as a raw material.
Argon was used as the carrier gas.

ここで、プラズマトーチ12に印加した高周波電圧、プラズマガスの供給量等は、実施例1,実施例2と同じにして、プラズマトーチ12内にアルゴン・水素熱プラズマ炎を発生させた。なお、反応温度も約8000℃になるように制御し、材料供給装置14のキャリアガス供給源15からのキャリアガス供給量も、10リットル/minとした。   Here, the high frequency voltage applied to the plasma torch 12, the supply amount of plasma gas, and the like were the same as those in Example 1 and Example 2, and an argon / hydrogen thermal plasma flame was generated in the plasma torch 12. The reaction temperature was also controlled to be about 8000 ° C., and the amount of carrier gas supplied from the carrier gas supply source 15 of the material supply device 14 was also 10 liters / min.

銅粉末を、キャリアガスであるアルゴンとともにプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に導入した。
気体導入装置28によって、チャンバ16内に導入される気体としては、気体射出口28aから射出されるガスにはアルゴン150リットル/minと反応性ガスであるメタン5.0リットル/minとを混合したものを用い、また、気体射出口28bから射出されるガスにはアルゴン50リットル/minを使用した。このときのチャンバ内流速は、0.25m/secであった。なお、チャンバ16内の圧力は、35kPaとした。
Copper powder was introduced into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 together with argon as a carrier gas.
As the gas introduced into the chamber 16 by the gas introduction device 28, the gas injected from the gas injection port 28a was mixed with 150 liter / min of argon and 5.0 liter / min of methane which is a reactive gas. In addition, 50 liters / min of argon was used as the gas injected from the gas injection port 28b. At this time, the flow velocity in the chamber was 0.25 m / sec. The pressure in the chamber 16 was 35 kPa.

上記のような製造条件で生成された銅超微粒子の比表面積から換算した粒子径は、20nmであった。透過型電子顕微鏡でこの銅超微粒子の表面を観察すると、炭素単体物および/または炭素化合物の層状被膜が確認でき、粒子同士の融着は殆んど発生していなかった。また、生成直後の超微粒子は、X線回折による分析で銅であることが確認できた。
図10は、本方法で調製した銀ナノ粒子表面の被覆膜を、透過型電子顕微鏡を組み合わせた電子エネルギー損失分光法で測定した結果である。
本測定によれば、σ結合だけでなくπ結合も同時に確認できることから、超微粒子の表面被覆膜には、赤外吸収スペクトルによる測定で確認した炭素化合物(図8参照)だけでなく、グラファイト等の炭素単体物も含まれていることが確認できる。
The particle diameter converted from the specific surface area of the copper ultrafine particles produced under the above production conditions was 20 nm. When the surface of the copper ultrafine particles was observed with a transmission electron microscope, a layered film of a carbon simple substance and / or a carbon compound could be confirmed, and the particles were hardly fused. Further, it was confirmed that the ultrafine particles immediately after the production were copper by analysis by X-ray diffraction.
FIG. 10 shows the results of measuring the coating film on the surface of the silver nanoparticles prepared by this method by electron energy loss spectroscopy combined with a transmission electron microscope.
According to this measurement, not only the σ bond but also the π bond can be confirmed at the same time. Therefore, not only the carbon compound (see FIG. 8) confirmed by the measurement by the infrared absorption spectrum but also graphite is used for the surface coating film of the ultrafine particles. It can be confirmed that carbon simple substances such as are also included.

また、この銅超微粒子は、3週間大気中に放置したものでも、酸化は殆んど生じなかった。
なお、生成された前記超微粒子の収率は、投入した粉末材料100g当たりに回収された前記銅超微粒子の量が40gであったことから、40%であった。
Further, even if the copper ultrafine particles were left in the atmosphere for 3 weeks, little oxidation occurred.
The yield of the ultrafine particles produced was 40% because the amount of the ultrafine copper particles recovered per 100 g of the charged powder material was 40 g.

なお、実施例1〜実施例3の結果から、超微粒子製造時の、前述の気体Aおよび気体Bの流量を制御することにより、生成する超微粒子の大きさおよびその表面に形成される被覆薄膜の膜厚を所望の値に設定することが可能であることがわかる。
ただし、この制御条件は、他の条件との関係もあるので一概には決められず、今のところは、試行錯誤的に決定する必要がある。
In addition, from the results of Examples 1 to 3, by controlling the flow rates of the gas A and the gas B described above during the production of ultrafine particles, the size of the ultrafine particles to be generated and the coated thin film formed on the surface thereof It can be seen that the film thickness can be set to a desired value.
However, since this control condition is related to other conditions, it cannot be determined unconditionally. For now, it is necessary to determine it by trial and error.

