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JP4944642B2 - デバイスの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、各デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法に関する。
例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイスを形成し、該デバイスが形成された各領域を分割予定ラインに沿って分割することにより個々のデバイスを製造している。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置と呼ばれる切削装置が用いられており、この切削装置は厚さが40μm程度の切削ブレードによって半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切削する。このようにして分割されたデバイスは、パッケージングされて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。
個々に分割されたデバイスは、その裏面にエポキシ樹脂等で形成された厚さ70〜80μmのダイアタッチフィルムと称するダイボンディング用の接着フィルムが装着され、この接着フィルムを介してデバイスを支持するダイボンディングフレームに加熱することによりボンディングされる。デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着する方法としては、半導体ウエーハの裏面に接着フィルムを貼着し、この接着フィルムを介して半導体ウエーハをダイシングテープに貼着した後、半導体ウエーハの表面に形成された分割予定ラインに沿って切削ブレードにより半導体ウエーハとともに接着フィルムを切断することにより、裏面に接着フィルムが装着されたデバイスを形成している。(例えば、特許文献1参照。)
特開2000−182995号公報
近年、携帯電話やパソコン等の電気機器はより軽量化、小型化が求められており、より薄いデバイスが要求されている。より薄くデバイスを分割する技術として所謂先ダイシング法と称する分割技術が実用化されている。この先ダイシング法は、半導体ウエーハの表面から分割予定ラインに沿って所定の深さ(デバイスの仕上がり厚さに相当する深さ)の分割溝を形成し、その後、表面に分割溝が形成された半導体ウエーハの裏面を研削して該裏面に分割溝を表出させ個々のデバイスに分割する技術であり、デバイスの厚さ100μm以下に加工することが可能である。
しかるに、先ダイシング法によって半導体ウエーハを個々のデバイスに分割する場合には、半導体ウエーハの表面から分割予定ラインに沿って所定の深さの分割溝を形成した後に半導体ウエーハの裏面を研削して該裏面に分割溝を表出させるので、ダイボンディング用の接着フィルムを前もって半導体ウエーハの裏面に装着することができない。従って、先ダイシング法によって製作されたデバイスをダイボンディングフレームにボンディングする際には、デバイスとダイボンディングフレームとの間にボンド剤を挿入しながら行わなければならず、ボンディング作業を円滑に実施することができないという問題がある。
このような問題を解消するために、先ダイシング法によって個々のデバイスに分割された半導体ウエーハの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着し、この接着フィルムを介して半導体ウエーハをダイシングテープに貼着した後、各デバイス間の間隙に露出された接着フィルムの部分を化学的にエッチングして除去するようにした半導体デバイスの製造方法、および上記各デバイス間の間隙に露出された接着フィルムの部分に、デバイスの表面側から上記間隙を通してレーザー光線を照射し、接着フィルムの上記間隙に露出された部分を除去するようにした半導体デバイスの製造方法が提案されている。(例えば、特許文献2参照。)
特開2002−118081号公報
而して、レーザー光線を照射して接着フィルムを切断するには、接着フィルムに対して吸収性を有する波長(例えば355nm)で平均出力が2W程度のレーザー光線を照射する必要がある。平均出力が2W程度のレーザー光線は比較的出力が強く、接着フィルムに照射するとデブリが飛散し、この飛散したデブリがデバイスの表面に付着してデバイスの品質を低下させるという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、先ダイシング法によって分割された個々のデバイスの裏面に容易にダイボンディング用の接着フィルムをデバイスの品質を低下させることなく装着することができるデバイスの製造方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、各デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法であって、
ウエーハの表面側から分割予定ラインに沿って所定の深さの分割溝を形成した後にウエーハの裏面を研削して裏面に該分割溝を表出させ、ウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハ分割工程と、
個々のデバイスに分割されたウエーハの裏面に紫外線を照射することにより硬化する接着フィルムを装着する接着フィルム装着工程と、
該接着フィルムが装着されたウエーハの該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
