JP4948324B2 - 高分子柔軟電極が付されたエレクトロデバイス - Google Patents
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WO 02/40611で開示された方法と同様の方法で、ポリα−メチルスチレン−b−ポリブタジエン−b−ポリα−メチルスチレン型トリブロック共重合体を合成した。得られたトリブロック共重合体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により数平均分子量(Mn)と分子量分布(Mw/Mn)とを測定したところ、ポリα−メチルスチレン部のMn=6600、Mw/Mn=1.08、全体のMn=80590、Mw/Mn=1.07であり、ポリブタジエンブロックにおける1,4−結合量は58.9%、α−メチルスチレン単位の含有量は28.7質量%であった。なお、GPC測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフHLC−8020(東ソー社製)、カラムとしてTSKgelであるGMHXL、G4000HXL及びG5000HXL(いずれも東ソー社製)を直列に連結したものを用い、溶離液としてテトラヒドロフランを流量1.0ml/分で流した。検出方法は示唆屈折率(RI)とし、標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。また、ポリブタジエンブロック中において、α−メチルスチレンが実質的に共重合されていないことを、核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)(日本電子社製核磁気共鳴装置JNM−ECX400;溶媒は重クロロホルム)による組成分析により確認した。
撹拌装置付き耐圧容器中に、トルエン40kgと、N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン94mLと、イソブチルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノキシ)アルミニウム1.1molを含有するトルエン溶液1.8Lとを加え、さらにsec−ブチルリチウム1.3mol/Lのシクロヘキサン溶液を80mL加えた。ここにメチルメタクリレート737gを添加し、40℃で2時間重合した。ついでこの重合系を−30℃まで冷却し、そこにn−ブチルアクリレート4940gをゆっくりと滴下して重合を行った。その後、メチルメタクリレート50gを添加して40℃に昇温し、さらにメチルメタクリレート687gを添加して40℃で2時間重合した。少量のメタノールを添加して重合を停止した。得られたポリ(メチルメタクリレート−b−ポリn−ブチルアクリレート−b−ポリメチルメタクリレート)を200℃でプレス成形し、膜厚60μmの誘電性柔軟基材膜を得た。
合成例1で得られたブロック共重合体(X1)の100質量部と、気相成長炭素繊維VGCF(昭和電工株式会社製;VGCFは登録商標)の30質量部とを、シクロヘキサン2000質量部に溶解、分散させて、分散液を作製した。得られた分散液をテトラフルオロエチレン製シャーレ上にキャストして、膜厚40〜50μmの高分子柔軟電極を得た。
実施例1において、VGCFを50質量部にしたこと以外は実施例1と同様にして、膜厚45〜55μmの高分子柔軟電極を得た。
ポリスチレン−b−水添ポリイソプレン−b−ポリスチレンであるセプトン2002(株式会社クラレ製の商品名、ポリスチレン含量30質量%)の100質量部と、VGCFの30質量部とをシクロヘキサン2000質量部に溶解、分散させて、分散液を作製した。得られた分散液をテトラフルオロエチレン製シャーレ上にキャストして、膜厚40〜45μmの高分子柔軟電極を得た。
実施例1において、VGCFに代えてカーボンブラックであるデンカブラック(電気化学社製の商品名)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、膜厚40〜50μmの高分子柔軟電極を得た。
各電極の薄膜を、縦50mm×幅4mmに切り出した。これを引張試験機オートグラフAG−2000B(島津製作所社製)にセットして、引張強度と引張伸度とを求めた。
各電極の薄膜を、縦30mm×横10mmに切り出した。その両端をそれぞれ、10mm離した延伸機の二つのクランプに固定した。室温、湿度55%の環境下で両クランプを引き離すことにより薄膜を徐々に延伸し、未延伸時、50%延伸時、100%延伸時における表面抵抗値を抵抗率計ロレスタEP(ダイアインスツルメンツ社製)により測定した。
合成例2で得られた誘電性柔軟基材膜の中央に、実施例1で作製した分散液を縦0.5cm×横0.75cmの大きさに塗布し、乾燥して高分子柔軟電極を形成した。高分子柔軟電極の膜厚が20μmに達するまで分散液の塗布、乾燥を繰り返し、高分子柔軟電極と、ポリメチルメタクリレート−b−ポリn−ブチルアクリレート−b−ポリメチルメタクリレート型ブロック共重合体との積層体を作製した。なお、同様の積層体を2枚作製した。
実施例3において、実施例1で作製した分散液に代えて比較例1及び比較例2で作製した分散液をそれぞれ用いたこと以外は実施例3と同様にして、比較高分子アクチュエータを得た。得られた各比較高分子アクチュエータの厚みは、いずれも90〜110μmであった。
図1に示した評価セルを用いて試験を行った。誘電性柔軟基材膜3の両面に夫々高分子柔軟電極2・2を備えた高分子アクチュエータ1を、その高分子柔軟電極2の横の長さが2倍となるよう延伸した。中央に穴が開いた穴開きプラスチック板4に延伸した高分子アクチュエータ1をセットし、テフロン(登録商標)のシール6でその両端を固定した。高分子アクチュエータ両面の高分子柔軟電極2・2の夫々にアルミ箔5・5を接触させ、電源回路を内蔵する絶縁抵抗計7(ムサシインテック社製DI−10)に接続した。絶縁抵抗計7の電源回路から1500Vの直流電圧を印加して、高分子アクチュエータ1の動作の様子を目視で観察した。動作が明らかに確認できた場合は○、動作が確認できなかった場合は×とした。
各測定結果を表2にまとめて示す。
Claims (7)
- 前記重合体ブロック(A)が、α−メチルスチレンの重合体ブロックであることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロデバイス。
- 前記重合体ブロック(B)が、置換基を有していてもよい炭素数4〜8の共役アルカジエンの重合体ブロック、又はそれの炭素−炭素二重結合の一部もしくは全部が水素添加された炭素数4〜8の共役アルカジエンの重合体ブロックであることを特徴とする請求項1または2に記載のエレクトロデバイス。
- 前記ブロック共重合体(X)の100質量部と、前記カーボンナノファイバーの10〜200質量部とを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のエレクトロデバイス。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の高分子柔軟電極が、誘電性柔軟基材の表面の一部に付されていることを特徴とするエレクトロデバイス。
- 前記誘電性柔軟基材が、(メタ)アクリレートを主成分とするブロック共重合体からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のエレクトロデバイス。
- 前記エレクトロデバイスが、高分子アクチュエータ、コンデンサ、センサーであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のエレクトロデバイス。
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