〔比較例〕
次に、比較例として、実施形態に係る装置を用いて、反応性ガスを気体射出口28aからではなく、キャリアガスに混合して、銀の超微粒子を製造した例を示す。
原料として、平均粒径4.5μmの銀粉末を用いた。
また、キャリアガスとしては、アルゴン9.0リットル/minと反応性ガスであるメタン1.0リットル/minを混合したものを用いた。
[Comparative Example]
Next, as a comparative example, an example in which the reactive gas is mixed not with the gas injection port 28a but with the carrier gas using the apparatus according to the embodiment to produce ultrafine silver particles will be described.
As a raw material, silver powder having an average particle size of 4.5 μm was used.
As the carrier gas, a mixture of 9.0 liter / min of argon and 1.0 liter / min of methane, which is a reactive gas, was used.

ここでも、プラズマトーチ12に印加した高周波電圧、プラズマガスの供給量等は、実施例1〜実施例3と同じにして、プラズマトーチ12内にアルゴン・水素熱プラズマ炎を発生させた。なお、反応温度も約8000℃になるように制御し、材料供給装置14のキャリアガス供給源15からのキャリアガス供給量も、10リットル/minとした。   Here, the high frequency voltage applied to the plasma torch 12 and the supply amount of the plasma gas were the same as in the first to third embodiments, and an argon / hydrogen thermal plasma flame was generated in the plasma torch 12. The reaction temperature was also controlled to be about 8000 ° C., and the amount of carrier gas supplied from the carrier gas supply source 15 of the material supply device 14 was also 10 liters / min.

銀粉末を、キャリアガスであるアルゴンとメタンの混合ガスによりプラズマトーチ12内の熱プラズマ炎24中に導入した。
気体導入装置28によって、チャンバ16内に導入される気体としては、気体射出口28aから射出されるガスにはアルゴン150リットル/minを用い、また、気体射出口28bから射出されるガスにはアルゴン50リットル/minを使用した。このときのチャンバ内流速は、0.25m/secであった。なお、チャンバ16内の圧力は、50kPaとした。
Silver powder was introduced into the thermal plasma flame 24 in the plasma torch 12 by a mixed gas of argon and methane as a carrier gas.
As gas introduced into the chamber 16 by the gas introduction device 28, argon of 150 liter / min is used for the gas injected from the gas injection port 28a, and argon is used for the gas injected from the gas injection port 28b. 50 liters / min was used. At this time, the flow velocity in the chamber was 0.25 m / sec. The pressure in the chamber 16 was 50 kPa.

上記のような製造条件で生成された銀超微粒子を走査型電子顕微鏡で観察すると、超微粒子だけでなく、溶け残った原料由来の大きな粒子や、反応性ガスであるメタンに由来するグラファイトが確認され、粒子径や形状の均一性を実現することは不可能であった。図11に、粒子の電子顕微鏡写真を示す。   By observing the ultrafine silver particles generated under the above manufacturing conditions with a scanning electron microscope, not only ultrafine particles but also large particles derived from undissolved raw materials and graphite derived from methane, which is a reactive gas, are confirmed. Therefore, it was impossible to achieve uniformity in particle size and shape. FIG. 11 shows an electron micrograph of the particles.

表1に、実施例1〜2に示したと同様の銀の超微粒子を製造する際における、チャンバ16内に導入される気体としての混合ガス(アルゴンとメタン)の流量を変更した場合に生成する超微粒子の粒径の変化についてのその後の実験結果をまとめた。ここでは、アルゴンの流量を100リットル/minと150リットル/minに、メタンの流量を0.5リットル/min〜5.0リットル/minに変更している。
なお、表1において、BETは前述の比表面積を、DBETはこれから算出した超微粒子の粒径を示している。
Table 1 shows the case where the flow rate of the mixed gas (argon and methane) as the gas introduced into the chamber 16 is changed when producing the same ultrafine silver particles as shown in Examples 1 and 2. The following experimental results on the change in the particle size of the ultrafine particles were summarized. Here, the flow rate of argon is changed to 100 liter / min and 150 liter / min, and the flow rate of methane is changed to 0.5 liter / min to 5.0 liter / min.
In Table 1, BET represents the above-mentioned specific surface area, and D BET represents the particle diameter of ultrafine particles calculated from the above.