該ダイシングテープに貼着されたウエーハの表面側から紫外線を照射し、ウエーハに形成された該分割溝を通して該接着フィルムに紫外線を照射することにより、該接着フィルムにおける該分割溝に対応する領域を硬化せしめる接着フィルム硬化工程と、
ウエーハの表面側から該分割溝に沿って該接着フィルムに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、該分割溝に沿って硬化せしめられた該接着フィルムをデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程と、
デバイス毎に分割された該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法が提供される。
上記ピックアップ工程は、接着フィルムが装着されているデバイスをダイシングテープから剥離する前に、ダイシングテープを拡張してデバイス間の隙間を広げるテープ拡張工程を実施することが望ましい。
本発明によれば、ウエーハの表面側から分割溝に沿って接着フィルムに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、接着フィルムをデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程を実施する際には、接着フィルムは上記接着フィルム硬化工程を実施することにより分割溝に対応する領域が硬化せしめられているので、レーザー光線の吸収が良好となる。従って、出力の弱い1W程度のレーザー光線によって接着フィルムを切断できるので、デブリの発生を抑制することができる。また、レーザー光線は接着フィルムが硬化した領域に照射するので、接着フィルムは照射されたレーザー光線に沿って確実に切断され、デバイスに沿ってきれいに分割される。
以下、本発明によるデバイスの製造方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、ウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ2は、例えば厚さが600μmのシリコンウエーハからなっており、表面2aには複数の分割予定ライン21が格子状に形成されている。そして、半導体ウエーハ2の表面2aには、格子状に形成された複数の分割予定ライン21によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイス22が形成されている。
図1に示す半導体ウエーハ2は、所謂先ダイシング法によるウエーハ分割工程を実施することによって個々のデバイス22に分割される。先ダイシング法によるウエーハ分割工程は、先ず半導体ウエーハの表面2aに形成された分割予定ライン21に沿って所定深さ(各デバイスの仕上がり厚さに相当する深さ)の分割溝を形成する(分割溝形成工程)。この分割溝形成工程は、図2の(a)に示す切削装置5を用いて実施する。図2の(a)に示す切削装置2は、吸引保持手段を備えたチャックテーブル31と、切削ブレード321を備えた切削手段32と、撮像手段33を具備している。分割溝形成工程を実施するには、チャックテーブル31上に半導体ウエーハ2の表面2aを上にして載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、半導体ウエーハ2をチャックテーブル31上に保持する。このようにして、半導体ウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル31は、図示しない切削送り機構によって撮像手段33の直下に位置付けられる。
チャックテーブル31が撮像手段33の直下に位置付けられると、撮像手段33および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ2の分割溝を形成すべき切削領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段33および図示しない制御手段は、半導体ウエーハ2の所定方向に形成されている分割予定ライン21と、切削ブレード321との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、切削領域のアライメントを遂行する(アライメント工程)。また、半導体ウエーハ2に形成されている上記所定方向に対して直角に延びる分割予定ライン21に対しても、同様に切削領域のアライメントが遂行される。
以上のようにしてチャックテーブル31上に保持されている半導体ウエーハ2の切削領域のアライメントが行われたならば、半導体ウエーハ2を保持したチャックテーブル31を切削領域の切削開始位置に移動する。そして、切削ブレード321を図2の(a)において矢印321aで示す方向に回転しつつ下方に移動して所定量の切り込み送りを実施する。この切り込み送り位置は、切削ブレード321の外周縁が半導体ウエーハ2の表面からデバイスの仕上がり厚さに相当する深さ位置(例えば、110μm)に設定されている。このようにして、切削ブレード321の切り込み送りを実施したならば、切削ブレード321を回転しつつチャックテーブル31を図2の(a)において矢印Xで示す方向に切削送りすることによって、図2の(b)に示すように分割予定ライン21に沿ってデバイスの仕上がり厚さに相当する深さ(例えば、110μm)の分割溝210が形成される(分割溝形成工程)。この分割溝形成工程を半導体ウエーハ2に形成された全ての分割予定ライン21に沿って実施する。
上述した分割溝形成工程により半導体ウエーハ2の表面2aに分割予定ライン21に沿って所定深さの分割溝210を形成したら、図3の(a)および(b)に示すように半導体ウエーハ2の表面2a(デバイス22が形成されている面)に研削用の保護部材4を貼着する(保護部材貼着工程)。なお、保護部材4は、図示の実施形態においては厚さが150μmのポリオレフィンシートが用いられている。
次に、表面に保護部材4を貼着した半導体ウエーハ2の裏面2bを研削し、分割溝210を裏面2bに表出させて個々のデバイスに分割する(分割溝表出工程)。この分割溝表出工程は、図4の(a)に示すようにチャックテーブル51と研削砥石52を備えた研削手段53を具備する研削装置5によって行われる。即ち、チャックテーブル51上に半導体ウエーハ2の裏面2bを上にして保持し、例えば、チャックテーブル51を矢印51aで示す方向に300rpmで回転しつつ、研削手段53の研削砥石52を矢印52aで示す方向に6000rpmで回転せしめて半導体ウエーハ2の裏面2bに接触することにより研削し、図4の(b)に示すように分割溝210が裏面2bに表出するまで研削する。このように分割溝210が表出するまで研削することによって、図4の(c)に示すように半導体ウエーハ2は個々のデバイス22に分割される。なお、分割された複数のデバイス22は、その表面に保護部材4が貼着されているので、バラバラにはならず半導体ウエーハ2の形態が維持されている。
上述した先ダイシング法によるウエーハ分割工程を実施することによって半導体ウエーハ2を個々のデバイス22に分割したならば、個々のデバイス22に分割された半導体ウエーハ2の裏面2bに紫外線を照射することにより硬化するダイボンディング用の接着フィルムを装着する接着フィルム装着工程を実施する。即ち、図5の(a)および(b)に示すように接着フィルム6を個々のデバイス22に分割された半導体ウエーハ2の裏面2bに装着する。このとき、上述したように80〜200°Cの温度で加熱しつつ接着フィルム6を半導体ウエーハ2の裏面2bに押圧して貼着する。なお、紫外線を照射することにより硬化する接着フィルムとしては、例えば特開平2−32181号公報に開示されている接着フィルムを用いることができる。
上述したように接着フィルム装着工程を実施したならば、図6に示すように接着フィルム6が装着された半導体ウエーハ2の接着フィルム6側を、環状のフレームFに装着されたダイシングテープTの表面に貼着するウエーハ支持工程を実施する。そして、半導体ウエーハ2の表面2aに貼着されている保護部材4を剥離する(保護部材剥離工程)。なお、ダイシングテープの表面に予め接着フィルムが貼着された接着フィルム付きのダイシングテープを使用する場合には、上述したウエーハ分割工程を実施することによって個々のデバイス22に分割された半導体ウエーハ2の裏面2bに、ダイシングテープの表面に貼着された接着フィルムを装着する。そして、上記保護部材剥離工程を実施する。
次に、環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに貼着された半導体ウエーハ2の表面2a側から紫外線を照射し、半導体ウエーハ2に形成された分割溝210を通して接着フィルム6に紫外線を照射することにより、接着フィルム6における分割溝210に対応する領域を硬化せしめる接着フィルム硬化工程を実施する。即ち、図7の(a)に示すように紫外線照射器7によって環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに貼着されている半導体ウエーハ2の表面2a側から紫外線を照射する。なお、紫外線照射器7は、メタルハライドランプを備えており、波長が365nm、輝度が40mW/cm2、照度200mJ/cm2の紫外線を5秒間照射する。この結果、半導体ウエーハ2に形成された分割溝210を通して接着フィルム6に紫外線が照射され、図7の(b)に示すように接着フィルム6における分割溝210に対応する領域6aが硬化せしめられる。
なお、接着フィルム硬化工程は、紫外線領域の波長を有するレーザー光線を分割溝210を通して接着フィルム6に照射し、接着フィルム6における分割溝210に対応する領域6a硬化するようにしてもよい。
上述した接着フィルム硬化工程を実施したならば、半導体ウエーハ2の表面2b側から分割溝210に沿って接着フィルム6に対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、分割溝210に沿って硬化せしめられた接着フィルム6をデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程を実施する。この接着フィルム分割工程は、図8に示すレーザー加工装置8を用いて実施する。図8に示すレーザー加工装置8は、被加工物を保持するチャックテーブル81と、該チャックテーブル81上に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段82と、チャックテーブル81上に保持された被加工物を撮像する撮像手段83を具備している。チャックテーブル81は、被加工物を吸引保持するように構成されており、図示しない移動機構によって図8において矢印Xで示す加工送り方向および矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられるようになっている。
上記レーザー光線照射手段62は、実質上水平に配置された円筒形状のケーシング821を含んでいる。ケーシング821内には図示しないYAGレーザー発振器或いはYVO4レーザー発振器からなるパルスレーザー光線発振器や繰り返し周波数設定手段を備えたパルスレーザー光線発振手段が配設されている。上記ケーシング821の先端部には、パルスレーザー光線発振手段から発振されたパルスレーザー光線を集光するための集光器822が装着されている。レーザー光線照射手段82を構成するケーシング821の先端部に装着された撮像手段83は、図示の実施形態においては可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)等で構成されており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