Figure 0004963586
Figure 0004963586

なお、上記実施形態並びに実施例は、本発明の一例を示したものであり、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更や改良を行ってもよいことはいうまでもない。   The above embodiments and examples are merely examples of the present invention, and the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements can be made without departing from the spirit of the present invention. It goes without saying that you can go.

例えば、プラズマ炎を安定化するために、超微粒子製造用材料を熱プラズマ炎中に導入する際に、自身が燃焼する可燃性材料を添加・混合することも有効である。この場合、粉末材料と可燃性材料との質量比は、一例として95:5とすることが考えられるが、これに限られるものではない。   For example, in order to stabilize the plasma flame, it is also effective to add and mix a combustible material that is combusted by itself when the material for producing ultrafine particles is introduced into the thermal plasma flame. In this case, the mass ratio between the powder material and the combustible material may be 95: 5 as an example, but is not limited thereto.

また、チャンバ16内への冷却用ガス並びに反応性ガスの供給方法についても、図4中の気体射出口28a,28bを冷却用ガス専用の射出口とし、反応性ガス専用の射出口を例えば射出口28aの外側近傍に新たに設ける方法、または、天板17内で気体射出口28aの途中に反応性ガスを送り込む方法等も採用し得るなど、種々の変更・組み合わせが可能である。この場合には、各ガスをチャンバ16に供給するまで混合せずに導くことになるので、配管途中での混合操作が不要になるという利点がある。   As for the method for supplying the cooling gas and the reactive gas into the chamber 16, the gas injection ports 28 a and 28 b in FIG. 4 are used as the cooling gas dedicated injection ports, and the reactive gas dedicated injection port is used as the injection gas, for example. Various modifications and combinations are possible, such as a method of newly providing near the outside of the outlet 28a or a method of sending reactive gas into the gas injection port 28a in the top plate 17 or the like. In this case, since each gas is guided without being mixed until it is supplied to the chamber 16, there is an advantage that a mixing operation in the middle of the piping becomes unnecessary.

また、本発明に係る薄膜を被覆した超微粒子の製造方法の変形例としては、比較例として示したような、反応性ガスをキャリアガスと混合して用いる方法も考えられるが、この場合には、粉末材料の粗大粒子が残存する可能性があるものの、後処理工程として分級操作等を加えることを容認すれば、実用に供することも不可能ではない。   In addition, as a modification of the method for producing ultrafine particles coated with a thin film according to the present invention, a method of using a reactive gas mixed with a carrier gas as shown as a comparative example is also conceivable. Although coarse particles of the powder material may remain, it is not impossible to put to practical use if it is acceptable to add a classification operation as a post-treatment step.

本発明の一実施形態に係る超微粒子の製造方法を実施するための超微粒子製造装置の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the ultrafine particle manufacturing apparatus for enforcing the manufacturing method of the ultrafine particle which concerns on one Embodiment of this invention. 図1中のプラズマトーチ付近の断面図である。It is sectional drawing of plasma torch vicinity in FIG. 粉末材料供給装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of a powder material supply apparatus. 図1中のチャンバの天板およびこの天板に備えられた気体射出口付近を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the top plate of the chamber in FIG. 1, and the gas injection opening vicinity provided in this top plate. 射出される気体の角度を示す説明図であり、(a)はチャンバの天板の中心軸を通る垂直方向の断面図、(b)は天板を下方から見た下面図である。It is explanatory drawing which shows the angle of the gas inject | emitted, (a) is sectional drawing of the perpendicular direction which passes along the central axis of the top plate of a chamber, (b) is the bottom view which looked at the top plate from the downward direction. 実施例1に係る粒子の電子顕微鏡写真である(倍率5万倍)。It is an electron micrograph of the particle | grains concerning Example 1 (magnification 50,000 times). 実施例1に係る粒子の電子顕微鏡写真である(倍率200万倍)。2 is an electron micrograph of particles according to Example 1 (magnification 2 million times). 実施例1に係る粒子表面被覆膜の赤外吸収スペクトルである。2 is an infrared absorption spectrum of a particle surface coating film according to Example 1. 実施例2に係る粒子の電子顕微鏡写真である(倍率5万倍)。4 is an electron micrograph of particles according to Example 2 (magnification of 50,000 times). 実施例3に係る粒子表面被覆膜の電子エネルギー損失分光法による測定結果である。It is a measurement result by the electron energy loss spectroscopy of the particle | grain surface coating film which concerns on Example 3. FIG. 比較例に係る粒子の電子顕微鏡写真である(倍率5千倍)。It is an electron micrograph of the particle concerning a comparative example (magnification 5000 times).