上述したレーザー加工装置8を用いて上記接着フィルム分割工程を実施するには、先ず上述した図8に示すレーザー加工装置8のチャックテーブル81上に半導体ウエーハ2の接着フィルム6側が貼着されたダイシングテープTを載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、ダイシングテープTを介して半導体ウエーハ2をチャックテーブル81上に保持する。なお、図8においてはダイシングテープTが装着された環状のフレームFを省いて示しているが、環状のフレームFはチャックテーブル81に配設された適宜のフレーム保持手段に保持される。半導体ウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル81は、図示しない移動機構によって撮像手段83の直下に位置付けられる。
チャックテーブル81が撮像手段83の直下に位置付けられると、撮像手段83および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ2のレーザー加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段83および図示しない制御手段は、ウエーハ2の所定方向に形成されている分割予定ライン21に沿って形成された分割溝210と、分割溝210に沿ってレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段82の集光器822との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザー光線照射位置のアライメントを遂行する(アライメント工程)。また、半導体ウエーハ2に形成されている上記所定方向に対して直角に延びる分割予定ライン21に沿って形成された分割溝210に対しても、同様に切削領域のアライメントが遂行される。
以上のようにしてチャックテーブル81上に保持された半導体ウエーハ2に形成されている分割予定ライン21に沿って形成された分割溝210を検出し、レーザー光線照射位置のアライメントが行われたならば、図9の(a)に示すようにチャックテーブル81をレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段の集光器822が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定の分割溝210の一端(図9の(a)において左端)を集光器822の直下に位置付ける。そして、集光器822からパルスレーザー光線を半導体ウエーハ2に形成された分割溝210を通して接着フィルム6に照射しつつチャックテーブル81を図9の(a)において矢印X1で示す方向に所定の送り速度で移動せしめ、分割溝230の他端(図9の(a)において右端)が集光器822の照射位置に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル81の移動を停止する。このとき、レーザー光線照射手段82の集光器822から照射されるパルスレーザー光線は、図示の実施形態においては集光点P(集光スポット径が形成される点)を接着フィルム6の上面に合わせて照射される。なお、このレーザー光線の波長は、接着フィルム6を構成するエポキシ系樹脂とアクリル系樹脂を混合したフィルム材には吸収される355nmに設定されている。この結果、図9の(b)に示すように接着フィルム6は、レーザー光線のエネルギーにより分割溝210に沿ってレーザー加工溝60が形成され、個々のデバイス22毎に分割される。
なお、上記接着フィルム分割工程における加工条件は、例えば次のように設定されている。
レーザー光線の種類 :LD励起QスイッチYAGレーザー
波長 :355nm
繰り返し周波数 :100kHz
平均出力 :1W
集光スポット径 :φ15μm
加工送り速度 :100mm/秒
以上のようにして、半導体ウエーハ2に形成された全ての分割予定ライン21に沿って形成された分割溝210に上記接着フィルム分割工程を実施することにより、接着フィルム6は個々のデバイス22毎に分割される。この接着フィルム分割工程を実施する際には、接着フィルム6は上記接着フィルム硬化工程を実施することにより分割溝210に対応する領域6aが上述したように紫外線が照射されて硬化せしめられているので、レーザー光線が分割溝210に対応する領域6aを硬化するために使用されずアブレーションのために使用されるので吸収が良好となる。従って、出力の弱い1W程度のレーザー光線によって接着フィルム6を切断できるので、デブリの発生を抑制することができる。また、レーザー光線は接着フィルム6が硬化した領域6aに照射するので、接着フィルム6は照射されたレーザー光線に沿って確実に切断され、デバイス22に沿ってきれいに分割される。
上述した接着フィルム分割工程を実施したならば、デバイス22毎に分割された接着フィルム6が装着されているデバイス22をダイシングテープTから剥離してピックアップするピックアップ工程を実施する。このピックアップ工程は、図10に示すピックアップ装置を用いて実施される。図10に示すピックアップ装置9は、基台91と、該基台91上に矢印Yで示す方向に移動可能に配設された第1のテーブル92と、該第1のテーブル92上に矢印Yと直交する矢印Xで示す方向に移動可能に配設された第2のテーブル93を具備している。基台91は矩形状に形成され、その両側部上面には矢印Yで示す方向に2本の案内レール911、912が互いに平行に配設されている。なお、2本の案内レールのうち一方の案内レール911には、その上面に断面がV字状の案内溝911aが形成されている。
上記第1のテーブル92は、中央部に矩形状の開口921を備えた窓枠状に形成されている。この第1のテーブル92の一方の側部下面には、上記基台91に設けられた一方の案内レール911に形成されている案内溝911aに摺動可能に嵌合する被案内レール922が設けられている。また第1のテーブル92の両側部上面には上記被案内レール922と直交する方向に2本の案内レール923、924が互いに平行に配設されている。なお、2本の案内レールのうち一方案内レール923には、その上面に断面がV字状の案内溝923aが形成されている。このように構成された第1のテーブル92は、被案内レール922を基台91に設けられた一方の案内レール911に形成された案内溝911aに嵌合するとともに、他方の側部下面を基台91に設けられた他方の案内レール912上に載置される。図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、第1のテーブル92を基台91に設けられた案内レール911、912に沿って矢印Yで示す方向に移動する第1の移動手段94を具備している。
上記第2のテーブル93は矩形状に形成され、一方の側部下面には上記第1のテーブル92に設けられた一方の案内レール923に形成されている案内溝923aに摺動可能に嵌合する被案内レール932が設けられている。このように構成された第2のテーブル93は、被案内レール932を第1のテーブル92に設けられた一方の案内レール923に形成されている案内溝923aに嵌合するとともに、他方の側部下面を第1のテーブル92に設けられた他方の案内レール924上に載置される。図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、第2のテーブル93を第1のテーブル92に設けられた案内レール923、924に沿って矢印Xで示す方向に移動する第2の移動手段95を具備している。
図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、上記環状のフレームFを保持するフレーム保持手段96と、該フレーム保持手段96に保持された環状のフレームFに装着されたダイシングテープTを拡張するテープ拡張手段97を具備している。フレーム保持手段96は、環状のフレーム保持部材961と、該フレーム保持部材961の外周に配設された固定手段としての複数のクランプ962とからなっている。フレーム保持部材961の上面は環状のフレームFを載置する載置面961aを形成しており、この載置面961a上に環状のフレームFが載置される。そして、載置面961a上に載置された環状のフレームFは、クランプ962によってフレーム保持部材961に固定される。このように構成されたフレーム保持手段96は、第2のテーブル93の上方に配設され、後述するテープ拡張手段97によって上下方向に進退可能に支持されている。
テープ拡張手段97は、上記環状のフレーム保持部材961の内側に配設される拡張ドラム970を具備している。この拡張ドラム970は、環状のフレームFの内径より小さく該環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに貼着される半導体ウエーハ2の外径より大きい内径および外径を有している。また、拡張ドラム970は、下端部に上記第2のテーブル93に設けられた穴(図示せず)の内周面に回動可能に嵌合する装着部を備えているとともに、該装着部の上側外周面には径方向に突出して形成された支持フランジ971を備えている。図示の実施形態におけるテープ拡張手段97は、上記環状のフレーム保持部材961を上下方向に進退可能な支持手段972を具備している。この支持手段972は、上記支持フランジ971上に配設された複数のエアシリンダ973からなっており、そのピストンロッド974が上記環状のフレーム保持部材961の下面に連結される。このように複数のエアシリンダ973からなる支持手段972は、図10および図11の(a)に示すように環状のフレーム保持部材961を載置面961aが拡張ドラム970の上端と略同一高さとなる基準位置と、図11の(b)に示すように環状のフレーム保持部材961を載置面961aが拡張ドラム970の上端から図において所定量下方の拡張位置に選択的に移動せしめる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、図10に示すように上記拡張ドラム970およびフレーム保持部材961を回動せしめる回動手段98を具備している。この回動手段98は、上記第2のテーブル93に配設されたパルスモータ981と、該パルスモータ981の回転軸に装着されたプーリ982と、該プーリ982と拡張ドラム970の支持フランジ971とに捲回された無端ベルト983とからなっている。このように構成された回動手段98は、パルスモータ981を駆動することにより、プーリ982および無端ベルト983を介して拡張ドラム970を回動せしめる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、上記環状のフレーム保持部材961に保持された環状のフレームFにダイシングテープTを介して支持されている半導体ウエーハ2の個々に分割されたデバイス22を検出するための検出手段10を具備している。検出手段10は、基台91に配設されたL字状の支持柱101に取り付けられている。この検出手段10は、光学系および撮像素子(CCD)等で構成されており、上記環状のフレーム保持部材961に保持された環状のフレームFにダイシングテープTを介して支持されている半導体ウエーハ2の個々に分割されたデバイス22を撮像し、これを電気信号に変換して図示しない制御手段に送る。