符号の説明Explanation of symbols

10 (超微粒子)製造装置
12 プラズマトーチ
12a 石英管
12b 高周波発振用コイル
12c プラズマガス導入口
14 材料供給装置
14a 導入管
15 キャリアガス供給源
16 チャンバ
16p 圧力計
17 天板
17a 内側部天板部品
17b 下部天板部品
17c 上部外側部天板部品
17d,17e 通気路
18 超微粒子
20 回収部
20a 回収室
20b フィルター
20c 管
22 プラズマガス供給源
24 熱プラズマ炎
26 管
28 気体導入装置
28a,28b 気体射出口
28c,28e 管
28d 第1の気体供給源
28f 第2の気体供給源
28g,28h,28i 圧力制御弁
142 貯蔵槽
144 粉末材料
146 攪拌軸
148 攪拌羽根
150a,150b オイルシール
152a,152b 軸受け
154a,154b モータ
160 スクリューフィーダ
162 スクリュー
164 軸
166 ケーシング
170 分散部
172 外管
174 粉体分散室
176 回転ブラシ
178 キャリアガス供給口
180 キャリアガス通路
182 搬送管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 (Ultrafine particle) manufacturing apparatus 12 Plasma torch 12a Quartz tube 12b High frequency oscillation coil 12c Plasma gas inlet 14 Material supply apparatus 14a Introductory pipe 15 Carrier gas supply source 16 Chamber 16p Pressure gauge 17 Top plate 17a Inner part top plate component 17b Lower top plate component 17c Upper outer side top plate component 17d, 17e Ventilation path 18 Ultrafine particle 20 Collection unit 20a Collection chamber 20b Filter 20c Tube 22 Plasma gas supply source 24 Thermal plasma flame 26 Tube 28 Gas introduction device 28a, 28b Gas injection port 28c, 28e tube 28d first gas supply source 28f second gas supply source 28g, 28h, 28i pressure control valve 142 storage tank 144 powder material 146 stirring shaft 148 stirring blade 150a, 150b oil seal 152a, 152b bearing 154a, 15 4b Motor 160 Screw feeder 162 Screw 164 Shaft 166 Casing 170 Dispersion part 172 Outer tube 174 Powder dispersion chamber 176 Rotating brush 178 Carrier gas supply port 180 Carrier gas passage 182 Conveying tube

Claims (1)

減圧下で、超微粒子製造用材料を、不活性ガスをキャリアガスとして用いて熱プラズマ炎中に導入して分散させ、気相状態の混合物にし、
この気相状態の混合物を急冷するのに十分な供給量で、炭化水素ガスとこの炭化水素ガスを除く冷却用気体との混合ガスを、前記熱プラズマ炎と平行な垂直方向の角度が、90°超240°未満で、かつ、前記熱プラズマ炎の垂直方向に対して直交する面内で、前記熱プラズマ炎の中心部に対する角度が、−90°超90°未満を満たすように、前記熱プラズマ炎の終端部(尾部)に向けて導入して、超微粒子を生成させ、
この生成した超微粒子と前記炭化水素ガスとを接触させて、表面に炭化水素化合物からなる薄膜を被覆した超微粒子を製造することを特徴とする超微粒子の製造方法。
Under reduced pressure, the material for producing ultrafine particles is introduced and dispersed in a thermal plasma flame using an inert gas as a carrier gas to form a gas phase mixture,
With a supply amount sufficient to quench the gas-phase mixture, a mixed gas of hydrocarbon gas and a cooling gas excluding the hydrocarbon gas is mixed at a vertical angle of 90 ° parallel to the thermal plasma flame. The thermal plasma flame is more than −90 ° and less than 90 ° in a plane perpendicular to the vertical direction of the thermal plasma flame and more than −90 ° and less than 90 ° in a plane perpendicular to the vertical direction of the thermal plasma flame. Introduced towards the end of the plasma flame (tail) to generate ultrafine particles,
A method for producing ultrafine particles, wherein the produced ultrafine particles are brought into contact with the hydrocarbon gas to produce ultrafine particles having a surface coated with a thin film made of a hydrocarbon compound .
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