また、図示の実施形態におけるピックアップ装置9は、個々に分割されたデバイス22をダイシングテープTからピックアップするピックアップ手段11を具備している。このピックアップ手段11は、基台91に配設された旋回アーム111と、該先端に装着されたピックアップコレット112とからなっており、旋回アーム111が図示しない駆動手段によって旋回せしめられる。なお、旋回アーム111は上下動可能に構成されており、先端に装着されたピックアップコレット112は、ダイシングテープTに貼着されている個々に分割されたデバイス22をピックアップすることができる。
図示の実施形態におけるピックアップ装置9は以上のように構成されており、このピックアップ装置9を用いて実施するピックアップ工程について、主に図11および図12を参照して説明する。
上述した接着フィルム分割工程が実施され裏面に接着フィルム6が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレームFを図11の(a)に示すようにフレーム保持手段96を構成するフレーム保持部材961の載置面961a上に載置し、クランプ962によってフレーム保持部材961に固定する(フレーム保持工程)。このとき、フレーム保持部材961は図11の(a)に示す基準位置に位置付けられている。
図11の(a)に示すように基準位置に位置付けられているフレーム保持部材961に、裏面に接着フィルム6が装着された個々のデバイス22をダイシングテープTを介して支持した環状のフレームFを固定したならば、テープ拡張手段97を構成する支持手段972としての複数のエアシリンダ973を作動して、環状のフレーム保持部材961を図11の(b)に示す拡張位置まで下降せしめる。従って、フレーム保持部材961の載置面961a上に固定されている環状のフレームFも下降するため、図11の(b)に示すように環状のフレームFに装着されたダイシングテープTは拡張ドラム970の上端縁に当接して拡張せしめられる(テープ拡張工程)。この結果、ダイシングテープTに貼着されている接着フィルム6には放射状に引張力が作用するので、接着フィルム6は上記接着フィルム分割工程において個々のデバイス22に沿って完全切断されていない場合には、このテープ拡張工程を実施することによって個々のデバイス22に沿って完全切断される。そして、接着フィルム6が装着された個々のデバイス22間の隙間Sが広げられる。
上述したようにテープ拡張工程を実施したならば、第1の移動手段94および第2の移動手段95を作動して第1のテーブル92を矢印Yで示す方向(図10参照)に移動するとともに、第2のテーブル93を矢印Xで示す方向(図10参照)に移動し、フレーム保持部材961に保持された環状のフレームFに装着されたダイシングテープTに接着フィルム6を介して貼着されている個々のデバイス22を検出手段10の直下に位置付ける。そして、検出手段10を作動し個々のデバイス22間の隙間が矢印Yで示す方向または矢印Xで示す方向と一致するかを確認する。もし、個々のデバイス22間の隙間が矢印Yで示す方向または矢印Xで示す方向とズレているならば、回動手段98を作動しフレーム保持手段96を回動して一致させる。次に、第1のテーブル92を矢印Yで示す方向(図10参照)に移動するとともに、第2のテーブル93を矢印Xで示す方向(図10参照)に移動しつつ、図12に示すようにピックアップ手段11を作動しピックアップコレット112によって所定位置に位置付けられたデバイス22(裏面に接着フィルム6が装着されている)を吸着し、ダイシングテープTから剥離してピックアップ(ピックアップ工程)し、図示しないトレーまたはダイボンディング工程に搬送する。このピックアップ工程においては、上述したように接着フィルム6が装着された個々のデバイス22間の隙間Sが広げられているので、隣接するデバイス22と接触することなく容易にピックアップすることができる。
ウエーハとしての半導体ウエーハを示す斜視図。 本発明によるデバイスの製造方法のウエーハ分割工程における分割溝形成工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法のウエーハ分割工程における保護部材貼着工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法のウエーハ分割工程における分割溝表出工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法における接着フィルム装着工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法におけるウエーハ支持工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法における接着フィルム硬化工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法における接着フィルム分割工程を実施するためのレーザー加工装置の要部斜視図。 本発明によるデバイスの製造方法における接着フィルム分割工程の説明図。 本発明によるデバイスの製造方法におけるピックアップ工程を実施するためのピックアップ装置の斜視図。 本発明によるデバイスの製造方法のピックアップ工程におけるテープ拡張工程を示す説明図。 本発明によるデバイスの製造方法におけるピックアップ工程の説明図。
符号の説明
2:半導体ウエーハ
21:分割予定ライン
22:デバイス
3:切削装置
31:切削装置のチャックテーブル
32:切削手段
321:切削ブレード
4:保護部材
5:研削装置
51:研削装置のチャックテーブル
52:研削砥石
53:研削手段
6:接着フィルム
7:紫外線照射器
8:レーザー加工装置
81:レーザー加工装置のチャックテーブル
82:レーザー光線照射手段
822:集光器
9:ピックアップ装置
91:基台
92:第1のテーブル
93:第2のテーブル
94:第1の移動手段
95:第2の移動手段
96:フレーム保持手段
97:テープ拡張手段
98:回動手段
10:検出手段
11:ピックアップ手段
F:環状のフレーム
T:ダイシングテープ

Claims (2)

  1. 表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割するとともに、各デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着するデバイスの製造方法であって、
    ウエーハの表面側から分割予定ラインに沿って所定の深さの分割溝を形成した後にウエーハの裏面を研削して裏面に該分割溝を表出させ、ウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハ分割工程と、
    個々のデバイスに分割されたウエーハの裏面に紫外線を照射することにより硬化する接着フィルムを装着する接着フィルム装着工程と、
    該接着フィルムが装着されたウエーハの該接着フィルム側を環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着するウエーハ支持工程と、
    該ダイシングテープに貼着されたウエーハの表面側から紫外線を照射し、ウエーハに形成された該分割溝を通して該接着フィルムに紫外線を照射することにより、該接着フィルムにおける該分割溝に対応する領域を硬化せしめる接着フィルム硬化工程と、
    ウエーハの表面側から該分割溝に沿って該接着フィルムに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、該分割溝に沿って硬化せしめられた該接着フィルムをデバイス毎に分割する接着フィルム分割工程と、
    デバイス毎に分割された該接着フィルムが装着されているデバイスを該ダイシングテープから剥離してピックアップするピックアップ工程と、を含む、
    ことを特徴とするデバイスの製造方法。
  2. 該ピックアップ工程は、該接着フィルムが装着されているデバイスをダイシングテープから剥離する前に、ダイシングテープを拡張してデバイス間の隙間を広げるテープ拡張工程を実施する、請求項1記載のデバイスの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008235650A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Disco Abrasive Syst Ltd デバイスの製造方法
JP5155030B2 (ja) * 2008-06-13 2013-02-27 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの分割方法
FR2943176B1 (fr) * 2009-03-10 2011-08-05 3D Plus Procede de positionnement des puces lors de la fabrication d'une plaque reconstituee
US8609512B2 (en) * 2009-03-27 2013-12-17 Electro Scientific Industries, Inc. Method for laser singulation of chip scale packages on glass substrates
JP2011077429A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Disco Abrasive Syst Ltd ワーク分割方法
WO2011156228A2 (en) * 2010-06-08 2011-12-15 Henkel Corporation Coating adhesives onto dicing before grinding and micro-fabricated wafers
CN101882586B (zh) * 2010-07-21 2013-03-20 中山市汉仁电子有限公司 一种集成电路芯片的贴装方法
JP2012069747A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 Teramikros Inc 半導体装置およびその製造方法
WO2012106223A2 (en) 2011-02-01 2012-08-09 Henkel Corporation Pre-cut wafer applied underfill film on dicing tape
CN103415917A (zh) 2011-02-01 2013-11-27 汉高公司 施加有底部填料膜的预切割的晶片
JP5582314B2 (ja) * 2011-10-11 2014-09-03 Tdk株式会社 チップ部品支持装置及びその製造方法
JP6029307B2 (ja) * 2012-04-05 2016-11-24 株式会社ディスコ 加工方法
JP2014003156A (ja) * 2012-06-19 2014-01-09 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの加工方法
US8969177B2 (en) * 2012-06-29 2015-03-03 Applied Materials, Inc. Laser and plasma etch wafer dicing with a double sided UV-curable adhesive film
JP6211884B2 (ja) * 2013-10-10 2017-10-11 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
US8993412B1 (en) * 2013-12-05 2015-03-31 Texas Instruments Incorporated Method for reducing backside die damage during die separation process
DE102015100827B4 (de) * 2015-01-21 2024-10-02 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Bearbeiten eines Halbleitersubstrats
JP6519077B2 (ja) * 2015-05-25 2019-05-29 リンテック株式会社 半導体装置の製造方法
JP2017147361A (ja) * 2016-02-18 2017-08-24 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
JP6887313B2 (ja) * 2017-05-31 2021-06-16 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP2019075504A (ja) * 2017-10-18 2019-05-16 株式会社ディスコ ウェーハ及び接着フィルムの分割方法
JP7281873B2 (ja) 2018-05-14 2023-05-26 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP7166718B2 (ja) * 2018-10-17 2022-11-08 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP7164411B2 (ja) * 2018-11-15 2022-11-01 株式会社ディスコ 積層体の加工方法
CN109801863B (zh) * 2019-01-17 2021-04-06 广州兴森快捷电路科技有限公司 用于加工封装基板内槽的治具及加工方法
JP7431545B2 (ja) * 2019-09-19 2024-02-15 株式会社ディスコ ピックアップ方法、ピックアップ装置、及び、試験装置
JP2023046922A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社ディスコ 板状物の加工方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000182995A (ja) 1998-12-14 2000-06-30 Mitsumi Electric Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP4109823B2 (ja) * 2000-10-10 2008-07-02 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP2005019525A (ja) * 2003-06-24 2005-01-20 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体チップの製造方法
JP4664005B2 (ja) * 2004-05-11 2011-04-06 リンテック株式会社 接着剤層付き半導体チップの製造方法
JP4923398B2 (ja) * 2004-09-21 2012-04-25 日立化成工業株式会社 接着剤層付き半導体素子の製造方法
JP4690697B2 (ja) * 2004-11-01 2011-06-01 古河電気工業株式会社 半導体チップの製造方法
JP2006222142A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Renesas Technology Corp 半導体素子の製造方法
JP4630689B2 (ja) * 2005-03-01 2011-02-09 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
JP2006245209A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体チップの製造方法
JP4630692B2 (ja) * 2005-03-07 2011-02-09 株式会社ディスコ レーザー加工方法
JP2006332078A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体チップの製造方法
JP2008235650A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Disco Abrasive Syst Ltd デバイスの製造方法

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